JP7484897B2 - 光学部材 - Google Patents
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims description 283
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 300
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 133
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 claims description 93
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 72
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 34
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 15
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 15
- 230000004075 alteration Effects 0.000 claims description 13
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 229910018068 Li 2 O Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 claims description 11
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 10
- PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M copper(1+);methylsulfanylmethane;bromide Chemical compound Br[Cu].CSC PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 8
- 229910000484 niobium oxide Inorganic materials 0.000 claims description 8
- URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N niobium(5+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Nb+5].[Nb+5] URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 claims description 8
- QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N Copper oxide Chemical compound [Cu]=O QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 229910052990 silicon hydride Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 6
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 claims description 6
- BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);tantalum(5+) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ta+5].[Ta+5] BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910001936 tantalum oxide Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 claims description 6
- PMTRSEDNJGMXLN-UHFFFAOYSA-N titanium zirconium Chemical compound [Ti].[Zr] PMTRSEDNJGMXLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910000420 cerium oxide Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000005340 laminated glass Substances 0.000 claims description 4
- BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoceriooxy)cerium Chemical compound [Ce]=O.O=[Ce]=O BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000005751 Copper oxide Substances 0.000 claims description 3
- 229910000431 copper oxide Inorganic materials 0.000 claims description 3
- JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N iron(III) oxide Inorganic materials O=[Fe]O[Fe]=O JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L magnesium fluoride Chemical compound [F-].[F-].[Mg+2] ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 2
- 229910001635 magnesium fluoride Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 160
- 239000010408 film Substances 0.000 description 154
- 239000000463 material Substances 0.000 description 51
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 35
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 32
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 32
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 29
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 29
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 28
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 28
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 28
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 28
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 28
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 27
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 22
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 21
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 15
- 238000004031 devitrification Methods 0.000 description 15
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 14
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 14
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 238000000034 method Methods 0.000 description 12
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 12
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 11
- 241000428199 Mustelinae Species 0.000 description 10
- QDOXWKRWXJOMAK-UHFFFAOYSA-N dichromium trioxide Chemical compound O=[Cr]O[Cr]=O QDOXWKRWXJOMAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 10
- 238000005728 strengthening Methods 0.000 description 10
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 9
- 229910021193 La 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 8
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 8
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 8
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 6
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 6
- 239000006103 coloring component Substances 0.000 description 6
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 description 6
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 6
- 238000013461 design Methods 0.000 description 6
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 6
- 239000004575 stone Substances 0.000 description 6
- 230000000930 thermomechanical effect Effects 0.000 description 6
- 229910001845 yogo sapphire Inorganic materials 0.000 description 6
- FUJCRWPEOMXPAD-UHFFFAOYSA-N Li2O Inorganic materials [Li+].[Li+].[O-2] FUJCRWPEOMXPAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910004205 SiNX Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 5
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 5
- XUCJHNOBJLKZNU-UHFFFAOYSA-M dilithium;hydroxide Chemical compound [Li+].[Li+].[OH-] XUCJHNOBJLKZNU-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 5
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 5
- 238000007373 indentation Methods 0.000 description 5
- 238000005496 tempering Methods 0.000 description 5
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 4
- WMWLMWRWZQELOS-UHFFFAOYSA-N bismuth(iii) oxide Chemical compound O=[Bi]O[Bi]=O WMWLMWRWZQELOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 4
- BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N cadmium atom Chemical compound [Cd] BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000008859 change Effects 0.000 description 4
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 4
- GNTDGMZSJNCJKK-UHFFFAOYSA-N divanadium pentaoxide Chemical compound O=[V](=O)O[V](=O)=O GNTDGMZSJNCJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 4
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 4
- NUJOXMJBOLGQSY-UHFFFAOYSA-N manganese dioxide Chemical compound O=[Mn]=O NUJOXMJBOLGQSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 4
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 4
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 description 4
- PBCFLUZVCVVTBY-UHFFFAOYSA-N tantalum pentoxide Inorganic materials O=[Ta](=O)O[Ta](=O)=O PBCFLUZVCVVTBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000006124 Pilkington process Methods 0.000 description 3
- 230000006750 UV protection Effects 0.000 description 3
- 230000033228 biological regulation Effects 0.000 description 3
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 3
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 3
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 3
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 3
- 238000000869 ion-assisted deposition Methods 0.000 description 3
- 238000012417 linear regression Methods 0.000 description 3
- 230000007257 malfunction Effects 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 3
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- -1 AlNx Inorganic materials 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910020599 Co 3 O 4 Inorganic materials 0.000 description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N Iron oxide Chemical compound [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910018162 SeO2 Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- 206010040925 Skin striae Diseases 0.000 description 2
- 229910000272 alkali metal oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000005354 aluminosilicate glass Substances 0.000 description 2
- 238000000149 argon plasma sintering Methods 0.000 description 2
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 2
- 239000005388 borosilicate glass Substances 0.000 description 2
- CETPSERCERDGAM-UHFFFAOYSA-N ceric oxide Chemical compound O=[Ce]=O CETPSERCERDGAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000422 cerium(IV) oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000005345 chemically strengthened glass Substances 0.000 description 2
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 2
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 2
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 2
- VQCBHWLJZDBHOS-UHFFFAOYSA-N erbium(III) oxide Inorganic materials O=[Er]O[Er]=O VQCBHWLJZDBHOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006025 fining agent Substances 0.000 description 2
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 2
- 150000002222 fluorine compounds Chemical class 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 2
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 2
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 2
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 2
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- PLDDOISOJJCEMH-UHFFFAOYSA-N neodymium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Nd+3].[Nd+3] PLDDOISOJJCEMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GNRSAWUEBMWBQH-UHFFFAOYSA-N nickel(II) oxide Inorganic materials [Ni]=O GNRSAWUEBMWBQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZKATWMILCYLAPD-UHFFFAOYSA-N niobium pentoxide Chemical compound O=[Nb](=O)O[Nb](=O)=O ZKATWMILCYLAPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- 239000005871 repellent Substances 0.000 description 2
- JPJALAQPGMAKDF-UHFFFAOYSA-N selenium dioxide Chemical compound O=[Se]=O JPJALAQPGMAKDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005361 soda-lime glass Substances 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 2
- 239000005341 toughened glass Substances 0.000 description 2
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 2
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010421 TiNx Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 238000003916 acid precipitation Methods 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 239000005358 alkali aluminosilicate glass Substances 0.000 description 1
- CSDREXVUYHZDNP-UHFFFAOYSA-N alumanylidynesilicon Chemical compound [Al].[Si] CSDREXVUYHZDNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 230000003466 anti-cipated effect Effects 0.000 description 1
- 230000003373 anti-fouling effect Effects 0.000 description 1
- 239000002519 antifouling agent Substances 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- 230000000711 cancerogenic effect Effects 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 231100000315 carcinogenic Toxicity 0.000 description 1
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- UBEWDCMIDFGDOO-UHFFFAOYSA-N cobalt(II,III) oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Co+2].[Co+3].[Co+3] UBEWDCMIDFGDOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 238000007872 degassing Methods 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 238000003280 down draw process Methods 0.000 description 1
- 238000004993 emission spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 1
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003779 heat-resistant material Substances 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000011068 loading method Methods 0.000 description 1
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 238000007372 rollout process Methods 0.000 description 1
- 238000012764 semi-quantitative analysis Methods 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 238000002798 spectrophotometry method Methods 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 231100000331 toxic Toxicity 0.000 description 1
- 230000002588 toxic effect Effects 0.000 description 1
- 231100000419 toxicity Toxicity 0.000 description 1
- 230000001988 toxicity Effects 0.000 description 1
- 238000004876 x-ray fluorescence Methods 0.000 description 1
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- B32—LAYERED PRODUCTS
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- B32B7/00—Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
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- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
- C03C3/083—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound
- C03C3/085—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound containing an oxide of a divalent metal
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- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
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- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
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- G02—OPTICS
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- G02B5/00—Optical elements other than lenses
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Description
入射角0度以上5度以下の範囲で入射する光に対して、400nm以上700nm以下の波長域内における最大透過率が10%以下であり、800nm以上1800nm以下の波長域内の所定の波長λsにおける光の透過率の最小値が86.5%以上であり、
前記光学部材を大気下、温度200℃で24時間加熱した前後の前記波長λsにおける入射角0度以上5度以下の範囲で入射する光の最大透過率の差が3%以下の領域を備え、
前記ガラス基板は、400nm以上700nm以下の波長域において、入射角0度以上5度以下の範囲で入射する光に対して、光の透過率の最大値が60%以下であり、
前記ガラス基板を構成するガラスは、Fe 2 O 3 換算で1質量ppm以上120質量ppm以下の割合でFeを含有し、Cr 2 O 3 換算で500質量ppm以上20000質量ppm以下の割合でCrを含有する。
本明細書において、特定の波長域について、透過率が例えば78%以上とは、その波長域の全域において透過率が78%を下回らないことをいい、同様に透過率が例えば1%以下とは、その波長域の全域において透過率が1%を超えないことをいう。
本明細書において、数値範囲を表す「~」では、上下限を含む。
本実施形態において、ガラス基板1は互いに対向する第1の主面1aおよび第2の主面1bを有する。ガラス基板1を構成するガラスは非晶質のガラスである。
ここでAはガラスの溶融性、赤外透過率にすぐれた組成であり、Bは波面収差と飛び石強度にすぐれた組成である。
SiO2はガラスの骨格を構成する成分であり必須である。また、化学的耐久性を上げる成分であり、ガラス表面に傷(圧痕)がついた時のクラックの発生を低減させる成分である。
また、このガラスAのガラス組成としては、上記成分の他、本実施形態の効果を阻害しない範囲で、種々の任意成分を含有できる。ここで任意成分としては、例えば、以下の成分が挙げられる。
SiO2はガラスの骨格を構成する成分であり必須である。また、化学的耐久性を上げる成分であり、ガラス表面に傷(圧痕)がついた時のクラックの発生を低減させる成分である。
なお、表面圧縮応力(CS)と圧縮応力層の深さ(DOL)は、次のようにして測定できる。
圧縮応力層を形成する前のガラス基板から、全面が鏡面である円板を作製する。作製した円板を用いて、円板圧縮法により、光弾性定数を求める。次いで、強化処理されたガラス基板を切断した後、切断面を光学研磨し、レターデーションを複屈折測定装置により測定する。そして、測定されたレターデーションの値を上記光弾性定数とガラス基板の厚みで除することで、発生応力(表面の圧縮応力(CS))を求めることができる。
光干渉膜は、ガラス基板の主面上に形成され、得られる光学部材が(1)~(3)の要件を達成するように機能する。例えば、図1Aに示す光学部材10Aにおいては、ガラス基板1の第1の主面1a上に形成された光干渉膜2が上記機能を有し、図1Bに示す光学部材10Bにおいては、ガラス基板1の第1の主面1a上に形成された光干渉膜2および第2の主面1b上に形成された光干渉膜3の機能の組み合わせにおいて上記機能を有する。光学部材が第2の主面上にのみ光干渉膜を有する場合も同様である。
ガラス基板として表1~3に組成および特性を示すG1~G24のガラス基板を準備した。ガラス基板G1~G15、G17~G24については以下の方法で作製した。ガラス基板G16は、ショット社製のRG780(商品名)である。
(1)密度
得られたガラス基板を構成するガラスについて、自動比重測定装置(ASG-320K)関東メジャー(株)を用いて、JIS Z8807に従って測定した。なお、表2及び表3において()の数値は、自動比重測定装置で測定した密度の実測値と、自動比重測定装置で密度を測定した各ガラスと密度を計算するガラスとのガラス組成差とから、線形回帰法で求めた計算値である。
(2)Tg
得られたガラス基板を構成するガラスについて、熱機械分析装置(TMA)(NETZSCH製 TD5000SA)を用いて測定した。なお、表2及び表3において()の数値は、熱機械分析装置で測定したTgの実測値と、熱機械分析装置でTgを測定した各ガラスとTgを計算するガラスとのガラス組成差とから、線形回帰法で求めた計算値である。
(3)線膨張係数
得られたガラス基板を構成するガラスについて、熱機械分析装置(TMA)(NETZSCH製 TD5000SA)を用いて、50~350℃における熱膨張曲線を昇温速度5℃/分の条件で測定し、線熱膨張係数(単位:10-7/℃)を測定した。なお、表2及び表3において()の数値は、熱機械分析装置で測定した線膨張係数の実測値と、熱機械分析装置で線膨張係数を測定した各ガラスと線膨張係数を計算するガラスとのガラス組成差とから、線形回帰法で求めた計算値である。また、表2において「*1」の数値は、200~300℃における線膨張係数の実測値である。
光学特性は、分光光度計(V-780自動絶対反射率測定システム、日本分光社製)を用いて、で以下の項目について測定した。
入射角0度における波長400~700nmの平均透過率をTvとした。入射角0度以上5度以下の範囲で入射する光に対して、波長400~700nmの透過率の最大値をTmax400-700とした。
(波長域幅(3%以上)、(25%以上)、(30%以上))
波長400~700nmの波長域において、入射角0度以上5度以下の範囲で入射する光に対して、光の透過率が3%以上、25%以上および30%以上である波長域の幅をそれぞれ求めた。
入射角0°における波長365nm、800nm、905nm、1050nm、1550nmの透過率をそれぞれ、T365、T800、T905、T1050、T1550で示した。
(透過L*、透過a*、透過b*)
ISO9050:2003に規定される可視光を照射して得られる透過光について、CIE1976L*a*b*色度座標を、透過L*、透過a*、透過b*で示した。
入射角60°における波長800nm、905nm、1050nm、1550nmの透過率をそれぞれ、T800-60deg、T905-60deg、T1050-60deg、T1550-60degで示した。
まず、圧縮応力層を形成する前のガラス基板から、全面が鏡面である円板を作製した。作製した円板を用いて、円板圧縮法により、光弾性定数を求めた。次いで、全面が鏡面である50×50×4mmのサイズのガラスを準備し、SUS製のジグを用いてガラスを所望の温度(物理強化温度)まで140秒で昇温後、70秒保持した。その後所望の風圧にて圧縮空気を吹き付け急冷した。作製した急冷ガラスを切断した後、切断面を光学研磨し、レターデーションを複屈折測定装置により測定した。そして、測定されたレターデーションの値を光弾性定数とガラス厚みにて除することで、発生応力(表面の圧縮応力(単位:MPa))を求めた。
条件A:射出圧 0.5MPa 投射材 玄武岩6号 投射量 500ml
条件B:射出圧 0.2MPa 投射材 玄武岩7号 投射量 50g
これによりガラスが破損した場合×、ガラスが破損しなかった場合を〇とした。
上記で得られたガラス基板G1、G2、G4、G5、G9、G10、G15、G16、G20を用いて、以下の方法で各層を成膜して、表5、6に積層構成を示す光学部材を作製した。表5、6において、表の最上段の層がセンサ側に位置する層であり、最下段の層が外部から見た際に最表層とされる層である。基板より上側に積層構造を示す積層体が第1の光干渉膜2であり、基材より下側に積層構造を示す積層体が第2の光干渉膜3である。表中には、各層の膜厚とともに第1の光干渉膜2の合計膜厚を「合計膜厚1」、第2の光干渉膜3の合計膜厚を「合計膜厚2」、これらの合計を「総膜厚(1+2)」として記載した。
スパッタリング装置(RAS1100BII、シンクロン社製)を用いて、ガラス基板の主面上に各層を表5、6に示す順および厚みで積層した。高屈折率層として、TiZrOx層、Ta2O5層、SiNx層、SHx層、を使用した。中間屈折率層としてAl2O3層を使用し、低屈折率層として、SiO2層を使用した。なお、表中、各層の構成材料をそれぞれ、TiZrOx、Ta2O5、SiNx、SHx、Al2O3、SiO2と表記した。
得られた例1~14の光学部材の特性を以下のとおり評価した。結果を表7、8に示す。また、図2に、例6の光学部材の入射角0度における分光透過率曲線(実線)およびガラス基板G4の入射角0度における分光透過率曲線(破線)を示す。
分光光度計(V-780自動絶対反射率測定システム、日本分光社製)を用い、絶対透過、絶対反射測定で角度可変ユニットを用いて反射率および透過率を測定した。入射角度が5度を超える場合は、S偏光、P偏光の光源で透過率、反射率の測定をそれぞれ行い、S偏光とP偏光を光源とした測定値の平均値を、透過率、反射率とした。透過率については、測定光を、光学部材の第1の光干渉膜2に対して照射して測定した。反射率については、測定光を、光学部材の第1の光干渉膜2に対して照射して測定した場合をR2、光学部材の第2の光干渉膜3に対して照射して測定した場合をR1とした。
入射角0度以上5度以下の範囲で入射する波長400~700nmの光の平均透過率をTvとした。入射角0度以上5度以下の範囲で入射する波長400~700nmの光の透過率の最大値をTmax400-700とした。
λsが800nm、905nm、1050nm、1550nmのときの入射角0度以上5度以下の範囲で入射する光の透過率の最小値をそれぞれ、Tmin(2)800、Tmin(2)905、Tmin(2)1050、Tmin(2)1550で示した。
光学部材の第2の光干渉膜3側の主面から入射する、ISO9050:2003に規定される可視光の入射角が5度から60度に変化したときの反射色の、CIE1976L*a*b*色度座標における色度空間の色度差ΔEを測定した。
測定面に対して入射角5度で入射するISO9050:2003に規定される可視光の平均反射率を測定した。第1の光干渉膜2に対して照射して測定した場合をRv2ave、光学部材の第2の光干渉膜3に対して照射して測定した場合をRv1aveとした。
レーザー干渉式の平坦度計(Zygo社製、Verifire MarkIV)により表面形状を測定した結果からチル卜成分を除いた残さが表面形状を求め、表面形状の最大値と最小値の差を波面収差とした。測定波長は633nmを用い、測定箇所は、φ30mmとした。
耐熱性の測定はまず、光学部材の入射角0度以上5度以下の範囲の400nm~1800nmの波長域における透過率を測定し、その後、バッチ炉にて200℃まで1hで昇温し200℃にて24h保持をし、そのまま室温まで1hで降温し光学部材を取り出した。再度光学部材の入射角0度以上5度以下の範囲の400nm~1800nmの波長域における透過率を測定し、波長λs(本評価では、905nm)における光の入射角0度以上5度以下の範囲の最大透過率の変化ΔT200℃λsを算出した。
耐熱性の測定はまず入射角0度以上5度以下の範囲で入射する400nm~1800nmの波長域の光における透過率を測定し、その後バッチ炉にてサンプルを600℃まで30分で昇温し600℃にて10分保持をし、そのまま室温まで30分で降温しサンプルを取り出した。再度入射角0度以上5度以下の範囲で入射する400nm~1800nmの波長域における透過率を測定し、波長λs(本評価では、905nm)における光の入射角0度以上5度以下の範囲の最大透過率の変化ΔT600℃λsを算出した。
光学部材を300w/m2のキセノンランプにて40℃で24h照射した前後の上記波長λs(本評価では、905nm)における入射角0度以上5度以下の範囲の光の最大透過率の差ΔTuvλsを得た。ΔTuvλsが2%以下である場合を〇とし2%を超える場合を×とした。
耐薬品性を確認するため1mol、20℃のHCl溶液中に光学部材を入れ、6時間放置した(耐酸性試験)。光学部材の試験前と試験後に400nm~1800nmの波長域における透過率を測定し、波長λs(本評価では、905nm)における入射角0度以上5度以下の範囲の光の透過率変化ΔTHClλsを算出した。ΔTHClλsが2%以下である場合を〇とし2%を超える場合を×とした。
Claims (24)
- 非晶質のガラス基板と、前記ガラス基板の少なくとも一方の主面に配置された光干渉膜と、を備えるセンサカバー用の光学部材であって、
入射角0度以上5度以下の範囲で入射する光に対して、400nm以上700nm以下の波長域内における最大透過率が10%以下であり、800nm以上1800nm以下の波長域内の所定の波長λsにおける光の透過率の最小値が86.5%以上であり、
前記光学部材を大気下、温度200℃で24時間加熱した前後の前記波長λsにおける入射角0度以上5度以下の範囲で入射する光の最大透過率の差が3%以下の領域を備え、
前記ガラス基板は、400nm以上700nm以下の波長域において、入射角0度以上5度以下の範囲で入射する光に対して、光の透過率の最大値が60%以下であり、
前記ガラス基板を構成するガラスは、Fe 2 O 3 換算で1質量ppm以上120質量ppm以下の割合でFeを含有し、Cr 2 O 3 換算で500質量ppm以上20000質量ppm以下の割合でCrを含有する、光学部材。 - 前記ガラス基板は、400nm以上700nm以下の波長域において、入射角0度以上5度以下の範囲で入射する光に対して、光の透過率が25%以上である波長域の幅が250nm以下であり、かつ前記波長λsにおける光の透過率が78.5%以上である請求項1に記載の光学部材。
- 前記所定の波長λsは、800nm、905nm、950nm、1050nmおよび1550nmから選択され、前記ガラス基板は、800nm、905nm、950nm、1050nmおよび1550nmから選択される2波長以上の所定の波長λsにおける光の透過率が78.5%以上である請求項1または2に記載の光学部材。
- 前記ガラス基板を構成するガラスは、Cr2O3換算で9500質量ppm以下の割合でCrを含有する請求項1~3のいずれか1項記載の光学部材。
- 前記ガラス基板を構成するガラスは、Fe2O3換算で15質量ppm以上の割合でFeを含有する請求項4記載の光学部材。
- 前記ガラス基板を構成するガラスは、Cr6+の含有量が1000質量ppm未満である請求項4または5記載の光学部材。
- 前記ガラス基板を構成するガラスは、Li2Oを0.1質量%以上5.0質量%以下の割合で含有する請求項4~6のいずれか1項記載の光学部材。
- 前記ガラス基板を構成するガラスは、50~350℃における線膨張係数が30×10-7/℃以上100×10-7/℃以下である請求項1~7のいずれか1項記載の光学部材。
- 前記ガラス基板は、表面圧縮応力が10MPa以上である請求項1~8のいずれか1項記載の光学部材。
- 前記ガラス基板は、板厚が2mm以上5mm以下である請求項1~9のいずれか1項記載の光学部材。
- 前記光学部材は、センサを保護するセンサカバー用であって、前記センサと反対側の主面から入射角5度で入射する、ISO9050:2003に規定される可視光の平均反射率が6%未満である請求項1~10のいずれか1項記載の光学部材。
- 前記光学部材は、センサを保護するセンサカバー用であって、前記センサと反対側の主面から入射角5度で入射する、ISO9050:2003に規定される可視光の平均反射率が6%以上35%未満である請求項1~10のいずれか1項記載の光学部材。
- 前記光学部材は、センサを保護するセンサカバー用であって、前記センサと反対側の主面から入射角5度で入射する、ISO9050:2003に規定される可視光の平均反射率が35%以上である請求項1~10のいずれか1項記載の光学部材。
- 前記光学部材は、センサを保護するセンサカバー用であって、前記センサと反対側の主面から入射する、ISO9050:2003に規定される可視光の入射角が5度から60度に変化したときの反射色において、CIE1976L*a*b*色度座標における色度空間の色度差のΔEが8以下である請求項1~13のいずれか1項記載の光学部材。
- 前記光干渉膜は、低屈折率層と高屈折率層を含む2層以上からなる請求項1~14のいずれか1項記載の光学部材。
- 前記低屈折率層と前記高屈折率層は互いに隣接し、隣接する前記低屈折率層と前記高屈折率層との屈折率差は0.1以上である請求項15に記載の光学部材。
- 前記低屈折率層は、酸化ケイ素およびフッ化マグネシウムから選ばれる少なくとも1種を主成分とする請求項15または16記載の光学部材。
- 前記高屈折率層は、窒化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化アルミニウム、酸窒化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化スズ、酸化セリウム、ケイ素、酸化銅、水素化ケイ素、酸化ニオブ、酸化タンタル、ジルコニウムドープ酸化チタンおよびジルコニウムドープ酸化ケイ素から選ばれる少なくとも1種を主成分とする請求項15~17のいずれか1項記載の光学部材。
- 前記光干渉膜を構成する層の少なくとも1層は幾何学的厚みが50nm以上である請求項15~18のいずれか1項記載の光学部材。
- 前記光干渉膜の幾何学的総膜厚が300nm以上である請求項1~19のいずれか1項記載の光学部材。
- 前記光干渉膜は、前記ガラス基板の2つの主面上に配置される請求項1~20のいずれか1項に記載の光学部材。
- 前記光学部材は、少なくとも一面から入射角5度で入射する、ISO9050:2003に規定される可視光の平均反射率が75%以上である請求項1~21のいずれか1項記載の光学部材。
- 前記波長λsにおける波面収差が1.0λRMS以下である請求項1~22のいずれか1項記載の光学部材。
- 前記ガラス基板が合わせガラスである請求項1~23のいずれか1項記載の光学部材。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019071501 | 2019-04-03 | ||
JP2019071501 | 2019-04-03 | ||
PCT/JP2020/015426 WO2020204194A1 (ja) | 2019-04-03 | 2020-04-03 | 光学部材 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2020204194A1 JPWO2020204194A1 (ja) | 2020-10-08 |
JP7484897B2 true JP7484897B2 (ja) | 2024-05-16 |
Family
ID=72668033
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2021512338A Active JP7484897B2 (ja) | 2019-04-03 | 2020-04-03 | 光学部材 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7484897B2 (ja) |
CN (1) | CN113646276B (ja) |
WO (1) | WO2020204194A1 (ja) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20220206201A1 (en) * | 2020-12-25 | 2022-06-30 | AGC Inc. | Optical filter |
US11867935B2 (en) | 2021-09-28 | 2024-01-09 | Viavi Solutions Inc. | Optical interference filter |
US20230095480A1 (en) * | 2021-09-28 | 2023-03-30 | Viavi Solutions Inc. | Optical interference filter |
DE102021130331A1 (de) | 2021-11-19 | 2023-05-25 | Schott Ag | Scheibenförmiger Glasartikel, Verfahren zu dessen Herstellung und dessen Verwendung |
US12078830B2 (en) | 2021-12-01 | 2024-09-03 | Viavi Solutions Inc. | Optical interference filter with aluminum nitride layers |
EP4215499A1 (en) * | 2022-01-19 | 2023-07-26 | Schott Ag | Optical component and glass composition as well as use thereof |
WO2024171736A1 (ja) * | 2023-02-17 | 2024-08-22 | 国立大学法人東京大学 | 導光板及び顕微鏡キット |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2016525065A (ja) | 2013-07-24 | 2016-08-22 | エージーシー グラス ユーロップ | 高赤外線透過ガラスシート |
JP2016527172A (ja) | 2013-07-24 | 2016-09-08 | エージーシー グラス ユーロップ | 高赤外線透過ガラスシート |
WO2017127994A1 (en) | 2016-01-25 | 2017-08-03 | Schott Glass Technologies (Suzhou) Co. Ltd. | System for optical detection of parameters |
JP2018506076A (ja) | 2015-02-18 | 2018-03-01 | マテリオン コーポレイション | 改良された透過率を有する近赤外線光学干渉フィルタ |
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2020
- 2020-04-03 WO PCT/JP2020/015426 patent/WO2020204194A1/ja active Application Filing
- 2020-04-03 JP JP2021512338A patent/JP7484897B2/ja active Active
- 2020-04-03 CN CN202080022124.3A patent/CN113646276B/zh active Active
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Publication number | Publication date |
---|---|
WO2020204194A1 (ja) | 2020-10-08 |
CN113646276B (zh) | 2023-11-10 |
JPWO2020204194A1 (ja) | 2020-10-08 |
CN113646276A (zh) | 2021-11-12 |
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|
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