JPH01156543U - - Google Patents
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- Publication number
- JPH01156543U JPH01156543U JP5337188U JP5337188U JPH01156543U JP H01156543 U JPH01156543 U JP H01156543U JP 5337188 U JP5337188 U JP 5337188U JP 5337188 U JP5337188 U JP 5337188U JP H01156543 U JPH01156543 U JP H01156543U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electrodes
- insulating material
- side wall
- gap
- dry etching
- Prior art date
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- Pending
Links
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 claims description 3
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 claims description 3
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims 1
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- 230000002123 temporal effect Effects 0.000 description 1
Landscapes
- ing And Chemical Polishing (AREA)
- Drying Of Semiconductors (AREA)
Description
第１図は本考案ドライエツチング装置の一実施
例を示す断面図、第２図はＦの発光スペクトルの
時間変化を示す特性図である。 １……給電電極、２……接地電極、５……透光
性絶縁材料からなる側壁、６……メツシユ電極、
７……被エツチング体、９……光検出器。
例を示す断面図、第２図はＦの発光スペクトルの
時間変化を示す特性図である。 １……給電電極、２……接地電極、５……透光
性絶縁材料からなる側壁、６……メツシユ電極、
７……被エツチング体、９……光検出器。
Claims (1)
- 減圧し得る反応室に露出しグロー放電を誘起す
る少なくとも一対の電極と、該電極を包囲し上記
グロー放電によるプラズマを閉じ込める透光性絶
縁材料からなる側壁を備え、上記電極の少なくと
も一方の電極が上記プラズマにより生成された活
性種を通過し得る空隙を有し、当該空隙を通過し
た活性種により被エツチング体をエツチングする
と共に、斯るエツチングの終了を検出すべく上記
透光性絶縁材料の側壁の外周側に光検出器を配置
したことを特徴とするドライエツチング装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5337188U JPH01156543U (ja) | 1988-04-20 | 1988-04-20 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5337188U JPH01156543U (ja) | 1988-04-20 | 1988-04-20 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01156543U true JPH01156543U (ja) | 1989-10-27 |
Family
ID=31279354
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5337188U Pending JPH01156543U (ja) | 1988-04-20 | 1988-04-20 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01156543U (ja) |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60202938A (ja) * | 1984-03-28 | 1985-10-14 | Oki Electric Ind Co Ltd | プラズマエツチング装置 |
| JPS60234313A (ja) * | 1984-05-07 | 1985-11-21 | Hitachi Ltd | プラズマ処理装置 |
| JPS6228430B2 (ja) * | 1978-05-23 | 1987-06-19 | Mitsubishi Electric Corp |
-
1988
- 1988-04-20 JP JP5337188U patent/JPH01156543U/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6228430B2 (ja) * | 1978-05-23 | 1987-06-19 | Mitsubishi Electric Corp | |
| JPS60202938A (ja) * | 1984-03-28 | 1985-10-14 | Oki Electric Ind Co Ltd | プラズマエツチング装置 |
| JPS60234313A (ja) * | 1984-05-07 | 1985-11-21 | Hitachi Ltd | プラズマ処理装置 |
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