JP7496504B2 - 温度測定システム - Google Patents

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本発明は、温度測定システム、特に、低温での温度および温度変化を測定する測定システムに関する。
従来、温度を測定する方法として、赤外線放射温度計が広く知られている。物質表面からは赤外線が放射されており、赤外線の量は物質表面の温度によって変化する。発せられた赤外線は空間を伝ってエネルギーを運ぶ。放射温度計では、検出器上のレンズで赤外線エネルギーを集め、エネルギーを電気信号に変換することで測定対象物と接触せずに物質表面の温度を測定している。
例えば、特許文献1では、温度測定を実施するために被測定物から発生した放射熱を対向して存在する赤外線吸収材料に吸収させる。吸収された熱は、熱光学効果を持つ膜の屈折率変化として検出することで高感度な温度測定を可能にしている。
特開2004-245674号公報
しかしながら、前記従来の構成では、被測定物から測定部までの周辺環境によって放射熱が減衰および増幅し、温度測定が周辺環境に影響を受ける。特に、周囲の温度が低いと減衰する熱量が大きくなり測定が困難になるという課題がある。
本発明は、前記従来の課題を解決するもので、低温領域での物体の温度変化を測定する温度測定システムを提供することを目的とする。
上記目的を達成するために、本発明に係る温度測定システムは、熱に応答して膨張収縮する基板と、前記基板上に、面に沿って互いに離間して配置され、励起エネルギーにより発光する波長が異なる2種類以上の発光粒子と、を含むセンサ部と、
前記センサ部に含まれる前記2種類以上の発光粒子を発光させる励起エネルギー源と、
前記センサ部からの発光を受光する受光部と、
を備える。
以上のように、本発明に係る温度測定システムによれば、低温でも温度変化を測定することができる。
実施の形態1に係る温度測定システムの構成を示す概略図である。 実施の形態2に係る温度測定システムの構成を示す概略図である。
第1の態様に係る温度測定システムは、熱に応答して膨張収縮する基板と、前記基板上に、面に沿って互いに離間して配置され、励起エネルギーにより発光する波長が異なる2種類以上の発光粒子と、を含むセンサ部と、
前記センサ部に含まれる前記2種類以上の発光粒子を発光させる励起エネルギー源と、
前記センサ部からの発光を受光する受光部と、
を備える。
第2の態様に係る温度測定システムは、上記第1の態様において、前記2種類以上の発光粒子は、一方の種類の発光粒子の発光スペクトルと、他方の種類の発光粒子の励起スペクトルとが重なりを有してもよい。
第3の態様に係る温度測定システムは、上記第1又は第2の態様において、前記2種類以上の発光粒子として、半導体ナノ粒子、有機色素のうち、少なくとも1種以上を用いてもよい。
第4の態様に係る温度測定システムは、上記第1から第3のいずれかの態様において、前記センサ部は、前記2種類以上の発光粒子を前記基板の面に沿って互いに離間して配置するスペーサを含んでもよい。
第5の態様に係る温度測定システムは、上記第1から第4のいずれかの態様において、前記励起エネルギーが、光エネルギーであってもよい。
第6の態様に係る温度測定システムは、上記第1から第5のいずれかの態様において、受光した前記発光の波長分布に基づいて、前記基板の温度を測定する画像解析部を、さらに備えてもよい。
以下、実施の形態に係る温度測定システムについて、図面を参照しながら説明する。なお、図面において、実質的に同一の部材には同一の符号を付している。
(実施の形態1)
図1は、実施の形態1に係る温度測定システム10の構成を示す概略図である。なお、図面において、便宜上、センサ部200の平面内の広がりを示す面内をX-Y平面とし、紙面右をX方向とし、鉛直上方をZ方向として示している。
図1において、実施の形態1に係る温度測定システムは10、励起エネルギー源100と、センサ部200と、発光受光素子300と、画像解析部400と、を備える。センサ部200は、熱に応答して膨張収縮する基板211と、基板211上に、面に沿って互いに離間して配置され、励起エネルギーにより発光する波長が異なる2種類以上の発光粒子213、214と、を含む。励起エネルギー源100によってセンサ部200に含まれる2種類の発光粒子213、214を発光させる。発光受光素子300によって、センサ部200からの発光を受光する。また、画像解析部400によって、受光した発光の波長分布に基づいて、基板211の温度変化を測定できる。
この温度測定システム10によれば、基板211上に配置された2種類以上の発光粒子213,214からの発光スペクトルの波長分布を検出することで、2種類以上の発光粒子213、214の粒子間距離の変化を検出でき、それによって基板211の温度変化を測定できる。
以下にこの温度測定システム10を構成する部材について説明する。
なお、本実施の形態では、励起エネルギー源100、発光受光素子300、画像解析部400は、特に限定されるものではないが、例えば以下に記載のものを用いることができる。
<励起エネルギー源>
励起エネルギー源100は、センサ部200の発光粒子213、214を励起できる励起エネルギー源であれば、特に制限はされない。例えば、光エネルギー源を用いることができる。観察範囲内を一括で評価するためには、均一に励起エネルギーを供給する必要がある。
<発光受光素子>
発光受光素子300は、発光粒子213、214の発光挙動変化を受光できる受光素子であれば、特に制限はされない。特に、観察範囲内を一括で評価できる、例えば、CCD、CMOS、イメージセンサなどを用いることができる。これらを用いることにより、観察範囲内の発光挙動を瞬時に分析することが可能である。
なお、励起エネルギー源として光エネルギー源を用いる場合は、発光受光素子300において検出感度を上げるため、波長カットフィルターを用い、励起エネルギー源100の波長の影響を抑制することが好ましい。
なお、この温度測定システム10において、センサ部200の平面に対して、斜め方向に励起エネルギー源100と発光受光素子300とを配置しているが、上記配置は一例であり、これらの配置を特に制限するものではない。
<画像解析部>
画像解析部400は、得られたイメージを色度、輝度により解析し、周囲との色度差、輝度差が得られる座標を算出できることが好ましい。画像解析部400では、受光した発光の波長分布に基づいて、センサ部200が設けられている基板の温度変化を測定する。具体的には、得られた発光の波長分布によって、2種類の発光粒子211、213の距離の変化が検出でき、微小領域での温度変化を測定することができる。温度変化測定の原理の詳細については、後述する。
<センサ部>
センサ部200は、熱に応じて膨張収縮する基板211と、複数の発光粒子213、214と、スペーサ212と、保護層220と、から構成されている。
<基板>
基板211としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリフッ化ビニリデン、ポリアミド、ポリエチレンテレフタレート、ABS樹脂のようなプラスチック材料を用いてもよい。また、基板211は、熱膨張係数が0.00001/K以上0.0001/K以下であることが好ましい。
<発光粒子>
発光粒子213、214は、励起エネルギーにより発光する波長が異なる2種類以上の発光粒子213、214と、を含む。
発光粒子213、214としては、硫化カドミウム、セレン化カドミウム、テルル化カドミウム、硫化亜鉛、セレン化亜鉛、テルル化亜鉛、硫化銅インジウム、硫化銀インジウム、リン化インジウムなどをコアとする半導体ナノ粒子、ハロゲン化セシウム鉛のようなペロブスカイト型半導体ナノ粒子、シリコン、カーボンなどをコアとする半導体ナノ粒子、メロシアニン、ペリレンなどの有機色素などを用いることができる。
2種類以上の発光粒子213、214の粒子サイズは、半導体ナノ粒子は、量子サイズ効果が得られる粒子サイズであればよく、1nm以上100nm以下が好ましい。より好ましくは、1nm以上50nm以下である。有機色素は、原料は粉末状であっても、原料粉の粒子サイズによる影響はない。
2種類以上の発光粒子213、214は、基板211上に、面に沿って互いに離間して配置されている。
<スペーサ>
スペーサ212によって、2種類以上の発光粒子213、214を基板211の面に沿って互いに離間して配置することができる。具体的には、スペーサ212の中で2種類以上の発光粒子213、214を分散して配置してもよい。このスペーサ212の材料は、圧力により圧縮される、かつ、粒子からの発光を阻害しない材料であれば特に制限はされないが、採用する工法により一部制限される。例えば、LBL法ではポリアリルアミン、ポリジアリルジメチルアンモニウムクロライドなどのカチオン性ポリマー、ポリアクリル酸、ポリスチレンスルホン酸、ポリイソプレンスルホン酸、アニオン性のポリマーなどのイオン性のポリマーを使用することができ、スピンコーター法では、溶解する材料であれば特に制限はされないが、上述のイオン性ポリマー、シリコーン樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリウレタン、ポリビニルアルコール、ポリプロピレン、ポリアクリルアミド、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタラートなどを使用することができる。
<保護層>
保護層220は、ハンドリングしやすい、かつ、粒子からの発光を阻害しない材料であれば特に制限はされないが、例えば、ポリエチレンテレフタラート、ポリアクリルアミド、ポリカーボネートなどを用いることができる。
次に、実施の形態1に係る温度測定システムにおける温度変化の測定の原理を説明する。
発光する波長が異なる2種類以上の発光粒子として、一方の発光粒子(ドナー)の蛍光スペクトル(発光スペクトル)と、もう一方の発光粒子(アクセプター)の励起スペクトル(吸収スペクトル)との間に重なりがある場合を考える。この場合において、発光する波長が異なる二つの発光粒子が近接すると、励起エネルギーにより励起したドナーが発光する前に、その励起エネルギーがアクセプターを励起するという挙動が知られている。この挙動をフェルスター共鳴エネルギー移動(FRET)といい、2種類の発光粒子の発光スペクトルの波長分布の挙動は、2種類の発光粒子間の距離に依存する。特に、FRET効率をドナー励起数当たりのエネルギー移動数の割合とすると、FRET効率は、2種類の発光粒子間の距離の6乗に反比例する。
この温度測定システムは、前述の原理を利用している。まず、センサ部の基板に熱が伝わり熱膨張又は収縮することにより、センサ部の基板上に配置された2種類の発光粒子間の距離が変化する。2種類の発光粒子間の距離の変化に応じ、FRET効果により発光スペクトルが変化する。そのため、2種類の発光粒子の発光スペクトルを測定することにより、基板の温度変化へ変換することができる。
また、対象物を測定する前に、レファレンスとなる型を測定し、あらかじめ別の測定方法で絶対温度を求めておく。次に、対象物による測定とレファレンスとなる方の測定との発光スペクトル変化を測定することで元の温度に対する温度変化を測定することができる。そこで、元の温度に測定した温度変化を加算することで、対象物の温度を測定することが可能である。
ここで、2種類以上の発光粒子であるドナー、アクセプターのどちらも半導体ナノ粒子を用いた場合について説明する。半導体ナノ粒子は、半導体結晶をもつナノサイズの粒子であり、量子サイズ効果により粒子径に応じ、発光スペクトルが変化するという特性をもつ。また、同一の粒子径であっても、材料が異なれば、発光スペクトルが変化するという特性をもつ粒子であり、様々な発光スペクトルを実現することが可能である。
なお、発光粒子において、同一粒子径で材料系が異なる場合、材料そのものがもつエネルギーギャップが大きいほうが短波長側に発光を示す。発光波長が短波長側の半導体ナノ粒子を半導体ナノ粒子A、発光波長が長波長側の半導体ナノ粒子を半導体ナノ粒子Bとする。2つの半導体ナノ粒子間の距離が十分離れた状態では、半導体ナノ粒子Aと半導体ナノ粒子Bは、それぞれの発光スペクトルを示す。対象物の収縮により半導体ナノ粒子間の距離が近接した場合、その距離に応じて、半導体ナノ粒子A、Bが励起され、半導体ナノ粒子Aが発光する前に半導体ナノ粒子Aから半導体ナノ粒子Bへのエネルギー移動が起こり、半導体ナノ粒子Aから発光されるはずのエネルギーが半導体ナノ粒子Bの発光に利用される。結果として、半導体ナノ粒子Aの発光スペクトル強度が減少し、半導体ナノ粒子Bの発光スペクトルが増強する。つまり、2つの半導体ナノ粒子の全体の発光スペクトルにおいて、短波長側の半導体ナノ粒子Aの発光スペクトル強度が単体の場合より減少し、長波長側の半導体ナノ粒子Bの発光スペクトル強度が単体の場合より増強された波長分布を有する。全体の発光スペクトルにおける波長分布の挙動は、2つの半導体ナノ粒子A、B間の距離に応じて変化する。
そこで、センサ部の面内の発光スペクトルの波長分布に基づいて、2種類の半導体ナノ粒子A、B間の距離の変化、つまり対象物の温度変化を算出できる。
同一材料で粒子径が異なる場合、量子サイズ効果により粒子径が小さいほうが短波長側に発光を示す。前述したように短波長側の半導体ナノ粒子Aと長波長側の半導体ナノ粒子Bの粒子間距離に応じエネルギー移動が起こり、発光スペクトルが変化する。
発光粒子に有機色素を用いた場合についても同様の原理で対象物の温度変化を検出できる。FRET現象が生じると短波長側で発光する発光粒子又は色素分子の発光スペクトルが減少し、長波長側で発光する発光粒子又は色素分子の発光スペクトルが増強する。短波長側の発光ピーク波長と長波長側の発光ピーク波長とは、10nm以上離れている方が好ましい。より好ましくは30nm以上である。10nmより発光ピーク波長が近いと発光強度が低いスペクトルの発光ピーク強度がもう一方のスペクトルと重なり、発光スペクトルにおける波長分布の変化の検出が困難になる。
なお、発光スペクトルの変化は、周辺温度によって影響を受けないため放射温度計では測定の難しい低温領域の温度測定が可能になる。
(実施の形態2)
図2は、実施の形態2に係る温度測定システム10aの構成を示す概略図である。図2において、図1と同じ構成要素については同じ符号を用い、説明を省略する。
図2において、実施の形態2に係る温度測定システムは、励起エネルギー源100と、センサ部200と、発光受光素子300と、画像解析部400と、を備える。
本実施の形態2では、励起エネルギー源100、保護層220、発光受光素子300、画像解析部400は、本実施の形態1と同じ構成要素であるため、説明を省略する。
実施の形態2に係る温度測定システム10aは、実施の形態1に係る温度測定システムと対比すると、センサ部200に含まれる発光粒子213、214が、それぞれ層をなしていると共に、発光粒子213を含む層と、発光粒子214を含む層とが、基板211’の面内方向に沿って交互に配置されている点で相違する。
本実施の形態2のセンサ部は、加工された熱に応答して膨張収縮する基材211’と、該基材211’上に配置された2種類の発光粒子を含む層213、214と、保護層と、を含む。
基材211’への加工法としては、例えば、リソグラフィ、エッチングやナノインプリントを使用することが出来る。加工のピッチとしては5nm以上10000nm以下であることが好ましく、さらに好ましくは、5nm以上1000nm以下である。
基板211’上に発光粒子213を含む層と発光粒子214を含む層とを順に積層させる方法としては、特に制限されないが、例えばスパッタリングやスピンコーター法等のような粒子を積層できる工法を用いることができる。
なお、この温度測定システム10aにおける温度変化の測定の原理としては、実施の形態1と同様であるため、説明を省略する。
なお、本開示においては、前述した様々な実施の形態及び/又は実施例のうちの任意の実施の形態及び/又は実施例を適宜組み合わせることを含むものであり、それぞれの実施の形態及び/又は実施例が有する効果を奏することができる。
本発明に係る温度測定システムによれば、低温領域での温度変化を測定することが可能になる。また、本発明に係る温度測定システムによれば、特に低温プロセスで簡便に対象物の表面の温度を測定し、大面積することにより温度の分布を測定することも可能である。
10、10a 温度測定システム
100 励起エネルギー源
200 センサ部
211 基板
211’ 基板
212 スペーサ
213 発光粒子
214 発光粒子
220 保護層
300 発光受光素子
400 画像解析部

Claims (5)

  1. 熱に応答して膨張収縮する基板と、前記基板上に、面に沿って互いに離間して配置され、励起エネルギーにより発光する波長が異なる2種類以上の発光粒子と、を含むセンサ部と、
    前記センサ部に含まれる前記2種類以上の発光粒子を発光させる励起エネルギー源と、
    前記センサ部からの発光を受光する受光部と、
    受光した前記発光の発光スペクトルに基づいて、前記基板の温度を測定する画像解析部と、
    を備え
    前記画像解析部は、前記基板の膨張又は収縮による前記センサ部の基板上に配置された前記2種類の発光粒子間の距離の変化に応じたFRET効果による発光スペクトルの変化を測定し、前記基板の温度変化を測定すると共に、
    レファレンスとなる型を測定し、あらかじめ別の測定方法で絶対温度を求めておき、前記基板による測定と前記レファレンスの測定との発光スペクトルの変化を測定することで元の温度に対する温度変化を測定し、元の温度に測定した温度変化を加算することで、前記基板の温度を測定する、温度測定システム。
  2. 前記2種類以上の発光粒子は、一方の種類の発光粒子の発光スペクトルと、他方の種類の発光粒子の励起スペクトルとが重なりを有する、請求項1に記載の温度測定システム。
  3. 前記2種類以上の発光粒子として、半導体ナノ粒子、有機色素のうち、少なくとも1種以上を用いる、請求項1又は2に記載の温度測定システム。
  4. 前記センサ部は、前記2種類以上の発光粒子を前記基板の面に沿って互いに離間して配置するスペーサを含む、請求項1から3のいずれか一項に記載の温度測定システム。
  5. 前記励起エネルギーが、光エネルギーであることを特徴とする請求項1から4のいずれか一項に記載の温度測定システム。
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