JP7485432B1

JP7485432B1 - 装飾装置

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Publication number: JP7485432B1
Application number: JP2023220990A
Authority: JP
Inventors: 光徳菅原
Original assignee: Individual
Current assignee: Individual
Priority date: 2023-12-27
Filing date: 2023-12-27
Publication date: 2024-05-16
Anticipated expiration: 2043-12-27

Abstract

【課題】第１パターン層と第２パターン層との２つのパターン層であっても、変化に富んだ面白みのある装飾装置を提供する。
【解決手段】遮光部と透光部とを所定方向に沿って交互に複数列設した第１パターン層（Ｗ１）及び第２パターン層（Ｗ２）の２つのパターン層により、一方側モアレ像（ＭＡ）と他方側モアレ像（ＭＢ）との２つのモアレ像を視認させるもので、１つの視点ＡをＸ軸方向に沿って移動したとき、若しくは、１つの視点Ａを固定して第１パターン層（Ｗ１）及び第２パターン層（Ｗ２）の何れか一方をＸ軸に沿って移動したとき、一方側モアレ像（ＭＡ）と他方側モアレ像（ＭＢ）とが互いに所定周期で規則的に相対移動するようにした。
【選択図】図１

Description

本発明は、遮光部と透光部とを所定方向に沿って交互に複数列設したパターン層を、間隔を隔てて積層し、このパターン層を外側から見たときモアレ像を視認させる装飾装置に関する。

従来、この種の装飾装置としては、例えば、特許第３１３１７７１号公報（特許文献１）に掲載されたものが知られている。これは、透明性シートの一面に形成され所定のピッチで繰り返された複数の透光部からなる模様を有した第１パターン層と、この透明性シートの他面に形成され第１パターン層の模様と相似形状の模様を有した第２パターン層とを備え、これらのパターン層によって、所定の周期で上下に複数形成される矩形形状のモアレ像を形成している。また、第１パターン層と第２パターン層との間に、鳥等の図柄を形成した第３パターン層を介装し、第１パターン層と第２パターン層とで形成されるモアレ像に、図柄が表出するようにしている。

また、本願発明者は、先に、特許第７０５３０８０号公報（特許文献２）に掲載された技術を提案している。これは、遮光部の輪郭線で区画された複数の透光部を有した第１パターン集合部を有した第１パターン層と、第２パターン集合部を有した第２パターン層と、第３パターン集合部を有した第３パターン層とを間隔を隔てて順に重ねて配置し、最も外側にあるパターン層を外側から見たとき視認される１つの塊として特定されるモアレ像を特定モアレ像とし、この特定モアレ像を互いに隣り合うパターン層の組で分担して形成するものである。即ち、第１パターン集合部及び第２パターン集合部で特定モアレ像の分担に係る一方側モアレ像を形成し、第２パターン集合部及び第３パターン集合部で特定モアレ像の分担に係る他方側モアレ像を形成している。

特許第３１３１７７１号公報特許第７０５３０８０号公報

ところで、上記前者の従来の装飾装置にあっては、モアレ像を第１パターン層と第２パターン層とで形成するようにしているが、表れるモアレ像が一義的で変化に乏しく、面白みに欠けるという問題があった。従来においては、第３パターン層を設けているが、これは、図柄が表出するだけであり、透光部（遮光部）によるモアレ像の形成作用はないことから、モアレ像自体の変化に寄与するものではない。

一方、上記後者の従来の装飾装置にあっては、第３パターン層によって分担したモアレ像を形成するので、隣り合うパターン層の組同士の位置関係を相対的に変えることにより、外側の１つの視点から視認されるモアレ像が特定モアレ像とは形状の異なるモアレ像として表出可能になるので、前者の従来の装飾装置よりも変化に富み、自由度も増して、面白みも増加するが、第３パターン層を設ける分、部品点数が多くなってしまい、その分、製造等の効率を損ねる。

本発明は上記の点に鑑みて為されたもので、第１パターン層と第２パターン層との２つのパターン層であっても、変化に富んだ面白みのある装飾装置を提供することを目的とする。

上記の目的を達成するための本発明の装飾装置は、透光部と遮光部とを所定方向に沿って交互に複数列設した２つのパターン層を、間隔を隔てて積層し、該２つのパターン層を外側から見たときモアレ像を視認させる装飾装置であって、
上記２つのパターン層を、見る側から順に、第１パターン層（Ｗ１），第２パターン層（Ｗ２）とし、上記パターン層の面方向且つ上記所定方向に沿い原点Ｏを通るＸ軸と、該パターン層の面方向に沿うとともにＸ軸に直交し原点Ｏを通るＹ軸と、上記パターン層の面方向に直交するとともに上記パターン層の積層方向であって間隔を規定し原点Ｏを通るＺ軸とを設定し、
Ｙ軸に直交する平面で切断された任意の平断面上、Ｚ軸方向の外側の１つの視点Ａから視認されて特定されるモアレ像を、一方側モアレ像（ＭＡ）と他方側モアレ像（ＭＢ）との２つのモアレ像で構成し、
上記１つの視点ＡをＸ軸方向に沿って移動したとき、若しくは、上記１つの視点Ａを固定して第１パターン層（Ｗ１）及び第２パターン層（Ｗ２）の何れか一方をＸ軸に沿って移動したとき、上記一方側モアレ像（ＭＡ）と他方側モアレ像（ＭＢ）とが互いに規則的に相対移動するようにした構成としている。ここでは、隣接する透光部間には遮光部が存在し、隣接する遮光部間には透光部が存在するようにする。

ここで、一方側モアレ像（ＭＡ）及び他方側モアレ像（ＭＢ）は、１つの塊として視認できる図形、文字、記号等の所定の形体を有する像（干渉縞）を言う。対称形、非対称形のいずれであっても良い。また、一方側モアレ像（ＭＡ）及び他方側モアレ像（ＭＢ）を、互いに、鏡面対称形になるようにし、あるいは、同一形状になるようにし、あるいはまた、相似形状にすることができる。

また、ここで、パターン層を間隔を隔てて重ねての意味は、パターン層の厚さｔをｔ＝０としたときには間隔が必要であることを意味する。パターン層の厚さｔがｔ＞０のとき、例えば、パターン層を所定の厚さのシートに透光部を開設して作成する場合、あるいは、透明なシートに遮光部を印刷して作成するような場合には、このパターン層を密接させて積層しても、シートの厚さ分は間隔があるものとする。間隔が大きいほど、モアレ像の立体感が増す。本図面で示す黒色の第１パターン層（Ｗ１）及び第２パターン層（Ｗ２）は、例えば、厚さｔが、ｔ＝０．１５ｍｍの黒色の紙に、例えばレーザ加工機を用いて透光部を形成したものの正面図であり、図示される一方側モアレ像（ＭＡ）及び他方側モアレ像（ＭＢ）は、第１パターン層（Ｗ１）及び第２パターン層（Ｗ２）を密接させて積層した際に視認されるものを示している。

これにより、第１パターン層（Ｗ１）と第２パターン層（Ｗ２）とを重ねると、一方側モアレ像（ＭＡ）と他方側モアレ像（ＭＢ）との２つのモアレ像が視認される。そして、１つの視点ＡをＸ軸方向に沿って移動し、若しくは、１つの視点Ａを固定して第１パターン層（Ｗ１）及び第２パターン層（Ｗ２）の何れか一方をＸ軸に沿って移動すると、一方側モアレ像（ＭＡ）と他方側モアレ像（ＭＢ）とが互いに規則的に相対移動する。このため、モアレ像が変化するので、面白みを増すことができるようになる。また、互いに変化するモアレ像を形成するパターン層は、第１パターン層（Ｗ１）及び第２パターン層（Ｗ２）の２つなので、従来に比較して部品点数を少なくすることができ、構造を簡単にすることができ、製造効率も向上させることができる。

そして、必要に応じ、上記１つの視点Ａから見たとき、上記一方側モアレ像（ＭＡ）及び他方側モアレ像（ＭＢ）が、夫々、Ｘ軸方向に沿って所定の周期で複数形成される構成としている。一方側モアレ像（ＭＡ）及び他方側モアレ像（ＭＢ）が夫々１つ形成される場合に比較して、同じ形体の一方側モアレ像（ＭＡ）及び他方側モアレ像（ＭＢ）が、夫々、複数形成されるので、より一層面白みを増すことができる。

この場合、必要に応じ、上記一方側モアレ像（ＭＡ）の周期と他方側モアレ像（ＭＢ）の周期を異ならせるとともに、上記１つの視点Ａから見たとき、上記一方側モアレ像（ＭＡ）及び他方側モアレ像（ＭＢ）の視認できる数を異ならせた構成としている。これにより、周期が短い方のモアレ像が長い方のモアレ像に比較して多く見えるようにすることができることから、より一層面白みを増加させることができる。図６５乃至図７０（後掲の実施例３）、図７１乃至図７６（後掲の実施例４）等は、一方側モアレ像（ＭＡ）よりも、他方側モアレ像（ＭＢ）の視認できる数を多くしている例である。

また、必要に応じ、上記一方側モアレ像（ＭＡ）を、透光する透光モアレまたは遮光する遮光モアレで構成し、
上記他方側モアレ像（ＭＢ）を、上記一方側モアレ像（ＭＡ）に対応し、透光する透光モアレまたは遮光する遮光モアレで構成している。
これにより、モアレ像が透光モアレの場合には、光が透過した状態になって視認され、モアレ像が遮光モアレの場合には、光が遮光した状態になって視認される。
透光モアレは、図４乃至図８，図９，図１１，図１３（ａ），後述の実施例１（図５３乃至図５８），実施例４（図７１乃至図７６），実施例５（図７７乃至図８１），実施例５の変形例（図８２乃至図８４），実施例６（図８５乃至図８９），実施例６の変形例（図９０乃至図９２），実施例７（図９３乃至図９７），実施例８（図９８乃至図１０３），実施例９（図１０４乃至図１０８），実施例１１（図１１４乃至図１１８），実施例１３（図１２４乃至図１２８），実施例１４（図１２９乃至図１３３），実施例１５（図１３４乃至図１３８）に示される。
遮光モアレは、図１０，図１２，図１３（ｂ），後述の実施例２（図５９乃至図６４），実施例３（図６５乃至図７０），実施例１０（図１０９乃至図１１３），実施例１２（図１１９乃至図１２３）に示される。

そしてまた、必要に応じ、１つの透光部で構成され若しくはＹ軸方向に列設された複数の透光部で構成され中心線のある所定形体の単位透光部パターンの集合からなるとともに該単位透光部パターンがＸ軸方向に沿って所定のピッチで規則的に列設して構成される透光部パターン集合部（ＴＰＡ）と、
１つの遮光部で構成され若しくはＹ軸方向に列設された複数の遮光部で構成され中心線のある所定形体の単位遮光部パターンの集合からなるとともに該遮光部パターンがＸ軸方向に沿って所定のピッチで規則的に列設して構成される遮光部パターン集合部（ＳＰＡ）とを用い、
＜上記透光モアレの場合＞は、
夫々、上記単位透光部パターンの形体及びそのピッチが異なる透光部パターン集合部（ＴＰＡ）からなる第１パターン集合部（ＰＡ１），第２パターン集合部（ＰＡ２），共用パターン集合部（ＰＡ３）を用い、
上記第１パターン集合部（ＰＡ１）を第１パターン層（Ｗ１）に形成し、上記第２パターン集合部（ＰＡ２）を第２パターン層（Ｗ２）に形成し、上記共用パターン集合部（ＰＡ３）を上記第１パターン層（Ｗ１）及び第２パターン層（Ｗ２）の何れか一方に形成する。

＜上記遮光モアレの場合＞は、
夫々、上記単位遮光部パターンの形体及びそのピッチが異なる遮光部パターン集合部（ＳＰＡ）からなる第１パターン集合部（ＰＡ１）及び共用パターン集合部（ＰＡ３），該第１パターン集合部（ＰＡ１）及び共用パターン集合部（ＰＡ３）の単位遮光部パターンとは上記単位透光部パターンの形体及びそのピッチが異なる透光部パターン集合部（ＴＰＡ）からなる第２パターン集合部（ＰＡ２）を用い、
上記第１パターン集合部（ＰＡ１）及び共用パターン集合部（ＰＡ３）を第１パターン層（Ｗ１）に形成し、上記第２パターン集合部（ＰＡ２）を第２パターン層（Ｗ２）に形成し、
若しくは、
透光部パターン集合部（ＴＰＡ）からなる第１パターン集合部（ＰＡ１），該第１パターン集合部（ＰＡ１）の単位透光部パターンとは、夫々、上記単位遮光部パターンの形体及びそのピッチが異なる遮光部パターン集合部（ＳＰＡ）からなる第２パターン集合部（ＰＡ２）及び共用パターン集合部（ＰＡ３）を用い、
上記第１パターン集合部（ＰＡ１）を第１パターン層（Ｗ１）に形成し、上記第２パターン集合部（ＰＡ２）及び上記共用パターン集合部（ＰＡ３）を第２パターン層（Ｗ２）に形成する。

そして、
上記一方側モアレ像（ＭＡ）を、
上記第１パターン集合部（ＰＡ１）と上記第２パターン集合部（ＰＡ２）とで形成し、
上記他方側モアレ像（ＭＢ）を、
上記共用パターン集合部（ＰＡ３）を上記第１パターン層（Ｗ１）に形成したときは、上記共用パターン集合部（ＰＡ３）と第２パターン集合部（ＰＡ２）とで形成し、
上記共用パターン集合部（ＰＡ３）を上記第２パターン層（Ｗ２）に形成したときは、上記第１パターン集合部（ＰＡ１）と上記共用パターン集合部（ＰＡ３）とで形成する構成としている。

後述もするが、図２（ａ）（ｃ）（ｅ）（ｇ）（ｉ）（ｋ）（ｍ）（ｏ）（ｑ）（ｓ）には、単位透光部パターン１０Ａを、１つの透光部４で構成した例を示す。図２（ｂ）（ｄ）（ｆ）（ｈ）（ｊ）（ｌ）（ｎ）（ｐ）（ｒ）（ｔ）には、単位透光部パターン１０Ａを、Ｙ軸方向に列設された複数の透光部４で構成した例を示す。また、図３（ａ）（ｃ）（ｅ）（ｇ）（ｉ）（ｋ）（ｍ）（ｏ）（ｑ）（ｓ）には、単位遮光部パターン１０Ｂを、１つの遮光部で３構成した例を示す。図３（ｂ）（ｄ）（ｆ）（ｈ）（ｊ）（ｌ）（ｎ）（ｐ）（ｒ）（ｔ）には、単位遮光部パターン１０Ｂを、Ｙ軸方向に列設された複数の遮光部３で構成した例を示す。尚、ここで、Ｙ軸方向に列設とは、透光部４または遮光部３が、謂わば上に向かって列設されているということであり、必ずしも、Ｙ軸と平行な軸線に沿っているということではなく、中心線がＹ軸に対して傾斜していたり、湾曲していてもよい。また、単位透光部パターンを、Ｙ軸方向に列設された複数の透光部で構成した場合、あるいは、単位遮光部パターンを、Ｙ軸方向に列設された複数の遮光部で構成した場合、Ｙ軸方向において、透光部の数、遮光部の数、透光部の長さ、遮光部の長さは、適宜に定めてよい。

これにより、共用パターン集合部（ＰＡ３）を、第１パターン集合部（ＰＡ１）のある第１パターン層（Ｗ１）、若しくは、第２パターン集合部（ＰＡ２）のある第２パターン層（Ｗ２）に形成するので、設計がやりやすくなり、製作を容易にすることができる。この場合、単位透光部パターンを、複数の透光部をＹ軸方向に列設して構成した場合には、単位透光部パターンにおいて、透光部と透光部との間に遮光部が介在するので、パターン層を、例えば、薄いシートに透光部を開設して構成する場合には、遮光部によりシートの強度を増すことができる。尚、図１４５に示すように、複数の遮光部３をＹ軸方向に列設して構成する場合には、単位遮光部パターン１０Ｂにおいて、薄いシートを切断して形成することができないので、例えば、透明なシート３０に遮光部３を印刷する等して形成する。

ここで、透光モアレの場合を挙げて原理を示す。図４乃至図８，図９及び図１３（ａ）には、共用パターン集合部（ＰＡ３）を第１パターン層（Ｗ１）に形成する場合の透光モアレの原理図を示す。例えば、図４（ａ）に示す第１パターン集合部（ＰＡ１）と図４（ｂ）に示す第２パターン集合部（ＰＡ２）とで図６（ａ）に示す一方側モアレ像（ＭＡ）を形成する。一方、図５（ａ）に示す共用パターン集合部（ＰＡ３）と図４（ｂ）に示す第２パターン集合部（ＰＡ２）とで図６（ｂ）に示す他方側モアレ像（ＭＢ）を形成する。そして、図５（ｂ）及び図９に示すように、例えば、第１パターン層（Ｗ１）に、第１パターン集合部（ＰＡ１）と共用パターン集合部（ＰＡ３）とを形成する。即ち、１つのパターン層に、２つのパターン集合部を合成する。図４（ｂ）及び図９に示すように、第２パターン層（Ｗ２）には、第２パターン集合部（ＰＡ２）を形成する。これにより、図６（ｃ）に示すように、見る側から順に、第１パターン層（Ｗ１）と第２パターン層（Ｗ２）とを重ねると、一方側モアレ像（ＭＡ）と他方側モアレ像（ＭＢ）との２つのモアレ像が視認される。

そして、図７及び図８に示すように、１つの視点ＡをＸ軸方向に沿って移動し、若しくは、１つの視点Ａを固定して第１パターン層（Ｗ１）及び第２パターン層（Ｗ２）の何れか一方をＸ軸に沿って移動すると、一方側モアレ像（ＭＡ）と他方側モアレ像（ＭＢ）とが互いに所定周期で規則的に相対移動する。

図１１には、透光モアレにおいて、共用パターン集合部（ＰＡ３）を第２パターン層（Ｗ２）に形成した場合を示す。
遮光モアレの場合の原理も同様である。図１０及び図１３（ｂ）には、共用パターン集合部（ＰＡ３）を第１パターン層（Ｗ１）に形成する場合の遮光モアレの原理図を示す。図１２には、遮光モアレにおいて、共用パターン集合部（ＰＡ３）を第２パターン層（Ｗ２）に形成した場合を示す。

また、必要に応じ、上記第１パターン集合部（ＰＡ１）の各単位透光部パターンを、互いに、平行な軸線を有した同形状に形成し、
上記第２パターン集合部（ＰＡ２）の各単位透光部パターンを、互いに、平行な軸線を有した同形状に形成し、
上記共用パターン集合部（ＰＡ３）の各単位透光部パターンを、互いに、平行な軸線を有した同形状に形成し、
上記共用パターン集合部（ＰＡ３）を上記第１パターン層（Ｗ１）に形成するときは、これらの各単位透光部パターンを、互いに、平行な軸線を有した同形状に形成し、
上記共用パターン集合部（ＰＡ３）を上記第２パターン層（Ｗ２）に形成するときは、これらの各単位透光部パターンを、互いに、平行な軸線を有した同形状に形成する構成としている。

例えば、図４（ａ）に示すように、第１パターン層（Ｗ１）においては、第１パターン集合部（ＰＡ１）と共用パターン集合部（ＰＡ３）とは、単位透光部パターンを、Ｙ軸方向で軸線を垂直にして列設された複数の長方形の透光部で構成し、図４（ｂ）に示すように、第２パターン層（Ｗ２）においては、第２パターン集合部（ＰＡ２）は、単位透光部パターンを、Ｙ軸方向で軸線をやや傾斜させて列設された複数の細長の平行四辺形の透光部で構成している。

これにより、第１パターン層（Ｗ１）及び第２パターン層（Ｗ２）においては、夫々、これらに形成される各単位透光部パターンが、互いに、平行な軸線及び輪郭線を有した形状に形成するので、形状が単純になり、それだけ、設計がやりやすくなり、製作を容易にすることができる。

更に、必要に応じ、上記一方側モアレ像（ＭＡ）が上記第２パターン層（Ｗ２）の奥に見え、上記他方側モアレ像（ＭＢ）が上記第１パターン層（Ｗ１）の前に見える設定、
上記一方側モアレ像（ＭＡ）が上記第２パターン層（Ｗ２）の奥に見え、上記他方側モアレ像（ＭＢ）が上記第２パターン層（Ｗ２）に奥に見える設定、
上記一方側モアレ像（ＭＡ）が上記第１パターン層（Ｗ１）の前に見え、上記他方側モアレ像（ＭＢ）が上記第１パターン層（Ｗ１）の前に見える設定の何れかの設定になるように、上記第１パターン集合部（ＰＡ１）、第２パターン集合部（ＰＡ２）及び共用パターン集合部（ＰＡ３）を形成した構成としている。これにより、モアレの表出の仕方に多様性が生じる。

図１４に示すように、図１４（ａ）（ｃ）が、一方側モアレ像（ＭＡ）が第２パターン層（Ｗ２）の奥に見え、他方側モアレ像（ＭＢ）が第１パターン層（Ｗ１）の前に見える場合を示し、図１４（ｂ）（ｄ）が、一方側モアレ像（ＭＡ）が第２パターン層（Ｗ２）の奥に見え、他方側モアレ像（ＭＢ）が第２パターン層（Ｗ２）の奥に見える場合を示し、図１４（ｅ）（ｆ）が、一方側モアレ像（ＭＡ）が第１パターン層（Ｗ１）の前に見え、他方側モアレ像（ＭＢ）が第１パターン層（Ｗ１）の前に見える場合を示す。
尚、一方側モアレ像（ＭＡ）が第１パターン層（Ｗ１）の前に見え、他方側モアレ像（ＭＢ）が第２パターン層（Ｗ２）の奥に見える場合については、図１４（ａ）（ｃ）の場合で言えば、一方側モアレ像（ＭＡ）と他方側モアレ像（ＭＢ）と逆になる関係になるので、これらを逆に定義することで実現できる。

本発明によれば、第１パターン層（Ｗ１）と第２パターン層（Ｗ２）とを重ねると、一方側モアレ像（ＭＡ）と他方側モアレ像（ＭＢ）との２つのモアレ像が視認される。そして、１つの視点ＡをＸ軸方向に沿って移動し、若しくは、１つの視点Ａを固定して第１パターン層（Ｗ１）及び第２パターン層（Ｗ２）の何れか一方をＸ軸に沿って移動すると、一方側モアレ像（ＭＡ）と他方側モアレ像（ＭＢ）とが互いに所定周期で規則的に相対移動する。このため、モアレ像が変化するので、多様性が増し、面白みを増すことができるようになる。また、互いに変化するモアレ像を形成するパターン層は、第１パターン層（Ｗ１）及び第２パターン層（Ｗ２）の２つなので、従来に比較して部品点数を少なくすることができ、構造を簡単にすることができ、製造効率も向上させることができる。

本発明の実施の形態に係る装飾装置を示し、（ａ）は斜視図、（ｂ）は縦断面図である。本発明の装飾装置において、単位透光部パターンの構成例を示す図（ａ）（ｂ）（ｃ）（ｄ）（ｅ）（ｆ）（ｇ）（ｈ）（ｉ）（ｊ）（ｋ）（ｌ）（ｍ）（ｎ）（ｏ）（ｐ）（ｑ）（ｒ）（ｓ）（ｔ）である。本発明の装飾装置において、単位遮光部パターンの構成例を示す図（ａ）（ｂ）（ｃ）（ｄ）（ｅ）（ｆ）（ｇ）（ｈ）（ｉ）（ｊ）（ｋ）（ｌ）（ｍ）（ｎ）（ｏ）（ｐ）（ｑ）（ｒ）（ｓ）（ｔ）である。本発明の装飾装置において、その原理を示す図であり、（ａ）は第１パターン集合部（ＰＡ１）を示し、（ｂ）は第２パターン集合部（ＰＡ２）及びこれを形成した第２パターン層（Ｗ２）を示す図である。本発明の装飾装置において、その原理を示す図であり、（ａ）は共用パターン集合部（ＰＡ３）を示し、（ｂ）は第１パターン集合部（ＰＡ１）と共用パターン集合部（ＰＡ３）とを合成した集合部及びこれらを形成した第１パターン層（Ｗ１）を示す図である。本発明の装飾装置において、その原理を示す図であり、（ａ）は第１パターン集合部（ＰＡ１）と第２パターン集合部（ＰＡ２）とから形成される一方側モアレ像（ＭＡ）を示し、（ｂ）は共用パターン集合部（ＰＡ３）と第２パターン集合部（ＰＡ２）とから形成される他方側モアレ像（ＭＢ）を示し、（ｃ）は第１パターン層（Ｗ１）と第２パターン層（Ｗ２）とを重ねて視認される一方側モアレ像（ＭＡ）及び他方側モアレ像（ＭＢ）の合成モアレ像の一形態を示す図である。本発明の装飾装置において、その原理を示す図であり、第１パターン層（Ｗ１）と第２パターン層（Ｗ２）とを順送りに相対移動した際に視認される合成モアレ像を示す図（ａ）（ｂ）（ｃ）である。本発明の装飾装置において、その原理を示す図であり、第１パターン層（Ｗ１）と第２パターン層（Ｗ２）とを更に順送りに相対移動した際に視認される合成モアレ像を示す図（ｄ）（ｅ）である。本発明の装飾装置において、その原理を示す図であり、共用パターン集合部（ＰＡ３）を第１パターン層（Ｗ１）に形成した際、透光モアレを表出する場合の第１パターン層（Ｗ１）の構成を、第２パターン層（Ｗ２）との関係で示す図である。本発明の装飾装置において、その原理を示す図であり、共用パターン集合部（ＰＡ３）を第１パターン層（Ｗ１）に形成した際、遮光モアレを表出する場合の第１パターン層（Ｗ１）の構成を、第２パターン層（Ｗ２）との関係で示す図である。本発明の装飾装置において、その原理を示す図であり、共用パターン集合部（ＰＡ３）を第２パターン層（Ｗ２）に形成した際、透光モアレを表出する場合の第２パターン層（Ｗ２）の構成を、第１パターン層（Ｗ１）との関係で示す図である。本発明の装飾装置において、その原理を示す図であり、共用パターン集合部（ＰＡ３）を第２パターン層（Ｗ２）に形成した際、遮光モアレを表出する場合の第２パターン層（Ｗ２）の構成を、第１パターン層（Ｗ１）との関係で示す図である。本発明の装飾装置において、その原理を示す図であり、（ａ）は透光モアレの表出状態を示す図、（ｂ）は遮光モアレの表出状態を示す図である。本発明の装飾装置において、その原理を示す図であり、第１パターン層（Ｗ１）及び第２パターン層（Ｗ２）に対する一方側モアレ像（ＭＡ）と他方側モアレ像（ＭＢ）との表出位置関係を示す図（ａ）（ｂ）（ｃ）（ｄ）（ｅ）（ｆ）である。本発明の実施の形態に係る装飾装置において、第１パターン層（Ｗ１）及び第２パターン層（Ｗ２）の第１の構成形態乃至第６の構成形態（（ａ）～（ｆ））をその形成条件の要点とともに示す表図である。第１の構成形態乃至第６の構成形態（（ａ）～（ｆ））において、その形成条件に係る符号の定義を記した表図である。第１の構成形態乃至第６の構成形態（（ａ）～（ｆ））において、その形成条件に係る符号の定義を記した別の表図である。第１の構成形態に係る第１パターン層（Ｗ１）及び第２パターン層（Ｗ２）を示す図である。第１の構成形態の形成条件を定めた一般式を示す図である。第１の構成形態の形成条件を定めた別の一般式を示す図である。第１の構成形態において、第１パターン層（Ｗ１）上の一方側モアレ像（ＭＡ）及び他方側モアレ像（ＭＢ）の移動方向と距離を示す表図である。第１の構成形態において、観察者の視点（ｆ）における条件を示す表図である。第１の構成形態において、一方側モアレ像（ＭＡ）及び他方側モアレ像（ＭＢ）の視認数の条件を示す表図である。第２の構成形態に係る第１パターン層（Ｗ１）及び第２パターン層（Ｗ２）を示す図である。第２の構成形態において、第１パターン層（Ｗ１）及び第２パターン層（Ｗ２）の形成条件を定めた一般式を示す図である。第２の構成形態において、モアレ像の視認条件を定めた別の一般式を示す図である。第２の構成形態において、第１パターン層（Ｗ１）上の一方側モアレ像（ＭＡ）及び他方側モアレ像（ＭＢ）の移動方向と距離を示す表図である。第２の構成形態において、観察者の視点（ｆ）における条件を示す表図である。第２の構成形態において、一方側モアレ像（ＭＡ）及び他方側モアレ像（ＭＢ）の視認数の条件を示す表図である。第３の構成形態に係る第１パターン層（Ｗ１）及び第２パターン層（Ｗ２）を示す図である。第３の構成形態において、第１パターン層（Ｗ１）及び第２パターン層（Ｗ２）の形成条件を定めた一般式を示す図である。第３の構成形態において、モアレ像の視認条件を定めた別の一般式を示す図である。第３の構成形態において、第１パターン層（Ｗ１）上の一方側モアレ像（ＭＡ）及び他方側モアレ像（ＭＢ）の移動方向と距離を示す表図である。第３の構成形態において、一方側モアレ像（ＭＡ）及び他方側モアレ像（ＭＢ）の視認数の条件を示す表図である。第４の構成形態に係る第１パターン層（Ｗ１）及び第２パターン層（Ｗ２）を示す図である。第４の構成形態において、第１パターン層（Ｗ１）及び第２パターン層（Ｗ２）の形成条件を定めた一般式を示す図である。第４の構成形態において、モアレ像の視認条件を定めた別の一般式を示す図である。第４の構成形態において、第１パターン層（Ｗ１）上の一方側モアレ像（ＭＡ）及び他方側モアレ像（ＭＢ）の移動方向と距離を示す表図である。第４の構成形態において、一方側モアレ像（ＭＡ）及び他方側モアレ像（ＭＢ）の視認数の条件を示す表図である。第５の構成形態に係る第１パターン層（Ｗ１）及び第２パターン層（Ｗ２）を示す図である。第５の構成形態において、第１パターン層（Ｗ１）及び第２パターン層（Ｗ２）の形成条件を定めた一般式を示す図である。第５の構成形態において、第１パターン層（Ｗ１）及び第２パターン層（Ｗ２）の形成条件を定めた別の一般式を示す図である。第５の構成形態において、第１パターン層（Ｗ１）上の一方側モアレ像（ＭＡ）及び他方側モアレ像（ＭＢ）の移動方向と距離を示す表図である。第５の構成形態において、観察者の視点（ｆ）における条件を示す表図である。第５の構成形態において、一方側モアレ像（ＭＡ）及び他方側モアレ像（ＭＢ）の視認数の条件を示す表図である。第６の構成形態に係る第１パターン層（Ｗ１）及び第２パターン層（Ｗ２）を示す図である。第６の構成形態において、第１パターン層（Ｗ１）及び第２パターン層（Ｗ２）の形成条件を示す図である。第６の構成形態において、モアレ像の視認条件を定めた別の一般式を示す図である。第６の構成形態において、第１パターン層（Ｗ１）上の一方側モアレ像（ＭＡ）及び他方側モアレ像（ＭＢ）の移動方向と距離を示す表図である。第６の構成形態において、一方側モアレ像（ＭＡ）及び他方側モアレ像（ＭＢ）の視認数の条件を示す表図である。本発明の別の実施の形態に係る装飾装置を示し、（ａ）は平面図、（ｂ）は正面図である。本発明のまた別の実施の形態に係る装飾装置を示し、（ａ）は平面図、（ｂ）は正面図である。

本発明の実施例１のパターン層に係り、（ａ）は第１パターン集合部（ＰＡ１）を示し、（ｂ）は第２パターン集合部（ＰＡ２）及びこれを形成した第２パターン層（Ｗ２）を示す図である。本発明の実施例１のパターン層に係り、（ａ）は共用パターン集合部（ＰＡ３）を示し、（ｂ）は第１パターン集合部（ＰＡ１）と共用パターン集合部（ＰＡ３）とを合成した集合部及びこれらを形成した第１パターン層（Ｗ１）を示す図である。本発明の実施例１のパターン層に係り、（ａ）は第１パターン集合部（ＰＡ１）と第２パターン集合部（ＰＡ２）とから形成される一方側モアレ像（ＭＡ）を示し、（ｂ）は共用パターン集合部（ＰＡ３）と第２パターン集合部（ＰＡ２）とから形成される他方側モアレ像（ＭＢ）を示し、（ｃ）は第１パターン層（Ｗ１）と第２パターン層（Ｗ２）とを重ねて視認される一方側モアレ像（ＭＡ）及び他方側モアレ像（ＭＢ）の合成モアレ像の一形態を示す図である。本発明の実施例１のパターン層に係り、第１パターン層（Ｗ１）と第２パターン層（Ｗ２）とを順送りに相対移動した際に視認される合成モアレ像を示す図（ａ）（ｂ）（ｃ）である。本発明の実施例１のパターン層に係り、第１パターン層（Ｗ１）と第２パターン層（Ｗ２）とを更に順送りに相対移動した際に視認される合成モアレ像を示す図（ｄ）（ｅ）である。本発明の実施例１に係る第１パターン層（Ｗ１）及び第２パターン層（Ｗ２）で形成される一方側モアレ像（ＭＡ）及び他方側モアレ像（ＭＢ）の互いに相対移動して視認される状態を示す別の図である。本発明の実施例２に係る図５３（実施例１）相当図である。本発明の実施例２に係る図５４（実施例１）相当図である。本発明の実施例２に係る図５５（実施例１）相当図である。本発明の実施例２に係る図５６（実施例１）相当図である。本発明の実施例２に係る図５７（実施例１）相当図である。本発明の実施例２に係る図５８（実施例１）相当図である。本発明の実施例３のパターン層に係り、（ａ）は第１パターン集合部（ＰＡ１）及びこれを形成した第１パターン層（Ｗ１）を示し、（ｂ）は第２パターン集合部（ＰＡ２）を示す図である。本発明の実施例３のパターン層に係り、（ａ）は共用パターン集合部（ＰＡ３）を示し、（ｂ）は第２パターン集合部（ＰＡ２）と共用パターン集合部（ＰＡ３）とを合成した集合部及びこれらを形成した第２パターン層（Ｗ２）を示す図である。本発明の実施例３のパターン層に係り、（ａ）は第１パターン集合部（ＰＡ１）と第２パターン集合部（ＰＡ２）とから形成される一方側モアレ像（ＭＡ）を示し、（ｂ）は第１パターン集合部（ＰＡ１）と共用パターン集合部（ＰＡ３）とから形成される他方側モアレ像（ＭＢ）を示し、（ｃ）は第１パターン層（Ｗ１）と第２パターン層（Ｗ２）とを重ねて視認される一方側モアレ像（ＭＡ）及び他方側モアレ像（ＭＢ）の合成モアレ像の一形態を示す図である。本発明の実施例３のパターン層に係り、第１パターン層（Ｗ１）と第２パターン層（Ｗ２）とを順送りに相対移動した際に視認される合成モアレ像を示す図（ａ）（ｂ）（ｃ）である。本発明の実施例３のパターン層に係り、第１パターン層（Ｗ１）と第２パターン層（Ｗ２）とを更に順送りに相対移動した際に視認される合成モアレ像を示す図（ｄ）（ｅ）である。本発明の実施例３に係る第１パターン層（Ｗ１）及び第２パターン層（Ｗ２）で形成される一方側モアレ像（ＭＡ）及び他方側モアレ像（ＭＢ）の互いに相対移動して視認される状態を示す別の図である。本発明の実施例４に係る図６５（実施例３）相当図である。本発明の実施例４に係る図６６（実施例３）相当図である。本発明の実施例４に係る図６７（実施例３）相当図である。本発明の実施例４に係る図６８（実施例３）相当図である。本発明の実施例４に係る図６９（実施例３）相当図である。本発明の実施例４に係る図７０（実施例３）相当図である。本発明の実施例５のパターン層に係り、（ａ）は第１パターン集合部（ＰＡ１ａ），（ＰＡ１ｂ）を示し、（ｂ）は第２パターン集合部（ＰＡ２）及びこれを形成した第２パターン層（Ｗ２）を示す図である。本発明の実施例５のパターン層に係り、（ａ）は共用パターン集合部（ＰＡ３ａ），（ＰＡ３ｂ）を示し、（ｂ）は第１パターン集合部（ＰＡ１ａ），（ＰＡ１ｂ）と共用パターン集合部（ＰＡ３ａ），（ＰＡ３ｂ）とを合成した集合部及びこれらを形成した第１パターン層（Ｗ１）を示す図である。本発明の実施例５のパターン層に係り、（ａ）は第１パターン集合部（ＰＡ１ａ），（ＰＡ１ｂ）と第２パターン集合部（ＰＡ２）とから形成される一方側モアレ像（ＭＡ１），（ＭＡ２）を示し、（ｂ）は共用パターン集合部（ＰＡ３ａ），（ＰＡ３ｂ）と第２パターン集合部（ＰＡ２）とから形成される他方側モアレ像（ＭＢ１），（ＭＢ２）を示し、（ｃ）は第１パターン層（Ｗ１）と第２パターン層（Ｗ２）とを重ねて視認される一方側モアレ像（ＭＡ１），（ＭＡ２）及び他方側モアレ像（ＭＢ１），（ＭＢ２）の合成モアレ像の一形態を示す図である。本発明の実施例５のパターン層に係り、第１パターン層（Ｗ１）と第２パターン層（Ｗ２）とを順送りに相対移動した際に視認される合成モアレ像を示す図（ａ）（ｂ）（ｃ）である。本発明の実施例５のパターン層に係り、第１パターン層（Ｗ１）と第２パターン層（Ｗ２）とを更に順送りに相対移動した際に視認される合成モアレ像を示す図（ｄ）（ｅ）である。本発明の実施例５の変形例のパターン層に係り、（ａ）は第１パターン集合部（ＰＡ１ａ），（ＰＡ１ｂ）と共用パターン集合部（ＰＡ３ａ），（ＰＡ３ｂ）とを合成した集合部及びこれらを形成した第１パターン層（Ｗ１）を示す図、（ｂ）は第２パターン集合部（ＰＡ２）及びこれを形成した第２パターン層（Ｗ２）を示す図、（ｃ）は第１パターン層（Ｗ１）と第２パターン層（Ｗ２）とを重ねて視認される一方側モアレ像（ＭＡ１），（ＭＡ２）及び他方側モアレ像（ＭＢ１），（ＭＢ２）の合成モアレ像の一形態を示す図である。本発明の実施例５の変形例のパターン層に係り、第１パターン層（Ｗ１）と第２パターン層（Ｗ２）とを図８２（ｃ）の状態から順送りに相対移動した際に視認される合成モアレ像を示す図（ａ）（ｂ）である。本発明の実施例５の変形例のパターン層に係り、第１パターン層（Ｗ１）と第２パターン層（Ｗ２）とを更に順送りに相対移動した際に視認される合成モアレ像を示す図（ｃ）（ｄ）である。本発明の実施例６に係る図７７（実施例５）相当図である。本発明の実施例６に係る図７８（実施例５）相当図である。本発明の実施例６に係る図７９（実施例５）相当図である。本発明の実施例６に係る図８０（実施例５）相当図である。本発明の実施例６に係る図８１（実施例５）相当図である。本発明の実施例６の変形例に係る図８２（実施例５の変形例）相当図である。本発明の実施例６の変形例に係る図８３（実施例５の変形例）相当図である。本発明の実施例６の変形例に係る図８４（実施例５の変形例）相当図である。本発明の実施例７のパターン層に係り、移動に係るパターン層の形成状態を示す図である。本発明の実施例７のパターン層に係り、（ａ）は第１パターン集合部（ＰＡ１ａ），（ＰＡ１ｂ）と共用パターン集合部（ＰＡ３ａ），（ＰＡ３ｂ）とを合成した集合部及びこれらを形成した第１パターン層（Ｗ１）を示し、（ｂ）は第２パターン集合部（ＰＡ２）及びこれを形成した第２パターン層（Ｗ２）を示し、（ｃ）は第１パターン層（Ｗ１）と第２パターン層（Ｗ２）とを重ねて視認される一方側モアレ像（ＭＡ１），（ＭＡ２）及び他方側モアレ像（ＭＢ１），（ＭＢ２）の合成モアレ像の一形態を示す図である。本発明の実施例７のパターン層に係り、第１パターン層（Ｗ１）と第２パターン層（Ｗ２）とを図９４（ｃ）の状態から順送りに相対移動した際に視認される合成モアレ像を示す図（ａ）（ｂ）である。本発明の実施例７のパターン層に係り、第１パターン層（Ｗ１）と第２パターン層（Ｗ２）とを更に順送りに相対移動した際に視認される合成モアレ像を示す図（ｃ）（ｄ）である。本発明の実施例７に係る第１パターン層（Ｗ１）及び第２パターン層（Ｗ２）で形成される一方側モアレ像（ＭＡ１），（ＭＡ２）及び他方側モアレ像（ＭＢ１），（ＭＢ２）の互いに相対移動して視認される状態を示す別の図である。本発明の実施例８に係る図７７（実施例５）相当図である。本発明の実施例８に係る図７８（実施例５）相当図である。本発明の実施例８に係る図７９（実施例５）相当図である。本発明の実施例８に係る図８０（実施例５）相当図である。本発明の実施例８に係る図８１（実施例５）相当図である。本発明の実施例８に係る第１パターン層（Ｗ１）及び第２パターン層（Ｗ２）で形成される一方側モアレ像（ＭＡ１），（ＭＡ２）及び他方側モアレ像（ＭＢ１），（ＭＢ２）の互いに相対移動して視認される状態を示す別の図である。本発明の実施例９に係る図７７（実施例５）相当図である。本発明の実施例９に係る図７８（実施例５）相当図である。本発明の実施例９に係る図７９（実施例５）相当図である。本発明の実施例９に係る図８０（実施例５）相当図である。本発明の実施例９に係る図８１（実施例５）相当図である。本発明の実施例１０のパターン層に係り、（ａ）は第１パターン集合部（ＰＡ１）及びこれを形成した第１パターン層（Ｗ１）を示し、（ｂ）は第２パターン集合部（ＰＡ２ａ），（ＰＡ２ｂ）を示す図である。本発明の実施例１０のパターン層に係り、（ａ）は共用パターン集合部（ＰＡ３ａ），（ＰＡ３ｂ）を示し、（ｂ）は第２パターン集合部（ＰＡ２ａ），（ＰＡ２ｂ）と共用パターン集合部（ＰＡ３ａ），（ＰＡ３ｂ）とを合成した集合部及びこれらを形成した第２パターン層（Ｗ２）を示す図である。本発明の実施例１０のパターン層に係り、（ａ）は第１パターン集合部（ＰＡ１）と第２パターン集合部（ＰＡ２ａ），（ＰＡ２ｂ）とから形成される一方側モアレ像（ＭＡ１），（ＭＡ２）を示し、（ｂ）は第１パターン集合部（ＰＡ１）と共用パターン集合部（ＰＡ３ａ），（ＰＡ３ｂ）とから形成される他方側モアレ像他方側モアレ像（ＭＢ１），（ＭＢ２）を示し、（ｃ）は第１パターン層（Ｗ１）と第２パターン層（Ｗ２）とを重ねて視認される一方側モアレ像（ＭＡ１），（ＭＡ２）及び他方側モアレ像（ＭＢ１），（ＭＢ２）の合成モアレ像の一形態を示す図である。本発明の実施例１０のパターン層に係り、第１パターン層（Ｗ１）と第２パターン層（Ｗ２）とを順送りに相対移動した際に視認される合成モアレ像を示す図（ａ）（ｂ）（ｃ）である。本発明の実施例１０のパターン層に係り、第１パターン層（Ｗ１）と第２パターン層（Ｗ２）とを更に順送りに相対移動した際に視認される合成モアレ像を示す図（ｄ）（ｅ）である。本発明の実施例１１に係る図５３（実施例１）相当図である。本発明の実施例１１に係る図５４（実施例１）相当図である。本発明の実施例１１に係る図５５（実施例１）相当図である。本発明の実施例１１に係る図５６（実施例１）相当図である。本発明の実施例１１に係る図５７（実施例１）相当図である。本発明の実施例１２に係る図５３（実施例１）相当図である。本発明の実施例１２に係る図５４（実施例１）相当図である。本発明の実施例１２に係る図５５（実施例１）相当図である。本発明の実施例１２に係る図５６（実施例１）相当図である。本発明の実施例１２に係る図５７（実施例１）相当図である。本発明の実施例１３に係る図５３（実施例１）相当図である。本発明の実施例１３に係る図５４（実施例１）相当図である。本発明の実施例１３に係る図５５（実施例１）相当図である。本発明の実施例１３に係る図５６（実施例１）相当図である。本発明の実施例１３に係る図５７（実施例１）相当図である。本発明の実施例１４に係る図６５（実施例３）相当図である。本発明の実施例１４に係る図６６（実施例３）相当図である。本発明の実施例１４に係る図６７（実施例３）相当図である。本発明の実施例１４に係る図６８（実施例３）相当図である。本発明の実施例１４に係る図６９（実施例３）相当図である。本発明の実施例１５に係る図５３（実施例１）相当図である。本発明の実施例１５に係る図５４（実施例１）相当図である。本発明の実施例１５に係る図５５（実施例１）相当図である。本発明の実施例１５に係る図５６（実施例１）相当図である。本発明の実施例１５に係る図５７（実施例１）相当図である。本発明の実施例１乃至実施例６において、諸要素についての対応する一般式からの計算結果を示す表図である。本発明の実施例７において、各部の諸要素についての対応する一般式からの計算結果を示す表図である。本発明の実施例８乃至実施例１３において、諸要素についての対応する一般式からの計算結果を示す表図である。本発明の実施例１４及び実施例１５において、諸要素についての対応する一般式からの計算結果を示す表図である。本発明の実施の形態に係る装飾装置の変形例を示す図である。本発明の実施の形態に係る装飾装置の別の変形例を示す図である。本発明の実施の形態に係る装飾装置において、複数の遮光部をＹ軸方向に列設して構成する単位遮光部パターンの別の形成例を示す図である。

以下、添付図面に基づいて本発明の実施の形態に係る装飾装置について詳細に説明する。図１（ａ）（ｂ）に示すように、実施の形態に係る装飾装置Ｔは、衝立であり、矩形枠状の本体１と、本体１に設けられ本体１を起立させて支持する脚部２とを備えて構成されている。本体１には、遮光部３と透光部４とを所定方向に沿って交互に複数列設した２つのパターン層を、間隔を隔てて積層し、この２つのパターン層を外側から見たときモアレ像を視認させるものである。

図１（ａ）（ｂ）に示すように、２つのパターン層は、見る側から順に、第１パターン層Ｗ１，第２パターン層Ｗ２とし、パターン層の面方向且つ所定方向に沿いに沿い原点Ｏを通るＸ軸と、パターン層の面方向に沿うとともにＸ軸に直交し原点Ｏを通るＹ軸と、パターン層の面方向に直交するとともにパターン層の積層方向であって間隔を規定し原点Ｏを通るＺ軸とを設定し、Ｙ軸に直交する平面で切断された任意の平断面上、Ｚ軸方向の外側の１つの視点Ａから視認されて特定されるモアレ像を、一方側モアレ像ＭＡと他方側モアレ像ＭＢとの２つのモアレ像で構成し、１つの視点ＡをＸ軸方向に沿って移動したとき、一方側モアレ像ＭＡと他方側モアレ像ＭＢとが互いに所定周期で規則的に相対移動するように、第１パターン層Ｗ１及び第２パターン層Ｗ２の遮光部３及び透光部４を形成している。

実施の形態では、装飾装置Ｔにおいて、図１（ｂ）に示すように、第１パターン層Ｗ１及び第２パターン層Ｗ２は、本体１に間隔ｄを隔てて固定されている。各パターン層Ｗ１，Ｗ２は、例えば、樹脂板，金属板，木板，紙等の板材やシート材で形成されている。遮光部３及び透光部４は、例えば、レーザ加工機等で板材やシート材に透光部４の孔を開けて形成され、あるいは、透明なシート材に遮光部３を印刷する等して形成される。尚、図１（ａ）においては、モアレ像は、後述の透光モアレを示しているが、透光部４を図示しにくいので、第１パターン層Ｗ１及び第２パターン層Ｗ２の透光部４は、実線で表し、遮光部３は白抜き部分で表し、モアレ像も黒色で表している。

また、実施の形態では、１つの視点Ａから見たとき、一方側モアレ像ＭＡ及び他方側モアレ像ＭＢが、夫々、Ｘ軸方向に沿って所定の周期で複数視認できるようにしている。この場合、一方側モアレ像ＭＡの周期と他方側モアレ像ＭＢの周期を異ならせるとともに、１つの視点Ａから見たとき、一方側モアレ像ＭＡ及び他方側モアレ像ＭＢの視認できる数を異ならせることができる。図１、図４乃至図８の例では、一方側モアレ像ＭＡ及び他方側モアレ像ＭＢの数は同じにしている。図６５乃至図７０（後掲の実施例３）、図７１乃至図７６（後掲の実施例４）等は、一方側モアレ像ＭＡよりも、他方側モアレ像ＭＢの視認できる数を多くしている例である。

更に、一方側モアレ像ＭＡは透光する透光モアレまたは遮光する遮光モアレで構成され、他方側モアレ像ＭＢは、一方側モアレ像ＭＡに対応し、透光する透光モアレまたは遮光する遮光モアレで構成されている。
透光モアレは、図４乃至図８，図９，図１１，図１３（ａ），後述の実施例１（図５３乃至図５８），実施例４（図７１乃至図７６），実施例５（図７７乃至図８１），実施例５の変形例（図８２乃至図８４），実施例６（図８５乃至図８９），実施例６の変形例（図９０乃至図９２），実施例７（図９３乃至図９７），実施例８（図９８乃至図１０３），実施例９（図１０４乃至図１０８），実施例１１（図１１４乃至図１１８），実施例１３（図１２４乃至図１２８），実施例１４（図１２９乃至図１３３），実施例１５（図１３４乃至図１３８）に示される。
遮光モアレは、図１０，図１２，図１３（ｂ），後述の実施例２（図５９乃至図６４），実施例３（図６５乃至図７０），実施例１０（図１０９乃至図１１３），実施例１２（図１１９乃至図１２３）に示される。

詳しくは、実施の形態では、１つの透光部４で構成され若しくはＹ軸方向に列設された複数の透光部４で構成され中心線Ｑのある所定形体の単位透光部パターン１０Ａの集合からなるとともにこの単位透光部パターン１０ＡがＸ軸方向に沿って所定のピッチで規則的に列設して構成される透光部パターン集合部ＴＰＡと、１つの遮光部３で構成され若しくはＹ軸方向に列設された複数の遮光部３で構成され中心線Ｑのある所定形体の単位遮光部パターン１０Ｂの集合からなるとともにこの遮光部パターン１０ＢがＸ軸方向に沿って所定のピッチで規則的に列設して構成される遮光部パターン集合部ＳＰＡとを用いている。

図２には、単位透光部パターン１０Ａの形成例を示す。図２（ａ）（ｃ）（ｅ）（ｇ）（ｉ）（ｋ）（ｍ）（ｏ）（ｑ）（ｓ）には、単位透光部パターン１０Ａを、１つの透光部４で構成した例を示す。図２（ｂ）（ｄ）（ｆ）（ｈ）（ｊ）（ｌ）（ｎ）（ｐ）（ｒ）（ｔ）には、単位透光部パターン１０Ａを、Ｙ軸方向に列設された複数の透光部４で構成した例を示す。

図３には、単位遮光部パターン１０Ｂの形成例を示す。図３（ａ）（ｃ）（ｅ）（ｇ）（ｉ）（ｋ）（ｍ）（ｏ）（ｑ）（ｓ）には、単位遮光部パターン１０Ｂを、１つの遮光部３で構成した例を示す。図３（ｂ）（ｄ）（ｆ）（ｈ）（ｊ）（ｌ）（ｎ）（ｐ）（ｒ）（ｔ）には、単位遮光部パターン１０Ｂを、Ｙ軸方向に列設された複数の遮光部３で構成した例を示す。

ここで、Ｙ軸方向に列設とは、透光部４または遮光部３が、謂わば上に向かって列設されているということであり、必ずしも、Ｙ軸と平行な軸線に沿っているということではなく、中心線がＹ軸に対して傾斜していたり、湾曲していてもよい。また、単位透光部パターン１０Ａを、Ｙ軸方向に列設された複数の透光部４で構成した場合、あるいは、単位遮光部パターン１０Ｂを、Ｙ軸方向に列設された複数の遮光部３で構成した場合、Ｙ軸方向において、透光部４の数、遮光部３の数、透光部４の長さ、遮光部３の長さは、適宜に定めてよい。尚、図１４５に示すように、複数の遮光部３をＹ軸方向に列設して構成する場合には、単位遮光部パターン１０Ｂにおいて、薄いシートを切断して形成することができないので、例えば、透明なシート３０に遮光部３を印刷する等して形成する。

そして、透光モアレの場合、遮光モアレの場合で、これらの遮光部３や透光部４の形成の仕方が異なっている。
＜透光モアレの場合＞
実施の形態では、１つの透光部４で構成され若しくはＹ軸方向に列設された複数の透光部４で構成され中心線Ｑのある所定形体の単位透光部パターン１０Ａの集合からなるとともに、この単位透光部パターン１０ＡがＸ軸方向に沿って所定のピッチで規則的に列設して構成され、夫々、単位透光部パターン１０Ａの形体及びそのピッチが異なる透光部パターン集合部ＴＰＡからなる第１パターン集合部ＰＡ１，第２パターン集合部ＰＡ２，共用パターン集合部ＰＡ３を用いている。

また、実施の形態においては、第１パターン集合部ＰＡ１を第１パターン層Ｗ１に形成し、第２パターン集合部ＰＡ２を第２パターン層Ｗ２に形成し、共用パターン集合部ＰＡ３を第１パターン層Ｗ１及び第２パターン層Ｗ２の何れか一方に形成している。図４乃至図８、図９には、第１パターン集合部ＰＡ１が形成された第１パターン層Ｗ１に、共用パターン集合部ＰＡ３を形成した場合を示す。図１１には、第２パターン集合部ＰＡ２が形成された第２パターン層Ｗ２に、共用パターン集合部ＰＡ３を形成した場合を示す。即ち、図９及び図１３（ａ）には、共用パターン集合部ＰＡ３を第１パターン層Ｗ１に形成する場合の透光モアレの原理図、図１１には、共用パターン集合部ＰＡ３を第２パターン層Ｗ２に形成する場合の透光モアレの原理図を示す。

そして、一方側モアレ像ＭＡを、第１パターン集合部ＰＡ１と第２パターン集合部ＰＡ２とで形成し、他方側モアレ像ＭＢを、共用パターン集合部ＰＡ３を第１パターン層Ｗ１に形成したときは、共用パターン集合部ＰＡ３と第２パターン集合部ＰＡ２とで形成する一方、共用パターン集合部ＰＡ３を第２パターン層Ｗ２に形成したときは、第１パターン集合部ＰＡ１と共用パターン集合部ＰＡ３とで形成する。

＜遮光モアレの場合＞
夫々、単位遮光部パターン１０Ｂの形体及びそのピッチが異なる遮光部パターン集合部ＳＰＡからなる第１パターン集合部ＰＡ１及び共用パターン集合部ＰＡ３，この第１パターン集合部ＰＡ１及び共用パターン集合部ＰＡ３の単位遮光部パターン１０Ｂとは単位透光部パターン１０Ａの形体及びそのピッチが異なる透光部パターン集合部ＴＰＡからなる第２パターン集合部ＰＡ２を用い、第１パターン集合部ＰＡ１及び共用パターン集合部ＰＡ３を第１パターン層Ｗ１に形成し、第２パターン集合部ＰＡ２を第２パターン層Ｗ２に形成している。

図１０及び図１３（ｂ）には、共用パターン集合部ＰＡ３を第１パターン層Ｗ１に形成する場合の遮光モアレの原理図を示す。視覚的には、この遮光モアレは、後述の実施例２（図５９乃至図６４），実施例１２（図１１９乃至図１２３）に示される。

若しくは、透光部パターン集合部ＴＰＡからなる第１パターン集合部ＰＡ１，この第１パターン集合部ＰＡ１の単位透光部パターン１０Ａとは、夫々、単位遮光部パターン１０Ｂの形体及びそのピッチが異なる遮光部パターン集合部ＳＰＡからなる第２パターン集合部ＰＡ２及び共用パターン集合部ＰＡ３を用い、第１パターン集合部ＰＡ１を第１パターン層Ｗ１に形成し、第２パターン集合部ＰＡ２及び共用パターン集合部ＰＡ３を第２パターン層Ｗ２に形成している。

図１２には、共用パターン集合部ＰＡ３を第２パターン層Ｗ２に形成する場合の遮光モアレの原理図を示す。視覚的には、この遮光モアレは、後述の実施例３（図６５乃至図７０），実施例１０（図１０９乃至図１１３）に示される。

これにより、透光モアレの場合、遮光モアレの場合、いずれの場合にも、一方側モアレ像ＭＡを第１パターン集合部ＰＡ１と第２パターン集合部ＰＡ２とで形成し、他方側モアレ像ＭＢを、共用パターン集合部ＰＡ３を第１パターン層Ｗ１に形成したときは、共用パターン集合部ＰＡ３と第２パターン集合部ＰＡ２とで形成し、共用パターン集合部ＰＡ３を第２パターン層Ｗ２に形成したときは、第１パターン集合部ＰＡ１と共用パターン集合部ＰＡ３とで形成する。

更に、実施の形態では、第１パターン集合部ＰＡ１の各単位透光部パターン１０Ａ若しくは各単位遮光部パターン１０Ｂを、互いに、平行な軸線及び輪郭線を有した形状に形成し、第２パターン集合部ＰＡ２の各単位透光部パターン１０Ａ若しくは各単位遮光部パターン１０Ｂを、互いに、平行な軸線及び輪郭線を有した形状に形成し、共用パターン集合部ＰＡ３の各単位透光部パターン１０Ａ若しくは各単位遮光部パターン１０Ｂを、互いに、平行な軸線及び輪郭線を有した形状に形成し、共用パターン集合部ＰＡ３を第１パターン層Ｗ１に形成するときは、これらに形成される各単位透光部パターン１０Ａ若しくは各単位遮光部パターン１０Ｂを、平行な軸線及び輪郭線を有した形状に形成し、共用パターン集合部ＰＡ３を第２パターン層Ｗ２に形成するときは、これらに形成される各単位透光部パターン１０Ａ若しくは各単位遮光部パターン１０Ｂを、平行な軸線及び輪郭線を有した形状に形成している。

更にまた、図１４に示すように、実施の形態では、一方側モアレ像ＭＡが第２パターン層Ｗ２の奥に見え、他方側モアレ像ＭＢが第１パターン層Ｗ１の前に見える設定、一方側モアレ像ＭＡが第２パターン層Ｗ２の奥に見え、他方側モアレ像ＭＢが第２パターン層Ｗ２に奥に見える設定、一方側モアレ像ＭＡが第１パターン層Ｗ１の前に見え、他方側モアレ像ＭＢが第１パターン層Ｗ１の前に見える設定の何れかの設定になるように、第１パターン集合部ＰＡ１の単位透光部パターン１０Ａまたは単位遮光部パターン１０Ｂ、第２パターン集合部ＰＡ２の単位透光部パターン１０Ａまたは単位遮光部パターン１０Ｂ、及び、共用パターン集合部ＰＡ３の単位透光部パターン１０Ａまたは単位遮光部パターン１０Ｂを形成している。

図１４に示すように、図１４（ａ）（ｃ）が、一方側モアレ像ＭＡが第２パターン層Ｗ２の奥に見え、他方側モアレ像ＭＢが第１パターン層Ｗ１の前に見える場合を示し、図１４（ｂ）（ｄ）が、一方側モアレ像ＭＡが第２パターン層Ｗ２の奥に見え、他方側モアレ像ＭＢが第２パターン層Ｗ２の奥に見える場合を示し、図１４（ｅ）（ｆ）が、一方側モアレ像ＭＡが第１パターン層Ｗ１の前に見え、他方側モアレ像ＭＢが第１パターン層Ｗ１の前に見える場合を示す。

詳しくは、図１５の表に示すように、本発明の実施の形態に係る装飾装置Ｔにおいて、第１パターン層Ｗ１及び第２パターン層Ｗ２には、第１の構成形態乃至第６の構成形態（（ａ）～（ｆ））がある。即ち、第１パターン層Ｗ１及び第２パターン層Ｗ２を、第１パターン集合部ＰＡ１の単位透光部パターン１０Ａまたは単位遮光部パターン１０ＢのピッチをＰ１、第２パターン集合部ＰＡ２の単位透光部パターン１０Ａまたは単位遮光部パターン１０ＢのピッチをＰ２、共用パターン集合部ＰＡ３の単位透光部パターン１０Ａまたは単位遮光部パターン１０ＢのピッチをＰ３とし、
共用パターン集合部ＰＡ３を第１パターン層Ｗ１に形成したとき、第１パターン集合部ＰＡ１、第２パターン集合部ＰＡ２及び共用パターン集合部ＰＡ３の各単位透光部パターン１０Ａまたは各単位遮光部パターン１０Ｂを、
（ａ）Ｐ１＞Ｐ２＞Ｐ３にし、一方側モアレ像ＭＡが奥に見え、他方側モアレ像ＭＢが前に見える設定、
（ｂ）Ｐ３＞Ｐ１＞Ｐ２にし、一方側モアレ像ＭＡが奥に見え、他方側モアレ像ＭＢも奥に見える設定、
（ｅ）Ｐ３＜Ｐ１＜Ｐ２にし、一方側モアレ像ＭＡが前に見え、他方側モアレ像ＭＢも前に見える設定、
の何れかの設定で作成している。

一方、共用パターン集合部ＰＡ３を第２パターン層Ｗ２に形成したときは、第１パターン集合部ＰＡ１、第２パターン集合部ＰＡ２及び共用パターン集合部ＰＡ３の各単位透光部パターン１０Ａまたは各単位遮光部パターン１０Ｂを、
（ｃ）Ｐ３＞Ｐ１＞Ｐ２にし、一方側モアレ像ＭＡが奥に見え、他方側モアレ像ＭＢが前に見える設定、
（ｄ）Ｐ１＞Ｐ２＞Ｐ３にし、一方側モアレ像ＭＡが奥に見え、他方側モアレ像ＭＢも奥に見える設定、
（ｆ）Ｐ１＜Ｐ２＜Ｐ３にし、一方側モアレ像ＭＡが前に見え、他方側モアレ像ＭＢも前に見える設定、
の何れかの設定で作成する構成としている。

即ち、（ａ）の設定が第１の構成形態、（ｂ）の設定が第２の構成形態、（ｃ）の設定が第３の構成形態、（ｄ）の設定が第４の構成形態、（ｅ）の設定が第５の構成形態、（ｆ）の設定が第６の構成形態になっている。
以下、各構成形態について詳細に説明する。図１６及び図１７には、第１の構成形態乃至第６の構成形態（（ａ）～（ｆ））の形成条件において用いる記号の定義を示す。

＜第１の構成形態・・・（ａ）の設定＞
これは、図１８に示すように、共用パターン集合部ＰＡ３を、第１パターン層Ｗ１に形成したもので、一方側モアレ像ＭＡが奥に見え、他方側モアレ像ＭＢが前に見えるように、図１９に示す一般式（１ａ）～（６ａ）を満たして形成される。

ｎ、ｍ、Ｋ、Ｒは１以上の整数、ｍ＞Ｋｎ、Ｐ１＞Ｐ２＞Ｐ３、Ｐｍｉｎは最小格子間隔（透光モアレの場合は隣接する単位透光部パターン間の最小寸法、遮光モアレの場合は隣接する単位遮光部パターン間の最小寸法、図９，図１０参照）である。他の符号の定義は図１６及び図１７を参照。第１パターン層Ｗ１において、最小格子間隔Ｐｍｉｎ、透光モアレの第１パターン集合部の透光部の幅Ｓ１、共用パターン集合部ＰＡ３の透光部の幅Ｓ１、遮光モアレの第１パターン集合部の遮光部の幅Ｂ１、共用パターン集合部の遮光部の幅Ｂ１は、透光モアレの場合、隣接する透光部の幅Ｓ１間に遮光部が存在できる数値を選択し、遮光モアレの場合、隣接する遮光部の幅Ｂ１間に、透光部が存在できる数値を選択する。まず、Ｘ軸幅の加工下限値（加工機器の性能、加工材料の材質などによる限界値）を設定する。透光部の場合これより狭く加工できない数値をＳＬＬとし、遮光部の場合これより細く加工できない数値をＢＬＬとする。透光モアレの場合、Ｓ１，Ｓ２，Ｐｍｉｎ－Ｓ１の数値（図９（ａ）参照）は、式（１ａ）～（５ａ），（７ａ）～（１０ａ）により算出し、ω１に比例しｎに反比例する数値である。Ｓ１≧ＳＬＬ，Ｓ２≧ＳＬＬ，Ｐｍｉｎ－Ｓ１≧ＢＬＬの条件を満たすω１，ｎ，Ｓ１の数値を選択する。遮光モアレの場合、Ｂ１，Ｓ２，Ｐｍｉｎ－Ｂ１の数値（図１０（ａ）参照）は、式（１ａ）～（５ａ），（１１ａ）～（１４ａ）により算出し、ω１に比例しｎに反比例する数値である。Ｂ１≧ＢＬＬ，Ｓ２≧ＳＬＬ，Ｐｍｉｎ－Ｂ１≧ＳＬＬの条件を満たすω１，ｎ，Ｂ１の数値を選択する。

この場合、一方側モアレ像ＭＡ及び他方側モアレ像ＭＢを、透光する透光モアレで構成する場合、第１パターン集合部ＰＡ１、共用パターン集合部ＰＡ３の透光部の幅Ｓ１と、第２パターン集合部ＰＡ２の透光部の幅Ｓ２により、出来る第１パターン層Ｗ１上のモアレ像の幅Ｍｗ１’、Ｍｗ２’を、図１９に示す式（７ａ）～（１０ａ）で算出する。一般式は、１つのパターン層に、２つのパターン集合部を合成した場合の式である（以下同じ）。

また、この場合、一方側モアレ像ＭＡ及び他方側モアレ像ＭＢを、遮光する遮光モアレで構成する場合、第１パターン集合部ＰＡ１、共用パターン集合部ＰＡ３の遮光部の幅Ｂ１と、第２パターン集合部ＰＡ２の透光部の幅Ｓ２により、出来る第１パターン層Ｗ１上のモアレ像の幅Ｍｖ１’、Ｍｖ２’を、図１９に示す式（１１ａ）～（１４ａ）で算出する。

更に、第１パターン層Ｗ１表面上の一方側モアレ像ＭＡ´の周期λ１´、第１パターン層Ｗ１表面上の他方側モアレ像ＭＢ´の周期λ２´は、図２０に示す式（１５ａ）（１６ａ）で算出する。第１パターン層Ｗ１表面上の一方側モアレ像ＭＡ´のＸ軸座標の変位座標Ｍ１´、第１パターン層Ｗ１表面上の他方側モアレ像ＭＢ´のＸ軸座標の変位座標Ｍ２´は、図２０に示す式（１７ａ）（１８ａ）で算出する。

この算出においては、図２３に示すように、ｎ、ｍ、Ｋ、Ｒの設定により、一方側モアレ像ＭＡの周期と他方側モアレ像ＭＢの周期を異ならせるとともに、１つの視点Ａから見たとき、一方側モアレ像ＭＡ及び他方側モアレ像ＭＢの視認できる数を同じにし、あるいは異ならせることができる。

これにより、第１パターン層Ｗ１より一定の距離を隔てて、平行に視点を移動すると、ＭＡ’とＭＢ’が互いに反対方向に移動しているように見える。特に、距離Ｆを保ったまま視点をＷ平行に移動すると図２１に示す関係が成り立つ。一方側モアレ像ＭＡと他方側モアレ像ＭＢの第１パターン層Ｗ１上の移動方向を正負で表し、左を負とした。また、第１パターン層Ｗ１から視点の距離をｆとすると図２２に示す関係になる。

＜第２の構成形態・・・（ｂ）の設定＞
これは、図２４に示すように、共用パターン集合部ＰＡ３を、第１パターン層Ｗ１に形成したもので、一方側モアレ像ＭＡが奥に見え、他方側モアレ像ＭＢも奥に見えるように、図２５に示す一般式（２ｂ）～（６ｂ）を満たして形成される。

ｎ、ｍ、Ｋは１以上の整数、Ｒは２以上の整数、ｍ＜Ｋｎ、Ｐ３＞Ｐ１＞Ｐ２、Ｐｍｉｎは最小格子間隔（透光モアレの場合は隣接する単位透光部パターン間の最小寸法、遮光モアレの場合は隣接する単位遮光部パターン間の最小寸法、図９，図１０参照）である。他の符号の定義は図１６及び図１７を参照。第１パターン層Ｗ１において、最小格子間隔Ｐｍｉｎ、透光モアレの第１パターン集合部の透光部の幅Ｓ１、共用ターン集合部の透光部の幅Ｓ１、遮光モアレの第１パターン集合部の遮光部の幅Ｂ１、共用パターン集合部の遮光部の幅Ｂ１は、透光モアレの場合、隣接する透光部の幅Ｓ１間に遮光部が存在できる数値を選択し、遮光モアレの場合、隣接する遮光部の幅Ｂ１間に透光部が存在できる数値を選択する。まず、Ｘ軸幅の加工下限値（加工機器の性能、加工材料の材質などによる限界値）を設定する。透光部の場合、これより狭く加工できない数値をＳＬＬとし、遮光部の場合、これより細く加工できない数値をＢＬＬとする。透光モアレの場合、Ｓ１，Ｓ２，Ｐｍｉｎ－Ｓ１の数値（図９（ｂ）参照）は、式（１ｂ）～（５ｂ），（７ｂ）～（１０ｂ）により算出し、ω１に比例しｎに反比例する数値である。Ｓ１≧ＳＬＬ，Ｓ２≧ＳＬＬ，Ｐｍｉｎ－Ｓ１≧ＢＬＬの条件を満たすω１，ｎ，Ｓ１の数値を選択する。遮光モアレの場合、Ｂ１，Ｓ２，Ｐｍｉｎ－Ｂ１の数値（図１０（ｂ）参照）は、式（１ｂ）～（５ｂ），（１１ｂ）～（１４ｂ）により算出し、ω１に比例しｎに反比例する数値である。Ｂ１≧ＢＬＬ，Ｓ２≧ＳＬＬ，Ｐｍｉｎ－Ｂ１≧ＳＬＬの条件を満たすω１，ｎ，Ｂ１の数値を選択する。

この場合、一方側モアレ像ＭＡ及び他方側モアレ像ＭＢを、透光する透光モアレで構成する場合、第１パターン集合部ＰＡ１、共用パターン集合部ＰＡ３の透光部の幅Ｓ１と、第２パターン集合部ＰＡ２の透光部の幅Ｓ２により、出来る第１パターン層Ｗ１上のモアレ像の幅Ｍｗ１’、Ｍｗ２’を、図２５に示す式（７ｂ）～（１０ｂ）で算出する。

また、この場合、一方側モアレ像ＭＡ及び他方側モアレ像ＭＢを、遮光する遮光モアレで構成する場合、第１パターン集合部ＰＡ１、共用パターン集合部ＰＡ３の遮光部の幅Ｂ１と、第２パターン集合部ＰＡ２の透光部の幅Ｓ２により、出来る第１パターン層Ｗ１上のモアレ像の幅Ｍｖ１’、Ｍｖ２’を、図２５に示す式（１１ｂ）～（１４ｂ）で算出する。

更に、第１パターン層Ｗ１表面上の一方側モアレ像ＭＡ´の周期λ１´、第１パターン層Ｗ１表面上の他方側モアレ像ＭＢ´の周期λ２´は、図２６に示す式（１５ｂ）（１６ｂ）で算出する。第１パターン層Ｗ１表面上の一方側モアレ像ＭＡ´のＸ軸座標の変位座標Ｍ１´、第１パターン層Ｗ１表面上の他方側モアレ像ＭＢ´のＸ軸座標の変位座標Ｍ２´は、図２６に示す式（１７ｂ）（１８ｂ）で算出する。

この算出においては、図２９に示すように、ｎ、ｍ、Ｋ、Ｒの設定により、一方側モアレ像ＭＡの周期と他方側モアレ像ＭＢの周期を異ならせるとともに、１つの視点Ａから見たとき、一方側モアレ像ＭＡ及び他方側モアレ像ＭＢの視認できる数を同じにし、あるいは異ならせることができる。

これにより、第１パターン層Ｗ１より一定の距離を隔てて、平行に視点を移動すると、一方側モアレ像ＭＡと他方側モアレ像ＭＢが同じ向きに移動して見えるが、速さが異なって見える。特に、距離Ｆを保ったまま視点をＷだけ平行に移動すると図２７に示す関係が成り立つ。一方側モアレ像ＭＡと他方側モアレ像ＭＢの第１パターン集合部ＰＡ１上の移動方向を正負で表し、左を負とした。また、第１パターン層Ｗ１から視点の距離をｆとすると図２８に示す関係になる。

＜第３の構成形態・・・（ｃ）の設定＞
これは、図３０に示すように、共用パターン集合部ＰＡ３を、第２パターン層Ｗ２に形成したもので、一方側モアレ像ＭＡが奥に見え、他方側モアレ像ＭＢが前に見えるように、図３１に示す一般式（１ｃ）～（７ｃ）を満たして形成される。

ｕ、ｑ、Ｋ、Ｒは１以上の整数、ｑ＜Ｋｕ、Ｐ３＞Ｐ１＞Ｐ２、Ｐｍｉｎは最小格子間隔（透光モアレの場合は隣接する単位透光部パターン間の最小寸法、遮光モアレの場合は隣接する単位遮光部パターン間の最小寸法、図１１，図１２参照）である。他の符号の定義は図１６及び図１７を参照。第２パターン層Ｗ２において、最小格子間隔Ｐｍｉｎ、透光モアレの第２パターン集合部の透光部の幅Ｓ２、共用パターン集合部ＰＡ３の透光部の幅Ｓ２、遮光モアレの第２パターン集合部の遮光部の幅Ｂ２、共用パターン集合部の遮光部の幅Ｂ２は、透光モアレの場合、隣接する透光部の幅Ｓ２間に遮光部が存在できる数値を選択し、遮光モアレの場合、隣接する遮光部の幅Ｂ２間に透光部が存在できる数値を選択する。まず、Ｘ軸幅の加工下限値（加工機器の性能、加工材料の材質などによる限界値）を設定する。透光部の場合これより狭く加工できない数値ＳＬＬとし、遮光部の場合これより細く加工できない数値をＢＬＬとする。透光モアレの場合、Ｓ１，Ｓ２，Ｐｍｉｎ－Ｓ２の数値（図１１（ａ）参照）は、式（１ｃ）～（６ｃ），（８ｃ）～（１１ｃ）により算出し、ω２に比例しｕに反比例する数値である。Ｓ１≧ＳＬＬ，Ｓ２≧ＳＬＬ，Ｐｍｉｎ－Ｓ２≧ＢＬＬの条件を満たすω２，ｕ，Ｓ２の数値を選択する。遮光モアレの場合、Ｓ１，Ｂ２，Ｐｍｉｎ－Ｂ２の数値（図１２（ａ）参照）は、式（１ｃ）～（６ｃ），（１２ｃ）～（１５ｃ）により算出し、ω２に比例しｕ，に反比例する数値である。Ｓ１≧ＳＬＬ，Ｂ２≧ＢＬＬ，Ｐｍｉｎ－Ｂ２≧ＳＬＬの条件を満たすω２，ｕ，Ｂ２の数値を選択する。

この場合、一方側モアレ像ＭＡ及び他方側モアレ像ＭＢを、透光する透光モアレで構成する場合、第１パターン集合部ＰＡ１の透光部の幅Ｓ１と、第２パターン集合部ＰＡ２、共用パターン集合部ＰＡ３の透光部の幅Ｓ２により、出来る第１パターン層Ｗ１上のモアレ像の幅Ｍｗ１’、Ｍｗ２’を、図３１に示す式（８ｃ）～（１１ｃ）で算出する。

また、この場合、一方側モアレ像ＭＡ及び他方側モアレ像ＭＢを、遮光する遮光モアレで構成する場合、第１パターン集合部ＰＡ１の透光部の幅Ｓ１と、第２パターン集合部ＰＡ２、共用パターン集合部ＰＡ３の遮光部の幅Ｂ２により、出来る第１パターン層Ｗ１上のモアレ像の幅Ｍｖ１’、Ｍｖ２’を、図３１に示す式（１２ｃ）～（１５ｃ）で算出する。

更に、第１パターン層Ｗ１表面上の一方側モアレ像ＭＡ´の周期λ１´、第１パターン層Ｗ１表面上の他方側モアレ像ＭＢ´の周期λ２´は、図３２に示す式（１６ｃ）（１７ｃ）で算出する。第１パターン層Ｗ１表面上の一方側モアレ像ＭＡ´のＸ軸座標の変位座標Ｍ１´、第１パターン層Ｗ１表面上の他方側モアレ像ＭＢ´のＸ軸座標の変位座標Ｍ２´は、図３２に示す式（１８ｃ）（１９ｃ）で算出する。

この算出においては、図３４に示すように、ｕ、ｑ、Ｋ、Ｒの設定により、一方側モアレ像ＭＡの周期と他方側モアレ像ＭＢの周期を異ならせるとともに、１つの視点Ａから見たとき、一方側モアレ像ＭＡ及び他方側モアレ像ＭＢの視認できる数を同じにし、あるいは異ならせることができる。

これにより、第１パターン層Ｗ１より一定の距離を隔てて、平行に視点を移動すると、ＭＡ’とＭＢ’が互いに反対方向に移動しているように見える。特に、距離Ｆを保ったまま視点をＷ平行に移動すると図３３に示す関係が成り立つ。ＭＡ’とＭＢ’の第１パターン層Ｗ１上の移動方向を正負で表し、左を負とした。

＜第４の構成形態・・・（ｄ）の設定＞
これは、図３５に示すように、共用パターン集合部ＰＡ３を、第２パターン層Ｗ２に形成したもので、一方側モアレ像ＭＡが奥に見え、他方側モアレ像ＭＢも奥に見えるように、図３６に示す一般式（１ｄ）～（７ｄ）を満たして形成される。

ｕ、ｑ、Ｋは１以上の整数、Ｒは２以上の整数、ｑ＞Ｋｕ、Ｐ１＞Ｐ２＞Ｐ３、Ｐｍｉｎは最小格子間隔（透光モアレの場合は隣接する単位透光部パターン間の最小寸法、遮光モアレの場合は隣接する単位遮光部パターン間の最小寸法、図１１，図１２参照）である。他の符号の定義は図１６及び図１７を参照。第２パターン層Ｗ２において、最小格子間隔Ｐｍｉｎ、透光モアレの第２パターン集合部の透光部の幅Ｓ２、共用パターン集合部の透光部の幅Ｓ２、遮光モアレの第２パターン集合部の遮光部の幅Ｂ２、共用パターン集合部の遮光部の幅Ｂ２は、透光モアレの場合、隣接する透光部の幅Ｓ２間に遮光部が存在できる数値を選択し、遮光モアレの場合、隣接する遮光部の幅Ｂ２間に透光部が存在できる数値を選択する。まず、Ｘ軸幅の加工下限値（加工機器の性能、加工材料の材質などによる限界値）を設定する。透光部の場合これより狭く加工できない数値をＳＬＬとし、遮光部の場合これより細く加工できない数値をＢＬＬとする。透光モアレの場合、Ｓ１，Ｓ２，Ｐｍｉｎ－Ｓ２の数値(図１１（ｂ）参照)は、式（１ｄ）～（６ｄ），（８ｄ）～（１１ｄ）により算出し、ω２に比例しｕに反比例する数値である。Ｓ１≧ＳＬＬ，Ｓ２≧ＳＬＬ，Ｐｍｉｎ－Ｓ２≧ＢＬＬの条件を満たすω２，ｕ，Ｓ２の数値を選択する。遮光モアレの場合、Ｓ１，Ｂ２，Ｐｍｉｎ－Ｂ２の数値（図１２（ｂ）参照）は、式（１ｄ）～（６ｄ），（１２ｄ）～（１５ｄ）により算出し、ω２に比例しｕに反比例する数値である。Ｓ１≧ＳＬＬ，Ｂ２≧ＢＬＬ，Ｐｍｉｎ－Ｂ２≧ＳＬＬの条件を満たすω２，ｕ，Ｂ２の数値を選択する。

この場合、一方側モアレ像ＭＡ及び他方側モアレ像ＭＢを、透光する透光モアレで構成する場合、第１パターン集合部ＰＡ１の透光部の幅Ｓ１と、第２パターン集合部ＰＡ２、共用パターン集合部ＰＡ３の透光部の幅Ｓ２により、出来る第１パターン層Ｗ１上のモアレ像の幅Ｍｗ１’、Ｍｗ２’を、図３６に示す式（８ｄ）～（１１ｄ）で算出する。

また、この場合、一方側モアレ像ＭＡ及び他方側モアレ像ＭＢを、遮光する遮光モアレで構成する場合、第１パターン集合部ＰＡ１の透光部の幅Ｓ１と、第２パターン集合部ＰＡ２、共用パターン集合部ＰＡ３の遮光部の幅Ｂ２により、出来る第１パターン層Ｗ１上のモアレ像の幅Ｍｖ１’、Ｍｖ２’を、図３６に示す式（１２ｄ）～（１５ｄ）で算出する。

更に、第１パターン層Ｗ１表面上の一方側モアレ像ＭＡ´の周期λ１´、第１パターン層Ｗ１表面上の他方側モアレ像ＭＢ´の周期λ２´は、図３７に示す式（１６ｄ）（１７ｄ）で算出する。第１パターン層Ｗ１表面上の一方側モアレ像ＭＡ´のＸ軸座標の変位座標Ｍ１´、第１パターン層Ｗ１表面上の他方側モアレ像ＭＢ´のＸ軸座標の変位座標Ｍ２´は、図３７に示す式（１８ｄ）（１９ｄ）で算出する。

この算出においては、図３９に示すように、ｕ、ｑ、Ｋ、Ｒの設定により、一方側モアレ像ＭＡの周期と他方側モアレ像ＭＢの周期を異ならせるとともに、１つの視点Ａから見たとき、一方側モアレ像ＭＡ及び他方側モアレ像ＭＢの視認できる数を同じにし、あるいは異ならせることができる。

これにより、第１パターン層Ｗ１より一定の間隔を隔てて、平行に視点を移動すると、ＭＡ’とＭＢ’が同じ向きに移動して見えるが、速さが異なって見える。特に、距離Ｆを保ったまま視点をＷだけ平行に移動すると図３８に示す関係が成り立つ。ＭＡ’とＭＢ’の第１パターン層Ｗ１上の移動方向を正負で表し、左を負とした。

＜第５の構成形態・・・（ｅ）の設定＞
これは、図４０に示すように、共用パターン集合部ＰＡ３を、第１パターン層Ｗ１に形成したもので、一方側モアレ像ＭＡが前に見え、他方側モアレ像ＭＢも前に見えるように、図４１に示す一般式（１ｅ）～（６ｅ）を満たして形成される。

ｎ、ｍ、Ｋは１以上の整数、Ｒは２以上の整数、ｍ＞Ｋｎ、Ｐ３＜Ｐ１＜Ｐ２、Ｐｍｉｎは最小格子間隔（透光モアレの場合は隣接する単位透光部パターン間の最小寸法、遮光モアレの場合は隣接する単位遮光部パターン間の最小寸法、図９，図１０参照）である。他の符号の定義は図１６及び図１７を参照。第１パターン層Ｗ１において、最小格子間隔Ｐｍｉｎ、透光モアレの第１パターン集合部の透光部の幅Ｓ１、共用ターン集合部の透光部の幅Ｓ１、遮光モアレの第１パターン集合部の遮光部の幅Ｂ１、共用パターン集合部の遮光部の幅Ｂ１は、透光モアレの場合、隣接する透光部の幅Ｓ１間に遮光部が存在できる数値を選択し、遮光モアレの場合、隣接する遮光部の幅Ｂ１間に透光部が存在できる数値を選択する。まず、Ｘ軸幅の加工下限値（加工機器の性能、加工材料の材質などによる限界値）を設定する。透光部の場合これより狭く加工できない数値をＳＬＬとし、遮光部の場合これより細く加工できない数値をＢＬＬとする。透光モアレの場合、Ｓ１，Ｓ２，Ｐｍｉｎ－Ｓ１の数値（図９（ａ）参照）は、式（１ｅ）～（５ｅ），（７ｅ）～（１０ｅ）により算出し、ω１に比例しｎ，に反比例する数値である。Ｓ１≧ＳＬＬ，Ｓ２≧ＳＬＬ，Ｐｍｉｎ－Ｓ１≧ＢＬＬの条件を満たすω１，ｎ，Ｓ１の数値を選択する。遮光モアレの場合、Ｂ１，Ｓ２，Ｐｍｉｎ－Ｂ１の数値（図１０（ａ）参照）は、式（１ｅ）～（５ｅ），（１１ｅ）～（１４ｅ）により算出し、ω１に比例しｎに反比例する数値である。Ｂ１≧ＢＬＬ，Ｓ２≧ＳＬＬ，Ｐｍｉｎ－Ｂ１≧ＳＬＬの条件を満たすω１，ｎ，Ｂ１の数値を選択する。

この場合、一方側モアレ像ＭＡ及び他方側モアレ像ＭＢを、透光する透光モアレで構成する場合、第１パターン集合部ＰＡ１、共用パターン集合部ＰＡ３の透光部の幅Ｓ１と、第２パターン集合部ＰＡ２の透光部の幅Ｓ２により、出来る第１パターン層Ｗ１上のモアレ像の幅Ｍｗ１’、Ｍｗ２’を、図４１に示す式（７ｅ）～（１０ｅ）で算出する。

また、この場合、一方側モアレ像ＭＡ及び他方側モアレ像ＭＢを、遮光する遮光モアレで構成する場合、第１パターン集合部ＰＡ１、共用パターン集合部ＰＡ３の遮光部の幅Ｂ１と、第２パターン集合部ＰＡ２の透光部の幅Ｓ２により、出来る第１パターン層Ｗ１上のモアレ像の幅Ｍｖ１’、Ｍｖ２’を、図４１に示す式（１１ｅ）～（１４ｅ）で算出する。

更に、第１パターン層Ｗ１表面上の一方側モアレ像ＭＡ´の周期λ１´、第１パターン層Ｗ１表面上の他方側モアレ像ＭＢ´の周期λ２´は、図４２に示す式（１５ｅ）（１６ｅ）で算出する。第１パターン層Ｗ１表面上の一方側モアレ像ＭＡ´のＸ軸座標の変位座標Ｍ１´、第１パターン層Ｗ１表面上の他方側モアレ像ＭＢ´のＸ軸座標の変位座標Ｍ２´は、図４２に示す式（１７ｅ）（１８ｅ）で算出する。

この算出においては、図４５に示すように、ｎ、ｍ、Ｋ、Ｒの設定により、一方側モアレ像ＭＡの周期と他方側モアレ像ＭＢの周期を異ならせるとともに、１つの視点Ａから見たとき、一方側モアレ像ＭＡ及び他方側モアレ像ＭＢの視認できる数を同じにし、あるいは異ならせることができる。

これにより、第１パターン層Ｗ１より一定の間隔を隔てて、平行に視点を移動すると、一方側モアレ像ＭＡと他方側モアレ像ＭＢが互いに同じ方向だが一方側モアレ像ＭＡに比べて他方側モアレ像ＭＢがゆっくり移動しているように見える。第１パターン集合部ＰＡ１と間隔Ｆを保ったまま視点をＷだけ平行に移動すると図４３に示す関係が成り立つ。一方側モアレ像ＭＡと他方側モアレ像ＭＢの第１パターン層Ｗ１上の移動方向を正負で表し、左を負とした。また、第１パターン層Ｗ１から視点の距離をｆとすると図４４に示す関係になる。

＜第６の構成形態・・・（ｆ）の設定＞
これは、図４６に示すように、共用パターン集合部ＰＡ３を、第２パターン層Ｗ２に形成したもので、一方側モアレ像ＭＡが前に見え、他方側モアレ像ＭＢも前に見えるように、図４７に示す一般式（１ｆ）～（７ｆ）を満たして形成される。

ｕ、ｑ、Ｋは１以上の整数、Ｒは２以上の整数、ｑ＜Ｋｕ、Ｐ１＜Ｐ２＜Ｐ３、Ｐｍｉｎは最小格子間隔（透光モアレの場合は隣接する単位透光部パターン間の最小寸法、遮光モアレの場合は隣接する単位遮光部パターン間の最小寸法、図１１，図１２参照）である。他の符号の定義は図１６及び図１７を参照。第２パターン層Ｗ２において、最小格子間隔Ｐｍｉｎ、透光モアレの第２パターン集合部の透光部の幅Ｓ２、共用パターン集合部の透光部の幅Ｓ２、遮光モアレの第２パターン集合部の遮光部の幅Ｂ２、共用パターン集合部の遮光部の幅Ｂ２は、透光モアレの場合、隣接する透光部の幅Ｓ２間に遮光部が存在できる数値を選択し、遮光モアレの場合、隣接する遮光部の幅Ｂ２間に透光部が存在できる数値を選択する。まず、Ｘ軸幅の加工下限値（加工機器の性能、加工材料の材質などによる限界値）を設定する。透光部の場合これより狭く加工できない数値をＳＬＬとし、遮光部の場合これより細く加工できない数値をＢＬＬとする。透光モアレの場合、Ｓ１，Ｓ２，Ｐｍｉｎ－Ｓ２の数値（図１１（ａ）参照）は、式（１ｆ）～（６ｆ），（８ｆ）～（１１ｆ）により算出し、ω２に比例しｕ，に反比例する数値である。Ｓ１≧ＳＬＬ，Ｓ２≧ＳＬＬ，Ｐｍｉｎ－Ｓ２≧ＢＬＬの条件を満たすω２，ｕ，Ｓ２の数値を選択する。遮光モアレの場合、Ｓ１，Ｂ２，Ｐｍｉｎ－Ｂ２の数値（図１２（ａ）参照）は、式（１ｆ）～（６ｆ），（１２ｆ）～（１５ｆ）により算出し、ω２に比例しｕに反比例する数値である。Ｓ１≧ＳＬＬ，Ｂ２≧ＢＬＬ，Ｐｍｉｎ－Ｂ２≧ＳＬＬの条件を満たすω２，ｕ，Ｂ２の数値を選択する。

この場合、一方側モアレ像ＭＡ及び他方側モアレ像ＭＢを、透光する透光モアレで構成する場合、第１パターン集合部ＰＡ１の透光部の幅Ｓ１と、第２パターン集合部ＰＡ２、共用パターン集合部ＰＡ３の透光部の幅Ｓ２により、出来る第１パターン層Ｗ１上のモアレ像の幅Ｍｗ１’、Ｍｗ２’を、図４７に示す式（８ｆ）～（１１ｆ）で算出する。

また、この場合、一方側モアレ像ＭＡ及び他方側モアレ像ＭＢを、遮光する遮光モアレで構成する場合、第１パターン集合部ＰＡ１の透光部の幅Ｓ１と、第２パターン集合部ＰＡ２、共用パターン集合部ＰＡ３の遮光部の幅Ｂ２により、出来る第１パターン層Ｗ１上のモアレ像の幅Ｍｖ１’、Ｍｖ２’を、図４７に示す式（１２ｆ）～（１５ｆ）で算出する。

更に、第１パターン層Ｗ１表面上の一方側モアレ像ＭＡ´の周期λ１´、第１パターン層Ｗ１表面上の他方側モアレ像ＭＢ´の周期λ２´は、図４８に示す式（１６ｆ）（１７ｆ）で算出する。第１パターン層Ｗ１表面上の一方側モアレ像ＭＡ´のＸ軸座標の変位座標Ｍ１´、第１パターン層Ｗ１表面上の他方側モアレ像ＭＢ´のＸ軸座標の変位座標Ｍ２´は、図４８に示す式（１８ｆ）（１９ｆ）で算出する。

この算出においては、図５０に示すように、ｕ、ｑ、Ｋ、Ｒの設定により、一方側モアレ像ＭＡの周期と他方側モアレ像ＭＢの周期を異ならせるとともに、１つの視点Ａから見たとき、一方側モアレ像ＭＡ及び他方側モアレ像ＭＢの視認できる数を同じにし、あるいは異ならせることができる。

これにより、第１パターン層Ｗ１より一定の間隔を隔てて、平行に視点を移動すると、一方側モアレ像ＭＡと他方側モアレ像ＭＢが互いに同じ方向だが一方側モアレ像ＭＡに比べて他方側モアレ像ＭＢがゆっくり移動しているように見える。第１パターン集合部ＰＡ１と間隔Ｆを保ったまま視点をＷだけ平行に移動すると図４９に示す関係が成り立つ。一方側モアレ像ＭＡと他方側モアレ像ＭＢの第１パターン集合部ＰＡ１上の移動方向を正負で表し、左を負とした。

各実施の形態において、第１パターン層Ｗ１及び第２パターン層Ｗ２を作成するときは、先ず、一方側モアレ像ＭＡ及び他方側モアレ像ＭＢの形状を選択し、これに対応した第１パターン集合部ＰＡ１，第２パターン集合部ＰＡ２，共用パターン集合部ＰＡ３の単位透光部パターン１０Ａまたは単位遮光部パターン１０Ｂの形体を決めるとともに、透光モアレ若しくは遮光モアレの選択をする。そして、例えば、距離Ｗ、周期ω１、整数値Ｋ，整数値Ｒ、距離Ｆ、第１パターン集合部の透光部の幅Ｓ１、隣接する単位透光部パターン間の最小寸法または隣接する単位遮光部パターン間の最小寸法Ｐｍｉｎ、第２パターン集合部の透光部の幅Ｓ２を付与して、上記の一般式を満たすように、必要値を算出する。この場合、整数値ｎ、整数値ｍの設定、若しくは、整数値ｕ、整数値ｑの設定により、１つの視点Ａから見たとき、一方側モアレ像ＭＡ及び他方側モアレ像ＭＢの視認できる数を同じにし、あるいは異ならせることができる。

従って、本発明の実施の形態に係る装飾装置によれば、１つの視点ＡをＸ軸方向に沿って移動し、若しくは、１つの視点Ａを固定して第１パターン層Ｗ１及び第２パターン層Ｗ２の何れか一方をＸ軸に沿って移動すると、一方側モアレ像ＭＡと他方側モアレ像ＭＢとが互いに所定周期で規則的に相対移動する。このため、モアレ像が変化するので、面白みを増すことができるようになる。また、互いに変化するモアレ像を形成するパターン層は、第１パターン層Ｗ１及び第２パターン層Ｗ２の２つなので、従来に比較して部品点数を少なくすることができ、構造を簡単にすることができ、製造効率も向上させることができる。

また、１つの視点Ａから見たとき、一方側モアレ像ＭＡ及び他方側モアレ像ＭＢが、夫々、Ｘ軸方向に沿って所定の周期で複数形成される構成としたので、一方側モアレ像ＭＡ及び他方側モアレ像ＭＢを１つ形成する場合に比較して、より一層面白みを増すことができる。更に、一方側モアレ像ＭＡの周期と他方側モアレ像ＭＢの周期を異ならせるとともに、１つの視点Ａから見たとき、一方側モアレ像ＭＡ及び他方側モアレ像ＭＢの視認できる数を異ならせた場合には、周期が短い方のモアレ像が長い方のモアレ像に比較して多く見えるようにすることができることから、より一層面白みを増加させることができる。

図５１には本発明の別の実施の形態に係る装飾装置Ｔを示している。これは、互いにＸ軸方向に相対移動する一対の引き戸２０，２１を、図示外の本体に支持したものである。そして、一方の引き戸２０の壁面を第１パターン層Ｗ１で構成し、他方の引き戸２１の壁面を第２パターン層Ｗ２で構成している。尚、図５１において、第１パターン層Ｗ１及び第２パターン層Ｗ２の透光部４は、実線で表してある。遮光部３は白抜き部分である。これによれば、１つの視点ＡをＸ軸方向に沿って移動し、若しくは、１つの視点Ａを固定して第１パターン層Ｗ１及び第２パターン層Ｗ２をＸ軸に沿って相対移動すれば、一方側モアレ像ＭＡと他方側モアレ像ＭＢとが互いに所定周期で規則的に相対移動し、上記と同様の作用，効果を奏する。

図５２には本発明の別の実施の形態に係る装飾装置Ｔを示している。上記の引き戸タイプの装飾装置Ｔにおいて、一方の引き戸２０に第１パターン層Ｗ１を複数種類（実施の形態ではＷ１ａ，Ｗ１ｂ，Ｗ１ｃの３種類）形成し、他方の引き戸２１に１種の第２パターン層Ｗ２を形成している。尚、図５２において、第１パターン層Ｗ１の透光部及び遮光部は省力し、第２パターン層Ｗ２の透光部４は、実線で表してある。遮光部３は白抜き部分である。これによれば、第１パターン層Ｗ１が複数種類あるので、多種のモアレ像を視認することができ、より一層多様性が増し、面白みを増加させることができる。

次に、図５３乃至図１３８に、一方側モアレ像ＭＡ及び他方側モアレ像ＭＢを形成するパターン層の実施例１～１５を示す。また、図１３９乃至図１４２には、各実施例において、諸要素についての対応する一般式からの計算結果を示す。各要素の数値は、例えば表計算ソフト「エクセル（登録商標）」を用いるなどして容易に算出することができる。ここで、実施例の図面はｄ＝０、ω?＝ω?の条件で作成し印刷したものである。また、Ａ点より視認される、Ｙ軸に対応するＭＡ，ＭＢのＷ１面上の座標であるＭＡ’，ＭＢ’に関する各要素の数値を表している。そしてまた、実施例は、厚さ０．１５ｍｍの紙をレーザー加工機を使用することを想定し（以下単位ｍｍ）、透光部のＸ軸幅加工下限値ＳＬＬを０．８とし、遮光部のＸ軸幅加工下限値ＢＬＬを１．０とした。共用パターン集合部ＰＡ３を第１パターン層Ｗ１に形成した実施例１，２，５，６，７，８，９，１１，１２，１３は、Ｓ１≧０．８、Ｓ２≧０．８、Ｂ１≧１．０、Ｐｍｉｎ－Ｓ１≧１．０、Ｐｍｉｎ－Ｂ１≧０．８の条件を満たす各要素を選択し、共用パターン集合部ＰＡ３を第２パターン層Ｗ２に形成した実施例３，４，１０，１４は、Ｓ１≧０．８、Ｓ２≧０．８、Ｂ２≧１．０、Ｐｍｉｎ－Ｓ２≧１．０、Ｐｍｉｎ－Ｂ２≧０．８の条件を満たす各要素の数値を選択している。

＜実施例１＞
図５３乃至図５８に示す。これは、第１の構成形態の実施例である。ここでは、一方側モアレ像ＭＡを斜め棒状形状にし、他方側モアレ像ＭＢを一方側モアレ像ＭＡと鏡面対称になる斜め棒状形状にするとともに、透光モアレとした。

＜実施例２＞
図５９乃至図６４に示す。これは、第１の構成形態の実施例であり、遮光モアレを表出している。

＜実施例３＞
図６５乃至図７０に示す。これは、第３の構成形態の実施例であり、遮光モアレを表出している。

＜実施例４＞
図７１乃至図７６に示す。これは、第４の構成形態の実施例であり、透光モアレを表出している。

＜実施例５＞
図７７乃至図８１に示す。これは、第１の構成形態の実施例であり、透光モアレを表出している。第１パターン層（Ｗ１）には、第１パターン集合部（ＰＡ１ａ）と第１パターン集合部（ＰＡ１ｂ）とを所定間隔離間させて形成するとともに、これらに、共用パターン集合部（ＰＡ３ａ）と共用パターン集合部（ＰＡ３ｂ）とを所定間隔離間させて形成した。第２パターン層（Ｗ２）には、第２パターン集合部（ＰＡ２）のみ形成した。

図８２乃至図８４には、実施例５の変形例を示す。これは、第１パターン層（Ｗ１）を、これに現れるパターン集合部を×印形状に表出させて形成したものである。第２パターン層（Ｗ２）はそのままにしている。表出されるモアレ像の外観が変化する。

＜実施例６＞
図８５乃至図８９に示す。これは、実施例５の透光部を形成したもので、同様に、第１の構成形態の実施例であり、透光モアレを表出している。第１パターン層（Ｗ１）には、第１パターン集合部（ＰＡ１ａ）と第１パターン集合部（ＰＡ１ｂ）とを所定間隔離間させて形成するとともに、これらに、共用パターン集合部（ＰＡ３ａ）と共用パターン集合部（ＰＡ３ｂ）とを所定間隔離間させて形成した。第２パターン層（Ｗ２）には、第２パターン集合部（ＰＡ２）のみ形成した。

図９０乃至図９２には、実施例６の変形例を示す。これは、第１パターン層（Ｗ１）を、これに現れるパターン集合部を十字形状に表出させて形成したものである。第２パターン層（Ｗ２）はそのままにしている。表出されるモアレ像の外観が変化する。

＜実施例７＞
図９３乃至図９７に示す。これは、第１の構成形態の実施例であり、透光モアレを表出している。ここでは、第１パターン層（Ｗ１）のパターン集合部を馬の形にして表出し、この馬の脚に相当する部分において、第１パターン集合部（ＰＡ１ａ），（ＰＡ１ｂ）と共用パターン集合部（ＰＡ３ａ），（ＰＡ３ｂ）とを、下から順に４段に分け、この４段の透光部が同期して左右の往復を繰り返すようにしている。

＜実施例８＞
図９８乃至図１０３に示す。これは、第１の構成形態の実施例であり、透光モアレを表出している。第１パターン層（Ｗ１）には、第１パターン集合部（ＰＡ１ａ）と第１パターン集合部（ＰＡ１ｂ）とを所定間隔離間させて形成するとともに、これらに、共用パターン集合部（ＰＡ３ａ）と共用パターン集合部（ＰＡ３ｂ）とを所定間隔離間させて形成した。第２パターン層（Ｗ２）には、第２パターン集合部（ＰＡ２）のみ形成した。

＜実施例９＞
図１０４乃至図１０８に示す。これは、実施例８と同様であるが、第１パターン層（Ｗ１）において、第１パターン集合部（ＰＡ１ａ）と第１パターン集合部（ＰＡ１ｂ）との所定間隔、及び、共用パターン集合部（ＰＡ３ａ）と共用パターン集合部（ＰＡ３ｂ）との所定間隔を、実施例８とは異ならせている。

＜実施例１０＞
図１０９乃至図１１３に示す。これは、第３の構成形態の実施例であり、遮光モアレを表出している。第１パターン層（Ｗ１）には、第１パターン集合部（ＰＡ１）のみ形成している。第２パターン層（Ｗ２）には、第２パターン集合部（ＰＡ２ａ）と第２パターン集合部（ＰＡ２ｂ）とを所定間隔離間させて形成するとともに、これらに、共用パターン集合部（ＰＡ３ａ）と共用パターン集合部（ＰＡ３ｂ）とを所定間隔離間させて形成した。

＜実施例１１＞
図１１４乃至図１１８に示す。これは、第１の構成形態の実施例であり、透光モアレを表出している。

＜実施例１２＞
図１１９乃至図１２３に示す。これは、第２の構成形態の実施例であり、遮光モアレを表出している。

＜実施例１３＞
図１２４乃至図１２８に示す。これは、第５の構成形態の実施例であり、透光モアレを表出している。

＜実施例１４＞
図１２９乃至図１３３に示す。これは、第６の構成形態の実施例であり、透光モアレを表出している。

＜実施例１５＞
図１３４乃至図１３８に示す。これは、第１の構成形態の実施例であり、透光モアレを表出している。

尚、上記実施の形態においては、図１４３（第１パターン層Ｗ１及び第２パターン層Ｗ２の透光部は実線で表し、遮光部は白地で表してある）に示すように、実施例５，８，９，１０にも示したごとく、パターン集合部の形成の仕方を、パターン層に、中心線Ｊを中心に左右鏡面対称に形成し、図１４４に示すように、実施例７にも示したごとく、複数種ａ１,ａ２,ａ３を多段に設けるなど、適宜変更して差支えない。また、上記各実施例において、各パターン層Ｗ１，Ｗ２は、黒色の紙に孔を開けて遮光部３及び透光部４を形成したが、必ずしもこれに限定されるものではなく、例えば、樹脂板，金属板，木板，ガラス板等の板材やシート材で形成しても良く、適宜変更して差支えない。特に、図１４５に示すように、複数の遮光部３をＹ軸方向に列設して構成する場合には、単位遮光部パターン１０Ｂにおいて、薄いシートに孔を開けて形成することができないので、例えば、透明なシート３０に遮光部３を印刷する等して形成すればよい。更に、一方側モアレ像ＭＡ及び他方側モアレ像ＭＢの形状も、上述したものに限定されるものではないことは勿論である。要するに、本発明は、上述した本発明の実施の形態に限定されず、当業者は、本発明の新規な教示及び効果から実質的に離れることなく、これら例示である実施の形態に多くの変更を加えることが容易であり、これらの多くの変更は本発明の範囲に含まれる。

Ｔ装飾装置
１本体
２脚部
３遮光部
４透光部
Ｗ１第１パターン層
Ｗ２第２パターン層
ＭＡ一方側モアレ像
ＭＢ他方側モアレ像
１０Ａ単位透光部パターン
１０Ｂ単位遮光部パターン
ＴＰＡ透光部パターン集合部
ＳＰＡ遮光部パターン集合部
ＰＡ１第１パターン集合部
ＰＡ２第２パターン集合部
ＰＡ３共用パターン集合部
Ｓ１，Ｓ２，Ｓ３透光部４の幅
Ｂ１，Ｂ２，Ｂ３遮光部３の幅
Ｑ中心線
２０，２１引き戸
Ｊ中心軸

Claims

遮光部と透光部とを所定方向に沿って交互に複数列設した２つのパターン層を、間隔を隔てて積層し、該２つのパターン層を外側から見たときモアレ像を視認させる装飾装置であって、
上記２つのパターン層を、見る側から順に、第１パターン層（Ｗ１），第２パターン層（Ｗ２）とし、上記パターン層の面方向且つ上記所定方向に沿い原点Ｏを通るＸ軸と、該パターン層の面方向に沿うとともにＸ軸に直交し原点Ｏを通るＹ軸と、上記パターン層の面方向に直交するとともに上記パターン層の積層方向であって間隔を規定し原点Ｏを通るＺ軸とを設定し、
Ｙ軸に直交する平面で切断された任意の平断面上、Ｚ軸方向の外側の１つの視点Ａから視認されて特定されるモアレ像を、一方側モアレ像（ＭＡ）と他方側モアレ像（ＭＢ）との２つのモアレ像で構成し、
上記１つの視点ＡをＸ軸方向に沿って移動したとき、若しくは、上記１つの視点Ａを固定して第１パターン層（Ｗ１）及び第２パターン層（Ｗ２）の何れか一方をＸ軸に沿って移動したとき、上記一方側モアレ像（ＭＡ）と他方側モアレ像（ＭＢ）とが互いに規則的に相対移動するようにするもので、
上記一方側モアレ像（ＭＡ）を、透光する透光モアレまたは遮光する遮光モアレで構成し、
上記他方側モアレ像（ＭＢ）を、上記一方側モアレ像（ＭＡ）に対応し、透光する透光モアレまたは遮光する遮光モアレで構成し、
１つの透光部で構成され若しくはＹ軸方向に列設された複数の透光部で構成され中心線のある所定形体の単位透光部パターンの集合からなるとともに該単位透光部パターンがＸ軸方向に沿って所定のピッチで規則的に列設して構成される透光部パターン集合部（ＴＰＡ）と、
１つの遮光部で構成され若しくはＹ軸方向に列設された複数の遮光部で構成され中心線のある所定形体の単位遮光部パターンの集合からなるとともに該遮光部パターンがＸ軸方向に沿って所定のピッチで規則的に列設して構成される遮光部パターン集合部（ＳＰＡ）とを用い、
上記透光モアレの場合は、
夫々、上記単位透光部パターンの形体及びそのピッチが異なる透光部パターン集合部（ＴＰＡ）からなる第１パターン集合部（ＰＡ１），第２パターン集合部（ＰＡ２），共用パターン集合部（ＰＡ３）を用い、
上記第１パターン集合部（ＰＡ１）を第１パターン層（Ｗ１）に形成し、上記第２パターン集合部（ＰＡ２）を第２パターン層（Ｗ２）に形成し、上記共用パターン集合部（ＰＡ３）を上記第１パターン層（Ｗ１）及び第２パターン層（Ｗ２）の何れか一方に形成し、
上記遮光モアレの場合は、
夫々、上記単位遮光部パターンの形体及びそのピッチが異なる遮光部パターン集合部（ＳＰＡ）からなる第１パターン集合部（ＰＡ１）及び共用パターン集合部（ＰＡ３），該第１パターン集合部（ＰＡ１）及び共用パターン集合部（ＰＡ３）の単位遮光部パターンとは上記単位透光部パターンの形体及びそのピッチが異なる透光部パターン集合部（ＴＰＡ）からなる第２パターン集合部（ＰＡ２）を用い、
上記第１パターン集合部（ＰＡ１）及び共用パターン集合部（ＰＡ３）を第１パターン層（Ｗ１）に形成し、上記第２パターン集合部（ＰＡ２）を第２パターン層（Ｗ２）に形成し、
若しくは、
透光部パターン集合部（ＴＰＡ）からなる第１パターン集合部（ＰＡ１），該第１パターン集合部（ＰＡ１）の単位透光部パターンとは、夫々、上記単位遮光部パターンの形体及びそのピッチが異なる遮光部パターン集合部（ＳＰＡ）からなる第２パターン集合部（ＰＡ２）及び共用パターン集合部（ＰＡ３）を用い、
上記第１パターン集合部（ＰＡ１）を第１パターン層（Ｗ１）に形成し、上記第２パターン集合部（ＰＡ２）及び上記共用パターン集合部（ＰＡ３）を第２パターン層（Ｗ２）に形成し、
上記一方側モアレ像（ＭＡ）を、
上記第１パターン集合部（ＰＡ１）と上記第２パターン集合部（ＰＡ２）とで形成し、
上記他方側モアレ像（ＭＢ）を、
上記共用パターン集合部（ＰＡ３）を上記第１パターン層（Ｗ１）に形成したときは、上記共用パターン集合部（ＰＡ３）と第２パターン集合部（ＰＡ２）とで形成し、
上記共用パターン集合部（ＰＡ３）を上記第２パターン層（Ｗ２）に形成したときは、上記第１パターン集合部（ＰＡ１）と上記共用パターン集合部（ＰＡ３）とで形成することを特徴とする装飾装置。
上記１つの視点Ａから見たとき、上記一方側モアレ像（ＭＡ）及び他方側モアレ像（ＭＢ）が、夫々、Ｘ軸方向に沿って所定の周期で複数形成されることを特徴とする請求項１記載の装飾装置。
上記一方側モアレ像（ＭＡ）の周期と他方側モアレ像（ＭＢ）の周期を異ならせるとともに、上記１つの視点Ａから見たとき、上記一方側モアレ像（ＭＡ）及び他方側モアレ像（ＭＢ）の視認できる数を異ならせたことを特徴とする請求項２記載の装飾装置。
上記第１パターン集合部（ＰＡ１）に形成される各単位透光部パターン若しくは各単位遮光部パターンを、互いに、平行な軸線を有した同形状に形成し、
上記第２パターン集合部（ＰＡ２）に形成される各単位透光部パターン若しくは各単位遮光部パターンを、互いに、平行な軸線を有した同形状に形成し、
上記共用パターン集合部（ＰＡ３）に形成される各単位透光部パターン若しくは各単位遮光部パターンを、互いに、平行な軸線を有した同形状に形成し、
上記共用パターン集合部（ＰＡ３）を上記第１パターン層（Ｗ１）に形成するときは、これらに形成される各単位透光部パターン若しくは各単位遮光部パターンを、互いに、平行な軸線を有した同形状に形成し、
上記共用パターン集合部（ＰＡ３）を上記第２パターン層（Ｗ２）に形成するときは、これらに形成される各単位透光部パターン若しくは各単位遮光部パターンを、互いに、平行な軸線を有した同形状に形成することを特徴とする請求項１乃至３何れかに記載の装飾装置。
上記一方側モアレ像（ＭＡ）が上記第２パターン層（Ｗ２）の奥に見え、上記他方側モアレ像（ＭＢ）が上記第１パターン層（Ｗ１）の前に見える設定、
上記一方側モアレ像（ＭＡ）が上記第２パターン層（Ｗ２）の奥に見え、上記他方側モアレ像（ＭＢ）が上記第２パターン層（Ｗ２）に奥に見える設定、
上記一方側モアレ像（ＭＡ）が上記第１パターン層（Ｗ１）の前に見え、上記他方側モアレ像（ＭＢ）が上記第１パターン層（Ｗ１）の前に見える設定の何れかの設定になるように、上記第１パターン集合部（ＰＡ１）、第２パターン集合部（ＰＡ２）及び共用パターン集合部（ＰＡ３）を形成したことを特徴とする請求項４記載の装飾装置。