JPH01130758A - スピン塗布装置 - Google Patents
スピン塗布装置Info
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- JPH01130758A JPH01130758A JP29135187A JP29135187A JPH01130758A JP H01130758 A JPH01130758 A JP H01130758A JP 29135187 A JP29135187 A JP 29135187A JP 29135187 A JP29135187 A JP 29135187A JP H01130758 A JPH01130758 A JP H01130758A
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- coating
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- coating liquid
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Links
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 title claims description 16
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 74
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 74
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 13
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims abstract description 11
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 54
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 3
- 238000007664 blowing Methods 0.000 abstract description 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 abstract description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 239000010408 film Substances 0.000 description 4
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- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 4
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
この発明は、スピン塗布装置に関するものてあり、特に
半導体デバイス等の製造プロセスにおいて使用するレジ
スト等の薄膜を形成するためのスピン塗布装置に関する
ものである。
半導体デバイス等の製造プロセスにおいて使用するレジ
スト等の薄膜を形成するためのスピン塗布装置に関する
ものである。
[従来の技術]
従来から、半導体デバイスの製造プロセスにおいて使用
するフォトレジスト等の薄膜の形成法としては、スピン
塗布法により基板上に薄膜を形成する方法が最も多く用
いられている。第2図は、スピン塗布法により基板上に
薄膜を形成するための従来のスピン塗布装置の主要部分
を示す概略構成図である。第2図において、塗布液貯蔵
庫20内には液ビン6が収納されており、該液ビン6内
には塗布液5が入れられている。液ビン6の上部には、
供給バイブ8および加圧パイプ7が接続されている。供
給バイブ8の途中部分には、熱交換バイブ30bが接続
されており、該熱交換バイブ30bには、多数の熱交換
板30aが取付けられている。熱交換板30aは、表面
積を大きすることによって、熱交換バイブ30bと外気
との間の熱交換を効率的に行なうためのものである。こ
の熱交換板30aおよび熱交換パイプ30bから、昇温
手段としての昇温ユニット30が構成されている。
するフォトレジスト等の薄膜の形成法としては、スピン
塗布法により基板上に薄膜を形成する方法が最も多く用
いられている。第2図は、スピン塗布法により基板上に
薄膜を形成するための従来のスピン塗布装置の主要部分
を示す概略構成図である。第2図において、塗布液貯蔵
庫20内には液ビン6が収納されており、該液ビン6内
には塗布液5が入れられている。液ビン6の上部には、
供給バイブ8および加圧パイプ7が接続されている。供
給バイブ8の途中部分には、熱交換バイブ30bが接続
されており、該熱交換バイブ30bには、多数の熱交換
板30aが取付けられている。熱交換板30aは、表面
積を大きすることによって、熱交換バイブ30bと外気
との間の熱交換を効率的に行なうためのものである。こ
の熱交換板30aおよび熱交換パイプ30bから、昇温
手段としての昇温ユニット30が構成されている。
供給バイブ8の先端には下方向に向かう塗布ノズル10
が取付けられており、この塗布ノズル10と昇温ユニッ
ト30との間の供給バイブ8部分には、電磁弁9が設け
られている。塗布ノズル10の下方には、スピンチャッ
ク2上に基板1が設けられており、これらのスピンチャ
ック2および基板1は、スピンカップ3内に納められて
いる。
が取付けられており、この塗布ノズル10と昇温ユニッ
ト30との間の供給バイブ8部分には、電磁弁9が設け
られている。塗布ノズル10の下方には、スピンチャッ
ク2上に基板1が設けられており、これらのスピンチャ
ック2および基板1は、スピンカップ3内に納められて
いる。
またスピンカップ3には、塗布液のドレインを排出する
ためのカップドレイン4が設けられている。
ためのカップドレイン4が設けられている。
このような従来のスピン塗布装置においては、通常、塗
布液5は低温に維持された塗布液貯蔵庫20内に保存さ
れている。加圧バイブ7内には外部から圧力がかけられ
ており、外部からの信号により電磁弁9が開くと、この
加圧バイブ7からの圧力により、塗布液5が供給バイブ
8内に供給される。供給バイブ8内を移動する塗布液5
は、昇温ユニット30の内部で、温度が常温にまで上昇
し、塗布ノズル10から基板1上に滴下される。
布液5は低温に維持された塗布液貯蔵庫20内に保存さ
れている。加圧バイブ7内には外部から圧力がかけられ
ており、外部からの信号により電磁弁9が開くと、この
加圧バイブ7からの圧力により、塗布液5が供給バイブ
8内に供給される。供給バイブ8内を移動する塗布液5
は、昇温ユニット30の内部で、温度が常温にまで上昇
し、塗布ノズル10から基板1上に滴下される。
昇温ユニット30内部で、塗布液5は熱交換板30aお
よび熱交換バイブ30bを介して、外部からの熱を吸収
し、昇温ユニット30の周囲温度、すなわち常温付近ま
でその温度が上昇する。
よび熱交換バイブ30bを介して、外部からの熱を吸収
し、昇温ユニット30の周囲温度、すなわち常温付近ま
でその温度が上昇する。
[発明が解決しようとする問題点]
このように、従来のスピン塗布装置では、塗布液の温度
を昇温するための熱は、昇温ユニット30とその周囲の
空気との間の熱交換によって与えられている。しかしな
がら、塗布液の基板への供給量を増加させると、昇温ユ
ニットから与えられる熱が、塗布液を常温に昇温するの
に不充分な量となり、保冷していた塗布液を常温に昇温
させることかできず、塗布液の温度が変動し塗布液の粘
度変化を来たし、一定の膜厚の塗布膜を形成することが
できなくなるという問題点があった。
を昇温するための熱は、昇温ユニット30とその周囲の
空気との間の熱交換によって与えられている。しかしな
がら、塗布液の基板への供給量を増加させると、昇温ユ
ニットから与えられる熱が、塗布液を常温に昇温するの
に不充分な量となり、保冷していた塗布液を常温に昇温
させることかできず、塗布液の温度が変動し塗布液の粘
度変化を来たし、一定の膜厚の塗布膜を形成することが
できなくなるという問題点があった。
この発明の目的は、かかる従来の問題点を解消し、塗布
液の供給量が増加しても、塗布液を常に一定の温度まで
昇温し、一定の膜厚の塗布膜を形成することのできるス
ピン塗布装置を提供することにある。
液の供給量が増加しても、塗布液を常に一定の温度まで
昇温し、一定の膜厚の塗布膜を形成することのできるス
ピン塗布装置を提供することにある。
[問題点を解決するための手段]
この発明のスピン塗布装置は、塗布液を常温より低い温
度に保冷するための保冷手段と、塗布液を基板上に滴下
する前に塗布液の温度を常温に上昇させるための昇温手
段とを備え、該昇温手段が、塗布液の温度を感知するセ
ンサと、該センサで感知した温度に対応して塗布液を加
温する加温手段とを有している。
度に保冷するための保冷手段と、塗布液を基板上に滴下
する前に塗布液の温度を常温に上昇させるための昇温手
段とを備え、該昇温手段が、塗布液の温度を感知するセ
ンサと、該センサで感知した温度に対応して塗布液を加
温する加温手段とを有している。
[作用]
この発明のスピン塗布装置では、昇温手段に塗布液の温
度を感知するセンサが設けられ、さらに該センサで感知
した温度に対応して塗布液を加温する加温手段が設けら
れているため、塗布液の供給量を増加させても、塗布液
の温度を常に常温に保つことができる。
度を感知するセンサが設けられ、さらに該センサで感知
した温度に対応して塗布液を加温する加温手段が設けら
れているため、塗布液の供給量を増加させても、塗布液
の温度を常に常温に保つことができる。
[実施例]
第1図は、この発明の一実施例を示す構成図である。第
1図において、塗布液貯蔵庫20内には、液ビン6が収
納されており、該液ビン6内には塗布液5が入れられて
いる。液ビン6の上方には供給バイブ8および加圧バイ
ブ7が設けられている。
1図において、塗布液貯蔵庫20内には、液ビン6が収
納されており、該液ビン6内には塗布液5が入れられて
いる。液ビン6の上方には供給バイブ8および加圧バイ
ブ7が設けられている。
供給バイブ8は上方に向かって延び、その途中部分には
、熱交換パイプ30bが設けられている。
、熱交換パイプ30bが設けられている。
熱交換パイプ30bには、表面積を大きくして熱交換を
効率的にするための熱交換板30aが取付けられている
。熱交換パイプ30bの上方に位置する供給パイプ8の
部分には、塗布液5の温度を感知するためのセンサ40
が取付けられている。
効率的にするための熱交換板30aが取付けられている
。熱交換パイプ30bの上方に位置する供給パイプ8の
部分には、塗布液5の温度を感知するためのセンサ40
が取付けられている。
センサ40は、コントロールユニット50に接続され、
コントロールユニット50はファン60のモータに接続
されている。
コントロールユニット50はファン60のモータに接続
されている。
熱交換板30aおよび熱交換パイプ30bから、昇温ユ
ニット30が構成されている。供給バイブ8の先端には
塗布ノズル10が取付けられており、塗布ノズル10と
昇温ユニット30との間の供給バイブ8の部分には、電
磁弁9が設けられている。
ニット30が構成されている。供給バイブ8の先端には
塗布ノズル10が取付けられており、塗布ノズル10と
昇温ユニット30との間の供給バイブ8の部分には、電
磁弁9が設けられている。
塗niノズル10の下方には、スピンチャック2上に載
せられた基板1が設置されている。これらの基板1およ
びスピンチャック2は、スピンカップ3内に入れられて
おり、スピンカップ3には、塗布液のドレインを排出す
るためのカップドレイン4が設けられている。
せられた基板1が設置されている。これらの基板1およ
びスピンチャック2は、スピンカップ3内に入れられて
おり、スピンカップ3には、塗布液のドレインを排出す
るためのカップドレイン4が設けられている。
加圧バイブ7から液ビン6内の塗布液5には、圧力が加
えられており、電磁弁9が外部からの信号により開くと
、この圧力により、塗布液5は供給バイブ8内に供給さ
れる。保冷されていた塗布液5は、昇温ユニット30内
を移動する間に、熱交換板30aおよび熱交換バイブ3
0bを介して与えられる熱により、徐々に常温にまで昇
温する。
えられており、電磁弁9が外部からの信号により開くと
、この圧力により、塗布液5は供給バイブ8内に供給さ
れる。保冷されていた塗布液5は、昇温ユニット30内
を移動する間に、熱交換板30aおよび熱交換バイブ3
0bを介して与えられる熱により、徐々に常温にまで昇
温する。
常温にまで昇温した塗布液5は、塗布ノズル10から基
板1上に滴下され、塗布膜となる。
板1上に滴下され、塗布膜となる。
センサ40では、昇温ユニット30を通過した直後の塗
布液の温度を感知し、これをコントロールユニット50
に信号として与える。センサ40で感知した塗布液の温
度が、所定の温度よりも低い場合には、コントロールユ
ニット50よりファン60に送風の信号が与えられ、フ
ァン60は回転して送風する。これにより、強制的に熱
交換板30aの表面に常温の空気が送られ、熱交換板3
0aの温度を常温に近づけ、塗布液5を所定の基準内の
温度にすることができる。
布液の温度を感知し、これをコントロールユニット50
に信号として与える。センサ40で感知した塗布液の温
度が、所定の温度よりも低い場合には、コントロールユ
ニット50よりファン60に送風の信号が与えられ、フ
ァン60は回転して送風する。これにより、強制的に熱
交換板30aの表面に常温の空気が送られ、熱交換板3
0aの温度を常温に近づけ、塗布液5を所定の基準内の
温度にすることができる。
熱交換板30aにおける熱交換は、気体と固体との間の
熱交換であるため、熱伝導率が悪く、塗/Ii液5の供
給量が増加すると、熱交換板30aに自然に流れ込む空
気の熱だけでは不充分となり、塗布液5を所定の基準内
の温度に昇温することができない。しかし、この実施例
のような装置を用いれば、熱交換板に強制送風するため
のファンが設けられており、このファンにより強制的に
多量の常温の空気が熱交換板に流れ込むため、塗布液の
供給量が増加しても、塗布液を所定の基準内の温度、す
なわち常温にすることができる。
熱交換であるため、熱伝導率が悪く、塗/Ii液5の供
給量が増加すると、熱交換板30aに自然に流れ込む空
気の熱だけでは不充分となり、塗布液5を所定の基準内
の温度に昇温することができない。しかし、この実施例
のような装置を用いれば、熱交換板に強制送風するため
のファンが設けられており、このファンにより強制的に
多量の常温の空気が熱交換板に流れ込むため、塗布液の
供給量が増加しても、塗布液を所定の基準内の温度、す
なわち常温にすることができる。
以上の実施例では、昇温手段である昇温ユニットの加温
手段として、熱交換板に強制送風するためのファンを有
するものを例示したが、この発明における加温手段はこ
のようなファンを有するものに限定されるものではない
。たとえば、加温手段として、ヒータ等の温調器を有す
るものを用い、この温調器を熱交換板に取付けて使用す
ることもできる。
手段として、熱交換板に強制送風するためのファンを有
するものを例示したが、この発明における加温手段はこ
のようなファンを有するものに限定されるものではない
。たとえば、加温手段として、ヒータ等の温調器を有す
るものを用い、この温調器を熱交換板に取付けて使用す
ることもできる。
[発明の効果コ
この発明のスピン塗布装置によれば、塗布液の供給量を
増加させても、常に塗布液の温度を常温に維持すること
ができるため、塗布直前の塗布液の温度制御を精度良く
行なうことができ、塗布液の粘度変化を抑制することが
できる。したがって、塗布膜の膜厚の分布を均一にする
ことができる。
増加させても、常に塗布液の温度を常温に維持すること
ができるため、塗布直前の塗布液の温度制御を精度良く
行なうことができ、塗布液の粘度変化を抑制することが
できる。したがって、塗布膜の膜厚の分布を均一にする
ことができる。
第1図は、この発明の一実施例を示す構成図である。第
2図は、従来のスピン塗布装置を示す構成図である。 図において、1は基板、2はスピンチャック、3はスピ
ンカップ、4はカップドレイン、5は塗布液、6は液ビ
ン、7は加圧バイブ、8は供給パイプ、9は電磁弁、1
0は塗布ノズル、20は塗布液貯蔵庫、30は昇温ユニ
ット、30aは熱交換板、30bは熱交換バイブ、40
はセンサ、50はコントロールユニット、60はファン
を示す。 なお、図中、同一符号は同一または相当部分を示す。
2図は、従来のスピン塗布装置を示す構成図である。 図において、1は基板、2はスピンチャック、3はスピ
ンカップ、4はカップドレイン、5は塗布液、6は液ビ
ン、7は加圧バイブ、8は供給パイプ、9は電磁弁、1
0は塗布ノズル、20は塗布液貯蔵庫、30は昇温ユニ
ット、30aは熱交換板、30bは熱交換バイブ、40
はセンサ、50はコントロールユニット、60はファン
を示す。 なお、図中、同一符号は同一または相当部分を示す。
Claims (2)
- (1)塗布液を常温より低い温度に保冷するための保冷
手段と、前記塗布液を基板上に滴下する前に塗布液の温
度を常温に上昇させるための昇温手段とを備え、基板上
に塗布液を滴下して塗布膜を形成するスピン塗布装置に
おいて、 前記昇温手段が、前記塗布液の温度を感知するセンサと
、該センサで感知した温度に対応して前記塗布液を加温
する加温手段とを有する、スピン塗布装置。 - (2)前記昇温手段が熱交換板を有し、前記加温手段に
該熱交換板に強制送風するためのファンが設けられてい
る、特許請求の範囲第1項記載のスピン塗布装置。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP29135187A JPH01130758A (ja) | 1987-11-17 | 1987-11-17 | スピン塗布装置 |
US07/212,229 US4886012A (en) | 1987-06-30 | 1988-06-27 | Spin coating apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP29135187A JPH01130758A (ja) | 1987-11-17 | 1987-11-17 | スピン塗布装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01130758A true JPH01130758A (ja) | 1989-05-23 |
Family
ID=17767803
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP29135187A Pending JPH01130758A (ja) | 1987-06-30 | 1987-11-17 | スピン塗布装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01130758A (ja) |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5946164A (ja) * | 1982-09-08 | 1984-03-15 | Oki Electric Ind Co Ltd | 有機高分子溶液の塗布装置 |
JPS60160614A (ja) * | 1984-01-31 | 1985-08-22 | Toshiba Corp | レジスト塗布方法および装置 |
JPS62222635A (ja) * | 1986-03-25 | 1987-09-30 | Toshiba Corp | レジスト塗布装置 |
-
1987
- 1987-11-17 JP JP29135187A patent/JPH01130758A/ja active Pending
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5946164A (ja) * | 1982-09-08 | 1984-03-15 | Oki Electric Ind Co Ltd | 有機高分子溶液の塗布装置 |
JPS60160614A (ja) * | 1984-01-31 | 1985-08-22 | Toshiba Corp | レジスト塗布方法および装置 |
JPS62222635A (ja) * | 1986-03-25 | 1987-09-30 | Toshiba Corp | レジスト塗布装置 |
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