JPH0118605Y2 - - Google Patents

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JPH0118605Y2
JPH0118605Y2 JP1984025783U JP2578384U JPH0118605Y2 JP H0118605 Y2 JPH0118605 Y2 JP H0118605Y2 JP 1984025783 U JP1984025783 U JP 1984025783U JP 2578384 U JP2578384 U JP 2578384U JP H0118605 Y2 JPH0118605 Y2 JP H0118605Y2
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JP
Japan
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lance
sampling
water
cooled
protection
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JP1984025783U
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JPS60140751U (ja
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  • Sampling And Sample Adjustment (AREA)
  • Blast Furnaces (AREA)

Description

【考案の詳細な説明】 本考案は高炉内装入物サンプリングランスの考
案に係り、高炉内における装入物を自然状態で適
切にサンプリングせしめて正確な性状を測定せし
め、又耐用性の高いサンプリングランスを提供し
ようとするものである。
高炉内の装入物をサンプリングすることは炉内
における反応状態、炉況を判定、確認し、又装入
状況を知る上において枢要であつて、従来から
種々の方法が提案、実用化されている。即ちこの
ような従来のサンプリングランスとしては例えば
特公昭57−48619号公報に示されるようなものと、
体風中に非水冷の中空パイプを炉内に挿入してサ
ンプリングするような方式が打表的であるが、何
れにしても必水冷式であるためにランスが変形し
耐用性が充分に得られない不利があり、又前記し
た特許公報のタイプではランスに設けられた栓体
が完全な消耗品であつて毎回新しいものを挿着す
ることが必要であり、しかもこれら従来のものは
ランス先端を開口させ、この開口部を装入物中に
押入してランス駆動により無理に収納部に取込む
ものであるからその押し込み時に装入物が破壊せ
しめられ、この破壊して細粒化したものが優先的
に採取される傾向があり、更にはランスの後退時
に装入物が収容部の口からこぼれてシール弁の底
に溜りシール性を損うなどの欠点を有している。
本考案は上記したような従来のものの不利、欠
点を解消するように研究を重ねて考案されたもの
であつて、水冷された中空の保護ランスと該水冷
保護ランスの内部に収納され、先端部に装入物を
収容するための開口部の有する非水冷のサンプリ
ングランスを有し、前記の水冷ランスを動かす駆
動機構と上記サンプリングランスを動かすもう1
つの駆動機構を配設したことを特徴とする高炉内
装入物サンプリングランスを提案するものであつ
て、適正なサンプリングを得しめると共に耐用性
の高いサンプリング機構を得たものである。
即ち本考案によるものの具体的な実施態様を添
附図面に示すものについて説明すると、第4,5
図に示すように冷却水を循環せしめるように形成
された筒形の保護ランス1とこの水冷式保護ラン
ス1内に収納されるサンプリングランス2を有
し、該サンプリングランス2は非水冷式のもので
あつてその先端部には装入物を収容するための開
口部3が上向きに形成されており、上記した水冷
式保護ランス1は第1図に示すように炉体10に
設けられた挿入口部体11に挿入されると共に炉
外に形成された支持ガイド12に対して油圧式又
は電動式の駆動機構4でセツトされていて該第1
図における矢印aのように炉内方向へ出入進退さ
れ、挿入口部体11には第1、第2のシール弁1
3,14を設けると共に尾端部にシール材15が
取付けられている。又前記サンプリングランス2
は上記したような水冷式保護ランス1の尾端側か
ら突出せしめられた位置に操作シリンダーのよう
な駆動機構6が取付けられ、その先端部が第1図
に示すように保護ランス1に収容された状態で高
炉内に進入せしめられて所定深さ位置に停止し、
この保護ランス停止状態で前記駆動機構6を作動
し第2図のようにサンプリングランス2を突出さ
せてサンプリングするように成つている。
この第1,2図に示すものの場合におけるサン
プリングの取出しは炉体から保護ランス1を引出
した状態で、更にサンプリングランス2の全長を
引出さなければサンプルを取出すことができず、
従つて挿入口部体11の後方に充分な広さを必要
とする。この不利を解消するようにされたのが第
3図であつて、第3図はサンプリングランス2か
らの試料取出し状態を示すものであるが、この場
合においてはサンプリングランス2に対して別に
反転機構8を設けて反転操作するようにし、又第
2のシール弁14としては挿入口部体11の下方
に形成された取出口21にシール弁14aを設け
たものであり、サンプリングランス2の開口部が
保護ランス1内に引込まれない状態で保護ランス
1とサンプリングランス2とを一体として駆動機
構4により部体11内に引出し、シール弁13を
閉鎖して上記取出口21上において反転操作する
ように成つているものである。
上記したような本考案によるときはサンプリン
グランス2が水冷式の保護ランス1内に収容され
て炉内に出入操作されるので損傷変形を受けるこ
とが殆どなく、又サンプリング時においてサンプ
リングランスが少許突出されるとしてもその前方
の装入物を押して前進することにより上部の装入
物が極く自然に落ち込んで開口部3へサンプリン
グされるもので採取後の抜き取りに当つても保護
ランス1内に引込んで保護されると共に引抜き時
において上部装入物から細粒分が落ち込むことが
なく、又採取されたサンプリングがこぼれること
もないので的確なサンプリングを得ることがで
き、更に、こぼれた試料によつてシール部を損傷
せしめそのシール性能を害することがないので何
れにしても長期間に亘つて好ましい試料採取を行
わしめ得るなどの作用効果を有しており、この種
高炉内装入物のサンプリングに関し実用上その効
果の大きい考案である。
【図面の簡単な説明】
図面は本考案の実施態様を示すものであつて、
第1図は本考案による装置の1列についての全般
的な側面図、第2図はそのサンプリング時の状態
を示した部分的側面図、第3図は本考案によるも
う1つの実施形態を示したサンプリング排出状態
の側面図、第4図は保護ランスとサンプリングラ
ンス先端部の状態を拡大して示した部分的縦断側
面図、第5図はその横断面図である。 然してこれらの図面において、1は水冷保護ラ
ンス、2はサンプリングランス、3はその開口
部、4,6は駆動機構、8は反転機構、10は炉
体、11は挿入口部体、13,14及び14aは
シール弁、15はシール材、21は取出口を示す
ものである。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 水冷された中空の保護ランスと、該水冷保護ラ
    ンスの内部に収納され、先端部に装入物を収容す
    るための開口部を有する非水冷のサンプリングラ
    ンスを有し、前記水冷ランスを動かす駆動機構と
    上記サンプリングランスを動かすもう1つの駆動
    機構を配設したことを特徴とする高炉内装入物サ
    ンプリングランス。
JP2578384U 1984-02-27 1984-02-27 高炉内装入物サンプリングランス Granted JPS60140751U (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2578384U JPS60140751U (ja) 1984-02-27 1984-02-27 高炉内装入物サンプリングランス

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JP2578384U JPS60140751U (ja) 1984-02-27 1984-02-27 高炉内装入物サンプリングランス

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JPS60140751U JPS60140751U (ja) 1985-09-18
JPH0118605Y2 true JPH0118605Y2 (ja) 1989-05-31

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ID=30521173

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JP2578384U Granted JPS60140751U (ja) 1984-02-27 1984-02-27 高炉内装入物サンプリングランス

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103460013B (zh) * 2011-06-14 2015-01-14 日立造船株式会社 灰中的重金属浓度自动测量装置

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5016188A (ja) * 1973-06-01 1975-02-20

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JPS5016188A (ja) * 1973-06-01 1975-02-20

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JPS60140751U (ja) 1985-09-18

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