JPH01153994A - プラズマ制御装置 - Google Patents
プラズマ制御装置Info
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- JPH01153994A JPH01153994A JP62312117A JP31211787A JPH01153994A JP H01153994 A JPH01153994 A JP H01153994A JP 62312117 A JP62312117 A JP 62312117A JP 31211787 A JP31211787 A JP 31211787A JP H01153994 A JPH01153994 A JP H01153994A
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- 239000000523 sample Substances 0.000 claims description 11
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 5
- 230000007423 decrease Effects 0.000 abstract description 3
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- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 3
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical group [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
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- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
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Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E30/00—Energy generation of nuclear origin
- Y02E30/10—Nuclear fusion reactors
Landscapes
- Plasma Technology (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、プラズマ核融合実験炉における、プラズマ
の形状１位置を制御するプラズマ制御装置に関するもの
である。
の形状１位置を制御するプラズマ制御装置に関するもの
である。
第４図は例えば「核融合研究開発の現状ＪＰ８〜Ｐ１１
（日本原子力研究所１９８４年発行）に示された従来の
プラズマ制御装置の一部を断面して示す正面図であり、
図において、１．２はＳ。
（日本原子力研究所１９８４年発行）に示された従来の
プラズマ制御装置の一部を断面して示す正面図であり、
図において、１．２はＳ。
コイル、３．４は１（−３，コイル、５はＳ３コイル、
６はＱ、コイル、７はＱ２コイル、８は■。
６はＱ、コイル、７はＱ２コイル、８は■。
コイル、９は■２コイルで、これらＳ、Ｑ、Ｖコイルを
総称してポロイダル磁場コイルと言う。そして、プラズ
マの水平方向の位置制御には主として■コイル系を利用
し、プラズマの垂直方向の位置制御には主としてＳコイ
ル系を利用し、プラズマの断面形状制御には主としてＱ
コイル系を利用する。１０は真空容器、１１はトロイダ
ル磁場コイル、１２は変流器鉄心、１３はフィーダ、１
４はポロイダル磁場コイル結線切換盤である。
総称してポロイダル磁場コイルと言う。そして、プラズ
マの水平方向の位置制御には主として■コイル系を利用
し、プラズマの垂直方向の位置制御には主としてＳコイ
ル系を利用し、プラズマの断面形状制御には主としてＱ
コイル系を利用する。１０は真空容器、１１はトロイダ
ル磁場コイル、１２は変流器鉄心、１３はフィーダ、１
４はポロイダル磁場コイル結線切換盤である。
また、プラズマの水平方向の偏倚を検出する水平位置検
出器を示す第５図において、１５は鞍型ループコイル、
１６は磁気プローブ、１７は補助磁気プローブ、１８は
プラズマである。上記水平位置検出器によって位置検出
されたプラズマ１８を真空容器ＩＯの中心に制御するた
めのコイル電流制御器を示す第６図において、１９は電
源、２０はポロイダル磁場コイルである。
出器を示す第５図において、１５は鞍型ループコイル、
１６は磁気プローブ、１７は補助磁気プローブ、１８は
プラズマである。上記水平位置検出器によって位置検出
されたプラズマ１８を真空容器ＩＯの中心に制御するた
めのコイル電流制御器を示す第６図において、１９は電
源、２０はポロイダル磁場コイルである。
次に動作について説明する。
プラズマ１８はドーナツ形状の真空容器１０内に生成さ
れる。このプラズマ１８を閉じ込めるためにプラズマ１
８に電流が流され、同時に電磁力のバランスを取るため
にポロイダル磁場コイル２０を利用する。また、プラズ
マ１８が真空容器１０の内壁などに衝突しないようにす
るためにプラズマ１８の位置を検出する位置検出システ
ムと、コイルに流れる電流を制御するコイル電流制御シ
ステムとを用いてプラズマ１８の位置制御を行う。
れる。このプラズマ１８を閉じ込めるためにプラズマ１
８に電流が流され、同時に電磁力のバランスを取るため
にポロイダル磁場コイル２０を利用する。また、プラズ
マ１８が真空容器１０の内壁などに衝突しないようにす
るためにプラズマ１８の位置を検出する位置検出システ
ムと、コイルに流れる電流を制御するコイル電流制御シ
ステムとを用いてプラズマ１８の位置制御を行う。
すなわち、プラズマ１８の位置を知るために第５図に示
す水平位置検出器に設けられた磁気プローブ１６および
補助磁気プローブ１７を用いてプラズマ電流によって発
生するポロイダル磁場を測定し、もしプラズマ１８が内
側に寄っている時は内側の磁気プローブ１６．補助磁気
プローブ１７よりの信号が強く表われ、もしプラズマ１
８が外側に寄っている時は外側の磁気プローブ１６およ
び補助磁気プローブ１７よりの信号が強く表われるので
、これによってプラズマ１８の電流路の分布を求め、次
いで例えば多重モーメント法あるいはシャフラーラフ法
などの複雑な計算処理をリアルタイムで行い、その結果
を第６図に示すコイル電流制御装置に送ってプラズマ１
８を真空容器１０の中心に戻す制御を行う。また、コイ
ル電流制御装置はプラズマ１８の位置が検出されたのち
、プラズマ１８を真空容器１０の中心に戻すためのもの
で、中心のプラズマ１８にはプラズマ電流が■の方向に
流れております。一方、ポロイダル磁場コイル２０はプ
ラズマ１８の外側に設置され、これに電流を■の方向に
流せばプラズマ１８を押す力Ａが得られ、■の方向に流
せばプラズマ１８を引く力Ｂが得られ、そのうえ大きな
電流を流せば大きな力が得られ、小さな電流を流せば小
さな力が得られることになる。よって、各ポロイダル磁
場コイル２０に流す電流の方向および大きさを制御する
ことによって、フィードバックを行うことになる。第７
図はそのプラグ“７１８を真空容器１０の中心に戻すた
めにコイル系が発生すべき磁場を示したベクトル図で、
２７は水平磁場成分、２８は垂直磁場成分、２９はｖｌ
ｏ−磁場成分、３０はＶｕｐ ｔａ磁場成分３１は合成
磁場成分である。
す水平位置検出器に設けられた磁気プローブ１６および
補助磁気プローブ１７を用いてプラズマ電流によって発
生するポロイダル磁場を測定し、もしプラズマ１８が内
側に寄っている時は内側の磁気プローブ１６．補助磁気
プローブ１７よりの信号が強く表われ、もしプラズマ１
８が外側に寄っている時は外側の磁気プローブ１６およ
び補助磁気プローブ１７よりの信号が強く表われるので
、これによってプラズマ１８の電流路の分布を求め、次
いで例えば多重モーメント法あるいはシャフラーラフ法
などの複雑な計算処理をリアルタイムで行い、その結果
を第６図に示すコイル電流制御装置に送ってプラズマ１
８を真空容器１０の中心に戻す制御を行う。また、コイ
ル電流制御装置はプラズマ１８の位置が検出されたのち
、プラズマ１８を真空容器１０の中心に戻すためのもの
で、中心のプラズマ１８にはプラズマ電流が■の方向に
流れております。一方、ポロイダル磁場コイル２０はプ
ラズマ１８の外側に設置され、これに電流を■の方向に
流せばプラズマ１８を押す力Ａが得られ、■の方向に流
せばプラズマ１８を引く力Ｂが得られ、そのうえ大きな
電流を流せば大きな力が得られ、小さな電流を流せば小
さな力が得られることになる。よって、各ポロイダル磁
場コイル２０に流す電流の方向および大きさを制御する
ことによって、フィードバックを行うことになる。第７
図はそのプラグ“７１８を真空容器１０の中心に戻すた
めにコイル系が発生すべき磁場を示したベクトル図で、
２７は水平磁場成分、２８は垂直磁場成分、２９はｖｌ
ｏ−磁場成分、３０はＶｕｐ ｔａ磁場成分３１は合成
磁場成分である。
従来のプラズマ制御装置は以上のように構成されている
ので、測定された磁場分布を非常に高速にリアルタイム
で計算処理を行い、その結果をポロイダル磁場コイル２
０に流す電流に反映して行かなければならず、このため
複雑な位置推測装置が必要になるという問題点があった
。また、上記磁気プローブ１６および補助磁気プローブ
１７で測定した磁気信号をどのようにプラズマ１８の位
置信号に変換するかについての問題点もあり、さらに磁
気信号の強弱がプラズマ電流の強弱に比例するために大
型のプラズマ制御装置においてはプラズマ電流の絶対値
そのものをモニタする必要がある。したがって、従来の
プラズマ制御装置は高価で複雑となると共に、早いフィ
ードバックも行いに（いという問題点があった。
ので、測定された磁場分布を非常に高速にリアルタイム
で計算処理を行い、その結果をポロイダル磁場コイル２
０に流す電流に反映して行かなければならず、このため
複雑な位置推測装置が必要になるという問題点があった
。また、上記磁気プローブ１６および補助磁気プローブ
１７で測定した磁気信号をどのようにプラズマ１８の位
置信号に変換するかについての問題点もあり、さらに磁
気信号の強弱がプラズマ電流の強弱に比例するために大
型のプラズマ制御装置においてはプラズマ電流の絶対値
そのものをモニタする必要がある。したがって、従来の
プラズマ制御装置は高価で複雑となると共に、早いフィ
ードバックも行いに（いという問題点があった。
この発明は上記のような問題点を解消するためになされ
たもので、複雑な位置推測装置を必要とせず、プラズマ
の位置および必要な平衡ポロイダル磁場を検出できるよ
うにしたプラズマ制御装置を得ることを目的とする。
たもので、複雑な位置推測装置を必要とせず、プラズマ
の位置および必要な平衡ポロイダル磁場を検出できるよ
うにしたプラズマ制御装置を得ることを目的とする。
この発明に係るプラズマ制御装置はドーナツ形状の真空
容器外周に電気絶縁部が形成されたシェルを設け、上記
電気絶縁部に沿って流れるリターン電流によって生じる
誤差電流を検出する磁気センサまたは磁束センサを設け
たものである。
容器外周に電気絶縁部が形成されたシェルを設け、上記
電気絶縁部に沿って流れるリターン電流によって生じる
誤差電流を検出する磁気センサまたは磁束センサを設け
たものである。
〔作用〕
この発明におけるプラズマ制御装置はプラズマの位置に
応じて流れる渦電流による磁場を磁気センサまたは磁束
センサで測定し、ポロイダル磁場と渦電流による磁場と
によりプラズマの制御を行うものである。
応じて流れる渦電流による磁場を磁気センサまたは磁束
センサで測定し、ポロイダル磁場と渦電流による磁場と
によりプラズマの制御を行うものである。
以下、この発明の一実施例を図について説明する。第１
図はこの発明の一実施例を示す端面断面図であり、第１
図において第４図と同一または均等な構成部分には同一
符号を付して重複説明を省略する。第１図において、２
１は真空容器１０の外周に設けられるシェル、２２は上
記真空容器１０の外周でシェル２１の９方向（円周方向
の所定個所）についての電気絶縁部２１ａに複数設けら
れる磁気センサまたは磁束センサ、２３はＯＨコイル、
２４は鉄心で、上記電気絶縁部２１ａは鉄心２４とＯＨ
コイル２３とがプラズマ電流にトランス結合していてＯ
Ｈコイル２３に流す電流の時間変化によって電場をＴ方
向（円周方向）に発生させ、プラズマ１８に印加する電
場をシェル２１によってシールドしてしまうのを防止し
、プラズマ電流を生成維持している。２５はＴ方向の磁
場を作るトロイダルコイルである。
図はこの発明の一実施例を示す端面断面図であり、第１
図において第４図と同一または均等な構成部分には同一
符号を付して重複説明を省略する。第１図において、２
１は真空容器１０の外周に設けられるシェル、２２は上
記真空容器１０の外周でシェル２１の９方向（円周方向
の所定個所）についての電気絶縁部２１ａに複数設けら
れる磁気センサまたは磁束センサ、２３はＯＨコイル、
２４は鉄心で、上記電気絶縁部２１ａは鉄心２４とＯＨ
コイル２３とがプラズマ電流にトランス結合していてＯ
Ｈコイル２３に流す電流の時間変化によって電場をＴ方
向（円周方向）に発生させ、プラズマ１８に印加する電
場をシェル２１によってシールドしてしまうのを防止し
、プラズマ電流を生成維持している。２５はＴ方向の磁
場を作るトロイダルコイルである。
次に動作について説明する。
プラズマ１８を閉込めるためには、プラズマ１８に電流
を流すと同時に外側から第１図に矢印２６で示すような
Ｚ軸方向の垂直磁場であるポロイダル磁場をかける。こ
のポロイダル磁場を発生させるには、ポロイダル磁場コ
イル２０による方法と、シェル２１による方法とがある
が、後者の方法は発生する磁場が、シェル２１の表面に
流れる渦電流によって作られるものであり、この渦電流
は時間共に減少するので、長時間に渡ってプラズマ１８
を閉込めることはできない。そこで、電源から電流を駆
動することができるポロイダル磁場コイル２０が用いら
れることになる。しかし、シェル２１は同時にプラズマ
１８の安定性を確保することができるので、必要になる
ことも多いし、渦電流が自動的にプラズマ電流１ｐの強
さ、位置に合せて流れるので、短かい時間では、はぼ完
全なフィードバック機構を持ったシステムと考えられる
。したがって、シェル２１とポロイダル（ａ場コイル系
は、前者が短時間、後者が長時間プラズマ１８の閉込め
を行うように機能分担させる。
を流すと同時に外側から第１図に矢印２６で示すような
Ｚ軸方向の垂直磁場であるポロイダル磁場をかける。こ
のポロイダル磁場を発生させるには、ポロイダル磁場コ
イル２０による方法と、シェル２１による方法とがある
が、後者の方法は発生する磁場が、シェル２１の表面に
流れる渦電流によって作られるものであり、この渦電流
は時間共に減少するので、長時間に渡ってプラズマ１８
を閉込めることはできない。そこで、電源から電流を駆
動することができるポロイダル磁場コイル２０が用いら
れることになる。しかし、シェル２１は同時にプラズマ
１８の安定性を確保することができるので、必要になる
ことも多いし、渦電流が自動的にプラズマ電流１ｐの強
さ、位置に合せて流れるので、短かい時間では、はぼ完
全なフィードバック機構を持ったシステムと考えられる
。したがって、シェル２１とポロイダル（ａ場コイル系
は、前者が短時間、後者が長時間プラズマ１８の閉込め
を行うように機能分担させる。
また、シェル２１にはＴ方向に電気絶縁部２１ａが設け
られているため、外から印加したポロイダル磁場がプラ
ズマ１８を閉込めるのに適切でないと、すなわちプラズ
マ１８が中心からずれたときに上記電気絶縁部２１に沿
って第３図に示すような渦電流のリターン電流Ｉｒが流
れ、プラズマ１８が中心にあるときはリターン電流１ｒ
は流れない。すなわち、シェル２１の内側表面には、プ
ラズマ電流夏ｐ七反対方向の電流１１が流れ、外側表面
には、プラズマ電流Ｉｐと同じ方向の電流Ｉ２が流れて
いる。この２つの渦電流は、それぞれ異なった分布を持
っているので、ポロイダル磁場がプラズマ１８を閉込め
るのに適切でないと、その差分が渦電流のリターン電流
１ｒとして電気絶縁部２１ａに沿で流れることになる。
られているため、外から印加したポロイダル磁場がプラ
ズマ１８を閉込めるのに適切でないと、すなわちプラズ
マ１８が中心からずれたときに上記電気絶縁部２１に沿
って第３図に示すような渦電流のリターン電流Ｉｒが流
れ、プラズマ１８が中心にあるときはリターン電流１ｒ
は流れない。すなわち、シェル２１の内側表面には、プ
ラズマ電流夏ｐ七反対方向の電流１１が流れ、外側表面
には、プラズマ電流Ｉｐと同じ方向の電流Ｉ２が流れて
いる。この２つの渦電流は、それぞれ異なった分布を持
っているので、ポロイダル磁場がプラズマ１８を閉込め
るのに適切でないと、その差分が渦電流のリターン電流
１ｒとして電気絶縁部２１ａに沿で流れることになる。
このため、この渦電流の差分であるリターン電流１ｒに
よって誤差磁場が生じるごとになる。実験的にはこの誤
差磁場の存在がプラズマ１８の閉込めを大きく悪くする
ことが知られている。
よって誤差磁場が生じるごとになる。実験的にはこの誤
差磁場の存在がプラズマ１８の閉込めを大きく悪くする
ことが知られている。
したがって、上記誤差磁場を測定して、外部のポロイダ
ル磁場コイル電流を直接フィードバック制御する。すな
わち、従来測定していた磁場とは方向が９０°異なり、
従来は測定しなかった誤差磁場を磁気センサまたは磁束
センサ２２により測定することによって外部のポロイダ
ル磁場コイル電流を直接フィードバック制御する。
ル磁場コイル電流を直接フィードバック制御する。すな
わち、従来測定していた磁場とは方向が９０°異なり、
従来は測定しなかった誤差磁場を磁気センサまたは磁束
センサ２２により測定することによって外部のポロイダ
ル磁場コイル電流を直接フィードバック制御する。
また、シェル２１の渦電流は時間共に減少するが、これ
によって、ポロイダル磁場である外部磁場がしみ込み全
体的には変らないので、プラズマ１８の閉込めを行うこ
とができる。さらにもし、プラズマ１８が時間によって
位置を変化させたとすれば、それに応じた渦電流が新た
に発生し、再度誤差磁場が発生するので、このようなシ
ステムであっても、長時間に渡って閉込めが行えること
となる。
によって、ポロイダル磁場である外部磁場がしみ込み全
体的には変らないので、プラズマ１８の閉込めを行うこ
とができる。さらにもし、プラズマ１８が時間によって
位置を変化させたとすれば、それに応じた渦電流が新た
に発生し、再度誤差磁場が発生するので、このようなシ
ステムであっても、長時間に渡って閉込めが行えること
となる。
なお、上記実施例では電気絶縁部のリターン電流１ｒを
制御するために、シェル２１全体をおおう大型のポロイ
ダル磁場コイルを用いたのであるが、ポロイダル磁場コ
イルを電気絶縁部付近に設置して極所的にポロイダル磁
場を発生させるようにしても、上記実施例と同様の効果
を奏する。
制御するために、シェル２１全体をおおう大型のポロイ
ダル磁場コイルを用いたのであるが、ポロイダル磁場コ
イルを電気絶縁部付近に設置して極所的にポロイダル磁
場を発生させるようにしても、上記実施例と同様の効果
を奏する。
また、上記実施例ではシェル２１の円周上の所定個所に
電気絶縁部２１ａを形成し、この電気絶縁部２１ａに磁
気センサまたは磁束センサ２２を設置してプラズマ１８
の位置制御を行う説明をしたが、シェル２１の円周に沿
って電気絶縁部を形成し、同様にプラズマの断面制御を
行ってもよい。
電気絶縁部２１ａを形成し、この電気絶縁部２１ａに磁
気センサまたは磁束センサ２２を設置してプラズマ１８
の位置制御を行う説明をしたが、シェル２１の円周に沿
って電気絶縁部を形成し、同様にプラズマの断面制御を
行ってもよい。
〔発明の効果］
以上のようにこの発明によればプラズマ制御装置を外側
から印加したポロイダル磁場が不適切な時に発生する誤
差磁場を測定し、ポロイダル磁場と併用してフィードバ
ック制御を行うように構成したので、複雑な計算処理を
行うことな（プラズマの位置および必要な平衡ポロイダ
ル磁場を検出でき、安価で極めて早い制御を行うことが
できるという効果がある。
から印加したポロイダル磁場が不適切な時に発生する誤
差磁場を測定し、ポロイダル磁場と併用してフィードバ
ック制御を行うように構成したので、複雑な計算処理を
行うことな（プラズマの位置および必要な平衡ポロイダ
ル磁場を検出でき、安価で極めて早い制御を行うことが
できるという効果がある。
第１図はこの発明の一実施例によるプラズマ制御装置を
示す端面断面図、第２図はこの発明のプラズマ制御装置
の要部を抽出して示す平面図、第３図はこの発明のプラ
ズマ制御装置の動作を説明するために一部を抽出して示
す斜視図、第４図は従来のプラズマ制御装置を示す正面
図、第５図は従来のプラズマ制御装置の真空容器部分を
抽出して示す一部切欠斜視図、第６図は従来のプラズマ
の位置制御を説明するための概念図、第７図は磁場信号
のベクトル図である。 １０は真空容器、１８はプラズマ、２０はポロイダル磁
場コイル、２１はシェル、２１ａは電気絶縁部、２２は
磁気センサまたは磁束センサ。 なお、図中、同一符号は同一または相当部分を示す。 第１図 ２１Ｇ＝電気縛縁舒 口 寸
示す端面断面図、第２図はこの発明のプラズマ制御装置
の要部を抽出して示す平面図、第３図はこの発明のプラ
ズマ制御装置の動作を説明するために一部を抽出して示
す斜視図、第４図は従来のプラズマ制御装置を示す正面
図、第５図は従来のプラズマ制御装置の真空容器部分を
抽出して示す一部切欠斜視図、第６図は従来のプラズマ
の位置制御を説明するための概念図、第７図は磁場信号
のベクトル図である。 １０は真空容器、１８はプラズマ、２０はポロイダル磁
場コイル、２１はシェル、２１ａは電気絶縁部、２２は
磁気センサまたは磁束センサ。 なお、図中、同一符号は同一または相当部分を示す。 第１図 ２１Ｇ＝電気縛縁舒 口 寸
Claims (1)
- ドーナツ形状の真空容器と、この真空容器に生成され
るプラズマを閉込めるためのポロイダル磁場コイルと、
上記プラズマの位置を検出する磁場プローブとを用いて
上記ポロイダル磁場コイルに流れる電流を制御するよう
にしたプラズマ制御装置において、上記真空容器の外周
に電気絶縁部を有するシェルを設けると共に、上記電気
絶縁部に沿って流れるリターン電流によって生じる誤差
磁場を検出する複数の磁気センサまたは磁束センサを設
けたことを特徴とするプラズマ制御装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62312117A JPH01153994A (ja) | 1987-12-11 | 1987-12-11 | プラズマ制御装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62312117A JPH01153994A (ja) | 1987-12-11 | 1987-12-11 | プラズマ制御装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01153994A true JPH01153994A (ja) | 1989-06-16 |
Family
ID=18025448
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62312117A Pending JPH01153994A (ja) | 1987-12-11 | 1987-12-11 | プラズマ制御装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01153994A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2018523258A (ja) * | 2015-05-12 | 2018-08-16 | ティーエーイー テクノロジーズ， インコーポレイテッド | 不所望の渦電流を低減するシステムおよび方法 |
-
1987
- 1987-12-11 JP JP62312117A patent/JPH01153994A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2018523258A (ja) * | 2015-05-12 | 2018-08-16 | ティーエーイー テクノロジーズ， インコーポレイテッド | 不所望の渦電流を低減するシステムおよび方法 |
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