JPH01103457A - サーマルヘッド用基板の製造方法 - Google Patents
サーマルヘッド用基板の製造方法Info
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- JPH01103457A JPH01103457A JP62263109A JP26310987A JPH01103457A JP H01103457 A JPH01103457 A JP H01103457A JP 62263109 A JP62263109 A JP 62263109A JP 26310987 A JP26310987 A JP 26310987A JP H01103457 A JPH01103457 A JP H01103457A
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Landscapes
- Electronic Switches (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
・本発明はサーマルヘッド用基板の製造方法に関ゝ＼
すり・
□〔抛来の技術〕
従来のサーマルヘッド用基板としては例えばアルミナセ
ラミクス基板上に保温層としてのグレーズ層を設けたも
のであって、このグレーズ層をガラスで構成したものが
ある。
ラミクス基板上に保温層としてのグレーズ層を設けたも
のであって、このグレーズ層をガラスで構成したものが
ある。
ところが、近年サーマルヘッドに対し、より高精細でよ
り高速に且つより小さなパワーで印字の可能な性能が求
められており、この性能を満足させるため、上記ガラス
グレーズ層に替えて多孔質ガラスグレーズ層を用いたサ
ーマルヘッド用基板が特願昭６２−５８７９６号明細書
に捷案されている。第２図は多孔質ガラスグレーズ層を
用いた上記従来例の断面図であり、同図にお−いて、１
はアルミナセラミクス基板、２は上記アルミナセラミク
ス基板１上に形成された多孔質ガラスグレーズ層である
。このサーマルヘッド用基板の製造方法は、先ず、アル
ミナセラミクス基板１上にポウケイ酸ガラスの層を形成
し、次に、これを熱処理し、続いて酸処理することによ
り、この層を多孔質ガラスグレーズ層２とするものであ
る。
り高速に且つより小さなパワーで印字の可能な性能が求
められており、この性能を満足させるため、上記ガラス
グレーズ層に替えて多孔質ガラスグレーズ層を用いたサ
ーマルヘッド用基板が特願昭６２−５８７９６号明細書
に捷案されている。第２図は多孔質ガラスグレーズ層を
用いた上記従来例の断面図であり、同図にお−いて、１
はアルミナセラミクス基板、２は上記アルミナセラミク
ス基板１上に形成された多孔質ガラスグレーズ層である
。このサーマルヘッド用基板の製造方法は、先ず、アル
ミナセラミクス基板１上にポウケイ酸ガラスの層を形成
し、次に、これを熱処理し、続いて酸処理することによ
り、この層を多孔質ガラスグレーズ層２とするものであ
る。
しかしながら、上記した従来の製造方法によれば゛、多
孔質ガラスグレーズ層２と、アルミナセラミクス基板１
との密着性が悪く、接着性能が不充分であるために、剥
離を生じやすく、しかも機械的強度が弱くなるため基板
の製造歩留りを低下せしめるという問題点があった。
孔質ガラスグレーズ層２と、アルミナセラミクス基板１
との密着性が悪く、接着性能が不充分であるために、剥
離を生じやすく、しかも機械的強度が弱くなるため基板
の製造歩留りを低下せしめるという問題点があった。
そこで、本発明は従来技術の上記した問題点を解決する
ためになされたもので、その目的とするところは、基板
とグレーズ層の密着性をよくすることによって、基板の
製造歩留りを向上させることを可能としたサーマルヘッ
ド用基板の製造方法を提供することにある。
ためになされたもので、その目的とするところは、基板
とグレーズ層の密着性をよくすることによって、基板の
製造歩留りを向上させることを可能としたサーマルヘッ
ド用基板の製造方法を提供することにある。
上記の目的を達成するために、本発明に係るサーマルヘ
ッド用基板の製造方法は、基板上に５ｉ０４を形成する
工程と、このＳｉＯ２層上にボウゲイ酸ガラスよりなる
グレーズ層を形成する工程と、これを熱処理する工程と
、これを酸処理する工程とを含むことを特徴としている
。
ッド用基板の製造方法は、基板上に５ｉ０４を形成する
工程と、このＳｉＯ２層上にボウゲイ酸ガラスよりなる
グレーズ層を形成する工程と、これを熱処理する工程と
、これを酸処理する工程とを含むことを特徴としている
。
本発明の製造方法においては、基板上にＳｉＯ層を形成
し、この後ＳｉＯ２層上にブレ−ズ層を形成しており、
このＳｉＯ２層は基板とグレーズ層との密着性を良好に
する役目を果す。
し、この後ＳｉＯ２層上にブレ−ズ層を形成しており、
このＳｉＯ２層は基板とグレーズ層との密着性を良好に
する役目を果す。
このためグレーズ層の剥離が生じにくくなると共に、グ
レーズ層自体の機械的強度が向上する。
レーズ層自体の機械的強度が向上する。
以下に本発明を図示の実施例に基づいて説明する。第１
図は本発明に係る製造方法によって′＃遺されたサーマ
ルヘッド用基板の一実施例を示す断面図である。同図に
おいて、１１はアルミナセラミクス基板、１２はアルミ
ナセラミクス基板１１上に形成されたＳｉＯ□層、１３
はＳｉＯ□層１２上に形成された多孔質ガラスグレーズ
層である。
図は本発明に係る製造方法によって′＃遺されたサーマ
ルヘッド用基板の一実施例を示す断面図である。同図に
おいて、１１はアルミナセラミクス基板、１２はアルミ
ナセラミクス基板１１上に形成されたＳｉＯ□層、１３
はＳｉＯ□層１２上に形成された多孔質ガラスグレーズ
層である。
ここでアルミナセラミクス基板１１としては、９９．６
％アルミナ（京セラ社製）のものを用いた。
％アルミナ（京セラ社製）のものを用いた。
また、アルミナセラミクス基板１１の替わりに、十分な
強度、耐熱性を保つ他の材質のもの、例えばＡ、ＯＮ、
Ｓｉ ５等のセラミクス基板、金属基板或いは石英基
板等を用いてもよい。
強度、耐熱性を保つ他の材質のもの、例えばＡ、ＯＮ、
Ｓｉ ５等のセラミクス基板、金属基板或いは石英基
板等を用いてもよい。
次に、本発明に係るサーマルヘッド用基板の製造方法の
具体例について説明する。先ず、最初の工程では、この
アルミナセラミクス基板１１上にＳ ｉ ０２ Ｎ １
２を０．１〜４．０ ）ｔ、ｍ厚にスパッタ法により形
成する。
具体例について説明する。先ず、最初の工程では、この
アルミナセラミクス基板１１上にＳ ｉ ０２ Ｎ １
２を０．１〜４．０ ）ｔ、ｍ厚にスパッタ法により形
成する。
次の工程では、このＳｉＯ２層１２上にＳｉ０５５ｗｆ
％、Ｂ２Ｏ３３５ｗｔ％、Ｎａ Ｏ８ｗｔ％、ＡＪ
２０３２．０ｗ１％なる組成のホウゲイ酸ガラス粉のペ
ーストを厚膜印刷法によって塗布し、その後焼成するこ
とにより、８１０２層１２を備えたアルミナセラミクス
基板１１上にポウケイ酸ガラス層を形成する。
％、Ｂ２Ｏ３３５ｗｔ％、Ｎａ Ｏ８ｗｔ％、ＡＪ
２０３２．０ｗ１％なる組成のホウゲイ酸ガラス粉のペ
ーストを厚膜印刷法によって塗布し、その後焼成するこ
とにより、８１０２層１２を備えたアルミナセラミクス
基板１１上にポウケイ酸ガラス層を形成する。
次の工程では、ポウケイ酸ガラス層を備えたアルミナセ
ラミクス基板１１を５５０℃で１００時間熱処理し、続
く工程で９０℃ＩＮのＨ２ＳＯ４水溶液に２０時間浸漬
し、ポウケイ酸ガラス層を多孔質ガラスグレーズ層１３
とし、サーマルヘッド用基板の製造を完了する。
ラミクス基板１１を５５０℃で１００時間熱処理し、続
く工程で９０℃ＩＮのＨ２ＳＯ４水溶液に２０時間浸漬
し、ポウケイ酸ガラス層を多孔質ガラスグレーズ層１３
とし、サーマルヘッド用基板の製造を完了する。
ここで、上記した本発明の製造方法によりＳｉ ０２層
１２の厚さが０．１〜４．０１ｔｍの間の各場合と、比
救例としてＳｉＯ□層を有しない従来の構成のものにつ
いてグレーズの剥離による不良品の発生状況を調べた結
果を以下に第１表として示す。
１２の厚さが０．１〜４．０１ｔｍの間の各場合と、比
救例としてＳｉＯ□層を有しない従来の構成のものにつ
いてグレーズの剥離による不良品の発生状況を調べた結
果を以下に第１表として示す。
各基板を用いた時の不良発生率
第１表
第１表に示された結果かられかるように、０．１μｍ以
上の Ｓ ｉ ０２屑１２を形成することにより、グレ
ーズ層１３の剥離発生率は減少し、特に０．５μｍ以上
の５ｉ０２層１２を設けることによりグレーズ層１３の
剥離を完全に防止できる。
上の Ｓ ｉ ０２屑１２を形成することにより、グレ
ーズ層１３の剥離発生率は減少し、特に０．５μｍ以上
の５ｉ０２層１２を設けることによりグレーズ層１３の
剥離を完全に防止できる。
尚、本実施例ではホウケイ酸カラスを前記のような組成
としたが、空孔率を変化させるため、この組成を５ｉＯ
２３０〜７０ｗｔ％、Ｂ２０３２０〜６８ｗｔ％、Ｎａ
２０ １〜１７．５ｗｔ％の範囲内で変化させてもよ
い。 また、以下に示す第２表のＩ〜ＩＶの組成のグレ
ーズ層を備えたものについても、第１表と同じ効果が確
認された。
としたが、空孔率を変化させるため、この組成を５ｉＯ
２３０〜７０ｗｔ％、Ｂ２０３２０〜６８ｗｔ％、Ｎａ
２０ １〜１７．５ｗｔ％の範囲内で変化させてもよ
い。 また、以下に示す第２表のＩ〜ＩＶの組成のグレ
ーズ層を備えたものについても、第１表と同じ効果が確
認された。
グレーズ層組成（重量％）
また、熱処理温度は５００〜６５０℃の範囲内で、多孔
質ガラスグレーズ層１３に求められる性能を考慮して適
当に設定すれはよく、酸処理工程においても、Ｈ２ＳＯ
４以外にＨＣ，Ｑ 、Ｈ３ＰＯ４、ＨＮＯ等他０酸溶液
を用いてもよく、本発明の目的とする効果はこれらの条
件によって何ら左右されるものではない。
質ガラスグレーズ層１３に求められる性能を考慮して適
当に設定すれはよく、酸処理工程においても、Ｈ２ＳＯ
４以外にＨＣ，Ｑ 、Ｈ３ＰＯ４、ＨＮＯ等他０酸溶液
を用いてもよく、本発明の目的とする効果はこれらの条
件によって何ら左右されるものではない。
さらに、本実施例では５ｉ０２層１２をスパッタ法によ
り形成したが１０本発明はこれには限定されず、ＳｉＯ
□層１２全１２蒸着法、熱ＣＶＤ法あるいはプラズマＣ
ＶＤ法等の他の薄膜形成方法によって旅成しても何ら支
障はない。
り形成したが１０本発明はこれには限定されず、ＳｉＯ
□層１２全１２蒸着法、熱ＣＶＤ法あるいはプラズマＣ
ＶＤ法等の他の薄膜形成方法によって旅成しても何ら支
障はない。
以上説明したように本発明によれば、基板上に剥離が生
じにくく機械的強度の強いグレーズ層を形成することが
できるので、製造歩留りを良くすることができる。これ
によって多孔質ガラスグレーズを用いた優れたサーマル
ヘッド用基板を安価に製造することができるという効果
を有する。
じにくく機械的強度の強いグレーズ層を形成することが
できるので、製造歩留りを良くすることができる。これ
によって多孔質ガラスグレーズを用いた優れたサーマル
ヘッド用基板を安価に製造することができるという効果
を有する。
第１図は本発明に係る製造方法によって作製されたサー
マルヘッド用基板の一実施例を示す断面図、第２図は従
来のサーマルヘッド用基板の断面図である。 １１・・・アルミナセラミクス基板、 １２・・・５ｉ０２層、 １３・・・多孔質ガラスグレーズ層。 特許出願人 沖電気工業株式会社 代理人 弁理士 前 １） 実 本発朗０−ｓ施Ｊｌｌ ／）餠面百 ＄ １ 副 従来０７−マルヘツト用基板のＩＦｒ面目某 ２ 邑
マルヘッド用基板の一実施例を示す断面図、第２図は従
来のサーマルヘッド用基板の断面図である。 １１・・・アルミナセラミクス基板、 １２・・・５ｉ０２層、 １３・・・多孔質ガラスグレーズ層。 特許出願人 沖電気工業株式会社 代理人 弁理士 前 １） 実 本発朗０−ｓ施Ｊｌｌ ／）餠面百 ＄ １ 副 従来０７−マルヘツト用基板のＩＦｒ面目某 ２ 邑
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、基板上にＳｉＯ＿２層を形成する工程と、このＳｉ
Ｏ＿２層上にホウケイ酸ガラスよりなるグレーズ層を形
成する工程と、 これを熱処理する工程と、 これを酸処理する工程と を含むことを特徴とするサーマルヘッド用基板の製造方
法。 ２、上記ＳｉＯ＿２層は、その厚さが０．１μｍ以上で
あることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載のサー
マルヘッド用基板の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62263109A JPH01103457A (ja) | 1987-10-19 | 1987-10-19 | サーマルヘッド用基板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62263109A JPH01103457A (ja) | 1987-10-19 | 1987-10-19 | サーマルヘッド用基板の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01103457A true JPH01103457A (ja) | 1989-04-20 |
Family
ID=17384953
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62263109A Pending JPH01103457A (ja) | 1987-10-19 | 1987-10-19 | サーマルヘッド用基板の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01103457A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN114368223A (zh) * | 2021-01-26 | 2022-04-19 | 山东华菱电子股份有限公司 | 高性能热敏打印头用发热基板 |
-
1987
- 1987-10-19 JP JP62263109A patent/JPH01103457A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN114368223A (zh) * | 2021-01-26 | 2022-04-19 | 山东华菱电子股份有限公司 | 高性能热敏打印头用发热基板 |
| CN114368223B (zh) * | 2021-01-26 | 2022-11-15 | 山东华菱电子股份有限公司 | 高性能热敏打印头用发热基板 |
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