JPH011266A - semiconductor equipment - Google Patents

semiconductor equipment

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JPH011266A
JPH011266A JP62-155475A JP15547587A JPH011266A JP H011266 A JPH011266 A JP H011266A JP 15547587 A JP15547587 A JP 15547587A JP H011266 A JPH011266 A JP H011266A
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tab
resin
semiconductor device
lead
semiconductor
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JP62-155475A
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Japanese (ja)
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JPS641266A (en
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英生 三浦
西村 朝雄
誠 北野
昭弘 矢口
末男 河合
Original Assignee
株式会社日立製作所
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Publication date
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Publication of JPS641266A publication Critical patent/JPS641266A/en
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、樹脂封止型半導体装置に係り、特にリフロー
工程における装置の樹脂割れを防止するのに好適な半導
体装置構造に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a resin-sealed semiconductor device, and particularly to a semiconductor device structure suitable for preventing resin cracking of the device during a reflow process.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

従来の半導体装置においては、特開昭57−17275
6号公報記載のように半導体素子と素子搭載用フレーム
との接着及びボンディングワイヤと外部リードの接合を
良好にするために、素子搭載用フレームの素子搭載面及
び外部リードのワイヤ接合部に貴金属の被膜(主に金(
、A u )あるいは銀(Ag))が設けられていたが
、貴金属被膜と封止樹脂の接着性が良くないため、装置
の耐湿信頼性の向上を図ることを目的に被膜を設ける領
域を素子搭載用フレーム周辺に限っていた。
Regarding conventional semiconductor devices, Japanese Patent Application Laid-Open No. 57-17275
As described in Publication No. 6, in order to improve the adhesion between the semiconductor element and the element mounting frame and the bonding between the bonding wire and the external leads, precious metals are applied to the element mounting surface of the element mounting frame and the wire joints of the external leads. Coating (mainly gold (
, Au ) or silver (Ag)), but since the adhesion between the noble metal coating and the sealing resin is poor, the area where the coating is provided is used to improve the moisture resistance and reliability of the device. It was limited to the area around the mounting frame.

一方、半導体装置をプリント基板等に半田実装する際に
は、リフロー工程において赤外線やフッ素系不活性液体
蒸気により装置全体が加熱される。
On the other hand, when a semiconductor device is soldered onto a printed circuit board or the like, the entire device is heated by infrared rays or fluorine-based inert liquid vapor in a reflow process.

この時、装置の内部温度は200°C以上の高温となり
、樹脂封止型半導体装置においては樹脂の吸湿等により
装置内部に水分が存在するためにこの水分か急激に気化
し、装置内部に数十気圧にも達する蒸気圧を発生させる
。この蒸気圧により装置内部に応力が発生し、特に品温
(〉〜150°C)で強度が大きく低下する樹脂に割れ
が発生して、この装置内部で発生した割れが装置表面に
まで貫、通する場合がある。このような割れが発生する
と装置の外にLを損うばかりでなく、装置内部に容易に
水分が浸入することになり、半導体素子上の金属配線等
を腐食させ、装置の耐湿信頼性を著しく劣化させてしま
う。このような樹脂割れを防止し。
At this time, the internal temperature of the device reaches a high temperature of 200°C or higher, and in resin-sealed semiconductor devices, moisture is present inside the device due to moisture absorption of the resin, and this moisture rapidly evaporates, resulting in several particles inside the device. Generates a vapor pressure of up to ten atmospheres. This vapor pressure generates stress inside the device, which causes cracks in the resin, whose strength drops significantly especially at product temperatures (>~150°C), and the cracks that occur inside the device penetrate to the surface of the device. It may pass. If such cracks occur, not only will L be damaged on the outside of the device, but moisture will easily infiltrate into the device, corroding the metal wiring on the semiconductor elements, and significantly reducing the moisture resistance reliability of the device. It will cause it to deteriorate. Prevent this kind of resin cracking.

装置の信頼性を向りさせる半導体装置Mlt造として例
えば特開昭60−208846号公報に記載されている
ような構造が提案されていた・ 〔発明が解決しようとする問題点〕 近年、半導体装置を基板に半田付けするりフロー工程に
おいて半導体装置は赤外線やフッ素系不活性液体蒸気に
さらされることにより装置内部温度が200℃以上の高
温に達する。封脂樹脂には吸湿特性があるため、このよ
うな高温下では装置内の吸湿水分が急速に水蒸気化し装
置内部で数十気圧に及び過大、な蒸気圧を発生する。こ
の蒸気圧により装置内部に応力が生じ、特に高温で強度
が著しく低下する樹脂部にクラックが発生してしまう。
For example, a structure described in Japanese Patent Application Laid-open No. 60-208846 has been proposed as a semiconductor device MLT structure that improves the reliability of the device. [Problems to be solved by the invention] In recent years, semiconductor devices During the flow process of soldering a semiconductor device to a substrate, the semiconductor device is exposed to infrared rays and fluorine-based inert liquid vapor, and the internal temperature of the device reaches a high temperature of 200° C. or more. Since the sealing resin has hygroscopic properties, the absorbed moisture within the device rapidly turns into water vapor at such high temperatures, generating an excessive vapor pressure of several tens of atmospheres inside the device. This vapor pressure generates stress inside the device, and cracks occur in the resin part, whose strength particularly decreases significantly at high temperatures.

このような装置の破壊を防止するためには、装置内で発
生する水蒸気をすみやかに逃がす必要がある。
In order to prevent such destruction of the device, it is necessary to quickly release the water vapor generated within the device.

上記従来技術においては、装置各部の接合部の接合強度
を高めることを目的としているために、装置内部で発生
した水蒸気が装置内部から逃げ出し難い構造となってお
り、装置が高温にさらされた場合の装置の破壊防止に好
する配慮がされていない。
In the above conventional technology, since the purpose is to increase the joint strength of the joints of each part of the device, the structure is such that it is difficult for water vapor generated inside the device to escape from the inside of the device, and if the device is exposed to high temperatures. No consideration has been given to preventing damage to the equipment.

一方、上記半導体装置構造例では、素子搭載用フレーム
を支持するリード表面の接着性を低下させることで発生
蒸気を逃がし易くしている。このリード表面の接着性を
低下させる方法として装置を急冷するあるいは表面を酸
化させる等の方法が示されている。しかし、装置を急冷
して熱応力により接着界面をはく離させろ方法では、装
置内部に他の部分にも大きな熱応力が発生してしまい、
樹脂割れなどの不良が発生する恐れがある。また、表面
を酸化させる場合には全面を一様に酸化させることは介
しく表面に凹凸が発生する。この凹凸は接着に関しては
機械的な補強の役目を果たすので、必すしも見かけの接
n力が低下するとは限らない。このようにに記従宋技術
では、素子搭載用フレームを支持するリード表面の接着
性を安定かつ均一に低下させることは難しいという問題
かあった。
On the other hand, in the semiconductor device structure example described above, the adhesiveness of the lead surface that supports the element mounting frame is reduced to facilitate the escape of generated steam. Methods for reducing the adhesiveness of the lead surface include rapidly cooling the device or oxidizing the surface. However, the method of rapidly cooling the device and peeling off the adhesive interface due to thermal stress generates large thermal stress in other parts of the device.
There is a risk that defects such as resin cracks may occur. Further, when the surface is oxidized, it is difficult to uniformly oxidize the entire surface, which causes unevenness on the surface. Since these irregularities serve as mechanical reinforcement for adhesion, they do not necessarily reduce the apparent contact force. As described above, the technology of the Congregation and Song Dynasty had a problem in that it was difficult to stably and uniformly reduce the adhesiveness of the lead surface that supported the element mounting frame.

本願第1番目の発明の目的は、半導体装置の高温におけ
る破壊を防[トし、装置の(g軸性を向上させることに
ある。
The first object of the present invention is to prevent a semiconductor device from being destroyed at high temperatures and to improve the (g-axis properties) of the device.

本願第2番目の発明の目的は、素子搭載用フレームを支
持するリード表面の接着性を安定かつ一様に低下させ、
装置内部に発生する蒸気を確実に装置外部に逃がすこと
により、信頼性の高い半導体装置を提供することにある
The second object of the present invention is to stably and uniformly reduce the adhesiveness of the lead surface supporting the element mounting frame,
An object of the present invention is to provide a highly reliable semiconductor device by reliably releasing steam generated inside the device to the outside of the device.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

上記第1番目の発明の目的は、半導体装置内のリードフ
レームに施す貴金属被膜を半導体素子搭載用フレームか
ら半導体素子搭載用フレームを支持するリードの装置f
ff表面に達する部分まで連続的に設けることにより達
l戊される。
The first object of the invention is to provide a lead apparatus f for supporting a semiconductor element mounting frame from a semiconductor element mounting frame to a semiconductor element mounting frame for applying a noble metal coating to a lead frame in a semiconductor device.
This can be achieved by providing it continuously up to the part that reaches the ff surface.

また、上記第2番目の発明の目的は、素子搭載用フレー
ムを支持するリード表面にあらかじめ封止樹脂との接着
性が低い被膜を設けることにより達成される。
Further, the second object of the invention is achieved by providing in advance a coating having low adhesion to the sealing resin on the surface of the lead supporting the element mounting frame.

本発明は半導体素子と、該半導体素子を搭載するタブと
、該タブに一体に成形されて該タブを支持するタブ吊り
リードと、該タブ及びタブ吊りリードとは離して配置さ
れかつ前記半導体素子と電気的に接続される複数の外部
リードと、これらのリード群及び半導体素子を封]J:
、する樹脂とを備えてなる半導体装置である。本願第1
番目の発明は上記半導体装置において前記タブ及びタブ
吊りリードの素子搭載側の面全面及び/または反素子搭
載側の面全面を貴金属被膜でvaうと共に、前記各外部
リードの表面については素子との電気的接続側端部にの
み貴金属被膜で覆うことを特徴とする。
The present invention provides a semiconductor element, a tab on which the semiconductor element is mounted, a tab suspension lead formed integrally with the tab and supporting the tab, and a tab and tab suspension lead arranged separately from each other and the semiconductor element. A plurality of external leads electrically connected to the semiconductor element, a group of these leads, and a semiconductor element are sealed]
, and a resin. Application No. 1
In the semiconductor device, the entire surface of the tab and the tab suspension lead on the element mounting side and/or the entire surface of the opposite element mounting side is coated with a noble metal coating, and the surface of each external lead is coated with a noble metal coating. It is characterized by covering only the electrical connection side end with a precious metal coating.

更に本願第2番目の発明は上記半導体装置において、タ
ブ吊りリードの表裏全面の含貴金属被膜及び/または含
不動態形成被膜を形成することを特徴とする。この場合
のめつき膜はクロム(Cr)。
Furthermore, the second invention of the present application is characterized in that the semiconductor device described above is characterized in that a noble metal-containing coating and/or a passivation-containing coating is formed on the entire front and back surfaces of the tab suspension lead. The plating film in this case is chromium (Cr).

ニッケル(Ni)、チタン(Ti)、アルミニウム(A
Q)、コバルト(Go)、ニオブ(Nb)、タンタル(
Ta)、等の金属元素或いはこれらの元素を主体とする
合金であって、めっき膜表面に不導体被膜を形成するも
のが好ましい。とりわけ貴金属或いは貴金属を主体とす
る合金が好ましい。
Nickel (Ni), titanium (Ti), aluminum (A
Q), cobalt (Go), niobium (Nb), tantalum (
It is preferable to use a metal element such as Ta) or an alloy mainly composed of these elements, which forms a nonconductive film on the surface of the plating film. In particular, noble metals or alloys mainly composed of noble metals are preferred.

〔作用〕[Effect]

(第1番目の発明の作用) 樹脂封止型半導体装置が高温に曝された場合に発生する
水蒸気は半導体装置内部で膨潤し、内部ニ数十気圧にも
達する圧力を発生させる。この為強度の低い樹脂にクラ
ックが生じてしまう。従来の装置では半導体素子とタブ
を良好に接合するために金メツキ膜を設けていた。しか
し金メツキ膜を封止樹脂との接着性が低いため膜を設け
る領域をタブ(素子搭載用フレーム)周辺に限定してい
た。この為タブ吊りリード(素子搭載用フレームを支持
するリードで、素子との電気的接続はされていない)と
封1):!脂の接着性は良好なので、内部に発生した水
蒸気の逃げ出す経路が無かった。
(Effects of the First Invention) Water vapor generated when a resin-sealed semiconductor device is exposed to high temperatures swells inside the semiconductor device and generates a pressure reaching several tens of atmospheres inside the semiconductor device. This causes cracks to occur in the resin, which has low strength. In conventional devices, a gold plating film was provided to ensure good bonding between the semiconductor element and the tab. However, because the adhesion of the gold plating film to the sealing resin is low, the area where the film is provided has been limited to the area around the tab (element mounting frame). For this reason, a tab suspension lead (a lead that supports the element mounting frame, but is not electrically connected to the element) and a seal 1):! Since the adhesive properties of the fat were good, there was no path for the water vapor generated inside to escape.

そこで本願第1番目が発明の構成を採ると、タブ吊りリ
ードと封止樹脂との接着性が低いために高温で装置内部
に発生した水蒸気は容易にこの界面を通って装置外部へ
逃げ出す。それ故装置内で過大な蒸気圧を発生すること
はなくなり、装置の破壊を防止することができる。尚、
室温近傍或いはそれ以下の低温においては、封止樹脂が
収縮するのでタブ吊りリードと封止樹脂の接着界面には
すき間は生じない。従って通常の使用状態においては、
装置外部からの水分の浸入を防1ヒすることができるの
で、タブ吊りリードと樹脂の接着性を低下させても装部
の耐湿信頼性を損ねることはない。
Therefore, when the first aspect of the present application adopts the configuration of the invention, water vapor generated inside the device at high temperature easily escapes to the outside of the device through this interface because the adhesiveness between the tab suspension lead and the sealing resin is low. Therefore, excessive vapor pressure is not generated within the device, and destruction of the device can be prevented. still,
At a low temperature near or below room temperature, the sealing resin contracts, so no gap is created at the adhesive interface between the tab suspension lead and the sealing resin. Therefore, under normal usage conditions,
Since it is possible to prevent moisture from entering from outside the device, even if the adhesiveness between the tab suspension lead and the resin is reduced, the moisture resistance reliability of the mounting part will not be impaired.

(第2番目の発明の作用) 第1番目の発明と同様の背景において予めタブ吊りリー
ド表面に封11二樹脂との接着を妨げる、或いは劣化さ
せるような被膜を設けると、タブの樹脂との接着界面よ
り先にタブ吊りリード(被膜)と樹脂との界面に剥離が
発生する。発生した水蒸気はこのすき間を通って装置外
部へ逃げ出すことができるので装置内部で過大な蒸気圧
を発生することがなくなり、樹脂割れを防止することが
できる。また、半導体装置の外部形状を全く変更する必
要がないので、封止用金型は従来のものをそのまま使用
することが可能である。
(Function of the second invention) In the same background as the first invention, if a coating that prevents or deteriorates the adhesion with the sealing resin is provided on the surface of the tab suspension lead in advance, the bonding with the resin of the tab is prevented. Peeling occurs at the interface between the tab hanging lead (coating) and the resin before the adhesive interface. Since the generated water vapor can escape to the outside of the device through this gap, excessive vapor pressure is not generated inside the device, and resin cracking can be prevented. Further, since there is no need to change the external shape of the semiconductor device at all, a conventional sealing mold can be used as is.

樹脂とリードフレーム材料との接着性を劣化させる被膜
材料としては、表面が不活性である貴金属(金(Au)
、’E (Ag)、ルテニウム(Ru)。
The coating material that deteriorates the adhesion between the resin and the lead frame material is a noble metal (gold (Au)) with an inert surface.
, 'E (Ag), Ruthenium (Ru).

ロジウム(Rh)、パラジウム(Pd)、オスミウム(
Os)、イリジウム(丁r)+白金(Pi;))類或い
は表面に不動態を形成する金属(鉄(Fe)。
Rhodium (Rh), Palladium (Pd), Osmium (
Os), iridium + platinum (Pi)), or metals that form a passive state on the surface (iron (Fe)).

ニッケル(Ni)、コバルト(Co)、クロム(C,u
)、チタン(Ti)、ニオブ(Nb)、タンタル(Ta
)、アルミニウム(AQ))単体或いはこれらを主体と
する合金を用いればよい。被膜を付着させる方法として
は、金属メツキ法或いは薄膜形成法(蒸着法、スパッタ
法、化学気相蒸着法等)を用いればよい。尚、被膜を設
ける場合には、タブ吊りリード以外の領域には予め保護
膜(マスク)をかけておき、被膜が付着しないような配
慮を要する。
Nickel (Ni), cobalt (Co), chromium (C, u
), titanium (Ti), niobium (Nb), tantalum (Ta
), aluminum (AQ)) or an alloy mainly composed of these may be used. As a method for attaching the film, a metal plating method or a thin film forming method (vapor deposition method, sputtering method, chemical vapor deposition method, etc.) may be used. If a film is to be provided, care must be taken to prevent the film from adhering by applying a protective film (mask) to areas other than the tab suspension leads in advance.

〔実施例〕〔Example〕

以下、本発明の実施例を図面に従って説明する。 Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

第1図は本発明の一実施例に係る樹脂封止型半導体装置
の断面図である。本実施例においてはタブ4とその両端
に設けられたタブ吊りリード3の表面に金メツキ膜を施
している。第2図は第1図のA−A線に沿った装置の水
平断面図である。図中の斜線部は第1図の金メツキ膜5
が設けられている領域を示す。なお、タブ吊りリード3
については上下面いずれにも金メツキ膜5が設けられて
いる。金メツキ膜5は、封止樹脂1との接着性が低いた
め、簡−+Ijに接着界面にはく離が生じる。半導体装
置が高温にさらされた場合に装置内部で発生する水蒸気
は、装置内で大きな蒸気圧を発生させようとするが、タ
ブ吊りリード;3の表面に設けら九た金メツキ膜5と封
止樹脂5の界面が小さな圧力の段階ではく離してしまう
ので、この界面を通って装置外部へ水蒸気が逃げ出すこ
とができる。
FIG. 1 is a sectional view of a resin-sealed semiconductor device according to an embodiment of the present invention. In this embodiment, a gold plating film is applied to the surfaces of the tab 4 and the tab suspension leads 3 provided at both ends thereof. FIG. 2 is a horizontal sectional view of the device taken along line A--A in FIG. The shaded area in the figure is the gold plating film 5 in Figure 1.
Indicates the area where the In addition, the tab hanging lead 3
A gold plating film 5 is provided on both the upper and lower surfaces. Since the gold plating film 5 has low adhesion to the sealing resin 1, peeling easily occurs at the adhesive interface. When a semiconductor device is exposed to high temperatures, water vapor generated inside the device tries to generate a large vapor pressure inside the device. Since the interface of the stopper resin 5 peels off when the pressure is small, water vapor can escape to the outside of the device through this interface.

一方、室温近傍あるいはそれ以下の?!!度では、封止
樹脂]の線膨張係数が2 X 10−5/℃程度であり
、鉄系のリードフレームの線膨張係数は5〜]、 Ox
 10−6/℃であることから樹脂が収縮してリードフ
レームに圧縮力を及ぼしながら密着するので、外部から
の水分の浸入は防止することができ5通常の使用状態に
おいて装置の耐湿信頼性を損ねることはない。尚符号2
は半導体素子、6は外部リードである。
On the other hand, near or below room temperature? ! ! The coefficient of linear expansion of the sealing resin is approximately 2 x 10-5/°C, and the coefficient of linear expansion of the iron-based lead frame is 5~].
10-6/℃, the resin shrinks and adheres to the lead frame while applying compressive force, which prevents moisture from entering from the outside. There's nothing to lose. Furthermore, code 2
is a semiconductor element, and 6 is an external lead.

本実施例においては、高温において装置内に発生する水
蒸気を容易に逃がすことができるので、蒸気圧による%
 !reの破壊を防止することができ、装置の信頼性を
向上できるという効果がある。
In this example, since the water vapor generated inside the device at high temperatures can be easily released, the
! This has the effect of preventing damage to the RE and improving the reliability of the device.

樹脂封止型半導体装置が高温にさらされた場合に発生す
る水蒸気は例えば第3図に示したように半導体装置内部
で膨潤し内部に数十気圧にも達する圧力を発生させるた
め、図中に示したように強度の低い樹脂にクラック9が
生してしまう。従来の装置では半導体索子2とタブl↓
を良好に接合するために金メツ°キ膜5を設けていたが
、金メツキ膜と樹脂1の接着性が低いため膜を設ける領
域を素子搭載用フレーム(タブ)4周辺に限定していた
。このため素子搭載用フレームを支持するリード(タブ
吊りリード)3と封止樹脂1の接着性は良好なため、内
部に発生した水蒸気が逃げ出す経路がなかった。そこで
本願発明の一実施例に係る第4図に示したように、金メ
ツキ膜5をタブ4からタブ吊りリード5の表面の装置外
部に達する領域まで連続的に施す。この場合にはタブ吊
すリー、ド3と封止樹脂1の接着性が低いため、高温で
装置内部に発生した水蒸気は容易にこの界面を通つて装
置外部に逃げ出してしまうので、装置内で過大な蒸気圧
を発生することはなくなり、装置の破壊を防止すること
ができる。なお、室温近傍あるいはそれ以下の低温にお
いては、樹脂1が収縮するので、タブ吊りリード3と樹
脂1の接着界面にはすき間は生じない。従って通常の使
用状態においては、装置外部からの水分の浸入を防止す
ることができるので、タブ吊りリードコ3と樹脂1の接
着性を低下させても装置の耐湿信頼性を損ねることはな
い。
For example, as shown in Figure 3, the water vapor generated when a resin-sealed semiconductor device is exposed to high temperatures swells inside the semiconductor device and generates a pressure of several tens of atmospheres inside. As shown, cracks 9 occur in the resin having low strength. In the conventional device, semiconductor cord 2 and tab l↓
A gold plating film 5 was provided to ensure good bonding, but because the adhesion between the gold plating film and the resin 1 was low, the area where the film was provided was limited to the area around the element mounting frame (tab) 4. . Therefore, since the adhesiveness between the leads (tab suspension leads) 3 supporting the element mounting frame and the sealing resin 1 was good, there was no path for the water vapor generated inside to escape. Therefore, as shown in FIG. 4 according to an embodiment of the present invention, a gold plating film 5 is continuously applied from the tab 4 to the area of the surface of the tab suspension lead 5 reaching the outside of the device. In this case, since the adhesion between the tab hanging lead 3 and the sealing resin 1 is low, the water vapor generated inside the device at high temperature easily escapes to the outside of the device through this interface, so there is no excess water vapor inside the device. This prevents the generation of excessive vapor pressure and prevents damage to the equipment. Note that at a low temperature near or below room temperature, the resin 1 contracts, so that no gap is created at the adhesive interface between the tab suspension lead 3 and the resin 1. Therefore, under normal usage conditions, it is possible to prevent moisture from entering from outside the device, so even if the adhesiveness between the tab suspension reed 3 and the resin 1 is reduced, the moisture resistance reliability of the device will not be impaired.

次に本発明の第3の実施例を第5図、第6図を用いて説
明する。第5図は本発明の樹脂対IF型半導体装置の一
例の水平断面図である。本実施例においてはタブ4の四
隅に、タブ吊りリード3を配置している。第6図は第5
図のB −B線に沿った装置の断面図を示している。半
導体素子2はタブ4上に設けた銀メツキ膜7上に導電性
ペースト8を介して接合されている。第5図には銀メツ
キ膜7を設けた領域を斜線で示している。本実施例にお
いては、銀メツキ膜は外部リード6の半導体素子2と電
気的接続をとるワイヤ接合部と、タブ4の素子搭載面及
びタブ吊りリード3の上下両面に設けである。銀も金と
同様に貴金属であることから表面は不活性であり封止樹
脂1との接着性が低い。このため、装置が高温にさらさ
れても装置内に発生する水蒸気はタブ吊りリード3上の
銀メツキ膜7と封止樹脂]の接着界面を通って容易に洒
げ出すことができる。なお、室温近傍において本装置を
使用する場合に装置の耐湿信頼性を損ねることがないの
は第一の実施例と同様である。
Next, a third embodiment of the present invention will be described using FIGS. 5 and 6. FIG. 5 is a horizontal sectional view of an example of the resin-to-IF type semiconductor device of the present invention. In this embodiment, tab suspension leads 3 are arranged at the four corners of the tab 4. Figure 6 is the 5th
Figure 3 shows a cross-sectional view of the device along line B-B in the figure; The semiconductor element 2 is bonded onto a silver plating film 7 provided on the tab 4 via a conductive paste 8. In FIG. 5, the area where the silver plating film 7 is provided is indicated by diagonal lines. In this embodiment, the silver plating film is provided on the wire joint portion of the external lead 6 for electrical connection with the semiconductor element 2, on the element mounting surface of the tab 4, and on both upper and lower surfaces of the tab suspension lead 3. Since silver is also a noble metal like gold, its surface is inactive and its adhesiveness with the sealing resin 1 is low. Therefore, even if the device is exposed to high temperatures, water vapor generated inside the device can be easily released through the adhesive interface between the silver plating film 7 on the tab suspension lead 3 and the sealing resin. Note that, as in the first embodiment, when this device is used near room temperature, the moisture resistance reliability of the device is not impaired.

本実施例においては、高温において装置内に発生する水
蒸気が容易に装置外部に逃げ出せるので。
In this embodiment, water vapor generated inside the device at high temperatures can easily escape to the outside of the device.

蒸気圧による装置の破壊を防止することができ、装置の
信頼性を向上できるという効果がある。
This has the effect of preventing destruction of the device due to steam pressure and improving the reliability of the device.

本発明の第4実施例を第7図及び第8図により説明する
。第7図は本発明を用いた樹脂対[E型半導体装置の平
面構成図であり、第8図は第7図へ−A線における装置
の垂直断面図である。本装置は主構成物として、半導体
索子2、素子搭載用タブ4、ボンディングワイヤ10、
外部リード6、封止樹脂1、タブ吊りリード3、被膜1
1を持つ。
A fourth embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 7 and 8. FIG. 7 is a plan view of a resin pair [E type semiconductor device] using the present invention, and FIG. 8 is a vertical cross-sectional view of the device taken along line A to FIG. The main components of this device are a semiconductor cable 2, an element mounting tab 4, a bonding wire 10,
External lead 6, sealing resin 1, tab suspension lead 3, coating 1
Has 1.

被膜11は主成分としてAu、Ag、Ru、Rh。The main components of the coating 11 are Au, Ag, Ru, and Rh.

Pd、Os、I r、Pt等の貴金属類あるいはFe、
Ni、Co、Cr、Ti、Nb、’I’a。
Noble metals such as Pd, Os, Ir, Pt, or Fe,
Ni, Co, Cr, Ti, Nb, 'I'a.

AQ等の不動態形成金属からなり、メツキ法あるいは薄
膜形成法あるいは塗布法などの厚膜形成法などにより付
着されている。この被膜11は表面が貴金属あるいは不
動態であることから不活性な性質を持つので封止樹脂1
との接着力が著しく弱い。このため装置製作時に接着界
面がはく離してしはうか、はじめは接着していても非常
に弱い力ではく離してしまう。半導体装置が高温() 
200℃)に加熱された場合、封止樹脂1に吸湿されて
いた水分は水蒸気化し装置内部で大きな蒸気圧を発生さ
せる。しかし、このタブ吊りリード3上の被膜11と封
止樹脂1の界面は容易にはく離するので装置内部から表
面まで水蒸気が逃げ出す経路を形成する。従って装置内
部で発生する水蒸気は樹脂割れを発生するような大きな
圧力を生む前にこの経路から装置外に逃げ出してしまう
It is made of a passive state-forming metal such as AQ, and is attached by a plating method, a thin film forming method, or a thick film forming method such as a coating method. Since the surface of this film 11 is made of noble metal or passive, it has inert properties, so the sealing resin 1
The adhesive strength is extremely weak. For this reason, the bonded interface may peel off during device fabrication, or even if it is initially bonded, it may peel off with very weak force. Semiconductor device is at high temperature ()
200° C.), the moisture absorbed by the sealing resin 1 turns into water vapor and generates a large vapor pressure inside the device. However, since the interface between the coating 11 on the tab suspension lead 3 and the sealing resin 1 easily peels off, a path is formed for water vapor to escape from the inside of the device to the surface. Therefore, the water vapor generated inside the device escapes from the device through this path before generating a large pressure that would cause resin cracks.

本実施例によれば、半導体装置が高温に加熱された際に
装置内部に発生する水蒸気が容易に装置外に逃げ出すの
で、装置内に大きな蒸気圧が発生せず樹脂割れを防止す
ることができ、かつ装置外形を変更する必要がないとい
う効果がある。
According to this embodiment, the water vapor generated inside the semiconductor device when it is heated to a high temperature easily escapes to the outside of the device, so that large vapor pressure is not generated inside the device and resin cracking can be prevented. , and there is no need to change the external shape of the device.

タブ2には樹脂封止を行う際にタブ2の固定を行う素子
搭載用フレームを支持するリード(タブ吊りリード)が
存在する。(第8図)このタブ吊りリード3はタブ4端
から半導体装置の表面にまで達している。そこで、あら
かじめこのタブ吊りリード3表面に封止樹脂との接着を
妨げる。あるいは劣化させるような被膜11を設けてお
けばタブ4の樹脂1との接着界面より先にタブ吊りリー
ド3(被膜11)と樹脂1の界面にはく離が発生するの
で発生した水蒸気はこのすき間を通って装置外部に逃げ
出すことができるので、装置内部で過大な蒸気圧を発生
することがなくなり、樹脂割れを防止することができる
。また、半導体装置の外部形状を全く変更する必要がな
いので封止用金型は従来のものをそのまま使用すること
ができる。
The tab 2 has leads (tab suspension leads) that support an element mounting frame that fixes the tab 2 during resin sealing. (FIG. 8) This tab suspension lead 3 reaches from the end of the tab 4 to the surface of the semiconductor device. Therefore, adhesion with the sealing resin is prevented on the surface of the tab suspension lead 3 in advance. Alternatively, if a coating 11 that causes deterioration is provided, peeling will occur at the interface between the tab suspension lead 3 (coating 11) and the resin 1 before the adhesive interface between the tab 4 and the resin 1, and the generated water vapor will flow through this gap. Since the vapor can pass through the device and escape to the outside of the device, excessive vapor pressure is not generated inside the device, and resin cracking can be prevented. Further, since there is no need to change the external shape of the semiconductor device at all, a conventional sealing mold can be used as is.

次に本発明の第5の実施例を第9図、第10図により説
明する。第9図は本発明の一例を用いた樹脂封止型半導
体装置の平面構成図であり、第10図は第9図F−FW
に沿った装置の断面図である。本装置は主構成物として
半導体素子2.タブ4、外部リード6、封止樹脂1から
なり、タブ吊りリード3はタブ4のコーナ一部に設けで
ある。
Next, a fifth embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 9 and 10. FIG. 9 is a plan configuration diagram of a resin-sealed semiconductor device using an example of the present invention, and FIG. 10 is a diagram of FIG.
1 is a cross-sectional view of the device along FIG. The main components of this device are semiconductor elements 2. It consists of a tab 4, an external lead 6, and a sealing resin 1, and a tab suspension lead 3 is provided at a part of the corner of the tab 4.

なお、第一の実施例におけるボンデインワイヤは省略し
である。本実施例においては第10図に示したようにタ
ブ4の高さとタブ吊りリード3の高さが異なっており、
タブ吊りリード表面には被膜11が設けられている。な
お、この被膜11は必ずしもタブ吊りリード3の全面を
覆っている必要はなく、下面(タブ4の素子2が搭載さ
れていない面側)あるいは上面だけでも構わない。これ
は前記第五の実施例においても同様である。また、被膜
11の材質及び形成法は第五の実施例と同様である。ま
た、タブ吊りリード3が本実施例及び第五の実施例のよ
うに複数本ある場合には、必ずしも全てのタブ吊りリー
ドに被膜11を設ける必要はなく、少くとも1本に被膜
を設ければよい。
Note that the bond-in wire in the first embodiment is omitted. In this embodiment, as shown in FIG. 10, the height of the tab 4 and the height of the tab suspension lead 3 are different.
A coating 11 is provided on the surface of the tab suspension lead. Note that this coating 11 does not necessarily need to cover the entire surface of the tab suspension lead 3, and may cover only the lower surface (the side of the tab 4 on which the element 2 is not mounted) or the upper surface. This also applies to the fifth embodiment. Further, the material and forming method of the coating 11 are the same as in the fifth embodiment. Furthermore, when there are a plurality of tab suspension leads 3 as in the present embodiment and the fifth embodiment, it is not necessarily necessary to provide the coating 11 on all the tab suspension leads, but it is necessary to provide the coating on at least one. Bye.

本実施例の半導体装置においては、装置が高温(>20
0℃)に加熱されても、装置内部で発生した水蒸気が、
この被膜11と封止樹脂1の界面に発生するすき間を通
って装置外に容易に逃げ出すことができるので装置内部
で大きな蒸気圧を発生することがない。
In the semiconductor device of this example, the device is at a high temperature (>20
Even when heated to 0℃), the water vapor generated inside the device
Since the vapor can easily escape to the outside of the device through the gap created at the interface between the coating 11 and the sealing resin 1, a large vapor pressure is not generated inside the device.

本実施例によれば、樹脂対1ヒ型半導体装置の外形を変
更することなく、装置が高温に加熱された場合に装置内
部に発生する水蒸気を容易に装置外に導き出すことがで
きるので、装置内に過大な蒸気圧が発生せず、装置の樹
脂割れを防止することができるという効果がある。
According to this embodiment, water vapor generated inside the device when the device is heated to a high temperature can be easily led out of the device without changing the external shape of the resin-type semiconductor device. This has the effect of preventing excessive vapor pressure from occurring within the device, thereby preventing resin cracking in the device.

次に本発明の他の実施例を第11図、第12図により説
明する。第11図は本発明の一例を用いた樹脂封止型半
導体装置の平面構成図であり、第12図は第11図のG
−G線に沿った装置の断面図である。本装置は主構成物
として半導体素子2゜封脂樹脂1、と42NiFe製の
タブ4、外部リード6、タブ吊りリード3からなり、タ
ブ吊りす−ト3はタブ4の各四辺の中央に設けである。
Next, another embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 11 and 12. FIG. 11 is a plan view of a resin-sealed semiconductor device using an example of the present invention, and FIG.
- FIG. 3 is a cross-sectional view of the device along line G; The main components of this device are a semiconductor element 2, a sealing resin 1, a tab 4 made of 42NiFe, an external lead 6, and a tab suspension lead 3.The tab suspension strip 3 is provided at the center of each of the four sides of the tab 4. It is.

なお、ボンディングワイヤは省略しである。第12図に
おけるタブ吊りリード3の被膜11としては、有機系の
に型剤が塗布されているものとする1本実施例の半導体
装置においては、被膜7が塗布されている部分では封f
ヒ樹脂lが接着しないため。
Note that bonding wires are omitted. The coating 11 of the tab suspension lead 3 in FIG. 12 is coated with an organic molding agent. In the semiconductor device of this embodiment, the portion where the coating 7 is coated is sealed.
This is because the resin l does not adhere.

装置が高温に加熱されても、装置内部で発生する水蒸気
はこの被膜1】−と封止樹脂1の界面のすき間を通って
装置外に脱出する。
Even when the device is heated to a high temperature, water vapor generated inside the device escapes to the outside of the device through the gap between the interface between the coating 1 and the sealing resin 1.

ところで、通常の封止樹脂は熱膨張係数の値が10〜3
0 X 10−8/℃であり、42 N j、 F e
は3〜5 X 10”−B/’Cの値を持つ。このため
、高温から室温まで装置が冷却されると、封止樹脂1の
方がリードフレーム(タブ吊りリード3.外部リード6
、タブ4)よりも収縮量が大きくなる。二′□の場合、
被膜11と樹、脂1−の界面には圧縮力が作用する。し
たがって被膜7と樹脂5は接着しないが圧縮力で締め付
けられるので、室温近傍で装置外から水分が装置内に浸
入することは妨げる。したがって被膜7を設けたことに
より、装置の耐湿性が劣化するということもない。
By the way, ordinary sealing resin has a coefficient of thermal expansion of 10 to 3.
0 x 10-8/℃, 42 N j, F e
has a value of 3 to 5 x 10"-B/'C. Therefore, when the device is cooled from high temperature to room temperature, sealing resin 1 has a value of 3 to 5 x 10"-B/'C.
, the amount of shrinkage is larger than that of tab 4). In the case of 2′□,
A compressive force acts on the interface between the coating 11 and the resin 1-. Therefore, the coating 7 and the resin 5 are not bonded together but are tightened by compressive force, which prevents moisture from entering the device from outside at around room temperature. Therefore, by providing the coating 7, the moisture resistance of the device does not deteriorate.

本実施例によれば、樹脂封止型半導体装置の外形を変更
することなく、また装置の耐湿性を劣化させることなく
、装置が高温に加熱された場合に装置内に過大な蒸気圧
が発生することを防止できるので、装置の樹脂割れを防
止することができるという効果がある。
According to this example, excessive vapor pressure is generated within the device when the device is heated to a high temperature without changing the external shape of the resin-sealed semiconductor device or deteriorating the moisture resistance of the device. This has the effect of preventing resin cracking in the device.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

本願第1番目の発明によれば、樹脂対1ヒ型半導体装置
が高温にさらされても装置内部に過大な蒸気圧が発生す
ることが防ぎ、装置の破壊を防止することができるので
、半導体装置の信頼性を向トさせることができるという
効果がある。
According to the first invention of the present application, even if a resin-type semiconductor device is exposed to high temperatures, excessive vapor pressure can be prevented from being generated inside the device, and the device can be prevented from being destroyed. This has the effect of improving the reliability of the device.

本願第2番目の発明によれば、樹脂封止型半導体装置の
外形を変更することなく装置が高温に加熱された場合に
装置内部に発生する水蒸気を容易に装置外にとり出すこ
とができるので、装置内に過大な蒸気圧が発生すること
を防止することができ、装置の樹脂割れが防止でき、装
置の信頼性を向上させることができるという効果がある
According to the second invention of the present application, water vapor generated inside the device when the device is heated to a high temperature can be easily taken out of the device without changing the external shape of the resin-sealed semiconductor device. This has the effect of being able to prevent excessive vapor pressure from being generated within the device, preventing resin cracks in the device, and improving the reliability of the device.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明の第1実施例に係る半導体装置の縦断面
図、第2図は第1図のA−A線に沿った水平断面図、第
3図は従来例に係る半導体装置の縦断面図、第4図は本
発明の第2実施例に係る半導体装置の縦断面図、第5図
は本発明の第3実施例に係る半導体装置の水平断面図、
第6図は第5図のB−B線に沿った縦断面図、第7図は
本発明の第4実施例に係る半導体装置の水平断面図、第
8図は第7図のE−E線に沿った縦断面図、第9図は本
実施例の第5実施例に係る半導体装置の水平断面図、第
10図は第9図のF−F線に沿った縦断面図、第11図
は本発明の第6実施例に係る半導体装置の水平断面図、
第12図は第11図のG−G線に沿った縦断面図である
。 1・・・射出樹脂、2・・・半導体素子、3・・・タブ
吊りリード、4・・・タブ、5・・・金メツキ膜、6・
・外部リード、7・・・銀メツキ膜、8・・・導電性ペ
ースト、9・・クラック、10・・・ボンディングワイ
ヤ、11・・被1漠。 第 1  図 J 2 図 乙 6−7Vびシーに Z 3 図 Z−一一〇駐lキ 5−一一会メ1.千膜 ’?−72シフ 第4図 )η   フ    図 d −−−77− J−7)評ソート 第3図 IN)         ”Q 111?□L
FIG. 1 is a longitudinal sectional view of a semiconductor device according to a first embodiment of the present invention, FIG. 2 is a horizontal sectional view taken along line A-A in FIG. FIG. 4 is a vertical cross-sectional view of a semiconductor device according to a second embodiment of the present invention, and FIG. 5 is a horizontal cross-sectional view of a semiconductor device according to a third embodiment of the present invention.
6 is a longitudinal cross-sectional view taken along the line B-B in FIG. 5, FIG. 7 is a horizontal cross-sectional view of a semiconductor device according to a fourth embodiment of the present invention, and FIG. 8 is a cross-sectional view taken along the line E-E in FIG. 9 is a horizontal sectional view of the semiconductor device according to the fifth embodiment of this embodiment, FIG. 10 is a vertical sectional view taken along line FF in FIG. 9, and FIG. The figure is a horizontal sectional view of a semiconductor device according to a sixth embodiment of the present invention.
FIG. 12 is a longitudinal sectional view taken along line GG in FIG. 11. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1... Injection resin, 2... Semiconductor element, 3... Tab hanging lead, 4... Tab, 5... Gold plating film, 6...
- External lead, 7... Silver plating film, 8... Conductive paste, 9... Crack, 10... Bonding wire, 11... 1 vagueness. Fig. 1 J 2 Fig. Otsu 6-7 Thousand membranes'? -72 Schiff Figure 4) η F Figure d ---77- J-7) Evaluation sort Figure 3 IN) "Q 111?□L

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、半導体素子と、該半導体素子を搭載するタブと、該
タブに一体に成形されて該タブを支持するタブ吊りリー
ドと、該タブ及びタブ吊りリードとは離して配置されか
つ前記半導体素子と電気的に接続される複数の外部リー
ドと、これらのリード群及び半導体素子を封止する樹脂
とを備えてなる半導体装置において、前記タブ及びタブ
吊りリードの素子搭載側の面全面及び/または反素子搭
載側の面全面を貴金属被膜で覆うと共に、前記各外部リ
ードの表面については素子との電気的接続側端部にのみ
貴金属被膜で覆うことを特徴とする半導体装置。 2、半導体素子と、該半導体素子を搭載するタブと、該
タブに一体に成形されて該タブを支持するタブ吊りリー
ドと、該タブ及びタブ吊りリードとは離して配置されか
つ前記半導体素子と電気的に接続される複数の外部リー
ドと、これらのリード群及び半導体素子を封止する樹脂
とを備えてなる半導体装置において、前記タブ吊りリー
ドの表裏全面に含貴金属被膜及び/または含不動態形成
金属被膜を形成することを特徴とする半導体装置。
[Claims] 1. A semiconductor element, a tab on which the semiconductor element is mounted, a tab suspension lead that is integrally formed with the tab and supports the tab, and the tab and the tab suspension lead are arranged separately. In a semiconductor device comprising a plurality of external leads that are connected electrically to the semiconductor element, and a resin that seals the group of these leads and the semiconductor element, the tab and the tab suspension lead on the element mounting side. A semiconductor device characterized in that the entire surface and/or the entire surface on the side opposite to the element mounting side is covered with a noble metal coating, and with respect to the surface of each of the external leads, only the end portion on the side electrically connected to the element is covered with the noble metal coating. 2. A semiconductor element, a tab on which the semiconductor element is mounted, a tab suspension lead formed integrally with the tab and supporting the tab, and a tab and tab suspension lead arranged separately from each other and connected to the semiconductor element. In a semiconductor device comprising a plurality of electrically connected external leads and a resin for sealing these lead groups and a semiconductor element, a noble metal-containing coating and/or a passivation-containing coating is provided on the entire front and back surfaces of the tab suspension lead. A semiconductor device characterized by forming a formed metal film.
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