JPH01204307A - 透明導電膜 - Google Patents
透明導電膜Info
- Publication number
- JPH01204307A JPH01204307A JP2792988A JP2792988A JPH01204307A JP H01204307 A JPH01204307 A JP H01204307A JP 2792988 A JP2792988 A JP 2792988A JP 2792988 A JP2792988 A JP 2792988A JP H01204307 A JPH01204307 A JP H01204307A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- fluorine
- tin
- film
- doping
- resistance
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims abstract description 16
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims abstract description 16
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 11
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 9
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 9
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 abstract description 5
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 abstract description 4
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 4
- 230000007423 decrease Effects 0.000 abstract 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 abstract 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 20
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 4
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 description 3
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AFCARXCZXQIEQB-UHFFFAOYSA-N N-[3-oxo-3-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)propyl]-2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidine-5-carboxamide Chemical compound O=C(CCNC(=O)C=1C=NC(=NC=1)NCC1=CC(=CC=C1)OC(F)(F)F)N1CC2=C(CC1)NN=N2 AFCARXCZXQIEQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 description 1
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
- Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Photovoltaic Devices (AREA)
- Non-Insulated Conductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、透明導電膜に関する。
従来より液晶表示体、エレクトロルミネッセンス、太陽
電池などの電極材料として透明導電膜が利用されており
、この透明導電膜には金、銀、@、白金、パラジウム、
アルミニウムなどの金属薄膜あるいは酸化第二スズ、酸
化インジウムなどの酸化物半導体がある。
電池などの電極材料として透明導電膜が利用されており
、この透明導電膜には金、銀、@、白金、パラジウム、
アルミニウムなどの金属薄膜あるいは酸化第二スズ、酸
化インジウムなどの酸化物半導体がある。
金属薄膜は低い基板温度で容易に低抵抗のものを作製で
きるが、透光性を出すためには膜厚をかなり薄くしなけ
ればならず膜−度も弱いことから機械的強度に欠点があ
る。一方酸化物半導体は抵抗という点では金属薄膜に劣
るものの優れた透光性を有し、膜強度も強いことから実
用的であり現在最も広く利用されている。
きるが、透光性を出すためには膜厚をかなり薄くしなけ
ればならず膜−度も弱いことから機械的強度に欠点があ
る。一方酸化物半導体は抵抗という点では金属薄膜に劣
るものの優れた透光性を有し、膜強度も強いことから実
用的であり現在最も広く利用されている。
しかしながら、上述のように酸化物半導体膜の抵抗は金
属薄膜に比べてやや高く、配線した場合に電圧降下が大
きく液晶デイスプレーの大型化など応用面で実用化がな
されていない。そこで本発明の目的とするところは酸化
物半導体膜の抵抗を下ケ、液晶ディスブー、フラットデ
イスプレーなどのパネルの大型化及び透明電極のパター
ンの微細化を可能にする優れた特性をもつ透明導電膜を
提供することにある。
属薄膜に比べてやや高く、配線した場合に電圧降下が大
きく液晶デイスプレーの大型化など応用面で実用化がな
されていない。そこで本発明の目的とするところは酸化
物半導体膜の抵抗を下ケ、液晶ディスブー、フラットデ
イスプレーなどのパネルの大型化及び透明電極のパター
ンの微細化を可能にする優れた特性をもつ透明導電膜を
提供することにある。
本発明の透明導電膜は、基板上に形成されたスズとフッ
素がドーピングされた酸化インジウム膜から成ることを
特徴としている。
素がドーピングされた酸化インジウム膜から成ることを
特徴としている。
スズ及びフッ素は膜の電気伝導に関係するパラメータに
変化を与え電気抵抗を下げる目的でドーピングされた。
変化を与え電気抵抗を下げる目的でドーピングされた。
ドーピング量としてはスズは特に限定する必要はないが
、フッ素は2’wt%以下が良い。あまり多量にフッ素
をドーピングすると抵抗が上昇し目的のものが得られな
い。
、フッ素は2’wt%以下が良い。あまり多量にフッ素
をドーピングすると抵抗が上昇し目的のものが得られな
い。
実施例1゜
真空チャンバー内に7Vオンガス(OF4)、酸素ガス
およびアルゴンガスを導入し、またターゲットとしてI
n、O,−5wt%SnO,を用いてDOマグネトロン
スパッタによりスズとフッ素がドーピングされた酸化イ
ンジウム膜を作製した。
およびアルゴンガスを導入し、またターゲットとしてI
n、O,−5wt%SnO,を用いてDOマグネトロン
スパッタによりスズとフッ素がドーピングされた酸化イ
ンジウム膜を作製した。
各試料のフッ素濃度および比抵抗を第1表に示す第
1 表 実施例Z 真空チャンバー内にフレオンガス(OF4)。
1 表 実施例Z 真空チャンバー内にフレオンガス(OF4)。
酸素ガス、アルゴンガスを導入し、またターゲットとし
てIn、O,−10wt%5n02を用いてR7マグネ
トロンスパッタによりスズとフッ素がドーピングされた
酸化インジウム膜を作製した。各試料のフッ素濃度およ
び比抵抗を第2表に示す。
てIn、O,−10wt%5n02を用いてR7マグネ
トロンスパッタによりスズとフッ素がドーピングされた
酸化インジウム膜を作製した。各試料のフッ素濃度およ
び比抵抗を第2表に示す。
第 2 表
第1図は実施例1および実施例2の7ツ、素濃度と比抵
抗の関係を表わしたグラフである。
抗の関係を表わしたグラフである。
真空チャンバー内に酸素ガスとアルゴンガスを導入し、
またターゲットとして工n、 o、を用いてRFマグネ
トロンスパッタにより酸化インジウム膜を作成した。こ
のサンプルの比抵抗は1.6×1O−30(7)であっ
た。
またターゲットとして工n、 o、を用いてRFマグネ
トロンスパッタにより酸化インジウム膜を作成した。こ
のサンプルの比抵抗は1.6×1O−30(7)であっ
た。
このようにスズとフッ素を適量ドーピングすることによ
り従来得ることのできなかった低抵抗の透明導電膜を作
製することができた。
り従来得ることのできなかった低抵抗の透明導電膜を作
製することができた。
以゛上述べたように本発明の透明導電膜は、酸化インジ
ウム膜にスズとフッ素をドーピングすることにより膜の
抵抗を下げたのでデイスプレィ、デバイスの大型化・大
容量化に大きな効果を有し表示品質を大きく向上させた
。
ウム膜にスズとフッ素をドーピングすることにより膜の
抵抗を下げたのでデイスプレィ、デバイスの大型化・大
容量化に大きな効果を有し表示品質を大きく向上させた
。
なお、本発明の透明導電膜は透明電極を必要とするデバ
イスにおいて広く応用可能であり消費電力が小さいなど
の効果がある。
イスにおいて広く応用可能であり消費電力が小さいなど
の効果がある。
第1図は実施例1および実施例2のフッ素濃度と比抵抗
の関係を表わしたグラフである。 1・・・・・・・・・実施例1 2・・・・・・・・・実施例2 6・・・・・・・・・比較例
の関係を表わしたグラフである。 1・・・・・・・・・実施例1 2・・・・・・・・・実施例2 6・・・・・・・・・比較例
Claims (1)
- (1)基板上に形成されたスズとフッ素がドーピングさ
れた酸化インジウム膜から成ることを特徴とする透明導
電膜。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2792988A JPH01204307A (ja) | 1988-02-09 | 1988-02-09 | 透明導電膜 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2792988A JPH01204307A (ja) | 1988-02-09 | 1988-02-09 | 透明導電膜 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01204307A true JPH01204307A (ja) | 1989-08-16 |
Family
ID=12234580
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2792988A Pending JPH01204307A (ja) | 1988-02-09 | 1988-02-09 | 透明導電膜 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01204307A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6552765B2 (en) * | 1998-03-24 | 2003-04-22 | Idemitsu Kosan Co., Ltd. | Color filter for reflection liquid crystal display and reflection liquid crystal display comprising the same |
-
1988
- 1988-02-09 JP JP2792988A patent/JPH01204307A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6552765B2 (en) * | 1998-03-24 | 2003-04-22 | Idemitsu Kosan Co., Ltd. | Color filter for reflection liquid crystal display and reflection liquid crystal display comprising the same |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US6329044B1 (en) | Transparent conductive film and method of making the film | |
JPH0731950B2 (ja) | 透明導電膜の製造方法 | |
JPH06139843A (ja) | 透明導電膜の形成方法 | |
CN103173733B (zh) | 一种高导电性能Ag掺杂Cu2O基p型透明导电薄膜及其制备方法 | |
JPH01204307A (ja) | 透明導電膜 | |
JPH0945140A (ja) | 酸化亜鉛系透明導電性膜 | |
JPH02156688A (ja) | 薄膜二端子素子 | |
JPH01204308A (ja) | 透明導電膜 | |
JP3780100B2 (ja) | 加工性に優れた透明導電膜 | |
JPH04206403A (ja) | アナログ式タツチパネル | |
JPS6280918A (ja) | 透明導電膜の製造方法 | |
JPH01272006A (ja) | 透明導電膜 | |
JPH01289016A (ja) | 透明導電膜 | |
JPH08132554A (ja) | 透明導電性フィルム | |
JPH01272755A (ja) | 透明導電膜およびその製造方法 | |
CN217386689U (zh) | 一种低反射ito膜 | |
JPH01272756A (ja) | 透明導電膜およびその製造方法 | |
CN112981345B (zh) | 无需退火的全固态电致变色器件透明导电极的制作方法 | |
CN117790050A (zh) | 一种双面ito透明导电膜及其制备方法 | |
CN108682479A (zh) | 一种具有紫外过滤功能的柔性透明电极 | |
JPH0473244B2 (ja) | ||
JPH02304812A (ja) | 透明導電膜およびその製造方法 | |
KR20060067488A (ko) | 산화 아연계 산화물 및 이를 이용한 투명 산화물 전극 | |
JPS61290607A (ja) | 透明導電膜の製造方法 | |
JPH02304810A (ja) | 透明導電膜およびその製造方法 |