JPH01103603A - 光重合性組成物 - Google Patents

光重合性組成物

Info

Publication number
JPH01103603A
JPH01103603A JP63208477A JP20847788A JPH01103603A JP H01103603 A JPH01103603 A JP H01103603A JP 63208477 A JP63208477 A JP 63208477A JP 20847788 A JP20847788 A JP 20847788A JP H01103603 A JPH01103603 A JP H01103603A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
photopolymerizable
mmol
sensitizer
dihydro
formula
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP63208477A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH0217562B2 (ja
Inventor
Albert G Anderson
アルバート・ゴードン・アンダーソン
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
EIDP Inc
Original Assignee
EI Du Pont de Nemours and Co
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from US06/142,173 external-priority patent/US4268667A/en
Priority claimed from US06/221,887 external-priority patent/US4351893A/en
Application filed by EI Du Pont de Nemours and Co filed Critical EI Du Pont de Nemours and Co
Publication of JPH01103603A publication Critical patent/JPH01103603A/ja
Publication of JPH0217562B2 publication Critical patent/JPH0217562B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D295/00Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms
    • C07D295/04Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms with substituted hydrocarbon radicals attached to ring nitrogen atoms
    • C07D295/10Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms with substituted hydrocarbon radicals attached to ring nitrogen atoms substituted by doubly bound oxygen or sulphur atoms
    • C07D295/112Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms with substituted hydrocarbon radicals attached to ring nitrogen atoms substituted by doubly bound oxygen or sulphur atoms with the ring nitrogen atoms and the doubly bound oxygen or sulfur atoms separated by carbocyclic rings or by carbon chains interrupted by carbocyclic rings
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C225/00Compounds containing amino groups and doubly—bound oxygen atoms bound to the same carbon skeleton, at least one of the doubly—bound oxygen atoms not being part of a —CHO group, e.g. amino ketones
    • C07C225/22Compounds containing amino groups and doubly—bound oxygen atoms bound to the same carbon skeleton, at least one of the doubly—bound oxygen atoms not being part of a —CHO group, e.g. amino ketones having amino groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings of the carbon skeleton
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D215/00Heterocyclic compounds containing quinoline or hydrogenated quinoline ring systems
    • C07D215/02Heterocyclic compounds containing quinoline or hydrogenated quinoline ring systems having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen atoms or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
    • C07D215/12Heterocyclic compounds containing quinoline or hydrogenated quinoline ring systems having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen atoms or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom with substituted hydrocarbon radicals attached to ring carbon atoms
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D455/00Heterocyclic compounds containing quinolizine ring systems, e.g. emetine alkaloids, protoberberine; Alkylenedioxy derivatives of dibenzo [a, g] quinolizines, e.g. berberine
    • C07D455/03Heterocyclic compounds containing quinolizine ring systems, e.g. emetine alkaloids, protoberberine; Alkylenedioxy derivatives of dibenzo [a, g] quinolizines, e.g. berberine containing quinolizine ring systems directly condensed with at least one six-membered carbocyclic ring, e.g. protoberberine; Alkylenedioxy derivatives of dibenzo [a, g] quinolizines, e.g. berberine
    • C07D455/04Heterocyclic compounds containing quinolizine ring systems, e.g. emetine alkaloids, protoberberine; Alkylenedioxy derivatives of dibenzo [a, g] quinolizines, e.g. berberine containing quinolizine ring systems directly condensed with at least one six-membered carbocyclic ring, e.g. protoberberine; Alkylenedioxy derivatives of dibenzo [a, g] quinolizines, e.g. berberine containing a quinolizine ring system condensed with only one six-membered carbocyclic ring, e.g. julolidine
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/031Organic compounds not covered by group G03F7/029
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C2602/00Systems containing two condensed rings
    • C07C2602/02Systems containing two condensed rings the rings having only two atoms in common
    • C07C2602/04One of the condensed rings being a six-membered aromatic ring
    • C07C2602/08One of the condensed rings being a six-membered aromatic ring the other ring being five-membered, e.g. indane
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C2602/00Systems containing two condensed rings
    • C07C2602/02Systems containing two condensed rings the rings having only two atoms in common
    • C07C2602/04One of the condensed rings being a six-membered aromatic ring
    • C07C2602/10One of the condensed rings being a six-membered aromatic ring the other ring being six-membered, e.g. tetraline
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C2603/00Systems containing at least three condensed rings
    • C07C2603/02Ortho- or ortho- and peri-condensed systems
    • C07C2603/04Ortho- or ortho- and peri-condensed systems containing three rings
    • C07C2603/06Ortho- or ortho- and peri-condensed systems containing three rings containing at least one ring with less than six ring members
    • C07C2603/10Ortho- or ortho- and peri-condensed systems containing three rings containing at least one ring with less than six ring members containing five-membered rings
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C2603/00Systems containing at least three condensed rings
    • C07C2603/02Ortho- or ortho- and peri-condensed systems
    • C07C2603/04Ortho- or ortho- and peri-condensed systems containing three rings
    • C07C2603/06Ortho- or ortho- and peri-condensed systems containing three rings containing at least one ring with less than six ring members
    • C07C2603/10Ortho- or ortho- and peri-condensed systems containing three rings containing at least one ring with less than six ring members containing five-membered rings
    • C07C2603/12Ortho- or ortho- and peri-condensed systems containing three rings containing at least one ring with less than six ring members containing five-membered rings only one five-membered ring
    • C07C2603/14Benz[f]indenes; Hydrogenated benz[f]indenes
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C2603/00Systems containing at least three condensed rings
    • C07C2603/56Ring systems containing bridged rings
    • C07C2603/86Ring systems containing bridged rings containing four rings
    • C07C2603/88Ethanoanthracenes; Hydrogenated ethanoanthracenes

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は下記式(I)の可視部増感剤を含有する光重合
性組成物に関する。この増感剤はジヒドロ−エタノ(ま
たはプロパノ)アントラセンまたはアセチルテトラヒド
ロナフタレンまたはアセチルインダンおよびジアルキル
アミノアリールアルデヒドから誘導されるものである。
本発明のケトン増感剤は、式 〔式中、 R1およびR2はそれぞれHであるかまたはR’ +R
2は一〇H2−であり、 R3はEであるかまたはR5+ R5は−(CH2) 
2−1− (CH2) 3−および−CH(CH3)C
H2C(OH3) 2−から選ばれ、 R4ばHであるかまたはR4+ R6は−(CH2)2
−および−(C:R2)!−から選ばれ、 R5およびR6は1〜5個の炭素原子を含有するアルキ
ル基であるかまたは一緒になって−(CH2)4−およ
び−ca2ca2ocH2ca2−から選ばれ、そして
nは0または1であるがnが1の場合にはR1およびR
2はHである)または(B)  未置換であるかまたは
1〜4個のアケキル基で置換されたトリメチレ/および
テトラメチレン基から選ばれしかもR7は最大8個の炭
素原子を有している〕 を有している。
R7が(A)である場合、最良の性能の故に好ましい増
感剤はR1、R2およびR8がHでありセしてnがOの
ものである。最も好ましいものはR1、R2、R4およ
びR8がHであり、R5およびR6がそれぞれca5ま
たはC2H5であるかまたはR3+R5が−CH2CH
2CH2−でありセしてnが0である増感剤である。
R7がCB)である場合の最良の性能の故に好ましい増
感剤はR1およびR2がHであり、そしてR7が未置換
であるものである。最も好ましいのはR5およびR6が
それぞれOR5またはC2H5であるかまたはR3+ 
R5が−(CH2) 5−である増感剤である。
本発明の光重合性組成物は、 (i)  光開始付加重合によって高分子量重合体を形
成しうる少くとも1種の非気体状エチレン系不飽和化合
物、 (11)単一共有結合によって一緒に結合された2個の
2.4.5− トリアリールイミダゾリル基よりなる少
くとも1種の2.4.5− トリアリールイミダゾリル
ニ量体開始剤、および 010  少くとも1種の式■のα、β−不飽和ケトン
増感剤 の組合せを包含している。
実際的考察に対しては、通常の大気圧で100℃以上の
沸点を有する化合物(1)を使用することが好ましい。
光重合性組成物は、強度の改善または基体への接着の改
善またはその実施のために重合体結合剤を含有すること
ができる。成分(i)、Oi)および011)および結
合剤の相対濃度は次のとおりでちる。エチレン性不飽和
化合物(1)は、(i)および結合剤の合計重量、10
0部当り約3〜100部の量で存在せしめられる。結合
剤はそれらの合計重量100部当り約O〜約97部の量
で存在せしめられる。開始剤(11)は、(1)および
結合剤の合計重量100部当り約0.01〜20部の量
で存在している。増感剤010は(1)および結合剤の
合計重量100部当り約0.001〜15部、よシ好ま
しくは100部当り約1.0〜10部の量で存在してい
る。
本発明の光重合性組成物は結合剤以外に他の添加剤を含
有しうる。そのような添加剤の種類、および量は当業者
には明白であろう。いくつかの種類の添加剤が本明細書
中に以後に記載されている。
R7が(4)である増感剤は塩化アルミニウムの存在下
に既知の9,10−ジヒドロ−9,10−エタノアント
ラセンまたは9,10−ジヒドロ−9,10−プロ/!
!ノアントラセンをアセチルクロリドまたは無水酢酸と
反応させて相当する2−アセチルまたは2.6(7)−
ジアセチル誘導体を中間体として生成させることにより
製造される。過剰のアセ、チル化剤を使用すると2,6
−および2,7−ジアセチル誘導体の混合物が通常得ら
する。
中間体製造のための典型的な一連の反応は次のとおりで
ある。
CB) 塩基例えば水酸化ナトリウムの存在下における中間体た
るアセチル化合物とp−ジアルキルアミノベンズアルデ
ヒドとの縮合は本発明のα、β−不飽和ケトン(I)を
与える。
R1+R2が−(R2−である本発明の増感剤は例えば
次の一連の反応によシ製造することができる。
(A)                  (C)前
記の一連の反応においてはTiCA4の存在下での1,
1−ジクロロメチルメチルエーテルによる原料炭化水素
のカルボニル化は相当するアルデヒド(C)を与える。
周知の・ぞ−キンまたは関連する縮合反・応による(C
)とマロン酸との縮合は(D)を与え、モしてφ)の触
媒的水素化は置換プロピオン%、 (E)を与える。@
)のpap 5による酸クロリドへの変換およびそれに
続く分子間7リーデルクラフト環化は環状ケトン(3)
を与えうる。
R7が@)である増感剤は塩基例えば水酸化ナトリウム
の存在下に適当なアセチルテトラヒドロナフタレン、ア
セチルインダンまたは相当する環状カルボニル化合物を
p−ジアルキルアミノベンズアルデヒドと縮合させて本
発明のα、β−不飽和ケトンを生成させることによって
製造される。R1=R2=Hのケトン出発物質は、一般
(は相当する炭化水素例えばテトラヒドロナフタレンま
たはインダンをアセチルクロリドまたは無水酢酸で塩化
アルミニウムの存在下に反応させて所望のアセチル誘導
体を生成させることによって製造される。R1+R2が
一0H2−である環状ケトンは、相当する炭化水素例え
ばテトラヒドロナフタレンまたはインダンを塩化アルミ
ニウムの存在下にβ−クロロプロピオニルクロリドと反
応させてβ−クロロプロピオニル誘導体を生成させ、次
いでこの中間体を濃硫酸を使用して閉環して所望の環状
カルボニル化合物を生成させることにより製造すること
ができる。
エチレン性不飽和化合物(1) 意図されている単量体としては水溶性および水不溶性重
合体の両方を形成するものがあげられる。典型的な単量
体は、2〜15個の炭素原子を含有するアルキレングリ
コールまたは1〜10個のエーテル結合を有するポリア
ルキレンエーテルグリコールから製造されたアルキレン
またはポリアルキレングリコールジアクリレート、およ
び米国特許筒2,92ス022号明細書記載のもの、例
えば複数の付加重合性エチレン結合を有するもの(特に
末端結合としてそれが存在している場合)そして特にそ
のような結合の少くとも1(1好ましくはほとんどが炭
素およびペテロ原子例えば窒素、酸素および硫黄に二重
結合されている炭素を含む炭素二重結合と共役している
ものでちる。顕著なのはエチレン性不飽和基特にビニリ
デン基がエステルまたはアミド構造に共役している場合
のそのような物質でちる。2 次の具体的化合物がこの群の例である。アルコール好ま
しくはポリオールの不飽和エステル、そして特にα−メ
チレンカルボン酸とのそのようなエステル例えばエチレ
ングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジ
アク!j L/ −ト、グリセロールトアクリレート、
グリセロールトリアクリレート、エチレングリコールジ
メタクリレート、1,3−プロ/ξンジオールジメタク
リレー) 、  1,2.4−ブタントリオールトリメ
タクリレート、1.4−’シクロヘキサンジオールジア
クリレー)、1.4−はンゼンジオールジメタクリレー
ト、はンタエリスリトールテトラメタクリレート、1,
5−プロノぐンジオールジアクリレート 1t3−’ン
タンジオールジメタクリレート、分子量200〜500
のポリエチレングリコールのビスアクリレートおよびメ
タクリレートその他、不飽和アミド特にα−メチレンカ
ルボン酸のものおよび特にα、ω−ジアミンおよび酸素
中断されたω−ジアミンのもの例えばメチレンビスアク
リルアミド、メチレンビスメタクリルアミド、エチレン
ビスメタクリルアミド、1.6−へキサメチレンビスア
クリルアミド、ジエチレントリアミントリスメタクリル
アミド、ビス(γ−メタクリルアミドプロポキシ)エタ
ンβ−メタクリルアミドエチルメタクリレート、N−(
β−ヒドロキシエチル)−β−メタクリルアミド)エチ
ルアクリレートおよびN、N−ビス(β−メタクリルオ
キシエチル)アクリルアミド、ビニルエステル例えばジ
ビニルサクシ、ネート、ジビニルア、j 、、? −ト
1,5ビニルフタレート、シヒニルテレ7タレート、シ
ヒニルベンゼ7−1.3−ジスルホネートおよびジビニ
ルブタン−1,4−’;スルホ、)−)、スチレンオヨ
ヒソの誘導体および不飽和アルデヒド例えばソルブアル
デヒド(ヘキサジエナール)。
これらの好ましい付加重合性成分の顕著な群はその中の
ヒドロキシル基およびアミン基の間の分子鎖が単に炭素
のみであるかまたは酸素中断された炭素のものであるα
−メチレンカルボン酸および置換カルボン酸とポリオー
ルまたはポリアミンとのエステルまたはアミドである。
この好ましい単量体化合物は多官能性であるがしかし七
ノ官能性単量体もまた使用できる。更に、米国特許第4
043,8CjS号および同第2,929,710号各
明細書の重合可能なエチレン性不飽和重合体および同様
の物質は単独でかまたは他の物質と混合して使用するこ
とができる。ポリヒドロキシ化合物例えばはンタエリス
リトールおよびトリメチロールプロパンのアクリルおよ
びメタクリルエステル、およびエチレンオキサイドおよ
びポリヒドロキシ化合物とのアクリルおよびメタクリル
エステルのアダクト(付加物)例えば米国特許第3.5
80.851号明細書記載のものもまた有用である。米
国特許第3,418,295号および同第3.44 a
 089号各明細書に開示された光交叉結合性重合体も
また使用できる。添加される単量体の量は使用される特
定の重合体によって変動する。その他の有用なエチレン
性不飽和化合物は米国特許第3,661,576号、同
第3,373,075号および同第3.657.618
号各明細書に記載のエチレン性不飽和ジエステルポリヒ
ドロキシポリエーテルである。
多くのエチレン性不飽和単量体は特に長期間高温で保存
された場合熱重合を受けやすい。そのような化合物を工
業的に供給する場合には、それらには少量の熱重合阻害
剤を含有させるのが一般的である。これら阻害剤は以下
の実施例中でなされているように本発明の光重合性組成
物が製造される場合単量体中に残留させることができる
。得られた組成物は通常満足すべき熱安定性を有してい
る。異常な熱さの露出が予期される場合または熱重合阻
害剤をほとんどかまたは全く含有していない単量体が使
用される場合には、単量体の約1〜500ppm(重量
基準)の熱重合阻害剤例えばヒドロキノン、メナルヒド
ロキノン、p−メトキシフェノールおよび米国特許第4
,168,982号明細書に記載のニトロソ二量体阻害
剤系を包含させることによって充分な保存寿命を有する
組成物を得ることができる。
開始剤(11) 単共有結合により一緒に結合された2(l!iIの2.
4.5− )リアリールイミダゾリル基よりなる二量体
は光解離して相当するトリアリールイミダゾリル基とな
る。この二量体は255〜275nm領域で最大に吸収
しそして通常300〜37 Snm域にいくらかのよシ
小さい吸収を示す。吸収バンドはティリングして約43
0nmの高い波長も包含する傾向があるけれども、それ
はその解離に対しては255〜375nm域に富んだ照
射を通常必要とする。
適当な2,4.5−トリアリールイミダゾリルニ量体と
しては2−(o−クロo7エ=ル)−4,5−ジフェニ
ルイミダゾリルニ量体、2−(。−クロロフェニル”)
 −4,5−ジ(m−メトキシフェニル)イミダゾリλ
二量体%2−(0−フルオロフェニル) −4,5−’
、;フェニルイミタソリルニ1体、2− (o−メトキ
シフェニル)−4,5一ジフエニルイミダゾリルニ量体
s  2−Cp−メトキシフェニル) −4,5−シ7
二二ルイミダゾリルニ量体、2t4−:)(T’−メト
キシフェニル)−5−フェニルイミダゾリルニ量体、2
−(2,4−ジメトキシフェニル) −4,5−ジフェ
ニルイミダゾリル二量体、2−(p−メチルメルカフト
フェニル) −4,5−)フェニルイミダゾリルニ量体
その他があげられる。その他の適当な二量体は、こむに
参考のために引用してぃる米国特許第3,652,27
5号明細書第5欄第44行ないし第7欄第16行に開示
されている。
このイミダゾリルニ量体は遊離ラジカル生成性水素また
は電子ドナー例えば2−メルカプトベンゾキサゾール、
2−メルカプトベンズチアゾール、ロイコクリスタルバ
イオレットまたはトリス(4−ジエチルアミノ−2−メ
チルフェニル)メタンと共に使用することができる。そ
の他のロイコ染料例えば米国特許第3,652,275
号明細書、第7欄第24行ないし第11欄第32行に開
示のものもまた使用できる。「ロイコ染料」とはトリア
リールイミダゾリル基により酸化されてその有色形態と
なりうる無色すなわち還元形の染料化合物を意味してい
る。
増感剤01i) 前記に広義に記載されている本発明のα、β−不飽和ケ
トン増感剤は約300〜700 nmの広いスぼクトル
範囲で照射を吸収することが見出されている。最大吸収
(λ工aX)は約350〜550nmそして好ましくは
約400〜500nmの範囲でちる。
その他の添加剤 光重合性組成物はその組成物を強化するかまたはそれを
基体に接着させる働きをする重合体結合剤を含有してい
ることが好ましい。照射透明性およびフィルム形成性重
合体結合剤が好ましい。適当な結合剤の例は少くとも約
1500゜好ましくは少くとも約4000の数平均分子
量を有する熱可塑性高分子有機重合体であるが、これら
としては次のような種類の重合体があげられる。Ga)
テレフタル酸、身ソフタル酸、セパシン酸、アジピン酸
およびヘキサヒドロテレフタル酸をベースとするコポリ
エステル、(b)ナイフ、ンまたはポリアミド、(C)
ビニリデンクロリド共31体%(a)エチレン/ビニル
アセテート共重合体、(e)セルロースエーテル% (
f)合成ゴム、 b>セルロースエステル、戟)、+?
ソリビニルアセテートアクリレートおよびポリビニルア
セテート/メタクリレート共重合体を含有するポリビニ
ルエステル、(1)dリアクリレートおよびα−アルキ
ルポリアクリレートエステル例えばポリメチルメタクリ
レート、ポリメチルメタクリレートおよびメチルメタク
リレート/エチルアクリレート共重合体、(j)約40
00〜i、ooo、oooの平均分子量を有するポリグ
リコールの高分子量ポリエチレンオキサイド、(k)ポ
リ塩化ビニルおよび共重合体><1>Zリビニルアセタ
ール、(ロ)ポリウレタン、(n)ポリカーボネート、
(o)ポリスチレン。
本発明の特に好ましい態様においては、重合体結合剤は
未露光の光重合性コーティングが主として水性溶液例え
ば冷水性アルカリ性溶液に可溶性でおるがしかし活性照
射に露光されると比較的それに不溶となるように選ばれ
る。典型的には、これら要求を満足させる重合体はカル
ボキ/ル化重合体例えば遊離カルボン酸基を含有するビ
ニル付加重合体である。最も好ましい結合剤群としては
カルボキシル基を含有するポリアクリレートエステルお
よびポリ−α−アルキルアクリレートエステルがあげら
れる。特に好ましいのはポリメチルメタクリレートエス
テルでらる。
好ましいポ:)型光重合性組成物においては米国特許第
4,198,242号明細書に開示されたニトロ芳香族
光開始剤を存在せしめる。これら化合物はエチレン系不
飽和化合物と結合剤の合計重量100部当り約α5〜1
5重量部の量で使用される。
露光および現像温度についての改善された寛容度の達成
には広汎な非重合性可塑剤が有効てある。層中に高分子
量結合剤が存在している場合には、結合剤ならびにエチ
、レン性不飽和単量体および組成物中のその他の成分と
相容性の可塑剤が選ばれる。アクリル結合剤の場合には
、例えば可塑剤としてはジブチルフタレートおよびその
他の芳香族酸のエステルがあげられる。
脂肪族多価酸のエステル例えばジイソオクチルアシハー
トおよびナイトレートエステル、グリコール、ポリオキ
シアルキレ/グリコール、脂肪族ポリオールの芳香族ま
たは脂肪族酸エステル、アルキルおよびアリールポス7
エート、低分子量のポリ−α−メチルスチレンのポリエ
ステル、塩素化、6ラフインおよびスルポンアミドタイ
プのものを使用することができる。一般により大なる高
湿度保存安定性のために水溶性可塑剤が好ましい。しか
しながらこれは改善された寛容度を得ることのためには
必要ではない。
その他の不、3性添加剤例えば染料、顔料および充填剤
を使用することができる。これら添加剤は一般には少量
で存在させて光重合性層の露光を阻、害することのない
ようにする。
光重合性組成物のための基体 この光重合性組成物は広範囲の種類の基体上にコーティ
ングすることができる。「基体」とは任意の天然または
合成支持体好ましくは可撓性または剛性のフィルムまた
はシート形態で存在しうるものを意味している。例えば
この基体は金属シートまたは箔、合成有機樹脂のシート
まタハフイルム、セルロース紙、ファイバーボードその
他またはこれら材料の2種またはそれ以上の複合体であ
りうる。
関係する使用用途によって、一般に特定の基体が決定さ
れる。例えば印刷回路の製造の場合には、基体はファイ
バーボード上の鋼コーティングであるプレートでありう
る。石版印刷プレー4製造の場合にはその基体はアノー
ド処理アルミ1ウムでありうる。特定の基体としては、
アルミナブラスト処理アルミニラム隻アノード処理アル
ミニウム、アルミナプラスト処理ポリエチレンテレフタ
レートフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム
例えば樹脂下塗りポリエチレンテレフタレートフィルム
、ポリビニルアルコーヤコーティングした紙、交叉結合
ポリ1ステルコーテイング紙、ナイロン、ガラス、七k
 O−スアセテートフイルム、を質紙例えば石版印刷紙
その他があげられる〇 /゛L/−ジョン防止作用物質を光重合性組成物層o下
、 例えば基質中かまたはその表面上に使用することが
できる。ハレーション防止層を光重合性層と基体との間
に使用する場合にはその層ハ基体オよび光重合性層に対
し七充分な接着を有していなくてはならずそして照射吸
収性物質と反応してはならない。ハレーション防止性顔
料および樹脂担体は英国特許−1,566,769号明
細書に記載されている。
光重合性組成物は通常担体溶媒中の溶液または分散液と
して基体に適用される。この溶液または分散液はスプレ
ー、刷毛塗り、ローラーまたは含浸コーターによる適用
、表面□上への流速、含浸またはその他の適当な手段に
よる基体への適用によるものでありうる。次いで溶媒を
蒸発せしめる。一般に常圧で揮発性の溶媒が使用される
。適当な溶媒の例としては水、アミン例えばN、N −
NメチルホルムアミドおよびN、N−ジメチルアセトア
ミド、アルシールおよびコータk 7 ル=r−ル例エ
バメタノール、エタノール、1−プロパツール、2−プ
ロ/!!ノール、ブタノール、エチレングリコール、2
−ブトキシェタノールおよび2−エトキシエタノール、
エステル例えば酢酸メチルおよび酢酸エチル、芳香族炭
化水素および芳香族ノ・口炭化水素例えばベンゼン、0
−ジクロロベンゼンおよヒドルエン、ケトン例えばアセ
トン、2−ブタノンおよび3−はンタノン、脂肪族ハロ
炭素例えば1.Ll −トリクロロエタン、メチレンク
ロリド、クロロホルム、1,1.2−トリクロロエタン
、1.1.2,2−テトラクロロエタン、  1,1.
2− ) ’J クロロエチレンその他の溶媒例えばジ
メチルスル享キサイド、ピリジン、テトラヒドロフラン
、1.2−ジメトキンエタン、ジオキサン、ジシアノシ
クロブタン、N−メチルピロリドン、および溶解の達成
に要求されうる種々の比率におけるこれら溶媒の混合物
があげられる。あるいはまた、光重合性組成物をフィル
ムの形態に成形することができ、そしてこのフィルムを
基体に適用することかできる。
好ましくは光重合性組成物の層は約0.0001インチ
(0〜2.5 ttm ) 〜0. Oiインチ’:〜
250μm)の範囲の厚さを有しており、そして光重合
性層に活性線照射を透過させうる薄い可撓性の重合体フ
ィルム支持体に遣手される。光重合性層の反対側にはそ
れにフィルム支持体に対するよりも小さい接着性を層に
対して有しているような保護カバー層またはカバーシー
トを接着させることができる。特に好ましい支持体は約
0.001インチ(〜25μm)の厚さを有する透明ポ
リエチレンテレフタレートフィルムでチル。0.OL1
インチ(〜25μm)のポリエチレンは好ましいカバー
シートである。ポリビニルアルコールコーティング(ま
好ましいカバー層である。
α、β−不飽和クトンり感剤吸収帯域と重複するスにク
トル領域の波長を与える任意の便利な活性線照射源を使
用してドリアリールイミダゾリルラジカル形成のために
この光重合性組成物を活性化させ、像形成させそして光
1合を開始させることができる。この照射は天然または
入子的な龜の、単色性または多色性なもの、非干渉性ま
たは干渉性のものであることができ、そして高い効率の
ためにはそれは増感剤主吸収帯域の波長に近密に相当す
るものであるべきでありそして増感剤の実質的部分を活
性化させるに充分な強度のものであるべきである。
通常の照射源としては波長405,436および546
n、m(水銀)付近に中心を有する狭いかまたは広い照
射電域を与える蛍光灯、水銀、金属添加およびアークの
各ランプがあげられる。干渉性照射源はその乳剤(エマ
ルジョン)が増感剤の可視吸収否内に入るかまたはこれ
とオーバー5ツフスるパルス式キセノン、アルゴンイオ
ンおよび/またはイオン化されたネオンのレーザーであ
る。光感受性物質上に描写するためにプリントアウト系
に広く有用である紫外線および可視光線を発生する陰極
線管もまた本発明の組成物中では有用である。これら陰
極線管は電気エネルギーを光エネルギーに変換させるた
めの手段としての紫外線または可視光線を発生する蛍光
体内部コーティングおよび照射を光感受性ターゲットに
導くための手段としてのファイバーオプチツクフェース
プレート(fiber optic facs pla
te )を包含している。
電子加速装置および適当なマスクを通した電子ビーム源
もまた適当である。
照射露光時間は使用される放射の強度およびスはクトル
的エネルギー分布、その光重合性層からの距離および層
中の不飽和化合物の性質および量によ゛つて数分の1秒
から数分まで変動しうる。慣習的に光重合性層から約1
.5〜60インチ(3,8〜153α)の距離が使用さ
れる。露光温度は特に臨界的ではないがしかじ犬約常温
またはわずかにより高い温度すなわち約20’〜50℃
で操作することが好ましい。
像様露光は便利には光重合性エレメントを透明画すなわ
ち使用される活性機照射に対して実質的に不透明な部分
(不透明部分は実質的に同一光学濃度でありうる)およ
び実質的に透明な部分よりなる像含有透明体、例えばい
わゆるラインまたはハーフトーン陰画または陽画を通し
て活性機照射に露光させることによって実施される。適
当なプロセス透明画としてはまた、段階つき不透明部分
範囲を有するもの例えば連続調陰画があげられる。プロ
セス透明画はセルロースアセテートフィルムおよびポリ
エステルフィルムを含む任意の適当な物質から構成させ
ることができる。
露光の後に儂を現像させる。現像は調色すなわち粘着性
未硬化部分に選択的に接着する微細顔料での散粉(ダス
ティング)によるか、染料吸収によるかまたは拡散の調
節によるものでありうる。しかしながら一般には未露光
部分に相当する層部分を例えば石版印刷適用の場合のよ
うに除去する。この現像性は、圧転写、露光−非露光部
分間の接着性の差、剥離転写の使用、そして好ましくは
溶媒洗去により達成することができる。現像に使用され
る溶媒液体は組成物の非重合部分には良好な溶媒作用を
有するべきであシそして溶性部分除去に要求される時間
内では不溶性化、された像にはほとんど作用を有しない
ものであるべきである。
有用性 本発明の光重合性組成物はほとんど残存色を有しておら
ず、そして良好な溶解性および保存寿命を有している。
それらはオフセットおよび凸版用印刷プレート、工業用
製図フィルムならびに印刷回路の製造または化学ミル処
理におけるホトレジストおよびはんだマスクとして有用
である。それらはまた、ビデオディスクの製造にも有用
である。印刷プレート適用においては重要な用途は陽画
光重合体リン(11itho)印刷プレートの陽画/陰
画2回露光画像形成系においてである。この組成物はま
た陽画として働く光重合体リン(lithe)フィルム
においても有用である。更にその他の用途はカラープル
ーフに適当な色分解陰画からの着色画像生成のためのも
のである。これらエレメントを使用して製造された画像
は基体への熱転写によるコピー製造に使用することがで
きる。その他の具体的用途は当業者には明白であろう。
ホトレジスト適用においては、この組成物から製造され
た薄いフィルムレジストがマイクロ回路の製造に有用で
ある。レジストは溶媒可溶性であるかまたは水性現像性
である。はんだマ哀りは、はんだを板上のパッド部分に
局限しそして着色操作および成分のはんだづけの間に伝
導体間にブリッジが形成するのを阻止するために印刷回
路板表面の一部に選択的に適用される保腰コーティング
である。はんだマスクはまた、ベースの銅伝導体の腐食
を阻止または最小化させる働きをし、また隣接回路に対
するある成分の絶縁のための誘電体としても働く。
本発明のα、β−不飽和ケトン増感剤を含有する光重合
性組成物は良好な可視部増感を示す。
感光速度の上昇はそれに関連するエネルギーおよびコス
トの節約の結果となる。その理由は光重合性エレメント
の露光により低いエネルギー源を使用しうるからであり
、あるいはまたある一定時間中により多数のエレメント
を露光および現像させうるからである。あるいはまた、
既知の増成エレメントに対して通常であるよりも一層犬
なる距離に保持された露光源によって光重合性層を露光
させることができる。このことは露光放射の平行化(コ
リメーション)を可能ならしめ、これは実質的に垂直の
サイド(@抗)を有するハーフトーン網点の形成に特に
有利である。増感剤の有効性に加えて広い増感範囲は最
初の紫外線スはクトル領域での像様露光およびそれに続
く特定のニトロ芳香旅先阻害剤を′使用しての可視スR
クトル領域での全体的露光による二重露光法によって有
用な陽画重合体°像を生成させることを可能ならしめる
次の実施例は本発明を説明するためのものである。特に
記載されていない限りはすべての部および係は重量基準
であり、そしてすべての温度は摂氏度である。例1〜5
および例16〜18はR7が(A)である増感剤の製造
を記載し、そして例6〜15および例19〜21は前記
増感剤を含有する光重合性組成物の製造を記載している
例22〜30はR7がCB)である増感剤の製造を記載
し、そして例31〜39は前記増感剤を含有する光重合
性組成物の製造を記載している。
例1〜21はR7が(4)である増感剤の製造のための
中間体の製造を示す。
反応成分たる2−ア七チルー9,10−ジヒドロ−9,
10−エタノアントラセンは次の方法により製造された
。500−のジクロロエタン中の100t (0,48
5M )の9.10−ジヒドロ−9,10−エタノアン
トラセンと5C1(0,49M)の無水酢酸の攪拌溶液
に0〜10°において135F(1,01M)の塩化ア
ルミニウムを1.5時間にわたって少量づつ加えた。こ
の淡褐色混合物を室温で1晩攪拌しそして500−の水
および100−の6 N H(1!J!の連続的添加に
よって分解した。有機層を分離し、そして水性層をca
2cn2で2回抽出し、塩水で洗い、乾燥させそして蒸
発させた。残・存する、  粘稠な油状物をヘキサンか
ら結晶化させると10α8f(84,4%)の2−アセ
チル−9,10−ジヒドロ−9,10−エタノアントラ
センが得られた。
m、p、 91°〜92°、pmr(C!DCfi5)
δ1.67 (t、 41゜ブリッジ)、2.52(s
 、 3H,CB5)、4.37 (s + 2E 。
ブリッジヘッド)、&95〜7.35(m、5H)、7
.60−7.90(aXaおよびd、2H)。
反応成分たる2 、6(7)−ジアセチル−9,10−
ジヒドロ−9,10−エタノアントラセンは次のように
製造された。125−のジクロロエタン中の10100
2(l175のhncn5の灰色懸濁液に20’〜25
°で1時間かけて無水酢酸35−(037M)を加えた
。21f(α10M)の9,10−ジヒドロ−9,10
−エタノアントラセンの125−のジクロロエタン中の
溶液を20°で30分間かけて加えた。
この暗褐色懸濁液を室温で一晩攪拌し、加熱して約12
5−の溶媒を留去させ、冷却しそして8゜−の@HCI
を含有する氷水中に注いだ。有機層を分離し、そして水
性層を2回cm2cn2で抽出した。合した有機抽出液
を飽和塩化ナトリウム溶液で洗い、乾燥させそして蒸発
させた。暗色の残存する油状物のトルエン溶液を木炭で
処理し、炉遇し、蒸発させ、そしてその残渣を200’
空気浴からバルブ蒸溜によって真空蒸溜すると、1a(
1(62%)(7)2.6(η−シアー1=チルー 9
.10−ジヒドロ−9,10−エタノアントラセン混合
物がこはく色のガラス様物質として得られた。Cl1c
x3中のpmrは余分のアセチル基を示した。コ23中
のpmr:1.65(8,4、IH,ブリッジ)、2.
50(a。
6.9 H、OH5)、4.as(ey2.OHtブリ
ッジヘッド)、7、30 (aに8Hz 、 2.3H
、芳香族)、7.73(lxdJz8゜1.5H2、2
,OH、芳香族)、7.90 (1Jz1.5Hz 、
 2.OH。
芳香族)。
例  1 3−(4−(uメチルアミン)フェニル〕−1−(9,
10−ジヒドロ−9,10−エタノアントラセン−2−
イル)−2−プロはノー1−オン(2)(り 2.3fのアージメチルアミノベンズアルデヒド(15
ミリ′モル)、五7fの2−アセチル−9+10−uヒ
ドロ−9,10−エタノアントラセン(1) (15ミ
リモル)、および166F(16,5ミリモル)の水酸
化ナトリウムの100−のエタノール中の溶液を40°
〜45°で18時間窒素下に攪拌した。黄色固体が沈澱
した。これを−過により分離し、そして300tI#t
のエタノールから再結晶させると1.1fの生成物(2
)すなわち3−〔4−(ジメチルアミノ)フェニル) 
−1−(9,10−ジヒドロ−9,10−エタノアント
ラセン−2−イル)−2−プロはノー1−オンが得られ
た。
炉液の一部を蒸発させそして水を加えて最終容積約10
01at(25%水)としそして冷却すると更に2.1
fの生成物が得られた。放置するとこの反応混合物から
更K 1. Ofの(2)が沈澱した。合計収量4.2
f(74To>。III−P、 184°〜186°。
λ、na、 (021!501り : 41 anm 
(ε−3&500)、270nm(15,200)。計
算値(c27a25Mo ) : 0 、85.45、
Ht6.64:N、五69、実測値: 0 、85.0
6 、84.91 :H,6,89,6,92:11,
3.66、五65゜例  2 3−(4−(ジエチルアミノ)フェニル〕−1−(9,
10−ジヒドロ−9,10−エタノアントラセン−2−
イル)−2−プロはノー1−オンG)14.59の −
,5エチルアミノベンズアルデヒド(α0805M)、
2αOfの(1)(α0805M)および−5,6tの
水酸化ナトリウム(0,090M)の400−のエタノ
ール中の溶液を約62°で48時間窒素下に攪拌した。
この反応混合物を0°に冷却し、そして沈澱した固体生
成物を一過によシ分離し、そして冷エタノールで洗うと
17.69 (54%収率)の生成物(3)として3−
〔a−(*エチルアミノ)フェニル) −1−(9,1
0−ジヒドロ−9,10−エタノアントラセン−2−イ
ル)−2−−/口はノー1−オンが得られた。この炉液
を蒸発させ、そしてその残渣をエーテルおよび水にとっ
た。その有機層を水洗し、乾燥させそして蒸発させると
赤色油状物が得られた。とれをエーテルに溶解させ、そ
してこの溶液を中性アルミナのカラムに通した。エーテ
ルを蒸発させ、そしてその残渣を100−〇熱エタノー
ルに溶解させた。沈澱が生ずるまでこの溶液を徐々に冷
却させ次いで水浴中で冷却させると更に7.6f(23
チ収率)の(3)が得られた。
CLO15Mスケールで製造された生成物試料をシクロ
ヘキサンから再結晶させた。m−P* i Q O”〜
101°。λwax (”OJ’5) : 423 a
m (g=2スフ00)。
280nm(16,900)。計算値(02g!12g
1io) : C,85,46:!!、7.17:N、
A44、実測値:c、as、11:a、zio:N、3
.21゜ 例  3 1− (9,10−ジヒドロ−9,10−エタノアント
ラセン−2−イル) −3−(1,2,6,7−テトラ
ヒドロ−3H,5H−ベンゾ〔1,j:+キノリジンー
9−イル)−2−プロはノー1−オン(4)3、Ofの
9、−ホルミル−1,2,6,7−テトラヒドロ−3H
,5H−ベンゾ(t+、Dキノリン(15ミリモル)、
3.7fの(1)(15ミリモル)および0.66fの
水酸化ナトリウム(16,5ミリモル)の75−のエタ
ノール中の溶液を窒素下に約61fで30時間攪拌した
。この反応混合物を室温に64時間放置した後、赤色固
体が分離した。これを上澄液を注ぎ去ることにより分離
した。この固体を沸騰シクロヘキサンに溶解させ、そし
てこの溶液を濾過して少量の暗色固体を除去した。冷却
後、1.4P(22%)の橙色固体として1− (9,
10−ジヒドロ−9,10−エタノアントラセン−2−
イル) −3−(1,,2,6,7−チトラヒドロー3
H+5H−にンゾCi、j)キノリジン−9−イル)−
2−プロぼノー1−オンが得られた。
m−p、 10’3〜105°。84〜86°でいくら
かの初期軟化を生ずる。λwax (cacx3) :
 440 nm (ε=25.700)、363nm(
a920)、274 nm (15,400)。
計算値(C!31H29NO) :Cl 86.27 
:H,6,77:N 。
3.24、実測値:0 、84.43 、84.35 
:H,6,69、7,01:N、五20.五〇5゜ この上澄液に水およびエーテルを加え、そしてその有機
層を水洗し、乾燥させそして蒸発させて暗色油を生成さ
せた。この油状物を沸騰シクロヘキサンに溶解させ、そ
して−過していくらかの暗色物質を除去した。そのF液
を前の再結晶母液と合し、約100−まで蒸発させ、そ
して−晩装置した。暗色油状−物が分離した。水中で冷
却すると暗、色油状物は固体となり、そして黄色結晶が
分離した。この黄色結晶を炉別しそして乾燥させると更
に1.Ofの生成物が得られた。母液を蒸発させると更
に0.82が得られた。
合計収量3.2t(49%)。
例  4 2.6(7)−ビスCp −(、uエチルアミノ4)シ
ンナモイル) −9,10−ジヒドロ−9,10−エタ
ノア1.774のp−ジエチルアミノベンズアルデヒド
(10ミリモル)、1.45Pの2,6−ジアセチル−
9,10−’)ヒドロ−9,10−エタノアントラセン
、!−2,7−ジアセチル−9,10−ジヒドロ−9,
10−エタノアントラセン(5) (5ミリモル )と
の混合物およびα22?の水酸化ナトリウム(5,5ミ
リモル)のエタノール30mt中の溶液を窒素下に約6
0°で4時間攪拌した。次いでエタノールの添加によっ
てこの体積を°50mjtで上昇させ、そしてこの反応
混合物を18時間加熱還流させた。冷却すると暗黄色固
体が分離した。これを炉別した。縮合生成物(6)の収
量は0.7C1(23%)であった。融点範囲は170
〜175°であった。この戸液をクロロホルムで希釈し
そして橙色層を水洗した。蒸発させると暗赤色油状物が
得られた。これをシリカゲル上でのクロマトグラフィー
にかけた。メチレンクロリドで溶出させると0.62(
20%)の暗黄赤色固体を与えた。λmax(caca
o) 424nm (ε=33,400)、265nm
 (ε=36,200) 、  計算値(C42H49
N202) :C182,86;H,7,28: N、
4.60、実測値: C,80,14,80,76: 
H,7,08゜6.93; N、3.93.3.85゜
例  5 2.6(7)−ビス〔p−(ジメチルアミノ)シンナモ
イル) −9,10−ジヒドロ−9,10−エタノアン
トラセン(7) 0.7459(5ミリモル)のp−ジメチルアミノベン
ズアルデヒド、0.7259 (2,5ミリモル)の2
.6(7)−ジアセチル−9,10−ジヒドロ−9,1
〇−エタノアントラセンの混合物(5)および0.11
?(2,75ミリモル)の水酸化ナトリウムのエタノー
ル30ゴ中の溶液を65時間窒素下に60゜で加熱攪拌
した。更に10−のエタノールを加え、そして更に8時
間この混合物を加熱還流させ、そして次いで徐々KO°
に冷却させた。沈澱した固体を分離し、エタノールで洗
いそして乾燥させるとα6f、(43%収率)の縮合生
成物(7)を与えた。λ、111.x(cuc’z3)
 423nm (ε=29,200) :263nm(
ε=32200>。計算値(C5aH56N202):
C*82!58: H,6,57:N、5.07、実測
値: C,7a35.7a38: J6.23,6.1
8:N 、 3.92 、4.03゜ 下記例6〜11の基体として使用された配向ポリエステ
ルフィルムは、米国特許第3,443,950号明細書
に記載されているビニIJデンクロリド/アルキルアク
リレート/イタコン酸共重合体とアルキルアクリレート
重合体の継続的に重合された混合物を包含する共重合体
樹脂で下引きされた4ミル(102μm)厚さのポリエ
チレンテレフタレートフィルムであった。前記の共重合
体樹脂にはコーティングの前にアンモニアで分散された
メチルメタクリレート/エチルアクリレート/アクリル
酸(37:56:7 )ターポリマー(分子量260,
000、酸敗76〜86)を加えた。このコーティング
したフィルムを延伸させそして水中のこのターポリマー
の薄層を第一の下引きコーティング上に加えた。
これらの例の光感受性エレメントの露光に使用された放
射光源は60インチ(t52cIn)の距離の4KWパ
ルス式キセノンアーク(マクベス)であった。
この露光エレメントを自動処理機に通して処理した。こ
の装置では、各側に記載の速度で米国特許第4,142
,194号明細書記載のようにしてフィルムを供給し、
偉形成し、直通通路を現儂区域に入り、次いで洗浄区域
そして最後に乾燥区域に達せしめる。処理温度は22.
2°であり、溶媒は炭酸カリウムおよび重炭酸カリウム
の混合物の水性溶液であった。処理エレメントは32.
2°の洗浄チャンバー中で水洗さ孔た。
例  6 次の光重合性組成物を製造した。
水性成分            使用重量(t)蒸溜
水              6a6有機成分 テトラエチレングリコールジメタクリレート    1
.7トリメチロールプロパントリアクリレート1.7例
2の増感剤           0.IN−ニトロベ
ラトルアルデヒド光阻害剤    、0.562−(o
−クロロフェニル)−4,5−シフ   0.6工ニル
イミダゾリルニ量体 メチレンクロリド                &
5両成分を合し、そしてこの混合物を5分間プレングー
中で乳化させた。この乳剤に次の化学構造すなわち(0
8F17SO2N(C!2H5)CH3CO2)OK■
を有する弗化炭化水素表面活性剤の25%水溶液2?を
加えた。この混合物を2ミル(〜51翔)ドクターナイ
フを使用して配向ポリエチレンテレフタレートフィルム
基質の樹脂下引き側にコーティングした。このコーティ
ングを熱風ジェットカンで乾燥させた。この乾燥フィル
ムを95°〜100°に5分間加熱し、そして配向ポリ
エチレンテレフタレートフィルムカバーシートをその上
に積層させた。
この光感受性エレメントの部分をカバーシートに密着さ
せたプロセス透明画を介して5〜25秒間放射に露光さ
せた。透明画を除去し、そしてそのエレメントを400
 nm以下のすべての放射を吸収するカットオフフィル
ターを通して40秒間全体的に再露光させた。このエレ
メントを自動処理機を通して8フインチ/分(221m
/分)の速度で処理して良好なきれいな陽画像を生成さ
せた。
例  7 例6の光重合性組成物を製造したがただしここでは例2
の増感剤を例3の増感剤0.229で置換させた。乳化
された組成物から製造された光感受性エレメントの一部
をカバーシートに密着させたプロセス透明画を通して1
0秒間放射して露光させた。この透明画を除去し、そし
てカットオフフィルターを通してこのエレメントを全体
的に25秒間放射して露光させた。このエレメントを4
9インチ/分(124cr11/分)の速度で自動処理
機を通して処理して低水準のバックグラウンドを有する
きれいな陽画像を生成させた。
例  8 例6の光重合性組成物を製造したがただしここでは例2
からの増感剤を例1からの増感剤0.2Ofで置換させ
た。乳化組成物から製造された光感受性エレメントの一
部をカバーシートに接触状態にある透明画を通して10
秒間放射して露光させた。この透明画を除去しそしてカ
ットオフフィルターを通してこのエレメントを全体的に
25秒間放射して露光させた。このエレメントを49イ
ンチ/分(124crn/分)の速度で自動処理機を通
して処理してほぼ清浄なパックグラウンド上のシャープ
な陽画像を生成させた。
例  9〜11 例6〜8に記載のようにして光重合性組成物を製造し、
そして光感受性エレメントをこれら各組成物から製造し
た。光感受性エレメントの一部をカットオフフィル)−
を通してプロセス透明画なしで各側において全濃度の光
沢性画像を生成させるに充分な時間放射して露光させた
露光エレメントを自動処理機を通して未露光組成物を除
去する最大速度で処理した(清浄化速度)。その結果は
表1に要約されている。
表  1 例    増感剤(実施例NIL)    相対写真速
度9            2          
   1.210         31.5 11            1          
   1.0例  12 次のストック溶液が製造された。
成   分              重量(f)ク
リレート (MY 260. OOO) ル化されたもの、MWlo、、000)2−(0−クロ
ロフェニル) −4,5a6−シフエニルイミダゾリル
ニ量体 メチレンクロリド              527
メタノール              40このスト
ック溶液10fに0.0407fの6−ニトロベラトル
アルデヒド光阻害剤および0.01402の例1からの
増感剤を加えた。こめ溶液の一部を2ミル(51μmn
)ドクターナイフを使用して例6記載の配向ポリエステ
ルフィルム基体の樹脂下引き面上にボードコーティング
しそしてそのコーティングを風乾させた。乾燥されたコ
ーティングに1ミル(25μm)配向ポリエステルフィ
ルムカバーシートを826で4フイ一ト/分(1,22
m/分)の速度で40 psi (276kPa)を積
層させた。
光感受性エレメントの表面の半分を黒色ポリくさびプロ
セス透明画を置きそしてこのエレメントを真空印刷フレ
ーム中に置いた。38インチ(96cm )の距離で2
KWパーキー水銀ホトポリマーランプからの放射に対し
て10単位の放射量に相当する時間像様露光(陽画露光
)を行わせた。ポリエチレンシートを除去し、セしてr
階段くさびを前もって遮蔽しておいた区分上に置いた。
実質的くすべての約420 nm以下の放射を吸収する
 σ、■、カットオフフィルターをこのプレート上に置
きそしてプレートに30単位の露光を与えた。この最終
露光は遮蔽区分に陰画露光を与えそして他方の半分の上
の2回μ光陽画操作を完成させた。露光エレメントを2
26の1556fの蒸溜水、849の炭酸カリウム(1
,5u2o )および5tの炭酸水素カリウムから製造
された溶液中で現像しそしてこの現像したエレメントを
40’psi (276kPa )の32゜の水スプレ
ーで洗った。10秒の現像時間は1の陽画様式速度(す
なわち陽画像の最初の階段が未重合である)および10
の陰画様式速度(すなわち陰画像が10個の完全および
部分重合された階段を示す)を与えた。
例  13〜15 列12に記載のようKして光重合性組成物全製造し、露
光させそして現像したがただし例1からの増感剤を表2
に示した増感剤で置換させそして6秒の現像時間が使用
された。表2に要約されているその結果は各々の場合に
良好な画像が得られたことを示している。
表  2 0.0151 14  例3     6   10 0.0160 15  例4     7    5 0.0112 例  16 3−[:4−(1−ピロリジノ)フェニル〕−1−(9
,10−ジヒドロ−9,10−エタノアントラセ/−2
−イル)−2−プロはノー1−オン(8)6.7fの2
−アセチル−9,10−ジヒドロ−9,10−エタノア
ントラセン(15ミリモル)、2.62のp−(1−ピ
ロリジノ)ベンズアルデヒド(15ミリモル)、0.6
67の水酸化ナトリウム(16,5ミリモル)のエタノ
ール100me中の溶液を窒素下に40〜50°で60
時間攪拌した。
この反応混合物を更に60時間25°に放置した。
沈澱した黄色固体を冷却(水浴)反応混合物から分離し
、そして冷エタノールで洗うと4.22(69チ収率)
の反応生成物(8)が得られた。
m、p、 162°〜164°。λ、H>z (cuc
n5) : 422nm(ε=31.300)、 33
0nm(lh:4240)、 277nm(22,70
0)。
nmrスぼクトルは帰属された構造に一致した。
計算値(C29H2,No)  : C,85,89:
 J6.71S L3.45、実測値: C,85,0
1,85,32: H,6,60,6,63: N、3
.24,3.19゜例  17 S−+:4−(4−モルホリノ)フェニル〕−1−(9
,10−ジヒト′ロー9.10−二タノアントラセン−
2−イル)−2−プロRンー1−オン(9)3.722
の2−アセチル−9,10−ジヒドロ−9,10−エタ
ノアントラセン(15ミリモル)、2.87rOp −
(4−モルホリノ)ベンズアルデヒド(15ミリモル)
およびCL66fの水酸化ナトリウム(16,5ミリモ
ル)のエタノール10〇−中の溶液を窒素下に約50°
で26時間攪拌した。この反応混合物を00に冷却しそ
して黄色固体生成物をテ過により分離し、そして冷エタ
ノールで洗うと4.1f(65%収率)の生成物(9)
が得られた。m−p、 142°〜145’。λmax
 (cHc/!3) :382nm (ε=21,10
0) 、 272nm (16,400)。
計算値(C!29H27NO2)  :  C,82,
63: H,6,46: N、3.32、実測値: C
,82,60: H,6,42: N、3.17゜例 
 18 3−(1−エチル−1,2,3,4−テトラヒドロキノ
ール−6−イル)−1−(9,,1f:l−ジヒドロ−
9,10−エタノアントラセン−2−イル)−2−ブロ
Rン−1−オン(10) 3.72の2−アセチル−9,10−ジヒドロ−9,1
0−エタノアントラセン(15ミリモル)、2.82の
1−エチル−1,2,3,4−テトラヒドロキノリン−
6−カルボキシアルデヒド(15ミリモル)および0.
66F (16,5ミ!Jモル)の水酸化ナトリウムの
エタノール90d中の溶液を窒素下に24時間約50°
で攪拌した。この反応混合物をエーテルおよび水の混合
物中に注ぎ有機層を分離し、水洗しそして硫酸ナトリウ
ム上で゛乾燥させた。エーテルを蒸発させると4. O
f(64%収率)の黄色固体生成物(10)(m−p、
7゜〜72c′)が残った。nmrスはクトルは帰属さ
れた構造に合致した。
λmaw (cacx5) : 433nm(ε=21
,500)、356nm (9490)、272nm(
15,300)。
例  19〜21 例12に記載のようにして光重合性組生物を製造し、露
光させそして現像したがただし例1からの増感剤を表3
に示した増感剤で置換させそして7秒の現像時間が使用
された。表3に要約されているその結果は各々の場合に
良好な画像が得られたことを示している。
表  3 0.0150 20  例17    4   7 α0156 21  例18    6    9 0.0155 次の例22〜39はR7が(B)である増感剤製造のた
めの中間体の製造を示す。
反応成分たる1− (2,3−ジヒドロ−IH−インデ
ン−5−イル)−エタノン(5)は次の方法で製造され
た。攪拌機を付した3頚12容丸底フラスコに500−
のメチレンクロリドに溶解させた60fのインダンおよ
び50fのアセチルクロリドを加えた。との反応フラス
コを水浴中で冷却し、そして塩化アルミニウム(75f
)を徐々に大形ゴムチューブ片を通して加えた。 、添
加完了後、この反応混食物を2時間還流加熱したが、激
しい塩化水素ガスが発生した。この反応混合物を冷却し
そして50−の濃塩酸を含有する氷水中に注いだ。この
反応混合物をチーチルで抽出しそしてそのエーテル抽出
液を合しそして乾燥させた。エーテルを蒸発させそして
その残渣を1500および水流アスピレータ−圧で蒸溜
すると33.1(41チ)の1− (2,3−ジヒドロ
−IH−インデン−5−イル)−エタノンが得られた。
反応成分たる6−アセチル−1,2,3,4−テトラヒ
ドロナフタレン(1)は同様の方法によって1.2,3
.4−テトラヒドロナフタレンから製造された。
3.5,6.7−テトラヒドロ−5−インダセン−1(
2H)−オン(8,8−ヒドロインダセン−1−オン)
および2,3,5,6,7,8−ヘキサヒドロ−IH−
ベンズ〔f〕インデン−1−オン(12)の製造ITJ
、e Chem、SOc、Perkin工」第527〜
530頁(1972)に詳細に記載されている。化合物
(8)は次のように製造された。メチレンクロリド中の
ヒドロインデンおよびβ−クロロゾロピオニルクロリド
の溶液中に粉末塩化アルミニラムラ18℃で1時間攪拌
混入した。次いで溶媒を溜去し、冷却残渣を硫酸で滴加
処理しそしてこの混合物を加熱した。氷で分解させそし
て生成物をエーテル中に抽出した後、このケトンを真空
蒸溜およびヘキサンからの再結晶により精製した。
化合物(12)は次のような別法によシ製造された。テ
トラリンをジクロロメチルエーテルおよび四塩化チタン
触媒を使用してホルミル化させてる一ホルミルテトラリ
ンを生成させた。アミン触媒の存在下でのこのアルデヒ
ドとマロン酸との反応は置換アクリル酸を与えた。この
二重結合の接触水素化は相当する置換プロピオン酸であ
る6−(6−チトラリル)プロピオン酸を与えた。五塩
化燐でこの酸を酸クロリドに変換させ、次いで塩化アル
ミニウムで環化させると所望の2.3,5.6,7.8
−ヘキサヒドロ−IH−ベンズ〔f〕インデン−1−オ
ンを与えた。
例  22 3−(4−(ジメチルアミノ)フェニル〕−1−(5,
6,7,8−テトラヒドロナフタレン−2−イル)−プ
ロにノー1−オン(12) 2.612の6−アセチル−1,2,3,4−テトラヒ
ドロナフタレン(15ミリモル) (11)、2.2”
l?のp−ジメチルアミノベンズアルデヒド(15ミリ
モル)およびα66fの水酸化す) IJウムのエタノ
ール50ゴ中の溶液を窒素下に約6o°で90時間攪拌
した。この反応混合物を水浴中で冷却し、そして沈澱し
た固体として5−C4−ジメチルアミノ)フェニル] 
−1−(5,6,7,8−fトラヒドロナフタレン−2
−イル)−2−プロはノー1−オンを濾過により集め、
そして冷エタノールで洗った。収量3.0f(61%)
、m、p。
134°〜135°。λmax (C!HOJL3) 
: 410 nm (g =17.200):266n
m(17,600)。計算値(c21c23No):1
m!、82.59:H,7,59:N、4.59、実測
値: c 、80.38゜80.41:H,7,30,
7,30;n、3.59.A97゜例  23 3−[4−(1−ピロリジニル)フェニル〕−1−(5
,6,7,8−テトラヒドロナフタレン−2−イル)−
2−プロはノー1−オン(15)2.6fの(11)(
・15ミリモル)、2.6fのp−ピロリジニルベンズ
アルデヒド(15ミリモル)および0.669の水酸化
ナトリウムのエタノール100−中の溶液を窒素下に5
0’で24時間攪拌した。この反応混合物を水浴中で冷
却させ、そして沈澱した黄色固体の3−(:4−(1−
ピロリジニル)フェニル) −1−(5,6,7,8−
テトラヒドロナフタレン−2−イル)−2−−/口にノ
ー1−オンを濾過によυ集めそして冷エタノールで洗っ
た。収量3.2f(64%)、m、p、167゜〜16
9°。λIHaz (cacJI3) : 420 n
In (ε=!16,800):330nm(4,30
0):276nm(16,400)。
計算値(c25a25No) :c 、 83.34 
:H、7,60:N 、4.23、実測値:(! 、 
82.68 、82.67 :B、 7.57 、7.
55 :N 。
4.03 、4.15゜ 例  24 3−(4−(4−モルホリニル)フェニル〕−1−(5
,6,7,8−テトラヒドロナフタレン−2−イル)−
2−プロRンー1−オン(14)1、74 fの(11
) (10ミリモル)、1.91のp−(4−モルホリ
ニル)ベンズアルデヒド(10ミリモル)および2個の
水酸化す) IJウムはレット(約0.49 )のエタ
ノール4〇−中の溶液を窒素下に70時間室温で攪拌し
た。この反応混合物を水浴中で冷却し、そして沈澱した
黄色固体りる3−[:4−(4−モルホリニル)フエニ
ル) −1−(5,6,7,8−テトラヒドロナフタレ
ン−2−イル)−2−’口はノー1−オンを濾過により
集め、そして冷エタノールで洗った。
収量2.9F(83%)、m、p、 138°〜140
°。λmax(EtOH):390nm(g=28,1
00)、270nm(ε=13.700)。計算値(C
23H2sNO2) : c 、 79.51 : H
7.25:N、4.03、実測値:C!、7a72,7
9.02゜7a75;a、7.22,7.26,7.2
3;N、3J8,3.87゜3.91゜ 例  25 3−(4−(ジメチルアミノ)フェニル〕−1−(2,
3−ジヒドロ−1H−インデン−5−イル)−2−プロ
はノー1−オン(16)4.8fの1− (2,5−ジ
ヒドロ−1H−インデン−5−イル)エタノン(15)
 (30ミリモル)、4.52のp−ジメチルアミノベ
ンズアルデヒド(30ミリモル)および1.32fの水
酸化ナトリウムのメタノール4〇−中の溶液を窒素下に
48時間室温で攪拌した。この反応混合物を水浴中で冷
却しそして屍澱固体として3−〔4−ジメチルアミノ)
フェニル) −1−(2,3−ジヒドロ−1H−インデ
ン−5−イル)−2−プロはノー1−オンを一過により
集めそして冷メタノールで洗った。収量4.1(48%
)、m、p、 106゜〜108°。λIH6z (1
!:tOH) : 416Hm (t=34,700 
):272nm(15,400)。計算値(020H2
1NO) : C,82,44:HI 7.26 :N
 t 4.81.実測l:c!、82.1?、82.1
2:H,7,21,7,24:N、4.70,4.67
゜例  26 3−(4−(1−ピロリジニル)フェニル〕−1−(2
,3−ジヒドロ−1H−インデン−5−イル)−2−プ
ロイン−1−オン(17)1.47f(9,14ミリモ
ル)の(15)、1.60f(9,14ミリモル)のp
−ピロリジニルベンズアルデヒドおよび2個の水酸化ナ
トリウムRレット(約0、48 )のメタノール20w
t中の溶液を112時間窒素下に室温で攪拌した。この
反応混合物を水浴中で冷却し、そして沈澱した固体状3
−[、a−1−ピロリジニル)フ、エニル〕−1−(2
,3−ジヒドロ−1H−インデン−5−イル)−2−プ
ロはノー1−オンを濾過により集めそして冷メタノール
で洗った。収量1.1(41%)、m、p、 162°
〜164°。F液を蒸発させると残渣が得られた。これ
をメタノール/トルエン(9:1)K溶解させた。、こ
の溶液を一過し、蒸発させて100−とじそして冷却し
た。沈澱した生成物を一過〈より集めそして冷メタノー
ルで洗った。
収量αqycs1%>、m−1)、177’ 〜179
°。λmaw(KtOH) :275nm(gxl 6
,600) :328nm(4170):425nm(
37,800)。計算値(022H23NO) : c
、83,24:I!、7.30:N、4.41、実測値
:0,82.99°:H,7,49:N、4.32゜ 例  27 2−((4−(ジメチルアミノ)フェニル)メチレン)
 −3,5,6,7−テトラヒドロ−5−インダセン−
1(2!i)−オン(19) 2.065’(12ミリモル)の3.5,6.7−テト
ラヒドロ−5−インダセン−1(2H)−オン(18)
、1.795’(12ミリモル)の −,5メチルアミ
ノベンズアルデヒドおよび0.51の水酸化ナトリウム
のメタノール40ゴ中の溶液を窒素下に50’で24時
間攪拌した。この反応混合物を水浴中で冷却し、そして
沈澱した固体である2 −’((4−(ンメチルアミノ
)フェニル)メチレン〕−3,5,6,7−テトラヒド
ロ−5−インダセン−1(2H)−オンを濾過により集
め、そして冷メタノールで洗った。収量3.1(88%
)、m、’p。
210°〜225°。λma:c(EtOH) :42
5nm(t =39.400):325nm(7,10
0);273nm(16,500)。
計算値(C2tH2+NO) : C+ 83.13;
H,6,98:N、4.6λ実測値:c、83.27;
H,7,04:N、4.53゜例  28 2− C(1,2,6,7−テトラヒドロ−3H,5H
−ベンゾ[:i、jlキノリジン−9−イル)メチレン
〕−3,5,6,7−テトラヒドロ−5−インダセン−
1(2H)−オン(20) 2.06rの(18)、2.412の9−ホルミル−1
,2゜6.7−テトラヒドロ−3H,5H−ベンゾ(1
,j〕キノリジンよび約0,5Fの水酸化ナトリウムの
メタノール4〇−中の溶液を50’で24時間窒素下に
攪拌した。この反応混合物を水浴中で冷却し、そして沈
澱した固体である2 −C(1,2,6,7−チトラヒ
ドロー3)1.5H−ベンゾ(:i、j)キノリジン−
9−イル)メチレン) −3,5,6,7−テトラヒド
ロ−5−インダセン−1(2H)−オンを濾過によって
集め、そして冷メタノールで洗った。収量3.2F(7
5%)、m、:[)、 186°〜189°。
λmaX(EtOH):458nm(g=42,300
):285nm(20,300)。計算t(C2sH2
sNO) : c 、 s 4,47 : H。
7.09;N、3.94、実測値:C!、83.68,
83.57:H。
7.09,7.15;N、3.85,3.色4゜例  
29 2− C(1−エチル−1,2,3,4−テトラヒドロ
−6−キラリニル−メチレン) −,5,5,6,7−
テトラヒドロ−5−インダセン−1(2H)−オン1.
721の(18)、1.89fの1−エチル−6−ホル
ミル−1,2,3,4−テトラヒドロキノリンおよヒo
、44rの水酸化ナトリウムのメタノール25ゴ中の溶
液を600で48時間窒素下に攪拌した。
この反応混合物を水浴中に冷却し、そして沈澱した固体
である2 −(”(1−エチル−1,2,3,4−テト
ラヒドロ−6−キラリニル)メチレン〕−3,5,6,
7−テトラヒドロ−5−インダセン−1(2H,)−オ
ンを濾過により集め、そして冷メタノールで洗った。収
量1.82(52%)、m、p。
167°〜172°0λmax(””):282nm(
ε=18.800);320nm(7240):332
nm(6280):447nm(43,300)。計算
値(C2sH2sNO) : C+83.93:H,7
,34:N、4.08、実測値:c、83.45゜83
.20 、83.10 :H,7,73、7,33、7
,55:N。
3.94,4.02,4.01゜ 例  30 2− ((4−Uメチルアミノ)フェニル)メチレン〕
−2,3,5,6,7,8−へキサヒドロ−1H−ベン
ズ〔f〕インデン−1−オン(23)te4r(toミ
リモル)の2.3.5,6,7.8−へキサヒドロ−1
H−ベンズCf)インデン−1−オン(22)、1.4
1(10ミリモル )のp−ジメチルアミノベンズアル
デヒドおよびα449の水酸化す) IJウムのエタノ
ール25−中の溶液を窒素下に50〜60°で19時間
攪拌した。この反応混合物を水浴中で冷却し、そして沈
澱した固体の2−(4−(uメチルアミノフェニル)メ
チレン) −2,3,5,6,7,8−へキサヒドロ−
IH−ベンズCf〕インデンー1−オンを濾過により集
め、そして冷エタノールで洗った。収量2.5f(79
%)、m、p、 161°〜163°。λmax(mt
oa) :274 nm (ε=16,700):42
2nm(36,500)。
計jElt(C22H23NO) :c l 83.2
4 :a、 7.30 ;N 。
4.41、実測値:C,85,01;H,7,73:N
、4.34゜例  31 例31〜69の基体として使用された配向ポリエステル
フィルムは共重合体樹脂で下引きされた4ミル(102
μm)厚さのポリエチレンテレフタレートフィルムであ
った。この共重合体樹脂は米国特許第3,443,95
0号明細書に詳細に記載されているビニリデンクロリド
/アルキルアクリレート/イタコン酸共重合体とアルキ
ルアクリレート重合体との逐次的重合混合物を包含して
いた。この共重合体樹脂にコーティングの前にアンモニ
アで分散されたメチルメタ之リレート/エチルアクリレ
ート/アクリル酸(37:56:7)ターポリマー(分
子量260.000、酸敗76〜86)を加えた。この
コーティングしたフィルムを延伸させ、そして水中のこ
のターポリマー〇薄層を最初の下引きコーティング上に
加えた。
次のストック溶液が製造された。
ジメタクリレート 一ポリマー、(J、W、 260.000)(エステル
−M、W、10,000) ゾリルニ貴体 メチレンクロリド              527
メタノール              40このスト
ック溶液109に0.0407Fの6−ニトロベラトル
アルデヒド光阻害剤および0.011320例22から
の増感剤を加えた。この溶液の一部を2ミル(51μm
)ドクターナイフを使用して配向ポリエステルフィルム
基質の樹脂下塗り面上にボードコーティングし、そして
このコーティングを風乾させた。乾燥させたコーティン
グに1ミル(25μm)配向ポリエステルフィルムカバ
ーシートを82°で4フイ一ト/分(1,22m/分)
の速度で40 Psi (276kPa、)で積層させ
た。
光感受性エレメントの表面の半分を黒色ポリエチレンシ
ートでおおった。非被覆側に17階段くさびプロセス透
明画を置き、そしてこのエレメントを真空印刷フレーム
中に置いた。38インチ(q 6+1)の距離でパーキ
ー「アスコル」1601−40光源を有する「アスコル
」ライト・インチグレーター・プレートマーカー型式1
415−12を使用して10単位の放射量に相当する時
間2KW水銀ホトポリマーランプからの放射に対して像
様露光(陽画露光)を行なった。ポリエチレンシートを
除去しそして17階段くさびを前もって遮蔽しておいた
区分上に看いた。
実質的にすべての約420 nm以下の放射を吸収する
UVカットオフフィルターをエレメント上て置き、そし
て全エレメントに30単位(ユニット)の露光を与えた
。この最終露光は遮蔽区分に陰画露光を与えそして他方
の半分の上に2回露光陽画操作を完了させた。露光エレ
メントを1556fの蒸溜水、84tの炭酸カリウム(
1,5H2O)および5fの炭酸水素カリウムから製造
された溶液中で22°において現像し、そしてこの現像
したエレメントを40psi(276kPa )の32
°の水スプレーで洗った。6秒の現像時間は、3の陽画
様式速度(すなわち陽画像の最初の3階段が未重合であ
る)および10の陰画様式速度(すなわち陰画像が10
個の完全および部分重合階段を示す)を与えた。
例32および例33 例31に記載のようにして、例32および例33の光重
合性組成物を製造、露光および現像したがただしここで
は(1)表4の増感剤が使用され、セして(2)7秒の
現像時間が例32では使用された。例32および例33
に対してはそれぞれ1およびく1の陽画様式速度が得ら
れた。陰画様式速度はそれぞれ11および16であった
各々の場合、良好な画像が得られた。
表  4 0.0123 33      例30 0.0117 例  34〜39 下記の変形を使用して例31に記載のようにして光重合
性組成物を製造、露光および現像させた。6−ニドロベ
ラトルアルデヒド光開始剤はこれらの組成物には加えら
れなかった。この光感受性エレメントに光重合体ランプ
への1回の10単位の陰画露光を与えた。8秒の現像時
間が使用された。表5に要約されているその結果は良好
な画像が各々の場合に得られることを示す。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1)次の成分すなわち (i)光開始付加重合によって高分子量重合体を形成し
    うる少くとも1種の非気体状エチレン系不飽和化合物、 (ii)単一共有結合によって一緒に結合された2個の
    2,4,5−トリアリールイミダゾリル基よりなる少く
    とも1種の2,4,5−トリアリールイミダゾリル二量
    体開始剤、 (iii)増刊剤として式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、 R^1およびR^2はそれぞれHであるか、またはR^
    1+R^2は−CH_2−であり、 R^3はHであるか、またはR^3+R^5は−(CH
    _2)_2−、−(CH_2)_3−および−CH(C
    H_3)CH_2C(CH_3)_2−から選ばれ、 R^4はHであるかまたはR^4+R^6は−(CH_
    2)_2−および−(CH_2)_3−から選ばれ、 R^5およびR^6は1〜5個の炭素原子を含有するア
    ルキル基であるかまたは一緒になって −(CH_2)_4−および−CH_2CH_2OCH
    _2CH_2−から選ばれ、 R^7は(A)▲数式、化学式、表等があります▼(式
    中R^8はHまたはCH_3であり、Yは▲数式、化学
    式、表等があります▼であ り、そしてnは0または1であるがnが1 の場合にはR^1およびR^2はHである)または(B
    )未置換であるかまたは1〜4個のアルキル基で置換さ
    れたトリメチレンおよびテ トラメチレン基から選ばれしかもR^7は最大8個の炭
    素原子を有している〕を有する少 くとも1種のα,β−不飽和ケトン を含有することを特徴とする、光重合性組成物。 2)(iii)の増感剤中のR^7が(A)である、前
    記特許請求の範囲第1項記載の組成物。 3)(iii)の増感剤中のR^7が(B)である、前
    記特許請求の範囲第1項記載の組成物。
JP63208477A 1980-04-21 1988-08-24 光重合性組成物 Granted JPH01103603A (ja)

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US142,173 1980-04-21
US06/142,173 US4268667A (en) 1980-04-21 1980-04-21 Derivatives of aryl ketones based on 9,10-dihydro-9,10-ethanoanthracene and p-dialkyl-aminoaryl aldehydes as visible sensitizers for photopolymerizable compositions
US221,887 1980-12-31
US06/221,887 US4351893A (en) 1980-12-31 1980-12-31 Derivatives of aryl ketones as visible sensitizers of photopolymerizable compositions

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP5932981A Division JPS56166154A (en) 1980-04-21 1981-04-21 Derivatives of aryl ketones

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH01103603A true JPH01103603A (ja) 1989-04-20
JPH0217562B2 JPH0217562B2 (ja) 1990-04-20

Family

ID=26839830

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP63208477A Granted JPH01103603A (ja) 1980-04-21 1988-08-24 光重合性組成物

Country Status (3)

Country Link
EP (1) EP0039025B1 (ja)
JP (1) JPH01103603A (ja)
DE (1) DE3162597D1 (ja)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4859551A (en) * 1987-11-04 1989-08-22 E. I. Du Pont De Nemours And Company Process for preparing positive and negative images using photohardenable electrostatic master
SG78412A1 (en) 1999-03-31 2001-02-20 Ciba Sc Holding Ag Oxime derivatives and the use thereof as latent acids
WO2011104127A1 (en) 2010-02-24 2011-09-01 Basf Se Latent acids and their use
WO2016124493A1 (en) 2015-02-02 2016-08-11 Basf Se Latent acids and their use

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4162162A (en) * 1978-05-08 1979-07-24 E. I. Du Pont De Nemours And Company Derivatives of aryl ketones and p-dialkyl-aminoarylaldehydes as visible sensitizers of photopolymerizable compositions

Also Published As

Publication number Publication date
EP0039025B1 (en) 1984-03-14
EP0039025A1 (en) 1981-11-04
JPH0217562B2 (ja) 1990-04-20
DE3162597D1 (en) 1984-04-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4268667A (en) Derivatives of aryl ketones based on 9,10-dihydro-9,10-ethanoanthracene and p-dialkyl-aminoaryl aldehydes as visible sensitizers for photopolymerizable compositions
US4351893A (en) Derivatives of aryl ketones as visible sensitizers of photopolymerizable compositions
CA1131395A (en) Derivatives of aryl ketones and p-dialkyl- aminoarylaldehydes as visible sensitizers of photopolymerizable compositions
US4189323A (en) Radiation-sensitive copying composition
US3756827A (en) L compounds and selected sensitizerss photopolymerizable compositions containing cyclic cis-alpha-dicarbony
EP0024629B1 (en) Photoimaging composition comprising a 2,4,5-triphenylimidazolyl dimer and at least one compound selected from the group consisting of a leuco dye and a polymerizable ethylenically unsaturated monomer
US4367280A (en) Photopolymerizable composition
USRE28789E (en) Photopolymerizable compositions containing cyclic cis-α-dicarbonyl compounds and selected sensitizers
US4311783A (en) Dimers derived from unsymmetrical 2,4,5,-triphenylimidazole compounds as photoinitiators
US4535052A (en) Constrained n-alkylamino aryl ketones as sensitizers for photopolymer compositions
US4168982A (en) Photopolymerizable compositions containing nitroso dimers to selectively inhibit thermal polymerization
GB1602903A (en) Radiationsensitive copying composition
JPH04356564A (ja) 染料の調製および使用方法
JPH0143299B2 (ja)
JPS6411937B2 (ja)
US4966830A (en) Photopolymerizable composition
JPH04223470A (ja) 光重合性混合物およびこれから調製した記録材料
JPH046723B2 (ja)
US4477556A (en) Acidic o-nitroaromatics as photoinhibitors of polymerization in positive working films
JPH0230321B2 (ja) Hikarijugoseisoseibutsu
JPS6133028B2 (ja)
US4029505A (en) Method of producing positive polymer images
JPH01103603A (ja) 光重合性組成物
EP0127762B1 (en) Constrained n-alkylamino aryl ketones as sensitizers for photopolymer compositions
US4050942A (en) Nitroso-dimer-containing compositions and photoimaging process