JPH01152486A - 反射ホログラム及びその複製 - Google Patents
反射ホログラム及びその複製Info
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- JPH01152486A JPH01152486A JP63213517A JP21351788A JPH01152486A JP H01152486 A JPH01152486 A JP H01152486A JP 63213517 A JP63213517 A JP 63213517A JP 21351788 A JP21351788 A JP 21351788A JP H01152486 A JPH01152486 A JP H01152486A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は表示目的のためのホログラム、特に透過型ホロ
グラムから作製される反射ホログラム、反射マスターホ
ログラムの作製方法及び反射マスターホログラムの複製
の作製方法に関する。
グラムから作製される反射ホログラム、反射マスターホ
ログラムの作製方法及び反射マスターホログラムの複製
の作製方法に関する。
（従来の技術）
ホログラムを複製する種々の方法が提案され、例えば米
国出願第３ｉ００５６号に記載された方法では空間フィ
ルタを参照ビーム及び対象ビームの双方に使用すること
が記載されている。ソビエト量子エレクトロニクス雑誌
第８巻巡７（１９７８）頁８５５−８５９の論文には透
過ホログラムの干渉による複製で反射ホログラムを作製
する方法が記載されている。この論文中の提案された方
法は材料対象を透過ホログラムから再生されたその実画
像で置き換えることを基礎とするものである。英国特許
出願第１２７８６７２号には、対象の異なる視点に対応
する複数の画像をそれぞれ別々の写真板要素を使用して
ホログラフ的に順次記録するヒとにより立体画僚を作製
する方法が記載されている。これ等の要素は写真画像の
フレームを形成し、フィルム及び写真板に順次番号付け
を行なうことにより形成されている。更に米国出願第３
６２５５８４号には対象画面の水平情報成分及び垂直情
報成分がそれぞれ独立に処理される三次光大画面映画に
使用され得るホログラムが記載されている。
国出願第３ｉ００５６号に記載された方法では空間フィ
ルタを参照ビーム及び対象ビームの双方に使用すること
が記載されている。ソビエト量子エレクトロニクス雑誌
第８巻巡７（１９７８）頁８５５−８５９の論文には透
過ホログラムの干渉による複製で反射ホログラムを作製
する方法が記載されている。この論文中の提案された方
法は材料対象を透過ホログラムから再生されたその実画
像で置き換えることを基礎とするものである。英国特許
出願第１２７８６７２号には、対象の異なる視点に対応
する複数の画像をそれぞれ別々の写真板要素を使用して
ホログラフ的に順次記録するヒとにより立体画僚を作製
する方法が記載されている。これ等の要素は写真画像の
フレームを形成し、フィルム及び写真板に順次番号付け
を行なうことにより形成されている。更に米国出願第３
６２５５８４号には対象画面の水平情報成分及び垂直情
報成分がそれぞれ独立に処理される三次光大画面映画に
使用され得るホログラムが記載されている。
（発明が解決しようとする課題）
表示目的のためのホログラムを作製するととはコスト及
び時間がかかシ、また、−旦適当なホログラムが作製さ
れた場合には、このホログラムから数十、数百及び数千
の複製を作製する必要がある。しかしながら、オリジナ
ルホログラムが高輝度である場合であっても、その複製
は、現在採用されている複製技法を使用した場合、拡散
光を使用して再生した場合にはしばしば充分な輝度の複
製ホログラムが生じない場合がある。多数の複製をオリ
ジナルの透過ホログラムから作成する必要がある場合、
透過ホログ２ムから高品質反射マスターを作製し、次い
でこの反射マスターを使用して接触複製することにより
所望の数の複製を作製するのが通常である。この様に多
数の複製ホログラムが必要とされる場合、それから高輝
度の複製が作製でき、拡散光で再生し得る反射マスター
の作製にはかなシの労力を費やすだけの価値がある。
び時間がかかシ、また、−旦適当なホログラムが作製さ
れた場合には、このホログラムから数十、数百及び数千
の複製を作製する必要がある。しかしながら、オリジナ
ルホログラムが高輝度である場合であっても、その複製
は、現在採用されている複製技法を使用した場合、拡散
光を使用して再生した場合にはしばしば充分な輝度の複
製ホログラムが生じない場合がある。多数の複製をオリ
ジナルの透過ホログラムから作成する必要がある場合、
透過ホログ２ムから高品質反射マスターを作製し、次い
でこの反射マスターを使用して接触複製することにより
所望の数の複製を作製するのが通常である。この様に多
数の複製ホログラムが必要とされる場合、それから高輝
度の複製が作製でき、拡散光で再生し得る反射マスター
の作製にはかなシの労力を費やすだけの価値がある。
本発明は、この様な反射マスター及びこの様なマスター
の作製方法を提供することを目的とする。
の作製方法を提供することを目的とする。
（課題を解決するための手段）
本発明の１つは、反射ホログラムが、１方又は１端から
他方又は他端へ延びる複数の連続的に平行な想像上のス
トリップ（区画）に分割され、前記各区画中に存在する
干渉縞が実質的に同心円状の殻の１部を形成し、そして
前記反射ホログラムのそれぞれのこの様な区画が透過ホ
ログラム全体から誘導される情報を含み、前記反射ホロ
グラムがこの反射ホログラムの作製の間に反射ホログラ
ムに対応する透過ホセグラムの位置により定められるの
ぞき窓を通して見ることができる反射ホログラムである
こと特徴とする透過ホログラムから作製される反射ホロ
グラムを提供するものである。
他方又は他端へ延びる複数の連続的に平行な想像上のス
トリップ（区画）に分割され、前記各区画中に存在する
干渉縞が実質的に同心円状の殻の１部を形成し、そして
前記反射ホログラムのそれぞれのこの様な区画が透過ホ
ログラム全体から誘導される情報を含み、前記反射ホロ
グラムがこの反射ホログラムの作製の間に反射ホログラ
ムに対応する透過ホセグラムの位置により定められるの
ぞき窓を通して見ることができる反射ホログラムである
こと特徴とする透過ホログラムから作製される反射ホロ
グラムを提供するものである。
好ましくは各想像上の区画は、この区画に平行な想像上
の帯に分割され、各帯は反射ホログラムを作製する間に
透過ホログラムをそれぞれの想像上の図面に分割したそ
れぞれの想像上の区画から誘導される情報を含み、反射
ホログラムの各想像上の区画中の想像上の帯の数は透過
ホログラムの想像上の区画の数に等しい。この様に透過
ホログラムが人間の顔に関する場合、人間の顔から作製
される反射ホログラム中の１連の想像上の区画は顔の中
の眼に関係するであろうが、これ等１区画のそれぞれが
透過ホログラム全体から得られる眼に関する情報を含む
であロウ。従ってホログラムを再生する場合、この眼は
、水平及び垂直画視差により透過ホログラムの窓の大き
さによって許される全ての角度から見ることができる。
の帯に分割され、各帯は反射ホログラムを作製する間に
透過ホログラムをそれぞれの想像上の図面に分割したそ
れぞれの想像上の区画から誘導される情報を含み、反射
ホログラムの各想像上の区画中の想像上の帯の数は透過
ホログラムの想像上の区画の数に等しい。この様に透過
ホログラムが人間の顔に関する場合、人間の顔から作製
される反射ホログラム中の１連の想像上の区画は顔の中
の眼に関係するであろうが、これ等１区画のそれぞれが
透過ホログラム全体から得られる眼に関する情報を含む
であロウ。従ってホログラムを再生する場合、この眼は
、水平及び垂直画視差により透過ホログラムの窓の大き
さによって許される全ての角度から見ることができる。
本発明の別の１つは、
１）透過ホログラムを第１の数の平行な想像上の区画に
分割し、 ２）反射マスターを前記透過ホログラムに平行に置き、 ３）前記反射マスターを、互いに、且つ、透過ホログラ
ムの想像上の区画に平行な第２の数の想像上の区画に分
割し、 ４） ＊次前記透過ホログラムの想像上の区画の各々
を走査するための対象ビームを与え、且つ、参照ビーム
を与える様にレーザーを配置し、５）前記透過ホログラ
ムと前記反射マスターとの間に遮蔽板等を配置すると共
に、該遮蔽板に前記透過ホログラムを通って透過する対
象ビームが前記反射マスターの想像上の区画の１つの帯
上に当るようにスリット又は前記区画に平行なビームを
狭める手段を形成し、 ６）共に前記区画に平行に拡がるシリンドリカルレンズ
及びスリット又は他のビームを狭める手段から成り、前
記反射マスターの前記透過ホログラムと反対側に位置し
、前記レンズがビームを狭める手段が無い場合に前記反
射マスターを通過する光のビームが該レンズの焦点から
発散し、前記反射マスターの想像上の区画の全面に当る
のに充分な幅を持つような前記反射マスターからの距離
に位置し、対象ビームと参照ビームとが前記反射マスタ
ーの想像上の区画と同じ帯中である角度で交差するよう
に配置された光学系を通して対象ビームを方向づけ、７
）前記帯を、走査される前記透過ホログラムの第１の想
像上の区画に関し、露光により両前記ビームに露光し、 ８）前記透過ホログラムの隣接する想像上の区画を走査
するために両者のビームを狭める手段の位置を変えると
共に対象ビームの方向を変え、９）前記透過ホログラム
の隣接する前記区画に関し、前記反射マスターの同じ想
像上の区画の隣接する帯を露光し、この工程を前記反射
マスターの第１の想像上の区画が透過ホログラムの各想
像上の区画に関し帯中に露光され、前記反射マスターの
想像上の１つの区画中のバンドの数が前記透過ホログラ
ムの想像上の区画の数に等しくなるまで繰返し、 １０）前記反射マスターと前記透過ホログラムの位置を
変え、前記露光工程を前記反射マスターの各想像上の区
画が前記透過ホログラムの各想像上の区画に関し帯状に
露光され終るまで繰返し、そして １１）露光した反射マスターを処理して反射ホログラム
を作製する段階を特徴とする透過ホログラムから反射マ
スターボログ２ムを形成する方法を提供するものである
。
分割し、 ２）反射マスターを前記透過ホログラムに平行に置き、 ３）前記反射マスターを、互いに、且つ、透過ホログラ
ムの想像上の区画に平行な第２の数の想像上の区画に分
割し、 ４） ＊次前記透過ホログラムの想像上の区画の各々
を走査するための対象ビームを与え、且つ、参照ビーム
を与える様にレーザーを配置し、５）前記透過ホログラ
ムと前記反射マスターとの間に遮蔽板等を配置すると共
に、該遮蔽板に前記透過ホログラムを通って透過する対
象ビームが前記反射マスターの想像上の区画の１つの帯
上に当るようにスリット又は前記区画に平行なビームを
狭める手段を形成し、 ６）共に前記区画に平行に拡がるシリンドリカルレンズ
及びスリット又は他のビームを狭める手段から成り、前
記反射マスターの前記透過ホログラムと反対側に位置し
、前記レンズがビームを狭める手段が無い場合に前記反
射マスターを通過する光のビームが該レンズの焦点から
発散し、前記反射マスターの想像上の区画の全面に当る
のに充分な幅を持つような前記反射マスターからの距離
に位置し、対象ビームと参照ビームとが前記反射マスタ
ーの想像上の区画と同じ帯中である角度で交差するよう
に配置された光学系を通して対象ビームを方向づけ、７
）前記帯を、走査される前記透過ホログラムの第１の想
像上の区画に関し、露光により両前記ビームに露光し、 ８）前記透過ホログラムの隣接する想像上の区画を走査
するために両者のビームを狭める手段の位置を変えると
共に対象ビームの方向を変え、９）前記透過ホログラム
の隣接する前記区画に関し、前記反射マスターの同じ想
像上の区画の隣接する帯を露光し、この工程を前記反射
マスターの第１の想像上の区画が透過ホログラムの各想
像上の区画に関し帯中に露光され、前記反射マスターの
想像上の１つの区画中のバンドの数が前記透過ホログラ
ムの想像上の区画の数に等しくなるまで繰返し、 １０）前記反射マスターと前記透過ホログラムの位置を
変え、前記露光工程を前記反射マスターの各想像上の区
画が前記透過ホログラムの各想像上の区画に関し帯状に
露光され終るまで繰返し、そして １１）露光した反射マスターを処理して反射ホログラム
を作製する段階を特徴とする透過ホログラムから反射マ
スターボログ２ムを形成する方法を提供するものである
。
この方法の結果として、露光された反射マスターホログ
ラムは、長さ方向に沿ってそれぞれが異なる適当な視点
から記録された透過ホログラム全体からの情報を含む一
連の想像上の区画を含有するようになる。この反射マス
ターヲ適商な角度から照射し、高い角度から観察すると
再生ホログラムは赤味がかって見え・ 逆に低い角度か
ら観察した場合には緑色を帯びて見える。
ラムは、長さ方向に沿ってそれぞれが異なる適当な視点
から記録された透過ホログラム全体からの情報を含む一
連の想像上の区画を含有するようになる。この反射マス
ターヲ適商な角度から照射し、高い角度から観察すると
再生ホログラムは赤味がかって見え・ 逆に低い角度か
ら観察した場合には緑色を帯びて見える。
この反射マスターの各想像上の区画には、それを再生し
た場合、従来技術のホログラムよシも拡散光中で鮮明に
見える高輝度ホログラムを作製するのに役立つ、１組の
曲線干渉縞が存在するようになる。
た場合、従来技術のホログラムよシも拡散光中で鮮明に
見える高輝度ホログラムを作製するのに役立つ、１組の
曲線干渉縞が存在するようになる。
この反射マスターを形成するためのこの方法は、各区画
が、この区画に平行な軸から放射している実質的に同心
円状の殻である縞を含有するホログラムを作製する。
が、この区画に平行な軸から放射している実質的に同心
円状の殻である縞を含有するホログラムを作製する。
この様に各想像上の区画の幅は、焦点に収束し、次いで
反射マスター上に拡がるレーザ参照ビームを使用して作
製された反射マスター上の集光ビームによって決定され
、この拡がったビームの幅が各想像上の区画の幅となる
。
反射マスター上に拡がるレーザ参照ビームを使用して作
製された反射マスター上の集光ビームによって決定され
、この拡がったビームの幅が各想像上の区画の幅となる
。
対象ビームと参照ビームとがそれぞれの露光で異なる角
度で交差するように前記反射マスターの各区画の露光に
多重の狭いビームを使用すると各区画中に記録される情
報量が減少し、縞の相互浸透が防止される。
度で交差するように前記反射マスターの各区画の露光に
多重の狭いビームを使用すると各区画中に記録される情
報量が減少し、縞の相互浸透が防止される。
参照ビームが反射マスターと交差する角度の範囲により
最終的に観察され得る色の範囲が制御され、よシ大きな
角度範囲によりよυ広範な色範囲が生じる。
最終的に観察され得る色の範囲が制御され、よシ大きな
角度範囲によりよυ広範な色範囲が生じる。
再生時に観察され得る色の範囲はシリンドリカルレンズ
の有効開口径、即ち、走査スリットの移動により生じる
シリンドリカルレンズの開口径によっても制御される。
の有効開口径、即ち、走査スリットの移動により生じる
シリンドリカルレンズの開口径によっても制御される。
露光期間中の反射マスターに対する標準透過ホログラム
のサイズ及び位置により、そこから反射マスターから再
生される画像が観察される角度及び位置の範囲が制御さ
れる。
のサイズ及び位置により、そこから反射マスターから再
生される画像が観察される角度及び位置の範囲が制御さ
れる。
複製
反射マスター上の各想像上の区画が反射マスターの各区
画上に参照ビームを集光することによって形成されるた
め、単なる接触複製方法によっては反射マスターの複製
を作成することはできない。本発明者は反射マスターと
複製とを１連の想像上の区画に分割するのに同様の原理
を採用することによりこの様な反射マスターから複製を
作製する方法を見出した。
画上に参照ビームを集光することによって形成されるた
め、単なる接触複製方法によっては反射マスターの複製
を作成することはできない。本発明者は反射マスターと
複製とを１連の想像上の区画に分割するのに同様の原理
を採用することによりこの様な反射マスターから複製を
作製する方法を見出した。
反射ホログラフマスターから複製を作製する種々の方法
が公表されているが、これ等方法を本願に記載された種
類の反射マスターを複製するために使用することはでき
ない。これ等従来技術方法の例［１ｊドイツ公開第１１
１８２２号、ヨーロッパ特許出願第８７２８１号及びソ
ビエトジャーナル オブ カンタム エレクトロニクス
（ｔｈｅ ５ｏｖｉｅｔ Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｑｕ
ａｎｔｕｍ Ｅｌｅｃｔｒｏ−ｎｉｃｓ）、第８巻、Ａ
７ （１−９７ａ０７）頁８０９−８１９中ノフイ・
ニー・バニン（Ｖ、Ａ、 Ｖａｎｉｎ ）による報告書
であるホログラムコビーイング （Ｈｏｌｏｇｒａｍ Ｃｏｐｙｉｎｇ）に示されている
。
が公表されているが、これ等方法を本願に記載された種
類の反射マスターを複製するために使用することはでき
ない。これ等従来技術方法の例［１ｊドイツ公開第１１
１８２２号、ヨーロッパ特許出願第８７２８１号及びソ
ビエトジャーナル オブ カンタム エレクトロニクス
（ｔｈｅ ５ｏｖｉｅｔ Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｑｕ
ａｎｔｕｍ Ｅｌｅｃｔｒｏ−ｎｉｃｓ）、第８巻、Ａ
７ （１−９７ａ０７）頁８０９−８１９中ノフイ・
ニー・バニン（Ｖ、Ａ、 Ｖａｎｉｎ ）による報告書
であるホログラムコビーイング （Ｈｏｌｏｇｒａｍ Ｃｏｐｙｉｎｇ）に示されている
。
本発明の更に別の１面は、収束レンズを感光性ホ四グラ
ム材料と反射マスターホログラムとの複合体の感光性ホ
ログラフ材料により近い１方にその焦点を該複合体の他
方に有し、該収束レンズを透過するビームが前記焦点に
収束し、そして反射ホログラム中の１つの想像上の区画
の全面に当るよう反射ホログラムからその作製に使用し
た収束レンズと同じ距離に位置し、且つ、反射ホログラ
ム中の各想像上の区画に、反射ホログラム中の全ての想
像上の区画が露光されるまで前記レンズ及び前記感光性
ホログラフ材料を通って方向付けられるレーザビームを
順次露光し、然る後、前記感光性ホログラフ材料を複製
ホログラムを形成する様処理することを特徴とする感光
性写真材料を反射マスターホログラムと接触して配置し
、次いで得られる複合体にレーザ光を露光することによ
る反射マスターホログラムの複製の作製方法を提供する
ものである。
ム材料と反射マスターホログラムとの複合体の感光性ホ
ログラフ材料により近い１方にその焦点を該複合体の他
方に有し、該収束レンズを透過するビームが前記焦点に
収束し、そして反射ホログラム中の１つの想像上の区画
の全面に当るよう反射ホログラムからその作製に使用し
た収束レンズと同じ距離に位置し、且つ、反射ホログラ
ム中の各想像上の区画に、反射ホログラム中の全ての想
像上の区画が露光されるまで前記レンズ及び前記感光性
ホログラフ材料を通って方向付けられるレーザビームを
順次露光し、然る後、前記感光性ホログラフ材料を複製
ホログラムを形成する様処理することを特徴とする感光
性写真材料を反射マスターホログラムと接触して配置し
、次いで得られる複合体にレーザ光を露光することによ
る反射マスターホログラムの複製の作製方法を提供する
ものである。
露光される感光性ホログラフ材料の正面のレンズの位置
を選択することにより、反射マスター中の曲線縞によっ
て反射される光が確実に反射マスター中の縞を前記感光
性材料中に複製するため、実質的にその元の経路に沿っ
て反射するようになる。
を選択することにより、反射マスター中の曲線縞によっ
て反射される光が確実に反射マスター中の縞を前記感光
性材料中に複製するため、実質的にその元の経路に沿っ
て反射するようになる。
この露光系は、反射マスターから反射されて戻る光を測
定する光感度測定器を設けることにより、レーザビーム
が１つの想像上の区画のみに向けられ、他の区画に重な
シ合っていないかを確かめるために試験され得る。
定する光感度測定器を設けることにより、レーザビーム
が１つの想像上の区画のみに向けられ、他の区画に重な
シ合っていないかを確かめるために試験され得る。
この光が１つの想像上の区画に方向付けられ、他の区画
と重なシ合っていない場合反射して戻る光量は最大とな
る。
と重なシ合っていない場合反射して戻る光量は最大とな
る。
今述べた方法に連続レーザビームを使用するのが便利で
あり、ホログラフ材料はそこからレーザ光が反射される
反射マスター中の区画の全面に当る区画を除いてマスク
される。反射マスターの頂部の区画がホログラフ材料を
通して露光されるのが便利であり、ホログラフ材料の残
部がマスクされ、次いで遮蔽板によりレーザからの光を
遮断して反射マスター及びホログラフ材料を１区画分移
動し、然る後シャッターを除去して頂部区画の隣の区画
とホログラフ材料とが相互に接触した状態で露光される
。この工程は相互に接触した状態の全反射マスターとホ
ログラフ材料がホログラフ材料中に反射マスター中に存
在したものと同数のホログラフ縞を有する区画を形成す
るための露光が完了するまで続けられる。
あり、ホログラフ材料はそこからレーザ光が反射される
反射マスター中の区画の全面に当る区画を除いてマスク
される。反射マスターの頂部の区画がホログラフ材料を
通して露光されるのが便利であり、ホログラフ材料の残
部がマスクされ、次いで遮蔽板によりレーザからの光を
遮断して反射マスター及びホログラフ材料を１区画分移
動し、然る後シャッターを除去して頂部区画の隣の区画
とホログラフ材料とが相互に接触した状態で露光される
。この工程は相互に接触した状態の全反射マスターとホ
ログラフ材料がホログラフ材料中に反射マスター中に存
在したものと同数のホログラフ縞を有する区画を形成す
るための露光が完了するまで続けられる。
本発明の更に別の面は、感光性ホログラフ材料を、反射
マスターホログラムと感光性ホログラフとの複合体中に
反射ホログラムの想像上の区画数を分割した数の想像上
の区画を含有するホログラフ光学要素を有すると共に、
該ホログラフ光学要素中の各想像上の区画が、光を変調
する縞を含む当該ホログラフ光学要素が前記複合体中に
配置された際に当該ホログラフ光学要素中の各区画に入
る光が反射ホログラムからその作製に使用した収束レン
ズと同じ距離にある焦点に収束すると共に反射ホログラ
ム中の１つの想像上の区画の全面に当り、且つ、前記複
合体を反射ホログラムの１連の想像上の区画を露光する
ためのレーザ光の第１の露光に晒し、次いで前記ホログ
ラフ光学要素を前記反射ホログラムに対して動かし、然
る後前記複合体を、前記反射ホログラムの別の想像上の
区画を露光するためのレーザー光の続いての露光に晒し
、全ての反射ホログラムの想像上の区画が露光されるま
でこの工程、即ち前記露光を前記分数の逆数に等しい整
数回繰返し、然る後、前記感光性ホログラフ材料を複製
ホログラムを形成するよう処理することを特徴とする感
光性写真材料を反射マスターホログラムと接触して配置
し、次いで得られる複合体にレーザ光を露光することに
よる反射マスターホログラムの複製の作製方法を提供す
るものである。
マスターホログラムと感光性ホログラフとの複合体中に
反射ホログラムの想像上の区画数を分割した数の想像上
の区画を含有するホログラフ光学要素を有すると共に、
該ホログラフ光学要素中の各想像上の区画が、光を変調
する縞を含む当該ホログラフ光学要素が前記複合体中に
配置された際に当該ホログラフ光学要素中の各区画に入
る光が反射ホログラムからその作製に使用した収束レン
ズと同じ距離にある焦点に収束すると共に反射ホログラ
ム中の１つの想像上の区画の全面に当り、且つ、前記複
合体を反射ホログラムの１連の想像上の区画を露光する
ためのレーザ光の第１の露光に晒し、次いで前記ホログ
ラフ光学要素を前記反射ホログラムに対して動かし、然
る後前記複合体を、前記反射ホログラムの別の想像上の
区画を露光するためのレーザー光の続いての露光に晒し
、全ての反射ホログラムの想像上の区画が露光されるま
でこの工程、即ち前記露光を前記分数の逆数に等しい整
数回繰返し、然る後、前記感光性ホログラフ材料を複製
ホログラムを形成するよう処理することを特徴とする感
光性写真材料を反射マスターホログラムと接触して配置
し、次いで得られる複合体にレーザ光を露光することに
よる反射マスターホログラムの複製の作製方法を提供す
るものである。
この後者方法において、前記ホログラフ光学要素中の各
区画はあたかも収束レンズの如く振舞い、そして露光の
間、レーザ光はあたかもこの光が反射マスターの製造中
に使用した集光参照ビームから来た如く反射マスター中
の縞で反射する。 こ
れにより、複製材料中に反射マスターの縞を再生するた
め、反射マスター中の曲線干渉縞によって反射した光が
、実質的に元の径路に沿って確実に折返されるようにな
る。
区画はあたかも収束レンズの如く振舞い、そして露光の
間、レーザ光はあたかもこの光が反射マスターの製造中
に使用した集光参照ビームから来た如く反射マスター中
の縞で反射する。 こ
れにより、複製材料中に反射マスターの縞を再生するた
め、反射マスター中の曲線干渉縞によって反射した光が
、実質的に元の径路に沿って確実に折返されるようにな
る。
好ましくは、露光複合体中のホログラフ光学要素と複写
材料との間に複製材料がゼｐ次光によって露光されるの
を防止するために使用されるルーバーシートを有する。
材料との間に複製材料がゼｐ次光によって露光されるの
を防止するために使用されるルーバーシートを有する。
このようなルーバーシートを使用することにより複製フ
ィルムの全体を１回の露光中に複製フィルム全体が晒さ
れることが防止される。
ィルムの全体を１回の露光中に複製フィルム全体が晒さ
れることが防止される。
ルーバーシートの代りに、狭帯幅の１クロム酸ゼラチン
又は２色フィルターを選択的にゼロ次光を反射するため
に使用することができる。
又は２色フィルターを選択的にゼロ次光を反射するため
に使用することができる。
第２の露光の際、ルーバーシート及び反射マスターヲ反
射マスターの１つの区画の垂直高さ距離分移動する。こ
の場合、ルーバーシート中の小板間の距離は水平区画２
個分の距離に相当し；もし異なる小板間距離を有するル
ーバーシートを使用する場合、更に多くの露光が必要と
されよう。
射マスターの１つの区画の垂直高さ距離分移動する。こ
の場合、ルーバーシート中の小板間の距離は水平区画２
個分の距離に相当し；もし異なる小板間距離を有するル
ーバーシートを使用する場合、更に多くの露光が必要と
されよう。
小板を１回の露光で済む距離に配列することもできるで
あろうが、この様な配列とした場合ある種の情報が失な
われることとなろう。
あろうが、この様な配列とした場合ある種の情報が失な
われることとなろう。
小板の幅が大きければ大きい程、各小板間により多くの
距離が必要とされる。従ってルーバーはそれぞれの小板
間の距離が複数の想像上の区画、好ましくは２又は３区
画にわたるよう採用される。各小板間の距離が想像上の
２区画にわたる場合には、ホログラフ光学要素は反射マ
スターが含有する区画数の半分を含み、全複製材料を露
光するためには２回の露光が必要である。同様に、各小
板間の距離が想像上の３区画にわたる場合にはホログラ
フ光学要素は反射マスターが含有する区画数の１１５を
含み、全複製材料を露光するためには３回の露光が必要
である。
距離が必要とされる。従ってルーバーはそれぞれの小板
間の距離が複数の想像上の区画、好ましくは２又は３区
画にわたるよう採用される。各小板間の距離が想像上の
２区画にわたる場合には、ホログラフ光学要素は反射マ
スターが含有する区画数の半分を含み、全複製材料を露
光するためには２回の露光が必要である。同様に、各小
板間の距離が想像上の３区画にわたる場合にはホログラ
フ光学要素は反射マスターが含有する区画数の１１５を
含み、全複製材料を露光するためには３回の露光が必要
である。
この方法は、高出力パルスレーザを使用して反射マスタ
ーから複製を作製することが望まれている場合に、特に
使用され得る方法である。
ーから複製を作製することが望まれている場合に、特に
使用され得る方法である。
（実施例）
本発明をよシ判シ易くするために、図面と共に実施例を
説明することとする。
説明することとする。
第１図は、支持体２上に写真乳剤１が塗布されたマスタ
ーの反射ホログラムの部分断面図を示すものであり、こ
の支持体は通常写真乳剤層の数倍の厚さを有するため、
図中、支持体の１部のみが示されている。その完成され
、露光された形態のホログラムはその作製過程の露光に
より、ホログラムを横切って１方又は１端から他方又は
他端に延びる多数の想像上のストリップ（区画）３，４
．５及び６に分割されているものと考えられる。同様に
、それぞれの区画３ないし６は、別の区画に細分割され
、また、多数の帯７に分割される。第１図においては区
画４０３つの帯のみが示されている。以下に説明するよ
うに、１区画の帯７全体は、マスターの反射ホログラム
を作製する透過ホログラム全体から引き出される情報を
含んでいる。
ーの反射ホログラムの部分断面図を示すものであり、こ
の支持体は通常写真乳剤層の数倍の厚さを有するため、
図中、支持体の１部のみが示されている。その完成され
、露光された形態のホログラムはその作製過程の露光に
より、ホログラムを横切って１方又は１端から他方又は
他端に延びる多数の想像上のストリップ（区画）３，４
．５及び６に分割されているものと考えられる。同様に
、それぞれの区画３ないし６は、別の区画に細分割され
、また、多数の帯７に分割される。第１図においては区
画４０３つの帯のみが示されている。以下に説明するよ
うに、１区画の帯７全体は、マスターの反射ホログラム
を作製する透過ホログラム全体から引き出される情報を
含んでいる。
また、第１図には、多重露光により作成される一連の曲
線干渉縞８が示されているが、勿論、これらの縞は目に
見えるものではないが、多重露光の結果を示すために第
１図に示しである。
線干渉縞８が示されているが、勿論、これらの縞は目に
見えるものではないが、多重露光の結果を示すために第
１図に示しである。
第１図のホログラムは白色光参照ビーム９によって照ら
され、そして赤色画像と一ム１０及び緑色画像と一ム１
１を反射している状態を示している。このホログラムか
ら反射された画像ビームは通常の方法で干渉して画像を
形成する（図示せず。）。
され、そして赤色画像と一ム１０及び緑色画像と一ム１
１を反射している状態を示している。このホログラムか
ら反射された画像ビームは通常の方法で干渉して画像を
形成する（図示せず。）。
第１図に示すマスターの反射ホログラムを作成する方法
を第２図ないし第４図を参照して説明する。反射ホログ
ラム１２は、それ自体、通常の方法で作成された透過ホ
ログラム１４から製造サレる。この透過ホログラムは想
像上多数の区画１５．１６等に分割されており、これ等
は（図示されない）レーザからの平行対照ビーム１７に
よって順次照射されている。透過型ホログラム１４を想
像上分割して出来る区画１５゜１６等の数は、反射ホロ
グラムの想像上の区画のそれぞれが分割されて出来る帯
７の数に等しい。
を第２図ないし第４図を参照して説明する。反射ホログ
ラム１２は、それ自体、通常の方法で作成された透過ホ
ログラム１４から製造サレる。この透過ホログラムは想
像上多数の区画１５．１６等に分割されており、これ等
は（図示されない）レーザからの平行対照ビーム１７に
よって順次照射されている。透過型ホログラム１４を想
像上分割して出来る区画１５゜１６等の数は、反射ホロ
グラムの想像上の区画のそれぞれが分割されて出来る帯
７の数に等しい。
最初未露光の感光材料のシート又はフィルム、即ち反射
マスターの形態にて存在する反射ホログラム１２は、反
射マスター１２の幅に向って広がシ、かつ、両ホログラ
ムの想像上の区画に平行なスリット１９が形成された遮
蔽板１８によって反射ホログラム１４から分離されてい
る。
マスターの形態にて存在する反射ホログラム１２は、反
射マスター１２の幅に向って広がシ、かつ、両ホログラ
ムの想像上の区画に平行なスリット１９が形成された遮
蔽板１８によって反射ホログラム１４から分離されてい
る。
透過ホログラム１４を通って透過する光は、狭いバンド
２０を除き、反射マスター１２から遮蔽され、この狭い
バンド２０はスリット１９を通過して反射マスターのバ
ンド７を露光し、そして照射されている透過ホログラム
の区画１６に関する情報を担持している。
２０を除き、反射マスター１２から遮蔽され、この狭い
バンド２０はスリット１９を通過して反射マスターのバ
ンド７を露光し、そして照射されている透過ホログラム
の区画１６に関する情報を担持している。
反射マスター１２のホログラム１４に対する反対側には
スリット１９及び想像上の区画にこれまた平行なシリン
ドリカルレンズ２１とスリット２３の形成されたマスク
２２から成る光学系がある。
スリット１９及び想像上の区画にこれまた平行なシリン
ドリカルレンズ２１とスリット２３の形成されたマスク
２２から成る光学系がある。
このマスク２２は、平行ビーム１７を発生したのと同様
の図示されないレーザからの参照ビームによって照射さ
れている。
の図示されないレーザからの参照ビームによって照射さ
れている。
レンズ２１は、マスク２２が無い中を参照ビーム２４が
レンズの焦点２５を通過して発散し始め、反射マスター
の想像上の区画２６、即ち第１図に示す区画の３ないし
６のいずれか１つに対応する区画の全面に当る様な反射
マスター１２の背後の距離に位置している。しかしなが
ら実際には、参照ビームのほとんどは極めて狭いビーム
が反射マスター１２に到達するように覆われている。ス
リット１９と２５とは反射マスター１２の同一のバンド
７が同時に照射されるように配設されている（第４図参
照）。
レンズの焦点２５を通過して発散し始め、反射マスター
の想像上の区画２６、即ち第１図に示す区画の３ないし
６のいずれか１つに対応する区画の全面に当る様な反射
マスター１２の背後の距離に位置している。しかしなが
ら実際には、参照ビームのほとんどは極めて狭いビーム
が反射マスター１２に到達するように覆われている。ス
リット１９と２５とは反射マスター１２の同一のバンド
７が同時に照射されるように配設されている（第４図参
照）。
反射マスター１２は露光により参照ビームの発散によっ
て決まる多数の想像上の区画に分れ、そして第２図はそ
の様な既に露光された区画２７と露光中の隣接する区画
２６とを示している。
て決まる多数の想像上の区画に分れ、そして第２図はそ
の様な既に露光された区画２７と露光中の隣接する区画
２６とを示している。
第２図は露光開始近くの区画２６を示し、第３図は平行
レーザビーム１７によって照射された透過ホログラムの
区画２８による露光操作の最後の区画２６を示している
。第４図は、拡大された、区画の中央近くのバンド７が
、露光のために透過ホログラム１４の中間の想像上の区
画２９（第２図）を通って透過する光及びスリットを透
過する光がスリット１９を通過するビーム２０によって
照射されている同一のバンド７を照射するように位置す
るレンズ２１及びマスク２２を通って透過する光を受け
ている中間の位置を示す。
レーザビーム１７によって照射された透過ホログラムの
区画２８による露光操作の最後の区画２６を示している
。第４図は、拡大された、区画の中央近くのバンド７が
、露光のために透過ホログラム１４の中間の想像上の区
画２９（第２図）を通って透過する光及びスリットを透
過する光がスリット１９を通過するビーム２０によって
照射されている同一のバンド７を照射するように位置す
るレンズ２１及びマスク２２を通って透過する光を受け
ている中間の位置を示す。
完成されたマスター反射ホログラムを作成スるためには
、多数回の露光が必要とされることが理解できよう。従
って、例えば反射ホログラムが１００の想像上の第１図
中の３．４．５及び６又は第２ないし４図中の２６及び
２７の区画に分割され、透過ホログラムが１５．１６．
２８及び２９の５０の想像上の区画に分割される場合に
は、反射ホログラムの想像上の区画毎に５０の帯が存在
し、完全な露光された反射ホログラム１２を与えるため
に５０００の露光が必要とされよう。
、多数回の露光が必要とされることが理解できよう。従
って、例えば反射ホログラムが１００の想像上の第１図
中の３．４．５及び６又は第２ないし４図中の２６及び
２７の区画に分割され、透過ホログラムが１５．１６．
２８及び２９の５０の想像上の区画に分割される場合に
は、反射ホログラムの想像上の区画毎に５０の帯が存在
し、完全な露光された反射ホログラム１２を与えるため
に５０００の露光が必要とされよう。
これ等の露光を達成するために必要な装置は、レーザビ
ーム１７が連続的に透過ホログラム１４を一方又は一端
から始まって反対他方又は反対他端に終るように走査す
ることを可能ならしめる手段、マスク１８を動かす手段
及びレーザビーム１７が透過ホログラムを走査するよう
なレーザビーム１７のそれぞれの位置においてスリット
１９及び２５が反射マスター１２の想像上の帯の適当な
帯を照射するように配置されるように対応してマスク２
２を動かす手段を含む。
ーム１７が連続的に透過ホログラム１４を一方又は一端
から始まって反対他方又は反対他端に終るように走査す
ることを可能ならしめる手段、マスク１８を動かす手段
及びレーザビーム１７が透過ホログラムを走査するよう
なレーザビーム１７のそれぞれの位置においてスリット
１９及び２５が反射マスター１２の想像上の帯の適当な
帯を照射するように配置されるように対応してマスク２
２を動かす手段を含む。
上に与えられた例においてマスク１８及び２２は必要な
変更を加えてスリット１９及び２３の５０の異なる位置
を与えるよう動かされることを必要とする。
変更を加えてスリット１９及び２３の５０の異なる位置
を与えるよう動かされることを必要とする。
及び透過ホログラムを進める手段が必要とされる。
反射型ホログラムを作成する操作において、反射マスタ
ーの想像上の露光は第２図に示される様に開始し得る。
ーの想像上の露光は第２図に示される様に開始し得る。
透過ホログラム１４０区画１６は走査され、遮蔽板１８
は想像上の区画２６の最上（第２図参照）の帯７がビー
ム２０によって露光されるように配置される。
は想像上の区画２６の最上（第２図参照）の帯７がビー
ム２０によって露光されるように配置される。
この同一の想像上の区画２６の最上の帯がスリット２３
及びレンズ２１を通過する参照ビーム２４によって露光
される。１００分の１秒持続し得るこの露光の後、平行
ビーム１７は透過ホログラムの隣接するよシ低い区画３
０を走査するように変えられる。
及びレンズ２１を通過する参照ビーム２４によって露光
される。１００分の１秒持続し得るこの露光の後、平行
ビーム１７は透過ホログラムの隣接するよシ低い区画３
０を走査するように変えられる。
しかしながらこの区画３０が走査される前は、遮蔽板３
８中のスリット１９の位置が区画２６の頂上の帯７の隣
を露光し得るようにほんの僅か調整され、参照ビームの
経路中のスリット２３の位置がほんの僅か調整される。
８中のスリット１９の位置が区画２６の頂上の帯７の隣
を露光し得るようにほんの僅か調整され、参照ビームの
経路中のスリット２３の位置がほんの僅か調整される。
次いで第２の露光が行なわれる。４８のこのスリットと
必要な変更を加えて変えられた平行ビームとによるこの
様な露光の後、区画２６の最低部の帯が透過ホログラム
の最低部の想像上の区画を透過するビーム２０に露光さ
れる第３図に示すような位置に到達する。次いで反射マ
スター１２及び透過ホログラム１４は隣接する想像上の
区画３１がスリット１９の背後にある様に共に下方に動
かされる（第２及び３図参照） 更に５０回この様な露光がこの区画上に行なわれ、次い
で反射マスター及び透過型ホログラムが、隣接する区画
がスリット１９の背後に至るまで下方に動かされる。ま
た、この手続は反射マスターが全て露光されるまで行な
われる。
必要な変更を加えて変えられた平行ビームとによるこの
様な露光の後、区画２６の最低部の帯が透過ホログラム
の最低部の想像上の区画を透過するビーム２０に露光さ
れる第３図に示すような位置に到達する。次いで反射マ
スター１２及び透過ホログラム１４は隣接する想像上の
区画３１がスリット１９の背後にある様に共に下方に動
かされる（第２及び３図参照） 更に５０回この様な露光がこの区画上に行なわれ、次い
で反射マスター及び透過型ホログラムが、隣接する区画
がスリット１９の背後に至るまで下方に動かされる。ま
た、この手続は反射マスターが全て露光されるまで行な
われる。
それぞれの区画が充分に露光された後に反射マスターが
移動する量及びマスク２２の無い中をし／ズ２１を通っ
て透過する発散ビームによって全面に当てられる反射マ
スターの幅がそれぞれの区画の幅を決め、そして両者が
反射マスター全体が確実に露光される様制御される。各
露光の間の遮蔽板１８の移動は各区画の全幅が各区画の
露光サイクルの間に露光されるようにする必要がある。
移動する量及びマスク２２の無い中をし／ズ２１を通っ
て透過する発散ビームによって全面に当てられる反射マ
スターの幅がそれぞれの区画の幅を決め、そして両者が
反射マスター全体が確実に露光される様制御される。各
露光の間の遮蔽板１８の移動は各区画の全幅が各区画の
露光サイクルの間に露光されるようにする必要がある。
この様に各露光に対して、対象ビーム２０及び参照ビー
ム２４０幅はスリットによって制御され、その結果、制
御された角度で存在する光のみが感光材料中で干渉して
縞を形成する。
ム２４０幅はスリットによって制御され、その結果、制
御された角度で存在する光のみが感光材料中で干渉して
縞を形成する。
再生時に縞状構造が最小化される様態光される反射マス
ターの想像上の区画が互いに接触あるいはほんの僅か重
なシ合うようにすることが好ましい。実際には１００を
超える区画が必要とされよう。
ターの想像上の区画が互いに接触あるいはほんの僅か重
なシ合うようにすることが好ましい。実際には１００を
超える区画が必要とされよう。
反射マスターを作製する間に、シリンドリカルレンズ２
１の有効数開口径、即ち走査スリットの移動によって生
じるシリンドリカルレンズの開口径は再生の際の色範囲
を制御する。
１の有効数開口径、即ち走査スリットの移動によって生
じるシリンドリカルレンズの開口径は再生の際の色範囲
を制御する。
露光の間の反射マスターに対する透過ホログラムの位置
及び大きさは、再生時のホログラムを観察し得る角度範
囲を制御し、それを通して反射ホログラムにより作製さ
れた画像を観察し得る窓を決定する。
及び大きさは、再生時のホログラムを観察し得る角度範
囲を制御し、それを通して反射ホログラムにより作製さ
れた画像を観察し得る窓を決定する。
本発明により作製される反射マスターホログラムは、連
続波レーザ又はパルスレーザのいずれかを用いてホログ
ラフ材料上に接触印刷することにより複製され得る。
続波レーザ又はパルスレーザのいずれかを用いてホログ
ラフ材料上に接触印刷することにより複製され得る。
本発明の方法により作製される反射マスターを連続レー
ザを使用して複製するために必要な光学系を第５図に示
す。この図において、反射マスターホログラム４０は、
既に記述した様にして作製された１連の想像上の区画４
１，４２ 。
ザを使用して複製するために必要な光学系を第５図に示
す。この図において、反射マスターホログラム４０は、
既に記述した様にして作製された１連の想像上の区画４
１，４２ 。
４３．４４等を有する。このホログラムに透明シート状
の感光性ホログラフ材料４５を接触し、次いで後者をマ
スク４６で覆う。この複合体の一方の側にシリンドリカ
ルレンズ４７がある。
の感光性ホログラフ材料４５を接触し、次いで後者をマ
スク４６で覆う。この複合体の一方の側にシリンドリカ
ルレンズ４７がある。
このレンズは、それを通過するレーザ光のビーム４８が
反射マスターホログラムの１つの想像上の区画、この（
第５図の）場合区画４３の全面に当って収束する様装置
され、マスク４６は１つの想像上の区画、即ち区画４３
が全面に露光され得るのに充分な幅をもっている。
反射マスターホログラムの１つの想像上の区画、この（
第５図の）場合区画４３の全面に当って収束する様装置
され、マスク４６は１つの想像上の区画、即ち区画４３
が全面に露光され得るのに充分な幅をもっている。
このレンズは、反射マスターの他方の側の焦点４９が第
２及び３図に示したレンズの焦点２５と反射マスターか
ら同距離にある。これによって、シリンドリカルレンズ
が反射マスターの露光に使用するレンズと同様の有効数
開口径を有しさえすれば反射マスターの縞に合った参照
角度の範囲が与えられる。
２及び３図に示したレンズの焦点２５と反射マスターか
ら同距離にある。これによって、シリンドリカルレンズ
が反射マスターの露光に使用するレンズと同様の有効数
開口径を有しさえすれば反射マスターの縞に合った参照
角度の範囲が与えられる。
反射マスターの第５図を参照した場合の最上部の想像上
の区画を接触する感光性ホログラフ材料４５と共に、材
料４５の残部をマスク４６によって覆いながら露光する
。次いで、ビーム４８を図示しない遮蔽板によって遮シ
、マスク４５を次いで同様に露光する隣の下の想像上の
区画に対応するよう動かす。反射マスターの全部がホロ
グラフ材料４５に再生されるまで各区画を順次露光する
。それぞれの場合、露光された区画中の元の縞と同心円
状の静止波模様がホログラフ材料４５に作製される。こ
の様に今述べた様に反射マスターを使用して１００回の
露光が必要とされる。
の区画を接触する感光性ホログラフ材料４５と共に、材
料４５の残部をマスク４６によって覆いながら露光する
。次いで、ビーム４８を図示しない遮蔽板によって遮シ
、マスク４５を次いで同様に露光する隣の下の想像上の
区画に対応するよう動かす。反射マスターの全部がホロ
グラフ材料４５に再生されるまで各区画を順次露光する
。それぞれの場合、露光された区画中の元の縞と同心円
状の静止波模様がホログラフ材料４５に作製される。こ
の様に今述べた様に反射マスターを使用して１００回の
露光が必要とされる。
感光性ホログラフ材料４５の全体を露光した後、この材
料は、それぞれの内に第１図に示すような１連の曲線綿
を有する、この場合、１００の想像上の区画を有する複
製であるホログラムを作製するために処理される。反射
マスターに関し、拡散白色光を使用して再生し得る高輝
度ホログラムが作製される。再生ホログラムを高い角度
から見た場合、画像はよシ赤味を帯びて見え、逆に低い
角度から見た場合、よシ緑色に見える。
料は、それぞれの内に第１図に示すような１連の曲線綿
を有する、この場合、１００の想像上の区画を有する複
製であるホログラムを作製するために処理される。反射
マスターに関し、拡散白色光を使用して再生し得る高輝
度ホログラムが作製される。再生ホログラムを高い角度
から見た場合、画像はよシ赤味を帯びて見え、逆に低い
角度から見た場合、よシ緑色に見える。
しかしながら、本発明方法により作製された反射マスタ
ーホログラムからパルスレーザラ使用して複製を作製す
るととが必要とされる場合、パルスレーザが各露光の後
で充電するのに数秒を要し、従って１００回の露光を行
なう時間の長さが数分にも達するため、異なった方法を
使用する必要がある。この場合、採用し得る１つの方法
としては、複製過程で使用する平行参照ビームを変調す
るためのホログラフ光学要素、即ち、全ホログ２フを１
．２．３又はそれ以外の全回数の露光で複製し得るホロ
グラフ光学要素を準備することが挙げられる。
ーホログラムからパルスレーザラ使用して複製を作製す
るととが必要とされる場合、パルスレーザが各露光の後
で充電するのに数秒を要し、従って１００回の露光を行
なう時間の長さが数分にも達するため、異なった方法を
使用する必要がある。この場合、採用し得る１つの方法
としては、複製過程で使用する平行参照ビームを変調す
るためのホログラフ光学要素、即ち、全ホログ２フを１
．２．３又はそれ以外の全回数の露光で複製し得るホロ
グラフ光学要素を準備することが挙げられる。
反射マスターとして所定数の想像上の区画の１部を含む
ホログラフ光学要素を準備し、複製露光の間、これを反
射マスターと接触している感光性複製ホログラフ材料と
接触して配置する。
ホログラフ光学要素を準備し、複製露光の間、これを反
射マスターと接触している感光性複製ホログラフ材料と
接触して配置する。
しかしながら、複製材料の露光からゼロ次光を防止する
ため複製露光の間、ホログラフ光学要素と複製ホログラ
フ材料との間にルーバーシートを挾むことが好ましい。
ため複製露光の間、ホログラフ光学要素と複製ホログラ
フ材料との間にルーバーシートを挾むことが好ましい。
ルーバーシートの代シ、に、狭帯幅の１クロム酸ゼラチ
ンホログラム又は２色フィルターをゼロ次光を反射する
ために選択的に使用することができる。
ンホログラム又は２色フィルターをゼロ次光を反射する
ために選択的に使用することができる。
第６及び７図においては、ホログラム光学要素を作製す
る方法及び感光性ホログラフ材料のシート上に反射マス
ターを複製するためにこれを使用する方法が示されてい
る。
る方法及び感光性ホログラフ材料のシート上に反射マス
ターを複製するためにこれを使用する方法が示されてい
る。
第６図においては、光変調ホログラフ光学要素（ＨＯＥ
）を作製する方法が示されている。感光性ホログラフ材
料５０のシートに収束レンズ５２、即ち第２及び３図に
おいて使用されているレンズ２１と同様のレンズから前
記シートの想像上の区画上に集光する対象ビーム５１と
同一のレーザからの参照ビーム５３とを露光する。
）を作製する方法が示されている。感光性ホログラフ材
料５０のシートに収束レンズ５２、即ち第２及び３図に
おいて使用されているレンズ２１と同様のレンズから前
記シートの想像上の区画上に集光する対象ビーム５１と
同一のレーザからの参照ビーム５３とを露光する。
収束レンズの焦点５４は感光性材料５０から、ルーバー
シート５５、複製材料５６及び反射マスター５７を合わ
せ友厚さ、即ち第６図において破線で示される厚さよシ
も大きな距離に位置し、また、この距離は、焦点５４と
反射マスターの位置５７との間の距離が実質的に反射マ
スターと第２及び３図におけるレンズ２１０ｍ点との間
の距離と同じであるようになっている。
シート５５、複製材料５６及び反射マスター５７を合わ
せ友厚さ、即ち第６図において破線で示される厚さよシ
も大きな距離に位置し、また、この距離は、焦点５４と
反射マスターの位置５７との間の距離が実質的に反射マ
スターと第２及び３図におけるレンズ２１０ｍ点との間
の距離と同じであるようになっている。
この配置によれば、焦点５４から発散する光を反射ホロ
グラムの１つの想像上の区画幅の全面に洛で、かつ露光
された感光性材料の、反射ホログラムの想像上の区画幅
の２倍に等しい幅の全面に当てることができる。
グラムの１つの想像上の区画幅の全面に洛で、かつ露光
された感光性材料の、反射ホログラムの想像上の区画幅
の２倍に等しい幅の全面に当てることができる。
反射マスター上に存在する想像上の区画の半数の露光を
材料５０に行ない、またこの今述べた材料においては、
この材料５０の全体が露光される址でこの感光性材料は
１回の露光後、１つの想像上の区画の２倍幅に等しい距
離動くので５０回の露光のみが必要とされる。この場合
、このホログラフ光学要素は反射ホログラムの半数の想
像上の区画を含むこととなる。しかしながら、とのホロ
グラフ光学要素は反射ホログラムの想像上のストリップ
数の１／３又は１／４ あるいは他の分割数を含むこ
とができるが、この場合にはホログラフ光学要素を作製
するために１／３又は１／４あるいは他の分割数の露光
が必要とされよう。
材料５０に行ない、またこの今述べた材料においては、
この材料５０の全体が露光される址でこの感光性材料は
１回の露光後、１つの想像上の区画の２倍幅に等しい距
離動くので５０回の露光のみが必要とされる。この場合
、このホログラフ光学要素は反射ホログラムの半数の想
像上の区画を含むこととなる。しかしながら、とのホロ
グラフ光学要素は反射ホログラムの想像上のストリップ
数の１／３又は１／４ あるいは他の分割数を含むこ
とができるが、この場合にはホログラフ光学要素を作製
するために１／３又は１／４あるいは他の分割数の露光
が必要とされよう。
この材料は光変調ホログラフ光学要素を生じるために通
常の方法で処理される。パルスレーザを使用して反射ホ
ログラムを複製する際にこのホログラム光学要素が使用
される。
常の方法で処理される。パルスレーザを使用して反射ホ
ログラムを複製する際にこのホログラム光学要素が使用
される。
ここで第７図においては、本発明により得られた反射ホ
ログラムを複製するだめのパルスレーザからの光に晒さ
れる複合体の１部を示す。
ログラムを複製するだめのパルスレーザからの光に晒さ
れる複合体の１部を示す。
この複合体は今述べたホログラフ光学要素５０、ルーバ
ーシー）６０、ｌ［製ホログラフ材料及ヒ想像上の区画
６３ 、６４ 、６５ 、６６等に分割された反射マス
ター６２から成る。
ーシー）６０、ｌ［製ホログラフ材料及ヒ想像上の区画
６３ 、６４ 、６５ 、６６等に分割された反射マス
ター６２から成る。
第１の露光の間、参照ビーム６７は複製材料６１と反射
マスター６２の全体を覆うホログラフ光学要素５０′に
向けられる。このホログラフ光学要素は複合体を通る参
照ビーム６７をこのビームがあたかもホログラフ光学要
素を作成するために用いたシリンドリカルレンズの光学
焦点位置６８に収束するように方向づける。この様に、
第７図に示す様に、反射マスターの２つの想像上の区画
の幅に等しい幅を持つホログ２）光学要素の領域に当る
参照ビーム６７は、１つ置き毎の想像上のストリップが
照射されるよう反射マスター６２の１つの想像上の区画
全体に当るよう収束する。
マスター６２の全体を覆うホログラフ光学要素５０′に
向けられる。このホログラフ光学要素は複合体を通る参
照ビーム６７をこのビームがあたかもホログラフ光学要
素を作成するために用いたシリンドリカルレンズの光学
焦点位置６８に収束するように方向づける。この様に、
第７図に示す様に、反射マスターの２つの想像上の区画
の幅に等しい幅を持つホログ２）光学要素の領域に当る
参照ビーム６７は、１つ置き毎の想像上のストリップが
照射されるよう反射マスター６２の１つの想像上の区画
全体に当るよう収束する。
反射マスターの縞により同様の経路に沿って光が反射さ
れる。これによりこれ等曲線干渉縞の複製が複製材料６
１中に形成されるようになる。
れる。これによりこれ等曲線干渉縞の複製が複製材料６
１中に形成されるようになる。
第７図から明らかな様にルーバーシートがあるとホログ
ラム光学要素をもってしても複製材料又は反射マスター
に直進して当る参照ビーム部分が防止される。この様に
この場合、ビーム６７からの直進する光がルーバーシー
トにより材料６１を通して区画６３及び６５に到達する
のが防止される。
ラム光学要素をもってしても複製材料又は反射マスター
に直進して当る参照ビーム部分が防止される。この様に
この場合、ビーム６７からの直進する光がルーバーシー
トにより材料６１を通して区画６３及び６５に到達する
のが防止される。
第１の露光の後、ホログラム光学要素とルーバーの両者
が反射マスターの１つの水平区画部分の距離だけ動かさ
れ、反射マスターの水平区画中の全ての情報が確実に複
製材料よシ複製される複製材料への露光が完全に行なわ
れるよう別の露光が行なわれる。次いで複製材料６１は
反射マスターホログラムの複製である複製ホログラムを
生じるよう処理される。
が反射マスターの１つの水平区画部分の距離だけ動かさ
れ、反射マスターの水平区画中の全ての情報が確実に複
製材料よシ複製される複製材料への露光が完全に行なわ
れるよう別の露光が行なわれる。次いで複製材料６１は
反射マスターホログラムの複製である複製ホログラムを
生じるよう処理される。
更に、ホログラム要素が反射ホログラムの想像上のス）
ＩＪツブ数の１／３又は１／４するいは他の分割数を
含む場合、３，４又は他の複数回の露光が、複製材料を
完全に露光するために必要とされ、それぞれの場合の露
光数は前記分割数に相当する複数、即ち前記分割数の逆
数に相当する。
ＩＪツブ数の１／３又は１／４するいは他の分割数を
含む場合、３，４又は他の複数回の露光が、複製材料を
完全に露光するために必要とされ、それぞれの場合の露
光数は前記分割数に相当する複数、即ち前記分割数の逆
数に相当する。
第１図は反射ホログラムの詳細を示す拡大断面図、
第２図は、使用する透過ホログラム及び光学系から第１
図の反射ホログラムを製造する際の１段階を示す図、 第３図は、第２図と同様の他の段階を示す図、第４図は
、第２図と第３図の中間段階を詳細に示す拡大図、 第５図は、連続波レーザを使用して第１図の反射ホログ
ラムを複製する際の１段階を示す図、そして 第６図は、パルスレーザを使用して第１図の反射ホログ
ラムを複製する階の１段階を示す図である。 ３．４１５．６ ・・・・・・区画 ７ ・・・・・・帯 ８ ・・・・・・干渉縞 １２ ・・・・・・ 反射ホログラム１４ ・・・・
・・ 透過ホログラム１５、１６，２８，２９．３０
・・・ 区画１７ ・・−・・・ 平行ビーム １８ ・・・・−・ 遮蔽板 １９ ・−・・・・ スリット ２６ 、２７ ・・・・−・ 区画２１ ・・・・
−・ レンズ ２２ ・・・・・・ マスク ２３ ・・−・・・ スリット ４０ ・・・・・・ 反射マスターボログ２ム４１．
４２，４３．４４・・・ 区画 ４５ ・・・・・・ 感光性ホログラフ材料４６ ・
・・・・・ スリット ４７ ・・・・・・ シリンドリカルレンズ４８ ・
・・・−・ ビーム ５０ ・・・・・・ 感光性ホログラフ材料５１ ・
・・・・一対象ビーム ５２ ・・・・−・ 収束レンズ ５３ ・・・・・・ 参照ビーム ５４ ・・・・・・ 焦点 ５５ ・・曲 ルーバーシート ５６ ・・・・・・ 複製材料 ５ｏ ・・・・・・ ホログラフ光学要素６０−−
ルーバーシート ６１ °°°°°° 複製材料 ６２ °°°°゛反射マスター ６５．６４，６５．６６・・・ 区画 ６７−・・・−・ 参照ビーム
図の反射ホログラムを製造する際の１段階を示す図、 第３図は、第２図と同様の他の段階を示す図、第４図は
、第２図と第３図の中間段階を詳細に示す拡大図、 第５図は、連続波レーザを使用して第１図の反射ホログ
ラムを複製する際の１段階を示す図、そして 第６図は、パルスレーザを使用して第１図の反射ホログ
ラムを複製する階の１段階を示す図である。 ３．４１５．６ ・・・・・・区画 ７ ・・・・・・帯 ８ ・・・・・・干渉縞 １２ ・・・・・・ 反射ホログラム１４ ・・・・
・・ 透過ホログラム１５、１６，２８，２９．３０
・・・ 区画１７ ・・−・・・ 平行ビーム １８ ・・・・−・ 遮蔽板 １９ ・−・・・・ スリット ２６ 、２７ ・・・・−・ 区画２１ ・・・・
−・ レンズ ２２ ・・・・・・ マスク ２３ ・・−・・・ スリット ４０ ・・・・・・ 反射マスターボログ２ム４１．
４２，４３．４４・・・ 区画 ４５ ・・・・・・ 感光性ホログラフ材料４６ ・
・・・・・ スリット ４７ ・・・・・・ シリンドリカルレンズ４８ ・
・・・−・ ビーム ５０ ・・・・・・ 感光性ホログラフ材料５１ ・
・・・・一対象ビーム ５２ ・・・・−・ 収束レンズ ５３ ・・・・・・ 参照ビーム ５４ ・・・・・・ 焦点 ５５ ・・曲 ルーバーシート ５６ ・・・・・・ 複製材料 ５ｏ ・・・・・・ ホログラフ光学要素６０−−
ルーバーシート ６１ °°°°°° 複製材料 ６２ °°°°゛反射マスター ６５．６４，６５．６６・・・ 区画 ６７−・・・−・ 参照ビーム
Claims (16)
- （１）反射ホログラムが、１方又は１端から他方又は他
端へ延びる複数の連続的に平行な想像上の区画に分画さ
れ、前記各区画中に存在する干渉縞が実質的に同心円状
の殻の１部を形成し、そして前記反射ホログラムのそれ
ぞれのこの様な区画が透過ホログラム全体から誘導され
る情報を含み、前記反射ホログラムがこの反射ホログラ
ムの作製の間に反射ホログラムに対応する透過ホログラ
ムの位置により定められるのぞき窓を通して見ることが
できる反射ホログラムであることを特徴とする透過ホロ
グラムから作製された反射ホログラム。 - （２）各想像上の区画が、この区画に平行な想像上の帯
に分割され、各帯が反射ホログラムを作製する間に透過
ホログラムをそれぞれの想像上の区画に分割したそれぞ
れの想像上の区画から誘導される情報を含み、反射ホロ
グラムの各想像上の区画中の想像上の帯の数が透過ホロ
グラムの想像上の区画の数に等しい請求項１記載の反射
ホログラム。 - （３）１）透過ホログラムを第１の数の平行な想像上の
区画に分割し、 ２）反射マスターを前記透過ホログラムに平行に置き、 ３）前記反射マスターを、互いに、且つ、透過ホログラ
ムの想像上の区画に平行な第２ の数の想像上の区間に分割し、 ４）順次前記透過ホログラムの想像上の区画の各々を走
査するための対象ビームを与え、且つ、参照ビームを与
える様にレーザを配 置し、 ５）前記透過ホログラムと前記反射マスターとの間に遮
蔽板等を配置すると共に、該遮 蔽板に前記透過ホログラムを通って透過す る対象ビームが前記反射マスターの想像上 の区画の１つの帯上に当るようにスリット 又は前記区画に平行なビームを狭める手段 を形成し、 ６）共に前記区画に平行に拡がり前記反射マスターの前
記透過ホログラムと反対側に位 置するシリンドリカルレンズ及びスリット 又は他のビームを狭める手段から成り、前 記レンズがビームを狭める手段が無い場合 に前記反射マスターを通過する光のビーム が該レンズの焦点から発散し、前記反射マ スターの想像上の区画の全面に当るのに充 分な幅を持つような前記反射マスターから の距離に位置し、対象ビームと参照ビーム とが前記反射マスターの想像上の区画と同 じ帯中である角度で交差する光学系を通し て対象ビームを方向づけ、 ７）前記帯を、走査される前記透過ホログラムの第１の
想像上の区画に関し、露光によ り両前記ビームに露光し、 ８）前記透過ホログラムの隣接する想像上の区画を走査
するために両者のビームを狭め る手段の位置を変えると共に対象ビームの 方向を変え、 ９）前記透過ホログラムの隣接する前記区画に関し、前
記反射マスターの同じ想像上の 区画の隣接する帯を露光し、この工程を前 記反射マスターの第１の想像上の区画が透 過ホログラムの各想像上の区画に関し帯中 に露光され、前記反射マスターの想像上の １つの区画中の帯の数が前記透過ホロ グラムの想像上の区画の数に等しくなるま で繰返し、 １０）前記反射マスターと前記透過ホログラムの位置を
変え、前記露光工程を前記反射マ スターの各想像上の区画が前記透過ホログ ラムの各想像上の区画に関し帯状に露光さ れ終るまで繰返し、そして １１）露光した反射マスターを処理して反射ホログラム
を作成する段階を特徴とする透過 ホログラムから反射マスターホログラムを 形成する方法。 - （４）請求項３記載の方法により形成された反射ホログ
ラム。 - （５）感光性ホログラフ材料を反射マスターホログラム
と接触して配置し、収束レンズを感光性ホログラフ材料
により近い感光性ホログラフ材料と反射マスターホログ
ラムとの複合体の１方に、その焦点が該複合体の他方に
有り、その製造に使用した収束レンズと同じ反射ホログ
ラムからの距離に配置し、それにより、該収束レンズを
透過するビームが前記焦点に収束し、そして反射ホログ
ラム中の１つの想像上の区画の全面に当るようにし、且
つ、反射ホログラム中の各想像上の区画に、反射ホログ
ラム中の全ての想像上の区画が露光されるまで前記レン
ズ及び前記感光性ホログラフ材料を通って方向付けられ
るレーザビームを順次露光し、然る後、前記感光性ホロ
グラフ材料を複製ホログラムを形成する様処理する段階
から成ることを特徴とする請求項１記載の反射マスター
ホログラムの複製を作製する方法。 - （６）レーザビームが連続レーザビームであり、且つ露
光される想像上の区画と接触している部分を除いて感光
性ホログラフ材料を遮蔽する遮蔽手段を設ける請求項５
記載の方法。 - （７）感光性ホログラフ材料を反射マスターホログラム
と接触して配置し、該感光性ホログラフ材料と接触して
反射ホログラムの想像上の区画数を分割した数の想像上
の区画を含有するホログラフ光学要素を配置し、光を変
調する縞を含む該ホログラフ光学要素中の各想像上の区
画が、当該ホログラフ光学要素が前記複合体中に配置さ
れた際に当該ホログラフ光学要素中の各区画に入る光が
反射ホログラムからその作製に使用した収束レンズと同
じ距離にある焦点に収束すると共に反射ホログラム中の
１つの想像上の区画の全面に当り、且つ、得られた複合
体を反射ホログラムの１連の想像上の区画を露光するた
めのレーザ光の第１の露光に晒し、次いで前記ホログラ
フ光学要素を前記反射ホログラムに対して動かし、然る
後前記複合体を、前記反射ホログラムの別の想像上の区
画を露光するためのレーザー光の続いての露光に晒し、
全ての反射ホログラムの想像上の区画が露光されるまで
この工程、即ち前記露光を前記分割数の逆数に等しい整
数回繰返し、次いで前記感光性ホログラフ材料を複製ホ
ログラムを形成するよう処理する段階から成ることを特
徴とする請求項１記載の反射マスターの複製を作製する
方法。 - （８）ゼロ次光を選択的に反射するためにルーバーシー
トを前記複合体中のホログラフ光学要素と感光性ホログ
ラフ材料との間に挾む請求項７記載の方法。 - （９）ゼロ次光を選択的に反射するために重クロム酸ゼ
ラチンホログラムを前記複合体中のホログラフ光学要素
と感光性ホログラフ材料との間に挾む請求項７記載の方
法。 - （１０）ゼロ次光を選択的に反射するために２色フィル
ターを前記複合体中のホログラフ光学要素と感光性ホロ
グラフ材料との間に挾む請求項７記載の方法。 - （１１）ホログラフ光学要素中の各想像上の区画の幅が
反射ホログラム中の想像上の区画の２区画に相当する請
求項７記載の方法。 - （１２）パルスレーザを前記複合体を露光するために使
用する請求項７ないし９のいずれか１項記載の方法。 - （１３）パルスレーザを前記複合体を露光するために使
用する請求項８記載の方法。 - （１４）請求項５記載の方法により請求項１記載の反射
ホログラムを複製して作製した複製ホログラム。 - （１５）請求項６記載の方法により請求項１記載の反射
ホログラムを複製して作製した複製ホログラム。 - （１６）請求項７記載の方法により請求項１記載の反射
ホログラムを複製して作製した複製ホログラム。
Applications Claiming Priority (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| GB8720191 | 1987-08-27 | ||
| GB8720190 | 1987-08-27 | ||
| GB878720189A GB8720189D0 (en) | 1987-08-27 | 1987-08-27 | Hologram |
| GB878720190A GB8720190D0 (en) | 1987-08-27 | 1987-08-27 | Copying holograms |
| GB8720189 | 1987-08-27 | ||
| GB878720191A GB8720191D0 (en) | 1987-08-27 | 1987-08-27 | Copying holograms |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01152486A true JPH01152486A (ja) | 1989-06-14 |
Family
ID=27263569
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63213517A Pending JPH01152486A (ja) | 1987-08-27 | 1988-08-27 | 反射ホログラム及びその複製 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4915464A (ja) |
| EP (1) | EP0305334A3 (ja) |
| JP (1) | JPH01152486A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4999333A (en) * | 1987-10-02 | 1991-03-12 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Heat sensitive recording material |
| US6384883B1 (en) * | 1995-11-30 | 2002-05-07 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Liquid crystal display device using a hologram, hologram scatter plate, and process of replicating a diffuse reflection type hologram |
Families Citing this family (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5128780A (en) * | 1989-08-30 | 1992-07-07 | Hughes Aircraft Company | Enhanced-resolution, multiply-exposed reflection hologram |
| DE4038308A1 (de) * | 1990-09-18 | 1992-03-19 | Holtronic Gmbh | Verfahren zur herstellung von 2d- und/oder 3d-hologrammen |
| US5991078A (en) * | 1992-08-19 | 1999-11-23 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Display medium employing diffraction grating and method of producing diffraction grating assembly |
| CA2172643C (en) * | 1995-05-05 | 2000-02-15 | Kevin Curtis | Multiplex holography |
| US7215451B1 (en) * | 1996-04-15 | 2007-05-08 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Reflection type diffuse hologram, hologram for reflection hologram color filters, etc., and reflection type display device using such holograms |
| US6330088B1 (en) | 1998-02-27 | 2001-12-11 | Zebra Imaging, Inc. | Method and apparatus for recording one-step, full-color, full-parallax, holographic stereograms |
| US6266167B1 (en) * | 1998-02-27 | 2001-07-24 | Zebra Imaging, Inc. | Apparatus and method for replicating a hologram using a steerable beam |
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