JP7531526B2 - セキュリティ文書及びセキュリティ文書の製造方法 - Google Patents
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Description
基材と、
基材の一部分に付与されるか又は挿入されるセキュリティ特徴であり、セキュリティ特徴は、ウィンドウ付きセキュリティスレッド、セキュリティホイル、セキュリティパッチ、ホログラム及びインク印刷セキュリティ特徴から選択され、少なくとも約5μm(マイクロメートル)のセキュリティ特徴厚さtfを有し、セキュリティ特徴の縁に隣接する第1の領域と、セキュリティ特徴の縁に隣接しない第2の領域とからなる基材から離れる方を向いたセキュリティ特徴表面を有する、セキュリティ特徴と、
保護コーティングであり、
基材から離れる方を向いたセキュリティ特徴表面と、
セキュリティ特徴の縁に隣接する第1の基材表面と、
セキュリティ特徴によって覆われる基材表面及び第1の基材表面と異なる第2の基材表面と、
を覆う、保護コーティングと、
を備え、
基材から離れる方を向いたセキュリティ特徴表面及び第1の基材表面を覆う保護コーティングは透明であり、
第1の領域を覆う保護コーティングは厚さtb1を有し、
第2の領域を覆う保護コーティングは厚さtb2を有し、
第1の基材表面を覆う保護コーティングは厚さtcを有し、
第2の基材表面を覆う保護コーティングは厚さtaを有する、セキュリティ文書において、
厚さtcは厚さtfよりも大きく、厚さtfは厚さtaよりも大きく、
厚さtb2は厚さtaよりも大きく、
厚さtcが厚さtb1よりも大きく、厚さtb1が厚さtb2以上であるか、又は、
厚さtcが厚さtb1に等しく、厚さtb1が厚さtb2よりも大きいかのいずれかであることを特徴とする、セキュリティ文書によって達成される。
a)セキュリティ文書を用意するステップであって、セキュリティ文書は、
基材と、
基材の一部分に付与されるか又は挿入されるセキュリティ特徴であり、セキュリティ特徴は、ウィンドウ付きセキュリティスレッド、セキュリティホイル、セキュリティパッチ、ホログラム及びインク印刷セキュリティ特徴から選択され、少なくとも約5μm(マイクロメートル)のセキュリティ特徴厚さtfを有し、セキュリティ特徴の縁に隣接する第1の領域と、セキュリティ特徴の縁に隣接しない第2の領域とからなる基材から離れる方を向いたセキュリティ特徴表面を有する、セキュリティ特徴と、
を備える、ステップと、
b)基材から離れる方を向いたセキュリティ特徴表面、及びセキュリティ特徴の縁に隣接する第1の基材表面に、放射線硬化性ワニスをインクジェット印刷するステップであって、第1の基材表面上のワニス堆積物は、セキュリティ特徴の縁に隣接する第1の領域におけるワニス堆積物以上の高さであり、第1の領域におけるワニス堆積物は、第2の領域におけるワニス堆積物以上の高さであり、好ましくはより高い、ステップと、
c1)セキュリティ特徴によって覆われる基材表面及び第1の基材表面と異なる第2の基材表面に、及び任意選択的に、基材から離れる方を向いたセキュリティ特徴表面、及び第1の基材表面に、オフセット若しくはフレキソ印刷によって、硬化性ワニスを印刷するステップ、
又は、
c2)セキュリティ特徴によって覆われる基材表面及び第1の基材表面と異なる第2の基材表面に放射線硬化性ワニスをインクジェット印刷するステップと、
d)硬化性ワニスを硬化させて、基材から離れる方を向いたセキュリティ特徴表面、第1の基材表面、及び第2の基材表面を覆う保護コーティングを設けるステップと、
を含み、
第2の領域におけるワニス堆積物は、第2の基材表面におけるワニス堆積物よりも高い。
以下の定義は、本明細書において考察され、特許請求の範囲において記載される用語の意味を解釈するために使用される。
基材と、
基材の一部分に付与されるか又は挿入されるセキュリティ特徴であって、セキュリティ特徴は、ウィンドウ付きセキュリティスレッド、セキュリティホイル、セキュリティパッチ、ホログラム及びインク印刷セキュリティ特徴から選択され、少なくとも約5μm(マイクロメートル)のセキュリティ特徴厚さtfを有し、セキュリティ特徴の縁に隣接する第1の領域と、セキュリティ特徴の縁に隣接しない第2の領域とからなる基材から離れる方を向いたセキュリティ特徴表面を有する、セキュリティ特徴と、
保護コーティングであって、
基材から離れる方を向いたセキュリティ特徴表面と、
セキュリティ特徴の縁に隣接する第1の基材表面と、
セキュリティ特徴によって覆われる基材表面及び第1の基材表面と異なる第2の基材表面と、
を覆う、保護コーティングと、
を備え、
基材から離れる方を向いたセキュリティ特徴表面及び第1の基材表面を覆う保護コーティングは透明であり、
第1の領域を覆う保護コーティングは厚さtb1を有し、
第2の領域を覆う保護コーティングは厚さtb2を有し、
第1の基材表面を覆う保護コーティングは厚さtcを有し、
第2の基材表面を覆う保護コーティングは厚さtaを有する、セキュリティ文書において、
厚さtcは厚さtfよりも大きく、厚さtfは厚さtaよりも大きく、
厚さtb2は厚さtaよりも大きく、
厚さtcが厚さtb1よりも大きく、厚さtb1が厚さtb2以上であるか、又は、
厚さtcが厚さtb1に等しく、厚さtb1が厚さtb2よりも大きいかのいずれかであることを特徴とする、セキュリティ文書が、そのようなセキュリティ文書に必要とされる機械的耐性特性を維持しながら、従来技術のセキュリティ文書と比較して、環境からの物理的及び化学的侵食に対する耐性の増大を呈することがわかった。
基材と、
基材の一部分に付与されるか又は挿入されるセキュリティ特徴であって、セキュリティ特徴は、ウィンドウ付きセキュリティスレッド、セキュリティホイル、セキュリティパッチ、ホログラム及びインク印刷セキュリティ特徴から選択され、少なくとも約5μm(マイクロメートル)のセキュリティ特徴厚さtfを有し、セキュリティ特徴の縁に隣接する第1の領域と、セキュリティ特徴の縁に隣接しない第2の領域とからなる基材から離れる方を向いたセキュリティ特徴表面を有する、セキュリティ特徴と、
保護コーティングであって、
基材から離れる方を向いたセキュリティ特徴表面と、
セキュリティ特徴の縁に隣接する第1の基材表面と、
セキュリティ特徴によって覆われる基材表面及び第1の基材表面と異なる第2の基材表面と、
を覆う、保護コーティングと、
を備え、
基材から離れる方を向いたセキュリティ特徴表面及び第1の基材表面を覆う保護コーティングは透明であり、
第1の領域を覆う保護コーティングは厚さtb1を有し、
第2の領域を覆う保護コーティングは厚さtb2を有し、
第1の基材表面を覆う保護コーティングは厚さtcを有し、
第2の基材表面を覆う保護コーティングは厚さtaを有する、セキュリティ文書において、
厚さtcは厚さtfよりも大きく、厚さtfは厚さtaよりも大きく、厚さtb2は厚さtaよりも大きく、厚さtcは厚さtb1よりも大きく、厚さtb1は厚さtb2以上であるか、又は、
厚さtcは厚さtfよりも大きく、厚さtfは厚さtaよりも大きく、厚さtb2は厚さtaよりも大きく、厚さtcは厚さtb1に等しく、厚さtb1は厚さtb2よりも大きいかであることを特徴とする、セキュリティ文書を対象とする。
a)セキュリティ文書を用意するステップであって、セキュリティ文書は、
基材と、
基材の一部分に付与されるか又は挿入されるセキュリティ特徴であり、セキュリティ特徴は、ウィンドウ付きセキュリティスレッド、セキュリティホイル、セキュリティパッチ、ホログラム及びインク印刷セキュリティ特徴から選択され、少なくとも約5μm(マイクロメートル)のセキュリティ特徴厚さtfを有し、セキュリティ特徴の縁に隣接する第1の領域と、セキュリティ特徴の縁に隣接しない第2の領域とからなる基材から離れる方を向いたセキュリティ特徴表面を有する、セキュリティ特徴と、
を備える、ステップと、
b)基材から離れる方を向いたセキュリティ特徴表面、及びセキュリティ特徴の縁に隣接する第1の基材表面に、放射線硬化性ワニスをインクジェット印刷するステップであって、第1の基材表面上のワニス堆積物は、セキュリティ特徴の縁に隣接する第1の領域におけるワニス堆積物以上の高さであり、第1の領域におけるワニス堆積物は、第2の領域におけるワニス堆積物以上の高さであり、好ましくはより高い、ステップと、
c1)セキュリティ特徴によって覆われる基材表面及び第1の基材表面と異なる第2の基材表面に、及び任意選択的に、基材から離れる方を向いたセキュリティ特徴表面、及び第1の基材表面に、オフセット若しくはフレキソ印刷によって、硬化性ワニスを印刷するステップ、
又は、
c2)セキュリティ特徴によって覆われる基材表面及び第1の基材表面と異なる第2の基材表面に放射線硬化性ワニスをインクジェット印刷するステップと、
d)硬化性ワニスを硬化させて、基材から離れる方を向いたセキュリティ特徴表面、第1の基材表面、及び第2の基材表面を覆う保護コーティングを設けるステップと、
を含み、
第2の領域におけるワニス堆積物は、第2の基材表面におけるワニス堆積物よりも高い、製造方法によって得られることが好ましい。
a)セキュリティ文書を用意するステップであって、セキュリティ文書は、
基材と、
基材の一部分に付与されるか又は挿入されるセキュリティ特徴であり、セキュリティ特徴は、ウィンドウ付きセキュリティスレッド、セキュリティホイル、セキュリティパッチ、ホログラム及びインク印刷セキュリティ特徴から選択され、少なくとも約5μm(マイクロメートル)のセキュリティ特徴厚さtfを有し、セキュリティ特徴の縁に隣接する第1の領域と、セキュリティ特徴の縁に隣接しない第2の領域とからなる基材から離れる方を向いたセキュリティ特徴表面を有する、セキュリティ特徴と、
を備える、ステップと、
b)基材から離れる方を向いたセキュリティ特徴表面、及びセキュリティ特徴の縁に隣接する第1の基材表面に、放射線硬化性ワニスをインクジェット印刷するステップであって、第1の基材表面上のワニス堆積物は、セキュリティ特徴の縁に隣接する第1の領域におけるワニス堆積物以上の高さであり、第1の領域におけるワニス堆積物は、第2の領域におけるワニス堆積物以上の高さであり、好ましくはより高い、ステップと、
c1)セキュリティ特徴によって覆われる基材表面及び第1の基材表面と異なる第2の基材表面に、及び任意選択的に、基材から離れる方を向いたセキュリティ特徴表面、及び第1の基材表面に、オフセット若しくはフレキソ印刷によって、硬化性ワニスを印刷するステップ、
又は、
c2)セキュリティ特徴によって覆われる基材表面及び第1の基材表面と異なる第2の基材表面に放射線硬化性ワニスをインクジェット印刷するステップと、
d)硬化性ワニスを硬化させて、基材から離れる方を向いたセキュリティ特徴表面、第1の基材表面、及び第2の基材表面を覆う保護コーティングを設けるステップと、
を含み、
第2の領域におけるワニス堆積物は、第2の基材表面におけるワニス堆積物よりも高い、本明細書において特許請求されるセキュリティ文書を製造する方法を対象とする。
a)セキュリティ文書を用意するステップであって、セキュリティ文書は、
基材と、
基材の一部分に付与されるか又は挿入されるセキュリティ特徴であり、セキュリティ特徴は、ウィンドウ付きセキュリティスレッド、セキュリティホイル、セキュリティパッチ、ホログラム及びインク印刷セキュリティ特徴から選択され、少なくとも約5μm(マイクロメートル)のセキュリティ特徴厚さtfを有し、セキュリティ特徴の縁に隣接する第1の領域と、セキュリティ特徴の縁に隣接しない第2の領域とからなる基材から離れる方を向いたセキュリティ特徴表面を有する、セキュリティ特徴と、
を備える、ステップと、
c1)ステップa)の後に、セキュリティ特徴によって覆われる基材表面及び第1の基材表面と異なる第2の基材表面に、及び任意選択的に、基材から離れる方を向いたセキュリティ特徴表面、及び第1の基材表面に、オフセット若しくはフレキソ印刷によって、硬化性ワニスを印刷するステップと、
b)ステップc1)の後に、基材から離れる方を向いたセキュリティ特徴表面、及びセキュリティ特徴の縁に隣接する第1の基材表面に、放射線硬化性ワニスをインクジェット印刷するステップであって、第1の基材表面上のワニス堆積物は、セキュリティ特徴の縁に隣接する第1の領域におけるワニス堆積物以上の高さであり、第1の領域におけるワニス堆積物は、第2の領域におけるワニス堆積物以上の高さであり、好ましくはより高い、ステップと、
d)ステップb)の後に、硬化性ワニスを硬化させて、基材から離れる方を向いたセキュリティ特徴表面、第1の基材表面、及び第2の基材表面を覆う保護コーティングを設けるステップと、
を含み、
第2の領域におけるワニス堆積物は、第2の基材表面におけるワニス堆積物よりも高い、製造方法を対象とする。
e)ステップb)において印刷された放射線硬化性ワニスを少なくとも部分的に硬化させるステップ、
を更に含む。
a)セキュリティ文書を用意するステップであって、セキュリティ文書は、
基材と、
基材の一部分に付与されるか又は挿入されるセキュリティ特徴であり、セキュリティ特徴は、ウィンドウ付きセキュリティスレッド、セキュリティホイル、セキュリティパッチ、ホログラム及びインク印刷セキュリティ特徴から選択され、少なくとも約5μm(マイクロメートル)のセキュリティ特徴厚さtfを有し、セキュリティ特徴の縁に隣接する第1の領域と、セキュリティ特徴の縁に隣接しない第2の領域とからなる基材から離れる方を向いたセキュリティ特徴表面を有する、セキュリティ特徴と、
を備える、ステップと、
b)ステップa)の後に、基材から離れる方を向いたセキュリティ特徴表面、及びセキュリティ特徴の縁に隣接する第1の基材表面に、放射線硬化性ワニスをインクジェット印刷するステップであって、第1の基材表面上のワニス堆積物は、セキュリティ特徴の縁に隣接する第1の領域におけるワニス堆積物以上の高さであり、第1の領域におけるワニス堆積物は、第2の領域におけるワニス堆積物以上の高さであり、好ましくはより高い、ステップと、
e)ステップb)の後に、ステップb)において印刷された放射線硬化性ワニスを少なくとも部分的に硬化させるステップと、
c1)ステップe)の後に、セキュリティ特徴によって覆われる基材表面及び第1の基材表面と異なる第2の基材表面に、及び任意選択的に、基材から離れる方を向いたセキュリティ特徴表面、及び第1の基材表面に、オフセット若しくはフレキソ印刷によって、硬化性ワニスを印刷するステップと、
d)ステップc1)の後に、硬化性ワニスを硬化させて、基材から離れる方を向いたセキュリティ特徴表面、第1の基材表面、及び第2の基材表面を覆う保護コーティングを設けるステップと、
を含み、
第2の領域におけるワニス堆積物は、第2の基材表面におけるワニス堆積物よりも高い、製造方法を対象とする。
a)セキュリティ文書を用意するステップであって、セキュリティ文書は、
基材と、
基材の一部分に付与されるか又は挿入されるセキュリティ特徴であり、セキュリティ特徴は、ウィンドウ付きセキュリティスレッド、セキュリティホイル、セキュリティパッチ、ホログラム及びインク印刷セキュリティ特徴から選択され、少なくとも約5μm(マイクロメートル)のセキュリティ特徴厚さtfを有し、セキュリティ特徴の縁に隣接する第1の領域と、セキュリティ特徴の縁に隣接しない第2の領域とからなる基材から離れる方を向いた表面を有する、セキュリティ特徴と、
を備える、ステップと、
b)基材から離れる方を向いたセキュリティ特徴表面、及びセキュリティ特徴の縁に隣接する第1の基材表面に、放射線硬化性ワニスをインクジェット印刷するステップであって、第1の基材表面上のワニス堆積物は、セキュリティ特徴の縁に隣接する第1の領域におけるワニス堆積物以上の高さであり、第1の領域におけるワニス堆積物は、第2の領域におけるワニス堆積物以上の高さであり、好ましくはより高い、ステップと、
c2)セキュリティ特徴によって覆われる基材表面及び第1の基材表面と異なる第2の基材表面に放射線硬化性ワニスをインクジェット印刷するステップと、
d)硬化性ワニスを硬化させて、基材から離れる方を向いたセキュリティ特徴表面、第1の基材表面、及び第2の基材表面を覆う保護コーティングを設けるステップと、
からなり、
第2の領域におけるワニス堆積物は、第2の基材表面におけるワニス堆積物よりも高い、製造方法を対象とする。
a)セキュリティ文書を用意するステップであって、セキュリティ文書は、
基材と、
基材の一部分に付与されるか又は挿入されるセキュリティ特徴であり、セキュリティ特徴は、ウィンドウ付きセキュリティスレッド、セキュリティホイル、セキュリティパッチ、ホログラム及びインク印刷セキュリティ特徴から選択され、少なくとも約5μm(マイクロメートル)のセキュリティ特徴厚さtfを有し、セキュリティ特徴の縁に隣接する第1の領域と、セキュリティ特徴の縁に隣接しない第2の領域とからなる基材から離れる方を向いたセキュリティ特徴表面を有する、セキュリティ特徴と、
を備える、ステップと、
f)基材から離れる方を向いたセキュリティ特徴表面、セキュリティ特徴の縁に隣接する第1の基材表面、並びにセキュリティ特徴によって覆われた基材表面及び第1の基材表面と異なる第2の基材表面に、放射線硬化性ワニスをインクジェット印刷するステップと、
d)硬化性ワニスを硬化させて、基材から離れる方を向いたセキュリティ特徴表面、第1の基材表面、及び第2の基材表面を覆う保護コーティングを設けるステップと、
を含み、
第1の基材表面におけるワニス堆積物は、セキュリティ特徴の縁に隣接する第1の領域におけるワニス堆積物以上の高さであり、
第1の領域におけるワニス堆積物は、第2の領域におけるワニス堆積物以上の高さであり、好ましくはより高く、
第2の領域におけるワニス堆積物は、第2の基材表面におけるワニス堆積物よりも高い、本明細書に記載のセキュリティ文書の製造方法を対象とする。
d)放射線硬化性ワニスをUV硬化させて、基材から離れる方を向いたセキュリティ特徴表面、第1の基材表面、及び第2の基材表面を覆う保護コーティング、好ましくは透明保護コーティングを設けるステップ、
からなり、一方、本明細書に記載の製造方法におけるステップe)は、
e)ステップb)において印刷された放射線硬化性ワニスを少なくとも部分的にUV硬化させるステップ、
にある。
b)基材から離れる方を向いたセキュリティ特徴表面、及びセキュリティ特徴の縁に隣接する第1の基材表面に、放射線硬化性ワニスをインクジェット印刷するステップであって、第1の基材表面上のワニス堆積物は、セキュリティ特徴の縁に隣接する第1の領域におけるワニス堆積物以上の高さであり、第1の領域におけるワニス堆積物は、第2の領域におけるワニス堆積物以上の高さであり、好ましくはより高い、ステップと、
c1)セキュリティ特徴によって覆われる基材表面及び第1の基材表面と異なる第2の基材表面に、及び任意選択的に、基材から離れる方を向いたセキュリティ特徴表面、及び第1の基材表面に、オフセット若しくはフレキソ印刷によって、硬化性ワニスを印刷するステップ、
又は、
c2)セキュリティ特徴によって覆われる基材表面及び第1の基材表面と異なる第2の基材表面に放射線硬化性ワニスをインクジェット印刷するステップと、
d)硬化性ワニスを硬化させて、基材から離れる方を向いたセキュリティ特徴表面、第1の基材表面、及び第2の基材表面を覆う保護コーティングを設けるステップと、
を含み、
第2の領域におけるワニス堆積物は、第2の基材表面におけるワニス堆積物よりも高く、
基材から離れる方を向いたセキュリティ特徴表面及び第1の基材表面を覆う保護コーティングは透明である、方法を対象とする。
e)ステップb)において印刷された放射線硬化性ワニスを少なくとも部分的に硬化させるステップ、
を更に含む。
第1の金属化ホイル(F1)(顕微鏡での断面観察により求められた約10μmの厚さの、PROFOIL、www.profoil.comからのH1010 Sequins Foil)が、実施例E1~E3及び比較例C1~C6のためのセキュリティ特徴として用いられた。金属層の反対のホイル表面に、ハンドコーティング(kコーターバー0)によって接着剤層(BASFからのJoncryl(登録商標)HSL9032)を施した後、第1の金属化ホイルF1(120)(20mm×20mm)を、実験室での150℃のホットスタンピング(Brugger Feinmechanik MuenchenからのHSG-CC-Heat Sealing)によってポリマー基材(45mm×45mm)(CCL SecureからのGuardian(商標))に施し、一部に金属化ホイルF1がセキュリティ特徴として付与された第1の基材を用意した。
II.a アセトンに対する化学的耐性を評価するための一般的手順
上記の項目Iにおいて説明されたように調製された試料E1~E5及びC1~C13を、室温で5分間、アセトンに浸漬した。試料を溶媒から除去し、室温で数秒間乾燥させた。以下の表2に記載の格付けに従ってホイルの外観を評価した。
試料E1~E5及びC1~C13を、室温で30分間、水性硫化ナトリウム溶液(124g/l)に浸漬した。試料を溶液から除去し、脱イオン水で濯ぎ、綿織物で軽くたたいて乾燥させた。以下の表2に記載の格付けに従ってホイルの外観を評価した。
表1のUV硬化性インクジェットワニス、及び標準的なUV硬化性フレキソ印刷ワニス(国際公開第2014/067715号に記載の実施例C4)のヘイズを、(DATACOLORからの)DC 650 Spectrophotometerを用いてASTM D1003(透明なプラスチックのヘイズ及び光透過率に対する標準試験方法)に従って測定した。
Claims (15)
- セキュリティ文書(100)であって、
基材(110)と、
前記基材(110)の一部分に付与されるか又は挿入されるセキュリティ特徴(120)であり、前記セキュリティ特徴(120)が、ウィンドウ付きセキュリティスレッド、セキュリティホイル、セキュリティパッチ、ホログラム及びインク印刷セキュリティ特徴から選択され、少なくとも約5μm(マイクロメートル)のセキュリティ特徴厚さtfを有し、前記セキュリティ特徴(120)の縁に隣接する第1の領域(120b1)と、前記セキュリティ特徴(120)の縁に隣接しない第2の領域(120b2)とからなる前記基材(110)から離れる方を向いたセキュリティ特徴表面(120b)を有する、セキュリティ特徴(120)と、
保護コーティング(130A、130B、130C)であり、
前記基材(110)から離れる方を向いた前記セキュリティ特徴表面(120b)と、
前記セキュリティ特徴(120)の前記縁に隣接する第1の基材表面(110c)と、
前記セキュリティ特徴(120)によって覆われる基材表面及び前記第1の基材表面(110c)と異なる第2の基材表面(110a)と、
を覆う、保護コーティング(130A、130B、130C)と、
を備え、
前記基材(110)から離れる方を向いた前記セキュリティ特徴表面(120b)及び前記第1の基材表面(110c)を覆う前記保護コーティング(130B、130C)が透明であり、
前記第1の領域(120b1)を覆う前記保護コーティング(130B)が厚さtb1を有し、
前記第2の領域(120b2)を覆う前記保護コーティング(130B)が厚さtb2を有し、
前記第1の基材表面(110c)を覆う前記保護コーティング(130C)が厚さtcを有し、
前記第2の基材表面(110a)を覆う前記保護コーティング(130A)が厚さtaを有し、
前記厚さtcが前記厚さtfよりも大きく、前記厚さtfが前記厚さtaよりも大きく、
前記厚さtb2が前記厚さtaよりも大きく、
1)前記厚さtcが前記厚さtb1よりも大きく、前記厚さtb1が前記厚さtb2以上であるか、又は、
2)前記厚さtcが前記厚さtb1に等しく、前記厚さtb1が前記厚さtb2よりも大きいかの1)又は2)のいずれか一方であることを特徴とする、セキュリティ文書(100)。 - 前記厚さtaが、約5μm未満であり、好ましくは約1μm~3μmである、請求項1に記載のセキュリティ文書(100)。
- 前記厚さtcが、前記厚さtf及び前記厚さtb2の和以上である、請求項1又は2に記載のセキュリティ文書(100)。
- 前記基材(110)から離れる方を向いた前記セキュリティ特徴表面(120b)及び前記第1の基材表面(110c)を覆う前記透明な保護コーティング(130B、130C)と、前記第2の基材表面(110a)を覆う前記保護コーティング(130A)とが各々、異なる放射線硬化性ワニスから得られる、請求項1~3のいずれか一項に記載のセキュリティ文書(100)。
- 前記基材(110)から離れる方を向いた前記セキュリティ特徴表面(120b)及び前記第1の基材表面(110c)を覆う前記透明な保護コーティング(130B、130C)が、単一の層からなる、請求項1~4のいずれか一項に記載のセキュリティ文書(100)。
- 前記第2の基材表面(110a)を覆う前記保護コーティング(130A)が、艶消しラッカーであり、及び/又は、前記基材(110)から離れる方を向いた前記セキュリティ特徴表面(120b)及び前記第1の基材表面(110c)を覆う前記透明な保護コーティング(130B、130C)が、光沢ラッカーである、請求項1~5のいずれか一項に記載のセキュリティ文書(100)。
- 前記保護コーティング(130A、130B、130C)が単一の透明層からなる、請求項1~3のいずれか一項に記載のセキュリティ文書(100)。
- 前記セキュリティ特徴(120)が付与される前記基材(110)の前記一部分が透明ポリマーである、請求項1~7のいずれか一項に記載のセキュリティ文書(100)。
- 前記第2の基材表面(110a)が、前記セキュリティ文書(100)の両側に、前記セキュリティ特徴(120)及び前記第1の基材表面(110c)によって覆われる前記基材表面以外の前記基材表面を含む、請求項1~7のいずれか一項に記載のセキュリティ文書(100)。
- 請求項1~9のいずれか一項に記載のセキュリティ文書(100)の製造方法であって、
a)セキュリティ文書(100’)を用意するステップであり、前記セキュリティ文書(100’)が、
基材(110)と、
前記基材(110)の一部分に付与されるか又は挿入されるセキュリティ特徴(120)であり、前記セキュリティ特徴(120)が、ウィンドウ付きセキュリティスレッド、セキュリティホイル、セキュリティパッチ、ホログラム及びインク印刷セキュリティ特徴から選択され、少なくとも約5μm(マイクロメートル)のセキュリティ特徴厚さtfを有し、前記セキュリティ特徴(120)の縁に隣接する第1の領域(120b1)と、前記セキュリティ特徴(120)の縁に隣接しない第2の領域(120b2)とからなる前記基材(110)から離れる方を向いたセキュリティ特徴表面(120b)を有する、セキュリティ特徴(120)と、
を備える、ステップと、
b)前記基材(110)から離れる方を向いた前記セキュリティ特徴表面(120b)、及び前記セキュリティ特徴(120)の前記縁に隣接する第1の基材表面(110c)に、放射線硬化性ワニスをインクジェット印刷するステップであり、前記第1の基材表面(110c)上のワニス堆積物が、前記セキュリティ特徴(120)の前記縁に隣接する前記第1の領域(120b1)におけるワニス堆積物以上の高さであり、前記第1の領域(120b1)における前記ワニス堆積物が、前記第2の領域(120b2)におけるワニス堆積物以上の高さである、ステップと、
c1)前記セキュリティ特徴(120)によって覆われる基材表面及び前記第1の基材表面(110c)と異なる第2の基材表面(110a)に、かつ、任意選択的に、前記基材(110)から離れる方を向いた前記セキュリティ特徴表面(120b)及び前記第1の基材表面(110c)に、オフセット若しくはフレキソ印刷によって、放射線硬化性ワニスを印刷するステップ、
又は、
c2)前記セキュリティ特徴(120)によって覆われる基材表面及び前記第1の基材表面(110c)と異なる第2の基材表面(110a)に放射線硬化性ワニスをインクジェット印刷するステップと、
d)前記放射線硬化性ワニスを硬化させて、前記基材(110)から離れる方を向いた前記セキュリティ特徴表面(120 b )、前記第1の基材表面(110c)、及び前記第2の基材表面(110a)を覆う保護コーティング(130A、130B、130C)を設けるステップと、
を含み、
前記第2の領域(120b2)における前記ワニス堆積物が、前記第2の基材表面(110a)におけるワニス堆積物よりも高い、製造方法。 - ステップc1)がステップb)の前に行われる、請求項10に記載の製造方法。
- ステップb)がステップc1)の前に行われ、前記製造方法が、ステップb)とステップc1)との間に行われるステップe)、すなわち、
e)ステップb)において印刷された前記放射線硬化性ワニスを少なくとも部分的に硬化させるステップ、
を更に含む、請求項10に記載の製造方法。 - ステップc1)において、前記放射線硬化性ワニスが、前記第2の基材表面(110a)のみに印刷される、請求項10~12のいずれか一項に記載の製造方法。
- 前記製造方法が、前記ステップa)、b)、c2)及びd)を含む、請求項10に記載の製造方法。
- 前記第2の基材表面における前記ワニス堆積物が、5g/m2未満、好ましくは約1g/m2~約3g/m2である、請求項10~14のいずれか一項に記載の製造方法。
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