JPH01204307A - 透明導電膜 - Google Patents

透明導電膜

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Publication number
JPH01204307A
JPH01204307A JP2792988A JP2792988A JPH01204307A JP H01204307 A JPH01204307 A JP H01204307A JP 2792988 A JP2792988 A JP 2792988A JP 2792988 A JP2792988 A JP 2792988A JP H01204307 A JPH01204307 A JP H01204307A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
fluorine
tin
film
doping
resistance
Prior art date
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Pending
Application number
JP2792988A
Other languages
English (en)
Inventor
Hiroyuki Kinoshita
木下 宏行
Tetsuo Nakagawa
中川 哲男
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Seiko Epson Corp filed Critical Seiko Epson Corp
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Publication of JPH01204307A publication Critical patent/JPH01204307A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E10/00Energy generation through renewable energy sources
    • Y02E10/50Photovoltaic [PV] energy

Landscapes

  • Liquid Crystal (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Photovoltaic Devices (AREA)
  • Non-Insulated Conductors (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、透明導電膜に関する。
〔従来の技術〕
従来より液晶表示体、エレクトロルミネッセンス、太陽
電池などの電極材料として透明導電膜が利用されており
、この透明導電膜には金、銀、@、白金、パラジウム、
アルミニウムなどの金属薄膜あるいは酸化第二スズ、酸
化インジウムなどの酸化物半導体がある。
金属薄膜は低い基板温度で容易に低抵抗のものを作製で
きるが、透光性を出すためには膜厚をかなり薄くしなけ
ればならず膜−度も弱いことから機械的強度に欠点があ
る。一方酸化物半導体は抵抗という点では金属薄膜に劣
るものの優れた透光性を有し、膜強度も強いことから実
用的であり現在最も広く利用されている。
〔発明が解決しようとする課題〕
しかしながら、上述のように酸化物半導体膜の抵抗は金
属薄膜に比べてやや高く、配線した場合に電圧降下が大
きく液晶デイスプレーの大型化など応用面で実用化がな
されていない。そこで本発明の目的とするところは酸化
物半導体膜の抵抗を下ケ、液晶ディスブー、フラットデ
イスプレーなどのパネルの大型化及び透明電極のパター
ンの微細化を可能にする優れた特性をもつ透明導電膜を
提供することにある。
〔課題を解決するための手段〕
本発明の透明導電膜は、基板上に形成されたスズとフッ
素がドーピングされた酸化インジウム膜から成ることを
特徴としている。
スズ及びフッ素は膜の電気伝導に関係するパラメータに
変化を与え電気抵抗を下げる目的でドーピングされた。
ドーピング量としてはスズは特に限定する必要はないが
、フッ素は2’wt%以下が良い。あまり多量にフッ素
をドーピングすると抵抗が上昇し目的のものが得られな
い。
〔実施例〕
実施例1゜ 真空チャンバー内に7Vオンガス(OF4)、酸素ガス
およびアルゴンガスを導入し、またターゲットとしてI
n、O,−5wt%SnO,を用いてDOマグネトロン
スパッタによりスズとフッ素がドーピングされた酸化イ
ンジウム膜を作製した。
各試料のフッ素濃度および比抵抗を第1表に示す第  
1  表 実施例Z 真空チャンバー内にフレオンガス(OF4)。
酸素ガス、アルゴンガスを導入し、またターゲットとし
てIn、O,−10wt%5n02を用いてR7マグネ
トロンスパッタによりスズとフッ素がドーピングされた
酸化インジウム膜を作製した。各試料のフッ素濃度およ
び比抵抗を第2表に示す。
第  2  表 第1図は実施例1および実施例2の7ツ、素濃度と比抵
抗の関係を表わしたグラフである。
〔比較例〕
真空チャンバー内に酸素ガスとアルゴンガスを導入し、
またターゲットとして工n、 o、を用いてRFマグネ
トロンスパッタにより酸化インジウム膜を作成した。こ
のサンプルの比抵抗は1.6×1O−30(7)であっ
た。
このようにスズとフッ素を適量ドーピングすることによ
り従来得ることのできなかった低抵抗の透明導電膜を作
製することができた。
〔発明の効果〕
以゛上述べたように本発明の透明導電膜は、酸化インジ
ウム膜にスズとフッ素をドーピングすることにより膜の
抵抗を下げたのでデイスプレィ、デバイスの大型化・大
容量化に大きな効果を有し表示品質を大きく向上させた
なお、本発明の透明導電膜は透明電極を必要とするデバ
イスにおいて広く応用可能であり消費電力が小さいなど
の効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図は実施例1および実施例2のフッ素濃度と比抵抗
の関係を表わしたグラフである。 1・・・・・・・・・実施例1 2・・・・・・・・・実施例2 6・・・・・・・・・比較例

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)基板上に形成されたスズとフッ素がドーピングさ
    れた酸化インジウム膜から成ることを特徴とする透明導
    電膜。
JP2792988A 1988-02-09 1988-02-09 透明導電膜 Pending JPH01204307A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6552765B2 (en) * 1998-03-24 2003-04-22 Idemitsu Kosan Co., Ltd. Color filter for reflection liquid crystal display and reflection liquid crystal display comprising the same

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6552765B2 (en) * 1998-03-24 2003-04-22 Idemitsu Kosan Co., Ltd. Color filter for reflection liquid crystal display and reflection liquid crystal display comprising the same

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