JP7650877B2 - 空間的に変化するリターダ光学系を備えたヘッドマウントディスプレイ(hmd) - Google Patents
空間的に変化するリターダ光学系を備えたヘッドマウントディスプレイ(hmd) Download PDFInfo
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Description
これは、2019年11月22日に出願された「HEAD-MOUNTED DISPLAY(HMD)WITH SPATIALLY-VARYING RETARDER OPTICS」と題する米国特許出願第16/692,823号の優先権を主張するPCT出願であり、現在は米国特許第10,778,963号である、2018年8月10日に出願された「HEAD-MOUNTED DISPLAY(HMD)WITH SPATIALLY-VARYING RETARDER OPTICS」と題された係属中の米国特許出願第16/101,333号の一部継続として、35U.S.C.§120の下で優先権を主張し、これらのすべては、参照によりその全体が本明細書に組み込まれる。
以下に、本願出願の当初の特許請求の範囲に記載された発明を付記する。
[付記1]
方法であって、
レンズアセンブリに含まれることになる、成形レンズまたは偏光ビームスプリッタのうちの少なくとも1つにおける製造誤差の程度を判定することと、
前記製造誤差の前記程度に少なくとも部分的に基づいて、前記レンズアセンブリに含まれることになる空間的に変化するリターダ(SVR)の補正係数を判定することと、
前記補正係数を適用することによって前記SVRを形成することと、を含む、方法。
[付記2]
前記製造誤差の前記程度が、前記成形レンズ内の応力複屈折の量を含み、前記補正係数が、前記成形レンズ内の前記応力複屈折の量に基づいて判定される、付記1に記載の方法。
[付記3]
前記製造誤差の前記程度が、前記偏光ビームスプリッタ内の偏光変動を含み、前記補正係数が、前記偏光ビームスプリッタ内の前記偏光変動に基づいて判定される、付記1に記載の方法。
[付記4]
前記製造誤差の前記程度を前記判定することが、前記成形レンズ内の第1の製造誤差の程度を判定することと、前記偏光ビームスプリッタ内の第2の製造誤差の程度を判定することと、を含み、前記補正係数が、前記第1の製造誤差および前記第2の製造誤差に基づいて判定される、付記1に記載の方法。
[付記5]
前記成形レンズまたは前記偏光ビームスプリッタのうちの前記少なくとも1つにおける前記製造誤差の場所を判定すること、をさらに含み、
前記補正係数を適用することによる前記SVRの前記形成が、前記成形レンズまたは前記偏光ビームスプリッタのうちの前記少なくとも1つにおける前記製造誤差の前記場所に対応する前記SVR上の場所に前記補正係数を適用することを含む、付記1に記載の方法。
[付記6]
前記補正係数が、
前記SVRを製作するために使用される複屈折材料のタイプの調整、
前記SVRに含めるいくつかの複屈折層の調整、または
前記SVRに含める1つ以上の特徴に対する調整、のうちの少なくとも1つに関する補正の係数である、付記1に記載の方法。
[付記7]
前記レンズアセンブリが、ヘッドマウントディスプレイ(HMD)に組み込まれることになる、付記1に記載の方法。
[付記8]
方法であって、
ヘッドマウントディスプレイ(HMD)の光学サブシステムに含まれることになるレンズまたは反射偏光子のうちの少なくとも1つにおける製造誤差の程度を判定することと、
前記光学サブシステムに含まれることになる空間的に変化するリターダ(SVR)を製造する間に適用される補正係数を判定することと、
前記補正係数を適用することによって前記SVRを製造することと、を含む、方法。
[付記9]
前記製造誤差の前記程度が、前記レンズ内の応力複屈折の量を含み、前記補正係数が、前記レンズ内の前記応力複屈折の量に基づいて判定される、付記8に記載の方法。
[付記10]
前記製造誤差の前記程度が、前記反射偏光子内の偏光変動を含み、前記補正係数が、前記反射偏光子内の前記偏光変動に基づいて判定される、付記8に記載の方法。
[付記11]
前記製造誤差の前記程度を前記判定することが、前記レンズ内の第1の製造誤差の程度を判定することと、前記反射偏光子内の第2の製造誤差の程度を判定することと、を含み、前記補正係数が、前記第1の製造誤差および前記第2の製造誤差に基づいて判定される、付記8に記載の方法。
[付記12]
前記補正係数が、
前記SVRを製作するために使用される複屈折材料のタイプの調整、
前記SVRに含める重合性液晶のいくつかの複屈折層の調整、または
前記SVRに含める特徴のタイプ、数、もしくは密度のうちの少なくとも1つに対する調整、のうちの少なくとも1つに関する補正の係数である、付記8に記載の方法。
[付記13]
前記SVRが、四分の一波長板の一部として製造される、付記8に記載の方法。
[付記14]
前記補正係数が、前記製造誤差の場所に対応する前記SVR上の場所に適用される、付記8に記載の方法。
[付記15]
システムであって、
集合的に画像を形成するように構成されているピクセルを含む情報ディスプレイと、
前記情報ディスプレイの前記ピクセルを照明するためのバックライトアセンブリと、
前記情報ディスプレイからの前記画像の光をユーザの目に向けて方向づけるための光学サブシステムと、を備え、前記光学サブシステムが、
成形レンズと、
前記成形レンズと前記光学サブシステムの出射面との間に位置する偏光ビームスプリッタと、
前記レンズと前記偏光ビームスプリッタとの間に介在する空間的に変化するリターダ(SVR)であって、前記SVRが、成形レンズまたは前記偏光ビームスプリッタのうちの少なくとも1つにおける製造誤差を補償するように構成されている、空間的に変化するリターダ(SVR)と、を含む、システム。
[付記16]
前記SVRが、前記成形レンズ内の応力複屈折の量を補償するように構成されている、付記15に記載のシステム。
[付記17]
前記SVRが、前記偏光ビームスプリッタ内の偏光変動を補償するように構成されている、付記15に記載のシステム。
[付記18]
前記SVRが、前記成形レンズ内の応力複屈折および前記偏光ビームスプリッタ内の偏光変動の量を補償するように構成されている、付記15に記載のシステム。
[付記19]
前記SVRが、前記成形レンズまたは前記偏光ビームスプリッタのうちの少なくとも1つにおける前記製造誤差を補償する特性を含み、前記特性が、
前記SVRを製作するために使用される複屈折材料の特定のタイプ、
前記SVRに含まれる複屈折層の特定の数、または
前記SVRに含まれる特徴の特定のタイプ、特定の数、もしくは特定の密度のうちの少なくとも1つ、のうちの少なくとも1つを含む、付記15に記載のシステム。
[付記20]
前記SVRが、四分の一波長板の一部である、付記15に記載のシステム。
Claims (19)
- 方法であって、
レンズアセンブリに含まれることになる、成形レンズまたは偏光ビームスプリッタのうちの少なくとも1つにおける製造誤差の程度を判定することと、ここにおいて前記製造誤差の程度は、前記成形レンズ内の応力複屈折の量、または前記偏光ビームスプリッタ内の偏光変動の少なくとも1つを具備する、
前記レンズアセンブリに含まれることになる空間的に変化するリターダ(SVR)の補正係数を判定することと、ここにおいて前記補正係数は、前記成形レンズ内の前記応力複屈折の量、または前記偏光ビームスプリッタ内の偏光変動の少なくとも1つに基づいて判定される、
前記補正係数を適用することによって前記SVRを形成することと、を含む、方法。 - 前記製造誤差の前記程度を前記判定することが、前記成形レンズ内の応力複屈折の前記量を判定することと、前記偏光ビームスプリッタ内の偏光変動を判定することと、を含み、前記補正係数が、前記成形レンズ内の前記応力複屈折の前記量および前記偏光ビームスプリッタ内の前記偏光変動に基づいて判定される、請求項1に記載の方法。
- 前記成形レンズまたは前記偏光ビームスプリッタのうちの前記少なくとも1つにおける前記製造誤差の場所を判定すること、をさらに含み、
前記補正係数を適用することによる前記SVRの前記形成が、前記成形レンズまたは前記偏光ビームスプリッタのうちの前記少なくとも1つにおける前記製造誤差の前記場所に対応する前記SVR上の場所に前記補正係数を適用することを含む、請求項1に記載の方法。 - 前記補正係数が、
前記SVRを製作するために使用される複屈折材料のタイプの調整、
前記SVRに含める複屈折層の数の調整、または
前記SVRに含める1つ以上のナノ特徴のタイプ、数、もしくは密度のうちの少なくとも1つに対する調整、のうちの少なくとも1つに関する補正の係数である、請求項1に記載の方法。 - 前記レンズアセンブリが、ヘッドマウントディスプレイ(HMD)に組み込まれることになる、請求項1に記載の方法。
- 方法であって、
ヘッドマウントディスプレイ(HMD)の光学サブシステムに含まれることになるレンズまたは反射偏光子のうちの少なくとも1つにおける製造誤差の程度を判定することと、ここにおいて前記製造誤差の程度は、前記レンズ内の応力複屈折の量、または前記反射偏光子内の偏光変動の少なくとも1つを具備する、
前記光学サブシステムに含まれることになる空間的に変化するリターダ(SVR)を製造する間に適用される補正係数を判定することと、ここにおいて前記補正係数は、前記レンズ内の前記応力複屈折の前記量、または前記反射偏光子内の前記偏光変動の少なくとも1つに基づいて判定される、
前記補正係数を適用することによって前記SVRを製造することと、を含む、方法。 - 前記製造誤差の前記程度を前記判定することが、前記レンズ内の前記応力複屈折の前記量を判定することと、前記反射偏光子内の前記偏光変動を判定することとを含み、前記補正係数が、前記レンズ内の前記応力複屈折の前記量および前記反射偏光子内の前記偏光変動に基づいて判定される、請求項6に記載の方法。
- 前記補正係数が、
前記SVRを製作するために使用される複屈折材料のタイプの調整、
前記SVRに含める重合性液晶の複屈折層の数の調整、または
前記SVRに含めるナノ特徴のタイプ、数、もしくは密度のうちの少なくとも1つに対する調整、のうちの少なくとも1つに関する補正の係数である、請求項6に記載の方法。 - 前記SVRが、四分の一波長板の一部として製造される、請求項6に記載の方法。
- 前記補正係数が、前記製造誤差の場所に対応する前記SVR上の場所に適用される、請求項6に記載の方法。
- システムであって、
集合的に画像を形成するように構成されているピクセルを含む情報ディスプレイと、
前記情報ディスプレイの前記ピクセルを照明するためのバックライトアセンブリと、
前記情報ディスプレイからの前記画像の光をユーザの目に向けて方向づけるための光学サブシステムと、を備え、前記光学サブシステムが、
成形レンズと、
前記成形レンズと前記光学サブシステムの出射面との間に位置する偏光ビームスプリッタと、
前記成形レンズと前記偏光ビームスプリッタとの間に介在する空間的に変化するリターダ(SVR)であって、前記SVRが、前記成形レンズまたは前記偏光ビームスプリッタのうちの少なくとも1つにおける製造誤差を補償するように構成されている、空間的に変化するリターダ(SVR)と、を含む、システム。 - 前記SVRが、前記成形レンズ内の応力複屈折の量を補償するように構成されている、請求項11に記載のシステム。
- 前記SVRが、前記偏光ビームスプリッタ内の偏光変動を補償するように構成されている、請求項11に記載のシステム。
- 前記SVRが、前記成形レンズ内の応力複屈折および前記偏光ビームスプリッタ内の偏光変動の量を補償するように構成されている、請求項11に記載のシステム。
- 前記SVRが、前記成形レンズまたは前記偏光ビームスプリッタのうちの少なくとも1つにおける前記製造誤差を補償する特性を含み、前記特性が、
前記SVRを製作するために使用される複屈折材料の特定のタイプ、
前記SVRに含まれる複屈折層の特定の数、または
前記SVRに含まれるナノ特徴の特定のタイプ、特定の数、もしくは特定の密度のうちの少なくとも1つ、のうちの少なくとも1つを含む、請求項11に記載のシステム。 - 前記SVRが、四分の一波長板の一部である、請求項11に記載のシステム。
- 前記光学サブシステムは、ヘッドマウントディスプレイ(HMD)の一部である、請求項11に記載のシステム。
- 前記SVRが、四分の一波長板の一部として製造される、請求項1に記載の方法。
- 前記複屈折層は、重合性液晶の層を具備する、請求項4に記載の方法。
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