JP7486335B2 - インプリント装置、インプリント方法、および物品製造方法 - Google Patents
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Description
図1には、本発明の一実施形態のインプリント装置100の構成が示されている。インプリント装置100は、基板Sのショット領域の上のインプリント材IMに型M(のパターン部P)を接触させた状態でインプリント材IMを光照射によって硬化させて該ショット領域の上にパターンを形成する。
インプリント装置を用いて形成した硬化物のパターンは、各種物品の少なくとも一部に恒久的に、或いは各種物品を製造する際に一時的に、用いられる。物品とは、電気回路素子、光学素子、MEMS、記録素子、センサ、或いは、型等である。電気回路素子としては、DRAM、SRAM、フラッシュメモリ、MRAMのような、揮発性或いは不揮発性の半導体メモリや、LSI、CCD、イメージセンサ、FPGAのような半導体素子等が挙げられる。型としては、インプリント用のモールド等が挙げられる。
本発明は、上述の実施形態の1以上の機能を実現するプログラムを、ネットワーク又は記憶媒体を介してシステム又は装置に供給し、そのシステム又は装置のコンピュータにおける1つ以上のプロセッサがプログラムを読み出し実行する処理でも実現可能である。また、1以上の機能を実現する回路(例えば、ASIC)によっても実現可能である。
Claims (10)
- 基板のショット領域の上のインプリント材に型を接触させた状態で前記インプリント材を光照射によって硬化させて前記ショット領域の上にパターンを形成するインプリント装置であって、
シャッタ板と、
前記ショット領域の上の前記インプリント材への光照射を制御するために前記シャッタ板の状態を調整する調整部と、を有し、
前記シャッタ板は、前記ショット領域の上の前記インプリント材の全体のうちの一部に光を照射するための第1通過部と、前記ショット領域の上の前記インプリント材の前記全体に光を照射するための第2通過部とを有し、
前記調整部は、
前記シャッタ板の前記状態を、前記第1通過部を通過した光が前記一部に照射される第1状態と、前記第2通過部を通過した光が前記全体に照射される第2状態との間で切り替えるために、前記シャッタ板を駆動軸周りに回動させる第1アクチュエータと、
前記シャッタ板を前記駆動軸とともに傾ける第2アクチュエータと、を含み、
前記第1通過部を通過する光の量が調整されるように、前記シャッタ板の傾きを調整する、
ことを特徴とするインプリント装置。 - 前記基板と前記型との相対位置を変更する相対駆動機構を更に有し、
前記インプリント装置は、前記相対駆動機構による前記ショット領域と前記型との位置合わせが完了する前に前記ショット領域の上の前記インプリント材に光を照射する先行露光を行うように構成されており、
前記調整部は、前記先行露光の際に、前記第1アクチュエータにより前記シャッタ板を前記第1状態にするとともに、前記第2アクチュエータにより前記シャッタ板の傾きを調整する、
ことを特徴とする請求項1に記載のインプリント装置。 - 前記調整部は、前記位置合わせが完了した後に前記ショット領域の上の前記インプリント材に光を照射する本露光の際に、前記第1アクチュエータにより前記シャッタ板を前記第2状態にする、ことを特徴とする請求項2に記載のインプリント装置。
- 前記先行露光および前記本露光における露光量を制御する制御部を有し、
前記制御部は、前記シャッタ板の傾き量と露光量との予め得られた関係に基づいて、前記先行露光および前記本露光における前記露光量を制御する、
ことを特徴とする請求項3に記載のインプリント装置。 - 前記第1通過部は、複数の第1通過部を含むことを特徴とする請求項4に記載のインプリント装置。
- 基板のショット領域の上のインプリント材に型を接触させた状態で前記インプリント材を光照射によって硬化させて前記ショット領域の上にパターンを形成するインプリント装置であって、
シャッタ板と、
前記ショット領域の上の前記インプリント材への光照射を制御するために前記シャッタ板の状態を調整する調整部と、
前記基板と前記型との相対位置を変更する相対駆動機構と、
前記相対駆動機構による前記ショット領域と前記型との位置合わせが完了する前に前記ショット領域の上の前記インプリント材に光を照射する先行露光と、前記位置合わせが完了した後に前記ショット領域の上の前記インプリント材に光を照射する本露光とにおける露光量を制御する制御部と、を有し、
前記シャッタ板は、前記ショット領域の上の前記インプリント材の全体のうちの一部に光を照射するための複数の第1通過部と、前記ショット領域の上の前記インプリント材の前記全体に光を照射するための第2通過部と、を有し、
前記調整部は、
前記シャッタ板の前記状態を、前記複数の第1通過部のうちの1つの第1通過部を通過した光が前記一部に照射される第1状態と、前記第2通過部を通過した光が前記全体に照射される第2状態との間で切り替えるために、前記シャッタ板を回動させる第1アクチュエータと、
前記シャッタ板を傾ける第2アクチュエータと、を含み、
前記複数の第1通過部のうちの1つの第1通過部を通過する光の量が調整されるように、前記シャッタ板の傾きを調整するように構成されており、
前記ショット領域は、複数のチップ領域を含み、
前記制御部は、前記ショット領域における前記複数のチップ領域の配置に基づいて、前記複数の第1通過部のうち使用する第1通過部を選択し、前記選択された第1通過部を使用した場合における前記シャッタ板の傾き量と露光量との予め得られた関係に基づいて、前記先行露光および前記本露光における前記露光量を制御する、
ことを特徴とするインプリント装置。 - 基板のショット領域の上のインプリント材に型を接触させた状態で前記インプリント材を光照射によって硬化させて前記ショット領域の上にパターンを形成するインプリント装置であって、
シャッタ板と、
前記ショット領域の上の前記インプリント材への光照射を制御するために前記シャッタ板の状態を調整する調整部と、を有し、
前記シャッタ板は、前記ショット領域の上の前記インプリント材の全体のうちの一部に光を照射するための第1通過部と、前記ショット領域の上の前記インプリント材の前記全体に光を照射するための第2通過部と、を有し、
前記調整部は、
前記シャッタ板の前記状態を、前記第1通過部を通過した光が前記一部に照射される第1状態と、前記第2通過部を通過した光が前記全体に照射される第2状態との間で切り替えるために、前記シャッタ板を回動させる第1アクチュエータと、
前記シャッタ板を傾ける第2アクチュエータと、を含み、
前記第2アクチュエータは、
前記第1通過部を通過する光の光軸と直交する第1軸の周りに前記シャッタ板を傾けるアクチュエータと、
前記光軸と前記第1軸とに直交する第2軸の周りに前記シャッタ板を傾けるアクチュエータと、
を含み、
前記調整部は、前記第1通過部を通過する光の量が調整されるように、前記シャッタ板の傾きを調整する、
ことを特徴とするインプリント装置。 - 基板のショット領域の上のインプリント材に型を接触させた状態で前記インプリント材を光照射によって硬化させて前記ショット領域の上にパターンを形成するインプリント装置であって、
シャッタ板と、
前記ショット領域の上の前記インプリント材への光照射を制御するために前記シャッタ板の状態を調整する調整部と、
前記基板と前記型との相対位置を変更する相対駆動機構と、
を有し、
前記インプリント装置は、前記相対駆動機構による前記ショット領域と前記型との位置合わせが完了する前に前記ショット領域の上の前記インプリント材に光を照射する先行露光と、前記位置合わせが完了した後に前記ショット領域の上の前記インプリント材に光を照射する本露光とを行うように構成されており、
前記シャッタ板は、前記ショット領域の上の前記インプリント材の全体のうちの一部に光を照射するための複数の第1通過部を有し、
前記調整部は、前記先行露光の際に、前記第1通過部を通過する光の量が調整されるように前記シャッタ板の傾きを調整するように構成されており、
前記ショット領域は、複数のチップ領域を含み、
前記インプリント装置は、前記ショット領域における前記複数のチップ領域の配置に基づいて、前記複数の第1通過部のうち使用する第1通過部を選択し、前記選択された第1通過部を使用した場合における前記シャッタ板の傾き量と露光量との予め得られた関係に基づいて、前記先行露光および前記本露光における露光量を制御する制御部を更に有する、
ことを特徴とするインプリント装置。 - 基板のショット領域の上のインプリント材に型を接触させた状態で前記インプリント材を光照射によって硬化させて前記ショット領域の上にパターンを形成するインプリント方法であって、
前記ショット領域の上の前記インプリント材への光照射を制御するためのシャッタ板の駆動によって前記ショット領域の上の前記インプリント材の全体のうちの一部に光を照射する先行露光工程と、
前記先行露光工程の実行中または前記先行露光工程の終了後に、前記ショット領域と前記型との位置合わせを行う位置合わせ工程と、
前記位置合わせ工程の後に前記シャッタ板の駆動によって前記ショット領域の上の前記インプリント材の前記全体に光を照射する本露光工程と、を有し、
前記シャッタ板の前記駆動は、前記シャッタ板の傾きを調整するための駆動を含み、
前記シャッタ板は、前記ショット領域の上の前記インプリント材の全体のうちの一部に光を照射するための第1通過部と、前記ショット領域の上の前記インプリント材の前記全体に光を照射するための第2通過部とを有し、
前記インプリント方法は、
前記シャッタ板の前記状態を、前記第1通過部を通過した光が前記一部に照射される第1状態と、前記第2通過部を通過した光が前記全体に照射される第2状態との間で切り替えるために、前記シャッタ板を駆動軸周りに回動させる工程と、
前記シャッタ板を前記駆動軸とともに傾ける工程と、
を更に有する、ことを特徴とするインプリント方法。 - 請求項1乃至8のいずれか1項に記載のインプリント装置を用いて基板の上にパターンを形成する工程と、
前記工程において前記パターンが形成された基板の処理を行う工程と、
を含み、前記処理が行われた前記基板から物品を製造することを特徴とする物品製造方法。
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