JPH01134977A - イメージセンサ - Google Patents

イメージセンサ

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JPH01134977A
JPH01134977A JP62292839A JP29283987A JPH01134977A JP H01134977 A JPH01134977 A JP H01134977A JP 62292839 A JP62292839 A JP 62292839A JP 29283987 A JP29283987 A JP 29283987A JP H01134977 A JPH01134977 A JP H01134977A
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JP
Japan
Prior art keywords
film
image sensor
tlbr
photoconductive film
tli
Prior art date
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Pending
Application number
JP62292839A
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English (en)
Inventor
Akira Sakata
坂田 朗
Setsuko Wada
和田 節子
Michio Arai
三千男 荒井
Takeaki Kiso
木曽 武陽
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TDK Corp
Original Assignee
TDK Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ■ 発明の背景 技術分野 本発明は、光導電膜を用いたイメージセンサに関する。
従来技術とその問題点 ファクシミリ等には、光導電膜を用いたイメージセンサ
が使われている。
従来、光導電膜の材料としては、原稿寸法とほぼ同程度
まで大面積化が可能なアモルファスシリコン、Cd5−
CdSe等が用いられて゛おり、これらの光導電膜は、
完全密着型イメージセンサあるいは正立等倍レンズ使用
型イメージセンサ等の密着型イメージセンサに使用され
る。
しかし、これらの光導電膜材料には、以下のような問題
点がある。
アモルファスシリコン光導電膜は、PIF、NIN、N
I等のような多層構造となるため生産性が低い。 また
、プラズマCVD法により成膜するためコストが高く、
しかも、多数の大型基板(A4、B4サイズ等)に均一
な成膜を行なうことが困難である。 さらに、プラズマ
CVD法ではフレークが生じ易く、欠陥のない膜を得る
ことが困難である。
また、o、 、H20等の表面吸着により、膜が不安定
となり易い。
Cd5−CdSe光導電膜は、光応答速度が8〜10m
5ecと遅いため、高速タイプのファクシミリやカラー
の読み取りが困難である。 また、変換効率の一定な膜
が得難く、歩留が悪い。
II  発明の目的 本発明の目的は、上記のような問題点を解決し、応答速
度が速く、特性が安定であり、しかも、製造が容易でコ
ストが低いイメージセンサを提供することにある。
II+  発明の開示 このような目的は、下記の本発明によって達成される。
すなわち、本発明は、光の入射により導電率が変化する
光導電膜を有するイメージセンサであって、前記光導電
膜が(TlBr)x(TlI)1x (Tll) 1−
X(ただし、0.4≦x≦0.7)から形成された厚膜
であることを特徴とするイメージセンナである。
なお、本発明者等は、特開昭62−73677号にて、
ハロゲン化タリウム、例えばTlBr、TlC1を光導
電素子として用いる旨を提案している。
これらのうち、本発明と同様にTlBrとTII とか
らなり、緑色感光性を有するKRS−5(塩基製作所製
)は単結晶板であるため、イメージセンサに適用するに
際して、薄板とすることが困難であり、また、大面積の
ものが得難いため、密着型イメージセンサに適用するこ
とが困難である。
本発明では、特に緑色発光LEDに高感度をもつ(Tl
Br)x(TlI)1 −(TII) 1−1lを厚膜
法により光導電膜とする旨を提案するものである。
■ 発明の具体的構成 以下、本発明の具体的構成を、詳細に説明する。
本発明のイメージセンサの好適実施例を、第1°図およ
び第2図に示す。
第1図および第2図に示される本発明のイメージセンサ
1は、基板3上に、導光窓10を有する透明導電膜6、
共通電極4、光導電膜2および個別電極5を順次有し、
基板3の光導電膜2の反対側に、光源7と正立等倍レン
ズアレイ8とを有する。
イメージセンサ1は、光源7から照射され原稿9の表面
上で反射された光を、正立等倍レンズアレイ8により導
光窓10内の光導電膜2に導いて光導電膜2の導電率を
変化させ、この光導電膜2を介して対向する導光窓10
内の透明導電膜6と個別電極5との間に生じる電流の変
化を読み取り、原8%9表面の濃度分布による反射率の
強弱を電流の強弱に変換するものである。
本発明では、光導電膜2を (TlBr)x(TlI)1x (Tll) r−xか
ら形成する。 ただし、0.4≦x≦0.7である。
Xが上記範囲外となると、緑色発光LEDに対し、感度
が低下する。
この場合、TIIおよびTlBrは、化学量論組成であ
ることが好ましいが、これから多少偶奇していてもよい
また、光導電膜2は、TIIおよびTlBrのみから形
成されることが好ましいが、不純物としてBr% In
、S等が全体の5wt%以下含有されていてもよい。
このような光導電膜は、通常、(TlBr)x(TlI
)1。
(TII) l−xの多結晶膜である。
また、光導電膜2の膜厚は、一般に0.2〜200μm
1特に1〜20μm程度とされる。
(TlBr)x(TlI)1−(Tll) 1−Xから
なる本発明の光導電膜は、スクリーン印刷法等の厚膜法
による厚膜として成膜する。
このため、本発明のイメージセンサは、製造が容易で量
産性が高く、コストが低いものである。
また、きわめて良好な光導電性を示す。
これに対し、(TlBr)x(TlI)1、1(TII
) r−xの形成に薄膜法を用い、例えば真空蒸着を行
うときには、低い光感度しかえられない。 この場合、
成膜後に熱処理を施せば光感度は向上するが、工程増を
招き生産性が低下する。
また、スパッタリングでは(TlBr)x(TlI)1
(TII) 、−の分解を生じ、低い光感度しかえられ
ない。
印刷法により成膜する場合、TllおよびTlBrを、
あらかじめ公知の方法により混晶化して(TlBr)x
(TlI)1x (TII) r −とし、これを、エ
チ)Lt −tyルロース等のバインダと、テルピネオ
ール、ブチルカルピトール等の溶剤を用いてペースト化
してスクリーン印刷を行い、その後、焼成する。
ペーストに用いる(TlBr)x(TlI)1、 (T
ll) r−は、平均粒径0.1〜2μm程度とすれば
よい。
また、ペースト中に20〜70wt%含有させればよい
焼成条件としては、真空または常圧中で200〜500
℃、より好ましくは真空中で250〜350℃にて0.
2〜3時間、より好ましくは0.5〜1時間とすること
が好ましい。
なお、あらかじめ混晶とせずに、TIIおよびTlBr
の粉末と上記バインダおよび溶剤とを混合してペースト
化してスクリーン印刷を行ない、上記の焼成によって(
TlBr)x(TlI)1 −(TI I) l−ノ混
晶とすることもできる。
光源、特に緑色発光LEDの光は、光導電膜の表層にて
吸収されて光導電性を示す。 このため、厚膜法にて成
膜して膜厚がバラついたとしてもイメージセンサ特性に
はバラつきは生じず、容易でしかも安価な製法にて特性
の良好なイメージセンサが実現する。
基板3は、光源7から照射される光の透過率が高いもの
であれば特に制限はないが、通常、板ガラスや石英、各
種樹脂等で形成される。
基板3の厚さは、通常0.5〜3mm程度である。
共通電極4は、原稿9からの反射光を個別電極5に導く
ために導光窓10を有し、かつ迷光を防ぎ高い分解能を
得るために不透明材質で形成され遮光板の機能を有する
導光窓10の寸法は、個別電極5の寸法に対応するが、
通常50X50μm〜200×200μm程度である。
なお、後述する透明導電膜を共通電極として用い、上記
の機能を有する遮光板を別に設けてもよい。 この場合
、遮光板の材質としては、Cr、Mo等の金属あるいは
St等の非導電物質であってもよい。
また、共通電極4の材質としては、Cu、Cr、Ni、
Pt等を用いればよい。
個別電極5の配設密度は、画素数に対応し、通常、6〜
16個/ m m程度である。
個別電極5の材質としては、Cu、Ni、Cr%pt等
を用いればよい。
共通電極4および個別電極5の間には所定の電圧が印加
され、光導電膜2の導電率変化に応じた電流が両電極間
を流れる。
透明導電膜6は、共通電極4と接触して設けられ、光導
電膜2の光受光部分を介して個別電極5と対向している
ため、光導電膜2の導電率変化に応じた電流は、主とし
て透明導電膜6および個別電極5間を流れる。
透明導電膜6の材質としては、ITOlNESA等を用
いればよい。
光源7としては、省スペース、低消費電流であることな
どから、LEDを用いることが好ましい。
本発明では、光導電1lL2の材質に(TlBr)x(
TlI)1x(TII) I−X  (ただし、0.4
≦x≦0.7)を用いるので、感光性の点で、緑色発光
LEDを用いることが好ましく、特に発光スペクトルの
波長が555nm程度の波長の緑色発光LEDを用いる
ことが好ましい。
正立等倍レンズアレイ8は公知のものを用いればよく、
また、これに替え、ファイバレンズアレイ等を用いても
よい。
第3図および第4図に、本発明のイメージセンサの他の
好適実施例を示す。
これらの図に示されるイメージセンサ1は、基板3上に
光導電膜2を有し、この光導電膜2を挟んで共通電極4
および個別電極5が基板3上に設けられる。
この場合の各部材の構成および作用は、第1図および第
2図の説明にて前述したこととほぼ同様である。
第5図および第6図に、本発明のイメージセンサのさら
に他の好適実施例を示す。
これらの図に示されるイメージセンサ1は、いわゆる完
全密着型のものであり、正立等倍レンズアレイ等の光学
系を用いないものである。
イメージセンサ1は、基板3の上側に光源7を有し、基
板3の下面に共通電極4、光導電膜2、透明導電膜6お
よび個別室fi5を順次有し、さらにこの個別電極5の
下面に透明保護層11を有する。
共通電極4、光導電@2および透明導電膜6には、光源
7から照射された光を原稿9に導くための導光窓10が
設けられる。
光源7から照射された光は、導光窓10を通って原稿9
の表面で反射して光導電膜2に達する。 この後は、前
述した実施例と同様にして、原稿9表面の濃度分布を電
流の強弱に変換するものである。
この実施例において、透明保護層11は、各部材を原稿
9の接触から保護するために設けられ、その厚さは3〜
15μm程度であることが好ましく、その材質としては
、5in2 、A1203、Si3 N4.5iCxO
y Nz、5iBx O,N!、5iBxO,、,5i
A1.01−8、Ta205等を用いればよい。
■ 発明の具体的効果 本発明のイメージセンサは、(r l B r) x(
Tll) l−xからなる厚膜である光導電膜を有する
このため、応答速度が速く、高速ファクシミリ等に好適
に用いることができる。
また、光導電膜が単層構造であるため製造が容易であり
、スクリーン印刷法等の厚膜法により成膜するので製造
コストを低く抑えることができる。
さらに、(TlBr)x(TlI)1 −(TII) 
I−からなる光導電膜は特性が良好かつ安定であり、ま
た、均一な特性が得られ易く、製造歩留が高いものであ
る。
このような効果を有する本発明のイメージセンサは、フ
ァクシミリ等に好適に用いることができ、特にその感光
性から、緑色発光LEDと組合わせて好適に使用するこ
とができる。
本発明者等は、本発明の効果を確認するため、以下に示
す実験を行なった。
[実験例1] 平均粒径5μmのTlBrとTIIを6対4の比で混合
した溶質1重量部と、エチルセルロース0.5重量部と
テルピネオール0.5重量部とを混合し、ペーストを作
製した。
このペーストをスクリーン印刷により ガラス基板上に印刷し、真空中(IXIO−3Torr
)で300℃にて30分間焼成し、光導電膜を成膜した
焼成後の膜厚は、20μmであった。
この光導電膜を、第4図に示すように対向するCu製電
極で挟んで光電変換素子を形成し、光波長に対する相対
感度を測定した。
なお、Cu製電極は蒸着法により1.5μm厚に形成し
、ウェットエツチングにより所定のパターンとした。 
エッチャントには、20%H,So4.10%Crys
水溶ン夜を用いた。
また、エツチングレートは2μm/minであった。
結果を第7図に示す。
第7図に示される結果から、(TlBr)x(TlI)
1。6(Tll)。4からなる光導電膜は、緑色部に最
大感度を有し、緑色発光LEDを用いたイメージセンサ
に好適に適用可能であることがわかる。
なお、比較のために、上記と同組成の光導電膜を蒸着法
により1μm厚に形成し、上記と同様にして光電変換素
子を作製した。 このものも上記本発明の光電変換素子
と同波長に最大感度を有していたが、その最大感度は、
本発明のものの30%であった。
[実験例2] 実験例1で作製した光電変換素子を用いて、光源として
波長555nmの純緑色発光LEDを用い、光強度に対
する光電流を測定した。
結果を第8図に示す。
第8図に示されるように、(T I B r)。6(T
ll)。4からなる光導電膜は、光強度に対して光電流
がほぼ直線的に増加し、イメージセンサに好適に用い得
ることが明らかである。
[実験例3] 発色波長555nmのG a P  L E Dを用い
、TIIとTlBrとの比を変化させて相対感度を測定
した。
結果を第9図に示す。 なお、第9図において、横軸は
Tll /TlBrであり、(TlBr)x(TlI)
1。
(TII) r−8において、0.4≦x≦0.7のと
き0.43≦TII / TlBr  ≦1,5である
第9図に示される結果から、本発明のイメージセンサに
用いる光導電膜は、緑色光に対し、高い感度を示すこと
がわかる。
[実験例4コ 上記の光電変換素子を用いて、光照射に対する応答速度
(立ち上がりおよび立ち下がり)を測定した。
光源として、発光波長555nmのGaP−LEDを用
いた。
立ち上がり時間は150μsec以下、立ち下がり時間
は300μsec以下であった。
この結果、本発明のイメージセンサに用いる光導電膜は
光応答速度が速く、高速ファクシミリ等に好適に通、用
し得ることがわかる。
[実験例5] 上記実験例1に準じて第4図に示す構成のイメージセン
サを作製し、特性を測定した。
このイメージセンサの細目および特性を、下記表1に示
す。
表       1 素子数      1728画素 素子密度     8画素/ m m 光感度      0.3μA / 1 x分光感度 
    555nm SN比      10:1以上 素子間ばらつき  ±10%以下 光応答速度    1m5ec以下 上記表1において、光感度は、印加電圧1゜Vで光源と
して緑色発光LED (波長555nm)を使用した場
合のものであり、分光感度は、ピーク波長を示す。 ま
た、S/N比は白黒2値のものであり、光応答速度はピ
ーク照度100ルクスのときのものである。
表1に示される結果から、本発明のイメージセンサは、
特性が良好であることがわかる。
【図面の簡単な説明】 第1図および第3図は、本発明のイメージセンサの好適
実施例の平面図であり、第2図および第4図は、それぞ
れ第1図および第3図に示すイメージセンサのIf −
If線およびIV−IV線断面図である。 第5図は、本発明のイメージセンサの他の実施例の縦断
面図であり、第6図は、第5図に示すイメージセンサの
底面図である。 第7図は、光の波長と相対感度との関係を表わすグラフ
、第8図は、光強度と電流量との関係を表わすグラフ、
第9図は、TII / TlBrと相対感度との関係を
表わすグラフである。 符号の説明 1・・・イメージセンサ、 2・・・光導電膜、 3・・・基板、 4共通電極、 5・・・個別電極、 6・・・透明導電膜、 7・・・光源、 8・・・光学系、 9・・・原稿、 10・・・導光窓、 11・・・透明保護層 FIG、1 F I G、 2 FIG、3 FIG、4 ′   9 Fl(3,5 Fl(3,5 F l(3,7 浪 長(nm) F I G、 8 光強度(1x)

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)光の入射により導電率が変化する光導電膜を有す
    るイメージセンサであって、 前記光導電膜が(TlBr)_x(TlI)_1_−_
    x(ただし、0.4≦x≦0.7)から形成された厚膜
    であることを特徴とするイメージセンサ。
  2. (2)前記光が、緑色発光LEDから照射されるもので
    ある特許請求の範囲第1項に記載のイメージセンサ。
JP62292839A 1987-11-19 1987-11-19 イメージセンサ Pending JPH01134977A (ja)

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JP62292839A JPH01134977A (ja) 1987-11-19 1987-11-19 イメージセンサ

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1998047325A1 (en) * 1997-04-16 1998-10-22 Infimed, Inc. Phototimer for radiology imaging
US11909263B1 (en) 2016-10-19 2024-02-20 Waymo Llc Planar rotary transformer

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WO1998047325A1 (en) * 1997-04-16 1998-10-22 Infimed, Inc. Phototimer for radiology imaging
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