JPH01204711A

JPH01204711A - 射出ユニットの旋回装置

Info

Publication number: JPH01204711A
Application number: JP2764788A
Authority: JP
Inventors: Sadata Aoyama; 青山　禎太; Masato Yamamura; 正人山村
Original assignee: Fanuc Corp
Current assignee: Fanuc Corp
Priority date: 1988-02-10
Filing date: 1988-02-10
Publication date: 1989-08-17

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】この発明はエキストルーダーベースに対し射出ユニット
を水平面内で旋回（シーベル）できる射出成形機に関す
る。

従来技術射出成形機では、射出樹脂ωの調整とか樹脂の熱変質を
防止するなど、種々の要請から射出ユニットにおけるシ
リンダーアッセンブリを交換することがある。この場合
、ノズルタッチ位置から後退した射出ユニットをエキス
トルーダ−ベース上で垂直軸を中心に旋回するのである
が、型締部における固定プラテンの横方向寸法（幅）が
大きいとその分、旋回量も大きくなる。そして、射出ユ
ニットはその大きな重量のために大きな慣性をもって移
動することと相俟って、時として停止すべき位置で旋回
が止まらずに射出ユニットがエキストルーダ−ベースか
ら脱落してしまうことがある。

このような重大な事態を防止するために、従来から旋回
制限用のストッパーを設けた射出成形機もあるが、この
ストッパーは射出成形機の本体機枠側に設けられていて
必然的に大型にならざるを得す、また、前後に長い配列
の型締ユニットと射出ユニットの配置に対し横方向に張
出して配置されることとなるので、カバーをかけにくく
デザインが悪い上に、作業者に危険であった。

発明が解決しようとする課題この発明は射出ユニットの旋回ｍを段階的に設定するこ
とができて射出ユニットがエキストルーダ−ベースから
脱落することが無く、かつ、きわめて簡単な構成でしか
も外部から目立つことの無い旋回ω規制構造を備えた、
射出ユニットの旋回装置の提供を課題とする。

課題を解決するための手段エキストルーダ−ベース上に射出ユニットを、これらの
後方に設定した垂直軸を中心に水平回動自在に載置し射
出ユニットを旋回可能とする。

射出ユニットの前部に複数個の装着孔を横方向に設ける
と共に、エキストルーダ−ベースの前部に前記の垂直軸
を中心とし該垂直軸と前記の装着孔の距離を半径にした
円弧を包含し、かつ、両端に立上り壁を備えた凹溝を設
ける。

前記装着孔の一つに規制ボルトを装着し、その先端をエ
キストルーダ−ベースの前記凹溝内に突出させる。

作　　用規制ボルトは射出ユニットの前部と共に移動し、エキス
トルーダ−ベースにおける凹溝両端の立上り壁のいずれ
かに衝突し、射出ユニットがそれ以上に旋回するのを阻
止する。

射出ユニットの前部に設けた複数個の装着孔は規制ボル
トの装着位置を変更し、射出ユニットの旋回量を種々段
階的に設定する。

実施例の説明第２．３図は射出成形機における射出ユニット１とエキ
ストルーダ−ベース２の概略を示し、射出ユニット１は
フロントプレート３とリアプレート４がタイロッド５で
連結され、これらの間にブツシャ−プレート６がタイロ
ッド５に沿って摺動可能に取り付けられている。フロン
トプレート３の前面にはシリンダーアッセンブリ７が＠
脱自在に装着されている。射出ユニット１はもちろんこ
の他にも種々の構成部材を漏えているが、これらは通常
のものであり格別に説明の必要が無いので省略する。

前記射出ユニット１の前部、すなわち、フロントプレー
ト３の下部には第３図及び第１図に示されているように
、複数個の上下に貫通した装着孔８が横方向に一定間隔
で配置されている。そして、この孔８の一つに規制ボル
ト９が装着されている。

装着孔８はタップ孔などであるが装着した規制ボルト９
がガタ付かない程度の単なる貫通孔であっても良い。

エキストルーダ−ベース２は第４図にも示すように、こ
の実施例において筒器１０と後部１１が左右のタイロッ
ド１２で連結された構成を有し、ＩｙＪ盤１０．後部１
１はそれぞれ両側にローラー１３を備えて本体ベース１
４上を走行するようになっている。

エキストルーダ−ベース２の後部１１９中央上面には垂
直軸１５が突出して固定されており、また、筒器１０に
は両端に立上り壁１６を備えた幅広の凹１１１１１７が
形成されている。

射出ユニット１の後部をエキストルーダ−ベース２の後
部、すなわち、後部１１の上面に設けられた垂直軸１５
に嵌合すると共に、射出ユニット１前部のフロントプレ
ート下部をエキストルーダ−ベース２の筒器１０の凹溝
１７上に瓜ねて、射出ユニット１をエキストルーダ−ベ
ース２上で旋回可能に組付ける。

この状態で、フロントプレート下部の装着孔８に規制ボ
ルト９を装着するとその先端はエキストルーダ−ベース
２側の凹溝１７内に突入する（第５図）。つまり、前記
凹溝１７は垂直軸１５を中心とじ該軸１５と装着孔８の
距離を半径とした円弧を包含する幅を有するものである
。

したがって、垂直軸１５を中心に旋回した射出ユニット
１は、規制ボルト９が凹溝１７の両端いずれかの立上り
壁１６（はとんどは作業者の手前側）に衝突することに
より停止する。そして、その停止位置は規制ボルト９を
装着する装着孔８の選択で決まり、射出ユニット１の旋
回ωが定まる。

シリンダーアッセンブリ７の交換あるいは調整が終了し
、元位置に戻された射出ユニット１は前記の規制ボルト
９とは別個に設けられた固定ボルトまたはクランプ機構
でエキストルーダ−ベースに固定され、射出作業が再開
される。

第６図（イ）　（ロ）は型締部１８における固定プラテ
ン１９の横方向寸法（幅Ｗｌ、Ｗ２＞に応じて射出ユニ
ット１の旋回量を調整する場合を示し、同図（イ）のよ
うに固定プラテン１８の幅が小さい場合は、装着孔ａを
選択することにより、必要以上の旋回を阻止してしかも
エキストルーダ−ベース２からの脱落が防止され、また
同図（ロ）のように固定プラテン１９の幅が大きい場合
は前記の装着孔ａよりも作業者からみて向う側の装着孔
すを選択することにより、固定プラテン１９の幅に応じ
た大ぎな旋回量を得てシリンダーアッセンブリ７の交換
などを可能にし、しかも、旋回量をＩｔ、＋１限して射
出ユニット１がエキストルーダ−ベース２から脱落する
のを防止することができる。

固定プラテン１９の幅が比較的大きくなる型締部１８を
備える機種は、光デイスク基板の成形機のように薄もの
成形様の場合であるが、規制ボルト９、凹溝１７などを
備えた旋回装置は、通常の固定プラテン１９を備えた汎
７用型の型締部１８に対する射出ニット１の場合と共用
できる。

第７図（イ）（ロ）は射出ユニット１の長さＬｌ、Ｌ２
が異なる場合の旋回量の調整を示したもので、第７図（
ロ）のように射出ユニット１の長さが短いものでは、射
出ユニット１が固定プラテン１９に対し接近して位置す
るために、同じ幅の固定プラテン１９に対しても大きな
旋回量を必要とするが、規制ボルト９の位置を同図（イ
）に示す手前の装着孔Ｃより同図（ロ）のようにこれよ
り向う側の装着孔ｄに移すことにより旋回量を大きくす
ることができる。しかも、いずれの場合も旋回量は規制
されるから、射出ユニット１がエキストルーダ−ベース
２から脱落してしまうということは無い。

射出ユニット１の長短は射出量の大小とか射出樹脂の熱
耐性などによるのであるが射出ユニットの旋回装置は同
じものを、長い射出ユニット１を載置したエキストルー
ダ−ベース２あるいは短い射出ユニット１を載置したエ
キストルーダ−ベース２のいずれにも共用できる。

装着孔８の数は任意である。また、これら規制孔９を射
出ユニット１の軸線に沿って両側に配するか、たとえば
手前側にシフトして配置するかは必要とする旋回の量に
よって定まる。

発明の効果射出ユニットを旋回した時、該ユニットがエキストルー
ダ−ベースから脱落する事故を確実に防止することがで
きる。

射出ユニットの旋回量を段階的に種々設定することがで
き、同じ旋回装置を異なる旋回量を必要とする射出ユニ
ットを載置したエキストルーダ−ベースに共用できる。

規制ポル］・や凹溝など旋回量規制のための構造はすべ
て射出ユニットの幅内に収まり、外部から目立つことな
く、また、作業者に危険となることも無い。

構成がきわめて簡単で、安価に提供することができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は一部断面にて示す正面図、第２図は平面図、第
３図は正面図、第４図は平面図、第５図は要部の断面図
、第６図（イ）　（ロ）は平面図、第７図（イ）（ロ）
は平面図である。１・・・射出ユニット、２・・・エキストルーダ−ベー
ス、３・・・フロントプレート、４・・・リアプレート
、５・・・タイロッド、６・・・プッシャープレート、
７・・・シリンダーアッセンブリ、８・・・装着孔、９
・・・規制ボルト、１０・・・画盤、１１・・・後部、
１２・・・タイロッド、１３・・・ローラー、１４・・
・本体ベース、１５・・・垂直軸、１６・・・立上り壁
、１７・・・凹溝、１８・・・型締部、１９・・・固定
プラテン。特許出願人　　ファナック株式会社 −コ　　　　　　＾

Claims

【特許請求の範囲】

エキストルーダーベース上に射出ユニットを、これらの
後方に設定した垂直軸を中心に水平回動自在に載置し、
射出ユニットの前部に複数個の装着孔を横方向に設ける
と共に、エキストルーダーベースの前部に前記の垂直軸
を中心とし該垂直軸と前記の装着孔の距離を半径にした
円弧を包含し、かつ、両端に立上り壁を備えた凹溝を設
け、前記装着孔の一つに規制ボルトを装着してその先端
を前記の凹溝に突入してあることを特徴とした射出ユニ
ットの旋回装置。