JPH01135367A - レーザ光照射装置 - Google Patents
レーザ光照射装置Info
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- JPH01135367A JPH01135367A JP62291926A JP29192687A JPH01135367A JP H01135367 A JPH01135367 A JP H01135367A JP 62291926 A JP62291926 A JP 62291926A JP 29192687 A JP29192687 A JP 29192687A JP H01135367 A JPH01135367 A JP H01135367A
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- Japan
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- laser beam
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明はたとえば体腔内の生体組織にレーザ光を照射し
て治療する場合等に使用するレーザ光照射装置に関する
。
て治療する場合等に使用するレーザ光照射装置に関する
。
[従来の技術]
腫瘍部位を約42〜43°Cに加温して治療する方法(
ハイパーサーミア)が近年盛んに行なわれるようになっ
てきた。この方法を体腔内の患部にも適用することが考
えられるが、この場合の加温源の方式としても種々なも
のが考えられる。
ハイパーサーミア)が近年盛んに行なわれるようになっ
てきた。この方法を体腔内の患部にも適用することが考
えられるが、この場合の加温源の方式としても種々なも
のが考えられる。
レーザプローブによるレーザ光の照射方法もその1つで
ある。腫瘍部の加温にレーザ光を用いる場合、この腫瘍
部にレーザ光を照射し続けると、腫瘍部の温度が一方的
に上昇する。そこで、術者は腫瘍部の温度が42〜43
@Cに保たれるようにレーザ装置の照射スイッチ(通常
はフットスイッチ)の開閉操作を頻繁に繰り返さなけれ
ばならない。
ある。腫瘍部の加温にレーザ光を用いる場合、この腫瘍
部にレーザ光を照射し続けると、腫瘍部の温度が一方的
に上昇する。そこで、術者は腫瘍部の温度が42〜43
@Cに保たれるようにレーザ装置の照射スイッチ(通常
はフットスイッチ)の開閉操作を頻繁に繰り返さなけれ
ばならない。
[発明が解決しようとする問題点]
しかしながら、1回の治療時間が20〜30分という長
時間の場合、上記操作は大変な労力がかかるやっかいな
ものであり、しかも、腫瘍部位を約42〜43’Cに精
度よく維持すことはきわめて困難である。
時間の場合、上記操作は大変な労力がかかるやっかいな
ものであり、しかも、腫瘍部位を約42〜43’Cに精
度よく維持すことはきわめて困難である。
本発明は上記問題点に着目してなされたもので、その目
的とするところは加温する操作が簡単で労力がほとんど
かからないとともに所定の温度に精度よく加温すること
ができるレーザ光照射装置を提供することにある。
的とするところは加温する操作が簡単で労力がほとんど
かからないとともに所定の温度に精度よく加温すること
ができるレーザ光照射装置を提供することにある。
[問題点を解決するための手段]
上記問題点を解決するために本発明のレーザ光照射装置
は加温用のレーザ光を出射するレーザ光源と、このレー
ザ光源から出射するレーザ光を照射部位に導くレーザガ
イドを有するレーザプローブと、上記照射部位の温度を
検知する温度検知手段と、この温度検知手段により測定
された温度が設定範囲を外れるとき上記レーザ光源の出
力を制御する制御手段とを具備したものである。
は加温用のレーザ光を出射するレーザ光源と、このレー
ザ光源から出射するレーザ光を照射部位に導くレーザガ
イドを有するレーザプローブと、上記照射部位の温度を
検知する温度検知手段と、この温度検知手段により測定
された温度が設定範囲を外れるとき上記レーザ光源の出
力を制御する制御手段とを具備したものである。
[作用]
上記制御手段は温度検知手段により測定された照射部位
の温度が設定温度範囲を上回る場合には上記レーザプロ
ーブのレーザガイドを通じてレーザ光の供給を停止させ
るか減少させ、反対に、測定された照射部位の温度が設
定温度範囲を下回る場合には上記レーザガイドを通じて
のレーザ光の供給を開始させるか増加させるようにして
レーザ光の照射部位を設定範囲の温度に自動的に調節す
る。このため、加温する操作が簡単で労力がほとんどか
からないとともにレーザ光の照射部位を所定の温度に精
度よく加温することができる。
の温度が設定温度範囲を上回る場合には上記レーザプロ
ーブのレーザガイドを通じてレーザ光の供給を停止させ
るか減少させ、反対に、測定された照射部位の温度が設
定温度範囲を下回る場合には上記レーザガイドを通じて
のレーザ光の供給を開始させるか増加させるようにして
レーザ光の照射部位を設定範囲の温度に自動的に調節す
る。このため、加温する操作が簡単で労力がほとんどか
からないとともにレーザ光の照射部位を所定の温度に精
度よく加温することができる。
[実施例]
第1図ないし第4図は本発明の第1の実施伊1を示すも
のである。第1図中1はレーザプローブであり、このレ
ーザプローブ1は図示しない内視鏡の挿通チャンネルに
挿通できる太さで構成されるとともにその挿通チャンネ
ルに沿って曲がれるように可撓性を持つように構成され
ている。また、レーザプローブ1の基端部には中空のコ
ネクタ2が取着されている。そして、このコネクタ2は
外部装置3に対して着脱自在に装着されるようになって
いる。
のである。第1図中1はレーザプローブであり、このレ
ーザプローブ1は図示しない内視鏡の挿通チャンネルに
挿通できる太さで構成されるとともにその挿通チャンネ
ルに沿って曲がれるように可撓性を持つように構成され
ている。また、レーザプローブ1の基端部には中空のコ
ネクタ2が取着されている。そして、このコネクタ2は
外部装置3に対して着脱自在に装着されるようになって
いる。
レーザプローブ1は外装シースの内部にファイバからな
るレーザガイドを挿通してなり、この先端にはたとえば
サファイヤチップ5が取着されている。そして、このサ
ファイヤチップ5により出射先端を構成している。
るレーザガイドを挿通してなり、この先端にはたとえば
サファイヤチップ5が取着されている。そして、このサ
ファイヤチップ5により出射先端を構成している。
一方、外部装置3には加温用のYAGレーザ光を発生す
るYAGレーザ発生装置11とガイド光用のHe−Ne
レーザ光を発生するHe−Neレーザ発生装置12が設
けられている。このHe−Neレーザ発生装置12の出
射するHe−Neレーザ光はグイクロックミラー13を
通して上記レーザプローブ1におけるレーザガイドの入
射基端面に入射するようになっている。また、YAGレ
ーザ発生装置11が発生するYAGレーザ光はミラー1
4および上記グイクロックミラー13でそれぞれ反射し
て上記同様にレーザプローブ1におけるレーザガイドの
入射基端面に入射するようになっている。そして、He
−Neレーザ光とYAGレーザ光はレーザプローブ1に
おけるレーザガイドを通じて導びかれ、そのレーザガイ
ドのサファイヤチップ5から出射するようになっている
。
るYAGレーザ発生装置11とガイド光用のHe−Ne
レーザ光を発生するHe−Neレーザ発生装置12が設
けられている。このHe−Neレーザ発生装置12の出
射するHe−Neレーザ光はグイクロックミラー13を
通して上記レーザプローブ1におけるレーザガイドの入
射基端面に入射するようになっている。また、YAGレ
ーザ発生装置11が発生するYAGレーザ光はミラー1
4および上記グイクロックミラー13でそれぞれ反射し
て上記同様にレーザプローブ1におけるレーザガイドの
入射基端面に入射するようになっている。そして、He
−Neレーザ光とYAGレーザ光はレーザプローブ1に
おけるレーザガイドを通じて導びかれ、そのレーザガイ
ドのサファイヤチップ5から出射するようになっている
。
また、上記He−Neレーザ発生装置12の発振動作は
図示しない制御部およびスイッチ部により制御される。
図示しない制御部およびスイッチ部により制御される。
また、YAGレーザ発生装置11はYAGロッド15と
励起ランプ16とからなり、励起ランプ16は駆動用電
源17が接続されている。さらに、この駆動用電源17
による電力供給動作は制御手段18によって制御される
ようになっている。制御手段18は後述する温度検知手
段により受ける温度情報によって制御動作を行なう。
励起ランプ16とからなり、励起ランプ16は駆動用電
源17が接続されている。さらに、この駆動用電源17
による電力供給動作は制御手段18によって制御される
ようになっている。制御手段18は後述する温度検知手
段により受ける温度情報によって制御動作を行なう。
すなわち、上記温度検知手段はレーザプローブ1を利用
し、または、独立して設けられる温度センサ31からな
り、この温度センサ31はたとえば熱雷対からなり、こ
の感温部32はレーザガイドの出射先端から出射するY
AGレーザ光の照射部位付近に設けられ、その部位の温
度を検出して外部装置3にある温度モニタ33に伝える
ようになっている。
し、または、独立して設けられる温度センサ31からな
り、この温度センサ31はたとえば熱雷対からなり、こ
の感温部32はレーザガイドの出射先端から出射するY
AGレーザ光の照射部位付近に設けられ、その部位の温
度を検出して外部装置3にある温度モニタ33に伝える
ようになっている。
次に、上記レーザ光照射装置の°作用を説明する。
まず、あらかじめ体腔内に挿入した内視鏡の挿通チャン
ネルを通じてレーザプローブ1をその体腔内に導入し、
レーザプローブ1の先端を体腔内の腫瘍部に向ける。
ネルを通じてレーザプローブ1をその体腔内に導入し、
レーザプローブ1の先端を体腔内の腫瘍部に向ける。
そして、外部装置3におけるHe−Neレーザ発生装置
12を作動させてそのHe−Neレーザ光をレーザプロ
ーブ1の先端にあるサファイヤチップ5から出射させて
照射予定位置を定める。この照射予定位置が定まったと
ころで、温度センサ31の感温部32をセットする。通
常は腫瘍部の内部まで温度センサ31の感温部32を差
し込む。
12を作動させてそのHe−Neレーザ光をレーザプロ
ーブ1の先端にあるサファイヤチップ5から出射させて
照射予定位置を定める。この照射予定位置が定まったと
ころで、温度センサ31の感温部32をセットする。通
常は腫瘍部の内部まで温度センサ31の感温部32を差
し込む。
ついで、YAGレーザ発生装置11を作動させる。
これによりYAGレーザ光はミラー14およびダイクロ
ツクミラー13でそれぞれ反射してレーザプローブ1に
おけるレーザガイドの入射基端面に入射する。さらに、
このレーザガイドを通じてサファイヤチップ5から出射
し腫瘍部位を照射する。
ツクミラー13でそれぞれ反射してレーザプローブ1に
おけるレーザガイドの入射基端面に入射する。さらに、
このレーザガイドを通じてサファイヤチップ5から出射
し腫瘍部位を照射する。
この照射中も上記ガイド光の照射を行ない、内視鏡によ
る照射位置の確認を行なうことができるようにする。な
お、YAGレーザの出力は照射対象の組織を炭化させる
出力よりも低く設定する。
る照射位置の確認を行なうことができるようにする。な
お、YAGレーザの出力は照射対象の組織を炭化させる
出力よりも低く設定する。
このYAGレーザ光が照射される腫瘍部位は加熱される
が、その腫瘍部位は上記温度センサ31で温度が検出さ
れている。そして、設定温度である42〜43”Cの範
囲を越える温度状態になると、制御手段18が電源17
を制御し、YAGレーザ発生装置11の励起ランプ16
への電力供給を止めるか減少させる。これによりYAG
レーザ光の強さが減少し、その腫瘍部位の温度上昇を抑
制する。また、反対に測定された照射部位の温度が設定
温度範囲を下回る場合には制御手段18が電源17を制
御し、YAGレーザ発生装置11の励起ランプ16への
電力供給を開始するか増加させる(元に戻す。)。これ
を繰り返すことにより腫瘍部の温度を設定温度範囲内に
自動的に調節される。第3図は照射するパルスレーザ光
の波形を示している。出力を増減する場合はこのピーク
値h1パルス幅d1周波数fのうちのいずれか1つ又は
その2つの組み合せ、又は全てを制御して照射部位の温
度を42〜43”Cの範囲内に維持させる。第4図は照
射部位における温度変化を示すが、第4図中実線で示す
ものはON・OFFする場合、点線で示すものは出力を
増減する場合の温度変化を示している。
が、その腫瘍部位は上記温度センサ31で温度が検出さ
れている。そして、設定温度である42〜43”Cの範
囲を越える温度状態になると、制御手段18が電源17
を制御し、YAGレーザ発生装置11の励起ランプ16
への電力供給を止めるか減少させる。これによりYAG
レーザ光の強さが減少し、その腫瘍部位の温度上昇を抑
制する。また、反対に測定された照射部位の温度が設定
温度範囲を下回る場合には制御手段18が電源17を制
御し、YAGレーザ発生装置11の励起ランプ16への
電力供給を開始するか増加させる(元に戻す。)。これ
を繰り返すことにより腫瘍部の温度を設定温度範囲内に
自動的に調節される。第3図は照射するパルスレーザ光
の波形を示している。出力を増減する場合はこのピーク
値h1パルス幅d1周波数fのうちのいずれか1つ又は
その2つの組み合せ、又は全てを制御して照射部位の温
度を42〜43”Cの範囲内に維持させる。第4図は照
射部位における温度変化を示すが、第4図中実線で示す
ものはON・OFFする場合、点線で示すものは出力を
増減する場合の温度変化を示している。
このように腫瘍部の温度があらかじめ設定した温度範囲
内に自動的に維持されるため、術者は温度を調節するた
とえばスイッチ操作が不必要であり、長時間の加温でC
労力がほとんどかからないとともにレーザ光の照射部位
を所定の温度に精度よく加温することができる。したが
って、治療効果を向上させることができる。
内に自動的に維持されるため、術者は温度を調節するた
とえばスイッチ操作が不必要であり、長時間の加温でC
労力がほとんどかからないとともにレーザ光の照射部位
を所定の温度に精度よく加温することができる。したが
って、治療効果を向上させることができる。
上記YAGレーザ発生装置11を制御する場合、励起ラ
ンプ16の点灯をON・OFFする場合においては照射
しないときにはその励起ランプ16が0FFtているの
で、励起ランプ16の寿命が伸びる。また、供給電力を
増減する場合はレーザ光の照射を急激に停止することが
なく、出力を減少させるに過ぎないため、照射部位の温
度勾配が小さくできる。したがって、精度のよい温度調
整ができる。また、パルスレーザ光を使用する場合には
適温になるまでの時間を短縮できる。第4図は照射部位
における温度変化を示している。
ンプ16の点灯をON・OFFする場合においては照射
しないときにはその励起ランプ16が0FFtているの
で、励起ランプ16の寿命が伸びる。また、供給電力を
増減する場合はレーザ光の照射を急激に停止することが
なく、出力を減少させるに過ぎないため、照射部位の温
度勾配が小さくできる。したがって、精度のよい温度調
整ができる。また、パルスレーザ光を使用する場合には
適温になるまでの時間を短縮できる。第4図は照射部位
における温度変化を示している。
なお、第2図で示すようにレーザプローブ1の出射側先
端を照射部位の表面から離すように設置して使用しても
よい。
端を照射部位の表面から離すように設置して使用しても
よい。
第5図は本発明の第2の実施例を示すものである。この
実施例はダイクロツクミラー13とミラー14との間の
光路途中にレーザ光遮断装置41を設け、このレーザ光
遮断装置41によりレーザプローブ1に供給するレーザ
光を必要に応じて遮断するようにしたものである。すな
わち、このレーザ光遮断装置41はレーザ光の光路に対
して進退するシャッタ42を設けてなり、このシャッタ
42は図示しない駆動装置によって操作される。
実施例はダイクロツクミラー13とミラー14との間の
光路途中にレーザ光遮断装置41を設け、このレーザ光
遮断装置41によりレーザプローブ1に供給するレーザ
光を必要に応じて遮断するようにしたものである。すな
わち、このレーザ光遮断装置41はレーザ光の光路に対
して進退するシャッタ42を設けてなり、このシャッタ
42は図示しない駆動装置によって操作される。
さらに、上記駆動装置は上記制御手段18によって操作
され、シャッタ42を開閉するようになっている。そし
て、上記第1の実施例の場合と同様に照射部位の温度が
設定温度である42〜43℃の範囲を越える温度状態に
なると、制御手段18が駆動装置によってシャッタ42
を閉じ、その照射部位の温度上昇を抑制する。また、反
対に、測定された照射部位の温度が設定温度範囲を下回
る場合には制御手段18が駆動装置によってシャッタ4
2を開放し、レーザ光の照射を開始する(元に戻す。)
。これを繰り返すことにより腫瘍部の温度を設定温度範
囲内に自動的に調節するのである。このシャッタ42の
移動は瞬時にすばやく行なえるので、精度よく温度調節
ができる。
され、シャッタ42を開閉するようになっている。そし
て、上記第1の実施例の場合と同様に照射部位の温度が
設定温度である42〜43℃の範囲を越える温度状態に
なると、制御手段18が駆動装置によってシャッタ42
を閉じ、その照射部位の温度上昇を抑制する。また、反
対に、測定された照射部位の温度が設定温度範囲を下回
る場合には制御手段18が駆動装置によってシャッタ4
2を開放し、レーザ光の照射を開始する(元に戻す。)
。これを繰り返すことにより腫瘍部の温度を設定温度範
囲内に自動的に調節するのである。このシャッタ42の
移動は瞬時にすばやく行なえるので、精度よく温度調節
ができる。
なお、この第2の実施例において、シャッタ42の代り
に減光フィルタ(吸収フィルタ)を用いてレーザ光の強
さを調節するようにしてもよい。
に減光フィルタ(吸収フィルタ)を用いてレーザ光の強
さを調節するようにしてもよい。
このように減光フィルタ(吸収フィルタ)を用いれば、
何割かのレーザ光は常に通すので温度変化を緩やかにで
きる。
何割かのレーザ光は常に通すので温度変化を緩やかにで
きる。
本発明は上記実施例のものに限定されるものではない。
たとえば、処置用のレーザとしてはYAGレーザに限ら
ず、Arレーザ、炭酸ガスレーザ、半導体レーザ等でも
よい。また、その出力を制御できれば、パルス光ではな
く、連続光であってもよい。
ず、Arレーザ、炭酸ガスレーザ、半導体レーザ等でも
よい。また、その出力を制御できれば、パルス光ではな
く、連続光であってもよい。
[発明の効果]
以上説明したように本発明は制御手段により温度検知手
段で測定された照射部位の温度が設定温度範囲を外れる
場合には照射するレーザ光の供給を停止させるか減少さ
せ、または供給を開始させるか増加させるようにしてレ
ーザ光の照射部位を設定範囲の温度に自動的に調節する
ようにしたものである。このため、加温する操作が簡単
で労力がほとんどかからないとともにレーザ光の照射部
位を所定の温度に精度よく加温することかできる。
段で測定された照射部位の温度が設定温度範囲を外れる
場合には照射するレーザ光の供給を停止させるか減少さ
せ、または供給を開始させるか増加させるようにしてレ
ーザ光の照射部位を設定範囲の温度に自動的に調節する
ようにしたものである。このため、加温する操作が簡単
で労力がほとんどかからないとともにレーザ光の照射部
位を所定の温度に精度よく加温することかできる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の第1の実施例を示す構成説明図、第2
図は同じくその照射部位の説明図、第3図は同じくその
レーザ光の波形図、第4図は同じくその照射部位の温度
変化を示す図、第5図は本発明の第2の実施例を示す構
成説明図である。 1・・・レーザプローブ、11・・・YAGレーザ発生
装置、15・・・YAGロッド、16・・・励起ランプ
、18・・・制御手段、31・・・温度センサ、33・
・・温度モニタ。 出願人代理人 弁理士 坪井 淳
図は同じくその照射部位の説明図、第3図は同じくその
レーザ光の波形図、第4図は同じくその照射部位の温度
変化を示す図、第5図は本発明の第2の実施例を示す構
成説明図である。 1・・・レーザプローブ、11・・・YAGレーザ発生
装置、15・・・YAGロッド、16・・・励起ランプ
、18・・・制御手段、31・・・温度センサ、33・
・・温度モニタ。 出願人代理人 弁理士 坪井 淳
Claims (1)
- 加温用のレーザ光を出射するレーザ光源と、このレーザ
光源から出射するレーザ光を照射部位に導くレーザガイ
ドを有するレーザプローブと、上記照射部位の温度を検
知する温度検知手段と、この温度検知手段により測定さ
れた温度が設定範囲を外れるとき上記レーザ光源の出力
を制御する制御手段とを具備したことを特徴とするレー
ザ光照射装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62291926A JPH01135367A (ja) | 1987-11-20 | 1987-11-20 | レーザ光照射装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62291926A JPH01135367A (ja) | 1987-11-20 | 1987-11-20 | レーザ光照射装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01135367A true JPH01135367A (ja) | 1989-05-29 |
Family
ID=17775250
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62291926A Pending JPH01135367A (ja) | 1987-11-20 | 1987-11-20 | レーザ光照射装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01135367A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005087282A (ja) * | 2003-09-12 | 2005-04-07 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | レーザ治療装置 |
JP2022122878A (ja) * | 2015-10-26 | 2022-08-23 | オーハイ レチナル テクノロジー,エルエルシー | レーザー光を利用し熱ショックタンパク質の活性化を刺激するように適応させたシステム |
-
1987
- 1987-11-20 JP JP62291926A patent/JPH01135367A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005087282A (ja) * | 2003-09-12 | 2005-04-07 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | レーザ治療装置 |
JP2022122878A (ja) * | 2015-10-26 | 2022-08-23 | オーハイ レチナル テクノロジー,エルエルシー | レーザー光を利用し熱ショックタンパク質の活性化を刺激するように適応させたシステム |
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