JPH01142604A - Phase type zone plate - Google Patents

Phase type zone plate

Info

Publication number
JPH01142604A
JPH01142604A JP62301846A JP30184687A JPH01142604A JP H01142604 A JPH01142604 A JP H01142604A JP 62301846 A JP62301846 A JP 62301846A JP 30184687 A JP30184687 A JP 30184687A JP H01142604 A JPH01142604 A JP H01142604A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
zone plate
light
zone
optical axis
integer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP62301846A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Masato Shibuya
眞人 渋谷
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nikon Corp
Original Assignee
Nikon Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nikon Corp filed Critical Nikon Corp
Priority to JP62301846A priority Critical patent/JPH01142604A/en
Publication of JPH01142604A publication Critical patent/JPH01142604A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/18Diffraction gratings
    • G02B5/1876Diffractive Fresnel lenses; Zone plates; Kinoforms

Abstract

PURPOSE:To obtain the efficiency of utilizing light as sufficiently high as the efficiency of a blazed Fresnel zone plate in practicability by constituting a phase type zone plate in such a manner that the optical path difference between the 1st rays passing respective zones and the 2nd rays passing the optical axis is 2nd integer times a fraction of the 1st integer of the wavelength to be used and that the 1st integer is >=3. CONSTITUTION:The diffracted light rays from the plural zones 13A1-13A4, 13B1-13B4, 13C1 of the prescribed optical path differences are condensed onto the optical axis LO so as to be intensified by each other. The zone plate is so constituted that the optical path difference between the 1st rays passing the respective zones and the 2nd rays passing the optical axis consists of the 2nd integer m times a fraction of the 1st integer M of the wavelength to be used and that the 1st integer M is >=3. The 1st rays passing the respective zones 13A1-13A4, 13B1-13B4, 13C1 are, therefore, condensed at such a phase at which said rays are intensified by the 2nd rays passing the optical axis at the image point on the optical axis LO with each other. The much higher efficiency of utilizing light than the efficiency of the conventional phase type zone plate is thereby obtd.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は位相型ゾーンプレートに関し、例えばX線顕微
鏡の対物レンズ、集光レンズ等に通用して好適なもので
ある。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a phase zone plate, and is suitable for use in, for example, objective lenses and condensing lenses of X-ray microscopes.

〔発明の概要〕[Summary of the invention]

本発明は、複数のゾーンから得られる回折光の位相を所
定量だけ進めることにより所定の位置に集光させるよう
になされた位相型ゾーンプレートにおいて、各シー・ン
における位相進み量を(m/M)λに選定することによ
り、光の利用効率を改善できる。
The present invention provides a phase type zone plate that focuses diffracted light at a predetermined position by advancing the phase of diffracted light obtained from a plurality of zones by a predetermined amount. By selecting M) λ, the light utilization efficiency can be improved.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

X線顕微鏡において写像を形成するにつき従来、必要上
十分大きい強度をもつX線源や、十分高い感度をもつX
線検出器が得られないため、対物レンズ、集光レンズと
して、集光効率の高いものを適用する必要がある。
Conventionally, in order to form an image in an X-ray microscope, an X-ray source with sufficiently high intensity and an X-ray source with sufficiently high sensitivity have been used.
Since a line detector cannot be obtained, it is necessary to use objective lenses and condensing lenses with high light condensing efficiency.

特に、X線顕微鏡を用いて生体を観察する際には、被観
察対象となる生体に強度の大きいX線を照射することが
できないため、対物レンズとして集光効率が一段と高い
ものが要求される。
In particular, when observing a living body using an X-ray microscope, it is not possible to irradiate the living body to be observed with high-intensity X-rays, so an objective lens with even higher light collection efficiency is required. .

実用上かかる目的に適用し得る集光手段として、第9図
に示すように、回折現象を利用したゾーンプレートが提
案されている。
As a condensing means that can be practically applied to such a purpose, a zone plate utilizing a diffraction phenomenon has been proposed, as shown in FIG.

フレネルゾーンプレート(FZP)でなるゾーンプレー
トZPI  (第9図(A))は、透明基板1上に光軸
LOを中心として同心円状の遮光部材でなる輪帯2を形
成し、輪帯2間の透光部3を透過する光を光軸LO上の
焦点に集光させる。
The zone plate ZPI (FIG. 9(A)), which is a Fresnel zone plate (FZP), forms an annular zone 2 made of a concentric light-shielding member around the optical axis LO on a transparent substrate 1, and a zone between the annular zones 2. The light transmitted through the light-transmitting portion 3 is focused on a focal point on the optical axis LO.

ここで輪帯2の半径は、無限遠物点型のレンズを構成す
る場合第10図に示すように、半径r。
Here, the radius of the annular zone 2 is the radius r, as shown in FIG. 10 when an infinite object point type lens is constructed.

のm番目の輪帯2を射出した回折光でなる光線と中心を
通る基準光線との光路差が使用波長の整数倍になるよう
に選定され、これによりこれら2つの光波が像点を形成
する焦点Fにおいて互いに強め合う結果になり、かくし
てゾーンプレートZP1において回折した光が焦点Fに
集光する。
The optical path difference between the light beam consisting of the diffracted light emitted from the m-th annular zone 2 and the reference light beam passing through the center is selected to be an integral multiple of the wavelength used, so that these two light waves form an image point. This results in mutual reinforcement at the focal point F, and thus the light diffracted at the zone plate ZP1 is focused at the focal point F.

ところがこのゾーンプレートZPIは、輪帯2が遮光部
材で構成されているために、入射光の光の利用効率が低
く、例えば入射光の10%程度しか集光できない問題が
ある。
However, in this zone plate ZPI, since the annular zone 2 is constituted by a light shielding member, the light utilization efficiency of the incident light is low, and there is a problem that, for example, only about 10% of the incident light can be focused.

この問題を解決する構成として位相型フレネルゾーンブ
レー) (PZP)でなるゾーンプレートZP2  (
第9図(B))が提案されている。この場合第9図(A
)の構成と比較して遮光部材で構成されていた輪帯2に
代えて、これを透明部材でなる輪帯2Aを用いると共に
、輪帯2Aの光軸LOに沿う方向の高さを、透光部3か
ら射出する光線(使用波長λ)に対して、輪帯2Aから
射出する射出光の位相が±λ/2だけ位相ずれが生ずる
ような値に選定する。
As a configuration to solve this problem, zone plate ZP2 (
Figure 9(B)) has been proposed. In this case, Fig. 9 (A
), instead of the ring zone 2 made of a light-shielding member, a ring zone 2A made of a transparent material is used, and the height of the ring zone 2A in the direction along the optical axis LO is changed from a transparent material. The value is selected such that the phase of the emitted light emitted from the annular zone 2A is shifted by ±λ/2 with respect to the light emitted from the light section 3 (wavelength used).

このようにすれば、透光部3から射出する光線が焦点F
(第10図)に集光すると同時に、これと強め合うよう
に輪帯2Aから射出する光線を焦点F(第10図)に集
光させることができ、かくして焦点Fに集光する光の利
用効率をフレネルゾーンプレート(第9図(A))の場
合と比較してほぼ4倍程度に改善することができる。
In this way, the light rays emitted from the transparent part 3 can be focused at F.
At the same time, the light rays emitted from the annular zone 2A can be focused on the focal point F (Fig. 10) so as to strengthen each other, and the light rays focused on the focal point F can be utilized. The efficiency can be improved approximately four times as compared to the Fresnel zone plate (FIG. 9(A)).

さらに第9図(A)のゾーンプレートZP1の光の利用
効率が低い問題点を解決する方法として、第9図(C)
に示すようなブレーズドフレネルゾーンプレート (B
ZP)でなるゾーンプレートZP3が提案されている。
Furthermore, as a method to solve the problem of low light utilization efficiency of the zone plate ZP1 shown in FIG. 9(A), the method shown in FIG. 9(C)
Blazed Fresnel zone plate as shown in (B
A zone plate ZP3 consisting of ZP) has been proposed.

この場合透明基板1の射出側表面には、第9図(B)の
場合と比較してm番目の輪帯2Aとこれに隣接する透光
部3でなる領域R,において、光軸LOに沿う方向の高
さが半径方向に行くに従ってλ分だけ直線的に傾斜する
透光傾斜面4を形成する。
In this case, on the exit side surface of the transparent substrate 1, compared to the case of FIG. A light-transmitting inclined surface 4 is formed, the height of which is linearly inclined by λ in the radial direction.

かかる構成のゾーンプレートZP3によれば、透光傾斜
面40半径方向の各位置から射出する光線が連続的に焦
点Fに集光し得、か(して光の利用効率を第9図(A)
の場合と比較してほぼ10倍程度に改善することができ
る。
According to the zone plate ZP3 having such a configuration, the light rays emitted from each position in the radial direction of the light-transmitting inclined surface 40 can be continuously focused on the focal point F, and the light utilization efficiency can be calculated as shown in FIG. )
This can be improved by about 10 times compared to the case of .

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problem that the invention seeks to solve]

上述のようにゾーンプレートZPI〜ZP3を光の利用
効率の点から検討すれば、フレネルゾーンプレート (
F Z P)でなるゾーンプレートZP1に対して、位
相型フレネルゾーンプレート(PZP)でなるゾーンプ
レートZP2の方が有利であり、さらにこれよりブレー
ズドフレネルゾーンプレート(BZP)でなるゾーンブ
レー)ZP3の方がさらに一段と有利であることが分か
る。
As mentioned above, if we consider zone plates ZPI to ZP3 from the point of view of light utilization efficiency, Fresnel zone plates (
A zone plate ZP2 made of a phase type Fresnel zone plate (PZP) is more advantageous than a zone plate ZP1 made of a blazed Fresnel zone plate (BZP) than a zone plate ZP1 made of a blazed Fresnel zone plate (BZP). It turns out that this is even more advantageous.

ところが、ブレーズドフレネルゾーンプレートでなるゾ
ーンプレートZP3 (第9図(C))は、半径方向の
各位置から回折する回折光の位相を半径方向に行くに従
って連続的に変化させるような透光傾斜面4を形成する
ことが必要であり、かかる構成の透光傾斜面4を高い精
度で加工することは実際上困難である。
However, the zone plate ZP3 (Fig. 9 (C)), which is a blazed Fresnel zone plate, has a light-transmitting slope that continuously changes the phase of the diffracted light diffracted from each position in the radial direction. It is necessary to form the surface 4, and it is actually difficult to process the light-transmitting inclined surface 4 having such a configuration with high precision.

本発明は以上の点を考慮してなされたもので、実用上ブ
レーズドフレネルゾーンプレートと同程度に十分に高い
光の利用効率をもち、かくするにつき、製造が容易な位
相型ゾーンプレートを提案しようとするものである。
The present invention has been made in consideration of the above points, and proposes a phase-type zone plate that has a sufficiently high light utilization efficiency comparable to that of a blazed Fresnel zone plate in practice, and is thus easy to manufacture. This is what I am trying to do.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

かかる問題点を解決するため本発明においては、第1図
に示す如(、所定の光路差の複数のゾーン13A1〜1
3A4.13B1〜13B4.13C1からの回折光を
互いに強め合うように光軸L○上に集光させるようにな
されたゾーンプレートにおいて、各ゾーン13A1〜1
3A4.13B1〜13B4.13C1を通る第1の光
線と光軸LOを通る第2の光線との光路差が使用波長λ
の第1の整数M分の1の第2の整数m倍でなり、かつ当
該第1の整数Mが3以上であるようにする。
In order to solve this problem, in the present invention, as shown in FIG.
3A4.13B1 to 13B4. In a zone plate configured to focus the diffracted lights from 13C1 on the optical axis L○ so as to mutually strengthen each other, each zone 13A1 to 1
The optical path difference between the first ray passing through 3A4.13B1 to 13B4.13C1 and the second ray passing through optical axis LO is the wavelength used λ
, and the first integer M is 3 or more.

〔作用〕[Effect]

各ゾーン13A1〜13A4.13B1〜13B4.1
3C1を通る第1の光線は、光軸LO上の像点において
光軸を通る第2の光線と互いに強め合うような位相で集
光する。
Each zone 13A1~13A4.13B1~13B4.1
The first light ray passing through 3C1 is focused at an image point on the optical axis LO with a phase such that the second light ray passing through the optical axis and the second light ray mutually strengthen each other.

かくするにつき、第1及び第2の光線の光路差を、使用
波長λの第1の整数M分の1の第2の整数m倍になるよ
うにしたことにより、従来の位相型ゾーンプレートと比
較して格段的に光の利用効率を高めることができる。
In this way, by setting the optical path difference between the first and second light beams to be a second integer m times 1/1 of the first integer M of the wavelength λ used, it is different from the conventional phase type zone plate. In comparison, it is possible to significantly improve the efficiency of light use.

〔実施例〕〔Example〕

以下図面について、本発明の一実施例を詳述する。 An embodiment of the present invention will be described in detail below with reference to the drawings.

〔1〕第1実施例 第1図において、11は全体として位相型ゾーンプレー
トを示し、透明基板12上に半径r方向に順次光軸LO
を中心にして同心円状に輪帯13A1〜13A4.13
B1〜13B4.13C1が回折現象を生じさせるゾー
ンとして形成されている。
[1] First Embodiment In FIG. 1, 11 indicates a phase type zone plate as a whole, and the optical axis LO is placed on a transparent substrate 12 in the radial direction.
Ring zones 13A1 to 13A4.13 concentrically centered on
B1 to 13B4.13C1 are formed as zones that cause a diffraction phenomenon.

ここで最も内側にある第1の輪帯13A1.13B1.
13C1は光軸LOに沿う方向に透明基板12の入射面
12Aから長さtだけ突出し、その光の射出面を基準と
して、その外側に隣接する第2の輪帯13A2.13B
2がその射出面から射出する光線の波面が第1の輪帯1
3A1.13B1.13C1から射出する光線の波面と
比較してλ/4だけ位相が進むような位置に形成されて
いる。
Here, the innermost first ring zone 13A1.13B1.
13C1 protrudes from the incident surface 12A of the transparent substrate 12 by a length t in the direction along the optical axis LO, and a second annular zone 13A2.13B is adjacent to the outside with the light exit surface as a reference.
2, the wavefront of the light beam emitted from the exit surface is the first annular zone 1
It is formed at a position where the phase advances by λ/4 compared to the wavefront of the light beam emitted from 3A1.13B1.13C1.

さらに外側に隣接する第3の輪帯13A3.13B3は
、その射出面から射出する光線の波面の位相が第1の輪
帯13A1.13B1.13C1から射出する光線の波
面に対して2λ/4だけ位相が進む位置に形成されてい
る。
Further, in the third annular zone 13A3.13B3 adjacent to the outside, the phase of the wavefront of the light ray emitted from its exit surface is 2λ/4 with respect to the wavefront of the light ray emitted from the first annular zone 13A1.13B1.13C1. It is formed at a position where the phase advances.

さらに外側に隣接する第4の輪帯13A4.13B4は
、その射出面から射出される光線の波面の位相が、第1
の輪帯13A1.13B1.13C1から射出される光
線の波面に対して3λ/4だけ進む位置に形成されてい
る。
Further, in the fourth annular zone 13A4.13B4 adjacent to the outside, the phase of the wavefront of the light beam emitted from the exit surface is the first
It is formed at a position that advances by 3λ/4 with respect to the wavefront of the light beam emitted from the annular zone 13A1.13B1.13C1.

このようにして第1、第2、第3、第4の輪帯(13A
1.13A2.13A3.13A4)、(13B1.1
3B2.13B3.13B4)、(13CI)は、内側
から順次第1、第2、第3の輪帯群GRI、GR2、G
R3を形成し、各輪帯群GRI、GR2、GR3におい
てそれぞれ入射光の波面を4つの輪帯に分割して順次外
側に行くに従ってλ/4の位相ピッチで位相を進めるこ
とにより、第2図に示すように、光軸LO上の像点を形
成する焦点F(第2図)に光を集光するように各輪帯の
半径方向の位置を選定している。
In this way, the first, second, third, and fourth annular zones (13A
1.13A2.13A3.13A4), (13B1.1
3B2.13B3.13B4), (13CI) are the first, second, and third ring groups GRI, GR2, and G in order from the inside.
R3, and in each of the annular groups GRI, GR2, and GR3, the wavefront of the incident light is divided into four annular zones, and the phase is sequentially advanced at a phase pitch of λ/4 as it goes outward. As shown in FIG. 2, the radial position of each annular zone is selected so that the light is focused on a focal point F (FIG. 2) that forms an image point on the optical axis LO.

すなわち光軸LOの位置0から半径方向にm番目(m=
1.2・・・・・・9)の輪帯の外側の位置までの距離
をr、(mwl、2・・・・・・9)としたとき、無限
遠物点からの光を焦点Fに集光する場合、m番目の輪帯
を出た光線と中心を通る基準光線との光路差ΔL、が次
式 を満足するように半径r、(mml、2・・・・・・9
)を選定する。ここでfは焦点距離、λは光の使用波長
である。
That is, the mth position in the radial direction from the position 0 of the optical axis LO (m=
1.2...9) When the distance to the outer position of the annular zone is r, (mwl, 2...9), the light from the object point at infinity is focused at F. When condensing light into the m-th annular zone, the radius r, (mml, 2...9
). Here, f is the focal length and λ is the used wavelength of light.

このようにすれば、各輪帯群GRI、GR2、GR3に
含まれる輪帯(13A1〜13A4)、(13B1〜1
3B4)、(13C1)から射出した回折光は焦点Fに
おいて互いに強め合うことにより、結局透明基板12に
入射した光が焦点Fに集光する。そして位相進み量は半
径方向に外方に行くに従って、各輪帯群GRI、GR2
、GR3の領域R1ごとに1周期分ずつ進むことになる
In this way, the annular zones (13A1 to 13A4) and (13B1 to 1
The diffracted lights emitted from 3B4) and (13C1) strengthen each other at the focal point F, so that the light incident on the transparent substrate 12 is eventually condensed at the focal point F. The amount of phase advance increases as it goes outward in the radial direction, for each ring zone group GRI, GR2.
, GR3 advances by one period for each region R1.

第1図の構成の位相型ゾーンプレート11によれば、従
来の位相型フレネルゾーンプレートZP2(第9図(B
))と比較して、輪帯を半径rの方向に細かく分割する
と共に、基準光線の波面の位相に対する各輪帯から射出
される光線の波面の位相との位相差ピッチを細かく分割
するようにした(λ/4のピッチで)ことにより、焦点
Fに集光する光のエネルギーが従来の場合と比較して一
段と大きくなる。
According to the phase type zone plate 11 having the configuration shown in FIG. 1, the conventional phase type Fresnel zone plate ZP2 (FIG. 9 (B
)), the annular zone is finely divided in the direction of the radius r, and the phase difference pitch between the phase of the wavefront of the reference beam and the phase of the wavefront of the light beam emitted from each zone is finely divided. By doing so (with a pitch of λ/4), the energy of the light condensed at the focal point F becomes much larger than in the conventional case.

かくするにつき、各輪帯として光軸LOに沿う方向に対
して直交する平面を形成すれば良いことにより、従来の
ブレーズドフレネルゾーンプレート型のゾーンプレート
ZP3(第9図(C))の場合のような製造上の困難さ
を生じないようにし得る。
In this case, in the case of the conventional blazed Fresnel zone plate type zone plate ZP3 (Fig. 9 (C)), since it is sufficient to form a plane perpendicular to the direction along the optical axis LO as each ring zone. It is possible to avoid manufacturing difficulties such as

〔2〕光の利用効率 第1図の構成の位相型ゾーンプレート11における光の
利用効率は、従来の位相型フレネルゾーンプレート(P
ZP)(第9図(B))の場合と比較して一段と改善さ
れ、ブレーズドフレネルゾーンプレート(第9図(C)
)の場合に近づけることができる。
[2] Light usage efficiency The light usage efficiency of the phase type zone plate 11 having the configuration shown in FIG.
ZP) (Fig. 9 (B)), it is much improved compared to the case of blazed Fresnel zone plate (Fig. 9 (C)).
) can be approximated.

すなわち一般にこの種のゾーンプレートにおいては、1
次回折光のエネルギーが他の回折光のエネルギーと比較
して格段的に大きいことにより、1次回折光のエネルギ
ーが焦点Fに集光すると考えることができる。ところが
一般に周期Tで位相が進む格子に垂直に光が入射したと
きの1次回折光の回折効率lは ・・・・・・ (2) のように表すことができる。ここでA (x)は振幅透
過率の絶対値、φ(x)は位相変化量、Xは格子の周期
Tの方向(第1図の半径rの方向)の距離である。
In other words, generally in this type of zone plate, 1
It can be considered that the energy of the first-order diffracted light is focused on the focal point F because the energy of the second-order diffracted light is significantly larger than the energy of other diffracted lights. However, in general, when light is perpendicularly incident on a grating whose phase advances with a period T, the diffraction efficiency l of the first-order diffracted light can be expressed as follows (2). Here, A (x) is the absolute value of the amplitude transmittance, φ(x) is the amount of phase change, and X is the distance in the direction of the period T of the grating (in the direction of the radius r in FIG. 1).

(2)式は格子についての一般式であり、これに例えば
第9図(A)に示すようなフレネルゾーンブレー) (
FZP)でなるゾーンプレートZP1の条件を当てはめ
ると、振幅透過率A (x)は第3図(A)に示すよう
に、Xが O≦X≦□         ・・・・・・(3)の範
囲では A(x)= 1             ・・・・・
・(4)になるのに対して、 □≦x;5T          ・旧・・(5)の範
囲では、 A(x)= O・・・・・・(6) になる。
Equation (2) is a general equation for a lattice, and for example, the Fresnel zone brake shown in FIG. 9(A)) (
Applying the conditions of zone plate ZP1 consisting of Then A(x)=1...
・In contrast to (4), □≦x;5T ・Old...In the range of (5), A(x)=O...(6).

またこのとき、位相変化量φ(x)は第3図(B)に示
すように、 φ(x) −0・・・・・・(7) と考えられるので、結局第9図(A)に示すような従来
のフレネルゾーンプレート型のゾーンプレートZP1の
1次回折光の回折効率η、2.は、ηF2.=□   
      ・・・・・・(8)π2 として求めることができる。
In addition, at this time, the amount of phase change φ(x) is considered to be φ(x) −0 (7) as shown in FIG. 3(B), so in the end, as shown in FIG. 9(A) The diffraction efficiency η of the first-order diffracted light of the conventional Fresnel zone plate type zone plate ZP1 as shown in 2. is ηF2. =□
It can be obtained as (8) π2.

次に第9図(B)の従来の位相型フレネルゾーンプレー
ト(P Z P)でなるゾーンプレートZP2の場合の
1次回折光の回折効率ηPZFは・・・・・・(9) で表される。ここで、dは輪帯2Aの高さであり、Δn
は輪帯を形成する部材のある部分とない部分との屈折率
の差である。そして、αは位相変化の生じている範囲を
示しており、 φ(x)=0 (0≦X≦αT)       ・・・・・・(1o)
φ(x)−2πΔn/λ (αT≦X≦T)       ・・・・・・(11)
である、そして、 ・・・・・・ (13) のとき最大値 になる。
Next, the diffraction efficiency ηPZF of the first-order diffracted light in the case of the zone plate ZP2 made of the conventional phase type Fresnel zone plate (PZP) shown in FIG. 9(B) is expressed as... (9) . Here, d is the height of the ring zone 2A, and Δn
is the difference in refractive index between the part with and without the member forming the annular zone. And α indicates the range where the phase change occurs, φ(x)=0 (0≦X≦αT) ・・・・・・(1o)
φ(x)−2πΔn/λ (αT≦X≦T) ・・・・・・(11)
, and the maximum value is reached when (13).

そして振幅透過率A (x)及び位相変化量φ(X)は
それぞれ第4図(A)及び(B)に示すような変化を呈
する。
The amplitude transmittance A(x) and the amount of phase change φ(X) exhibit changes as shown in FIGS. 4(A) and 4(B), respectively.

さらに第9図(C)のブレーズドフレネルゾーンプレー
ト(BZP)でなるゾーンプレートzP3の場合の1次
回折光の回折効率ηIZPは(2)式から 77mzr−!1ine”π(And−λ)・・・・・
・(15) のように表すことができ(sincはシンク関数である
)、従って λ のとき1次回折光のη、2テは最大値 η諺zr”1            ・・・・・・(
17)となる。
Furthermore, the diffraction efficiency ηIZP of the first-order diffracted light in the case of the zone plate zP3 made of a blazed Fresnel zone plate (BZP) in FIG. 9(C) is 77 mzr-! from equation (2). 1ine”π(And-λ)・・・・・・
・It can be expressed as (15) (sinc is a sink function), so when λ, η of the first-order diffracted light, 2te is the maximum value ηZr”1 ・・・・・・(
17).

なお上述の(1)弐〜(17)式の解析は、文献、「光
学」第16巻第2号(1987年2月)に開示されてい
る。
The analysis of the above-mentioned equations (1) to (17) is disclosed in the literature "Optics" Vol. 16, No. 2 (February 1987).

これに対して、第1図の構成の位相型ゾーンプレート1
1は、振幅透過率A (x)は0≦X≦T      
    ・・・・・・(18)の範囲について、第5図
(A)に示すように、A(x)= 1        
   ・・・・・・(19)になり、さらに位相進み量
がλ/4の位相ピッチで変化することにより、第5図(
B)に示すように、 O≦X≦□            ・・・・・・ (
20)の範囲において φ(x) −0・・・・・・(21) となり、 の範囲において φ(X)−□         ・・・・・・(23)
となり、さらに の範囲において φ(X)=π          ・・・・・・(25
)となり、さらに の範囲において φ(X)=□π        ・・・・・・(27)
となる。
On the other hand, the phase type zone plate 1 having the configuration shown in FIG.
1 is amplitude transmittance A (x) is 0≦X≦T
......For the range of (18), as shown in Figure 5 (A), A(x) = 1
......(19), and by further changing the phase lead amount at a phase pitch of λ/4, as shown in Fig. 5 (
As shown in B), O≦X≦□ ・・・・・・ (
20) in the range φ(x) -0...(21), and in the range φ(X)-□...(23)
Then, in the further range φ(X)=π ・・・・・・(25
), and in the further range φ(X)=□π ・・・・・・(27)
becomes.

従って第1図の位相型ゾーンプレート11における1次
回折光の回折効率η、は次式 として求めることができる。
Therefore, the diffraction efficiency η of the first-order diffracted light in the phase type zone plate 11 shown in FIG. 1 can be determined by the following equation.

この(28)式の回折効率η、1を、(8)式によって
表される第9図(A)のゾーンプレートZP1の場合と
比較すると、第1図の位相型ゾーンブレー)11の場合
は光の利用効率が8倍になったことが分かる。
Comparing the diffraction efficiency η,1 of this equation (28) with the case of the zone plate ZP1 of FIG. 9(A) expressed by the equation (8), in the case of the phase type zone plate ZP1 of FIG. It can be seen that the light usage efficiency has increased eight times.

また上述の(14)式で表されるように、第9図(B)
の従来のゾーンプレー)ZP2の回折効率η、2.と比
較すると、第1図の位相型ゾーンプレート11は、光の
利用効率が2倍であることが分かる。
Also, as expressed by the above equation (14), as shown in FIG. 9(B)
(conventional zone play) ZP2 diffraction efficiency η, 2. It can be seen that the phase type zone plate 11 of FIG. 1 has twice the light utilization efficiency.

さらに(17)式で表されるように、第9図(C)のゾ
ーンブレー)ZP3の回折効率η、2.と比較すると、
第1図の位相型ゾーンプレート11は、はぼ同程度の光
の利用率をもっていることが分かる。
Furthermore, as expressed by equation (17), the diffraction efficiency η, 2. Compared to,
It can be seen that the phase type zone plate 11 shown in FIG. 1 has a light utilization rate of approximately the same level.

このように第1図の構成によれば、光の利用効率が一段
と改善された位相型ゾーンプレート11を得ることがで
きる。かくするにつき、ゾーンプレート11の各輪帯は
、表面が光軸LOに直交する平面で構成されていること
により、実際上各輪帯の加工が容易であり、かくして第
9図(C)について上述したブレーズドフレネルゾーン
プレー1−(BZP)を製造する際の困難性と比較して
格段的に容易に製造し得る。
As described above, according to the configuration shown in FIG. 1, it is possible to obtain the phase type zone plate 11 in which the light utilization efficiency is further improved. In this way, since each ring zone of the zone plate 11 has a surface composed of a plane orthogonal to the optical axis LO, it is actually easy to process each ring zone, and thus, regarding FIG. 9(C) It can be manufactured much more easily than the difficulty in manufacturing the blazed Fresnel zone play 1- (BZP) described above.

〔3〕第2実施例 第1図の実施例においては位相差ピッチをλ/4に選定
した場合について述べたが、当該位相差ピッチδは以下
に述べるように、一般式で表すことができる。すなわち
、 M≧3             ・・・・・・(29
)のように3以上の自然数Mについて λ δ=□           ・・・・・・(30)の
関係をもつ位相差ピッチδに選定した位相型ゾーンプレ
ートにおいて、振幅透過率A (x)はA(x)= 1
           ・・・・・・(31)となると
共に、m番目の輪帯について m−1m の範囲における位相変化量φ1 (x)はとなる、従っ
てこの関係を上述の(2)式に代入することにより、一
般条件における1次回折光の回折効率η。9を求めれば ηGEM となる。
[3] Second Embodiment In the embodiment shown in FIG. 1, the case where the phase difference pitch was selected to be λ/4 was described, but the phase difference pitch δ can be expressed by the general formula as described below. . That is, M≧3 (29
), the amplitude transmittance A (x) is A ( x)=1
...(31), and the amount of phase change φ1 (x) in the m-1m range for the m-th annular zone is therefore, by substituting this relationship into the above equation (2). Therefore, the diffraction efficiency η of the first-order diffracted light under general conditions. If we find 9, we get ηGEM.

ここで第6図に示すように、m番目の輪帯13Amの半
径r、(m=L 2・・・・・・M)から射出する光線
が焦点Fに集光するまでの光路と、光軸LOを通る基準
光線が焦点Fに至るまでの光路の光路差ΔLG!Nは次
式 の関係を満足する。
Here, as shown in FIG. 6, the optical path of the light beam emitted from the radius r of the m-th annular zone 13Am, (m=L 2...M) until it converges on the focal point F, and Optical path difference ΔLG of the optical path from the reference ray passing through the axis LO to the focal point F! N satisfies the following relationship.

ところで、(33)式の位相変化量φ、(X)を、使用
波長λを用いて表現すれば、m番目の輪帯13Amにお
いて生ずる位相変化量δ、(X)は、・・・・・・ (
36) となる。(36)式の括弧内の式の第2項において、[
〕はガガラの記号で、一般に「実数Xに対してXを超え
ない最大の整数」を記号[X]によって表現する。
By the way, if the amount of phase change φ, (X) in equation (33) is expressed using the wavelength λ used, the amount of phase change δ, (X) occurring in the m-th annular zone 13Am is...・(
36) becomes. (36) In the second term of the equation in parentheses, [
] is a Gagara symbol, and generally represents "the largest integer that does not exceed X for a real number X" by the symbol [X].

そこで、例えばM=3、m=15番目の輪帯では= [
4,667] −4・・・・・・(37) になり、結局(36)式の位相変化量δ@−15(X)
は =0.667λ        ・・・・・・ (38
)になる。
So, for example, in the 15th ring zone where M=3 and m=[
4,667] -4...(37) Eventually, the phase change amount δ@-15(X) of equation (36)
is = 0.667λ (38
)become.

(35)式において、実際上開口数N A (nume
rt(al aperture)が小さい場合には光路
差ΔLG−は r 、 t r =□λ          ・・・・・・ (39)M のように近似することができる。従ってm番目の輪帯の
半径Rmを(39)式から 〔4〕第3実施例 (29)弐〜(40)式の実施例においては、入射光が
平行光線の場合(すなわち無限遠物点の場合)について
述べたが、本発明は第7図に示すように、有限物点F0
を有するような入射光に対して適応し得る。
In equation (35), in practice the numerical aperture N A (nume
When rt(al aperture) is small, the optical path difference ΔLG- can be approximated as r, t r =□λ (39)M. Therefore, the radius Rm of the m-th annular zone can be calculated from equation (39) [4] Third Example In the embodiments of equations (29) 2 to (40), when the incident light is a parallel ray (that is, the object point at infinity ), but the present invention, as shown in FIG.
It can be applied to incident light that has .

すなわち第7図に示すように、位相型ゾーンプレート1
1が射出側の像点となる焦点F、を有すると共に、入射
側の物点となる焦点F、を有する場合には、上述の(3
5)式に代えて次式−(aO+a+) =□λ           ・・・・・・ (41)
の関係が成り立つ。ここでdoは物点となる焦点F6か
ら位相型ゾーンプレート11までの焦点距離、d、は位
相型ゾーンプレート11から像点となる焦点F、までの
焦点距離を表す。
That is, as shown in FIG. 7, the phase type zone plate 1
1 has a focal point F, which is an image point on the exit side, and a focal point F, which is an object point on the incident side.
5) Instead of the formula, use the following formula - (aO+a+) =□λ... (41)
The relationship holds true. Here, do represents the focal length from the focal point F6 serving as the object point to the phase type zone plate 11, and d represents the focal length from the phase type zone plate 11 to the focal point F serving as the image point.

この実施例の場合も、m番目の輪帯13Am(第6図)
から射出した光線の位相は、光軸LOを通る光線の位相
に対して上述の(36)式によって表される位相だけ進
むことになる。
In the case of this embodiment as well, the mth ring zone 13Am (Fig. 6)
The phase of the light beam emitted from the optical axis LO advances by the phase expressed by the above equation (36) with respect to the phase of the light beam passing through the optical axis LO.

また(41)式において開口数NAが小さい場合には、
(39)式及び(40)式について上述したと同様にし
て次式 %式%(42) で表される距離r、(m−1,2・・・・・・M)に輪
帯13Amを形成すれば良いことが分かる。
Also, in equation (41), if the numerical aperture NA is small,
In the same way as described above for equations (39) and (40), the annular zone 13 Am is added to the distance r and (m-1, 2...M) expressed by the following equation % equation % (42) I know what I need to do is form it.

なお(41)式及び(42)式において、焦点距離d0
を無限大に近づけて行けば(第7図)、その極限として
、(39)式及び(40)式と等しい関係式を得ること
ができる。かくして(41)式及び(42)式によって
無限遠物点の位相型ゾーンプレート11を表すことがで
きる。
Note that in equations (41) and (42), the focal length d0
If we approach infinity (Fig. 7), we can obtain, as its limit, a relational expression that is equal to equations (39) and (40). Thus, the phase type zone plate 11 of an object point at infinity can be expressed by equations (41) and (42).

〔5〕他の実施例 (1)  (29)弐〜(40)式について上述した第
2実施例、(41)式及び(42)式について上述した
第3実施例においては、一般に周期T内の輪帯数がMで
、位相差ピッチδがδ−λ/M ((30)式)の場合
について上述したが、実際上第8図に示すように、M=
3に選定することにより、実用上有用性のある位相型ゾ
ーンプレート31を形成することができる。
[5] Other Examples (1) (29) In the second embodiment described above for equations (29) to (40) and the third embodiment described above for equations (41) and (42), generally within the period T The case where the number of annular zones is M and the phase difference pitch δ is δ - λ/M (formula (30)) was described above, but in reality, as shown in Fig. 8, M =
By selecting No. 3, it is possible to form a phase type zone plate 31 that is practically useful.

この場合、1次回折光の回折効率η、Iは(34)式に
M=3を代入することにより、 として求めることができる。そこで従来の位相型フレネ
ルゾーンプレート(第9図(B))における回折効率η
PDF  ((14)式)と比較して、格段的に光の利
用効率が良い位相型ゾーンプレートを実現し得る。
In this case, the diffraction efficiency η,I of the first-order diffracted light can be obtained as follows by substituting M=3 into equation (34). Therefore, the diffraction efficiency η in the conventional phase-type Fresnel zone plate (Fig. 9 (B))
It is possible to realize a phase type zone plate with significantly higher light utilization efficiency than PDF (formula (14)).

そしてこの場合m番目の輪帯の半径は、上述の(35)
式においてM−3を代入することによりの関係を満足す
るように選定すれば良い。
In this case, the radius of the m-th ring is the above (35)
The selection may be made so as to satisfy the relationship by substituting M-3 in the equation.

そしてこのとき例えばm=3番目の輪帯32A3におけ
る位相進み量δ、(X)は、(34)式から のように2λ/3になる。
At this time, for example, the phase advance amount δ, (X) in the m=3rd annular zone 32A3 becomes 2λ/3 as shown in equation (34).

上述の(29)弐〜(40)式、及び(41)弐〜(4
2)式によって表される一般式は、M−3の場合にとど
まらず広くMが3以上の場合に適用し得る。
The above-mentioned formulas (29)2 to (40), and (41)2 to (4)
The general formula represented by formula 2) can be applied not only to the case of M-3 but also to a wide range of cases where M is 3 or more.

例えば第1実施例として上述した無限遠物点をもつ位相
型ゾーンプレート11のように、位相差ピッチδがλ/
4の場合には、(29)弐〜(42)式においてM=4
を代入すれば、第1図について上述した位相型ゾーンプ
レート11を表すことができる。
For example, as in the phase type zone plate 11 having an object point at infinity described above as the first embodiment, the phase difference pitch δ is λ/
4, M=4 in equations (29)2 to (42)
By substituting , the phase type zone plate 11 described above with reference to FIG. 1 can be expressed.

すなわち第1図の位相型ゾーンプレート11において回
折効率η、は(34)式にM−4を代入することにより
得られ、 またそのときの光路差ΔL11は(35)式
にM−4を代入することにより得られ、さらにm番目の
輪帯を射出する光線の基準光線からの位相進み量δ、(
X)は(36)式にM=4を代入することにより求める
ことができる。
That is, in the phase type zone plate 11 of FIG. 1, the diffraction efficiency η is obtained by substituting M-4 into equation (34), and the optical path difference ΔL11 at that time is obtained by substituting M-4 into equation (35). The amount of phase advance of the ray exiting the m-th annular zone from the reference ray δ, (
X) can be obtained by substituting M=4 into equation (36).

(2)  (31)式においては、透明基板12の透過
率が1であるとしたが、実際には透明基板12において
吸収が生ずるため次式 %式%(46) のように振幅透過率はlより小さくなることが多い。
(2) In equation (31), it is assumed that the transmittance of the transparent substrate 12 is 1, but in reality, absorption occurs in the transparent substrate 12, so the amplitude transmittance is It is often smaller than l.

このような条件が成り立つ場合には、光の利用効率がそ
の分僅かに低下するおそれがあるが、本発明によればか
かる原因によって結像精度が劣化するおそれを有効に回
避し得る。
If such conditions hold, there is a risk that the light utilization efficiency will decrease slightly, but according to the present invention, it is possible to effectively avoid the possibility that the imaging accuracy will deteriorate due to such a cause.

(3)上述の実施例においては、ゾーンとしての輪帯を
同心円状に形成することにより点の像を形成させるよう
に光を集光させるようにした場合について述べたが、ゾ
ーンの形状はこれに限らず、例えば直線状に配列するこ
とにより線状の像を形成させるようにする等地の形状を
適用し得る。
(3) In the above embodiment, a case was described in which the annular zones as zones were formed concentrically to condense light so as to form a point image. However, the shape is not limited to the above, and it is also possible to apply a contour shape that forms a linear image by arranging them in a straight line, for example.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

上述のように本発明によれば、従来の場合の位相型フレ
ネルゾーンプレートと比較して光の利用率を一段と改善
し得、かくするにつき製造工程が複雑かつ困難になるお
それを有効に回避したゾーンプレートを実現し得る。
As described above, according to the present invention, the light utilization efficiency can be further improved compared to the conventional phase-type Fresnel zone plate, and thus, the possibility that the manufacturing process becomes complicated and difficult can be effectively avoided. A zone plate can be realized.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明による位相型ゾーンプレートを示す縦断
面図、第2図はその集光動作の説明に供する路線図、第
3図〜第5図は光の利用効率の説明に供する曲線図、第
6図は本発明による位相型ゾーンプレートの他の実施例
を示す縦断面図、第7図は本発明のさらに他の実施例に
おける集光動作の説明に供する路線図、第8図は本発明
のさらに他の実施例による位相型ゾーンプレートを示す
縦断面図、第9図は従来のゾーンプレートを示す縦断面
図、第10図はその集光動作の説明に供する路線図であ
る。 11.21.31・・・・・・ゾーンプレート、12・
・・・・・透明基板、(13A1〜13A4.13B1
〜13B4.13C1)、(32A1〜32A3.32
B1〜32B3.32C1〜32C3)・・・・・・輪
帯。
FIG. 1 is a vertical cross-sectional view showing a phase zone plate according to the present invention, FIG. 2 is a route diagram for explaining its light collecting operation, and FIGS. 3 to 5 are curve diagrams for explaining light utilization efficiency. , FIG. 6 is a vertical cross-sectional view showing another embodiment of the phase type zone plate according to the present invention, FIG. 7 is a route diagram for explaining the condensing operation in still another embodiment of the present invention, and FIG. FIG. 9 is a vertical cross-sectional view showing a phase type zone plate according to still another embodiment of the present invention, FIG. 9 is a vertical cross-sectional view showing a conventional zone plate, and FIG. 10 is a route diagram for explaining its light focusing operation. 11.21.31... Zone plate, 12.
...Transparent substrate, (13A1 to 13A4.13B1
~13B4.13C1), (32A1~32A3.32
B1~32B3.32C1~32C3)... Ring zone.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)所定の光路差の複数のゾーンからの回折光を互い
に強め合うように光軸上に集光させるようになされたゾ
ーンプレートにおいて、 上記各ゾーンを通る第1の光線と上記光軸を通る第2の
光線との光路差が使用波長の第1の整数分の1の第2の
整数倍であり、かつ上記第1の整数が3以上であること
を特徴とする位相型ゾーンプレート。
(1) In a zone plate configured to focus diffracted lights from a plurality of zones having a predetermined optical path difference on the optical axis so as to mutually strengthen each other, the first light beam passing through each zone and the optical axis are A phase type zone plate characterized in that an optical path difference with a second light beam passing therethrough is a second integer multiple of a first integer fraction of the used wavelength, and the first integer is 3 or more.
(2)上記光軸を中心として同心円状に形成された上記
複数のゾーンを有すると共に、上記光軸上に物点及び像
点を有し、上記物点までの焦点距離をd_0とし、上記
像点までの焦点距離をd_1とし、使用波長をλとし、
上記複数のゾーンのうち内側から上記第2の整数を表す
m番目のゾーンの外縁までの半径をr_m、とし、上記
第1の整数として自然数Mを選定したとき、 上記光路差について、 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・・・・(CL
1) の関係が成り立ち、かつ M≧3・・・・・・(CL2) の関係が成り立ち、かつ上記m番目のゾーンを通る上記
第1の光線の波面が、上記光軸を通る上記第2の光線の
波面に対して δ_m=((m−1)/M−[(m−1)/M])λ・
・・・・・(CL3)で表される位相δ_mだけ進む(
[]はガウスの記号) ようにしてなる特許請求の範囲第1項に記載の位相型ゾ
ーンプレート。
(2) It has the plurality of zones concentrically formed around the optical axis, and has an object point and an image point on the optical axis, and the focal distance to the object point is d_0, and the image The focal length to the point is d_1, the wavelength used is λ,
When the radius from the inside of the plurality of zones to the outer edge of the m-th zone representing the second integer is r_m, and when a natural number M is selected as the first integer, the optical path difference is expressed by the following formula: There are chemical formulas, tables, etc. ▼・・・・・・(CL
1) The following relationship holds true, and the relationship M≧3...(CL2) holds true, and the wavefront of the first light beam passing through the m-th zone is the same as the wavefront of the second light beam passing through the optical axis. δ_m=((m-1)/M-[(m-1)/M])λ・
・・・・・・Advances by phase δ_m expressed by (CL3) (
[] is a Gauss symbol) The phase type zone plate according to claim 1, which is formed as follows.
JP62301846A 1987-11-30 1987-11-30 Phase type zone plate Pending JPH01142604A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP62301846A JPH01142604A (en) 1987-11-30 1987-11-30 Phase type zone plate

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP62301846A JPH01142604A (en) 1987-11-30 1987-11-30 Phase type zone plate

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH01142604A true JPH01142604A (en) 1989-06-05

Family

ID=17901864

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP62301846A Pending JPH01142604A (en) 1987-11-30 1987-11-30 Phase type zone plate

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH01142604A (en)

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0318800A (en) * 1989-06-15 1991-01-28 Res Dev Corp Of Japan Phase modulation type zone plate for x-ray microscope for observation of living things
US5073007A (en) * 1990-06-11 1991-12-17 Holo-Or Ltd. Diffractive optical element
US5199057A (en) * 1989-08-09 1993-03-30 Nikon Corporation Image formation-type soft X-ray microscopic apparatus
US5227915A (en) * 1990-02-13 1993-07-13 Holo-Or Ltd. Diffractive optical element
US5237451A (en) * 1989-11-17 1993-08-17 Minnesota Mining And Manufacturing Company Beam shaping system using diffraction
JPH0887769A (en) * 1994-09-20 1996-04-02 Nec Corp Optical head device
JPH09504101A (en) * 1993-09-15 1997-04-22 カール−ツァイス−スチフツング Phase contrast-X-ray microscope
WO2001065305A1 (en) * 2000-03-01 2001-09-07 Kan Cheng Fresnel zone plate with multiple layers of delay zones
JP2007025177A (en) * 2005-07-15 2007-02-01 Namiki Precision Jewel Co Ltd Refractive index control type of diffractive optical element, and method for producing same
JP2016051024A (en) * 2014-08-29 2016-04-11 公立大学法人大阪府立大学 Photomask and method for manufacturing the same

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0318800A (en) * 1989-06-15 1991-01-28 Res Dev Corp Of Japan Phase modulation type zone plate for x-ray microscope for observation of living things
US5199057A (en) * 1989-08-09 1993-03-30 Nikon Corporation Image formation-type soft X-ray microscopic apparatus
US5237451A (en) * 1989-11-17 1993-08-17 Minnesota Mining And Manufacturing Company Beam shaping system using diffraction
US5227915A (en) * 1990-02-13 1993-07-13 Holo-Or Ltd. Diffractive optical element
US5073007A (en) * 1990-06-11 1991-12-17 Holo-Or Ltd. Diffractive optical element
WO1991020005A1 (en) * 1990-06-11 1991-12-26 Holo-Or Ltd. A diffractive optical element
JPH09504101A (en) * 1993-09-15 1997-04-22 カール−ツァイス−スチフツング Phase contrast-X-ray microscope
JPH0887769A (en) * 1994-09-20 1996-04-02 Nec Corp Optical head device
WO2001065305A1 (en) * 2000-03-01 2001-09-07 Kan Cheng Fresnel zone plate with multiple layers of delay zones
JP2007025177A (en) * 2005-07-15 2007-02-01 Namiki Precision Jewel Co Ltd Refractive index control type of diffractive optical element, and method for producing same
JP2016051024A (en) * 2014-08-29 2016-04-11 公立大学法人大阪府立大学 Photomask and method for manufacturing the same

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3507632B2 (en) Diffraction grating lens
EP2663892B1 (en) Device for converting the profile of a laser beam into a laser beam with an m-profile
US20090135486A1 (en) Use of a focusing vortex lens as the objective in spiral phase contrast microscopy
JPH01142604A (en) Phase type zone plate
CN107728242B (en) Multi-focus Fibonacci zone plate and construction method thereof
CN112888982B (en) Multi-channel short-distance imaging device
EP2511669A2 (en) Encoder
JPH02153328A (en) Light source device
JP5829212B2 (en) Manufacturing method of microscope optical system
US5880478A (en) Compound refractive lenses for low energy neutrons
JP2586703B2 (en) Optical lens
JPH03134538A (en) Evaluating apparatus of lens
JP5109076B2 (en) Refractive index control type diffractive optical element and manufacturing method thereof
Basov et al. Two-dimensional focusing of hard X-rays by a phase circular Bragg-Fresnel lens in the case of Bragg backscattering
JPH09146007A (en) Optical system
CN101470270A (en) Circular ring type photon screen and method for producing the same
EP0615142A1 (en) Combined optical element
JPS60233600A (en) X-ray lens
US20150185486A1 (en) Holographic imaging element operable to generate multiple different images of an object
RU2238576C1 (en) Method for focusing wave field and device for realization of said method
JPH02216100A (en) X-ray condenser
JPH01128000A (en) Phase zone plate for x-ray microscope for bioobservation
JPS5999219A (en) Encoder using diffraction grating
Umbach et al. Achromatic X-ray focusing using diffractive and refractive elements
JP2009204944A (en) Diffraction optical element, lighting system, and sensor device