JP7764591B2 - 再帰反射体を規定するプローブ、当該プローブを含むプローブシステム、及び当該プローブの利用方法 - Google Patents

Description

［関連出願］本出願は、２０２２年９月２７日に出願された米国特許出願シリアル番号第１７／９５４，０９３号、及び２０２１年１０月２０日に出願された米国仮特許出願シリアル番号第６３／２５７，８６８号の優先権を主張するものであり、それらの開示内容は全て、参照により本明細書に組み込まれる。

本開示は、概して、再帰反射体を規定するプローブ、当該プローブを含むプローブシステム、及び／又は当該プローブを利用する方法に関する。

プローブシステムは、被試験デバイス（Ｄｅｖｉｃｅ Ｕｎｄｅｒ Ｔｅｓｔ、ＤＵＴ）への試験信号の供給及び／又はＤＵＴからの結果信号の受信によって、ＤＵＴの動作及び／又は性能を試験するために利用されることがある。プローブシステムとＤＵＴの間で信号を正確に伝達するために、プローブシステムの１つ又は複数のプローブを、ＤＵＴの１つ又は複数の対応するカップリング領域に位置合わせすることがあり、この位置合わせには、数マイクロメートルのオーダーの許容誤差という、高い精度と正確性が要求されることがある。したがって、プローブとＤＵＴの位置合わせには、プローブ及び／又はカップリング領域の位置（カップリング領域に対するプローブの高さ、及び／又はプローブとカップリング領域の間の相対的な向きなど）について、非常に正確かつ精密な測定と操作が必要である。

プローブシステムは、しばしば、撮像デバイスを含み、プローブとカップリング領域との間の位置合わせを容易にするためにこの撮像デバイスが利用されることがある。特定の状況では有効であるが、従来のプローブを利用する従来のプローブシステムは、多くの欠点を示すことがある。一例として、ＤＵＴ上方のプローブの高さを正確に測定することが困難な場合がある。別の例として、特に、プローブとカップリング領域の位置合わせに自動化ルーチンを利用する自動化プローブシステムでは、プローブとＤＵＴを区別することが困難な場合が多い。この困難の例を図１～２に示す。図１に示されるように、従来のプローブ８と、被試験デバイス６２を含む基板６０との間の相対的な向きを決定することは、従来のプローブの直下にある基板の領域が均一である場合、及び／又は基板とプローブとの間にコントラストがある場合には、一般に実行可能である。しかしながら、図２に示されるように、従来のプローブの直下にある基板の領域が均一ではなく従来のプローブの下にある基板に構造的なばらつきがある場合、及び／又は基板とプローブとの間に十分なコントラストがない場合、従来のプローブと基板との間の相対的な向きを正確に決定することは困難であるか、又は不可能でさえある。この困難は、プローブと基板及び／又はＤＵＴとの位置合わせに電子アルゴリズム及び／又は自動化ルーチンが利用される場合に悪化する可能性がある。したがって、再帰反射体を規定する改良されたプローブ、及び／又は、当該プローブを含む、及び／又は当該プローブを利用する改良されたプローブシステム及び方法へのニーズが存在する。

本明細書では、再帰反射体を規定するプローブ、当該プローブを含むプローブシステム、及び当該プローブを利用する方法を開示する。このプローブは、再帰反射体本体によって規定される再帰反射体を含む。再帰反射体本体は、第１の側と、反対にある第２の側と、第１の側から延在するテーパー状領域と、第２の側に規定される受光領域とを含む。また、プローブは、被試験デバイス（ＤＵＴ）に試験信号を供給し、及び／又はＤＵＴから結果信号を受信するように構成されたプローブ先端部を含む。再帰反射体は、受光領域を介して光入射角で光を受光するように構成されている。また、再帰反射体は、再帰反射体本体から、受光領域を介して、光入射角と少なくとも実質的に等しい光出射角で、少なくとも出射成分光を放出するように構成されている。

プローブシステムは、基板上に形成されたＤＵＴを試験するように構成されている。プローブシステムは、基板とプローブを支持するように構成されたチャックを含む。また、プローブシステムは、光入射角で受光領域へ光を向けるように構成された光源を含む。さらに、プローブシステムは、少なくとも実質的に光出射角で再帰反射体からの放出された出射成分光を受光するように構成された撮像デバイスを含む。

本方法は、プローブを利用する方法を含み、少なくとも光の一部が光入射角で受光領域に入射するように光を再帰反射体の方向へ光を向けることを含む。また、この方法は、再帰反射体本体内で少なくとも反射成分光を内部反射させることと、反射成分光のうち前記出射成分光を、再帰反射体本体から、受光領域を介して、光出射角で放出することとを含む。さらに、この方法は、光の残部が光出射角以外の角度で再帰反射体から伝播するように、光の残部を散乱させることを含む。

基板の上方にある従来のプローブの画像である。 基板の上方にある従来のプローブの別の画像である。 本開示による、再帰反射体を含み、プローブシステム内に含まれうるプローブの例に関する概略的な図である。 本開示による、再帰反射体を含み、プローブシステム内に含まれうるプローブの例に関し、図３ほど概略的ではない図である。 本開示によるプローブの一部を形成しうる再帰反射体の例の概略的な斜視図である。 図５の再帰反射体の概略的な側面図である。 図５～６の再帰反射体の概略的な正面図である。 図５～７の概略的な再帰反射鏡と同様の形状を有する再帰反射鏡を上から見た画像である。 図５～８の再帰反射鏡と光の相互作用のモデルを示す図である。 図９のモデルによって決定される、図５～８の再帰反射体から反射される光の光強度を示す図である。 本開示によるプローブの一部を形成しうる再帰反射体の例の概略的な斜視図である。 図１１の再帰反射体の概略的な側面図である。 図１１～１２の再帰反射体の概略的な正面図である。 図１１～１３の概略的な再帰反射鏡と同様の形状を有する再帰反射鏡を上から見た画像である。 図１１～１４の再帰反射鏡と光の相互作用のモデルを示す図である。 図１５のモデルによって決定される、図１１～１４の再帰反射体から反射される光の光強度を示す図である。 本開示によるプローブの一部を形成しうる再帰反射体の例の概略的な斜視図である。 図１７の再帰反射体の別の概略的な斜視図である。 図１７～１８の再帰反射体の概略的な側面図である。 図１７～１９の再帰反射体の正面図である。 本開示による、プローブを利用する方法の例を示すフローチャートである。

図３～２１は、本開示による、再帰反射体１０６、再帰反射体１０６を含むプローブ１００、プローブ１００を含むプローブシステム１０、プローブ１００の再帰反射体１０６からの光反射、及び／又は方法２００の例を提供する。同様の、又は少なくとも実質的に同様の目的を果たす要素は、図３～２０の各々において同様の番号でラベル付けされていて、これらの要素は、図３～２０の各々を参照して本明細書で詳細に説明されない場合がある。同様に、全ての要素が図３～２０の各々においてラベル付けされていないこともありうるが、それらに関連する参照数字は、一貫性のために本明細書において利用される場合がある。図３～２０のうちの１つ又は複数を参照して本明細書で議論される要素、構成要素、及び／又は特徴は、本開示の範囲から逸脱することなく、図３～２０のいずれかに含まれ、及び／又は図３～２０のいずれかと共に利用されてもよい。一般に、特定の実施形態に含まれる可能性が高い要素は実線で示され、任意である要素は破線で示される。しかしながら、実線で示される要素は、全ての実施形態に必須であるとは限らず、いくつかの実施形態では、本開示の範囲から逸脱することなく省略される場合がある。

図３は、本開示による、再帰反射体１０６を含み、プローブシステム１０内に含まれうるプローブ１００の例に関する概略的な図である。図４は、本開示による、再帰反射体１０６を含み、プローブシステム１０内に含まれうるプローブの例に関し、図３ほど概略的ではない図である。プローブシステム１０は、基板６０の上に形成されうる被試験デバイス（ＤＵＴ）６２を試験するように構成されうる。ＤＵＴの例には、半導体デバイス、電子デバイス、光デバイス、及び／又は光電子デバイスが含まれる。基板の例には、ウェハ、半導体ウェハ、シリコンウェハ、ガリウム砒素ウェハ、及び／又はＩＩＩ－Ｖ型半導体ウェハが含まれる。

図３に示されるように、また、少なくとも１つのプローブ１００に加えて、プローブシステム１０は、チャック２０、光源３０、及び撮像デバイス４０を含む。図３は、基板６０の上面６１を介してＤＵＴ６２を試験する、又はＤＵＴ６２とやりとりように構成されたプローブシステム１０の例を示しているのに対し、図４は、トレンチ６８の側壁６９を介するなど、基板６０内に画定されたトレンチ６８を介してＤＵＴ６２を試験する、又はＤＵＴ６２とインターフェースするように構成されたプローブシステム１０の例を示している。光源３０の例には、ＬＥＤ光源及び／又はレーザ光源など、電磁放射、光、及び／又は可視光を放出するように構成されうる任意の適切な構造が含まれる。撮像デバイス４０の例には、カメラ、ビデオカメラ、顕微鏡、及び／又は電荷結合装置が含まれる。

ＤＵＴ６２の試験、又はＤＵＴ６２の動作試験などを目的としたプローブシステム１０の動作中、基板６０はチャック２０によって、及び／又はチャック２０上に支持されてもよい。さらに、光源３０は、光入射角３４で再帰反射体１０６の受光領域１３０に向け、及び／又は受光領域１３０に入射させるように、光３２を放射し、及び／又は光３２を向けられてもよい。再帰反射体１０６は、受光領域１３０から光３２を受光し、その光の出射成分光４２を放出するように構成されてもよい。出射成分光４２は、光入射角３４に等しく、少なくとも実質的に等しく、及び／又は等価でありうる光出射角４４で受光領域１３０から放出されてもよい。出射成分光４２は、その後、撮像デバイス４０によって受光され、それによって、撮像デバイスを用いた及び／又は撮像デバイスによる画像の生成を可能にし、及び／又は促進することができる。

光出射角４４は、光入射角３４に対して任意の適切な値を有することができる。いくつかの例では、出射成分光４２は、光３２に対して平行に、又は少なくとも実質的に平行に伝播することができる。このような例では、光出射角４４は光入射角３４に等しいか、又は少なくとも実質的に等しい。いくつかの例では、光出射角４４は、光入射角３４と、たとえば閾値角度差未満で、異なっていてもよく、又は僅かに異なっていてもよい。

光３２及び／又は出射成分光４２は、受光領域の面法線方向に対して平行に、又は少なくとも実質的に平行に、受光領域１３０に入射してもよい。別の言い方をすれば、光入射角３４及び／又は光出射角４４は、９０度に等しいか、又は少なくとも実質的に等しくてもよい。しかしながら、これは必須ではなく、光入射角３４及び／又は光出射角４４が９０度から閾値角度差だけ異なっていてもよいことは本開示の範囲内である。閾値角度差の例には、５度、４．５度、４度、３．５度、３度、２．５度、２度、１．５度、１度、０．５度、０．２５度、又は０．１度の閾値角度が含まれる。別の言い方をすれば、光入射角３４は、光入射角が光出射角と閾値角度差未満だけ異なる場合、本明細書では光出射角４４と「少なくとも実質的に等しい」ということができる。同様に、光３２は、本明細書では、光３２と出射成分光４２との間の角度が閾値角度差未満である場合に、出射成分光４２に対して「少なくとも実質的に平行」であるということができる。さらに、本明細書では、光３２と面法線方向との間の角度及び／又は出射成分光４２と面法線方向との間の角度が閾値角度差未満である場合、光３２と出射成分光４２は、受光領域の面法線方向に対して少なくとも実質的に平行に、受光領域１３０に入射するということができる。

図３に破線で示すように、プローブシステム１０は、信号生成・解析アセンブリ５０を含んでもよい。信号生成・解析アセンブリ５０は、それが存在する場合、プローブ１００のプローブ先端部１２０を介してＤＵＴ６２に試験信号５２を提供するように、及び／又はプローブ先端部を介してＤＵＴから結果信号５４を受信するように、適合、構成、設計、及び／又は構築されうる。試験信号の例には、電気的試験信号、光学的試験信号、及び／又は電磁気的試験信号が含まれる。結果信号の例には、電気的結果信号、光学的結果信号、及び／又は電磁気的結果信号が含まれる。信号生成・解析アセンブリ５０の例には、信号発生器、電気信号発生器、光信号発生器、信号送信器、電気信号送信器、光信号送信器、信号受信器、電気信号受信器、光信号受信器、信号解析器、電気信号解析器、及び／又は光信号解析器が含まれる。

図３は、電気的、光学的、及び／又は電磁気的試験信号５２及び／又は結果信号５４を伝達するように構成されうるプローブ先端部１２０の例を示す。図４は、光学的及び／又は電磁気的試験信号５２及び／又は結果信号５４を伝達するように構成されうるプローブ先端部１２０の例を示す。

ここでより一般的に図３～２０に目を向けると、再帰反射体１０６は、第１の側１１２及び第２の側１１４を画定する再帰反射体本体１１０を含む。第２の側１１４は、第１の側１１２の反対にあってもよく、したがって、反対にある第２の側１１４と呼ばれることがある。また、再帰反射体本体１１０は、第１の側１１２から延在及び／又は突出するテーパー状領域１１６と、第２の側１１４上に画定される受光領域１３０とを規定する。説明したように、また図３～４に図示したように、再帰反射体１０６は、受光領域１３０を介して光入射角３４で、光３２を受光するように構成されている。さらに、再帰反射体１０６は、再帰反射体本体１１０から、受光領域１３０を介して光出射角４４で、光のうち少なくとも出射成分光４２を放出するように構成されている。

再帰反射体本体１１０は、第１の側１１２、第２の側１１４、テーパー状領域１１６、及び受光領域１３０を規定しうる任意の適切な構造を含んでもよく、及び／又はそのような任意の適切な構造であってもよい。いくつかの例では、再帰反射体本体１１０は、モノリシック再帰反射体本体及び／又は一体型再帰反射体本体を含んでもよく、及び／又はモノリシック再帰反射体本体及び／又は一体型再帰反射体本体であってもよい。別の言い方をすれば、再帰反射体本体１１０は、少なくとも第１の側、第２の側、テーパー状領域、及び受光領域を規定する単一の、モノリシックな、及び／又は一体型の再帰反射体本体であってもよい。

いくつかの例では、再帰反射体本体１１０は、付加製造プロセスを介して形成してもよい。いくつかの例では、再帰反射体本体は、光学的に透明な、又は少なくとも部分的に光学的に透明な再帰反射体本体を含んでもよく、及び／又は光学的に透明な、又は少なくとも部分的に光学的に透明な再帰反射体本体であってもよい。いくつかの例では、再帰反射体本体は、光学的に透明なポリマーから形成されてもよい。いくつかの例では、再帰反射体本体は、少なくとも１．４、少なくとも１．４５、少なくとも１．５、少なくとも１．５５、多くとも１．７、多くとも１．６５、多くとも１．６、多くとも１．５５、又は多くとも１．５の屈折率を有してもよい。

議論したように、第１の側１１２と第２の側１１４は、互いに反対側にあってもよく、少なくとも実質的に反対側にあってもよい。いくつかの例では、第１の側１１２の少なくとも一部及び／又は領域は、それに対応する第２の側１１４の一部及び／又は領域から離れる方向を向いていてもよい。加えて又は代替的に、第１の側１１２の少なくとも一部及び／又は領域は、それに対応する第２の側１１４の一部及び／又は領域から離れて突出してもよい。加えて又は代替的に、第２の側１１４の少なくとも一部及び／又は領域は、それに対応する第１の側１１２の一部及び／又は領域から離れて突出してもよい。別の言い方をすると、いくつかの例において、プローブ１００がプローブシステム１０内で利用されるとき、第１の側１１２は、プローブの下側であってもよく、及び／又はＤＵＴ６２の方を向いていてもよく、一方で、第２の側１１４は、プローブの上側であってもよく、ＤＵＴ６２から離れる方向を向いていてもよく、光源３０の方を向いていてもよく、及び／又は撮像デバイス４０の方を向いていてもよい。

受光領域１３０は、光３２を光入射角３４で受光するように、及び／又は出射成分光４２を光出射角４４で放出するように、適合、構成、設計、形成、及び／又は構築されうる再帰反射体本体１１０の任意の適切な領域及び／又は表面を含みうる。一例として、受光領域１３０は、平面状、又は少なくとも実質的に平面状の再帰反射体本体１１０の受光領域、及び／又は平面状、又は少なくとも実質的に平面状の再帰反射体本体１１０の表面及び／又は第２の側１１４を含んでもよく、平面状、又は少なくとも実質的に平面状の再帰反射体本体１１０の受光領域、及び／又は平面状、又は少なくとも実質的に平面状の再帰反射体本体１１０の表面及び／又は第２の側１１４であってもよい。別の例として、受光領域１３０は、円形、少なくとも実質的に円形、及び／又は少なくとも部分的に円形の再帰反射体本体１１０の領域及び／又は表面を含んでもよく、及び／又は円形、少なくとも実質的に円形、及び／又は少なくとも部分的に円形の再帰反射体本体１１０の領域及び／又は表面であってもよい。追加の例として、受光領域１３０は、光学的に透明な、又は少なくとも実質的に光学的に透明な再帰反射体本体１１０の受光領域、及び／又は光学的に透明な、又は少なくとも実質的に光学的に透明な再帰反射体本体１１０の表面領域であってもよい。

いくつかの例では、受光領域１３０は、光が再帰反射体本体内及び／又は再帰反射体本体によって規定される再帰反射体１０６内で反射するように、光３２を再帰反射体本体１１０内に伝達するように構成されうる。いくつかの例では、受光領域１３０は、再帰反射体１０６内での光の反射に続いて、再帰反射体本体１１０からの出射成分光４２を放出するように構成されてもよい。

再帰反射体１０６は、再帰反射体本体１１０によって、及び／又は再帰反射体本体１１０内に規定され、光３２を光入射角３４で受光し、及び／又は出射成分光４２を光出射角４４で放出する、任意の適切な構造を含み、及び／又はそのような任意の適切な構造であってよい。一例として、また図３に示されるように、再帰反射体１０６、及び／又はそのテーパー状領域１１６は、光３２が再帰反射体本体１１０内で、再帰反射体本体の内側表面１１８から反射するように構成及び／又は形成されうる。この反射光は、その後、受光領域１３０を介して、出射成分光４２として再帰反射体本体から出る。この反射を許容及び／又は促進するために、再帰反射体本体１１０及び／又はそのテーパー状領域１１６は、いくつかの例では、少なくとも部分的に角錐状の再帰反射体本体、少なくとも部分的に３角錐状の再帰反射体本体、正角錐状の再帰反射体本体、及び／又は少なくとも部分的に正角錐状の再帰反射体本体とすることができる。

いくつかの例では、再帰反射体１０６、再帰反射体本体１１０、及び／又はテーパー状領域１１６は、撮像デバイスによって受光されたときに、出射成分光４２が所定の光パターンを有し、及び／又は所定の光パターンを規定するように、形成されてもよい。一例として、また図４～７を参照すると、再帰反射体１０６は、円弧状表面１０８から少なくとも部分的に延在する３角錐状のテーパー状領域１１６を含んでよい。このような例では、また図１０に示されるように、所定の光パターンは、円形形状及び／又は円形光パターンを含んでもよいし、及び／又は円形形状及び／又は円形光パターンであってもよい。別の例として、また図１１～１３を参照すると、再帰反射体１０６は、３角錐状のテーパー状領域１１６を含んでもよいし、３角錐状のテーパー状領域１１６のみを含んでもよい。このような例では、また図１６に示されるように、所定の光パターンは、多角形形状、セグメント化された多角形形状、六角形形状、及び／又はセグメント化された六角形形状を含んでもよいし、及び／又は、多角形形状、セグメント化された多角形形状、六角形形状、及び／又はセグメント化された六角形形状であってもよい。

プローブ１００の再帰反射体１０６を利用して所定の光パターンを生成及び／又は発生させられることで、図３に示されるプローブシステム１０の文脈において、明確な利点がもたらされる。一例として、図１０に図示される所定の光パターンを生成する図４～７に図示される再帰反射体は、プローブ先端部１２０の高さにおける小さな誤差に対して比較的感度が低く、比較的広い焦点範囲内で撮像デバイス４０に合焦することができ、及び／又は、より広い焦点範囲にわたって再帰反射体１０６上に比較的明るいスポットを生成することができる。このような構成は、プローブが撮像デバイスによってあまりよく解像されない高さにある場合、及び／又は、プローブを撮像する主な目的が、プローブの下方に延在する基板の平面に対する、及び／又は平面内のプローブの位置を決定することである場合に、有益でありうる。

別の例として、図１１～１３に図示される再帰反射体によって生成されうる図１６に図示される光パターンは、比較的小さい及び／又は狭い焦点範囲内でしか撮像デバイスに視認されない可能性がある。このような構成は、プローブが撮像デバイスによって良好に解像される高さにある場合、及び／又は、プローブを撮像する主な目的が、基板上のプローブの高さを決定するなど、プローブに撮像デバイスを正確に焦点合わせすることである場合に、有益でありうる。

図３に破線で、及び図４～９、１１～１５、１７、１９～２０に実線で図示されているように、プローブ１００は背景オフセット領域１６０を含みうるし、再帰反射体本体１１０は背景オフセット領域１６０を規定しうるし、及び／又は第２の側１１４は背景オフセット領域１６０を含み、及び／又は規定しうる。背景オフセット領域１６０は、それが存在する場合、光入射角３４でその上に入射しうる光３２を、光入射角とは異なるオフセット領域角度で再帰反射体本体１１０から離れるように伝達し、屈折させ、及び／又は反射させるように構成されうる。別の言い方をすると、背景オフセット領域１６０は、撮像デバイス４０から光を遠ざけるように構成されてもよい。これは図９及び図１５に図示されており、受光領域１３０を介して再帰反射体１０６に入射した光は撮像デバイス４０に向けて放出され、一方、背景オフセット領域１６０に入射した光は撮像デバイスから遠ざかる方向に導かれる。

図８及び図１４に示されるように、このような構成は、基板６０に対してプローブ１００の位置及び／又は場所を正確に決める機能を向上させうるという明確な利点を提供しうる。一例として、撮像デバイスで見たとき、また図示したように、背景オフセット領域１６０は、再帰反射体１０６によって生成された明部領域を取り囲む、又は少なくとも部分的に取り囲む暗部領域を生成する。この暗部領域は、ビルトインされた又は保証された、光学的コントラストをもたらし、それによって、基板上に存在する可能性のある構造又は基板から受光する可能性のある光に関係なく、プローブと基板との位置合わせを許容及び／又は容易にする。別の言い方をすれば、背景オフセット領域１６０によって生成される暗部領域により、撮像デバイスによって見たときに、再帰反射体によって生成される明部領域と基板との間に所定の空間的な分離がもたらされ、この所定の空間的な分離によって、撮像デバイスを利用してプローブの位置を正確に決定する機能が向上されうる。このことは、撮像デバイスを利用してプローブの位置を決定するために自動化されたルーチンを利用するように構成されたプローブシステム１０に特に当てはまるだろう。

背景オフセット領域１６０は、再帰反射体１０６及び／又は受光領域１３０に対して、任意の適切なサイズ、形状、及び／又は向きを有することができる。一例として、背景オフセット領域は、受光領域を取り囲んでもよく、又は少なくとも部分的に取り囲んでもよい。別の例として、背景オフセット領域はオフセット領域表面積を有してもよく、受光領域は受光領域表面積を有してもよく、オフセット領域表面積に対する受光領域表面積の比は、少なくとも０．０５、少なくとも０．１、少なくとも０．１５、少なくとも０．２、少なくとも０．２５、少なくとも０．３、少なくとも０．３５、少なくとも０．４、少なくとも０．４５、少なくとも０．５、多くとも６、多くとも５．５、多くとも５、多くとも４．５、多くとも４、多くとも３．５、多くとも３、多くとも２．５、多くとも２、多くとも１．５、及び／又は多くとも１であってよい。さらに別の例として、背景オフセット領域は、再帰反射体本体１１０の第２の側１１４上に、及び／又は第２の側１１４よって規定されてよい。別の例として、背景オフセット領域は、受光領域１３０から離れて延在してもよく、及び／又は受光領域から再帰反射体本体の第１の側１１２に向かって先細りになってもよい。別の例として、背景オフセット領域は、少なくとも部分的に円錐形であってもよい。

いくつかの例では、背景オフセット領域１６０は、本明細書では突起先端部１６２とも呼ばれうる突起領域１６２を含み、及び／又は規定しうる。突起領域１６２は、それが存在する場合、受光領域によって規定される平面内で測定されるように、受光領域１３０から離れるように突出及び／又は延在してよい。このような構成において、突起領域１６２は、撮像デバイスを利用した光学的観察を介してプローブと基板との間の位置合わせを改善することを容易にするための、代替的な又は補完的な基準点として利用されてもよい。

図３に点線で、図１７～２０に実線で示されているように、プローブ１００はまた、第１の側の背景オフセット領域１７０を含むことができる。プローブ１００が第１の側の背景オフセット領域１７０を含む場合、背景オフセット領域１６０は、本明細書では第２の側の背景オフセット領域１６０とも呼ばれることがあり、オフセット領域角度は、本明細書では第２の側のオフセット領域角度とも呼ばれることがある。第１の側の背景オフセット領域１７０は、第２の側の背景オフセット領域１６０から離れた方向を向いていてもよい。第２の側の背景オフセット領域１６０と同様に、第１の側の背景オフセット領域１７０は、それが存在する場合、そこに入射しうる光を、再帰反射体本体１１０から離れるように、再帰反射体１０６から離れるように、及び／又は撮像デバイス４０から離れるように、伝達、屈折、及び／又は反射するように構成されうる。このように、第２の側の背景オフセット領域１７０の存在は、光が受光領域１３０に入射し、撮像デバイス４０に反射して戻ってくるときに、受光領域１３０と背景オフセット領域１６０との間の光学的コントラスト、すなわち輝度差をさらに増大させうる。

第１の側の背景オフセット領域１７０は、任意の構造を含んでよく、及び／又は任意の適切な形状を規定してよい。一例として、第１の側の背景オフセット領域１７０は、再帰反射体１０６及び／又はテーパー状領域１１６を取り囲むか、又は少なくとも部分的に取り囲んでもよい。より具体的な例として、第１の側の背景オフセット領域１７０は、凹部領域１７２を規定してもよく、少なくとも部分的に規定してもよく、境界を設けてもよく、及び／又は少なくとも部分的に境界を設けてもよく、再帰反射体１０６及び／又はテーパー状領域１１６は、少なくとも部分的に、あるいは完全に、凹部領域内に延在してもよい。

別の例として、第１の側の背景オフセット領域１７０は、受光領域１３０に対して、及び／又は第２の側の背景オフセット領域１６０に対して、斜めの角度で延在していてもよい。別の例として、第１の側の背景オフセット領域１７０は、少なくとも部分的に円錐形であってもよい。さらに別の例として、第１の側の背景オフセット領域１７０は、受光領域１３０から離れるにつれて先細りになってもよく、第２の側の背景オフセット領域１６０から離れるにつれて先細りになってもよく、及び／又はテーパー状領域１１６に向かって先細りになってもよい。

プローブ先端部１２０は、図３～４に図示されるように、プローブ１００に動作可能に取り付けられ、及び／又はプローブ１００によって規定され、及び／又はＤＵＴ６２と通信するように構成されうる、任意の適切な構造を含みうる。一例として、及び図３に図示されるように、プローブ先端部１２０は、試験信号５２をＤＵＴに伝達し、及び／又はＤＵＴから結果信号５４を受信するように構成されうる通信構造１５０を含みうる。

通信構造１５０の一例には電気導管１５２が含まれ、これは、対応するＤＵＴの接触パッド６４と電気的及び／又は接触的に通信するように構成されうる。電気導管１５２は、それが存在する場合、電気的試験信号をＤＵＴに伝達し、及び／又はＤＵＴから電気的結果信号を受信するように構成されうる。通信構造１５０の付加的な例には光導管１５４及び／又はアンテナ１５６が含まれ、これらは、対応するＤＵＴの結合構造６６と無線通信及び／又は非接触通信するように構成されうる。光導管１５４は、それ存在する場合、光学的試験信号をＤＵＴに伝達し、及び／又はＤＵＴから光学的結果信号を受信するように構成されうる。同様に、アンテナ１５６は、それが存在する場合、電磁気的試験信号をＤＵＴに伝達し、及び／又はＤＵＴから電磁気的結果信号を受信するように構成されうる。

いくつかの実施例では、また図３～４に示されるように、プローブ先端部１２０は、再帰反射体１０６から間隔をあけて、及び／又は別個に配置されてもよい。いくつかのそのような例では、プローブ先端部及び再帰反射体は、プローブに動作可能に取り付けられ、プローブ上に動作可能に規定され、及び／又はプローブ上に動作可能に形成されうる、別別々の構造体及び／又は別個の構造であってもよい。いくつかの実施例では、また図３～４にも示されているように、プローブ先端部１２０とテーパー状領域１１６はともに、プローブから離れる方向及び／又はＤＵＴに向かって突出することがある。そのような例では、プローブ先端はテーパー状領域よりも遠くに突出することがある。このような構成により、基板と再帰反射体との間の接触又は物理的接触なしに、プローブ先端とＤＵＴとの間の通信を可能にし、及び／又は容易にすることができる。

図２１は、本開示による、プローブを利用する方法２００の例を示すフローチャートである。プローブは、プローブシステムに含まれてもよく、及び／又はプローブシステムの一部を形成してもよい。プローブの例は、プローブ１００を参照して本明細書に開示される。プローブシステムの例は、プローブシステム１０を参照して本明細書に開示される。

方法２００は、２１０において再帰反射体の方向へ光を向けることと、２２０において光の反射成分を内部反射することとを含む。方法２００はまた、２３０で反射成分光の一部である出射成分光を放出し、光の残部を２４０で散乱させることを含む。方法２００はまた、２５０で出射成分光を受光すること、２６０で光学的コントラストを生成すること、２７０でプローブを被試験デバイス（ＤＵＴ）に位置合わせすること、及び／又は２８０でＤＵＴを試験することを含んでよい。

２１０で再帰反射体の方向へ光を向けることは、光が再帰反射体の受光領域に光入射角で入射するように光を向けることを含んでもよい。光の例は、光３２を参照して本明細書に開示される。受光領域の例は、受光領域１３０を参照して本明細書に開示される。光入射角の例は、光入射角３４を参照して本明細書に開示される。再帰反射体の例は、再帰反射体１０６を参照して本明細書に開示される。

２２０で光の反射成分を内部反射させることは、少なくとも光の反射成分を再帰反射体の再帰反射本体内で内部反射させることを含んでもよい。再帰反射体本体の例は、再帰反射体本体１１０を参照して本明細書に開示されている。

２３０で光の反射成分の一部である出射成分光を放出することは、出射成分光を、再帰反射体本体から、受光領域を介して、及び／又は、光出射角度で放出することを含んでもよい。出射成分光の例は、出射成分光４２を参照して本明細書に開示される。光出射角の例は、光出射角４４を参照して本明細書に開示される。

２４０で光の残部を散乱させることは、光の残部が再帰反射体から光出射角以外の角度で伝播するように光の残部を散乱させることを含んでもよい。

２５０で出射成分光を受光することは、出射成分光を撮像デバイスで受光することを含んでもよい。撮像デバイスの例は、撮像デバイス４０を参照して本明細書に開示される。

２６０で光学的コントラストを生成することは、受光領域とプローブの背景オフセット領域との間の光学的コントラストを生成することを含んでもよい。背景オフセット領域の例は、背景オフセット領域（又は第２の側の背景オフセット領域）１６０及び／又は第１の側の背景オフセット領域１７０を参照して本明細書に開示される。これには、プローブの背景オフセット領域が受光領域を少なくとも部分的に、又は完全に取り囲むようにした生成が含まれてもよい。本明細書でより詳細に説明されるように、このような構成は、受光領域から放出される出射成分光の検出及び／又は認識の改善を可能にし、及び／又は容易にしうる。

２６０での生成は、任意の適切な方法で実行されてもよい。一例として、２６０における生成は、２４０における散乱の結果であってもよい。別の言い方をすれば、２４０での散乱は、２５０での受光の間、背景オフセット領域から伝達される光が撮像デバイスに入射しないように実行されてもよく、それにより、検出された画像内及び背景オフセット領域内に暗部領域が形成される。

２７０でプローブをＤＵＴに位置合わせすることは、プローブの任意の適切な構造をＤＵＴ上の対応する位置に位置合わせすることを含んでもよい。一例として、２７０での位置合わせは、プローブのプローブ先端をＤＵＴ上の対応する試験位置に位置合わせすることを含んでもよい。プローブ先端部の例は、プローブ先端部１２０を参照して本明細書に開示される。対応する試験位置の例は、接触パッド６４及び／又は結合構造６６を参照して本明細書に開示される。

２７０での位置合わせは、任意の適切な方法で達成されうる。一例として、方法２００が２５０での受信を含む場合、２７０での位置合わせは、２５０での受信に少なくとも部分的に基づいてもよい。より具体的な例として、また議論されたように、出射成分光は、プローブとＤＵＴとの間の位置合わせのための基準として利用されうる、プローブ上の、正確な、再現可能な、及び／又は明確に定義された基準点を提供しうる。

２８０でＤＵＴを試験することは、任意の適切な方法でＤＵＴを試験することを含んでもよい。これには、ＤＵＴの機能性及び／又はＤＵＴの任意の適切な性能パラメータを定量化及び／又は判定することが含まれうる。例として、２８０での試験は、ＤＵＴへの試験信号の提供及び／又はＤＵＴからの結果信号の受信を含んでよい。試験信号の例は、本明細書において試験信号５２を参照して開示される。結果信号の例は、本明細書において結果信号５４を参照して開示される。

本明細書で使用される場合、第１の構成要素と第２の構成要素の間に置かれた用語「及び／又は」は、（１）第１の構成要素、（２）第２の構成要素、及び（３）第１の構成要素と第２の構成要素、のうちの１つを意味する。「及び／又は」と共に記載された複数の構成要素は、同じように解釈されるべきであり、すなわち、そのように結合された構成要素の「１つ以上」を意味する。具体的に特定された構成要素に関連するか否かにかかわらず、他の構成要素は「及び／又は」節によって具体的に特定された構成要素以外に追加的に存在しうる。したがって、非限定的な例として、「Ａ及び／又はＢ」への言及は、「ｃｏｍｐｒｉｓｉｎｇ」などのオープンエンドの言語と組み合わせて使用される場合、ある実施形態では、Ａのみ（任意にＢ以外の構成要素を含む）を指し、別の実施形態では、Ｂのみ（任意にＡ以外の構成要素を含む）を指し、さらに別の実施形態では、Ａ及びＢの両方（任意に他の構成要素を含む）を指す場合がある。これらの構成要素は、要素、アクション、構造、ステップ、動作、値などを指す場合がある。

本明細書で使用する場合、１つ以上の構成要素のリストに関する「少なくとも１つ」という語句は、構成要素のリスト内の構成要素のいずれか１つ以上から選択される少なくとも１つの構成要素を意味するが、必ずしも構成要素のリスト内に具体的に列挙される各構成要素の少なくとも１つを含む必要はなく、構成要素のリスト内の構成要素の組み合わせを除外するものでもないと理解すべきである。この定義はまた、具体的に特定された構成要素に関連しているか否かにかかわらず、「少なくとも１つ」という語句が指す構成要素のリスト内で具体的に特定された構成要素以外の構成要素が追加的に存在する可能性があることを許容する。したがって、非限定的な例として、「Ａ及びＢのうちの少なくとも１つ」（又は、等価的に「Ａ又はＢのうちの少なくとも１つ」、又は、等価的に「Ａ及び／又はＢのうちの少なくとも１つ」）は、一実施形態では、Ｂが存在しない（及び、任意選択でＢ以外の構成要素を含む）、少なくとも１つの、又は場合によっては複数の、Ａを指す場合がある；別の実施形態では、Ａが存在しない（及び、任意選択でＡ以外の構成要素を含む）、少なくとも１つの、又は場合によっては複数の、Ｂを含むものを指す場合がある；さらに別の実施形態では、少なくとも１つの、任意選択で１つ以上のＡを含むもの、及び少なくとも１つの、任意選択で１つ以上のＢを含むもの（及び任意選択で他の構成要素を含むもの）を指す。言い換えれば、「少なくとも１つ」、「１つ以上」、及び「及び／又は」という表現は、実際には接続詞と接続解除詞の両方であるオープンエンド表現である。例えば、「Ａ、Ｂ、及びＣのうちの少なくとも１つ」、「Ａ、Ｂ、又はＣのうちの少なくとも１つ」、「Ａ、Ｂ、及びＣのうちの１つ以上」、「Ａ、Ｂ、又はＣのうちの１つ以上」、及び「Ａ、Ｂ、及び／又はＣ」という表現のそれぞれは、Ａ単独、Ｂ単独、Ｃ単独、Ａ及びＢの組み合わせ、Ａ及びＣの組み合わせ、Ｂ及びＣの組み合わせ、Ａ、Ｂ、及びＣの組み合わせ、及び追加的に少なくとも１つの他の構成要素と上記のいずれかとの組み合わせのいずれかを意味し得る。

特許、特許出願、又は他の参考文献が本明細書に参考として組み込まれ、本開示の非組み込み部分又は他の組み込まれた参考文献のいずれかと（１）矛盾する方法で用語を定義し、かつ／又は（２）他の方法で矛盾する場合、本開示の非組み込み部分が支配するものとし、その用語又は組み込まれた開示は、その用語が定義され、かつ／又は組み込まれた開示が元々存在した参考文献に関してのみ支配するものとする。

本明細書で使用される「適合された」及び「構成された」という用語は、要素、構成、又は他の主題が、所定の機能を実行するように設計及び／又は意図されていることを意味する。したがって、「適合された」及び「構成された」という用語の使用は、所定の要素、構成、又は他の主題が、所定の機能を単に実行することが「できる」ことを意味するのではなく、要素、構成、及び／又は他の主題が、その機能を実行する目的で具体的に選択され、作成され、実装され、利用され、プログラムされ、及び／又は設計されることを意味するものと解釈されるべきである。また、特定の機能を実行するように適合されていると説明されている要素、構成、及び／又は他の説明されている主題が、追加的又は代替的に、その機能を実行するように構成されていると説明される場合があり、その逆もまた、本開示の範囲内である。

本明細書で使用される場合、本開示による１つ又は複数の構成、特徴、詳細、構造、実施形態、及び／又は方法に関して使用される場合、「例えば」という語句、「例として」という語句、及び／又は単に「例」という語句は、記載される構成、特徴、詳細、構造、実施形態、及び／又は方法が、本開示による構成、特徴、詳細、構造、実施形態、及び／又は方法の例示的で非排他的な例であることを伝えることを意図している。したがって、記載された構成、特徴、詳細、構造、実施形態、及び／又は方法は、限定的、必須、又は排他的／網羅的であることを意図するものではなく、構造的及び／又は機能的に類似及び／又は等価な構成、特徴、詳細、構造、実施形態、及び／又は方法を含む他の構成、特徴、詳細、構造、実施形態、及び／又は方法も、本開示の範囲内である。

本明細書で使用される場合、程度又は関係を修飾する場合の「少なくとも実質的に」は、説明された「実質的な」程度又は関係だけでなく、説明された程度又は関係の全範囲も含みうる。説明された程度又は関係の実質的な量には、説明された程度又は関係の少なくとも７５％が含まれうる。例えば、ある材料から少なくとも実質的に形成されている物体は、当該物体の少なくとも７５％が当該材料から形成されている物体を含み、また、当該材料から完全に形成されている物体も含む。別の例として、第２の長さと少なくとも実質的に同じ長さの第１の長さは、第２の長さの７５％以内の第２の長さを含み、第２の長さと同じ長さの第１の長さも含む。

本開示によるプローブ、プローブシステム、及び方法の例示的で非排他的な例を、以下の段落に列挙する。

Ａ１．プローブシステム用のプローブであって、当該プローブは、
再帰反射体本体によって規定される再帰反射体を含み、前記再帰反射体本体は、
（ｉ）第１の側と、
（ｉｉ）第２の側、反対にある第２の側、又は少なくとも実質的に反対にある第２の側と
（ｉｉｉ）前記再帰反射体本体の前記第１の側から延在するテーパー状領域と、
（ｉｖ）前記再帰反射体本体の前記第２の側に規定される受光領域と
を含み、
前記プローブは、さらに、
被試験デバイス（ＤＵＴ）への試験信号の供給及びＤＵＴからの結果信号の受信の少なくとも一方を行うように構成されたプローブ先端部と
を含み、
前記再帰反射体は、前記受光領域を介して光入射角で光を受光し、前記受光領域を介して光入射角と等しい又は少なくとも実質的に等しい光出射角で前記再帰反射体本体から少なくとも出射成分光を放出するように構成される、プローブ。

Ａ２．前記再帰反射体本体は、モノリシック再帰反射体本体又は一体型再帰反射体本体である、Ａ１に記載のプローブ。

Ａ３．前記再帰反射体本体は、付加製造プロセスを介して形成される、Ａ１、Ａ２のいずれかに記載のプローブ。

Ａ４．前記再帰反射体本体は、
（ｉ）前記再帰反射体の全体、並びに
（ｉｉ）前記第１の側、前記第２の側、前記テーパー状領域、及び前記受光領域
の少なくとも１つを規定する単一の再帰反射体本体である、Ａ１～Ａ３のいずれかに記載のプローブ。

Ａ５．前記再帰反射体本体が、
（ｉ）光学的に透明な再帰反射体本体、及び
（ｉｉ）少なくとも部分的に光学的に透明な再帰反射体本体
の少なくとも１つである、Ａ１～Ａ４のいずれかに記載のプローブ。

Ａ６．前記プローブ先端部は、ＤＵＴと通信するように構成されている、Ａ１～Ａ５のいずれかに記載のプローブ。

Ａ７．前記プローブ先端部は、ＤＵＴへの電気的試験信号の伝達及びＤＵＴからの電気的結果信号の受信の少なくとも一方を行うように構成された電気導管を含む、Ａ６に記載のプローブ。

Ａ８．前記プローブ先端部は、ＤＵＴの接触パッドに物理的に接触するように構成されている、Ａ７に記載のプローブ。

Ａ９．前記プローブ先端部は、ＤＵＴのカップリング構造と非接触で通信するように構成されている、Ａ６に記載のプローブ。

Ａ１０．前記プローブ先端部は、ＤＵＴのカップリング構造への光学的試験信号の伝達及びＤＵＴのカップリング構造からの光学的結果信号の受信の少なくとも一方を行うように構成された光導管を含む、Ａ９に記載のプローブ。

Ａ１１．前記プローブ先端部が、ＤＵＴの結合構造への電磁気的試験信号の伝達及びＤＵＴの結合構造からの電磁気的結果信号の受信の少なくとも一方を行うように構成されたアンテナを含む、Ａ１０項に記載のプローブ。

Ａ１２．前記受光領域は、平面状、又は少なくとも実質的に平面状の受光領域である、Ａ１～Ａ１１のいずれかに記載のプローブ。

Ａ１３．前記受光領域は、
（ｉ）光学的に透明な受光領域、及び
（ｉｉ）少なくとも部分的に光学的に透明な受光領域
と少なくとも１つである、Ａ１～Ａ１２のいずれかに記載のプローブ。

Ａ１４．前記受光領域は、前記再帰反射体本体内で光が反射するように、前記再帰反射体本体内に光を伝達するように構成されている、Ａ１～Ａ１３のいずれかに記載のプローブ。

Ａ１５．前記受光領域は、前記再帰反射体本体内での反射に続いて、前記再帰反射体本体から出射成分光を放出するように構成されている、Ａ１～Ａ１４のいずれかに記載のプローブ。

Ａ１６．前記受光領域は、少なくとも部分的に円形である、Ａ１～Ａ１５のいずれかに記載のプローブ。

Ａ１７．前記再帰反射体は、
（ｉ）前記プローブ先端部から間隔をあけて配置されている、及び／又は
（ｉｉ）前記プローブ先端部から別個に配置されている、
Ａ１～Ａ１６のいずれかに記載のプローブ。

Ａ１８．前記再帰反射体は、前記再帰反射体本体の内側表面によって少なくとも部分的に規定される、Ａ１～Ａ１７のいずれかに記載のプローブ。

Ａ１９．前記再帰反射体は、前記再帰反射体内で、光が前記再帰反射体本体の内側表面から反射し、前記出射成分光として前記受光領域から出るように構成されている、Ａ１～Ａ１８のいずれかに記載のプローブ。

Ａ２０．前記テーパー状領域が
（ｉ）少なくとも部分的に角錐状のテーパー状領域、及び
（ｉｉ）少なくとも部分的に３角錐状のテーパー状領域
の少なくとも１つである、Ａ１～Ａ１９のいずれかに記載のプローブ。

Ａ２１．前記再帰反射体は、前記出射成分光が所定の光パターンを規定するように形成される、Ａ１～Ａ２０のいずれかに記載のプローブ。

Ａ２２．前記所定の光パターンは、円形状を含む、Ａ２１に記載のプローブ。

Ａ２３．前記所定の光パターンは、
（ｉ）多角形形状、
（ｉｉ）セグメント化された多角形形状、
（ｉｉｉ）六角形状、
（ｉｖ）セグメント化された六角形形状、
の少なくとも１つを含む、Ａ２１～Ａ２２のいずれかに記載のプローブ。

Ａ２４．前記プローブは、前記光入射角で入射した光を前記光入射角とは異なるオフセット領域角度で前記再帰反射体本体から離れるように伝達する、背景オフセット領域をさらに含む、Ａ１～Ａ２３のいずれかに記載のプローブ。

Ａ２５．前記背景オフセット領域は、
（ｉ）前記受光領域を少なくとも部分的に取り囲む、及び
（ｉｉ）前記受光領域を取り囲む
の少なくとも１つである、Ａ２４に記載のプローブ。

Ａ２６．前記背景オフセット領域は、オフセット領域表面積を有し、前記受光領域が受光領域表面積を有し、前記受光領域表面積と前記オフセット領域表面積との比が、
（ｉ）少なくとも０．０５、少なくとも０．１、少なくとも０．１５、少なくとも０．２、少なくとも０．２５、少なくとも０．３、少なくとも０．３５、少なくとも０．４、少なくとも０．４５、又は少なくとも０．５、
（ｉｉ）多くとも６、多くとも５．５、多くとも５、多くとも４．５、多くとも４、多くとも３．５、多くとも３、多くとも２．５、多くとも２、多くとも１．５、又は多くとも１、
のうちの少なくとも１つである、Ａ２４～Ａ２５のいずれかに記載のプローブ。

Ａ２７．前記再帰反射体本体は、前記背景オフセット領域を規定する、Ａ２４～Ａ２６のいずれかに記載のプローブ。

Ａ２８．前記背景オフセット領域は、前記受光領域によって規定される平面内で前記受光領域から離れる方向に延在する突起領域を含む、Ａ２４～Ａ２７のいずれかに記載のプローブ。

Ａ２９．前記突起領域は、突起先端部を含む、Ａ２８に記載のプローブ。

Ａ３０．前記背景オフセット領域は、前記再帰反射体本体の前記第２の側に規定される、Ａ２４～Ａ２９のいずれかに記載のプローブ。

Ａ３１．前記背景オフセット領域は、前記受光領域から離れて延在し、前記再帰反射体本体の前記第１の側に向かって先細りになっている、Ａ２４～Ａ３０のいずれかに記載のプローブ。

Ａ３２．前記背景オフセット領域は、第２の側の背景オフセット領域であり、さらに、前記プローブが、第１の側の背景オフセット領域を含み、当該第１の側の背景オフセット領域は、前記第２の側の背景オフセット領域から離れる方向を向き、その上に入射する光を、前記光入射角とは異なる第１の側のオフセット領域角度で前記再帰反射体本体から離れる方向に伝達するように構成される、Ａ２４～Ａ３１のいずれかに記載のプローブ。

Ａ３３．前記第１の側の背景オフセット領域は、
（ｉ）少なくとも部分的にテーパー状領域を取り囲む、及び
（ｉｉ）少なくとも部分的に、テーパー状領域が内部で延在する凹領域を規定する、
の少なくとも１つである、Ａ３２に記載のプローブ：

Ａ３４．前記再帰反射体本体は、前記第１の側の背景オフセット領域を規定する、Ａ３２～Ａ３３のいずれかに記載のプローブ。

Ａ３５．前記第１の側の背景オフセット領域は、前記再帰反射体本体の第１の側に規定される、Ａ３２～Ａ３４のいずれかに記載のプローブ。

Ａ３６．前記第１の側の背景オフセット領域は、
（ｉ）前記受光領域に対して斜めの角度で延在する、
（ｉｉ）第２の側の背景オフセット領域に対して斜めの角度で延在する、
（ｉｉｉ）少なくとも部分的に円錐形である、及び
（ｉｖ）第２の側の背景オフセット領域から離れ、テーパー状領域に向かって先細りになっている、
の少なくとも１つである、Ａ３２～Ａ３５のいずれかに記載のプローブ。

Ｂ１．基板上に形成された被試験デバイス（ＤＵＴ）を試験するためのプローブシステムであって、
前記基板を支持するように構成されたチャックと、
Ａ１～Ａ３６に記載のプローブと、
前記光入射角で前記受光領域の方向へ光を向けるように構成された光源と、
少なくとも実質的に前記光出射角で前記再帰反射体から放出される前記出射成分光を受光するように構成された撮像デバイスと、
を含む、プローブシステム。

Ｂ２．前記プローブシステムは、さらに、
（ｉ）前記プローブ先端部を介したＤＵＴへの試験信号の供給、及び
（ｉｉ）前記プローブ先端部を介したＤＵＴからの結果信号の受信
の少なくとも一方を行うように構成された、信号生成・解析アセンブリをさらに含む、Ｂ１に記載のプローブシステム。

Ｂ３．前記試験信号には、
（ｉ）電気的試験信号、
（ｉｉ）光学的試験信号、及び
（ｉｉｉ）電磁気的試験信号、
の少なくとも１つを含む、Ｂ２に記載のプローブシステム。

Ｂ４．前記結果信号には、
（ｉ）電気的結果信号、
（ｉｉ）光学的結果信号、及び
（ｉｉｉ）電磁気的結果信号、
のうちの少なくとも１つを含む、Ｂ２又はＢ３に記載のプローブシステム。

Ｂ５．前記プローブの背景オフセット領域は、前記撮像デバイスから離れるように光を伝達する、Ｂ１～Ｂ４のいずれかに記載のプローブシステム。

Ｃ１．Ａ１～Ａ３６のいずれかに記載のプローブ又はＢ１～Ｂ５のいずれかに記載のプローブシステムを利用する方法であって、
前記光入射角で前記受光領域に入射するように前記再帰反射体の方向へ光を向けること
前記再帰反射体本体内で少なくとも反射成分光を内部反射させることと、
前記反射成分光のうち前記出射成分光を再帰反射体本体から、前記受光領域を介して、前記光出射角で放出することと、
光の残部が前記光出射角以外の角度で前記再帰反射体から伝播するように、光の残部を散乱させることと、
を含む方法。

Ｃ２．前記方法は、前記受光領域と前記プローブの背景オフセット領域との間に光学的コントラストを生成することをさらに含み、任意追加的に、当該生成は散乱の結果である、Ｃ１に記載の方法。

Ｃ３．前記プローブの背景オフセット領域は、少なくとも部分的に、又は完全に、前記受光領域を取り囲む、Ｃ２に記載の方法。

Ｃ４．前記プローブをＤＵＴに位置合わせすることをさらに含む、Ｃ１～Ｃ３のいずれかに記載の方法。

Ｃ５．前記位置合わせが、前記プローブのプローブ先端部をＤＵＴ上の対応する試験位置に位置合わせすることを含む、Ｃ４に記載の方法。

Ｃ６．前記方法は、前記出射成分光を撮像デバイスで受信することをさらに含み、前記位置合わせが当該受信に少なくとも部分的に基づく、Ｃ４又はＣ５に記載の方法。

Ｃ７．前記方法は、ＤＵＴを試験することをさらに含む、Ｃ１～Ｃ６のいずれかに記載の方法。

Ｃ８．前記試験では、
（ｉ）ＤＵＴへの試験信号の供給、及び
（ｉｉ）ＤＵＴからの結果信号の受信、
の少なくとも一方が行われる、Ｃ７に記載の方法。

本明細書に開示されたプローブ、プローブシステム、及び方法は、半導体製造及び試験産業に適用可能である。

上記の開示は、独立した有用性を有する複数の異なる発明を包含すると考えられる。これらの発明の各々は、好ましい形態で開示されているが、本明細書に開示され説明された特定の実施形態は、多数の変形例が可能であり、限定的な意味で考慮されるべきではない。本発明の主題は、本明細書に開示された様々な要素、特徴、機能及び／又は特性の全ての新規かつ非自明な組み合わせ及びサブコンビネーションを含む。同様に、特許請求の範囲に、「ａ」又は「第１の」要素、或いはその等価物が記載されている場合、そのような特許請求の範囲は、１つ以上のそのような要素を構成要素として含むと理解されるべきであり、２つ以上のそのような要素を必須とするものでも排除するものでもない。

以下の特許請求の範囲は、開示された複数の発明の１つに向けられ、新規かつ非自明である特定の組み合わせ及びサブコンビネーションを特に特定していると考えられる。特徴、機能、要素及び／又は特性の他の組み合わせ及びサブコンビネーションにおいて具体化される発明は、本出願又は関連出願において、本請求項の補正又は新たな請求項の提示を通じて請求することができる。このような補正された請求項又は新たな請求項は、それらが異なる発明に向けられているか、又は同じ発明に向けられているかにかかわらず、元の請求項と異なるか、より広いか、より狭いか、又は範囲が等しいかにかかわらず、本開示の発明の主題に含まれるものとみなされる。

Claims (25)

1. プローブシステム用のプローブであって、当該プローブは、
   再帰反射体本体によって規定される再帰反射体を含み、前記再帰反射体本体は、
   （ｉ）第１の側と、
   （ｉｉ）前記第１の側の反対にある第２の側と、
   （ｉｉｉ）前記再帰反射体本体の前記第２の側から前記第１の側への第１の方向に沿って前記第１の側から離れるように延在し、前記第１の側から離れるにつれて先細りになるようなテーパー状領域と、
   （ｉｖ）前記再帰反射体本体の前記第２の側に規定される少なくとも実質的に平面状の受光領域と
   を含み、
   前記プローブは、さらに、
   被試験デバイス（ＤＵＴ）への試験信号の供給及びＤＵＴからの結果信号の受信の少なくとも一方を行うように構成され、前記第１の方向に沿って前記ＤＵＴに向いたプローブ先端部と、
   前記第２の側にて前記受光領域の付近に位置して光入射角で入射した光を前記光入射角とは異なる角度で前記再帰反射体本体から離れるように伝達する、背景オフセット領域とを含み、
   前記再帰反射体は、前記受光領域を介して前記光入射角で光を受光し、前記光を前記テーパー状領域で反射し、前記受光領域を介して前記光入射角と少なくとも実質的に等しい光出射角で前記再帰反射体本体から少なくとも出射成分光を放出するように構成される、
   プローブ。
2. 前記再帰反射体本体は、前記第１の側、前記第２の側、前記テーパー状領域、及び前記受光領域を一体的に有する、請求項１に記載のプローブ。
3. 前記再帰反射体本体は、少なくとも部分的に光学的に透明な再帰反射体本体である、請求項１に記載のプローブ。
4. 前記プローブ先端部は、ＤＵＴと通信するように構成されている、請求項１に記載のプローブ。
5. 前記プローブ先端部は、ＤＵＴの接触パッドに物理的に接触するように構成され、さらに、前記プローブ先端部は、ＤＵＴへの電気的試験信号の伝達及びＤＵＴからの電気的結果信号の受信の少なくとも一方を行うように構成された電気導管を含む、請求項４に記載のプローブ。
6. 前記プローブ先端部は、ＤＵＴの結合構造と非接触で通信するように構成され、さらに、前記プローブ先端部は、ＤＵＴの結合構造への光学的試験信号の伝達及びＤＵＴの結合構造からの光学的結果信号の受信の少なくとも一方を行うように構成された光導管を含む、請求項４に記載のプローブ。
7. 前記プローブ先端部は、ＤＵＴの結合構造への電磁気的試験信号の伝達及びＤＵＴの結合構造からの電磁気的結果信号の受信の少なくとも一方を行うように構成されたアンテナを含む、請求項４に記載のプローブ。
8. 前記受光領域は、少なくとも部分的に光学的に透明な受光領域である、請求項１に記載のプローブ。
9. 前記受光領域は、前記再帰反射体本体内で光が反射するように、前記再帰反射体本体内に光を伝達するように構成されている、請求項１に記載のプローブ。
10. 前記受光領域は、少なくとも部分的に円形である、請求項１に記載のプローブ。
11. 前記再帰反射体は、
    （ｉ）前記プローブ先端部から間隔をあけて配置されている、及び／又は
    （ｉｉ）前記プローブ先端部から別個に配置されている、
    請求項１に記載のプローブ。
12. 前記再帰反射体は、前記再帰反射体本体内で、光が前記再帰反射体本体の内側表面から反射し、前記出射成分光として前記受光領域から出るように構成されている請求項１に記載のプローブ。
13. 前記テーパー状領域は、少なくとも部分的に角錐状のテーパー状領域である、請求項１に記載のプローブ。
14. 前記再帰反射体は、前記出射成分光が所定の光パターンを規定するように形成される、請求項１に記載のプローブ。
15. 前記所定の光パターンは、円形状を含む、請求項１４に記載のプローブ。
16. 前記所定の光パターンは、
    （ｉ）多角形形状、
    （ｉｉ）セグメント化された多角形形状、
    （ｉｉｉ）六角形状、
    （ｉｖ）セグメント化された六角形形状、
    の少なくとも１つを含む、請求項１４に記載のプローブ。
17. 前記背景オフセット領域は、前記受光領域を少なくとも部分的に取り囲む、請求項１に記載のプローブ。
18. 前記背景オフセット領域は、前記受光領域によって規定される平面に水平な方向で前記受光領域から離れる方向に延在する突起領域を含み、前記突起領域は突起先端部を含む、請求項１に記載のプローブ。
19. 前記背景オフセット領域は、前記再帰反射体本体の前記反対にある第２の側に規定され、さらに、前記背景オフセット領域は、前記受光領域から離れて前記第１の方向に沿って延在し、前記再帰反射体本体の前記第２の側から前記第１の側への方向に前記受光領域から離れるにつれて細くなっている、請求項１に記載のプローブ。
20. 前記プローブは、第１の側の背景オフセット領域を含み、当該第１の側の背景オフセット領域は、前記第２の側の背景オフセット領域の反対方向を向き、前記第１の側の背景オフセット領域の上に入射する光を、前記光入射角とは異なる角度で前記第１の側のオフセット領域から離れる方向に伝達するように構成される、請求項１記載のプローブ。
21. 前記第１の側の背景オフセット領域は、少なくとも部分的に、前記テーパー状領域が内部で延在する凹領域を規定する、請求項２０に記載のプローブ。
22. 前記背景オフセット領域は、オフセット領域表面積を有し、前記受光領域が受光領域表面積を有し、前記受光領域表面積の前記オフセット領域表面積に対する比が少なくとも０．０５、多くとも６である、請求項１に記載のプローブ。
23. 基板上に形成された被試験デバイス（ＤＵＴ）を試験するためのプローブシステムであって、
    前記基板を支持するように構成されたチャックと、
    請求項１～２２のいずれか１つに記載のプローブと、
    前記光入射角で前記受光領域の方向へ光を向けるように構成された光源と、
    少なくとも実質的に前記光出射角で前記再帰反射体から放出される前記出射成分光を受光するように構成された撮像デバイスと、
    を含む、プローブシステム。
24. 請求項１～２２のいずれか１つに記載のプローブを利用する方法であって、
    前記光入射角で前記受光領域に入射するように前記再帰反射体の方向へ光を向けることと、
    前記再帰反射体本体内で少なくとも反射成分光を内部反射させることと、
    前記反射成分光のうち前記出射成分光を再帰反射体本体から、前記受光領域を介して、前記光出射角で放出することと、
    光の残部が前記光出射角以外の角度で前記再帰反射体から伝播するように、光の残部を散乱させることと、
    を含む方法。
25. 前記方法が、前記プローブをＤＵＴに位置合わせすることをさらに含み、当該位置合わせが、前記プローブのプローブ先端部をＤＵＴ上の対応する試験位置に位置合わせすることを含み、前記方法は、前記出射成分光を撮像デバイスで受信することをさらに含み、前記位置合わせが受信された前記出射成分光に少なくとも部分的に基づく、請求項２４に記載の方法。