JPH01145505A - レジスト膜の膜厚測定方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔概　要〕 プリント基板形成用基材表面に形成したレジスト膜の膜
厚測定方法に関し、 基材表面に塗布されたレジスト膜の膜厚を高精度に測定
するのを目的とし、 レジスト膜を形成したプリント基板形成用基材を樹脂に
埋設した後、前記樹脂を固化させ、該固化した樹脂と共
に基材の断面を研磨し、該基材を光学的に観察してレジ
スト膜の厚さを測定、する方法に於いて、 前記レジスト膜を塗布した基材表面に当該レジスト膜よ
りも反射光量が多い色の塗料を予め塗布した状態で樹脂
に埋設し、しかる後基材を研磨することで構成する。

〔産業上の利用分野〕

本発明はプリント基板形成用の基材表面に塗布したレジ
スト膜の膜厚測定方法に関する。

プリント基板形成の工程に於いてレジスト膜を塗布後、
露光および現像して該レジスト膜を所定のパターンに形
成し、このパターン形成されたレジスト膜をパターン形
成用のマスクとして利用する方法が採られている。

例えば多層プリント基板形成用の中間層を形成する際、
銅箔を表面に形成したエポキシ樹脂のような熱硬化性樹
脂よりなる基材上にレジスト膜を塗布後、該レジスト膜
を所定のパターンにレジスト膜除去剤で現像して所定の
パターンのレジスト膜を形成後、該パターン形成された
レジスト膜をマスクとして用いてエツチング液により銅
箔を所定のパターンに形成している。

また銅箔を所定のパターンに形成後、該ｗ４箔上に所定
のパターンのレジスト膜を形成後、このレジスト膜をマ
スクとして電解メツキ法により電解銅メツキ層および半
田メツキ層より成る二層構造の導体層パターンを形成す
る工程がある。

〔従来の技術〕

ところでこのようなレジスト膜を塗布する際、このレジ
スト膜が均一な厚さで所定の寸法に塗布されていないと
、露光むらが生じてレジストパターンが均一な寸法にレ
ジスト膜除去液で除去されず、そのため正確な所望の寸
法のパターンが形成されず、その後のエツチング工程、
或いは電解メツキ工程に支障をきたし、導体層パターン
が所定の形状に形成されない問題を生じる。

従来、このようなプリント基板形成用の中間層の、ヒに
塗布されたレジスト膜の膜厚を測定する方法として第３
図に示すように、レジスト膜を塗布した基材の一部を試
料として切り出し、この基材１を箱型の容器２内に設置
した後、この容器２内にナクリル樹脂３を充填した後、
該樹脂を固化させ、この基材１の断面を固化した樹脂３
と共に研磨し、この研磨した樹脂で固められた基材１を
４００倍の光学顕微鏡等を用いて観察し、レジスト膜の
厚さを観察していた。

〔発明が解決しようとする問題点〕

ところで、従来の方法であると測定精度を高めるために
、顕微鏡の倍率を上げるにつれて基材１上のレジスト膜
の色が薄くなって透明の状態に近づき、基材を設置した
顕微鏡の視野内に於いて、この透明状態のレジスト膜の
色と、基材周辺の視野の背景との間の区別が付かなくな
り、レジスト膜がどの程度の厚さであるか判然としない
問題がある。

このような顕微鏡写真を第３図に示す。図で台形状の領
域が基材１で、この場合顕微鏡の視野５と、基材１の表
面（基材１の上の部分）に形成されたレジスト膜とがほ
ぼ同一の色を呈しており、レジスト膜の厚さが判然とし
ない。

本発明は上記した問題点を解決し、レジスト膜の塗布さ
れた領域が顕微鏡の視野と正確に識別できるようにした
レジスト膜の膜厚測定方法の提供を目的とする。

〔問題点を解決するための手段〕

一ヒ記目的を達成するための本発明のレジスト膜の膜厚
測定方法は、レジスト膜を形成したプリント基板形成用
基材を樹脂に埋設した後、前記樹脂を固化させ、該固化
した樹脂と共に基材の断面を研磨し、該基材を光学的に
観察してレジスト膜の厚さを測定する方法に於いて、 前記レジスト膜を塗布した基材表面に当該レジスト膜よ
りも反射光量の多い色の塗料を予め塗布した状態で樹脂
に埋設し、しかる後基材を研磨することを特徴とする。

〔作　用〕

本発明の方法はレジスト膜上に更にこのレジスト膜より
も反射光量が多い色の塗料を用い、刷毛等を使用した簡
便な作業で塗布している。従って顕微鏡の光源より反射
する反射光量がこの塗料の部分とレジスト膜の部分とで
異なるため、レジスト膜の塗布された表面と顕微鏡の視
野とが正確に区別され、レジスト膜の厚さが精度良く測
定できる。

〔実施例〕

以下、図面を用いながら本発明の方法の一実施例につき
詳細に説明する。

第１図に示すように、薄いグリーンの色を有するほぼ透
明なレジスト膜１１を塗布した基材１２上に筆、或いは
刷毛１３等を用いて反射光量が多い色である白色の油性
塗料１４を塗布する。

そして従来の手法と同様にして基材１２を容器内に設置
した後、アクリル樹脂を充填してこの樹脂を固化させる
。

次いでこの基材１１を所定の寸法に切り出して試料を形
成してこの試料を４００倍の光学顕微鏡にてに兄事する
。

すると第２図に示す顕微鏡写真に示すように、矢印で挟
まれた白色塗料１４が塗布された領域１５は反射光量が
レジスト膜より大であるため、レジスト膜との境界面１
６が判然と観察され、前記した台形状の基材１２の表面
に形成されたレジスト膜の厚さＬが精度良く測定できる
。

また測定のための作業としても白色の塗料を塗布すると
いう極めて簡便な作業を行うだけで良い。

更に本実施例では塗料の塗布後に樹脂膜を形成している
ので、研磨時に塗料の部分がだれることも無く、測定を
確実に行い得る。

なお、本発明のように塗料を塗布する代わりに充填する
樹脂を着色することも考えられるが、着色に費用がかか
ること、また着色材の分散が不充分であると、顕微鏡の
観察時の拡大時に境界が明確にできないことから採用す
ることができない。

〔発明の効果） 以ヒの説明から明らかなように本発明によれば、レジス
ト膜の厚さが精度良く測定できるので、本発明の方法を
用いれば、レジスト膜の厚さが高精度に制御でき、精度
の良いレジストパターンが得られるので電解メツキによ
る導体層が精度良く形成できる効果がある。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の詳細な説明図、 第２図は本発明の方法で観察した顕微鏡写真、第３図は
従来の方法の説明図、 第４図は従来の方法で観察した顕微鏡写真を示す図であ
る。 図において、 １１はレジスト膜、１２は基材、１３は刷毛、１４は白
色塗料、１５は白色塗料塗布領域、１６は境界面、ｔは
レジスト膜の厚さを示す。 １３刷毛 斗央明？７；ｌ７）ｔｔ朗■ 第１図 ４４６θ月／１方）五た［、ｌ斜し乙１春１４６イ胎矛
Ｉミめｆ」σ８１１ダス第２図 第３図 ｆ芝朱−ｆ３ゑ各１１襄１１１匈１ｄｌｉｆ＋形惠□霧
横を償を享具第４１！Ｉ 手続補正書（斌） 商ＵＪｚ３年ノ月φ日 １、１Ｈ牛の耘 昭和６２年幌犠第３０４８８４号 ２、発明の名称 レジスト膜の膜厚測定方法 ３、補正をする者 羽生との関係　　特許出願人 住所神奈川県用崎市中原区上小田中１０１５番地名称（
５２２）富士通株式会社 （侭者山本卓眞 ４、代理人 住所　神奈川県用崎市中原区上小田中１０１５番地５、
補正命令の日付　　　　昭和６３年２月２３日（発送旧
）７、補正の内容 （１）（イ）本願明細書の第８頁第１６行の「第２図は
本発明の方法で観察した顕微鏡写真、Ｊを「第２図は本
発明の方法で観察した基材の表面形態の顕微鏡写真の説
明図、Ｊに補正する。 （１）（ロ）本願明細書の第８真第１８行の［第４図は
従来の方法で観察した顕微鏡写真を示す図であるを「第
４図は従来の方法で観察した基材の表面形態の顕微鏡写
真の説明図である。」に補正する。 （２）図面の第２図および第４図を別紙のとおり補正す
る。 ８、添付書類の目録 （１）補正図面　　　　　　　　　　　　１　通１６遣
柚 孝導δ羽のかｆ、之・シＬ寛しｒ；蚤ネオめ長暫ｅ杉態
ｊ類省文ゲ先赴めれ収−Ｗ家しｒ；逼葦才め長置所シ随
の（■筺鏡夏のお耳口 第今図 手続主甫正書（自発） １．　羽生の耘 昭和６２年特昨９Ａ第３０４８８４号 ２、発明の名称 レジスト膜のＢヴ〃坦（淀方法 ３、補正をする者 羽生との関係　　特許出願人 住所　神奈川県用崎市中原区−ヒ小田中１０１５番地名
称（５２２）冨士通株式会社 イ豐者山本卓眞 ５、補正の対象　　　　　　明細書の「発明の詳細な説
明」の欄、６、補正の内容 （１）（イ）本願明細書の第５頁第４行の「このような
顕微鏡写真を第３図に示す。」を「このような顕微鏡写
真を第４図に示す。」に補正する。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 　レジスト膜（１１）を形成したプリント基板形成用基
   材（１２）を樹脂に埋設した後、前記樹脂を固化させ、
   該固化した樹脂と共に基材（１２）の断面を研磨し、該
   基材（１２）の断面を光学的に観察してレジスト膜の厚
   さを測定する方法に於いて、 前記レジスト膜（１１）を塗布した基材表面に当該レジ
   スト膜（１１）よりも反射光量が多い色の塗料（１４）
   を予め塗布した状態で樹脂に埋設し、しかる後、基材（
   １２）を研磨することを特徴とするレジスト膜の膜厚測
   定方法。