JPH01128338A - Surface observer - Google Patents

Surface observer

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Publication number
JPH01128338A
JPH01128338A JP28325687A JP28325687A JPH01128338A JP H01128338 A JPH01128338 A JP H01128338A JP 28325687 A JP28325687 A JP 28325687A JP 28325687 A JP28325687 A JP 28325687A JP H01128338 A JPH01128338 A JP H01128338A
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JP
Japan
Prior art keywords
secondary electron
data
sample
bit mask
lookup table
Prior art date
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Pending
Application number
JP28325687A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Takanori Shimura
隆則 志村
Yoshimi Kawanami
義実 川浪
Toru Ishitani
亨 石谷
Kaoru Umemura
馨 梅村
Yasuhiro Mitsui
泰裕 三井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
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Publication of JPH01128338A publication Critical patent/JPH01128338A/en
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Abstract

PURPOSE:To make a clear-cut image displayable at high speed by setting up a bit mask circuit, nullifying a bit inclusive of noise, in secondary electron data collector part, and installing a color lookup table circuit, capable of selecting optional several colors, in an image display part. CONSTITUTION:Prior to starting a data collection, a main control part 1 specifies a gain of a gain control part 15. A beam 5 is subjected to test scanning and, after gain setting is over, whether what degree of a noise component is in secondary electron data is checked. Next, the main control part 1 indicates a bit mask circuit 18 that how many subordinate bits should be nullified. With this indication, the bit mask circuit 18 removes the specified noise component. In addition, a color lookup table 27 specifies a display color corresponding to intensity of a secondary electron. When it wants to emphasize an optional part, this case will be done by rewriting of the color lookup table. With this constitution, the optional part on a sample can be emphasized and displayed by only collecting the secondary electron intensity data discharged out of the sample one time.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は荷電粒子ビームを走査して、半導体基板上等の
凹凸や段差を116する試料表面wt祭装置に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a sample surface wt detection apparatus that scans a charged particle beam to remove irregularities and steps on a semiconductor substrate.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

最近、超LSI素子の製造、不良解析および性能測定の
ために半導体基板上の任意の位置へのイオン打込みや加
工、また、任意の位置への電子ビーム照射による二次電
子や反射電子の測定を高精度で行なうことが要求されて
いる。このために、荷電ビームを走査し、所望の特定部
分に照射し。
Recently, for the production, failure analysis, and performance measurement of VLSI devices, ion implantation and processing at arbitrary positions on semiconductor substrates, and measurement of secondary electrons and backscattered electrons by electron beam irradiation at arbitrary positions have been developed. High precision is required. For this purpose, the charged beam is scanned and irradiated onto the desired specific area.

該照射部から放出される二次電子の強度を測定して半導
体基板の表面を観察し、実際の半導体基板との対応や位
置合わせを高精度で行なう技術が必須である。
A technique is essential for observing the surface of a semiconductor substrate by measuring the intensity of the secondary electrons emitted from the irradiation part, and for performing correspondence and alignment with the actual semiconductor substrate with high precision.

第2図は従来の試料表面w4察装置の基本構成図である
。ここでの荷電粒子はイオンである。本装置の本体部は
、月刊セミコンダクターワールド。
FIG. 2 is a basic configuration diagram of a conventional sample surface W4 detection device. The charged particles here are ions. The main body of this device is Monthly Semiconductor World.

1983年11月号、第52頁から第57頁に論じられ
ているように、イオン源3から引出されたイオンを静電
レンズ4で集束し、イオンマイクロビーム(以下ビーム
と略称する)5を形成し、試料6に照射するようになっ
ている。ここで、1は試料表面観察装置全体を制御する
主制御部で、2は内部バスである。主制御部2の指示に
応じて、偏向制御部10は偏向器7に偏向信号11を発
生し、ビーム5を試料6上で走査する。ビーム5の照射
によって試料6から二次電子eが放出され、二次電子検
出器8で検出される。なお、破線で示した9は真空容器
である。二次電子データ収集部13は、データ収集制御
部14.ゲイン制御部15、A/D変換部16.バッフ
ァメモリ17で構成される。
As discussed in the November 1983 issue, pages 52 to 57, ions extracted from the ion source 3 are focused by an electrostatic lens 4 to form an ion microbeam (hereinafter referred to as beam) 5. The sample 6 is irradiated with the laser beam. Here, 1 is a main control unit that controls the entire sample surface observation apparatus, and 2 is an internal bus. In response to instructions from the main controller 2, the deflection controller 10 generates a deflection signal 11 to the deflector 7, and scans the beam 5 over the sample 6. Secondary electrons e are emitted from the sample 6 by the irradiation with the beam 5 and are detected by the secondary electron detector 8. Note that 9 indicated by a broken line is a vacuum container. The secondary electronic data collection section 13 includes a data collection control section 14. Gain control section 15, A/D conversion section 16. It is composed of a buffer memory 17.

データ収集を開始する前に主制御部1は、ゲイン制御部
15のゲインを指定する。ゲイン制御部15は二次電子
の強度21を任意の振幅を持つ二次電子アナログデータ
22に変換する。データ収集は、偏向制御部10からの
偏向同期信号12のタイミングに応じて行ない、データ
収集制御部14はA/D変換部16にデータ収集信号1
9を発生し、二次電子アナログデータ22を二次電子デ
ジタルデータ(以下二次電子データと略称する)23に
変換し、データ格納信号20のタイミングで二次電子デ
ータ23をバッファメモリ17に格納する。
Before starting data collection, the main control section 1 specifies the gain of the gain control section 15. The gain control unit 15 converts the intensity 21 of the secondary electrons into secondary electron analog data 22 having an arbitrary amplitude. Data collection is performed according to the timing of the deflection synchronization signal 12 from the deflection control section 10, and the data collection control section 14 sends the data collection signal 1 to the A/D conversion section 16.
9, converts the secondary electron analog data 22 into secondary electron digital data (hereinafter referred to as secondary electron data) 23, and stores the secondary electron data 23 in the buffer memory 17 at the timing of the data storage signal 20. do.

画像表示部24はグラフィックメモリ25.グラフィッ
ク制御部26.カラールックアップテーブル(以下CL
Tと略称する)27とCRTインタフェース28.CR
T29から成る。データ収集終了後主制御部1はバッフ
ァメモリ17内に格納された二次電子データ23をグラ
フィックメモリ25に転送する。グラフィック制御部2
6はグラフィックメモリ25内の二次電子データ23′
を読出し、CLT27に二次電子データ23′を与える
。CLT27は二次電子データ23′に応じてCRTイ
ンタフェース28にRGB信号30を与える。CRTイ
ンタフェース28はRGB信号30’ をCRT29に
与え、CRT29上に試料表面の像が表示でき葛。
The image display section 24 has a graphic memory 25. Graphic control unit 26. Color lookup table (CL
(abbreviated as T) 27 and CRT interface 28. CR
Consists of T29. After data collection is completed, the main control unit 1 transfers the secondary electronic data 23 stored in the buffer memory 17 to the graphic memory 25. Graphic control section 2
6 is secondary electronic data 23' in the graphic memory 25
is read out and the secondary electronic data 23' is given to the CLT 27. The CLT 27 provides an RGB signal 30 to the CRT interface 28 in response to the secondary electronic data 23'. The CRT interface 28 supplies RGB signals 30' to the CRT 29, and an image of the sample surface can be displayed on the CRT 29.

次にカラールックアップテーブル(以下CLTと略称す
る)について詳しく説明する。CLTの構成を第3図に
示す。35はCLTの配列で、二次電子データ23はC
LTの配列のアドレスに一致する。CRTに表示される
色は赤R2緑G、青Bの3つの値で決まる。32,33
.34はそれぞれ赤R9緑G、青Bの値である。各配列
のビット数をmとすると 25+m色の色を作ることが
できる。配列の大きさを2nとすると、−度に表示でき
る色の数は2n色である。ここで、二次電子データ23
のビット数をnとすると、二次電子データ23は2″階
調の色でCRTに表示される。
Next, the color lookup table (hereinafter abbreviated as CLT) will be explained in detail. The configuration of the CLT is shown in FIG. 35 is the CLT array, and the secondary electron data 23 is CLT.
Matches the address of the LT array. The color displayed on the CRT is determined by three values: red, R, green, and blue. 32, 33
.. 34 are the values of red R, green G, and blue B, respectively. If the number of bits in each array is m, 25+m colors can be created. If the size of the array is 2n, the number of colors that can be displayed per degree is 2n. Here, secondary electronic data 23
When the number of bits is n, the secondary electronic data 23 is displayed on the CRT in 2'' gradation color.

従来の画像表示部にはCLTがなかったり、また配置し
ていてもCLTの内容が固定していた。
Conventional image display units do not have CLTs, or even if they do have CLTs, the contents of the CLTs are fixed.

従来のCLTの色の割付は例を第4図に示す。ある単一
色に対して、濃い色から薄い色まで2n階調の割付けだ
けを行なっていた。
An example of the color allocation of conventional CLT is shown in FIG. For a single color, only 2n gradations from dark to light were assigned.

次に、二次電子像表示手順を示す。試料の表面の像をC
RTに表示するためにゲイン制御部15のゲインの設定
を行なう。まず、試料の表面をテスト走査し、二次電子
データ23の最大値が二次電子データ23の取れる範囲
の上限の80%〜90%になるようにゲイン制御部15
を設定する。
Next, a procedure for displaying a secondary electron image will be described. The image of the surface of the sample is C
The gain of the gain control section 15 is set for display on RT. First, the surface of the sample is test scanned, and the gain control unit 15 is set so that the maximum value of the secondary electron data 23 becomes 80% to 90% of the upper limit of the range in which the secondary electron data 23 can be obtained.
Set.

第4図に示したようにCLTに色を割付けであるため、
上記のゲイン設定方法では、段差や凹凸が大きい部分は
強調されてはっきり見えるが、段差や凹凸の小さい部分
は像のコントラストがはっきりせず、像が分かりずらか
った。そこで、段差の小さい部分つまりコントラストの
弱い部分をはっきり見たい場合には、段差の小さい部分
の二次電子データ23の値が二次電子データ23の取れ
る範囲の上限の80%〜90%になるようにゲイン制御
部15を再度設定しなおしていた。
Since colors are assigned to CLT as shown in Figure 4,
With the gain setting method described above, areas with large steps and unevenness are emphasized and clearly visible, but areas with small steps and unevenness lack clear image contrast and are difficult to discern. Therefore, if you want to clearly see a part with a small step, that is, a part with weak contrast, the value of the secondary electron data 23 of the part with a small step should be 80% to 90% of the upper limit of the range that the secondary electron data 23 can take. The gain control section 15 had to be set again.

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problem that the invention seeks to solve]

しかしながら、上記の試料表面観察装置では、試料の表
面の状態によってゲインの設定値を変え。
However, in the sample surface observation device described above, the gain setting value is changed depending on the condition of the sample surface.

その度に試料の表面を走査しなければならない。The surface of the sample must be scanned each time.

このため、試料の表面を汚染したり、試料の表面がチャ
ージアップして、二次電子データの像が見えなくなった
りした。また、1024X1024ドツトの画面に豫を
表示する場合には、1点当り5μsとしう高速で走査し
ても5秒間もかかり、また、バッファメモリ17とグラ
フィックメモリ25間のデータ転送時間を考慮すると一
画面の表示に一数秒かかり、何回も走査すると待ち時間
が長くなるという問題があった。
As a result, the surface of the sample was contaminated, or the surface of the sample was charged up, making it impossible to see images of secondary electron data. Furthermore, when displaying a 1024 x 1024 dot screen, it takes about 5 seconds even if scanning is performed at a very high speed of 5 μs per point, and considering the data transfer time between the buffer memory 17 and the graphic memory 25, There was a problem that it took several seconds for the screen to be displayed, and the waiting time increased when scanning was performed many times.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

本発明の目的は、従来技術での上記不都合を除去し、試
料上の段差や凹凸の小さな部分やゆるやかな傾斜に関し
てもコントラストのはつきりする像を高速で表示できる
試料表面観察装置を提供することにある。
An object of the present invention is to provide a sample surface observation device that eliminates the above-mentioned disadvantages of the prior art and can display high-contrast images at high speed even on small steps, uneven parts, and gentle slopes on the sample. There is a particular thing.

上記目的を達成するために本発明においては、荷電粒子
源から引出された荷電粒子を集束して得られる荷電ビー
ムを走査して試料に照射し、試料から放出される二次電
子を検出し、その二次電子の強度から試料の表面を観察
する装置において、二次電子データ収集部のA/D変換
回路の後にノイズを含むビットを無効にするビットマス
ク回路を配置し、また、画像表示部に画面の表示色を多
色の中から任意の数色選択できるカラールックアップテ
ーブル回路を有する構成を採用した。
In order to achieve the above object, the present invention scans and irradiates a sample with a charged beam obtained by focusing charged particles extracted from a charged particle source, and detects secondary electrons emitted from the sample. In an apparatus that observes the surface of a sample from the intensity of secondary electrons, a bit mask circuit for disabling bits containing noise is placed after the A/D conversion circuit of the secondary electron data collection section, and the image display section We adopted a configuration that includes a color look-up table circuit that allows you to select any number of colors to display on the screen.

〔作用〕[Effect]

カラールックアップテーブルは、二次電子の強度に対応
して表示色の指定を行なう。任意の部分を強調したい場
合にはカラールックアップテーブルの書換えだけで行な
える。また、ビットマスク回路は、ノイズ成分を除去す
る。これにより、試料表面の小さな凹凸や段差を強調す
る場合、すなわち、二次電子データの下位ビットを強調
するときに、ノイズの成分まで強肩されて表示されるの
を防ぐものである。
The color lookup table specifies display colors in accordance with the intensity of secondary electrons. If you want to emphasize any part, you can do so simply by rewriting the color lookup table. Further, the bit mask circuit removes noise components. This prevents noise components from being emphasized and displayed when emphasizing small irregularities or steps on the sample surface, that is, when emphasizing the lower bits of secondary electron data.

この効果により、本発明は、試料の表面の任意の部分を
強調して表示する場合に、二次電子検出器に接続するゲ
イン制御部のゲインを変えて荷重ビームを再走査し、二
次電子データの収集を何回も行なう必要がなく、試料の
表面の汚染やチャージアップを最少にすることができる
。また、任意の部分の強調を高速にできる。
Due to this effect, when displaying an arbitrary part of the surface of the sample with emphasis, the present invention rescans the load beam by changing the gain of the gain control section connected to the secondary electron detector, and displays the secondary electrons. There is no need to collect data many times, and contamination and charge-up on the sample surface can be minimized. Additionally, any part can be highlighted at high speed.

〔実施例〕〔Example〕

以下、本発明の一実施例を第1図により説明する。ここ
で荷電粒子はイオンとする。1は試料表面@察装置全体
を制御する主制御部で、2は内部バスである。イオン源
3は輝度の高い液体金属イオン源であり、そこから引出
されたイオンは静電レンズ4により集束され、そのビー
ム5が試料6に照射される。なお、試料表面wt察装置
としては、ビームのオン・オフ制御のためにブランキン
グ電極がイオン光学系の途中に設けであるが、第1図で
は省略しである。
An embodiment of the present invention will be described below with reference to FIG. Here, the charged particles are assumed to be ions. 1 is a main control unit that controls the entire sample surface inspection device, and 2 is an internal bus. The ion source 3 is a high-brightness liquid metal ion source, and ions extracted therefrom are focused by an electrostatic lens 4, and a beam 5 thereof is irradiated onto a sample 6. In the sample surface wt detection device, a blanking electrode is provided in the middle of the ion optical system for beam on/off control, but it is omitted in FIG.

主制御部1の指示に応じて、偏向制御部10は偏向器7
に対して偏向信号11を発生し、ビーム5を試料6上に
走査する。ビーム5の照射によって、試料から二次電子
eが放出され二次電子検出器8で検出される。ここで、
9は真空容器である。
In response to instructions from the main controller 1, the deflection controller 10 controls the deflector 7.
A deflection signal 11 is generated for the sample 6, and the beam 5 is scanned onto the sample 6. By irradiating the beam 5, secondary electrons e are emitted from the sample and detected by the secondary electron detector 8. here,
9 is a vacuum container.

二次電子データ収集部13は、データ収集制御部14.
ゲイン制御部15.A/D変換部16゜ビットマスク回
路18.バッファメモリ17から構成される。データ収
集を開始する前に主制御部1はゲイン制御部15のゲイ
ンを指定する。ゲイン制御部15は二次電子の強度21
を任意の振幅を持つ二次電子アナログデータ22に変換
する。
The secondary electronic data collection section 13 includes a data collection control section 14.
Gain control section 15. A/D converter 16° bit mask circuit 18. It is composed of a buffer memory 17. Before starting data collection, the main control section 1 specifies the gain of the gain control section 15. The gain control unit 15 controls the intensity 21 of secondary electrons.
is converted into secondary electron analog data 22 having an arbitrary amplitude.

ビーム5をテスト走査し、ゲインの設定が終了後に、二
次電子データにノイズ成分がどの程度あるか調べる。主
制御部1はビットマスク回路18に下位何ビットを無効
にするか指示する。
After performing a test scan with the beam 5 and completing the gain setting, it is determined how much noise component there is in the secondary electron data. The main control unit 1 instructs the bit mask circuit 18 how many lower bits are to be invalidated.

ここで、ビットマスク回路18の構成図を第5図に示し
て説明する。ビットマスク回路18はビットマスクレジ
スタ36とAND回路37で構成される。ここでは内部
バス2のバス幅を16ビツトとしている。主制御部1は
ビットマスクレジスタ36にデータをセットする。1が
セットさ九たビットのデータは有効となり、0がセット
されたビットのデータが無効になるとする。二次電子デ
ータ23のビット数をnビットする。ただし、n(16
とする。今、二次電子データ23の下位1ビツトにノイ
ズ成分を含んでいるとすると、ビットマスクレジスタ3
6には16進数でFFFEをセットすれば良い。ビット
マスク回路の出力である二次電子データ31の下位1ビ
ツトは無効、すなわちゼロとなる。
Here, a configuration diagram of the bit mask circuit 18 is shown in FIG. 5 and explained. The bit mask circuit 18 is composed of a bit mask register 36 and an AND circuit 37. Here, the bus width of the internal bus 2 is 16 bits. The main control unit 1 sets data in the bit mask register 36. It is assumed that data in bits set to 1 is valid, and data in bits set to 0 is invalid. The number of bits of the secondary electron data 23 is set to n bits. However, n(16
shall be. Now, assuming that the lower 1 bit of the secondary electron data 23 contains a noise component, the bit mask register 3
6 should be set to FFFE in hexadecimal. The lower one bit of the secondary electronic data 31, which is the output of the bit mask circuit, is invalid, that is, zero.

ふたたび第1図の説明に戻る。データ収集は、偏向制御
部10からの偏向同期信号12のタイミングに応じて行
ない、データ収集制御部14は。
Returning to the explanation of FIG. 1 again. Data collection is performed according to the timing of the deflection synchronization signal 12 from the deflection control section 10, and the data collection control section 14.

A/D変換部16にデータ収集信号19を発生し、二次
電子アナログデータ22を二次電子データ23に変換す
る。ビットマスク回路18の出力である二次電子データ
31はデータ格納信号20のタイミングでバッファメモ
リ17に格納される。
A data collection signal 19 is generated in the A/D converter 16 to convert the secondary electronic analog data 22 into secondary electronic data 23. Secondary electronic data 31, which is the output of the bit mask circuit 18, is stored in the buffer memory 17 at the timing of the data storage signal 20.

画像表示部24はグラフィックメモリ25.グラフィッ
ク制御部26.CLT27.CRTインタフェース28
.CRT29から構成される。データ収集終了後主制御
部1はバッファメモリ17内に格納された二次電子デー
タ31をグラフィックメモリ25に転送する。グラフィ
ック制御部26はグラフィックメモリ25内の二次電子
データ31′を読出し、CLT27に二次電子データ3
1′を与える。CLT27は二次電子データ31′に応
じて、CRTインタフェース28にRGB信号30を与
える。CRTインタフェース28はRGB信号30′を
CRT29に与え。
The image display section 24 has a graphic memory 25. Graphic control unit 26. CLT27. CRT interface 28
.. It is composed of CRT29. After data collection is completed, the main control unit 1 transfers the secondary electronic data 31 stored in the buffer memory 17 to the graphic memory 25. The graphic control unit 26 reads out the secondary electronic data 31' in the graphic memory 25 and inputs the secondary electronic data 3 to the CLT 27.
1' is given. The CLT 27 provides an RGB signal 30 to the CRT interface 28 in accordance with the secondary electronic data 31'. CRT interface 28 provides RGB signals 30' to CRT 29.

CRT29上に試料表面の像が表示される。An image of the sample surface is displayed on the CRT 29.

最初に像を表示する場合のカラールックアップテーブル
の指定例を第6図の(a)に示す。二次電子データ31
は下位1ビツトが無効であるとする。この場合奇数値の
二次電子データ31はなくなるので、カラールックアッ
プテーブルの奇数番地は使用されない。表示色は2次電
子データ31の値がOのとき最も簿<、2” −2のと
き最も濃くし、その間がリニアな色の階調になるように
設定した。このようにすると凹凸や段差の大きい部分が
強調される。
An example of specifying a color lookup table when displaying an image for the first time is shown in FIG. 6(a). Secondary electronic data 31
Assume that the lower 1 bit is invalid. In this case, there is no odd-valued secondary electron data 31, so the odd-numbered addresses of the color lookup table are not used. The display color is set to be the darkest when the value of the secondary electronic data 31 is O, and the darkest when it is 2" -2, and to have a linear color gradation between them. By doing this, unevenness and steps are displayed. The large part of is emphasized.

次に第6図の(b)に凹凸や段差の小さい部分を強調す
る例を示す。二次電子データ31が2”瓢よりも小さい
データを強調する場合を考える。ただし、O< i <
 nである。ここでも(a)と同様に二次電子データ3
1の下位1ビツトが無効であるとする。まず、二次電子
データ31の値で2”−2のよりも大きいものは全て同
色で表示する。そして、二次電子データ31が0から2
n−t−2の範囲のとき、表示色にリニアな階調が付く
ようにカラールックアップテーブルを指定する。
Next, FIG. 6(b) shows an example of emphasizing portions with small irregularities and steps. Consider a case where secondary electron data 31 emphasizes data smaller than 2". However, O< i <
It is n. Here, as in (a), secondary electron data 3
Assume that the lower 1 bit of 1 is invalid. First, all secondary electron data 31 values larger than 2''-2 are displayed in the same color.
When the range is n-t-2, the color lookup table is specified so that the displayed color has linear gradation.

第6図の(C)に凹凸や段差の小さい部分、つまりコン
トラストの弱い部分を強調する第2の例を示す、ここで
も(a)と同様に二次電子データ31の下位1ビツトが
無効であるとする。二次電子データ31の表示色がひと
つおきに同色となるようにカラールックアップテーブル
を指定する。
FIG. 6(C) shows a second example of emphasizing areas with small unevenness or steps, that is, areas with weak contrast. Here, as in (a), the lower 1 bit of the secondary electronic data 31 is invalid. Suppose there is. A color lookup table is specified so that every other piece of secondary electronic data 31 is displayed in the same color.

ここでは小さい順に白、黒、白、黒となるように指定し
た。このようなカラールックアップテーブルを指定する
と第7図に示すような白39と黒40の2色の縞の二次
電子像ができる。縞が等高線と同じ働きをして、縞の間
隔により試料表面の微少な傾きや段差が分かる。
Here, the colors are specified to be white, black, white, and black in descending order. When such a color lookup table is specified, a secondary electron image of stripes of two colors, white 39 and black 40, as shown in FIG. 7 is created. The fringes act in the same way as contour lines, and the spacing between the fringes reveals minute inclinations and steps on the sample surface.

さらに、縞に色の濃度の階調を付けることも可能である
Furthermore, it is also possible to add gradations of color density to the stripes.

次に、二次電子像の表示時間に関し、具体的数値例を挙
げる。イオン源としてGa液体金属イオン源を用い、イ
オンマイクロビームは16 K e VGa+ビームで
あり、ビーム径は0.5μm、電流密度は0.3A/c
dである。1024X1024ドツトの画面に表示する
データは1メガ点である。
Next, specific numerical examples will be given regarding the display time of the secondary electron image. A Ga liquid metal ion source was used as the ion source, the ion microbeam was a 16 K e VGa+ beam, the beam diameter was 0.5 μm, and the current density was 0.3 A/c.
It is d. The data displayed on the 1024 x 1024 dot screen is 1 mega point.

1点当りのビーム照射時間を5μSとすると、1メガ点
の照射に5秒かかる。また、バッファメモIJ17とグ
ラフィックメモリ25間のデータ転送時間を考慮すると
一画面の表示に士数秒かかる。
If the beam irradiation time per point is 5 μS, it takes 5 seconds to irradiate 1 mega point. Furthermore, considering the data transfer time between the buffer memo IJ 17 and the graphic memory 25, it takes several seconds to display one screen.

この後に、画面の任意の部分を強調する場合には、カラ
ールックアップテーブルを書換えるだけで良いので1秒
以下でできることが判った。
After this, if you want to emphasize any part of the screen, you only need to rewrite the color lookup table, so it was found that this can be done in less than 1 second.

以上の実施例では、試料照射の荷電粒子がイオンの場合
であったが、電子の場合に対しても同様な効果が得られ
ることが判った。
In the above embodiments, the charged particles irradiating the sample were ions, but it was found that similar effects could be obtained when the charged particles were electrons.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上説明したように、本発明によれば、試料表面IjI
察装置において、荷電ビームの走査によって、試料から
放出された二次電子強度データを1回収集するだけで、
試料上の任意の部分を強調して表示できる。この結果、
試料の表面の汚染やチャージアップを最少にできる。ま
た、試料上の任意の二次電子強度の部分の強肩に要する
時間が短縮でき、高能率化が可能となる。
As explained above, according to the present invention, the sample surface IjI
By simply collecting the intensity data of the secondary electrons emitted from the sample once by scanning the charged beam in the detection device,
Any part on the sample can be highlighted and displayed. As a result,
Contamination and charge-up on the sample surface can be minimized. Furthermore, the time required to increase the intensity of any part of the secondary electron intensity on the sample can be shortened, making it possible to increase efficiency.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明の一実施例の全体構成を示すブロック図
、第2図は従来装置の全体構成を示すブロック図、第3
図はルックアップテーブルの説明図、第4回、第6図は
ルックアップテーブルにデータを指定した例を示す説明
図、第5図はビットマスク回路の構成図、第7図は本発
明の詳細な説明する二次電子像である。 1・・・主制御部、2・・・内部バス、3・・・イオン
源、4・・・静電レンズ、5・・・イオンマイクロビー
ム、6・・・試料、7・・・偏向器、8・・・二次電子
検出器、9・・・真空容器、10・・・偏向制御部、1
3・・・二次電子データ収集部、14・・・データ収集
制御部、15・・・ゲイン制御部、16・・・A/D変
換部、17・・・バッファメモリ、18・・・ビットマ
スク回路、24・・・画像表示部、25・・・グラフィ
ックメモリ、16・・・グラフィック制御部、27・・
・カラールックアップテーブル、28−CRTインタフ
ェース、29 ・CRT。 32・・・赤色データ、33・・・緑色データ、34・
・・青色データ、35・・・カラールックアップテーブ
ル配列、36・・・ビットマスクレジスタ、37・・・
ANDゲート、38・・・二次電子像、39・・・白色
エリア。 茅1 図 井2図 茅3図 茅4図 芹5図
Figure 1 is a block diagram showing the overall configuration of an embodiment of the present invention, Figure 2 is a block diagram showing the overall configuration of a conventional device, and Figure 3 is a block diagram showing the overall configuration of a conventional device.
The figure is an explanatory diagram of a lookup table, Part 4 and Figure 6 are explanatory diagrams showing an example of specifying data in a lookup table, Figure 5 is a configuration diagram of a bit mask circuit, and Figure 7 is a detailed explanation of the present invention. This is a secondary electron image to explain. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1... Main control part, 2... Internal bus, 3... Ion source, 4... Electrostatic lens, 5... Ion microbeam, 6... Sample, 7... Deflector , 8... Secondary electron detector, 9... Vacuum container, 10... Deflection control unit, 1
3... Secondary electron data collection section, 14... Data collection control section, 15... Gain control section, 16... A/D conversion section, 17... Buffer memory, 18... Bit Mask circuit, 24... Image display unit, 25... Graphic memory, 16... Graphic control unit, 27...
- Color lookup table, 28-CRT interface, 29 - CRT. 32...Red data, 33...Green data, 34.
...Blue data, 35...Color lookup table array, 36...Bit mask register, 37...
AND gate, 38...Secondary electron image, 39...White area. Kaya 1 Figure Well 2 Figure Kaya 3 Figure Kaya 4 Figure Seri 5

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、荷電粒子源から引出された荷電粒子を集束した荷電
ビームを走査し、試料の表面に照射する偏向制御部と、
荷電粒子の照射により上記試料から放出される二次電子
を検出し、その二次電子の強度をデジタル値に変換して
取込む二次電子データ収集部と、その二次電子データを
画面に表示する画像表示部とから成る試料表面観察装置
において、二次電子データ収集部のA/D変換回路の後
にノイズ成分を含むビットを無効にするビットマスク回
路を配置し、また、画像表示部に画面の表示色を多色の
中から任意数、色選択できるカラールックアップテーブ
ル回路を有することを特徴とする表面観察装置。 2、前記ビットマスク回路と、前記カラールックアップ
テーブル回路により、前記画像表示部の表示画面に収集
した二次電子データを表示する方法において、表示画面
に収集した二次電子データの大きさに応じて、リニアに
階調表示する第1のモードと、収集した二次電子データ
の特定の複数ビットをマスクすることによつて、収集デ
ータの特定の数値範囲を強調して表示する第2のモード
のいずれかを選択する表示ステップを含むことを特徴と
する特許請求の範囲第1項記載の表面観察装置。
[Claims] 1. A deflection control unit that scans a charged beam in which charged particles extracted from a charged particle source are focused and irradiates the surface of a sample;
A secondary electron data collection unit that detects secondary electrons emitted from the sample by irradiation with charged particles, converts the intensity of the secondary electrons into digital values, and displays the secondary electron data on the screen. In a sample surface observation device consisting of an image display section and an image display section, a bit mask circuit for disabling bits containing noise components is placed after the A/D conversion circuit of the secondary electron data acquisition section, and a screen 1. A surface observation device comprising a color look-up table circuit capable of selecting an arbitrary number of display colors from a plurality of colors. 2. In the method of displaying the collected secondary electron data on the display screen of the image display section using the bit mask circuit and the color lookup table circuit, depending on the size of the secondary electron data collected on the display screen, A first mode in which gradation is displayed linearly, and a second mode in which a specific numerical range of the collected data is emphasized and displayed by masking specific multiple bits of the collected secondary electron data. 2. The surface observation device according to claim 1, further comprising a display step of selecting one of the following.
JP28325687A 1987-11-11 1987-11-11 Surface observer Pending JPH01128338A (en)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2004105077A1 (en) * 1999-02-24 2004-12-02 Katsuto Goto High-density recording scanning microscope

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2004105077A1 (en) * 1999-02-24 2004-12-02 Katsuto Goto High-density recording scanning microscope

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