JPH01204342A - 電子顕微鏡の画像変換装置 - Google Patents

電子顕微鏡の画像変換装置

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JPH01204342A
JPH01204342A JP63029132A JP2913288A JPH01204342A JP H01204342 A JPH01204342 A JP H01204342A JP 63029132 A JP63029132 A JP 63029132A JP 2913288 A JP2913288 A JP 2913288A JP H01204342 A JPH01204342 A JP H01204342A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
image
mask pattern
electron microscope
memory
weight
Prior art date
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Pending
Application number
JP63029132A
Other languages
English (en)
Inventor
Tadashi Watanabe
正 渡辺
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Jeol Ltd
Original Assignee
Jeol Ltd
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Publication date
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Publication of JPH01204342A publication Critical patent/JPH01204342A/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、電子顕微鏡で得られた画像を、例えば二次限
フーリエ変換することによって周波数領域に変換する装
置において、マスクパターンによりオペレータの所望す
る画像を得ることができるようにした電子顕微鏡の画像
変換装置に関するものである。
[従来の技術] 電子顕微鏡によって得られる試料の像は、電子レンズの
収差、非点、増幅器雑音等によりS/Nが劣化したもの
になっており、加えて試料が周期性を有するものの場合
には、回折効果により試料から得られた像の解釈は非常
に難しいものになっている。
このような場合の対処の仕方として、得られた画像を二
次元フーリエ変換して画像を周波数空間で表し、この変
換された像(以下、この像をフーリエ変換像と称する。
)にマスクパターンをかけて必要な周波数領域だけを有
するフーリエ変換像を作成し、このフーリエ変換像を二
次元フーリエ逆変換して所望の画像を得る、という手法
が知られている。
この例を第4図を用いて説明する。電子顕微鏡11で得
られた試料の画像は画像メモリ12に格納される。この
像を画像表示メモリ14によりCRTモニタ16に表示
すれば、電子顕微鏡11で得られたそのままの画像が表
示される。画像メモリ12に格納された試料の像はフー
リエ変換/逆変換回路13でフーリエ変換され、フーリ
エ変換像として画像メモリ12に記憶される。このよう
にして得られたフーリエ変換像は画像表示メモリ14に
よりCRTモニタ16に表示される。その例を第5図a
に示す。図の中心は直流成分で、周辺にいくに従って高
周波成分になる。そして、画面全体に規則的なパターン
を有する画像の場合はフーリエ変換像はリング状になり
、ノイズは概ね低周波成分の方に表れる。従って、第5
図aによれば、リング状パターンA、Bから何等かの規
則性のあるパターンがあることが分かり、また、Cはノ
イズ成分であることが分かる。そこで、オペレータは、
ノイズを除去し、リングA、Bに対応する像を観察した
いと思えば、マスクパターン発生回路15でA、、Bに
対応するマスクパターンA′ (第5図b)、B′ (
第5図C)を作成してその部分の重み付けを1、その他
の部分の重み付けを0として、画像表示メモリ14に記
憶されているフーリエ変換像と掛は合わせる。その結果
第5図dのようなフーリエ変換像が得られる。このよう
にして得られたフーリエ変換像を画像メモリ12に格納
し、更にフーリエ変換/逆変換回路13でフーリエ逆変
換する。このフーリエ逆変換で得られた像は画像メモリ
12に格納される。この像を画像表示メモリ14により
CRTモニタ16で表示すれば、オペレータは所望の周
波数領域だけを抽出した画像を観察することができる。
[発明が解決しようとする問題点] しかしながら、従来のものにおいては、マスクパターン
による重み付けが1とOしがなかったので次のような欠
点がある。つまり、試料から得られたフーリエ変換像を
観察すると、最も強調したい部分の他に、それ程強調す
る必要はないが、かといって画像全体として全くないの
も困るという曖昧な部分があることがあるが、従来のも
のではこのような問題に対処することはできなかった。
本発明は、上記の問題点を解決するものであって、マス
クパターンによる重み付けを最小値と最大値の範囲内で
任意に設定できるようにすることにより所望の周波数領
域に対して所望の重み付けした画像を得ることができる
電子顕微鏡の画像変換装置を提供することを目的とする
[問題点を解決するための手段] 上記の目的を達成するために、本発明の電子顕微鏡の画
像変換装置は、電子顕微鏡で得られた画像を周波数領域
に変換し、該変換によって得られた像にマスクパターン
をかげて所望の周波数領域を抽出するに際して、各マス
クパターンの重み付けを最小値から最大値までの範囲内
で任意に設定可能としたことを特徴とする。
[実施例] 以下、図面を参照しつつ実施例を説明する。
第1図は本発明に係る 電子顕微鏡の画像変換装置の1
実施例の構成を示す図で、■は電子顕微鏡、2は画像メ
モリ、3はフーリエ変換/逆変換回路、4は画像表示メ
モリ、5はマスクパターン発生回路、6は重み付は演算
回路、7はマスクパターン合成メモリ、8はCRTモニ
タを示す。
この構成は第4図のものに重み付は演算回路6とマスク
パターン合成メモリ7を付は加えたちのであり、他の機
能は第4図と同様である。
今、試料から得られた画像のフーリエ変換像が第2図a
のようであった場合、イ及び口の部分から規則的なパタ
ーンの画像が得られていることがわかり、ここでイの部
分は最も強調し、口の部分は半分ぐらい強調したいとす
る。そのときオペレータはマスクパターン生成回路5で
第2図aのイに対応するマスクパターンイ′ (第2図
b)を作成し、重み付は演算回路6で重みを1にし、−
旦マスクパターン合成メモリ7に格納する。次に同様に
して第2図aの口の部分に対応するマスクパターン口′
 (第2図C)をマスクパターン生成回路5で作成し、
重み付は演算回路6で重みを0゜5としてマスクパター
ン合成メモリ7に出力する。
マスクパターン合成メモリ7ではこれら二つの重み付け
されたマスクパターンイ′、口′が合成される。合成さ
れたマスクパターンは画像表示メモリ4で、CRTモニ
タ8に表示するために格納されているフーリエ変換像(
第2図a)と掛は合ねされて、第2図dのフーリエ変換
像を得、CRTモニタ8に表示する。第2図dでイ″は
重みが1とされた部分、四″は重みが0.5とされた部
分である。このようにして得られたフーリエ変換像は画
像メモリ2に格納され、更にフーリエ変換/逆変換回路
3でフーリエ逆変換されて画像メモリ2に格納される。
フーリエ逆変換されて得られた画像は、画像表示メモリ
4を介してCRTモニタ8で表示される。
このようにマスクパターンによる重み付けを1と0ばか
りでなくその中間の値をも採れるようにしたので、最も
強調したい周波数領域の画像以外の画像をある程度補間
することができ、元の画像に対してそれなりの意味付け
を持った画像を抽出することができる。
尚、マスクパターンは上述したような同心円状のものば
かりでなく、第3図aのように円あるいは四角とするこ
ともできるし、第3図すのように適当な関数とすること
もできる。また、以上の説明では電子顕微鏡で得られた
画像の周波数領域への変換方式としてフーリエ変換をと
りあげたが、これに限らず画像を周波数領域で扱うもの
であれば本発明を適用することができるものである。
更に、以上に説明した画像変換装置は画像処理装置に一
般的に適用可能ではあるが、特に、電子顕微鏡での結晶
の観察等規則性の高い画像を取り扱う場合に非常に有功
である。
[発明の効果] 以上の説明から明かなように、本発明によれば、画像周
波数領域毎に所望の重み付けをしたマスクパターンを生
成できるのでオペレータの必要とする画像を抽出するこ
とができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明に係る電子顕微鏡の画像変換装置の1実
施例の構成を示す図、第2図は本発明によるマスクパタ
ーンの重み付けを示す図、第3図は他のマスクパターン
の重み付けを示す図、第4図は従来の電子顕微鏡の画像
変換装置の1構成を示す図、第5図は従来のマスクパタ
ーンの重み付けを示す図である。 1・・・電子顕微鏡、2・・・画像メモリ、3・・・フ
ーリエ変換/逆変換回路、4・・・画像表示メモリ、5
・・・マスクパターン発生回路、6・・・重み付は演算
回路、7・・・マスクパターン合成メモリ、8・・・C
RTモニタ 出  願  人 日本電子株式会社 代理人 弁理士 菅 井 英 誰 (外4名)第1図 a               b Cd 第2図 a             b 第3図 c            d 第5図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)電子顕微鏡で得られた画像を周波数領域に変換し
    、該変換によって得られた像にマスクパターンをかけて
    所望の周波数領域を抽出するようにした電子顕微鏡の画
    像変換装置において、各マスクパターンの重み付けを最
    小値から最大値までの範囲内で任意に設定可能としたこ
    とを特徴とする電子顕微鏡の画像変換装置。
JP63029132A 1988-02-10 1988-02-10 電子顕微鏡の画像変換装置 Pending JPH01204342A (ja)

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