JP7508183B2 - 制振装置 - Google Patents
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Description
fs=(1/2π)sqrt(K/m)
=(1/2π)sqrt(39478/(20.5×4+24×7))
=(1/2π)sqrt(39478/250)
=約2.0Hzに設定される。
fs=(1/2π)sqrt(39478/(20.5×4+24×2))
=(1/2π)sqrt(39478/130)
=約2.75Hzに設定される。
fs=(1/2π)sqrt(39478/(20.5×4+0))
=(1/2π)sqrt(39478/82)
=約3.5Hzに設定される。
fn1=(1/2π)sqrt(K/(M+m))
=(1/2π)sqrt(39478/(1000+130))
=0.94Hzと算出される。
また、1次固有周期Tn1は、Tn1=1/fn1=1.06sになる。
A2 第2実施形態の制振装置
2 支持ばね
3 第1回転慣性質量ダンパ(回転慣性質量ダンパ)
4 第2回転慣性質量ダンパ(回転慣性質量ダンパ)
5 同調質量ダンパ
12 シリンダ
12a 第1流体室
12b 第2流体室
13 ピストン
14a 第1連通路
14b 第2連通路
15 歯車モータ
16 フライホイール(回転マス)
21 電磁弁(切替弁)
31 制御装置(加振振動数取得手段、制御手段)
35 第2同調質量ダンパ
41 第2電磁弁
B 基礎(構造体)
F 浮き床
fa 加振振動数
fs 遮断振動数
fn1 浮き床全体の1次固有振動数(浮き床全体の固有振動数)
md1 第1等価質量(回転慣性質量)
m 第1及び第2回転慣性質量ダンパ全体の等価質量(回転慣性質量ダンパの回 転慣性質量)
K 支持ばね全体のばね力(支持ばねのばね力)
HF 作動流体
Claims (3)
- 加振力が作用する構造体から周辺に伝達される振動を抑制するための制振装置であって、
前記構造体の上側に配置され、前記加振力が作用する浮き床と、
前記構造体と前記浮き床の間に設けられ、当該浮き床を支持する支持ばねと、
回転マスを有し、前記構造体と前記浮き床の間に前記支持ばねと並列に設けられ、前記加振力が作用したときの前記構造体に対する前記浮き床の相対変位を前記回転マスの回転運動に変換することによって、回転慣性質量を発生させるとともに、当該回転慣性質量が変更可能に構成された回転慣性質量ダンパと、
前記加振力の振動数を加振振動数として取得する加振振動数取得手段と、
前記回転慣性質量ダンパの前記回転慣性質量と前記支持ばねのばね定数とによって定まる、前記浮き床から前記構造体への振動の伝達を遮断するための遮断振動数が、前記取得された加振振動数に一致するように、前記回転慣性質量ダンパによる前記回転慣性質量を変更する制御手段と、
前記構造体と前記浮き床の間に設けられ、前記回転慣性質量ダンパの前記回転慣性質量、前記支持ばねの前記ばね定数、及び前記浮き床の質量によって定まる前記浮き床全体の固有振動数に同調する同調質量ダンパと、
を備えることを特徴とする制振装置。 - 前記同調質量ダンパは、固有振動数が変更可能に構成されており、
前記制御手段は、前記変更された前記回転慣性質量ダンパによる回転慣性質量に応じて、前記同調質量ダンパの固有振動数を前記浮き床全体の固有振動数に同調するように変更することを特徴とする、請求項1に記載の制振装置。 - 前記回転慣性質量ダンパは、
作動流体が充填されるとともに、前記構造体及び前記浮き床の一方に連結されたシリンダと、
当該シリンダ内に軸線方向に摺動自在に設けられ、当該シリンダ内を第1流体室と第2流体室に区画するとともに、前記構造体及び前記浮き床の他方に連結されたピストンと、
当該ピストンをバイパスし、前記第1及び第2流体室に連通するとともに、接続部を介して互いに並列に接続された第1連通路及び第2連通路と、
前記第1連通路に設けられ、当該第1連通路内の作動流体の流動を回転マスの回転運動に変換することによって、回転慣性質量を発生させる歯車モータと、
前記接続部に設けられ、前記第1及び第2流体室の間の連通路を、前記第1連通路及び前記第2連通路の一方に切り替えるための切替弁と、を有することを特徴とする、請求項1又は2に記載の制振装置。
Priority Applications (1)
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JP2020211769A JP7508183B2 (ja) | 2020-12-21 | 2020-12-21 | 制振装置 |
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JP2022098305A JP2022098305A (ja) | 2022-07-01 |
JP7508183B2 true JP7508183B2 (ja) | 2024-07-01 |
Family
ID=82165861
Family Applications (1)
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JP2020211769A Active JP7508183B2 (ja) | 2020-12-21 | 2020-12-21 | 制振装置 |
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Country | Link |
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JP (1) | JP7508183B2 (ja) |
Citations (3)
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---|---|---|---|---|
JP2008115552A (ja) | 2006-11-01 | 2008-05-22 | Shimizu Corp | 振動低減機構およびその諸元設定方法 |
JP2019124039A (ja) | 2018-01-16 | 2019-07-25 | 株式会社竹中工務店 | 階段 |
JP2019152288A (ja) | 2018-03-05 | 2019-09-12 | 清水建設株式会社 | 浮き基礎 |
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2020
- 2020-12-21 JP JP2020211769A patent/JP7508183B2/ja active Active
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JP2022098305A (ja) | 2022-07-01 |
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