JPH01201045A - 酸化ゲルマニウム系光ファイバおよびその作製方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の産業上利用分野〕 本発明は、酸化ゲルマニウム系光ファイバおよびその作
製方法、さらに詳細にはコアおよびクラッドにＧｅＯ２
ガラスを主成分とする低損失高強度の、そして、２〜３
μｍの波長領域における極低損失伝送媒体およびファイ
、パラマンレーザおよびカー（Ｋｅｒｒ）効果等の非線
形効果応用部品の実現を可能にする光ファイバおよびそ
の作製方法に関する。

〔従来技術および問題点〕

従来、ＧｅＯ２ガラスを主成分とした光ファイバを用い
て、波１１ｉ４２．０μｍ以上で極低損失化を狙ったフ
ァイバとしては、高橋等の発表（１１，Ｔａｋａｈａｓ
ｈｉ、　ｅｔ、　ａｌ、、　Ｅｕｒｏｐｅａｎ　Ｃｏｎ
ｆｅｒｅｎｃｅ　ｏｎ　０ｐｔｉｃａｌＣｏａ＋ａ＋ｕ
ｎｉｃａｔｉｏｎ＋　Ｔｅｃｈｎｉｃａｌ　ｄｉｇｅｓ
ｔ、　ｐｐ、６１−６４＋１９８３、　ＥＣ０Ｃ８３−
９ｔｈ）に見られるように、コアにｓｂ、ｏ、を添加し
たＧｅＯ□ガラス、またクラッドに純ＧｅＯ□ガラスを
使用した多モードファイバの例があり、第１図に示すよ
うに波長２．０μｍで４ｄＢ／ｋｔａの伝送損失が得ら
れている。

しかし、この値は第２図に示すように理論的に予測され
る（ａ（０，０６ｄ［ｌ／　ｋｍ　　？波長λ＝２．５
　ａｍ）よりはるかに大きい（Ｒ，０１ｓｈａｎｓｋｙ
　ａｎｄ　Ｇ、Ｗ、５ｃｈｅｒｅｒ。

ＥＣ０Ｃ’７９＋　Ｔｅｃｈｎｉｃａｌ　ｄｉｇｅｓｔ
、　ｐ、１２．５−ｉｌ　１９７９．）。

これは光ファイバ中を伝搬する光の大部分が集中するコ
アの材料がｓｂ、ｏ、とＧｅＯ□の２成分であり、ガラ
スの密度ゆらぎ等が大きくなることによる。ＣｅＯ，ガ
ラスのみの場合でも５ｉＯｚガラスに比較すると均一な
ガラスの作製が容易でないことを考慮すると、ｓｂ、ｏ
、のコアへの添加は低損失化を困難にするという問題点
があった。

さらに、純Ｇ　ｅ　Ｏｚガラスは大気中の水分で変質し
、ファイバの強度が弱まるという欠点があった。

また、最近では中村等により、ＧｅＯ２ガラスをコア、
ＳＩＯ，添加ＧｅＯ２ガラスをクラッドとする単一モー
ド光ファイバが作製されており、伝送損失１２　ｄ　Ｂ
／ｋｍ　（λ＝１．０６μｍ）が達成されている（昭和
６１年度秋季応用物理学関係総合全国大会講演予稿周、
Ｐ、１８３、講演番号２７ａ−Ｘ−７）。しかし、Ｓｉ
Ｏ□を添加材として使用しているため、第３図に示すよ
うに５ｉｆｔの赤外吸収損失により波長１．７μｍ以上
での損失の低下は本質的に望めないという欠点あった。

さらに、低損失化のためにはコアとクラッドの屈折率差
は約０．３％と比較的小さい時が適当であるが、ＧｅＯ
２ガラスへの微頃なシリカガラスの添加は制御が困難で
あり、コアとクラッドとの屈折率差の再現性が悪いとい
う欠点があった。

他方、純ＧｅＯ２ガラスをコア、フッ素添加ＧｃＯ，ガ
ラスをクラッドとする単一モードファイバが作製されて
いるが（採板、他：電子情報通信学会創立７０周年記念
総合全国大会、昭和６２年度、Ｐ、４−２０６Ｌ外気に
接するファイバ表面となるクラッド材料がフッ素を添加
されたＧｅ０ｔガラスよりなることにより、純Ｇｅｍ。

ガラスよりさらにもろく（強度が弱く）なるという欠点
があった。

本発明は、これらの欠点を解決し、波長２〜３μｍで極
低損失かつ高強度な酸化ゲルマニウム系光ファイバを提
供することにある。

〔問題点を解決するための手段〕 上記問題点を解決するため、本発明による酸化ゲルマニ
ウム系光ファイバは、コアおよびクラッドよりなる同心
円状の光ファイバにおいて、コアが純ＧｅＯ２ガラスあ
るいはフッ素添加ＧｅＯ□ガラス、コアに続く第１クラ
ッドがフッ素を添加したＧｅＯ２ガラス、第１クラッド
に続く最外層の第２クラッドがＳｉ０ｇガラスを添加し
たＧ　ｅ　Ｏｚガラスよりなることを特徴としている。

また、本発明による酸化ゲルマニウム系光ファイバは、
コアおよびクラッドよりなる同心円状の光ファイバにお
いて、コアが純ＧｅＯ□ガラスあるいはフッ素添加Ｇｅ
Ｏ□ガラス、コアに続く第１クラッドがフッ素を添加し
たＧ　ｃ　Ｏｚガラス、第１クラッドに続く最外層の第
２クラッドがパイレックス系ガラスよりなることを特徴
とする。

さらに、本発明は上述の酸化ゲルマニウム光ファイバを
作製する方法を提供するものであり、前記酸化ゲルマニ
ウム光ファイバの作製方法は、燃焼ガスおよび助燃ガス
により１本のコア用および１本あるいは複数本の第１ク
ラッド用および第２クラッド用火炎を形成し、該コア用
火炎中にガラス形成用原料としてＧ　ｅ　Ｃｌ　ａのみ
、あるいはＧｅＣｌ４とＧ　ｃ　Ｆ　４を、また第１ク
ラッド用火炎中にＧｅＣ／！、とＧ　ｅ　Ｆ　４あるい
はＧ　ｅ　Ｆ　４のみをさらに第２クラッド用火炎にＧ
ｅＣ１１，および５ｉＣ１！、を供給し、火炎内反窓に
より生成するガラス微粒子を円柱状に堆積させて、多孔
質光ファイバ母材とし、これを加熱して透明ガラス母材
とし、その後線引きして光ファイバとすることを特徴と
する。

本発明による第二の酸化ゲルマニウムの作製方法は、パ
イレックスガラス管を保持し、回転させて、該ガラス管
内に光ファイバ用ガラス原料ガスおよび酸素を導入し、
該ガラス管を外側あるいは内側から加熱することによっ
て酸化反応を生ゼしめ、該ガラス管内壁にまず第１クラ
ッドとしてフッ素を添加したＧｅＯ２ガラスを堆積し、
次にコアとしてＧｅＯ□ガラスのみあるいはフッ素が添
加されたＧｅ０ｚガラスを堆積することを特徴とするし
ている。

本発明は、波長２〜３μｍにおいて、現在の石英系光フ
ァイバが達成している最低損失値（０，１５４ｄＢ／ｋ
ｍ）以下が期待されるＧｅＣｈおよびフッ素添加ＧｅＯ
２ガラスを、光が伝搬するコアおよびタララドガラス材
料とし、かつファイバの強度を決定する最外層である第
２クラッドをＳ　ｉ　Ｏｚ添加ＧｅＯ２ガラスあるいは
パイレックスガラスとして、ファイバの強度を強くする
ことを最も主要な特徴とする。従来の技術とは２〜３μ
ｍの波長域における極低損失化と、ファイバ強度の向上
を同時に満足する酸化ゲルマニウム系光ファイバおよび
その作製方法を提供する点が異なる。この点は、実用的
にファイバを使用する上で非常に重要である。

［実施例１〕 第４図は本発明の第１の実施例を説明する概略図であっ
て、１はコア用多孔質ガラス合成用トーチ、２は第１ク
ラッド用多孔質ガラス合成用トーチ、３は第２クラッド
用多孔質ガラス合成用トーチ、４は多孔質ガラスを支持
し、回転、引き上げる支持棒、５は支持棒を回転、引き
上げるだめの駆動装置、６は反応用の余剰ガス、ガラス
微粒子を除去、処理する排ガス処理装置、７は反応容器
、８はコア用多孔質母材、９は第１クラッド用多孔質母
材、１０は第２クラッド用多孔質母材である。

これを動作させるには、駆動装置５により回転数２Ｏｒ
ｐｍで回転させた支持棒４の下端に、トーチ１を用いて
、酸素７ｊ２／ｍｉｎ、水素１．６　ｆｆｉ／ｍｉｎ、
アルゴン３　ｊｉ！／ｗｉｎ、ヘリウム３．４１／ｍｉ
ｎで形成される火炎中にアルゴンガスで輸送される１０
０ｃｃ／ｗｉｎ　（５０°Ｃ）のＧｅＣｌ４および３０
ｃｃ／ｌｌｌ１ｎのＧ　ｅ　Ｆ４　　（２５°Ｃ）ガス
を原料として流し、酸水素火炎内で加水分解反応を生じ
させて、フッ素が添加されたＧｅＯ２ガラス微粒子を形
成し、コア用多孔質母材７を作製する。

この時のコアの外径は約１０ｍｌ１であり、フッ素の添
加醗は約０．３５重酸％である。支持棒４はコア用多孔
質ガラス８の成長速度に合わせて上方に引き上げられ、
コア用多孔質母材８の成長に従い、該側面に第１クラッ
ド用多孔質ガラス合成用トー千２より８１／ｍｉｎの酸
素、２ｊｌ！／＋ｉｎのアルゴンおよび３．５　ｆｆｉ
／ｌｌ１ｎのヘリウムガスを流し、火炎を形成する。該
火炎中にアルゴンガスで輸送される５００ｃｃ／ｍｉｎ
　（５０°Ｃ）のＧｅＣｌ４および３００ｃｃ／ｗｉｎ
のＣｅＦ４　（２’５°Ｃ）ガスを原料として流し、酸
水素火炎内で加水分解反応を生じさせてフッ素が添加さ
れたＧｅ０ｚガラス微粒子を形成し、第１クラッド用多
孔質母材９を作製する。作製された第１クラッド用多孔
質母材９の外径は約５０鴫、フッ素の添加酸は約０．７
重慴％である。

次に、第１クラッド用多孔ｒＸ母材の側面にトーチ３よ
りさらに８　ｆ／ｍｉｎの酸素、３ｆ／ｗｉｎの水素、
２１／ｍｉｎのアルゴンおよび３．５１　／ｗｉｎのヘ
リウムガスを流して火炎を形成し、該火炎中にアルゴン
ガスで輸送される５　００ｃｃ／ｎｉｎ　（５０’Ｃ）
のＧｅＣ１ｍおよび４０ｃｃ／ｍｉｎ　（５０°Ｃ）の
５ｉＣ１゜を原料として流し、酸水素火炎内で加水分解
反応を生じさせて、ＳｉＯ□が約８ｍｏｆ％添加された
ＧｅＯ２ガラス微粒子を形成し、第２クラッド用多孔質
母材ｌＯを作製する。作製された第２クラッド用多孔質
母材の外径は約７０舗である。このＳｉｎ、は好ましく
は５〜１２ｍｏｆｆｉ％の範囲で添加するのがよい。５
ｍｏｆ！、％未満であると十分な強度を得られない恐れ
があり、また、１２ｍｏｆｆｉ％を越えると、第２クラ
ッドの屈折率が第１クラッドのそれよりも小さくなって
しまう恐れがあるからである。

このようにして、作製された長さ約２５０ｍｍの多孔質
母材は、カーボン抵抗炉を用いて約１０００°Ｃに加熱
され、酸素ガス１　ｆ／＋ｉｎ、ヘリウムガス４Ｒ／ｍ
ｉｎ、塩素ガス１　ｆ／ｍｉｎの雰囲気中で脱水透明化
される。作製されたガラス母材の寸法はコア径５ｍＩｎ
、第１クラッド径２５ｍｎ、第２クラッド径３５ｍ、長
さ１２５ｍｍ、コアとクラッドの屈折率差Δ’、０．２
５％、第１クラッドと第２クラッドの屈折率差約０．０
５％（第２クラッドの屈折率〉第１クラッドの屈折率）
であった。

上述のように、この実施例においてはコアの屈折率が最
も大きく、第２クラッドの屈折率が次に大きく、第１の
クラッドの屈折率が最も小さい。

また、第１クラッドと第２クラ・ンドの屈折率差Δ２は
０．１％以下であるのが好ましい。０．１％を越えると
、伝送損失が大きくなる恐れがあるからである。

透明化されたガラス母材は線引き炉によって約１２００
”Ｃの温度で線引きされ、光ファイバとなる。作製され
たファイバの諸元はコア径１４．３μｍ、第１クラッド
径７１．４μｍ、ファイバ外径（第２クラッド径）１０
０μｍ１カットオフ波長れ＝２．１　μｍであった。第
５図に本発明による光ファイバの強度と破断ｔ１率の関
係を示す。強度が大幅に改善されていることがわかる。

なお、本実施例では、フッ素が微にに添加されたコアを
用いたが、ガラス微粒子堆積時にＧ　ｅ　Ｃｌ　ａのみ
を流すことにより、純ＧｅＯ２ガラスのコアを作製する
こともできる。また、本実施例では第１および第２クラ
ッド合成用のトーチを各１木用いたが、複数本用いるこ
とにより、母材の大きさを大きくすることも可能である
。

〔実施例２］ 第６図は本発明の第２の実施例を説明する図であって、
１１は原料ガス供給部、１２は接続用パイプ、１３はパ
イレックス管（１７Φ×２０Φ×１５００ｍｍＬ）、１
４はガラス管支持部すなわちチャック、１５は加熱源、
１６は管径測定部、１７は回転コネクタ、１８はトラッ
プ、１９は電磁弁、２０はノズル、２１は排気耐制御部
である。

原料ガス供給部１１にはＧｅＣムの液体が容器に入れら
れており、Ａｒガスを液体中に供給することにより、蒸
発させて輸送する。また、他に０２ガスおよびＣＦ、ガ
スが保管されており、温度制御および流量制御が可能と
なっている。

原料ガス供給部１１は、接続用パイプ１２を介してパイ
レックス管１３内に気体を供給するようになっており、
一方このパイレックス管１３内を通過した気体はトラッ
プ１８を介し、電磁弁１９、ノズル２０から排気される
ようになっている。パイレックス管１３はチャック１４
によって支持され、回転コネクタ１７の作用により回転
可能になっている。加熱源１５および管径測定部１６は
相互に隣接して設けられ、共にパイレックス管１３の長
さ方向に対し、移動可能となっている。さらに、排気計
制御１部２１は管径測定部１６の信号を受け、電磁弁１
９の開閉を制御する。

これを動作させるには、まずチャック１４で支持された
パイレックス管１３を６Ｏｒｐｍ程度の回転数で回転さ
せ、原料ガス供給部１１からは接続用パイプ１２を介し
て０２ガス５００ｃｃ／分のみを流す。この状態で酸水
素バーナ等の加熱源工５によってパイレックス管１３を
約８００°Ｃの温度で数回（約１５回）走査（約５〜ｌ
Ｑｃｍ／分）加熱し、空焼きを行う。これは管内壁を非
常に滑らかにするためである。パイレックス管１３を軟
化点以上に加熱すると、パイレックスガラス管１３は同
心円状に収縮し、管径はより細くなる。この時の管径を
管径測定部１６で測定する。排気に制御部２１には予め
下限管径が設定してあり、管径測定部１６で測定された
パイレツクス管１３の管径がこの設定値より大きい場合
には電磁弁１９は開放され、管内を流れる気体は抵抗な
く排気される。

一方、管径が設定値と比較して小さい場合には、排気用
制御部２１から電磁弁１９に電源を供給することにより
、電磁弁１９が閉じ、管内の気体の出口はノズル２０の
わずかの間隙のみとなる。原料ガス供給部１１からは常
時ｏ７ガスが供給されているため、管内の圧力は高まり
、パイレックス管１３の加熱部分は収縮しようとする表
面張力に打ち勝ち膨張する。この膨張した管径が設定値
と一致するか、あるいは大きくなると排気￥制御部２１
の指示によって電磁弁１９が開放され、管内の圧力は大
気圧まで下がる。この動作を加熱源１５の移動と共にパ
イレックス管１３の長手方向に行うことにより、設定値
に合うように整形することができる。

次いで、原料ガス供給部１１から５００ｃｃ／分のＯｚ
と共にＡｒガスでバブリングされた１２°Ｃ１２００ｃ
ｃ／分のＧ　ｅ　Ｃ１２４および２５°Ｃ１２０ｃｃ／
分のＣＦ、ガスを原料として流し、加熱源１５によって
原料ガスを約１０００°Ｃに加熱し、酸化反応を起こさ
せ、第１クラシトとなるフッ素添加（約０．７重環％）
ＧｃＯ□ガラスをパイレックスガラス（第２クラッドと
なる）の内壁の長さ方向に堆積させる。加熱ａ１５の送
り速度は約１００Ｍ／分、往復回数（タララドガラスの
堆積回数）は約３０回である。次に同様にして、コアと
なるガラスをタララドガラスの内側に堆積させる。コア
の堆積条件はＧｅＣ１！＊　　（１２°Ｃ１２５ｃｃ／
分）、ＣＦ、（２５°Ｃ１３ｃｃ／分）、加熱源１５の
温度１０００°Ｃ１送り速度１００鵬／分、往復回数５
回である。

最後に加熱源１５をゆっくり移動（約３０ｍ／分）させ
ることによって、中実化を行い中実な円柱母材（約１２
ｍｍΦＸ５００ｍｍＬ）を作製する。

作製されたガラス母材の寸法はコア径０．５　ｍｌ＋１
、第１クラッド径３ｍｍ、外径１２＋ｕｍである。屈折
率はコア、第１クラッド、および第２クラッド（パイレ
ックスガラス）の順に大きく、コアとクラッドの屈折率
差は約０．２５％、第１クラッドと第２クラッドの屈折
率差は約８．５％である。コアおよび第１クラッドの熱
膨張係数は約７．３　ｘ　１０−　’　／”ｃであるた
め、作製された母材の両端は高温から室温に冷える時熱
膨張係数差に依存する応力から母材に割れが発生する部
分である。従って、これを防ぐため、第７図に示すよう
に母材の両端を延伸して応力を緩和させる必要がある。

次に作製された母材の外周研磨を行い外径６鴫とする。

本母材を約１１００°Ｃの温度で線引きしてファイバ化
する。ファイバ外径は１７２μｍ１第１クラッド径は８
６μｍ、コア径は１４．３μｍであり、カットオフ波長
は２．１　μｍであった。本ファイバの最外層はパイレ
ックスガラスであるため、空気中の水分により変質する
こともなく、強度も十分実用に耐えられる。

本ファイバの屈折率分布は第８図に示すように第２クラ
ッドの屈折率（パイレックスガラス）が最も低いため、
第１クラッドと第２クラッドの間に導波構造が生じ、光
が伝搬する。この伝搬光は、第２クラッド層の損失を受
け、第２クラッドであるパイレックスガラスは光ファイ
バ用材料に比較して損失が大きい（本来光学ガラスでは
ない）ため、損失を低下させることができない。

従って、第９図に示すように本ファイバの入射端から２
０〜３０ｃｒａの部分をフッ酸等のエツチング液により
第２クラッドを除去し、除去表面を金属被覆あるいは第
１クラッドより屈折率の高い高分子等で補強することに
より、コアと第１タラッド間のみを導波構造とし、コア
のみに光を閉じ込めて低損失化をはかることができる。

なお、本実施例ではコアの作製時にＣＦ、を流し、フッ
素が微量に添加されたＧｅＯ２ガラスとしたが、ＧｃＣ
１！、のみを流すことにより、コアを純Ｇｅ０ｚガラス
とすることも可能である。

さらに、本実施例第６図の加熱ａｔＳは酸水素バーナを
現しているが、ＰＣＶＤ　（ｐｌａｓｍａ　ＣＶＤ）を
用いることもできる。すなわち、パイレックス管内を１
０−　’　Ｔｏｒｒに減圧し、マイクロ波キャビティを
用い、２．４５Ｇ　Ｈｚのマイクロ波発生器を用いて、
２００〜５００ワツトの出力でパイレックス管を加熱し
、発生するプラズマにより、管内面を重点的に加熱しな
がら、上記コアおよびクラッドＦｉ膜を堆積することが
できる。

この方法はパイレックス管の外側の温度が高くならない
ため、管の収縮が抑えられる（　ＦｒｅｄｙＷｅｌｉｎ
ｇ　Ｊ、Ａｐｐｌ、　Ｐｈｙｓ、　ｖｏｌ、５７＋　Ｎ
ｏ、飢ＰＰ、４４４１−４４４６、１９８５．）。

上記の本発明による酸化ゲルマニウム系光ファイバにお
いて（実施例１および実施例２に詳しく説明した）、コ
アと第１クラッドとの屈折率差Δ。

が約０．３％、第１クラッドと第２クラッドの屈折率差
Δ２が約０．１％であるとき、第１クラッドの径はコア
径より４倍以上であるのが好ましい。４倍未満であると
、伝送損失が大きくなる恐れがあるからである。もちろ
ん、たとえば第１クラッドと第２クラッドの屈折率差Δ
２が０．１％より小さいときには、４倍未満であっても
よいことは明らかである。

〔発明の効果〕

以上説明したように、本発明による酸化ゲルマニウム系
光ファイバは、純Ｇｅ０ｚガラスあるいはフッ素が微量
に添加されたＧ　ｅ　Ｏｚガラスをコア、また、第１ク
ラッドをフッ素が添加されたＧ　ｅ　Ｏｔとしているた
め、伝搬する光が閉じ込められる領域の材料が２〜３μ
ｍにおいて極低損失であり、現在の石英系で達成されて
いる０、１５４ｄＢ　／に＋ａを凌駕する可能性がある
という利点がある。同時に、ファイバの強度に大きな影
響を及ぼす最外層である第２クラッドがＳｉｎｇを添加
したＧ　ｅ　Ｏｚガラスあるいはパイレックスガラスで
あるため、純Ｇｅ０ｚガラスに比較して強度が大幅に高
くなると言う利点を有する。

さらに、本ファイバはＧｅＯ□ガラスを主成分としてい
るため、ＳｉＯ□ガラスに比較してラマン散乱係数は約
９倍と大きく、ファイバラマンレーザ等の非線形効果を
高効率で発生できるという利点もある。

【図面の簡単な説明】

第１図は従来法による酸化ゲルマニウム系光ファイバの
損失波長特性を示す図、第２図および第３図はそれぞれ
、Ｇｅｍ２およびＳｉ０ｇガラスを主成分とする光ファ
イバの理論的な損失波長特性を示す図であり、第４図は
本発明による実施例〔１〕を用いた酸化ゲルマニウム系
光ファイバの作製方法を示す図、第５図は従来法と本方
法による光ファイバの強度を示す図、第６図は本発明に
よる実施例〔２］を用いた酸化ゲルマニウム系光ファイ
バの作製方法を示す図である。また、第７図は実施例〔
２〕により作製された母材を示す図、第８図および第９
図はそれぞれファイバにした時の屈折率分布および長さ
方向の概略回を示した図である。 １・・・コア用多孔質ガラス合成用トーチ、２・・・第
１クラッド用多孔質ガラス合成用トーチ、装置、６・・
・排ガス処理装置、７・・・反応容器、８・・・コア用
多孔質母材、９・・・第１クラッド用多孔質母材、１０
・・・第２クラッド用多孔質母材、１１・・・原料ガス
供給部、１２・・・接続用パイプ、１３・・・パイレッ
クス管、１４・・・チャック、１５・・・加熱源、１６
・・・管径測定部、１７・・・回転コネクタ、１８・・
・トラップ、１９・・・電磁弁、２０・・・ノズル、２
１・・・排気晴制御部、２２・・・コア、２３・・・第
１クラッド、２４・・・第２クラッド、２５・・・被覆
。 出願人代理人　　雨　　宮　　正　　季第１図 １．２　１．６　２．０　２．４　２．８波長入（、ｕ
ｍ） 第２図 波長　λ（、ｕｍ） 第３図 波長入（、ｕｍ） 第４図 第５図 光ファイバー強度（Ｋｇ／ｍｍ　） 第７図 第９図

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. （１）コアおよびクラッドよりなる同心円状の光ファイ
   バにおいて、コアが純ＧｅＯ＿２ガラスあるいはフッ素
   添加ＧｅＯ＿２ガラス、コアに続く第１クラッドがフッ
   素を添加したＧｅＯ＿２ガラス、第１クラッドに続く最
   外層の第２クラッドがＳｉＯ＿２ガラスを添加したＧｅ
   Ｏ＿２ガラスよりなることを特徴とする酸化ゲルマニウ
   ム系光ファイバ。
2. （２）コアおよびクラッドよりなる同心円状の光ファイ
   バにおいて、コアが純ＧｅＯ＿２ガラスあるいはフッ素
   添加ＧｅＯ＿２ガラス、コアに続く第１クラッドがフッ
   素を添加したＧｅＯ＿２ガラス、第１クラッドに続く最
   外周の第２クラッドがパイレックス系ガラスよりなるこ
   とを特徴とする酸化ゲルマニウム系光ファイバ。
3. （３）燃焼ガスおよび助燃ガスにより１本のコア用およ
   び１本あるいは複数本の第１クラッド用および第２クラ
   ッド用火炎を形成し、該コア用火炎中にガラス形成用原
   料としてＧｅＣｌ＿４のみ、あるいはＧｅＣｌ＿４とＧ
   ｅＦ＿４を、また第１クラッド用火炎中にＧｅＣｌ＿４
   とＧｅＦ＿４あるいはＧｅＦ＿４のみを、さらに第２ク
   ラッド用火炎にＧｅＣｌ＿４およびＳｉＣｌ＿４を供給
   し、火炎内反応により生成するガラス微粒子を円柱状に
   堆積させて、多孔質光ファイバ母材とし、これを加熱し
   て透明ガラス母材とし、その後線引きして光ファイバと
   することを特徴とする酸化ゲルマニウム系光ファイバの
   作製方法。
4. （４）パイレックスガラス管を保持し、回転させて、該
   ガラス管内に光ファイバ用ガラス原料ガスおよび酸素を
   導入し、該ガラス管を外側あるいは内側から加熱するこ
   とによって酸化反応を生ぜしめてガラスを該ガラス管内
   壁に堆積させ、中実化した後、線引きする酸化ゲルマニ
   ウム系光ファイバの作製方法であって、該ガラス管内壁
   にまず第１クラッドとしてフッ素を添加したＧｅＯ＿２
   ガラスを堆積し、次にコアとしてＧｅＯ＿２ガラスのみ
   あるいはフッ素が添加されたＧｅＯ＿２ガラスを堆積す
   ることを特徴とする酸化ゲルマニウム系光ファイバの作
   製方法。