JPH01174920U - - Google Patents

Description

【図面の簡単な説明】

第１図ないし第１１図は本考案に係る基板の表
面処理装置の実施例を示し、第１図は一実施例の
配置形態を示す概略平面図、第２図ないし第５図
は他の実施例の配置形態をそれぞれ示す概略平面
図、第６図は基板方向転換移送機構の一例を示す
一部破断平面図、第７図は第６図の−断面図
、第８図は基板表面処理機構の一例を示す基板進
行方向の縦断面図、第９図は第８図の−断面
図、第１０図は基板方向転換移送機構の他の実施
例を示す一部破断平面図、第１１図は第１０図の
−断面図である。また、第１２図ないし第１
４図はそれぞれ従来装置の配置形態を示す概略平
面図である。 Ｌ……ローダ、Ｃ……基板方向転換移送機構、
Ｂ……基板表面処理機構、Ｄ……乾燥機構、ＵＬ
……アンローダ、３，４……ローラ、６……可動
フレーム、１２，１３……洗浄液供給用ノズル、
２８ａ，２８ｂ……ローラ、３０，３１……処理
液供給用ノズル。

Claims (1)

1. 【実用新案登録請求の範囲】 搬入された基板を必要により方向転換して移送
   する方向転換移送手段および基板表面を洗浄する
   洗浄手段を内装した基板方向転換移送機構と、 この基板方向転換移送機構から搬入されてきた
   基板を往復移送する手段および基板表面に表面処
   理液を供給する表面処理液供給手段を内装した複
   数個の基板表面処理機構とを備え、 前記基板方向転換移送機構を経由した基板のみ
   が所定の基板表面処理機構に搬入されるように、
   各基板表面処理機構を前記基板方向転換移送機構
   に隣接配置してなることを特徴とする基板の表面
   処理装置。