JPH01197946A - 円筒状陰極線管 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、記録媒体に信号情報を供給するのに有用な陰
極線管（ＣＲＴ）に関するものであり、さらに詳細には
、特に、陰極線管の長さよりもはるかに狭いほぼ直線領
域に沿って走査を行う線走査と呼ばれる構成にされたＣ
ＲＴに関する。

従来の技術 現在、線走査型ＣＲＴは光記録への応用において重要な
役割を果たしている。一般に、このようなＣＲＴでは、
従来のじょうご型エンベロープの出力端に幅の狭いガラ
ス製光ファイバからなるプレートが密封されている。こ
のＣＲＴの動作中には、ビデオ変調された電子ビームが
一度に１本偏向されて、光ファイバ・プレートの蛍光物
質被覆された内面を横断して掃引される。この蛍光物質
被覆に入射された電子によって変調された光は、光ファ
イバ・プレートを通過し、この光ファイバ・プレートの
外面と接触している光感応記録媒体の表面に入射される
。ロールまたはシート状のこの媒体に取り付けられたス
テッピングモータまたは連続駆動手段によってこの媒体
が光ファイバ・プレートを通過するのに同期して線走査
が順次繰り返される。原則として、通常は鉛直方向であ
るＹ方向に移動する媒体の方向に対して水平な方向であ
るＸ方向のみにビームを走査する。一般に、ビームをＹ
方向にわずかに変調することによって蛍光物質の寿命を
延ばす。走査が続けられ、媒体が移動するにつれて、光
感応記録媒体上にはＸ−Ｙ画像が生成する。次にこの画
像は現像され、使用する媒体の性質に合った様々な方法
で定着される。

ＣＲＴの出力面に光ファイバ・プレートを用いると画像
生成システムが簡単になる。というのは、光ファイバが
蛍光物質光をコリメートし、媒体との直接接触によって
可能な画像を形成させるからである。このようにすると
従来のレンズ式光学システムを用いなくてもすむため、
望ましいことにレコーダ内がコンパクトになる。

発明が解決しようとする課題 しかし、ＣＲＴの長さと大きさはまだ非常にコンパクト
なユニットを実現するには不十分である。

さらに、ＣＲＴを固体素子で置換しようとする試みがな
されているが、例えば１４インチのサイズのワイドで高
品質な画像用に設計されたレコーダに対しては非実用的
であることがわかっている。

このような問題点を解決するため、本発明では、よりコ
ンパクトな設計の新しいＣＲＴを提供する。

課題を解決するための手段 本発明のＣＲＴでは、従来のＣＲＴのじょうご型エンベ
ロープよりは見慣れた家庭用の蛍光灯管に似た長くて幅
の狭いエンベロープを用いる。この結果、望み通りのよ
りコンパクトな構造が実現する。さらに、光ファイバ・
プレートはＣＲＴの端部を横断するのではなくこのＣＲ
Ｔの側部に沿って配置されている。すると、好ましいこ
とに電磁石のアレイをＣＲＴに沿って配置し、これら電
磁石を利用して、電子ビームをエンベロープの軸線に沿
った通常の方向から磁気的に横方向に偏向させてこのエ
ンベロープの側部に沿った光ファイバ・プレートに入射
させることができる。電磁石アレイ中の連続した電磁石
を適当に励磁することによって、電子ビームを光ファイ
バ・プレートの長手方向に繰り返し掃引または走査させ
る。さらに、電磁石による偏向の効率を向上させ、電磁
石による偏向構造をよりコンパクトにするために、様々
な方法が採用されている。

本発明の好ましい実施例によれば、ＣＲＴのエンベロー
プは、偏向領域に沿ってこのエンベロープの軸線からず
れた電子ビーム用通路が形成された構造となっている。

また、側壁のフェースプレートを線走査するために電子
ビームの方向を決めるための静電偏向を利用することも
できる。

さらに、本発明の別の特徴によれば、較正と調整が可能
となるよう、上記のタイプの円筒状ＣＲＴには、エンベ
ロープの下流端で電子銃の延長線上の位置に、磁気偏向
されない電子ビームを遮るための被覆が設けられている
。さらに、この被覆には適当なパターニングが施されて
独立な複数の区画に分割されている。各区画は別々にモ
ニタされる。このため、異なる区画で遮られた電子の量
を比較することによって、この被覆により遮られたビー
ムの位置を決定することができる。この操作の後、モニ
タ信号を用いてビームを所望の位置に再度位置決めする
。さらに、被覆からの全出力の測定結果は、電子ビーム
中の全電流をモニタして制御するのに利用することがで
きる。

被覆を蛍光性にすることによって入射電子がこの被覆を
励起して光を放出させ、その励起光が適当なセンサーで
検出されるようにすることが好ましい。あるいは、被覆
を非蛍光性にして、入射電子を直接測定してもよい。

さらに、電子ビームが光ファイバ・プレートに沿って走
査されるときに収束したままで実効サイズがほぼ一定で
あるようにする様々な方法が用いられている。

本発明は、添付の図面を参照した以下のより詳細な説明
によりさらによく理解できよう。

実施例 第１Ａ図と第１Ｂ図は、線走査型レコーダに用いられて
いる従来のＣＲＴの形状を示す図である。

このＣＲＴは、じょうご形のエンベロープ１１とアサガ
オ形部分１１Ｂを備えているつエンベロープ１１は一般
にガラス製であり、電子銃１２を収容する細長いネック
ＩＩＡを備えている。一方、アサガオ形部分１１Ｂは拡
がっていて、光ファイバからなるフェースプレート１４
を取り付けるのに十分な幅となっっている。エンベロー
プの内側のフェースプレートの表面は、入射電子に対し
て反応する適当な蛍光物質で被覆されている。入射電子
によってこのフェースプレート内面で励起された光は光
ファイバを通ってこのフェースプレートの外面に伝えら
れる。光がこのフェースプレートを通過すると、この光
によってこの外面上の光感応媒体（図示せず）内に画像
が生成される。

一般に、エンベロープの内側の側壁は導電性フィルムで
被覆されている。このフィルムは、フェースプレートに
入射させる電子を加速するためのリード線１５によって
適当な高い直流電位に保たれている。

ＣＲＴのネック内の電子銃１２は、放射された電子をビ
ームの形に整形してこのビームをフェースプレートに向
けて加速できるように構成されている。エンベロープの
アサガオ形部分のまわりに設置されていて適当な電流が
供給される偏向コイル（図示せず）は、電子ビームをフ
ェースプレートを横切って直線的に走査させるのに用い
られる。

電子銃内の制御グリッドは、記録される信号情報に応じ
て電子ビームを変調させるのに使用される。

電子銃に必要とされる様々な動作電圧は、ＣＲＴのネッ
クの端部のピン１６から供給される。

この構成にするとＣＲＴのサイズが大きくなる。

このようにサイズが大きくなるのは、主としてＣＲＴの
エンベロープのアサガオ形部分１１Ｂのためである。

本発明では、エンベロープのアサガオ形部分を実質的に
除去し、アサガオ形ではないエンベロープの側壁に沿っ
て光ファイバ・プレートを配置することによりサイズを
小さくする。

第２Ａ図と第２Ｂ図は、本発明のＣＲＴ２Ｏの最も簡単
な形態を示す図である。このＣＲＴのエンベロープ２１
は、はぼ全長にわたって断面が実質的に円形である細長
い単純な円筒である。一般に、この円筒は直径が約１．
５インチ（３，８１ｃｍ）　、長さが約２０インチ（５
０，８ｃｍ　）となっており、側壁に沿って延在する約
１４インチ（３５，５６ｃ＋ｒ＋）の光ファイバ・プレ
ート２２を備えている。このＣＲＴの一端には、基本的
に従来と同じ設計でよい電子銃２３が収容されている。

一般に、この電子銃は、断面が円形で最初は直径が約２
５ミル（０，６３５ｍｍ）の電子ビームを発生させ、こ
の電子ビームを焦点で直径数ミル（数１００ミフロン〜
１００ミクロン）に収束させる構成にする。さらに、電
子銃内にはＣＲＴに沿って電子的に焦点を変化させる手
段が設けられていることが望ましい。その理由について
は後述する。

光ファイバ・プレート２２は、エンベロープの側壁上で
ＣＲＴの下流側の半分にほぼ沿って配置されている。通
常は、このフェースプレートは、エンベロープ内の表面
は蛍光物質で被覆されているのに対し、このエンベロー
プ外の表面は記録媒体が接触できるようにされている。

一般に、光ファイバ・プレートはそれぞれが直径約１０
〜１５ミクロンの複数のファイバが接合されて長さが約
１４インチ（３５，５６ｃｍ）、幅が約手インチ（１，
２７ｃｍ）　Ｉこされたものである。このストリップ状
プレートに入射されるビームは一般に直径が２〜３ミル
（５０，４ミクロン〜７６．２ミクロン）である。ビー
ムが繰り返して正確に同じ経路をたどる結果として蛍光
物質が過度に劣化するのを避けるため、ビームがファイ
バの長平方向に走査されるときにこのストリップの幅方
向にビームを周期的に数ミル（数１００ミフロン〜１０
０ミクロン）変調させる手段が設けられている。記録媒
体の運動は走査速度と比べて十分に遅くして、ストリッ
プに同じ情報を繰り返し走査できるようにすることが望
ましい。この結果、ノイズはランダムに加算されるのに
対して信号は積算されるという一般原理に基づいてＳ／
Ｎ比が改善される。さらに、わずかに変調させた複数の
走査を行うと望ましい平均効果が得られる。すなわち、
画像に粒や線が現れることが少なくなる。

サラに、ＣＲＴは、エンベロープのフェースプレート２
２が取り付けられているのとほぼ同じ部分に沿って直線
的に並んだ複数の電磁石２７を備えている。各電磁石は
、励磁されたときに丁度漢を通過する電子ビームを軸方
向から漢方向に偏向させて横に存在しているフェースプ
レートの対応する部分に入射させる。このアレイの各電
磁石は順番に励磁されて電子ビームが適度に偏向され、
光ファイバからなる直線状ストリップが一端から他端ま
でスムーズに、かつ、一定速度で走査される。

公知のように、偏向度は、偏向磁場の強度と、偏向時の
ビーム中の電子の速度と、電子が偏向した後ターゲット
に入射するまでに移動する距離とに依存する。

一般に、電磁石のコイルに供給する電流を変化させるこ
とにより偏向磁場の強度を変えるのが最も簡単である。

この目的で、偏向用電磁石アレイは周期的にパルス波形
を出力する電源によって駆動される。これらパルスは連
続したアレイの電磁石のコイルに順番に供給されて各電
磁石が順番に励磁される。さらに、各パルスは振幅が時
間の経過とともに徐々に小さくなるため偏向半径がこれ
にともなって小さ（なり、走査が行われる。

一般に、各電磁石はストリップの約１．１２５インチ（
２，８５７５ｃｍ）の長さを制御するのに使用すること
ができる。このため、長さが１４インチ（３５，５６ｃ
ｍ）のス）　ＩＪツブの場合には、約１５個の電磁石を
アレイ状に並べる必要がある。これら電磁石の中には偏
向磁場の開始を規定する２つまたは３つの電磁石が含ま
れる。

第２Ｂ図には、アレイの個々の電磁石２７の基本構造が
詳細に示されている。この電磁石はコア部分２９を備え
ており、そのまわりには電磁石の励磁用の電流が供給さ
れるコイル３０が巻きつけられている。コア２９の両端
から延びてエンベロープ２１の両側に位置する磁極片３
２と３３はエンベロープを横断する磁場を発生させる。

この結果、エンベロープ内を軸線方向に流れる電子ビー
ムは、第２Ａ図に示した点線２５かられかるように、こ
の流れと磁力線とに対して横方向に偏向され、エンベロ
ープの側壁部分内にあって２つの磁極片から等距離のフ
ェースプレート２２に入射される。もちろんビームを９
０°偏向させる必要はない。偏向角は、偏向磁場が作用
する領域が短いために一般に３０’〜６０゜である。

ビームによるフェースプレートの走査は比較的スムーズ
になされることが好ましい。しかし、様々な走査パター
ンが可能である。

例えば、各走査ごとに、連続した電磁石を電子の流れの
下流方向に向かって順番に用いてビームを偏向させる。

すなわち、線走査を、まず最上流の電磁石（すなわち電
子銃に最も近い電磁石）を用いた偏向により開始する。

この場合、連続した電磁石による一方向性の走査を行う
ためには、任意の１つの電磁石による偏向度は、この電
磁石が励磁されるときに最高になり、次の電磁石が励磁
されるまで徐々に小さくなるようにする必要がある。こ
のためには、各コイルに供給される励磁電流が、立ち上
がりにピークをもち徐々に尾を引くパルスの形態となっ
ていなければならない。

また、ＣＲＴに供給される人力信号を適当に処理するこ
とにより、電子の流れの方向とは反対の方向に線走査が
行われるように偏向させる構成にするごともできる。こ
の場合、各線走査は、最下流の電磁石によってビームを
まず偏向させ、次にその上流側に隣接する電磁石を用い
て偏向操作を続けることにより行う。この場合、連続的
に一方向性走査を行うためには、各コイルの励磁電流の
波形は振幅が立ち上がりと立ち下がりの間で増加するパ
ルスである必要がある。

さらに、記録のためにＣＲＴに供給する前に信号情報を
適当に処理することによって、それぞれがビームと同じ
であるか異なる所定の方向を向いた一連の走査を含む線
走査が実行される走査パターンを利用することができる
ことは明らかであろう。しかし、連続した電磁石による
走査は時間的に連続ではない。というのは、各走査は、
前の走査が終了した空間上の地点で丁度よい時刻に開始
されないからである。このような信号を用いると、走査
を最上流の電磁石から開始して、励磁電流を振幅が立ち
上がりから立ち下がりに向かって増加するパルスの形態
で各コイルに供給することができる。

再現性を最適にするためには、電子ビームがフェースプ
レートを走査するときによく収束していることが重要で
ある。このため、電子ビームは偏向されるときに収束し
ていることが望ましい。ビーム源から偏向地点までのビ
ームの移動距離は時間とともに変化するため、収束状態
を最適にするためにはビーム偏向位置に応じて収束電圧
を連続的に調節することが望ましい。ダイナミック収束
法と呼ばれるこの方法は従来からよく知られている。し
かし、ダイナミック収束法によると一般に収束スポット
のサイズがビーム源から離れるに従って大きくなること
も知られている。再現性を最適にするためには、はぼ一
定のサイズでありフェースプレートに沿った位置には関
係しない走査スポットを用いることが重要である。

この目的で、ダイナミック収束法に第２の補正を加えて
収束スポットのサイズを調節することが望ましい。これ
は、ダイナミック収束電圧に焦点をぼかす相殺用の波形
を重ね合わせることにより、または、電子ビームをわず
かに横方向に負変調することにより実現される。後者の
場合、摂動の振幅はビーム源から離れるにつれて小さ（
なるようにして、ビームの移動距離が大きくなるにつれ
て大きくなる収束スポットのサイズの増大を相殺する。

第１のアプローチの概略が第２Ａ図に示されている。こ
の図では、補償型ダイナミック収束電圧源２Ｂが電子銃
１２のビーム収束電極のピンに接続されている。この電
圧源は、振幅が適当に変化する焦点ぼかし成分を標準的
なダイナミック収束電圧波形に正の方向に重ね合わせて
、上記の所望の結果を得ることができるように構成され
ている。

また、スポットが光ファイバ・プレートを走査するとき
にサイズがほぼ一定になるようにするため、この収束し
たスポットには光ファイバ・プレートに沿った走査方向
に高周波数で振動する偏向を加える。この偏向の振幅は
、電子銃からの距離が大きくなるにつれて収束したスポ
ットのサイズが大きくなるというこのようなスポットの
直径とは逆に変化させる必要がある。すると、このよう
な変化が相殺され、光ファイバ・プレートに当たるビー
ムの実効面積が一定になる。

このための可能な構成が第６図に示されている。

ＣＲＴは大部分が第２Ａ図のものと似ている。すなわち
、円筒状エンベロープ２１が備えられており、その一端
には電子銃２３が設置されている。エンベロープ２１の
側壁に沿っては光ファイバ・プレート２２が配置されて
いる。このフェースプレートに対向して、第２Ｂ図のよ
うに電磁石２７のアレイが配置されている。この実施例
では、電子銃部分と光ファイバ・プレート部分の間の位
置にエンベロープを取り囲む補助電磁石２７Ｂがさらに
備えられている。この電磁石には電源５０から高周波電
流が供給される。この電流は、電磁石２７Ｂを通じてこ
の電子ビームに横方向の小さな振動を与えるために供給
する。このあとで、電子ビームがフェースプレートに入
射できるように横方向に偏向される。

この振動の振幅は走査速度とともに小さくなり、電磁石
２７のアレイによって横方向にビームが偏向されて焦点
がビームの経路に沿って変化するときにスポ７）サイズ
の変化が相殺される。

上記の実施例では、ビームは偏向時にはエンベロープの
ほぼ軸線上に中心がある。この結果、ビームがエンベロ
ープから径方向にはほとんど偏向しないために不十分な
ことがある。より効果的なのは、偏向されるときに電子
ビームが各電磁石のコア部分の近くに位置している構成
である。

第３図はこのための構成の一例を示す図である。

１対の電磁石３１が、エンベロープに沿って電子銃の少
し先に位置している。゛これら電磁石は、エンベロープ
の中央縦軸線に沿った方向に最初は放射された電子ビー
ムを線３３で示したように変位させて、エンベロープの
底部の近傍に位置する長手方向の経路に沿って電磁石の
コア部分の近くを電子が流れるようにするのに利用され
る。ビームをこのように位置させると、ビームがフェー
スプレートに入射される前にビームを偏向させることの
できる距離が実質的に長（なることがわかる。この結果
、必要な偏向半径が小さくなり、偏向に必要とされる磁
場の強度が小さくなる。このことから、電磁石に供給す
る必要のある励磁電流が小さくなる。

第４Ａ図と第４Ｂ図に示されている別の方法の実施例で
は、エンベロープ４１に屈曲部４２を設けることにより
このエンベロープの軸対称性がゆがめられている。エン
ベロープはこの屈曲部によって中心軸線がずれた２つの
部分４４と４５に分割されるため、ビームは、最初はエ
ンベロープの電子銃側の端部から中実軸線に沿って放射
されるが方向が変化せずにフェースプレートに対向する
領域であるエンベロープの底部に近い経路を進行する。

この図では、図面を簡潔にするために電磁石は図示され
ていない。

利用できる偏向経路の長さを効果的に長くするための関
連した別の方法では、エンベロープの直径を大きくする
。このためには、より長く、より大きな磁極片が必要と
され、従ってユニット全体のサイズが望ましくないこと
に大きくなる。

好ましい方法が第５Ａ図と第５Ｂ図に示されている。こ
の場合、エンベロープは２つの分離した円筒部分５１と
５２からなる。各円筒部分は接続部分５４に溶接されて
おり、得られるエンベロープに実際に段部が形成されて
いる。この結果、電子ビームは実線５６で示した経路に
沿って流れる。所望のアラインメントにされた正確なユ
ニットは、２つの部分の端部を９０°ガラス研磨装置の
上で対向させ、かつ、密閉操作の間これら２つの部分を
所望のアラインメントに保持する高精度治具を使用する
ことにより容易に実現できる。

この構成のさらなる利点としては、ビームを加速するの
に使用するエンベロープの内壁の導電性被覆に対する高
圧接続部５８を図示したように接続部５４の近くにもっ
てくることができることである。

例えばＶ字形またはＵ字形といった別の断面形状のエン
ベロープを用いると断面の大部分をビームの偏向に使用
できることは明らかである。

先に説明したように、上記のタイプのＣＲＴでは電子ビ
ームの電流とビーム位置を較正して調節することが特に
重要である。しかし、このような較正や調節を行うのに
光ファイバ・フェースプレートの側壁で電子ビームのモ
ニタを行うことは難しい。

このような較正や調節を行うことができるようにするた
めには、上記のタイプの円筒状ＣＲＴのエンベロープの
下流端において電子銃の延長線上に被覆を施して、磁場
偏向がない場合に電子ビームを遮り電子ビームがエンベ
ロープ端部のこの壁面に入射されるようにする。さらに
、第７図かられかるように、端部壁面６６の内面の被覆
２６は適当にパターニングされて複数の独立な区画に分
割されている。各区画は別々にモニタされるため、異な
る区画で受けた電子の量の比較結果を用いてこの被覆に
よって受けたビームの位置を決定する。

この操作の後、モニタ信号を用いてビームの位置を新た
に決定する。さらに、被覆からの全出力を直接測定した
結果は、電子ビームの全電流をモニタし制御するのに使
用することができる。

電磁石に励磁電流が供給されない場合には、電子ビーム
は電磁石アレイ中を偏向されずに通過し、エンベロープ
の端部壁面６６に衝突する。端部壁面６６は、電子ビー
ムを引きつけることができるよう適当な電位に維持され
ている。

被覆２６は蛍光性であり、さらに、励起された光の光束
分布をモニタできるようになっていることが望ましい。

この目的で、各区画ごとに独立な光センサをプレートの
背後に設置して各区画からの光をモニタして比較する。

一般に、被覆は少なくとも３つの区画に分割されている
。図示の例では４つの区画に分割されている。パターニ
ングは、実行する制御モードに応じて様々である。モニ
タモードでは、ビームの焦点をぼけさせて位置の区別と
全電流の測定を容易にすることが望ましい。

また、グリッド構造を被覆パターンに組み込み、かつ、
ビームを小さな位置決め信号を用いて変調することによ
り、スポットの解像度と収束の程度を測定することがで
きる。

同様に、位置決め信号を供給し、スポットの変位を測定
することにより、位置決め電流を測定して較正すること
ができる。

さらに、場合によっては被覆をパターニングする必要が
ない。特にビーム電流の強度のみをモニタするときにこ
のことがあてはまる。

偏向されなかったビームの電流をＣＲＴのエンベロープ
の端部で積分してそれを測定することにより大きな柔軟
性が与えられることがわかる。

さらに、ＣＲＴの端部壁面に入射される電子の数とその
分布は間接的にではなく直接的に測定できることに注目
されたい。この場合、端部壁面の被覆２６は入射電子に
応答して光を放射する蛍光性である必要はなく、容量に
より、または直接に入射電子の測定が可能な記憶用ＣＲ
Ｔとして使用されるタイプのものである。後者の場合、
各被覆区画にガラス製端部壁面を介して導電性接続を行
う必要がある。

端部壁面の被覆は、ビームと被覆の間が直線経路になる
のを阻むのでない限りは上記の任意の形状のＣＲＴを用
いることができる。

上記の様々な構成は本発明の一般原理の単なる例である
。本発明の精神と範囲を逸脱することなく様々な変形を
考えることができる。

さらに、電子ビームの磁気偏向に焦点をあてて説明を行
ったが、フェースプレートの側壁に入射させるために電
子ビームを横方向に偏向させるのに静電偏向を利用する
こともてきる。この方法では、ＣＲＴのエンベロープに
沿って配置された電極アレイが用いられる。エンベロー
プには、上記の磁気偏向の場合と同様に電子ビームを静
電的に偏向させるのに適当な電圧を順番に印加する。

【図面の簡単な説明】

第１Ａ図と第１Ｂ図は、線走査レコーダに用いられる従
来のＣＲＴの端面図と側面図である。 第２Ａ図は、本発明のＣＲＴの軸線に沿った縦断面図で
ある。 第２Ｂ図は、第２Ａ図の線ＢＢによる断面図であり、電
子ビームを横方向に偏向させて光ファイバ・プレートに
入射させるのに使用される電磁石の１つの構造が示され
ている。 第３図は、本発明の別の実施例のＣＲＴの縦断面図であ
る。 第４Ａ図は、本発明の別の実施例の断面図である。 第４Ｂ図は、第４Ａ図の線ＢＢによる断面図である。 第５Ａ図は、本発明の別の実施例の断面図である。 第５Ｂ図は、第５Ａ図の線ＢＢによる断面図である。 第６図は、前述の簡単な形態のＣＲＴに本発明に従って
電子ビームを横方向に偏向させる補助電磁石を設けた場
合の側面図である。 第７図は、調節と較正を容易にするためにパクーニング
された蛍光性被覆を備えた場合の第１図のＣＲＴの端部
表面の図である。 （主な参照番号） １１．２１．４１・・エンベロープ、 １１Ａ・・ネック、 １１Ｂ・・アサガオ形部分、 １２．２３・・電子銃、 １４・・フェースプレート、１５・・！Ｊ　−１’線、
１６・　・ピン、　　　　　　　　２０・　・ＣＲＴ。 ２２・・光ファイバ・プレート（フェースプレート）２
６・・被覆、　　　　　　　２７．３１・・電磁石、２
７Ｂ・・補助電磁石、 ２８・・補償型ダイナミック収束電圧源、２９・・コア
部分、３０・・コイノペ ３２．３３・・磁極片、　　　　４２・・屈曲部、４４
．４５・・部分、　　　　　５０・・電源、５１．５２
・・円筒部分、　　　５４・・接続部分、６６・・端部
壁面

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 （１）陰極線管のエンベロープを形成する手段と、この
   陰極線管のエンベロープの一端にあり、電子ビームを発
   生させてこの電子ビームをこの陰極線管のエンベロープ
   内の第１の経路に沿った第１の方向に放射する手段と、
   信号情報に応じてこの電子ビームを変調する手段とを備
   える陰極線管であって、 電子感応手段が上記陰極線管のエンベロープの長く延び
   た側壁部に沿って長手方向に配置されており、 この電子感応手段を周期的に走査するために上記電子ビ
   ームを上記第１の方向に対して横方向に偏向させる手段
   が長く延びた上記側壁部に沿って配置されていることを
   特徴とする陰極線管。 （３）上記電子感応手段が光ファイバからなるプレート
   であることを特徴とする請求項１に記載の陰極線管。 （４）上記陰極線管のエンベロープが互いに同軸ではな
   い第１と第２の部分を備え、第１の部分が上記電子ビー
   ム発生手段を備え、第２の部分が上記電子感応手段を備
   えることを特徴とする請求項１に記載の陰極線管。 （５）上記第１と第２の部分のそれぞれが、軸線が互い
   に平行ではあるが互いに横方向にずれた円筒であること
   を特徴とする請求項４に記載の陰極線管。 （６）上記エンベロープの下流端が電子感応材料からな
   る被覆を含み、ビームが偏向していないときにこの被覆
   に入射される電子数がモニタされることを特徴とする請
   求項１に記載の陰極線管。 （７）上記被覆が分離した複数の区画にパターン化され
   ており、ビームが偏向していないときの入射電子の分布
   がモニタされることを特徴とする請求項６に記載の陰極
   線管。 （８）上記電子ビームが上記電子感応手段を走査すると
   きに、横方向の偏向点に電子ビームを収束させてこの電
   子ビームにほぼ一定のサイズの状態を維持させる手段を
   さらに備えることを特徴とする請求項１に記載の陰極線
   管。 （９）上記維持手段が、上記電子ビーム形成手段のダイ
   ナミック収束要素に対して補償電圧を印加する手段を備
   えることを特徴とする請求項８に記載の陰極線管。 （１０）上記陰極線管のエンベロープに沿って、上記電
   子ビーム形成手段の下流、かつ、上記電磁石アレイの上
   流の位置に、電子をこの電磁石アレイによって偏向させ
   る前に横方向に振動させるための電磁石をさらに備える
   ことを特徴とする請求項２に記載の陰極線管。 （１１）請求項４と６に記載の陰極線管。 （１２）請求項４と６と１０に記載の陰極線管。 （１３）請求項４と１０に記載の陰極線管。