JPH0111281Y2 - - Google Patents

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JPH0111281Y2
JPH0111281Y2 JP13126284U JP13126284U JPH0111281Y2 JP H0111281 Y2 JPH0111281 Y2 JP H0111281Y2 JP 13126284 U JP13126284 U JP 13126284U JP 13126284 U JP13126284 U JP 13126284U JP H0111281 Y2 JPH0111281 Y2 JP H0111281Y2
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JP
Japan
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siphon
inflow
vacuum
valve
tank
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JP13126284U
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JPS6148013U (ja
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Description

【考案の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本考案は、原水の流入サイフオン及び逆洗時に
ろ過池内の水を排出させる排水サイフオンを備え
た自然平衡型サイフオン式ろ過装置に関するもの
である。
〔従来技術〕
従来、流入サイフオン及び排水サイフオンを備
え、各種開閉弁を省略した自然平衡型のサイフオ
ン式ろ過装置においては、各サイフオンの形成に
真空ポンプなどの動力を必要とするものが多かつ
た。
〔考案が解決しようとする問題点〕
このようにサイフオン形成に真空ポンプなどを
設置することは構造を複雑にし、設備費の増大に
つながり、しかも維持管理上も問題が多かつた。
本考案は、ろ過池内の水位降下を利用して流入
サイフオンの真空醸成を行い、装置の簡略化と維
持管理の容易化をはかろうとするものである。
〔問題点を解決するたの手段〕
本考案は、頂部にサイフオン破壊弁を付設した
流入サイフオンを配備したサイフオン式ろ過装置
において、流入サイフオン用真空タンクを設置す
ると共にろ過池内に下端が開放され上部に大気開
放弁を付設した真空醸成タンクを水封的に設置
し、前記流入サイフオン頂部と前記流入サイフオ
ン用真空タンクとを開閉弁を介して連通し、さら
に前記流入サイフオン用真空タンクと前記真空醸
成タンク頂部とを開閉弁を介して連通したことを
特徴とするものである。
〔実施例〕
本考案の一実施例を図面を参照しながら説明す
れば、槽壁1によつてろ過池2を形成し、ろ過池
2内には仕切壁3によつてろ材層4とその下部に
設けられた集水室5を区画し、ろ材層4の上部に
排水樋6を設け、集水室5を池外で天端を排水樋
6より高い位置とした溢流壁7を設けて隣接した
ろ過水室8と連通口9とを介して連通させてあ
る。
また、ろ過池2の上部には、原水渠10と隔壁
11にて区分した流入渠12を隣設し、流入渠1
2をさらに該渠12内の水位を保つ溢流壁13を
介してろ過池2に臨ませてある。原水渠10と流
入渠12間には隔壁11を跨いだ流入サイフオン
14を設けてその端部を水封し、ろ過池2内の排
水樋6より下方部と池外の排水渠15間には槽壁
1を跨いだ排水サイフオン16を設けてその端部
を水封してあり、流入サイフオン14の頂部は流
入サイフオン破壊弁17を介して、排水サイフオ
ン16の頂部は排水サイフオン破壊弁18を介し
て大気に連通させてある。また流入サイフオン1
4の頂部には、流入サイフオン形成弁19を有す
る流入サイフオン形成管20が、排水サイフオン
16の頂部には、排水サイフオン形成弁21を有
し図示しない真空ポンプなどの排水用真空醸成装
置へ連結される排水サイフオン形成管22が連な
つている。
さらに、ろ過池2内の適当な箇所、例えば原水
渠10内には下面がて開放された流入サイフオン
用真空タンク23が水封設置され、またろ過池2
内には下面が開放された真空醸成タンク24が水
封設置され、これら流入サイフオン用真空タンク
23と真空醸成タンク24の頂部とは真空元弁2
5を介して連通する一方、真空醸成タンク24の
頂部には大気開放弁26が設けられている。
図中、19′,19″……は前記ろ過池2が複数
池併設されている場合に、流入サイフオン用真空
タンク23と各流入サイフオンの連通部に介在さ
せる流入サイフオン形成弁を示す。
なお、流入サイフオン用真空タンク23の設置
位置は原水渠10内に限定されるものではなく、
またその下面は必ずしも解放されることなく、密
閉されていてもよい。
また、真空醸成タンク24の設置位置はろ過池
2内ならばどこでもよく、ろ過停止時の水位降下
により水封が破られないような位置とする。
次にその作用を説明すれば、ろ過工程では排水
サイフオン形成弁21を閉、排水サイフオン破壊
弁18を開にし、大気開放弁26を開、真空元弁
25を閉、流入サイフオン形成弁19を開、流入
サイフオン破壊弁17を閉とし、原水は原水渠1
0、流入サイフオン14、流入渠12、溢流壁1
3を経てろ過池2に流入し、ろ材層4にてろ過さ
れ、集水室5から連通口9を経てろ過水室8に至
り、溢流壁7を溢流して取り出される。このとき
のろ過池2内の水位はAの位置にあり、真空醸成
タンク24内水位も同じになつている(第1図)。
このようなろ過を継続するにつれてろ材層4内
に原水中の懸濁物質が蓄積され、次第にろ過抵抗
が高くなり、水位はAから上昇して高水位Bに達
する(第2図)。このとき、流入サイフオン形成
弁19を閉、流入サイフオン破壊弁17を開、大
気開放弁26を閉、真空元弁25を閉(真空元弁
25は開でもよい)、とすると、ろ過池2内への
原水の流入は停止するから、水位はCに降下する
が、真空醸成タンク23内水位は高水位Bを保つ
て真空圧h1mの状態で釣り合うことになる(第3
図)。
次に、真空元弁25を開とすると、真空醸成タ
ンク23は真空圧h1mにて流入サイフオン用真空
タンク23内を連通され、流入サイフオン用真空
タンク23内水位はh2m上昇して水位Dになつた
とき、真空元弁25を閉とする。このとき、真空
醸成タンク24内の水位はh3mのEにて釣り合う
ことになる(第4図)。このようにして次のろ過
開始まで待機させ、ろ材層4の洗浄を行う。
したがつて次のろ過開始にあたつては、流入サ
イフオン破壊弁17を閉、流入サイフオン形成弁
19を開にすると、流入サイフオン用真空タンク
23内の水位はDから一旦降下して、流入サイフ
オン14内を真空にしサイフオン形成を行えばよ
い。このようなろ過開始によつて、流入サイフオ
ン用真空タンク23内の水位は、一旦Dより下降
するが再びDに戻る。
また、真空醸成タンク24内の真空圧形成は、
前述したようにろ過停止によるろ過池2内の水位
の自然降下を利用するこができるが、ろ材層4の
洗浄時のろ過池2内水位降下を利用することもで
きる。すなわち、ろ材層4の洗浄に際しては、排
水サイフオン形成弁21を開、排水サイフオン破
壊弁18を閉にし、図示しない排水用真空醸成装
置にて排水サイフオン形成管22を通じて排水サ
イフオン管16内を真空にしてサイフオン作用を
生じさせると、ろ過池2内の水は排水渠15に排
出され、排水樋6以下の水位になると、ろ過水室
8との水位差によりろ過水は連通口9から集水室
5を経てろ材層4を逆流洗浄し、洗浄排水は洗浄
排水樋6から流れ、排水サイフオン16によつて
排水渠15に排出される。したがつてこのときの
水位降下を利用して真空醸成タンク24内の真空
形成を行うことができる。
なお、このようなサイフオン式ろ過池2が複数
池併設されている場合には、流入サイフオン用真
空タンク23の上部を各ろ過池のそれぞれの流入
サイフオンの頂部に流入サイフオン形成弁19′,
19″……を介して連通させて、適宜選択的に開
閉すればよく、その場合流入サイフオン用真空タ
ンク23を増設する必要なく、またろ過水室8を
各ろ過池共通のものとすることができる。
〔考案の効果〕
以上述べたように本考案によれば、サイフオン
式ろ過装置において、ろ過池内の水位降下を利用
して流入サイフオンの真空醸成を行うもので、装
置はきわめて簡略化され、またその維持管理も容
易になり、省エネルギー化をはかることができる
等、実用上きわめて有用なる効果を有するもので
ある。
【図面の簡単な説明】
図面は本考案の一実施例を示す断面図であり、
第1図〜第4図は作動説明図である。 1…槽壁、2…ろ過池、3…仕切壁、4…ろ材
層、5…集水室、6…排水樋、7,13…溢流
壁、8…ろ過水室、9…連通口、10…原水渠、
11…隔壁、12…流入渠、14…流入サイフオ
ン、15…排水渠、16…排水サイフオン、17
…流入サイフオン破壊弁、18…排水サイフオン
破壊弁、19,19′,19″…流入サイフオン形
成弁、20…流入サイフオン形成管、21…排水
サイフオン形成弁、22…排水サイフオン形成
管、23…流入サイフオン用真空タンク、24…
真空醸成タンク、25…真空元弁、26…大気開
放弁、A,B,C,D,E…水位。

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 1 頂部にサイフオン破壊弁を付設した流入サイ
    フオンを配備したサイフオン式ろ過装置におい
    て、流入サイフオン用真空タンクを設置すると
    共にろ過池内に下端が開放され上部に大気開放
    弁を付設した真空醸成タンクを水封的に設置
    し、前記流入サイフオン頂部と前記流入サイフ
    オン用真空タンクとを開閉弁を介して連通し、
    さらに前記流入サイフオン用真空タンクと前記
    真空醸成タンク頂部とを開閉弁を介して連通し
    たことを特徴とするろ過装置。 2 前記流入サイフオン真空タンクを、底面を開
    放し、原水渠内に水封したものである実用新案
    登録請求の範囲第1項記載のろ過装置。
JP13126284U 1984-08-31 1984-08-31 ろ過装置 Granted JPS6148013U (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP13126284U JPS6148013U (ja) 1984-08-31 1984-08-31 ろ過装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP13126284U JPS6148013U (ja) 1984-08-31 1984-08-31 ろ過装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS6148013U JPS6148013U (ja) 1986-03-31
JPH0111281Y2 true JPH0111281Y2 (ja) 1989-04-03

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JP13126284U Granted JPS6148013U (ja) 1984-08-31 1984-08-31 ろ過装置

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JPS6148013U (ja) 1986-03-31

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