ES2912652T3

ES2912652T3 - Panel reflectante

Info

Publication number: ES2912652T3
Application number: ES16805116T
Authority: ES
Inventors: Stijn Mahieu
Original assignee: AGC Glass Europe SA
Current assignee: AGC Glass Europe SA
Priority date: 2015-12-22
Filing date: 2016-12-01
Publication date: 2022-05-26
Anticipated expiration: 2036-12-01
Also published as: EP3393991A1; US11530161B2; WO2017108366A1; EP3393991B1; US20190002341A1; PL3393991T3

Abstract

Un sustrato revestido con un apilamiento de capas que comprende, en orden, al menos: i. un sustrato transparente (S); ii. una primera capa dieléctrica que es una capa dieléctrica (H1) de alto índice de refracción; iii. una segunda capa dieléctrica que es una capa dieléctrica (L1) de bajo índice de refracción; y iv. una única capa (C) a base de cromo, caracterizado por que tiene una transmisión de luz de como máximo el 2%

Description

DESCRIPCIÓN

Panel reflectante

La presente invención se refiere a paneles reflectantes, en particular, que consisten en un sustrato revestido con un apilamiento de capas. Más concretamente, la invención se refiere a un panel de acristalamiento que comprende un apilamiento de capas de aspecto reflectante y opaco susceptible de ser templado térmicamente, es decir, capaz de soportar tratamientos térmicos tales como el templado térmico, el curvado y el recocido sin una degradación notable de las propiedades del producto final.

Los paneles reflectantes de acuerdo con la invención pueden tener diferentes aplicaciones. Pueden utilizarse como paneles reflectantes decorativos o de revestimiento, en aplicaciones interiores o exteriores, tales como elementos de estanterías, armarios, puertas, revestimientos de paredes, techos, soportes, mesas acristaladas, apliques, tabiques, escaparates, paneles de fachada, antepechos, en muebles, armarios o baños, en piscinas o spas, en estuches de maquillaje o compactos o en la industria del automóvil como retrovisores de vehículos por ejemplo. Tales aplicaciones pueden requerir unidades de acristalamiento templadas térmicamente por razones de seguridad y para aumentar la resistencia a la flexión y la resistencia a los golpes.

Generalmente, en un buen número de estas aplicaciones, se utilizan espejos a base de plata, a menudo producidos por procesos químicos húmedos. En estos procesos, se deposita una capa de plata por reacción de reducción de una solución de nitrato de plata amoniacal sobre una lámina de vidrio plana o curvada. Luego, esta capa de plata se cubre con una capa protectora de cobre o se trata con una solución pasivante. A continuación, se depositan una o más capas de pintura para producir el espejo final. Estos diferentes elementos aseguran que el espejo envejezca aceptablemente y tenga una resistencia mecánica y una resistencia a la corrosión satisfactorias. Tales espejos se describen, por ejemplo, en el documento FR 2719839. Para una aplicación que requiera un espejo templado, la deposición húmeda debe llevarse a cabo en un panel de vidrio ya templado del tamaño establecido. Además, algunas aplicaciones, en particular aplicaciones decorativas, requieren una alta reflectancia en ambos lados de un panel de acristalamiento. Con espejos que tienen solo un lado de alta reflectancia, tales como por ejemplo los espejos plateados tradicionales, esto requiere ensamblar dos espejos espalda con espalda, lo cual es costoso y conduce a espejos más pesados.

El documento EP 962429 describe una unidad de acristalamiento que comprende un apilamiento de capas de aspecto metálico reflectante y capaz de soportar tratamientos térmicos, siendo depositado dicho apilamiento por pulverización catódica. Se compone de una capa base dieléctrica (hecha de SiO2, ALO3, SiON, Si3N4 o AIN), una capa esencialmente metálica altamente reflectante (a base de Cr, una aleación que contiene Cr o una aleación que contiene Al) y una capa de recubrimiento exterior hecha de un dieléctrico (Si3N4, AIN). Las unidades de acristalamiento de acuerdo con el documento EP 962429 tienen una reflectancia de la luz (RLv) del lado del vidrio superior al 50% y una transmisión de la luz (TL) del 2 al 15% y preferiblemente del 4 al 10%. Para fabricar unidades de acristalamiento opacas para utilizar como antepechos, el documento EP 962429 enseña aplicar una capa adicional de color (por ejemplo, hecha de esmalte sobre el apilamiento de capas descrito anteriormente).

El documento DE4243930 describe un sustrato revestido (vidrio) con un apilamiento de capas que comprende, en orden, al menos: un sustrato transparente; una primera capa dieléctrica (A) que es una capa de óxido de metal dieléctrico de alto índice de refracción; una segunda capa dieléctrica (B) que es una capa dieléctrica de bajo índice de refracción de metal o de óxido de silicio; y iv. una única capa (C) a base de cromo. El índice de refracción de (A) es 2,3 (véase la línea 17 página 4) y el índice de refracción de (B) es 1,4 (véase la línea 34 página 4). La diferencia es que tiene una transmisión de luz de como máximo un 2%. El documento EP0456488 describe un espejo de superficie frontal que comprende: sustrato; capa de metal; primera capa dieléctrica; y segunda capa dieléctrica. Se prefieren las capas dieléctricas tercera y cuarta y también se incluye una capa protectora. Las capas dieléctricas son preferiblemente óxidos, esp. de Ti, Si, Al, Ta, Sn o Zn.

De acuerdo con uno de sus aspectos, el objeto de la presente invención es un sustrato revestido como se reivindica en la reivindicación 1, definiendo las reivindicaciones dependientes realizaciones preferidas.

La FIG. 1 muestra un sustrato revestido con un apilamiento de capas de acuerdo con la presente invención. (no a escala)

La FIG. 2 muestra otro sustrato revestido con un apilamiento de capas de acuerdo con la presente invención.

La FIG. 3 muestra otro sustrato revestido con un apilamiento de capas de acuerdo con la presente invención.

La FIG. 4 muestra otro sustrato revestido con un apilamiento de capas de acuerdo con la presente invención.

La invención se refiere a un sustrato revestido con un apilamiento de capas que comprende, en orden, al menos

i. un sustrato transparente (S);

ii. una primera capa dieléctrica que es una capa dieléctrica (H1 ) de alto índice de refracción;

iii. segunda capa dieléctrica que es una capa dieléctrica (L1) de bajo índice de refracción; y

iv. una única capa a base de cromo.

Tales sustratos revestidos, en virtud de al menos este trío específico de capas H1/L1/a base de cromo, tienen la ventaja de proporcionar paneles que:

• son reflectantes, que tienen una reflectancia de la luz del lado del vidrio RLv > 50% y preferiblemente > 60%, más preferiblemente > 70% y una reflectancia del lado del revestimiento RLc > 40%, preferiblemente > 45%, más preferiblemente > 50%

• son opacos, que tienen una transmisión de luz TL < 2%, preferiblemente < 1% y más preferiblemente < 0,5%;

• son de aspecto neutro en la reflexión del lado del vidrio (valores CIELAB -5 < a* < 5, preferiblemente -3 < a* < 3 y -6 < b* < 6 y preferiblemente -4 < b* < 4 bajo iluminante D65);

• son resistentes a las pruebas de durabilidad química habituales (prueba CASS, prueba de niebla salina neutra, prueba de condensación, prueba de cámara ambiental, prueba de Cleveland);

• se obtienen mediante un proceso más respetuoso con el medio ambiente (proceso de pulverización catódica o PECVD en comparación con un proceso húmedo);

• no requieren una capa de pintura o esmalte, generalmente costosa, y evitan la utilización de plomo, que convencionalmente está presente en las pinturas utilizadas para los espejos;

• no requieren más de una sola capa a base de cromo; y

• requieren como máximo dos capas dieléctricas que tengan un alto índice de refracción que se sabe que tienen tasas de deposición bajas.

La figura 1 muestra un sustrato (S) revestido con una primera capa dieléctrica (H1) que es una capa de alto índice de refracción. Una segunda capa dieléctrica (L1) que es una capa de bajo índice de refracción está presente en la primera capa dieléctrica (H1) y una única capa (C) a base de cromo está presente en la segunda capa dieléctrica (L2).

El sustrato transparente (S) de acuerdo con la invención es preferiblemente un sustrato de acristalamiento, por ejemplo, un sustrato de vidrio flotado, de cal sodada, transparente, de color o extra transparente (es decir, que tiene un contenido de Fe más bajo y una transmitancia más alta) que posiblemente tenga un grosor típicamente comprendido entre 2 y 12 mm. Sin embargo, la invención también puede aplicarse a sustratos de plástico, por ejemplo hechos de PMMA. Es necesario que el sustrato sea transparente porque, cuando se utiliza tal panel, la luz pasa una primera vez a través del sustrato, se refleja desde el apilamiento de capas según la invención y luego pasa una segunda vez a través del sustrato. Un usuario que mira su imagen en un panel reflectante de acuerdo la invención está por lo tanto mirando hacia el lado "sustrato" del panel, estando el apilamiento de capas ubicado en la otra cara del sustrato, es decir, la opuesta al usuario.

La expresión "capa a base de cromo" se entiende como una capa que comprende al menos un 50% en peso de cromo, preferiblemente al menos un 60%, al menos un 70% o al menos un 80% y aún más preferiblemente que comprende al menos un 90% en peso de cromo o al menos un 95%. Ventajosamente, las capas a base de cromo consisten esencialmente en cromo, es decir, consisten en cromo que, no obstante, puede contener otros componentes minoritarios siempre que estos últimos no afecten a las propiedades esenciales de la composición básica. La expresión "única capa a base de cromo" no excluye que la capa pueda depositarse en más de una etapa, por ejemplo en dos o más etapas consecutivas de deposición por pulverización catódica. En una realización preferida, la "capa a base de cromo" comprende menos del 50% en peso de níquel, más preferiblemente menos del 40% en peso de níquel, más preferiblemente menos del 30% en peso de níquel, más preferiblemente menos del 20% en peso de níquel, más preferiblemente menos del 10% en peso de níquel. En otra realización preferida, la "capa a base de cromo" no comprende níquel. De hecho, se observó que los contenidos más bajos de níquel aumentan la durabilidad química de los apilamientos de capas de la presente invención.

En una realización de la presente invención, el sustrato es revestido con un apilamiento de capas que comprende, en orden, al menos

i. un sustrato transparente (S);

ii. una primera capa dieléctrica que es una capa dieléctrica (H1) de alto índice de refracción;

iii. una segunda capa dieléctrica que es una capa dieléctrica (L1) de bajo índice de refracción;

iv. una tercera capa dieléctrica que es una capa dieléctrica (H2) de alto índice de refracción; y

v. una única capa a base de cromo.

La figura 2 muestra un sustrato (S) revestido con una primera capa dieléctrica (H1) que es una capa de alto índice de refracción. Una segunda capa dieléctrica (L1) que es una capa de bajo índice de refracción está presente en la primera capa dieléctrica (H1) y una tercera capa dieléctrica (H2) que es una capa de alto índice de refracción está presente en la segunda capa dieléctrica (L1). Una sola capa (C) a base de cromo está presente en la tercera capa dieléctrica (H2).

En otra realización de la presente invención, el sustrato es revestido con un apilamiento de capas que comprende, en orden, al menos

i. un sustrato transparente (S);

v. una cuarta capa dieléctrica que es una capa dieléctrica (L2) de bajo índice de refracción; y

vi. una única capa a base de cromo.

La figura 3 muestra un sustrato (S) revestido con una primera capa dieléctrica (H1) que es una capa de alto índice de refracción. Una segunda capa dieléctrica (L1) que es una capa de bajo índice de refracción está presente en la primera capa dieléctrica (H1) y una tercera capa dieléctrica (H2) que es una capa de alto índice de refracción está presente en la segunda capa dieléctrica. Una cuarta capa dieléctrica (L2) que es una capa de bajo índice de refracción está presente en la tercera capa dieléctrica (H2) y una única capa (C) a base de cromo está presente en la cuarta capa dieléctrica (H2).

Ventajosamente, la capa o capas dieléctricas (H1, H2) de alto índice de refracción de acuerdo con la invención comprenden, o más preferiblemente, consisten esencialmente en, un material que tiene un coeficiente k de absorción a una longitud de onda 550 nm inferior a 0,1, y un índice n de refracción a una longitud de onda de 550 nm comprendido entre 2,1 y 2,8. Las capas (H1, H2) de alto índice de refracción pueden tener composiciones diferentes. Preferiblemente, la capa o capas dieléctricas (H1, H2) de alto índice de refracción comprenden, o consisten esencialmente en, un material elegido entre óxidos de titanio, óxidos de circonio, óxidos de niobio, óxidos de hafnio, óxidos de bismuto y mezclas de al menos dos de ellos. Los óxidos de Zr, Nb o Ti y las mezclas de al menos dos de ellos son generalmente preferidos por su particular resistencia a los tratamientos térmicos. Más preferiblemente, la capa o capas dieléctricas (H1, H2) de alto índice de refracción consisten esencialmente en TixZryOz. TixZryOz (TZO) es un óxido mixto de titanio y circonio, que comprende al menos un 35% en peso de óxido de titanio, preferiblemente al menos un 40% en peso de óxido de titanio, más preferiblemente al menos un 50% de óxido de titanio. La expresión "capa constituida esencialmente por TixZryOz" también se entiende que incluye capas dopadas con al menos otro elemento y que contienen como máximo un 10% en peso de este al menos otro elemento, teniendo dichas capas dopadas propiedades dieléctricas que prácticamente no difieren de las de las capas puras de TixZryOz (por ejemplo, las capas depositadas mediante procesos de pulverización catódica utilizando un objetivo de TiZr que contiene hasta un 10% en peso de Al). La capa o capas dieléctricas (H1, H2) de alto índice de refracción de acuerdo con la invención pueden consistir además en una pluralidad de subcapas individuales que comprenden o consisten esencialmente en los materiales anteriores. En este caso, no es necesario que las subcapas individuales tengan exactamente la misma composición.

Ventajosamente, la capa o capas dieléctricas (L1, L2) de bajo índice de refracción de acuerdo con la invención comprenden, o más preferiblemente, consisten esencialmente en, un material que tiene un coeficiente k de absorción a una longitud de onda de 550 nm inferior a 0,1, y un índice n de refracción a una longitud de onda de 550 nm inferior a 1,9, preferiblemente inferior a 1,8, más preferiblemente comprendido entre 1,4 y 1,8. Las capas dieléctricas (L1, L2) de bajo índice de refracción pueden tener composiciones diferentes. Preferiblemente, la capa o capas dieléctricas (L1, L2) de bajo índice de refracción comprenden, o consisten esencialmente en, un material elegido entre los óxidos de silicio, los óxidos de aluminio y las mezclas de al menos dos de ellos. Generalmente se prefieren los óxidos de silicio por su particular resistencia a los tratamientos térmicos. Más preferiblemente, la capa o capas dieléctricas (L1, L2) de bajo índice de refracción consisten esencialmente en óxido de silicio (SiOx, con x comprendida entre 1,6 y 2,1). La expresión "capa constituida esencialmente por óxidos de silicio" también se entiende que incluye capas dopadas con al menos otro elemento y que contienen como máximo aproximadamente un 10% en peso de este al menos otro elemento, teniendo dichas capas dopadas propiedades dieléctricas que prácticamente no se diferencian de las de las capas de óxido de silicio puro (por ejemplo, las capas depositadas por procesos de pulverización catódica utilizando un objetivo de SiAl que contiene hasta un 10% en peso de Al). La capa o capas dieléctricas (L1, L2) de bajo índice de refracción de acuerdo con la invención pueden consistir además en una pluralidad de subcapas individuales que comprenden o consisten esencialmente en los materiales anteriores. En este caso, no es necesario que las subcapas individuales tengan exactamente la misma composición.

El grosor geométrico de la única capa (C) a base de cromo es preferiblemente de al menos 15 nm o al menos 20 nm y más preferiblemente de al menos 25 nm; es preferiblemente como máximo 70 nm o como máximo 50 nm y más preferiblemente como máximo 40 nm. La función principal de la única capa (C) a base de cromo es la reflexión y la absorción y tales grosores son particularmente adecuados para esta función, además de satisfacer las demás propiedades del panel de acuerdo con la invención. La capa (C) a base de cromo de acuerdo con la invención puede consistir además en una pluralidad de capas individuales que comprenden o consisten esencialmente en los materiales anteriores. De acuerdo con la presente invención, la única capa (C) a base de cromo es la única capa de metal presente en el apilamiento de capas. Esto no excluye que la única capa (C) a base de cromo se forme en más de una etapa, por ejemplo, mediante al menos dos etapas de pulverización catódica consecutivas.

Ventajosamente, el grosor óptico de la primera capa dieléctrica (H1) es de al menos 100 nm o preferiblemente de al menos 110 nm y más preferiblemente de al menos 120 nm; es como máximo 300 nm o preferiblemente como máximo 280 nm y más preferiblemente como máximo 260 nm. Se recordará que el grosor óptico de una capa es el producto del grosor geométrico de la capa y el índice de refracción (a una longitud de onda de 550 nm) del material que forma la capa. La función principal de la primera capa dieléctrica (H1) de la presente invención es aumentar la reflexión ya obtenida con la única capa a base de cromo y ajustar el color y por lo tanto la neutralidad del color; tales grosores son particularmente adecuados para esta función, además de satisfacer las demás propiedades del panel de acuerdo con la invención. Si la primera capa dieléctrica (H1) consiste en una pluralidad de subcapas, el grosor óptico de la primera capa dieléctrica (H1) es igual a la suma de los grosores ópticos de estas subcapas individuales. En el caso preferido de una primera capa dieléctrica (H1) que consiste esencialmente en TiO2 o TixZryOz, el grosor geométrico de esta última está preferiblemente comprendido entre 50 y 150 nm y más preferiblemente entre 60 y 125 nm.

Ventajosamente, el grosor óptico de la segunda capa dieléctrica (L1) es de al menos 70 nm o preferiblemente de al menos 80 nm y más preferiblemente de al menos 95 nm; es como máximo 200 nm o preferiblemente como máximo 180 nm y más preferiblemente como máximo 160 nm. Si la segunda capa dieléctrica (L1) consiste en una pluralidad de subcapas, el grosor óptico de la capa dieléctrica es igual a la suma de los grosores ópticos de estas subcapas individuales. En el caso preferido de la segunda capa dieléctrica que consiste esencialmente en SiOx o SiAlOx, el grosor geométrico de esta última está preferiblemente comprendido entre 50 y 120 nm y más preferiblemente entre 55 y 110 nm, lo más preferiblemente entre 55 y 70 nm. SiAlOx indica un óxido mixto de silicio y aluminio que comprende SiO2 y ALO3 pulverizado a partir de un objetivo de SiAl metálico que comprende hasta un 10% en peso de aluminio.

En determinadas realizaciones de la invención, el apilamiento de capas comprende una tercera capa dieléctrica que es una capa dieléctrica (H2) de alto índice de refracción. La tercera capa dieléctrica (H2) se deposita sobre la segunda capa dieléctrica (L1) y se sitúa por debajo de la única capa a base de cromo. La tercera capa dieléctrica (H2), que es una capa de alto índice de refracción, se encuentra, por lo tanto, entre la segunda capa dieléctrica (L1) y la única capa (C) a base de cromo.

Ventajosamente, el grosor óptico de la tercera capa dieléctrica (H2) es de al menos 90 nm o preferiblemente de al menos 110 nm y más preferiblemente de al menos 120 nm; es como máximo 250 nm o preferiblemente como máximo 230 nm y más preferiblemente como máximo 180 nm. Las funciones principales de la tercera capa dieléctrica (H2) en la presente invención son aumentar aún más la reflexión ya obtenida con el trío de capas H1/L1/a base de cromo (es decir: primera capa dieléctrica/segunda capa dieléctrica/capas simples a base de cromo) y para mantener la neutralidad del color; tales grosores son particularmente adecuados para esta función, además de satisfacer las demás propiedades del panel de acuerdo con la invención. Si la tercera capa dieléctrica (H2) consiste en una pluralidad de subcapas, el grosor óptico de la capa dieléctrica es igual a la suma de los grosores ópticos de estas subcapas individuales. En el caso preferido de una capa dieléctrica que consiste esencialmente en TiO2 o Tix ZryOz, el grosor geométrico de esta última está preferiblemente comprendido entre 40 y 120 nm y más preferiblemente entre 45 y 115 nm.

En determinadas realizaciones preferidas de la invención, el grosor óptico de la tercera capa dieléctrica (H2) no es más del 95% del grosor óptico de la primera capa dieléctrica (H1).

En determinadas realizaciones de la invención, el apilamiento de capas comprende una tercera capa dieléctrica que es una capa dieléctrica (H2) de alto índice de refracción. La tercera capa dieléctrica (H2) se deposita sobre la segunda capa dieléctrica (L1). Esta realización comprende además una cuarta capa dieléctrica que es una capa dieléctrica (L2) de bajo índice de refracción. La cuarta capa dieléctrica (L2) se deposita sobre la tercera capa dieléctrica y se sitúa por debajo de la única capa a base de cromo. La cuarta capa dieléctrica (L2), que es una capa dieléctrica de bajo índice de refracción, se encuentra, por lo tanto, entre la tercera capa dieléctrica (H2) y la única capa (C) a base de cromo.

Ventajosamente, el grosor óptico de la cuarta capa dieléctrica (L2) es de al menos 90 nm o preferiblemente de al menos 100 nm y más preferiblemente de al menos 110 nm; es como máximo 200 nm o preferiblemente como máximo 180 nm y más preferiblemente como máximo 160 nm. Las funciones principales de la cuarta capa dieléctrica (L2) en la presente invención son aumentar aún más la reflexión ya obtenida con la única capa a base de cromo y la primera, segunda y tercera capas dieléctricas y mantener la neutralidad del color; tales grosores son particularmente adecuados para esta función, además de satisfacer las demás propiedades del panel de acuerdo con la invención. Si la cuarta capa dieléctrica (L2) consiste en una pluralidad de subcapas, el grosor óptico de la cuarta capa dieléctrica (L2) es igual a la suma de los grosores ópticos de estas subcapas individuales. En el caso preferido de una cuarta capa dieléctrica (L2) que consiste esencialmente en SiO2 o SiAlOx, el grosor geométrico de esta última está preferiblemente comprendido entre 50 y 100 nm y más preferiblemente entre 60 y 90 nm.

En determinadas formas de la invención, el apilamiento de capas comprende además, a modo de última capa del apilamiento (lado opuesto al sustrato), una capa protectora (P). Esta capa proporciona al panel revestido una protección mecánica adicional durante la manipulación y también limita la variación de las propiedades ópticas del apilamiento de capas tras el tratamiento térmico, tal como el templado térmico. Tal sustrato revestido, en virtud de esta capa protectora adicional, tiene la ventaja de proporcionar paneles que son:

• reflectante, que tiene una reflectancia de la luz del lado del vidrio RLv > 50% y preferiblemente > 60%, más preferiblemente > 70% y una reflectancia del lado del revestimiento RLc > 40%, preferiblemente > 45%, más preferiblemente > 50%, tanto sin haber sido sometido a un tratamiento térmico como después del tratamiento térmico;

• opaco, que tiene una transmisión de luz TL < 2%, preferiblemente < 1% y más preferiblemente < 0,5%;

• capaz de ser utilizado tanto sin haber sido sometido a un tratamiento térmico como después del tratamiento térmico;

• de aspecto neutro en reflexión del lado del vidrio (-5 < a* < 5, preferiblemente -3 < a* < 3 y -6 < b* < 6 y preferiblemente -4 < b* < 4 bajo iluminante D65);

La figura 4 muestra un sustrato (S) revestido con una primera capa dieléctrica (H1) que es una capa de alto índice de refracción. Una segunda capa dieléctrica (L1) que es una capa de bajo índice de refracción está presente en la primera capa dieléctrica (H1) y una tercera capa dieléctrica (H2) que es una capa de alto índice de refracción está presente en la segunda capa dieléctrica. Una cuarta capa dieléctrica (L2) que es una capa de bajo índice de refracción está presente en la tercera capa dieléctrica (H2) y una única capa (C) a base de cromo está presente en la cuarta capa dieléctrica (H2). La última capa del apilamiento, sobre la capa a base de cromo, es la capa protectora (P).

Preferiblemente, la capa protectora (P) comprende, o consiste esencialmente en, un material elegido entre los óxidos de silicio, los óxidos de aluminio, los nitruros de silicio, los nitruros de aluminio y sus mezclas. Generalmente se prefieren los óxidos o nitruros de silicio o aluminio por su particular resistencia a los tratamientos térmicos. Más preferiblemente, la capa protectora (P) consiste esencialmente en nitruro de silicio u óxido de silicio. También se entiende que las expresiones "capa constituida esencialmente por nitruro de silicio" y "capa constituida esencialmente por óxido de silicio" incluyen capas dopadas con al menos otro elemento y que contienen como máximo aproximadamente un 10% en peso de este al menos otro elemento, teniendo dichas capas dopadas unas propiedades dieléctricas que son prácticamente iguales a las de las capas de nitruro de silicio puro o de óxido de silicio (por ejemplo, capas depositadas por procesos de pulverización catódica utilizando un objetivo de silicio que contiene hasta un 10% en peso de aluminio). La capa protectora (P) tiene preferiblemente un grosor geométrico comprendido entre 5 y 40 nm, más preferiblemente entre 10 y 30 nm.

En otras realizaciones de la invención, pueden estar presentes otras capas: ya sea sobre el sustrato, en la cara opuesta a la que lleva el apilamiento de capas de acuerdo con la invención (por ejemplo, una capa antirreflectante), o entre el sustrato y la primera capa dieléctrica ( por ejemplo, una capa de barrera), o incluso entre la única capa de cromo y la capa protectora opcional (por ejemplo, una capa que mejora la resistencia al rayado), siempre que estas capas no degraden las propiedades de la invención antes mencionadas.

Ventajosamente, los sustratos revestidos de acuerdo con la invención tienen una reflectancia de la luz del lado del vidrio (RLv-D65-2°) de al menos el 40% o al menos el 50%, preferiblemente de al menos el 60% e incluso de al menos el 65% o al menos el 70%, antes y después del tratamiento térmico opcional. Su transmisión de luz (TL-D65) es como máximo del 2% o como máximo del 1% y preferiblemente como máximo del 0,5%, preferiblemente tanto antes como después del tratamiento térmico opcional. Su reflectancia del lado del revestimiento (RLc-D65-2°) es preferiblemente de al menos el 40%, más preferiblemente > 45%, aún más preferiblemente > 50%.

Ventajosamente, los sustratos revestidos según la invención tienen además un tinte neutro cuando se examinan en reflexión desde el lado del vidrio, es decir, sus valores a* y b* (valores CIELAB L*a*b*-D65-2°) son tales que -5 < a* < 5 y -6 < b* < 6 y preferiblemente -3 < a* < 3 y -4 < b* < 4.

En una realización de la presente invención la capa primera capa dieléctrica (H1) está en contacto directo con el sustrato transparente (S).

En una realización preferida de la presente invención, la primera capa dieléctrica (H1) está en contacto directo con la segunda capa dieléctrica (L1).

En otra realización preferida de la presente invención, la segunda capa dieléctrica (L1) está en contacto directo con la única capa (C) a base de cromo.

En otra realización preferida de la presente invención, la segunda capa dieléctrica (L1) está en contacto directo con la tercera capa dieléctrica (H2).

En otra realización preferida de la presente invención, la tercera capa dieléctrica (H2) está en contacto directo con la única capa (C) a base de cromo.

En otra realización preferida de la presente invención, la tercera capa dieléctrica (H2) está en contacto directo con la cuarta capa dieléctrica (L2). En otra realización preferida de la presente invención, la cuarta capa dieléctrica (L2) está en contacto directo con la única capa (C) a base de cromo.

Los sustratos revestidos de acuerdo con la invención son resistentes a las pruebas químicas de durabilidad habituales: por lo tanto, resisten, es decir, cumplen con los criterios de aceptación para la corrosión de bordes y fallos puntuales, tanto antes como después del tratamiento térmico opcional:

• la prueba de niebla salina con ácido acético acelerado con cobre (CASS) de acuerdo con la norma ISO 9227 2006, preferiblemente durante al menos 5 días;

• la prueba de niebla salina neutra (NSS) de acuerdo con la norma EN 1096-2:2001, preferiblemente durante al menos 20 días;

• la prueba de agua de condensación (COND) de acuerdo con la norma EN 1036-2008, preferiblemente durante al menos 20 días;

• la prueba de condensación continua (prueba de Cleveland, CLEV) de acuerdo con la norma ISO 6270-1: 1998, preferiblemente durante al menos 15 días.

Preferiblemente, son, tanto antes como después del tratamiento térmico opcional, compatibles y por lo tanto químicamente resistentes a los adhesivos habitualmente utilizados para la fijación de los paneles a un soporte (por ejemplo: adhesivos alcoxi y adhesivos acéticos).

Ventajosamente, también tienen una buena durabilidad mecánica y son, tanto antes como después del tratamiento térmico opcional, resistentes:

• a la prueba de cepillo seco (DBT) de acuerdo con la norma ASTM D2486-00 (método “A” de prueba), preferiblemente durante al menos 1000 ciclos; y

• a la prueba de fieltro (FT) de acuerdo con la norma EN1096-2: 2001, preferiblemente durante al menos 500 ciclos. Las muestras de vidrio revestido se consideran resistentes a las pruebas DBT y FT cuando no se observan rayones visibles después de la prueba. Las muestras se examinan en reflexión bajo un cielo artificial como se describe en los capítulos 8.2 y 8.3 de la norma EN 1096-1:2012, pero a una distancia de 1 m del sustrato revestido.

Las capas de acuerdo con la invención se depositan ventajosamente sobre el sustrato mediante un sistema de deposición física de vapor (PVD), por ejemplo mediante pulverización catódica al vacío reactiva con magnetrón.

En una realización preferida de la presente invención, las capas de acuerdo con la invención se depositan mediante Deposición Química en Fase de Vapor Potenciada con Plasma (PECVD). Con PECVD se pueden obtener tasas de deposición más altas.

Se describirán ahora realizaciones particulares de la invención a modo de ejemplo. Las propiedades ópticas se midieron bajo iluminante D65.

EJEMPLOS

En una línea industrial de revestimiento al vacío, se revistieron sustratos de vidrio flotado de cal sodada transparente normal de aproximadamente 4 mm de grosor mediante pulverización catódica de magnetrón con diferentes apilamientos de capas, formando los sustratos revestidos mostrados a continuación. Las capas de TZO (Tix ZryOz) en estos ejemplos consisten en un óxido mixto de titanio y zirconio que comprende el 50% en peso de óxido de titanio y el 46% en peso de óxido de zirconio.

EJEMPLO 1

El ejemplo 1 tiene la siguiente estructura: vidrio/TZO[53 nm]/SiO2[75 nm]/Cr[45 nm]/

Los grosores dados entre los corchetes son grosores geométricos.

El ejemplo 1 mostró una reflectancia del lado del revestimiento del 65% y un color en la reflexión sobre lado del revestimiento caracterizado por un L* = 84,5, un a* = -0,5 y un b* = - 3,0, así como una reflectancia del lado del revestimiento del 73% y un color en reflexión sobre el lado del revestimiento caracterizado por un L* = 88,5, un a* = -4,5 y un b* = 0,1. Además mostró una transmitancia del 1,0%.

EJEMPLO 2

El ejemplo 2 tiene la siguiente estructura: vidrio/TZO[53 nm]/SiO2[75 nm]/Cr[35 nm]/S¡C>2[27 nm]/

Mostró una reflectancia del lado del revestimiento del 55,3% y un color en reflexión sobre el lado del revestimiento caracterizado por un L* = 79,2, un a* = -0,7 y un b* = 0,3, así como una reflectancia del lado del vidrio del 72,8% y un color en reflexión sobre el lado del vidrio caracterizado por un L* = 88,4, un a* = -4,8 y un b* = 0,1. Además mostró una transmitancia del 2,0%.

Los niveles de reflexión y transmisión del lado del vidrio casi no mostraron cambios después del tratamiento térmico, es decir, las variaciones siempre estuvieron por debajo del 2%.

EJEMPLO 3

El ejemplo 3 tiene la siguiente estructura: vidrio/TZO[95,9 nm]/SiO2[89,1 nm]/TZO[88,3 nm]/Cr[50 nm]/

Mostró una reflectancia del lado del revestimiento del 64,9% y un color en reflexión sobre el lado del revestimiento caracterizado por un L* = 84,5, un a* = -0,5 y un b* = -3, así como una reflectancia del lado del vidrio del 66,6% y un color en reflexión sobre el lado del vidrio caracterizado por un L* = 85,2, un a* = -2,2 y un b* = 3,1.

Además mostró una transmitancia del 0,7%.

EJEMPLO 4

El ejemplo 4 tiene la siguiente estructura: vidrio/TZO[95,9 nm]/SiO2[88,9 nm]/TZO[88,4 nm]/Cr[50 nm]/SiO2[15 nm]/

Mostró una reflectancia del lado del revestimiento del 61,8 % y un color en reflexión sobre el lado del revestimiento caracterizado por un L* = 82,9, un a* = -0,5 y un b* = -2, así como una reflectancia del lado del vidrio del 66,6% y un color en reflexión sobre el lado del vidrio caracterizado por un L* = 85,2, un a* = -2,2 y un b* = 3,1. Además mostró una transmitancia del 0,8%.

Los niveles de reflexión y transmisión del lado del vidrio casi no mostraron cambios después del tratamiento térmico.

EJEMPLO 5

El ejemplo 5 tiene la siguiente estructura: vidrio/TZO[95,9 nm]/SiO2[89 nm]/TZO[88,3 nm]/Cr[50 nm]/Si3N4[15 nm]/

Mostró una reflectancia del lado del revestimiento del 55,4 % y un color en la reflexión sobre el lado del revestimiento caracterizado por un L* = 79,2, un a* = -0,4 y un b* = 1,2, así como una reflectancia del lado del vidrio del 66,7% y un color en reflexión sobre el lado del vidrio caracterizado por un L* = 85,2, un a* = -2,2 y un b* = 3,1. Además mostró una transmitancia del 0,9%.

EJEMPLO 6

El ejemplo 6 tiene la siguiente estructura: vidrio/TZO[98,8 nm]/SiO2[88,8 nm]/TZO[53 nm]/SiO2[70,7 nm]/Cr[50 nm]/

Mostró una reflectancia del lado del revestimiento del 64,5% y un color en reflexión sobre el lado del revestimiento caracterizado por un L* = 84,3, un a* = -0,7 y un b* = -2,9, así como una reflectancia del lado del vidrio del 81,2% y un color en reflexión sobre el lado del vidrio caracterizado por un L* = 92,2, un a* = -0,7 y un b* = 0,7. Además mostró una transmitancia del 0,3%.

EJEMPLO 7

El ejemplo 7 tiene la siguiente estructura: vidrio/TZO[99 nm]/SiO2[88,6 nm]/TZO[52,9 nm]/SiO2[71,2 nm]/Cr[50nm]/SiO2[15nm]/

Mostró una reflectancia del lado del revestimiento del 61,4 % y un color en la reflexión sobre el lado del revestimiento caracterizado por un L* = 82,7, un a* = -0,6 y un b* = -1,9, así como una reflectancia del lado del vidrio del 81,2 % y un color en reflexión sobre el lado del vidrio caracterizado por un L* = 92,2, un a* = -0,7 y un b* = 0,7. Además exhibió una transmitancia del 0,4%.

EJEMPLO 8

El ejemplo 8 tiene la siguiente estructura: vidrio/TZO[98,8 nm]/SiO2[89,2 nm]/TZO[53 nm]/SiO2[70,3 nm]/Cr[50nm]/Si3N4[15nm]/

Mostró una reflectancia del lado del revestimiento del 55% y un color en reflexión sobre el lado del revestimiento caracterizado por un L* = 79, un a* = -0,5 y un b* = 1,4, así como una reflectancia del lado del vidrio del 81,3% y un color en reflexión sobre el lado del vidrio caracterizado por un L* = 92,2, un a* = -0,7 y un b* = 0,7. Además mostró una transmitancia del 0,4%.

Los niveles de reflexión y transmisión del lado del vidrio casi no mostraron cambios después del tratamiento térmico. EJEMPLO 9

El ejemplo 9 tiene la siguiente estructura: vidrio/TZO[100 nm]/SiO2[92 nm]/TZO[53 nm]/SiO2[70 nm]/Cr[35 nm]/SiO2[27 nm]/ Mostró una reflectancia del lado del revestimiento del 55,9% y un color de reflexión sobre el lado del revestimiento caracterizado por un L* = 79,6, un a* = -0,7 y un b* = -0,1, así como una reflectancia del lado del vidrio del 80,2% y un color en reflexión sobre el lado del vidrio caracterizado por un L* = 91,7, un a* = -0,36 y un b* = 0,14. Además, mostró una transmitancia del 0,92% incluso con un grosor de capa de Cr más bajo de 35 nm.

Los niveles de reflexión y transmisión del lado del vidrio casi no mostraron cambios después del tratamiento térmico. EJEMPLO 10

El ejemplo 10 tiene la siguiente estructura: vidrio/TZO[115 nm]/SiO2[64,3 nm]/TZO[66,5 nm]/SiO2[30,8 nm]/Cr[50 nm]/SiO2[20 nm]/

Mostró una reflectancia del lado del revestimiento del 60% y un color de reflexión del lado del revestimiento caracterizado por un L* = , un a* = y un b* = , así como una reflectancia del lado del vidrio del 77,7% y un color de reflexión del el lado de vidrio caracterizado por un L* = 90,7, un a* = 0,1 y un b* = 1,0. Además mostró una transmitancia del 0,5%.

En particular, se observó sorprendentemente que este apilamiento tenía un color particularmente neutro de reflectancia del lado del vidrio medida a 55° con a* = -0,8 y b* = -0,7

Los niveles de reflexión y transmisión del lado del vidrio casi no mostraron cambios después del tratamiento térmico. EJEMPLO 11

El ejemplo 11 tiene la siguiente estructura: vidrio/TZO[96,4 nm]/SiO2[81,1 nm]/TZO[50,9 nm]/SiO2[90,6 nm]/Cr[35 nm]/TZO[34,8 nm]/SiO2[77,6 nm]/TZO[47,1 nm]/SiO2[76,7 nm]/TZO[47 nm]/

Mostró una reflectancia del lado del revestimiento del 68,8% y un color en la reflexión del lado del revestimiento caracterizado por un L* = 85,7, un a* = 5,2 y un b* = 6,7, así como una reflectancia del lado del vidrio del 80% y un color en reflexión sobre el lado del vidrio caracterizado por un L* = 91,6, un a* = 0,4 y un b* = 0,1. Además mostró una transmitancia del 1%.

EJEMPLO COMPARATIVO C1

El ejemplo comparativo C1 tiene la siguiente estructura: vidrio/TZO[93,8 nm]/SiO2[81,6 nm]/TZO[49,2 nm]/

Mostró una reflectancia del lado del revestimiento del 52,6% y un color en reflexión en el lado del revestimiento caracterizado por un L* = 77,2, un a* = 1,7 y un b* = 9,7, así como una reflectancia del lado del vidrio del 50,4% y un color en reflexión sobre el lado del vidrio caracterizado por un L* = 75,9, un a* = 0,3 y un b* = 9,8. Además mostró una transmitancia del 46,4%. Así, C1, a pesar de tener una alta reflectancia en ambos lados, no forma un espejo opaco. EJEMPLO COMPARATIVO C2

El ejemplo comparativo C2 tiene la siguiente estructura: vidrio/TZO[100,3 nm]/SiO2[89,1 nm]/TZO[52,7 nm]/SiO2[88,8 nm]/TZO[53 nm]/

Mostró una reflectancia del lado del revestimiento del 73,1% y un color en la reflexión sobre el lado del revestimiento caracterizado por un L* = 88,4, un a* = -1,1 y un b* = 2, así como una reflectancia del lado del vidrio del 70% y un color en reflexión sobre el lado del vidrio caracterizado por un L* = 86,9, un a* = -2,7 y un b* = 2,4. Además mostró una transmitancia del 26,2%. Así C2, a pesar de tener una alta reflectancia en ambos lados, no forma un espejo opaco. Además, C2 se basa en lograr un alto nivel de reflectancia mediante la utilización de tres capas de TZO de alto índice de refracción que se sabe que tienen bajas tasas de deposición. Esto conduce a aumentar los costes de producción de tal apilamiento de capas.

EJEMPLO COMPARATIVO C3

El ejemplo comparativo C3 tiene la siguiente estructura: vidrio/NbOx[105 nm]/SiO2[88 nm]/NbOx[53 nm]/SiO2[88 nm]/NbOx[53 nm]/

Mostró una reflectancia del lado del revestimiento del 68 % y un color en reflexión sobre el lado del revestimiento caracterizado por un L* = 85,8%, un a* = -1,28 y un b* = 0,01, así como una reflectancia del lado del vidrio del 70% y un color en reflexión sobre el lado del vidrio caracterizado por un L* = 86,9, un a* = -0,04 y un b* = -0,08. Además mostró una transmitancia del 30%. Así C3, a pesar de tener una alta reflectancia en ambos lados, no forma un espejo opaco. Además, C3 se basa en lograr un alto nivel de reflectancia mediante la utilización de tres capas de alto índice de refracción de NbOx que se sabe que tienen bajas tasas de deposición. Esto conduce a aumentar los costes de producción de un apilamiento de tales capas.

EJEMPLO COMPARATIVO C4

El ejemplo comparativo C4 tiene la siguiente estructura: vidrio/NbOx[102 nm]/SiO2[95 nm]/NbOx[52 nm]/NiCr[10 nm]/SiO2[49 nm]/NbOx[65 nm]/

El NiCr se sometió a pulverización catódica a partir de un objetivo de pulverización catódica de aleación de NiCr típico que tenía aproximadamente un 80% en peso de níquel y aproximadamente un 20% en peso de cromo. Mostró una reflectancia del lado del revestimiento del 73% y una reflectancia del lado del vidrio del 30% y una transmitancia del 18-20 %. Así, C4, a pesar de tener una alta reflectancia en el lado del vidrio, todavía no forma un espejo opaco. Además, C4 se basa en lograr un nivel asimétrico de reflectancia mediante la utilización de tres capas de alto índice de refracción de NbOx que se sabe que tienen bajas tasas de deposición, así como una capa de NiCr. Esto conduce a aumentar los costes de producción de tal apilamiento de capas.

PRUEBAS DE DURABILIDAD

Los ejemplos 1-11 pasaron todos 20 días de prueba CASS, 20 días de prueba NSS, 20 días de prueba COND y 15 días de prueba CLEV.

Las muestras del ejemplo comparativo C4 fallaron después de un máximo de 5 días en la prueba CASS.

Los ejemplos 1-11 también pasaron 1000 ciclos en la prueba DBT y 500 ciclos en la prueba FT.

Se realizó un tratamiento térmico en los ejemplos de la presente invención calentándolos en un horno estático a 670°C durante 4 minutos. Estos parámetros de tratamiento térmico simulan la carga térmica del templado térmico. Para los ejemplos 2, 4, 5, 7, 8, 9, 10 y 11, la transmisión TL permaneció por debajo del 2% incluso después del tratamiento térmico. Tanto la reflectancia del lado del vidrio como la del lado revestido no varían en más del 3-5%.

Para los ejemplos 1,3 y 6, después del tratamiento térmico, la reflectancia del lado del vidrio tampoco varía en más del 3-5% y la transmisión permanece por debajo del 2%, pero la reflectancia del lado del revestimiento varía en un 30% o más.

Claims

REIVINDICACIONES

1. Un sustrato revestido con un apilamiento de capas que comprende, en orden, al menos:

i. un sustrato transparente (S);

iii. una segunda capa dieléctrica que es una capa dieléctrica (L1) de bajo índice de refracción; y

iv. una única capa (C) a base de cromo,

caracterizado por que tiene una transmisión de luz de como máximo el 2%

2. El sustrato revestido según la reivindicación 1, caracterizado por que comprende una tercera capa dieléctrica (H2) que es una capa In de alto índice de refracción entre la segunda capa dieléctrica (L1) y la única capa (C) a base de cromo.

3. El sustrato revestido según la reivindicación 2, caracterizado por que comprende una cuarta capa dieléctrica (L2) que es una capa dieléctrica de bajo índice de refracción entre la tercera capa dieléctrica (H2) y la única capa (C) a base de cromo.

4. El sustrato revestido según las reivindicaciones 1 a 3, caracterizado por que la capa (C) a base de cromo consiste esencialmente en cromo.

5. El sustrato revestido según cualquier reivindicación anterior, caracterizado por que la capa o capas dieléctricas (H1, H2) de alto índice de refracción comprenden un material que tiene un coeficiente k de absorción a una longitud de onda de 550 nm inferior a 0,1, y una índice n de refracción a una longitud de onda de 550 nm comprendido entre 2,1 y 2,8.

6. El sustrato revestido según cualquier reivindicación anterior, caracterizado por que la capa o capas dieléctricas (L1, L2) de bajo índice de refracción comprenden un material que tiene un coeficiente k de absorción a una longitud de onda de 550 nm inferior a 0,1, y una índice n de refracción a una longitud de onda de 550 nm inferior a 1,9, preferiblemente inferior a 1,8, más preferiblemente comprendido entre 1,4 y 1,8.

7. El sustrato revestido según cualquier reivindicación anterior, caracterizado por que la capa o capas dieléctricas (H1, H2) de alto índice de refracción comprenden un material elegido entre los óxidos de titanio, los óxidos de circonio, los óxidos de niobio, los óxidos de hafnio, los óxidos de bismuto y las mezclas de al menos dos de ellos.

8. El sustrato revestido según cualquier reivindicación anterior, caracterizado por que la capa o capas dieléctricas (L1, L2) de bajo índice de refracción comprenden un material elegido entre los óxidos de silicio, los óxidos de aluminio y las mezclas de al menos dos de ellos.

9. El sustrato revestido según cualquier reivindicación anterior, caracterizado por que la capa o capas dieléctricas (H1, H2) de alto índice de refracción comprenden un material elegido entre los óxidos de circonio, niobio o titanio y las mezclas de al menos dos de ellos.

10. El sustrato revestido según cualquier reivindicación anterior, caracterizado por que la capa o capas dieléctricas (L1, L2) de bajo índice de refracción comprenden óxidos de silicio.

11. El sustrato revestido según cualquier reivindicación anterior, caracterizado por que la primera capa dieléctrica (H1) consiste esencialmente en TixZryOz.

12. El sustrato revestido según cualquier reivindicación anterior, caracterizado por que la segunda capa dieléctrica (L1) consiste esencialmente en SiOx, estando x comprendida entre 1,6 y 2 ,1.

13. El sustrato revestido según cualquier reivindicación anterior, caracterizado por que comprende una tercera capa dieléctrica (H2) que es una capa de alto índice de refracción entre la segunda capa dieléctrica (L1) y la única capa (C) a base de cromo y por que la tercera capa dieléctrica (H2) consiste esencialmente en TixZryOz.

14. El sustrato revestido según cualquier reivindicación anterior, caracterizado por que comprende una tercera capa dieléctrica (H2) que es una capa de alto índice de refracción entre la segunda capa dieléctrica (L1) y la única capa (C) a base de cromo y por que comprende una cuarta capa dieléctrica (L2) que es una capa dieléctrica de bajo índice de refracción entre la tercera capa dieléctrica (H2) y la única capa (C) a base de cromo y por que la cuarta capa dieléctrica (L2) consiste esencialmente en SiOx, con x comprendida entre 1,6 y 2,1.

15. El sustrato revestido según cualquier reivindicación anterior, caracterizado por que el grosor geométrico de la única capa (C) a base de cromo está comprendido entre 15 y 70 nm y preferiblemente entre 20 y 50 nm.

16. El sustrato revestido según cualquier reivindicación anterior, caracterizado por que el grosor óptico de la primera capa dieléctrica (H1) está comprendido entre 100 y 300 nm y preferiblemente entre 110 y 280 nm.

17. El sustrato revestido según cualquier reivindicación anterior, caracterizado por que el grosor óptico de la segunda capa dieléctrica (L1) está comprendido entre 70 y 200 nm y preferiblemente entre 80 y 180 nm.

18. El sustrato revestido según cualquier reivindicación anterior, caracterizado por que comprende una tercera capa dieléctrica (H2) que es una capa de alto índice de refracción entre la segunda capa dieléctrica (L1) y la única capa (C) a base de cromo y por que el grosor óptico de la tercera capa dieléctrica (H2) está comprendido entre 90 y 250 nm y preferiblemente entre 110 y 230 nm.

19. El sustrato revestido según cualquier reivindicación anteriores, caracterizado por que comprende una tercera capa dieléctrica (H2) que es una capa de alto índice de refracción entre la segunda capa dieléctrica (L1) y la única capa (C) a base de cromo y por que comprende una cuarta capa dieléctrica (L2) que es una capa dieléctrica de bajo índice de refracción entre la tercera capa dieléctrica (H2) y la única capa (C) a base de cromo y por que el grosor óptico de la cuarta capa dieléctrica (L2 ) está comprendido entre 90 y 200 nm y preferiblemente entre 100 y 180 nm.

20. El sustrato revestido según cualquier reivindicación anterior, caracterizado por que la primera y segunda capas dieléctricas (H1 y L1) están en contacto directo entre sí.

21. El sustrato revestido según cualquier reivindicación anterior, caracterizado por que comprende una tercera capa dieléctrica (H2) que es una capa de alto índice de refracción entre la segunda capa dieléctrica (L1) y la única capa (C) a base de cromo y por que comprende una cuarta capa dieléctrica (L2) que es una capa dieléctrica de bajo índice de refracción entre la tercera capa dieléctrica (H2) y la única capa (C) a base de cromo y por que la tercera capa dieléctrica (H2) está en contacto directo contacto con la segunda capa dieléctrica (L1).

22. El sustrato revestido según cualquiera de las reivindicaciones anteriores, caracterizado por que comprende una tercera capa dieléctrica (H2) que es una capa de alto índice de refracción entre la segunda capa dieléctrica (L1) y la única capa (C) a base de cromo y por que comprende una cuarta capa dieléctrica (L2) que es una capa dieléctrica de bajo índice de refracción entre la tercera capa dieléctrica (H2) y la única capa (C) a base de cromo y por que la cuarta capa dieléctrica (L2) está en contacto directo con la tercera capa dieléctrica (H2).

23. El sustrato revestido según cualquier reivindicación anterior, caracterizado por que comprende como última capa una capa protectora (P) que comprende un material elegido entre los óxidos de silicio, los óxidos de aluminio, los nitruros de silicio, los nitruros de aluminio y las mezclas de los mismos.

24. El sustrato revestido según la reivindicación 20, caracterizado por que la capa protectora (P) tiene un grosor geométrico comprendido entre 5 y 40 nm y preferiblemente entre 10 y 30 nm.

25. El sustrato revestido según cualquier reivindicación anterior, caracterizado por que tiene una reflectancia de la luz del lado del vidrio de al menos el 40%.

26. El sustrato revestido según cualquier reivindicación anterior, caracterizado por que se puede templar térmicamente y por que después del tratamiento térmico tiene una transmisión de luz de como máximo el 2%.