JP7484728B2 - Method for manufacturing polarizing plate and method for manufacturing display device - Google Patents

Method for manufacturing polarizing plate and method for manufacturing display device Download PDF

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Description

本発明は、積層体、偏光板、積層体の製造方法、偏光板の製造方法及び表示装置の製造方法に関する。 The present invention relates to a laminate, a polarizing plate, a method for manufacturing a laminate, a method for manufacturing a polarizing plate, and a method for manufacturing a display device.

液晶表示装置及び有機エレクトロルミネッセンス(EL)表示装置等の表示装置としては、従来から、表示面積が大きく、重量が軽く、且つ厚みが薄いものが求められている。そのため、表示装置を構成するパネルも、従来から薄いものが求められている。 Display devices such as liquid crystal display devices and organic electroluminescence (EL) display devices have traditionally been required to have a large display area, be light in weight, and be thin. As a result, there has also traditionally been a demand for thin panels that make up the display devices.

表示装置には、偏光子及び偏光子を保護する保護フィルムを備える偏光板が一般的に用いられる。厚みの薄い表示装置を構成するために、偏光板も、より薄いものが求められている。特に、偏光子は、表示装置の使用環境において収縮することがあるため、薄く面積が大きい表示装置においては、そのような収縮による反りが問題となりうる。したがって、厚み10μm以下といった薄い偏光子を採用することにより、偏光子の厚みの低減自体による表示装置の厚みの低減に加え、前述のような反りの発生の低減も期待できる。 In display devices, polarizing plates that include a polarizer and a protective film to protect the polarizer are generally used. In order to construct thin display devices, thinner polarizing plates are also required. In particular, polarizers may shrink in the environment in which the display device is used, and warping due to such shrinkage can be a problem in thin, large-area display devices. Therefore, by adopting a thin polarizer, such as one with a thickness of 10 μm or less, not only can the thickness of the display device be reduced by reducing the thickness of the polarizer itself, but the occurrence of warping as described above can also be reduced.

ところが、従来の製造方法により、そのような厚みの薄いポリビニルアルコールの偏光子を製造しようとした場合、偏光子の溶断が頻発する。このような、偏光子の溶断を防ぎ、且つ薄い偏光子を含む偏光板を製造する方法として、いくつかの方法が提案されている。However, when attempting to manufacture such a thin polyvinyl alcohol polarizer using conventional manufacturing methods, the polarizer frequently melts. Several methods have been proposed as a way to prevent such meltdown of the polarizer and to manufacture a polarizing plate that includes a thin polarizer.

例えば、特許文献1では、未延伸高密度ポリエチレン製の基材フィルムに未延伸ポリビニルアルコール系フィルムを貼りつけて積層体とし、当該積層体を延伸処理した後に、基材フィルムを剥離して、ポリビニルアルコール系フィルムを得る方法が提案されている。For example, Patent Document 1 proposes a method in which an unstretched polyvinyl alcohol-based film is attached to a base film made of unstretched high-density polyethylene to form a laminate, and the laminate is stretched, and then the base film is peeled off to obtain a polyvinyl alcohol-based film.

特表2016-505404号公報(対応公報:米国特許出願公開第2016/084990号明細書)JP 2016-505404 A (Corresponding Publication: U.S. Patent Application Publication No. 2016/084990)

特許文献1に記載の方法により、薄い偏光板を製造する場合、積層体を高い延伸倍率で延伸することに起因して、延伸処理後の基材フィルムにおいて位相差が発生することがある。そのような場合に、基材フィルムをそのまま偏光板保護フィルムとして使用することは難しく、剥離して廃棄することになるため、無駄になる材料が発生する。
そこで、延伸したポリビニルアルコール樹脂フィルムと、未延伸の基材フィルムとを、ポリビニルアルコール系接着剤を介して貼合した積層体を用いて偏光板を製造することを検討した。しかしながら、この方法では、延伸後のポリビニルアルコール樹脂フィルムに、ポリビニルアルコール系接着剤が染み込むことにより、積層体および偏光板において、しわやボイドが発生することがあった。
When a thin polarizing plate is manufactured by the method described in Patent Document 1, a retardation may occur in the substrate film after the stretching process due to the fact that the laminate is stretched at a high stretch ratio. In such a case, it is difficult to use the substrate film as it is as a polarizing plate protective film, and the substrate film is peeled off and discarded, resulting in waste of material.
Therefore, we have investigated the production of a polarizing plate using a laminate in which a stretched polyvinyl alcohol resin film and an unstretched base film are bonded together via a polyvinyl alcohol adhesive. However, in this method, the polyvinyl alcohol adhesive permeates the stretched polyvinyl alcohol resin film, which can cause wrinkles and voids in the laminate and the polarizing plate.

従って、本発明は、樹脂層を保護フィルムとしても用いることができ、厚みが薄くても効率的に製造することができ、かつ、しわやボイドの発生を防止した積層体及びその製造方法、前記積層体を用いた偏光板及びその製造方法、ならびに、前記偏光板を用いた表示装置の製造方法を提供することを目的とする。Therefore, the present invention aims to provide a laminate and a manufacturing method thereof in which a resin layer can be used as a protective film, which can be efficiently manufactured even if it is thin, and which prevents the occurrence of wrinkles and voids, a polarizing plate using the laminate and a manufacturing method thereof, and a manufacturing method for a display device using the polarizing plate.

上記課題を解決するために検討を行った結果、本発明者は、所定の位相差及び所定の厚みを有する偏光子材料フィルムと、偏光子材料フィルムの上に直接設けられた樹脂層とを有する積層体を用いることにより、上記課題を解決しうることを見出し、本発明を完成した。
従って、本発明によれば、下記〔1〕~〔21〕が提供される。
〔1〕 偏光子材料フィルムと、前記偏光子材料フィルムの上に直接設けられた樹脂層と、を有する積層体であって、
前記偏光子材料フィルムの面内方向の位相差Re1が50nmより大きく、
前記偏光子材料フィルムの厚みT1が45μm以下である、積層体。
〔2〕 前記偏光子材料フィルムが、延伸倍率X倍の延伸により得られたフィルムである、〔1〕に記載の積層体。
〔3〕 Xは1.5≦X≦5.5を満たす、〔2〕に記載の積層体。
〔4〕 延伸樹脂層の面内方向の位相差Re2が、0nm以上20nm以下であり、
前記延伸樹脂層は、延伸積層体における、前記樹脂層の延伸物であり、前記延伸積層体は、前記積層体を50℃~120℃の温度条件で4.0倍に自由端一軸延伸した延伸物である、〔1〕~〔3〕のいずれか一項に記載の積層体。
〔5〕前記偏光子材料フィルムがポリビニルアルコール樹脂フィルムである〔1〕~〔4〕のいずれか一項に記載の積層体。
〔6〕前記ポリビニルアルコール樹脂フィルムの、波長550nmの光の透過率が50%以上である〔5〕に記載の積層体。
〔7〕 前記樹脂層がシクロオレフィン系樹脂からなる、〔1〕~〔6〕のいずれか一項に記載の積層体。
〔8〕 前記シクロオレフィン系樹脂がシクロオレフィン系重合体を含み、
前記シクロオレフィン系重合体が、芳香族ビニル化合物由来の繰り返し単位[I]を主成分とする重合体ブロック[A]と、
芳香族ビニル化合物由来の繰り返し単位[I]及び鎖状共役ジエン化合物由来の繰り返し単位[II]を主成分とする重合体ブロック[B]、または鎖状共役ジエン化合物由来の繰り返し単位[II]を主成分とする重合体ブロック[C]と、からなるブロック共重合体[D]を、水素化したブロック共重合体水素化物である、〔7〕に記載の積層体。
〔9〕 前記樹脂層は、樹脂からなる層であり、
前記樹脂は、メルトフローレートが1g/10分以上でかつ、引張弾性率Eが、50MPa以上1200MPa以下であり、
前記メルトフローレートは、190℃、荷重2.16kgで測定される値である、〔1〕~〔8〕のいずれか一項に記載の積層体。
〔10〕 前記樹脂層が、可塑剤、軟化剤又はこれらの双方を含有する、〔1〕~〔9〕のいずれか一項に記載の積層体。
〔11〕 前記可塑剤、軟化剤又はこれらの双方が、エステル系可塑剤及び脂肪族炭化水素重合体から選ばれる一種以上である、〔10〕に記載の積層体。
〔12〕 前記樹脂層が、有機金属化合物を含有する、〔1〕~〔11〕のいずれか一項に記載の積層体。
〔13〕 〔1〕~〔12〕のいずれか一項に記載の積層体の一軸延伸物である、偏光板。
〔14〕 偏光子の材料を含む原反フィルムを延伸して偏光子材料フィルムを得る第一の工程と、
前記偏光子材料フィルムの一方の表面に、樹脂を塗布して塗布層を形成する第二の工程と、
前記塗布層を乾燥する第三の工程と、をこの順に含む、積層体の製造方法。
〔15〕 前記第一工程における、前記延伸の延伸倍率がX倍であり、Xは1.5≦X≦5.5を満たす、〔14〕に記載の積層体の製造方法。
〔16〕 前記第二の工程の前に、前記偏光子材料フィルムの前記表面を活性化処理する第四の工程を含む、〔14〕または〔15〕に記載の積層体の製造方法。
〔17〕 偏光板の製造方法であって、
〔1〕~〔12〕のいずれか一項に記載の積層体を調製するか、または〔14〕~〔16〕のいずれか一項に記載の積層体の製造方法により積層体を製造する工程と、
前記積層体を二色性色素で染色する第五の工程と、
前記積層体を一軸延伸する第六の工程と、を含む、偏光板の製造方法。
〔18〕 前記第六の工程における、前記延伸の倍率がZ倍であり、Zは1.2≦Z≦5.0を満たす、〔17〕に記載の偏光板の製造方法。
〔19〕 X及びZが、5.1≦X*Z≦9.0を満たす、〔17〕または〔18〕に記載の偏光板の製造方法。
〔20〕 前記第五の工程、前記第六の工程又はこれらの双方を経た後に、前記積層体の前記偏光子材料フィルム側の面、及び前記樹脂層側の面のうち、一方又は両方の面に、保護フィルムを貼合する第七の工程を含む、〔17〕~〔19〕のいずれか一項に記載の偏光板の製造方法。
〔21〕 表示装置を製造する方法であって、
〔17〕~〔20〕のいずれか一項に記載の偏光板の製造方法により偏光板を製造する工程、及び
前記偏光板をパネルに積層する第八の工程を含み、
前記パネルが、液晶パネル、有機エレクトロルミネッセンスパネル、マイクロLEDパネルから選ばれるパネルである、表示装置の製造方法。
As a result of investigations to solve the above problems, the inventors found that the above problems can be solved by using a laminate having a polarizer material film having a predetermined phase difference and a predetermined thickness, and a resin layer provided directly on the polarizer material film, and thus completed the present invention.
Therefore, according to the present invention, the following [1] to [21] are provided.
[1] A laminate having a polarizer material film and a resin layer provided directly on the polarizer material film,
The retardation Re1 in the in-plane direction of the polarizer material film is greater than 50 nm,
The laminate, wherein the thickness T1 of the polarizer material film is 45 μm or less.
[2] The laminate according to [1], wherein the polarizer material film is a film obtained by stretching at a stretching ratio of X times.
[3] The laminate according to [2], wherein X satisfies 1.5≦X≦5.5.
[4] The retardation Re2 in the in-plane direction of the stretched resin layer is 0 nm or more and 20 nm or less,
The stretched resin layer is a stretched product of the resin layer in a stretched laminate, and the stretched laminate is a stretched product obtained by uniaxially stretching the laminate at a free end by 4.0 times at a temperature condition of 50°C to 120°C. The laminate according to any one of [1] to [3].
[5] The laminate according to any one of [1] to [4], wherein the polarizer material film is a polyvinyl alcohol resin film.
[6] The laminate according to [5], wherein the polyvinyl alcohol resin film has a transmittance of 50% or more for light having a wavelength of 550 nm.
[7] The laminate according to any one of [1] to [6], wherein the resin layer is made of a cycloolefin resin.
[8] The cycloolefin resin contains a cycloolefin polymer,
The cycloolefin polymer comprises a polymer block [A] mainly composed of a repeating unit [I] derived from an aromatic vinyl compound;
The laminate according to [7], which is a hydrogenated block copolymer [D] obtained by hydrogenating a block copolymer [B] composed mainly of a repeating unit [I] derived from an aromatic vinyl compound and a repeating unit [II] derived from a linear conjugated diene compound, or a block copolymer [D] composed mainly of a repeating unit [II] derived from a linear conjugated diene compound and a polymer block [B] composed mainly of a repeating unit [I] derived from a linear conjugated diene compound.
[9] The resin layer is a layer made of a resin,
The resin has a melt flow rate of 1 g/10 min or more and a tensile modulus E of 50 MPa or more and 1200 MPa or less,
The laminate according to any one of [1] to [8], wherein the melt flow rate is a value measured at 190° C. under a load of 2.16 kg.
[10] The laminate according to any one of [1] to [9], wherein the resin layer contains a plasticizer, a softener, or both.
[11] The laminate according to [10], wherein the plasticizer, the softener, or both of them are at least one selected from an ester-based plasticizer and an aliphatic hydrocarbon polymer.
[12] The laminate according to any one of [1] to [11], wherein the resin layer contains an organometallic compound.
[13] A polarizing plate which is a uniaxially stretched product of the laminate according to any one of [1] to [12].
[14] A first step of stretching a raw film containing a polarizer material to obtain a polarizer material film;
a second step of applying a resin to one surface of the polarizer material film to form a coating layer;
and a third step of drying the coating layer, in this order.
[15] The method for producing a laminate according to [14], wherein the stretching ratio in the first step is X times, and X satisfies 1.5≦X≦5.5.
[16] The method for producing a laminate according to [14] or [15], further comprising a fourth step of activating the surface of the polarizer material film before the second step.
[17] A method for producing a polarizing plate, comprising the steps of:
A step of preparing a laminate according to any one of [1] to [12] or producing a laminate by the method for producing a laminate according to any one of [14] to [16];
a fifth step of dyeing the laminate with a dichroic dye;
and a sixth step of uniaxially stretching the laminate.
[18] The method for producing a polarizing plate according to [17], wherein in the sixth step, the stretching ratio is Z times, and Z satisfies 1.2≦Z≦5.0.
[19] The method for producing a polarizing plate according to [17] or [18], wherein X and Z satisfy 5.1≦X*Z≦9.0.
[20] The method for producing a polarizing plate according to any one of [17] to [19], further comprising a seventh step of laminating a protective film to one or both of a surface of the laminate facing the polarizer material film and a surface of the laminate facing the resin layer after the fifth step, the sixth step, or both of these steps.
[21] A method for manufacturing a display device, comprising:
A method for producing a polarizing plate according to any one of [17] to [20], and an eighth step of laminating the polarizing plate on a panel,
The method for manufacturing a display device, wherein the panel is selected from a liquid crystal panel, an organic electroluminescence panel, and a micro LED panel.

本発明によれば、樹脂層を保護フィルムとしても用いることができ、厚みが薄くても効率的に製造することができ、かつ、しわやボイドの発生を防止した、積層体及びその製造方法、前記積層体を用いた偏光板及びその製造方法、ならびに、前記偏光板を用いた表示装置の製造方法を提供することができる。 According to the present invention, it is possible to provide a laminate and a method for manufacturing the same, a polarizing plate using the laminate and a method for manufacturing the same, and a method for manufacturing a display device using the polarizing plate, in which the resin layer can also be used as a protective film and can be efficiently manufactured even if it is thin, and the occurrence of wrinkles and voids is prevented.

図1は実施形態1に係る積層体を模式的に示した断面図である。FIG. 1 is a cross-sectional view that illustrates a laminate according to a first embodiment. 図2は実施形態1に係る積層体の製造方法に用いる製造装置の一例を模式的に示した概略図である。FIG. 2 is a schematic diagram showing an example of a manufacturing apparatus used in the method for manufacturing a laminate according to the first embodiment. 図3は実施形態1に係る偏光板の製造方法に用いる製造装置の一例を模式的に示した概略図である。FIG. 3 is a schematic diagram showing an example of a manufacturing apparatus used in the method for manufacturing a polarizing plate according to the first embodiment. 図4は実施形態1に係る積層体を用いて製造した偏光板を模式的に示した断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view that illustrates a polarizing plate manufactured using the laminate according to the first embodiment. 図5は実施形態2に係る偏光板の製造方法により製造した偏光板を模式的に示した断面図である。FIG. 5 is a cross-sectional view that illustrates a polarizing plate manufactured by the method for manufacturing a polarizing plate according to the second embodiment. 図6は実施形態3に係る表示装置の製造方法により製造した表示装置を模式的に示した断面図である。FIG. 6 is a cross-sectional view showing a schematic diagram of a display device manufactured by the manufacturing method of a display device according to the third embodiment. 図7は実施形態4に係る表示装置の製造方法により製造した表示装置を模式的に示した断面図である。FIG. 7 is a cross-sectional view showing a schematic diagram of a display device manufactured by the manufacturing method of a display device according to the fourth embodiment.

以下、本発明について実施形態及び例示物を示して詳細に説明する。ただし、本発明は以下に説明する実施形態及び例示物に限定されるものではなく、本発明の請求の範囲及びその均等の範囲を逸脱しない範囲において任意に変更して実施してもよい。The present invention will be described in detail below with reference to embodiments and examples. However, the present invention is not limited to the embodiments and examples described below, and may be modified as desired without departing from the scope of the claims of the present invention and their equivalents.

本願において、「長尺」のフィルムとは、フィルムの幅に対して、5倍以上の長さを有するものをいい、好ましくは10倍若しくはそれ以上の長さを有し、具体的にはロール状に巻き取られて保管又は運搬される程度の長さを有するものをいう。フィルムの幅に対する長さの割合の上限は、特に限定されないが、例えば100,000倍以下としうる。In this application, a "long" film refers to a film having a length that is 5 times or more the width of the film, preferably 10 times or more the width of the film, specifically a film having a length that is long enough to be wound into a roll for storage or transportation. There is no particular upper limit to the ratio of the length to the width of the film, but it may be, for example, 100,000 times or less.

本願において、フィルムの面内方向の位相差Re及び厚み方向の位相差Rthは、式Re=(nx-ny)×d、及びRth=[{(nx+ny)/2}-nz]×dに従って算出する。またフィルムのNz係数は、[(nx-nz)/(nx-ny)]で表される値であり、[(Rth/Re)+0.5]とも表しうる。ここで、nxは、フィルムの面内の遅相軸方向の屈折率(面内の最大屈折率)であり、nyは、フィルムの面内の遅相軸に垂直な面内方向の屈折率であり、nzは、フィルムの厚み方向の屈折率であり、dは、フィルムの厚み(nm)である。測定波長は、別に断らない限り、可視光領域の代表的な波長である550nmとする。In this application, the retardation Re in the in-plane direction and the retardation Rth in the thickness direction of the film are calculated according to the formulas Re = (nx - ny) x d and Rth = [{(nx + ny) / 2} - nz] x d. The Nz coefficient of the film is a value expressed as [(nx - nz) / (nx - ny)], and can also be expressed as [(Rth / Re) + 0.5]. Here, nx is the refractive index in the slow axis direction in the film's plane (maximum in-plane refractive index), ny is the refractive index in the in-plane direction perpendicular to the slow axis in the film's plane, nz is the refractive index in the thickness direction of the film, and d is the thickness of the film (nm). Unless otherwise specified, the measurement wavelength is 550 nm, which is a typical wavelength in the visible light region.

[実施形態1:積層体及びその製造方法、偏光板及びその製造方法]
以下、本発明の一実施形態である実施形態1の積層体及びその製造方法、並びに、当該積層体を用いた偏光板及びその製造方法について、図1~図4を参照しつつ説明する。
[Embodiment 1: Laminate and its manufacturing method, polarizing plate and its manufacturing method]
Hereinafter, a laminate according to embodiment 1, which is one embodiment of the present invention, a method for producing the same, and a polarizing plate using the laminate and a method for producing the same will be described with reference to FIGS. 1 to 4. FIG.

[1.積層体]
本発明の積層体は、偏光子材料フィルムと、偏光子材料フィルムの上に直接設けられた樹脂層と、を有する。本発明の積層体において、偏光子材料フィルムの面内方向の位相差Re1は50nmより大きく、偏光子材料フィルムの厚みT1は45μm以下である。
文脈上明らかな通り、本発明において、「樹脂層」は、偏光子材料フィルムとは別の層である。
本発明において、偏光子材料フィルムの上に「直接設けられた樹脂層」とは、偏光子材料フィルムを構成する材料の層の面上に設けられ、その結果、偏光子材料フィルムの面に直接、接した状態である樹脂層である。
[1. Laminate]
The laminate of the present invention includes a polarizer material film and a resin layer provided directly on the polarizer material film. In the laminate of the present invention, the polarizer material film has an in-plane retardation Re1 of more than 50 nm and a thickness T1 of 45 μm or less.
As is clear from the context, in the present invention, the "resin layer" is a layer separate from the polarizer material film.
In the present invention, a "resin layer directly provided" on a polarizer material film refers to a resin layer that is provided on the surface of a layer of material that constitutes the polarizer material film, and as a result, is in direct contact with the surface of the polarizer material film.

図1は、本発明に係る実施形態1の積層体10を模式的に示した断面図の一例である。図1に示すように、本実施形態の積層体10は、偏光子材料フィルム11と、偏光子材料フィルム11の一方の面(図示上側面)に設けられた樹脂層12と、を含む。本発明の積層体10は、偏光子、及び偏光子を備える偏光板を製造するための材料である。 Figure 1 is an example of a cross-sectional view showing a laminate 10 of embodiment 1 of the present invention. As shown in Figure 1, the laminate 10 of this embodiment includes a polarizer material film 11 and a resin layer 12 provided on one side (the upper side shown in the figure) of the polarizer material film 11. The laminate 10 of the present invention is a material for producing a polarizer and a polarizing plate including a polarizer.

[偏光子材料フィルム]
偏光子材料フィルムは、偏光子を製造するためのフィルム(偏光子用フィルム)である。本発明において、偏光子材料フィルムは、面内方向の位相差Re1が50nmより大きく、厚みT1が45μm以下のフィルムである。偏光子材料フィルムは、偏光子の材料を含む未延伸のフィルムを、面内方向の位相差Re1が50nmより大きく、厚みT1が45μm以下となるように延伸処理することにより得うる。偏光子材料フィルムは偏光子の材料を含む(延伸)フィルムである。本発明においては、偏光子材料フィルムを得るためのフィルムであって、所定の位相差及び厚みとするための延伸処理に供していないもの(偏光子の材料を含む未延伸のフィルム)を、「原反フィルム」という。原反フィルムは偏光子の材料を含む。
[Polarizer material film]
The polarizer material film is a film for producing a polarizer (film for polarizer). In the present invention, the polarizer material film is a film having an in-plane retardation Re1 of more than 50 nm and a thickness T1 of 45 μm or less. The polarizer material film can be obtained by stretching an unstretched film containing a polarizer material so that the in-plane retardation Re1 is more than 50 nm and the thickness T1 is 45 μm or less. The polarizer material film is a (stretched) film containing a polarizer material. In the present invention, a film for obtaining a polarizer material film that has not been subjected to a stretching process to obtain a predetermined retardation and thickness (unstretched film containing a polarizer material) is called a "raw film". The raw film contains a polarizer material.

本発明において、原反フィルムとしては、本発明の目的を達成し得るものであれば必ずしも限定されないが、コストパフォーマンスの高さより、ポリビニルアルコール樹脂フィルムが好ましい。In the present invention, the raw film is not necessarily limited as long as it can achieve the object of the present invention, but polyvinyl alcohol resin film is preferred due to its high cost performance.

本発明において、原反フィルムとして用いうるポリビニルアルコール樹脂フィルム(以下において「PVA樹脂フィルム」という場合がある)としては、必ずしも限定されないが、入手性などより、酢酸ビニルを重合して得られるポリ酢酸ビニルをけん化することにより製造されたものを使用することが好ましい。PVA樹脂フィルムに含まれるポリビニルアルコール(以下において「PVA」という場合がある)は、延伸性や得られる偏光子の偏光性能などが優れるという観点より、重合度は500~8000の範囲にあることが好ましく、けん化度は90モル%以上であることが好ましい。ここで重合度とは、JIS K6726-1994の記載に準じて測定した平均重合度であり、けん化度とは、JIS K6726-1994の記載に準じて測定した値である。重合度のより好ましい範囲は1000~6000、さらに好ましくは1500~4000である。けん化度のより好ましい範囲は95モル%以上、さらに好ましくは99モル%以上である。PVAは、酢酸ビニルと共重合可能な他のモノマーとの共重合体、あるいはグラフト重合体であってもよい。In the present invention, the polyvinyl alcohol resin film (hereinafter sometimes referred to as "PVA resin film") that can be used as the raw film is not necessarily limited, but it is preferable to use one manufactured by saponifying polyvinyl acetate obtained by polymerizing vinyl acetate, in terms of availability, etc. The polyvinyl alcohol (hereinafter sometimes referred to as "PVA") contained in the PVA resin film preferably has a degree of polymerization in the range of 500 to 8000, and a degree of saponification of 90 mol% or more, from the viewpoint of excellent stretchability and the polarization performance of the resulting polarizer. Here, the degree of polymerization is the average degree of polymerization measured in accordance with the description of JIS K6726-1994, and the degree of saponification is a value measured in accordance with the description of JIS K6726-1994. The more preferable range of the degree of polymerization is 1000 to 6000, and even more preferably 1500 to 4000. The more preferable range of the degree of saponification is 95 mol% or more, and even more preferably 99 mol% or more. The PVA may be a copolymer of vinyl acetate and another monomer copolymerizable therewith, or a graft polymer.

本発明において、原反フィルムとして用いうるPVA樹脂フィルムの製法は特に限定されず、公知の方法等の任意の方法により製造することができる。製法の例としては、PVAを溶剤に溶解したPVA溶液を製膜原液として使用した、流延製膜法、湿式製膜法(貧溶媒中への吐出)、乾湿式製膜法、ゲル製膜法(PVA水溶液を一旦冷却ゲル化した後、溶媒を抽出除去し、PVA樹脂フィルムを得る方法)、およびこれらの組み合わせによる方法が挙げられる。製法のさらなる例としては、溶剤を含有するPVAを溶融したものを製膜原液として行う溶融押出製膜法が挙げられる。これらの中でも、流延製膜法、および溶融押出製膜法が、透明性が高く着色の少ないPVA樹脂フィルムが得られることから好ましく、高い製膜速度を得られることから溶融押出製膜法がより好ましい。In the present invention, the method for producing the PVA resin film that can be used as the raw film is not particularly limited, and it can be produced by any method such as a known method. Examples of the production method include a casting film production method, a wet film production method (discharge into a poor solvent), a dry-wet film production method, a gel film production method (a method in which a PVA aqueous solution is cooled and gelled, and then the solvent is extracted and removed to obtain a PVA resin film), and a combination of these, in which a PVA solution in which PVA is dissolved in a solvent is used as the film production stock solution. Another example of the production method is a melt extrusion film production method in which a PVA containing a solvent is melted and used as the film production stock solution. Among these, the casting film production method and the melt extrusion film production method are preferred because they can produce a PVA resin film with high transparency and little coloring, and the melt extrusion film production method is more preferred because it can produce a high film production speed.

本発明において、原反フィルムとして用いうるPVA樹脂フィルムは、機械的物性や二次加工時の工程通過性などを改善するために、グリセリン等の多価アルコールなどの可塑剤を、PVAに対して0.01~30重量%含有する事が好ましく、また取り扱い性やフィルム外観などを改善するため、アニオン系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤などの界面活性剤を、PVAに対して0.01~1重量%含有することが好ましい。In the present invention, the PVA resin film that can be used as the raw film preferably contains 0.01 to 30% by weight of a plasticizer such as a polyhydric alcohol such as glycerin, relative to the PVA, in order to improve the mechanical properties and the processability during secondary processing, and also preferably contains 0.01 to 1% by weight of a surfactant, such as an anionic surfactant or a nonionic surfactant, relative to the PVA, in order to improve the handling properties and the film appearance.

原反フィルムとして用いうるPVA樹脂フィルムは、必要に応じて、酸化防止剤、紫外線吸収剤、滑剤、pH調整剤、無機物微粒子、着色剤、防腐剤、防黴剤、上記した成分以外の他の高分子化合物、水分などの任意成分を更に含んでいてもよい。PVA樹脂フィルムは、前記任意成分の1種または2種以上を含むことができる。The PVA resin film that can be used as the raw film may further contain optional components such as antioxidants, UV absorbers, lubricants, pH adjusters, inorganic fine particles, colorants, preservatives, antifungal agents, polymer compounds other than the above-mentioned components, and moisture, as necessary. The PVA resin film may contain one or more of the above-mentioned optional components.

原反フィルムの厚みは、好ましくは60μm以下、より好ましくは45μm以下、更に好ましくは30μm以下であり、好ましくは10μm以上、より好ましくは15μm以上、更に好ましくは20μm以上である。原反フィルムの厚みが、前記範囲の下限値以上であることにより十分に高い偏光度を有する偏光板を得ることができ、前記範囲の上限値以下であることにより偏光板の曲げに対する耐性を効果的に高めることができる。The thickness of the raw film is preferably 60 μm or less, more preferably 45 μm or less, even more preferably 30 μm or less, and preferably 10 μm or more, more preferably 15 μm or more, even more preferably 20 μm or more. When the thickness of the raw film is equal to or greater than the lower limit of the above range, a polarizing plate having a sufficiently high degree of polarization can be obtained, and when the thickness is equal to or less than the upper limit of the above range, the bending resistance of the polarizing plate can be effectively increased.

偏光子材料フィルムは、延伸により得られたフィルムとしうる。偏光子材料フィルムは、原反フィルムを、延伸処理することにより得ることができる。延伸処理の方法としては、乾式延伸、及び湿式延伸等が挙げられる。乾式延伸は湿式延伸に比べ設備や工程が簡素であるため、偏光子材料フィルムとしては、乾式延伸により得られるものが好ましい。乾式延伸としては、テンター延伸、フロート延伸、熱ロール延伸などの延伸方法を用いることが出来る。乾式延伸とは、高温(例えば100℃以上)の気体雰囲気下で延伸する延伸処理の方法をいう。乾式延伸で用いる気体としては空気が挙げられる。The polarizer material film may be a film obtained by stretching. The polarizer material film may be obtained by stretching the raw film. Examples of the stretching method include dry stretching and wet stretching. Dry stretching requires simpler equipment and steps than wet stretching, so the polarizer material film is preferably obtained by dry stretching. As for dry stretching, stretching methods such as tenter stretching, float stretching, and hot roll stretching can be used. Dry stretching refers to a stretching method in which stretching is performed under a gas atmosphere at a high temperature (e.g., 100°C or higher). An example of the gas used in dry stretching is air.

原反フィルムを延伸して偏光子材料フィルムとする際の延伸の条件は、所望の偏光子材料フィルムが得られるよう適宜選択しうる。例えば、原反フィルムを延伸して偏光子材料フィルムとする際の延伸の態様は、一軸延伸、二軸延伸等の任意の態様としうる。また、原反フィルムが長尺状のフィルムである場合、延伸の方向は、縦方向(長尺状のフィルムの長手方向に平行な方向)、横方向(長尺状のフィルムの幅方向に平行な方向)、及び斜め方向(縦方向でも横方向でも無い方向)のいずれであってもよい。The conditions for stretching the raw film to form a polarizer material film can be appropriately selected so as to obtain the desired polarizer material film. For example, the stretching mode when stretching the raw film to form a polarizer material film can be any mode such as uniaxial stretching or biaxial stretching. In addition, when the raw film is a long film, the stretching direction can be any of the vertical direction (direction parallel to the longitudinal direction of the long film), horizontal direction (direction parallel to the width direction of the long film), and diagonal direction (direction that is neither vertical nor horizontal).

偏光子材料フィルムは、延伸倍率X倍で延伸されたフィルムとしうる。Xは1.5≦X≦5.5を満たすことが好ましい。このような偏光子材料フィルムは原反フィルムを延伸倍率X倍で延伸することにより得ることができる。本発明において、Xは、好ましくは1.5以上、より好ましくは2.0以上、更に好ましくは2.5以上であり、好ましくは5.5以下、より好ましくは4.5以下、更に好ましくは3.5以下である。つまり、偏光子材料フィルムは1.5倍以上5.5倍以下の延伸倍率で延伸されたフィルムであることが好ましく、2.0倍以上4.5倍以下の延伸倍率で延伸されたフィルムであることがより好ましく、2.5倍以上3.5倍以下の延伸倍率で延伸されたフィルムであることが更に好ましい。Xを前記範囲の上限値以下とすると、原反フィルムを延伸して偏光子材料フィルムとするときに破断の発生を防止することができる。また、Xを前記範囲の下限値以上とすると、積層体を延伸して偏光板を得るときの延伸倍率を低くすることができる。原反フィルムの延伸を、二軸延伸等の二以上の方向への延伸により行う場合、延伸倍率Xは、各延伸の倍率の積である。The polarizer material film may be a film stretched at a stretching ratio of X times. It is preferable that X satisfies 1.5≦X≦5.5. Such a polarizer material film can be obtained by stretching the original film at a stretching ratio of X times. In the present invention, X is preferably 1.5 or more, more preferably 2.0 or more, even more preferably 2.5 or more, and preferably 5.5 or less, more preferably 4.5 or less, and even more preferably 3.5 or less. In other words, the polarizer material film is preferably a film stretched at a stretching ratio of 1.5 times or more and 5.5 times or less, more preferably a film stretched at a stretching ratio of 2.0 times or more and 4.5 times or less, and even more preferably a film stretched at a stretching ratio of 2.5 times or more and 3.5 times or less. When X is set to the upper limit value or less of the above range, it is possible to prevent the occurrence of breakage when the original film is stretched to form a polarizer material film. In addition, when X is set to the lower limit value or more of the above range, it is possible to lower the stretching ratio when the laminate is stretched to obtain a polarizing plate. When the raw film is stretched in two or more directions, such as biaxial stretching, the stretching ratio X is the product of the respective stretching ratios.

原反フィルムを乾式延伸して偏光子材料フィルムとする際の延伸温度は、好ましくは100℃以上、より好ましくは110℃以上であり、一方好ましくは150℃以下、より好ましくは140℃以下である。乾式延伸の温度が前記範囲であることにより均一な膜厚の偏光子材料フィルムが得られる。The stretching temperature when dry stretching the raw film to form a polarizer material film is preferably 100°C or higher, more preferably 110°C or higher, and is preferably 150°C or lower, more preferably 140°C or lower. When the dry stretching temperature is within the above range, a polarizer material film with a uniform thickness can be obtained.

偏光子材料フィルムは、PVA樹脂フィルムであることが好ましい。偏光子材料フィルムとして用いうるPVA樹脂フィルムとしては、波長550nmの光の透過率(以下、「波長550nmの光の透過率」を、「光透過率」ともいう)が50%以上のフィルムが好ましい。PVA樹脂フィルムとしては、未着色のフィルムを用いうる。このようなPVA樹脂フィルムの光透過率は、好ましくは55%以上、より好ましくは60%以上であり、好ましくは99%以下、より好ましくは97%以下である。The polarizer material film is preferably a PVA resin film. As a PVA resin film that can be used as a polarizer material film, a film having a transmittance of light with a wavelength of 550 nm (hereinafter, "transmittance of light with a wavelength of 550 nm" is also referred to as "light transmittance") of 50% or more is preferable. As the PVA resin film, an uncolored film can be used. The light transmittance of such a PVA resin film is preferably 55% or more, more preferably 60% or more, and is preferably 99% or less, more preferably 97% or less.

偏光子材料フィルムの厚みT1は、好ましくは45μm以下であり、より好ましくは35μm以下、更に好ましくは25μm以下であり、好ましくは5μm以上、より好ましくは7μm以上、更に好ましくは10μm以上である。偏光子材料フィルムの厚みが、前記範囲の上限値以下であることにより偏光板の収縮力を効果的に下げることができ、前記範囲の下限値以上であることにより十分に高い偏光度を有する偏光板を得ることができる。The thickness T1 of the polarizer material film is preferably 45 μm or less, more preferably 35 μm or less, even more preferably 25 μm or less, and preferably 5 μm or more, more preferably 7 μm or more, even more preferably 10 μm or more. When the thickness of the polarizer material film is equal to or less than the upper limit of the above range, the contraction force of the polarizing plate can be effectively reduced, and when the thickness is equal to or greater than the lower limit of the above range, a polarizing plate having a sufficiently high degree of polarization can be obtained.

偏光子材料フィルムの面内方向の位相差Re1は、好ましくは50nm以上、より好ましくは50nm超、さらにより好ましくは100nm以上、特に好ましくは150nm以上であり、好ましくは1500nm以下、より好ましくは1000nm以下である。偏光子材料フィルムの面内方向の位相差Re1が上記範囲の下限値以上であることにより、積層体を延伸処理して偏光板とするときの延伸倍率を低く抑えて、延伸処理後の樹脂層の位相差を低くキープすることができる。The in-plane retardation Re1 of the polarizer material film is preferably 50 nm or more, more preferably more than 50 nm, even more preferably 100 nm or more, particularly preferably 150 nm or more, and preferably 1500 nm or less, more preferably 1000 nm or less. By having the in-plane retardation Re1 of the polarizer material film be equal to or greater than the lower limit of the above range, the stretching ratio when the laminate is stretched to form a polarizing plate can be kept low, and the retardation of the resin layer after stretching can be kept low.

偏光子材料フィルムの形状及び寸法は、所望の用途に応じたものに適宜調整しうる。製造の効率上、偏光子材料フィルムは長尺のフィルムであることが好ましい。The shape and dimensions of the polarizer material film can be adjusted appropriately according to the desired application. For manufacturing efficiency, it is preferable that the polarizer material film is a long film.

[樹脂層]
樹脂層は樹脂からなる層である。樹脂層は、偏光子材料フィルムに樹脂を塗布することにより設けた樹脂層であり得る。または、樹脂層は、フィルム状とした樹脂を、偏光子材料フィルムの上に、直接熱圧着することにより、設けうる。偏光子材料フィルムの上に「直接熱圧着」するとは、偏光子材料フィルムと樹脂層との間に、接着剤及び粘着剤を介在させずに、偏光子材料フィルムと樹脂層となるフィルム状の樹脂とを圧着することをいう。
[Resin layer]
The resin layer is a layer made of a resin. The resin layer may be a resin layer provided by applying a resin to a polarizer material film. Alternatively, the resin layer may be provided by directly thermocompressing a film-like resin onto the polarizer material film. "Direct thermocompression bonding" onto the polarizer material film means that the polarizer material film and the film-like resin that will become the resin layer are pressure-bonded without any adhesive or pressure-sensitive adhesive between the polarizer material film and the resin layer.

本発明において、樹脂層を構成する樹脂は、低温(例えば50~120℃)で、高い延伸倍率(例えば6.0倍)の延伸が可能な柔軟性を有する樹脂であることが好ましい。このような樹脂としては、例えば、シクロオレフィン系重合体を含むシクロオレフィン系樹脂、及びメルトフローレートが、1g/10分以上であり、かつ、引張弾性率Eが50MPa以上1200MPa以下である樹脂が挙げられる。ここでいうメルトフローレートは、190℃、荷重2.16kgで測定した値である。以下、「190℃、荷重2.16kgで測定したメルトフローレート」を単に「MFR」ともいう。In the present invention, the resin constituting the resin layer is preferably a flexible resin that can be stretched at a high stretch ratio (e.g., 6.0 times) at low temperatures (e.g., 50 to 120°C). Examples of such resins include cycloolefin resins containing cycloolefin polymers, and resins having a melt flow rate of 1 g/10 min or more and a tensile modulus E of 50 MPa or more and 1200 MPa or less. The melt flow rate here is a value measured at 190°C and a load of 2.16 kg. Hereinafter, "melt flow rate measured at 190°C and a load of 2.16 kg" will also be simply referred to as "MFR".

[樹脂]
シクロオレフィン系樹脂はシクロオレフィン系重合体を含む樹脂である。シクロオレフィン系樹脂に含まれるシクロオレフィン系重合体としては、芳香族ビニル化合物由来の繰り返し単位[I]を主成分とする重合体ブロック[A]と、芳香族ビニル化合物由来の繰り返し単位[I]及び鎖状共役ジエン化合物由来の繰り返し単位[II]を主成分とする重合体ブロック[B]、または鎖状共役ジエン化合物由来の繰り返し単位[II]を主成分とする重合体ブロック[C]と、からなるブロック共重合体[D]を、水素化したブロック共重合体水素化物が好ましい。このようなブロック共重合体水素化物としては、WO2000/32646号公報、WO2001/081957号、特開2002-105151号公報、特開2006-195242号公報、特開2011-13378号公報、WO2015/002020号、等に記載の重合体が挙げられる。シクロオレフィン系樹脂は、MFRが、1g/10分以上であり、かつ、引張弾性率Eが50MPa以上1200MPa以下であることが好ましいが、MFR、引張弾性率Eまたは双方が、前記範囲外であってもよい。
また、本発明において、「芳香族ビニル化合物由来の繰り返し単位[I]を主成分とするとする重合体ブロック[A]」は、「芳香族ビニル化合物由来の繰り返し単位を60質量%超含有する重合体ブロック[A]」としうる。「芳香族ビニル化合物由来の繰り返し単位[I]及び鎖状共役ジエン化合物由来の繰り返し単位[II]を主成分とする重合体ブロック[B]」は「芳香族ビニル化合物由来の繰り返し単位[I]と鎖状共役ジエン化合物由来の繰り返し単位[II]の合計が60質量%超含有する重合体ブロック[B]」としうる。「鎖状共役ジエン化合物由来の繰り返し単位[II]を主成分とする重合体ブロック[C]」は、「鎖状共役ジエン化合物由来の繰り返し単位を60質量%超含有する重合体ブロック[C]」としうる。
[resin]
The cycloolefin resin is a resin containing a cycloolefin polymer. The cycloolefin polymer contained in the cycloolefin resin is preferably a hydrogenated block copolymer obtained by hydrogenating a block copolymer [D] consisting of a polymer block [A] mainly composed of a repeating unit [I] derived from an aromatic vinyl compound, a polymer block [B] mainly composed of a repeating unit [I] derived from an aromatic vinyl compound and a repeating unit [II] derived from a linear conjugated diene compound, or a polymer block [C] mainly composed of a repeating unit [II] derived from a linear conjugated diene compound. Examples of such hydrogenated block copolymers include polymers described in WO2000/32646, WO2001/081957, JP2002-105151A, JP2006-195242A, JP2011-13378A, WO2015/002020, and the like. The cycloolefin resin preferably has an MFR of 1 g/10 min or more and a tensile modulus E of 50 MPa or more and 1200 MPa or less, but the MFR, the tensile modulus E, or both may be outside the above ranges.
In the present invention, the "polymer block [A] mainly composed of repeating units [I] derived from an aromatic vinyl compound" may be "polymer block [A] containing more than 60 mass% of repeating units derived from an aromatic vinyl compound". The "polymer block [B] mainly composed of repeating units [I] derived from an aromatic vinyl compound and repeating units [II] derived from a linear conjugated diene compound" may be "polymer block [B] containing more than 60 mass% of repeating units [I] derived from an aromatic vinyl compound and repeating units [II] derived from a linear conjugated diene compound in total". The "polymer block [C] mainly composed of repeating units [II] derived from a linear conjugated diene compound" may be "polymer block [C] containing more than 60 mass% of repeating units derived from a linear conjugated diene compound".

本発明において、樹脂層を構成する樹脂としては、メルトフローレートが、1g/10分以上であり、かつ、引張弾性率Eが50MPa以上1200MPa以下である樹脂が好ましい。MFRが、1g/10分以上であり、かつ、引張弾性率Eが50MPa以上1200MPa以下である樹脂は、シクロオレフィン系樹脂であることが好ましいが、シクロオレフィン系樹脂以外の樹脂であってもよい。In the present invention, the resin constituting the resin layer is preferably a resin having a melt flow rate of 1 g/10 min or more and a tensile modulus E of 50 MPa or more and 1200 MPa or less. The resin having an MFR of 1 g/10 min or more and a tensile modulus E of 50 MPa or more and 1200 MPa or less is preferably a cycloolefin resin, but may be a resin other than a cycloolefin resin.

樹脂のMFRは、好ましくは1g/10分以上、より好ましくは3g/10分以上、さらに好ましくは5g/10分以上であり、好ましくは300g/10分以下、より好ましくは100g/10分以下である。樹脂のMFRを下限値以上とすることにより、偏光板としたときに位相差を小さく抑えることができ、MFRを上限値以下とすることにより、耐熱性を高めることができる。The MFR of the resin is preferably 1 g/10 min or more, more preferably 3 g/10 min or more, even more preferably 5 g/10 min or more, and is preferably 300 g/10 min or less, more preferably 100 g/10 min or less. By setting the MFR of the resin to the lower limit or more, the retardation can be kept small when made into a polarizing plate, and by setting the MFR to the upper limit or less, the heat resistance can be increased.

樹脂のMFRは、JIS-K-7210に基づき、メルトインデクサを用いて、温度190℃、荷重2.16kgの条件で測定しうる。 The MFR of a resin can be measured using a melt indexer at a temperature of 190°C and a load of 2.16 kg in accordance with JIS-K-7210.

本発明において、樹脂層を構成する樹脂の引張弾性率Eは、好ましくは50MPa以上、より好ましくは100MPa以上、さらに好ましくは200MPa以上であり、好ましくは1200MPa以下、より好ましくは1000MPa以下、さらに好ましくは800MPa以下である。樹脂の引張弾性率Eを、下限値以上とすることにより、積層体を延伸して偏光板とした際に樹脂層の位相差を小さくし、上限値以下とすることにより、積層体を延伸する際に樹脂層の破断の発生を防止することができる。In the present invention, the tensile modulus E of the resin constituting the resin layer is preferably 50 MPa or more, more preferably 100 MPa or more, even more preferably 200 MPa or more, and preferably 1200 MPa or less, more preferably 1000 MPa or less, and even more preferably 800 MPa or less. By setting the tensile modulus E of the resin to a lower limit or more, the phase difference of the resin layer is reduced when the laminate is stretched to form a polarizing plate, and by setting it to an upper limit or less, the occurrence of breakage of the resin layer when the laminate is stretched can be prevented.

引張弾性率は、JIS K7127に基づき、引張試験機(インストロンジャパン カンパニイリミテッド社製、商品名「電気機械式万能材料試験機(5564)」)を用いて、測定しうる。The tensile modulus can be measured in accordance with JIS K7127 using a tensile testing machine (manufactured by Instron Japan Company Limited, product name "Electromechanical Universal Material Testing Machine (5564)").

[可塑剤、及び軟化剤]
本発明において、樹脂層を構成する樹脂は、可塑剤、軟化剤又はこれらの双方を含有することが好ましい。可塑剤、軟化剤又はこれらの双方を含有することにより、積層体を延伸して偏光板を得た際に樹脂層に発生する位相差を小さくすることが出来る。
[Plasticizers and softeners]
In the present invention, the resin constituting the resin layer preferably contains a plasticizer, a softener, or both of these. By containing a plasticizer, a softener, or both of these, it is possible to reduce the retardation generated in the resin layer when the laminate is stretched to obtain a polarizing plate.

可塑剤及び軟化剤としては、樹脂層を構成する樹脂に均一に溶解ないし分散できるものを用いうる。可塑剤及び軟化剤の具体例としては、多価アルコールと1価のカルボン酸からなるエステル系可塑剤(以下において「多価アルコールエステル系可塑剤」という。)、及び多価カルボン酸と1価のアルコールからなるエステル系可塑剤(以下において「多価カルボン酸エステル系可塑剤」という。)等のエステル系可塑剤、並びに燐酸エステル系可塑剤、炭水化物エステル系可塑剤、及びその他のポリマー軟化剤が挙げられる。As the plasticizer and softener, those that can be uniformly dissolved or dispersed in the resin that constitutes the resin layer can be used. Specific examples of plasticizers and softeners include ester-based plasticizers such as ester-based plasticizers made of polyhydric alcohols and monovalent carboxylic acids (hereinafter referred to as "polyhydric alcohol ester-based plasticizers") and ester-based plasticizers made of polyvalent carboxylic acids and monovalent alcohols (hereinafter referred to as "polyvalent carboxylic acid ester-based plasticizers"), as well as phosphate ester-based plasticizers, carbohydrate ester-based plasticizers, and other polymer softeners.

本発明において好ましく用いられるエステル系可塑剤の原料である多価アルコールの例としては、特に限定されないが、エチレングリコール、グリセリン、トリメチロールプロパンが好ましい。Examples of polyhydric alcohols that are the raw materials for the ester-based plasticizers preferably used in the present invention include, but are not limited to, ethylene glycol, glycerin, and trimethylolpropane.

多価アルコールエステル系可塑剤の例としては、エチレングリコールエステル系可塑剤、グリセリンエステル系可塑剤、及びその他の多価アルコールエステル系可塑剤が挙げられる。Examples of polyhydric alcohol ester plasticizers include ethylene glycol ester plasticizers, glycerin ester plasticizers, and other polyhydric alcohol ester plasticizers.

多価カルボン酸エステル系可塑剤の例としては、ジカルボン酸エステル系可塑剤、及びその他の多価カルボン酸エステル系可塑剤が挙げられる。Examples of polycarboxylic acid ester plasticizers include dicarboxylic acid ester plasticizers and other polycarboxylic acid ester plasticizers.

燐酸エステル系可塑剤の例としては、具体的には、トリアセチルホスフェート、トリブチルホスフェート等の燐酸アルキルエステル;トリシクロベンチルホスフェート、シクロヘキシルホスフェート等の燐酸シクロアルキルエステル;トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート等の燐酸アリールエステルが挙げられる。 Examples of phosphate ester plasticizers include alkyl phosphate esters such as triacetyl phosphate and tributyl phosphate; cycloalkyl phosphate esters such as tricyclopentyl phosphate and cyclohexyl phosphate; and aryl phosphate esters such as triphenyl phosphate and tricresyl phosphate.

炭水化物エステル系可塑剤として、具体的には、グルコースペンタアセテート、グルコースペンタプロピオネート、グルコースペンタブチレート、サッカロースオクタアセテート、サッカロースオクタベンゾエート等を好ましく挙げることができ、この内、サッカロースオクタアセテートがより好ましい。 Specific examples of carbohydrate ester plasticizers that are preferred include glucose pentaacetate, glucose pentapropionate, glucose pentabutyrate, sucrose octaacetate, and sucrose octabenzoate, with sucrose octaacetate being more preferred.

ポリマー軟化剤としては、具体的には、脂肪族炭化水素重合体、脂環式炭化水素系重合体、ポリアクリル酸エチル、ポリメタクリル酸メチル、メタクリル酸メチルとメタクリル酸-2-ヒドロキシエチルとの共重合体、メタクリル酸メチルとアクリル酸メチルとメタクリル酸-2-ヒドロキシエチルとの共重合体、等のアクリル系ポリマー;ポリビニルイソブチルエーテル、ポリN-ビニルピロリドン等のビニル系ポリマー;ポリスチレン、ポリ4-ヒドロキシスチレン等のスチレン系ポリマー;ポリブチレンサクシネート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル;ポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシド等のポリエーテル;ポリアミド、ポリウレタン、ポリウレア等が挙げられる。 Specific examples of polymer softening agents include acrylic polymers such as aliphatic hydrocarbon polymers, alicyclic hydrocarbon polymers, polyethyl acrylate, polymethyl methacrylate, copolymers of methyl methacrylate and 2-hydroxyethyl methacrylate, and copolymers of methyl methacrylate, methyl acrylate, and 2-hydroxyethyl methacrylate; vinyl polymers such as polyvinyl isobutyl ether and poly N-vinylpyrrolidone; styrene polymers such as polystyrene and poly 4-hydroxystyrene; polyesters such as polybutylene succinate, polyethylene terephthalate, and polyethylene naphthalate; polyethers such as polyethylene oxide and polypropylene oxide; polyamide, polyurethane, polyurea, etc.

脂肪族炭化水素重合体の具体例としては、ポリイソブチレン、ポリブテン、ポリ-4-メチルペンテン、ポリ-1-オクテン、エチレン・α-オレフィン共重合体等の低分子量体及びその水素化物;ポリイソプレン、ポリイソプレン-ブタジエン共重合体等の低分子量体及びその水素化物等が挙げられる。シクロオレフィン樹脂に均一に溶解ないし分散し易い観点から脂肪族炭化水素系ポリマーは、数平均分子量300~5,000であることが好ましい。 Specific examples of aliphatic hydrocarbon polymers include low molecular weight polymers such as polyisobutylene, polybutene, poly-4-methylpentene, poly-1-octene, ethylene-α-olefin copolymers, and hydrogenated products thereof; low molecular weight polymers such as polyisoprene, polyisoprene-butadiene copolymers, and hydrogenated products thereof. From the viewpoint of being easily dissolved or dispersed uniformly in the cycloolefin resin, it is preferable that the aliphatic hydrocarbon polymer has a number average molecular weight of 300 to 5,000.

これらポリマー軟化剤は1種の繰り返し単位からなる単独重合体でも、複数の繰り返し構造体を有する共重合体でもよい。また、上記ポリマーを2種以上併用して用いてもよい。These polymer softeners may be homopolymers consisting of one type of repeating unit, or copolymers having multiple repeating structures. Two or more of the above polymers may also be used in combination.

本発明において、可塑剤、軟化剤又はこれらの双方(以下「可塑剤等」ともいう)としては、樹脂層を構成する樹脂との相溶性に特に優れることからエステル系可塑剤、及び脂肪族炭化水素重合体から選ばれる一種以上であることが好ましい。In the present invention, the plasticizer, softener, or both (hereinafter also referred to as "plasticizer, etc.") is preferably one or more selected from ester-based plasticizers and aliphatic hydrocarbon polymers, since these have particularly excellent compatibility with the resin constituting the resin layer.

樹脂層における、可塑剤等の割合は、樹脂層を構成する樹脂100重量部に対して、好ましくは0.2重量部以上、より好ましくは0.5重量部以上、さらにより好ましくは1.0重量部以上であり、一方好ましくは50重量部以下、より好ましくは40重量部以下である。可塑剤等の割合を前記範囲内とすることにより、樹脂層を、延伸処理を含む偏光板の製造工程を経ても、位相差の発現が充分に低いものとすることができる。The proportion of the plasticizer, etc. in the resin layer is preferably 0.2 parts by weight or more, more preferably 0.5 parts by weight or more, and even more preferably 1.0 parts by weight or more, relative to 100 parts by weight of the resin constituting the resin layer, and is preferably 50 parts by weight or less, more preferably 40 parts by weight or less. By setting the proportion of the plasticizer, etc. within the above range, the resin layer can be made to have a sufficiently low retardation even after it has been subjected to a polarizing plate manufacturing process including a stretching treatment.

[有機金属化合物]
本発明において、樹脂層は、有機金属化合物を含有することが好ましい。有機金属化合物を含むことにより、積層体を高い延伸倍率で延伸(例えば延伸倍率6.0で湿式延伸)した場合における、樹脂層の剥離の発生をより有効に抑制することができる。
[Organometallic Compounds]
In the present invention, the resin layer preferably contains an organometallic compound. By containing the organometallic compound, peeling of the resin layer can be more effectively suppressed when the laminate is stretched at a high stretch ratio (for example, wet stretched at a stretch ratio of 6.0).

有機金属化合物は、金属と炭素との化学結合および金属と酸素との化学結合の少なくとも一方を含む化合物であり、有機基を有する金属化合物である。有機金属化合物としては、有機ケイ素化合物、有機チタン化合物、有機アルミニウム化合物、有機ジルコニウム化合物等が挙げられる。これらのうち、ポリビニルアルコールとの反応性に優れることから、有機ケイ素化合物、有機チタン化合物及び有機ジルコニウム化合物が好ましく、有機ケイ素化合物がより好ましい。有機金属化合物は一種または二種以上を組み合わせて用いてもよい。 An organometallic compound is a compound that contains at least one of a chemical bond between a metal and carbon and a chemical bond between a metal and oxygen, and is a metal compound having an organic group. Examples of organometallic compounds include organosilicon compounds, organotitanium compounds, organoaluminum compounds, and organozirconium compounds. Of these, organosilicon compounds, organotitanium compounds, and organozirconium compounds are preferred because of their excellent reactivity with polyvinyl alcohol, and organosilicon compounds are more preferred. One or more types of organometallic compounds may be used in combination.

有機金属化合物としては、例えば、下記式(1)で表される有機ケイ素化合物が挙げられるが、これに限定されない。
Si(OR4-a (1)
(式(1)において、R及びRは、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数1~10の炭化水素基、エポキシ基、アミノ基、チオール基、イソシアネート基及び、炭素原子数1~10の有機基からなる群より選ばれる基を表し、aは、0~4の整数を表す。)
Examples of the organometallic compound include, but are not limited to, organosilicon compounds represented by the following formula (1).
R 1 a Si(OR 2 ) 4-a (1)
(In formula (1), R1 and R2 each independently represent a group selected from the group consisting of a hydrogen atom, a halogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, an epoxy group, an amino group, a thiol group, an isocyanate group, and an organic group having 1 to 10 carbon atoms, and a represents an integer of 0 to 4.)

式(1)において、Rとして好ましい例を挙げると、エポキシ基、アミノ基、チオール基、イソシアネート基、ビニル基、アクリル基、アリール基、-CHOC2n+1(nは1~4の整数を表す。)炭素原子数1~8のアルキル基などが挙げられる。
また、式(1)において、Rとして好ましい例を挙げると、水素原子、ビニル基、アリール基、アクリル基、炭素原子数1~8のアルキル基、-CHOC2n+1(nは1~4の整数を表す。)などが挙げられる。
In formula (1), preferred examples of R 1 include an epoxy group, an amino group, a thiol group, an isocyanate group, a vinyl group, an acrylic group, an aryl group, —CH 2 OC n H 2n+1 (n is an integer of 1 to 4), and an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms.
In addition, in formula (1), preferred examples of R 2 include a hydrogen atom, a vinyl group, an aryl group, an acrylic group, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, -CH 2 OC n H 2n+1 (n is an integer of 1 to 4), and the like.

有機ケイ素化合物の例としては、3-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、2-(3,4-エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン等のエポキシ系有機ケイ素化合物、3-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-2-(アミノエチル)-3-アミノプロピルトリメトキシシラン等のアミノ系有機ケイ素化合物、トリス-(トリメトキシシリルプロピル)イソシアヌレート等のイソシアヌレート系有機ケイ素化合物、3-メルカプトプロピルトリメトキシシラン等のメルカプト系有機ケイ素化合物、3-イソシアネートプロピルトリエトキシシラン等のイソシアネート系有機ケイ素化合物が挙げられる。Examples of organosilicon compounds include epoxy-based organosilicon compounds such as 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane and 2-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilane, amino-based organosilicon compounds such as 3-aminopropyltrimethoxysilane and N-2-(aminoethyl)-3-aminopropyltrimethoxysilane, isocyanurate-based organosilicon compounds such as tris-(trimethoxysilylpropyl)isocyanurate, mercapto-based organosilicon compounds such as 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, and isocyanate-based organosilicon compounds such as 3-isocyanatepropyltriethoxysilane.

有機チタン化合物の例としては、テトライソプロピルチタネート等のチタンアルコキシド、チタンアセチルアセトネート等のチタンキレート、チタンイソステアレート等のチタンアシレートが挙げられる。 Examples of organic titanium compounds include titanium alkoxides such as tetraisopropyl titanate, titanium chelates such as titanium acetylacetonate, and titanium acylates such as titanium isostearate.

有機ジルコニウム化合物の例としては、ノルマルプロピルジルコネート等のジルコニウムアルコキシド、ジルコニウムテトラアセチルアセトネート等のジルコニウムキレート、ステアリン酸ジルコニウム等のジルコニウムアシレートが挙げられる。Examples of organic zirconium compounds include zirconium alkoxides such as normal propyl zirconate, zirconium chelates such as zirconium tetraacetylacetonate, and zirconium acylates such as zirconium stearate.

有機アルミニウム化合物の例としては、アルミニウムセカンダリーブトキシド等のアルミニウムアルコキシド、アルミニウムトリスアセチルアセトネート等のアルミニウムキレートが挙げられる。Examples of organoaluminum compounds include aluminum alkoxides such as aluminum sec-butoxide, and aluminum chelates such as aluminum trisacetylacetonate.

樹脂層における有機金属化合物の割合は、樹脂層を構成する樹脂100重量部に対して、好ましくは0.005重量部以上、より好ましくは0.01重量部以上、さらにより好ましくは0.03重量部以上であり、一方好ましくは1.0重量部以下、より好ましくは0.5重量部以下である。有機金属化合物の割合を前記範囲内とすることにより、積層体を高倍率(例えば延伸倍率6.0)で湿式延伸した場合における、樹脂層の剥離の発生をより有効に抑制することができる。The ratio of the organometallic compound in the resin layer is preferably 0.005 parts by weight or more, more preferably 0.01 parts by weight or more, and even more preferably 0.03 parts by weight or more, relative to 100 parts by weight of the resin constituting the resin layer, and is preferably 1.0 part by weight or less, and more preferably 0.5 part by weight or less. By setting the ratio of the organometallic compound within the above range, peeling of the resin layer can be more effectively suppressed when the laminate is wet-stretched at a high ratio (e.g., a stretch ratio of 6.0).

[任意成分]
樹脂層は、樹脂、可塑剤、有機金属化合物等の他に任意成分を含みうる。任意成分の例としては、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤などの安定剤;滑剤などの樹脂改質剤;染料や顔料などの着色剤;及び帯電防止剤が挙げられる。これらの配合剤は1種単独で、あるいは2種以上を組み合わせて用いることができ、その配合量は適宜選択される。
[Optional ingredients]
The resin layer may contain optional components in addition to the resin, plasticizer, organometallic compound, etc. Examples of the optional components include stabilizers such as antioxidants, ultraviolet absorbers, and light stabilizers; resin modifiers such as lubricants; colorants such as dyes and pigments; and antistatic agents. These additives may be used alone or in combination of two or more, and the amount of each additive is appropriately selected.

[樹脂層の厚み]
積層体における樹脂層の厚みは3μm以上が好ましく、5μm以上がより好ましく、60μm以下が好ましく、20μm以下がより好ましい。樹脂層の厚みが前記範囲の下限値以上であることにより、偏光板化工程における偏光子の溶断を効果的に防ぐことができ、前記範囲の上限値以下であることにより、積層体を延伸して偏光板を得た際に樹脂層に発生する位相差を小さくすることができる。
[Thickness of resin layer]
The thickness of the resin layer in the laminate is preferably 3 μm or more, more preferably 5 μm or more, and preferably 60 μm or less, and more preferably 20 μm or less. When the thickness of the resin layer is equal to or more than the lower limit of the above range, melting of the polarizer in the polarizing plate formation process can be effectively prevented, and when the thickness is equal to or less than the upper limit of the above range, the retardation generated in the resin layer when the laminate is stretched to obtain a polarizing plate can be reduced.

[樹脂層のRe2]
樹脂層のRe2は、0nm以上20nm以下であることが好ましい。Re2はより好ましくは0nm以上であり、より好ましくは10nm以下、特に好ましくは5nm以下である。Re2が上限値以下であることにより積層体10を延伸して偏光板とした際に樹脂層に発現する位相差を小さくすることができる。
Re2は、積層体10を、50℃~120℃の温度条件で6.0倍に自由端一軸延伸し延伸積層体とし、それにより積層体における樹脂層を延伸樹脂層、即ち樹脂層の延伸物とした際に、かかる延伸樹脂層が有する、面内方向の位相差である。即ち、Re2は、積層体における樹脂層自体の位相差ではなく、積層体に特定の延伸処理を加えた後に、樹脂層の延伸物に生じる位相差である。
かかる延伸物を得るための延伸温度は、50℃~120℃の範囲内のいずれの温度であってもよい。したがって、延伸物を得る延伸のための、複数の操作条件が考えられる。かかる複数の操作条件のいずれか一つによって、延伸物が0nm以上20nm以下の位相差を発現する場合、積層体は前記要件を満たす。
但し、とりうる前記複数の操作条件の全てによって、延伸物が0nm以上20nm以下の位相差を発現することが好ましい。その場合、本発明の偏光板用積層体による偏光板の製造において、高い延伸条件設定の自由度を得ることができる。
一般的に、当該温度範囲においては延伸温度がより低い場合においてより大きな位相差が発現する。したがって、50℃の延伸による延伸物の位相差及び120℃の延伸による延伸物の位相差の双方が0nm以上20nm以下の範囲内であれば、前記複数の操作条件の全てによって、延伸物が0nm以上20nm以下の位相差を発現すると判断しうる。
[Resin layer Re2]
The Re2 of the resin layer is preferably 0 nm or more and 20 nm or less. Re2 is more preferably 0 nm or more, more preferably 10 nm or less, and particularly preferably 5 nm or less. When Re2 is equal to or less than the upper limit, the retardation generated in the resin layer can be reduced when the laminate 10 is stretched to form a polarizing plate.
Re2 is the in-plane retardation of the stretched resin layer when the laminate 10 is free-end uniaxially stretched 6.0 times at a temperature condition of 50° C. to 120° C. to form a stretched laminate, and the resin layer in the laminate is thereby formed into a stretched resin layer, i.e., a stretched product of the resin layer. In other words, Re2 is not the retardation of the resin layer itself in the laminate, but is the retardation generated in the stretched product of the resin layer after the laminate is subjected to a specific stretching treatment.
The stretching temperature for obtaining such a stretched product may be any temperature within the range of 50° C. to 120° C. Therefore, a plurality of operation conditions for the stretching to obtain a stretched product are conceivable. When the stretched product exhibits a retardation of 0 nm or more and 20 nm or less under any one of the plurality of operation conditions, the laminate satisfies the above requirement.
However, it is preferable that the stretched product exhibits a retardation of 0 nm or more and 20 nm or less under all of the above-mentioned multiple possible operating conditions. In that case, in the production of a polarizing plate using the laminate for polarizing plate of the present invention, a high degree of freedom in setting the stretching conditions can be obtained.
Generally, in the temperature range, a larger retardation is exhibited when the stretching temperature is lower. Therefore, if the retardation of the stretched product by stretching at 50° C. and the retardation of the stretched product by stretching at 120° C. are both within the range of 0 nm to 20 nm, it can be determined that the stretched product exhibits a retardation of 0 nm to 20 nm under all of the above-mentioned multiple operating conditions.

[2.積層体の製造方法]
本実施形態に係る積層体の製造方法は、偏光子の材料を含む原反フィルムを延伸して偏光子材料フィルムを得る第一の工程と、偏光子材料フィルムの一方の表面に、樹脂を塗布して塗布層を形成する第二の工程と、第二の工程で形成した塗布層を乾燥する第三の工程と、をこの順に含む。
[2. Manufacturing method of laminate]
The manufacturing method of the laminate according to this embodiment includes, in this order, a first step of stretching an original film containing a polarizer material to obtain a polarizer material film, a second step of applying a resin to one surface of the polarizer material film to form a coating layer, and a third step of drying the coating layer formed in the second step.

また、積層体の製造方法は、第二の工程の前に、偏光子材料フィルムの表面を活性化処理する第四の工程を含んでいてもよい。 The method for manufacturing the laminate may also include a fourth step of activating the surface of the polarizer material film before the second step.

[積層体の製造装置]
図2は、本実施形態に係る積層体の製造方法において用いる製造装置200の一例を模式的に示した概略図である。製造装置200は、繰り出し装置201、塗布装置202、巻き取り装置203、延伸装置204、活性化処理を行う処理装置205、及び乾燥装置206を備える。A1は搬送方向である。
[Laminate manufacturing apparatus]
2 is a schematic diagram showing an example of a manufacturing apparatus 200 used in the laminate manufacturing method according to the present embodiment. The manufacturing apparatus 200 includes a payout device 201, a coating device 202, a winding device 203, a stretching device 204, a treatment device 205 that performs an activation treatment, and a drying device 206. A1 indicates the conveying direction.

[積層体の製造方法]
図2に示すように、繰り出し装置201から繰り出された原反フィルム1を延伸装置204に搬送し、延伸装置204にて延伸処理を行うことにより偏光子材料フィルム11が得られる(第一の工程)。偏光子材料フィルム11を、処理装置205に搬送し、処理装置205にて、活性化処理(第四の工程)を行った後、塗布装置202において塗布層を形成し(第二の工程)、乾燥装置206において乾燥する工程(第三の工程)を経て、積層体10が得られる。製造された積層体10は、巻き取り装置203により巻き取られ、ロールの形状とし、さらなる工程に供することができる。以下各工程について説明する。
[Method of manufacturing laminate]
As shown in Fig. 2, the raw film 1 unwound from the unwinding device 201 is transported to the stretching device 204, where it is stretched to obtain a polarizer material film 11 (first step). The polarizer material film 11 is transported to the processing device 205, where it is activated (fourth step), and then a coating layer is formed in the coating device 202 (second step), and the laminate 10 is obtained through a drying step (third step) in the drying device 206. The laminate 10 thus produced is wound up by the winding device 203, formed into a roll, and can be subjected to further steps. Each step will be described below.

[第一の工程]
第一の工程は、偏光子の材料を含む原反フィルムを延伸して偏光子材料フィルムを得る工程である。
[First step]
The first step is a step of stretching a raw film containing a polarizer material to obtain a polarizer material film.

第一の工程における原反フィルムの延伸処理は、[1.積層体]の[偏光子材料フィルム]の項で説明した条件及び方法(延伸処理の方法、延伸の態様、延伸倍率、延伸温度)で行うことが好ましい。具体的には、第一工程における、原反フィルムの延伸の延伸倍率がX倍であり、Xは1.5≦X≦5.5を満たすことが好ましい。Xのより好ましい範囲は、[1.積層体]の[偏光子材料フィルム]の項で説明した通りである。The stretching process of the raw film in the first step is preferably carried out under the conditions and method (stretching process method, stretching mode, stretching ratio, stretching temperature) described in the section [Polarizer material film] of [1. Laminate]. Specifically, it is preferable that the stretching ratio of the raw film in the first step is X times, and X satisfies 1.5≦X≦5.5. A more preferred range of X is as described in the section [Polarizer material film] of [1. Laminate].

[第二の工程]
第二の工程は、偏光子材料フィルム11の一方の表面に、樹脂を塗布して、塗布層を形成する工程である。偏光子材料フィルム11に樹脂を塗布する方法(塗布方法)は、特に限定されないが、例えば、溶液コーティング、エマルジョンコーティング、あるいは溶融押出コーティングから選ばれる一以上の方法であることが好ましく、高速塗布が可能で均一な膜厚の樹脂層が得られることから溶液コーティングがより好ましい。
[Second step]
The second step is a step of forming a coating layer by applying a resin to one surface of the polarizer material film 11. The method for applying a resin to the polarizer material film 11 (coating method) is not particularly limited, but is preferably at least one method selected from, for example, solution coating, emulsion coating, and melt extrusion coating, and solution coating is more preferable because it allows high-speed coating and can provide a resin layer with a uniform thickness.

溶液コーティングにより塗布層を形成する場合、塗布層の形成に用いる樹脂及び必要に応じ添加される成分を溶剤に溶解して樹脂組成物とし、当該樹脂組成物を偏光子材料フィルム11に塗布する。即ち「樹脂を塗布する」という文言は、樹脂のみを塗布する場合、及び樹脂及びそれ以外の成分を含む樹脂組成物を塗布する場合の両方を包含する。When forming a coating layer by solution coating, the resin used to form the coating layer and any other components added as necessary are dissolved in a solvent to form a resin composition, and the resin composition is applied to the polarizer material film 11. In other words, the phrase "applying a resin" encompasses both the application of only a resin and the application of a resin composition containing a resin and other components.

[第三の工程]
第三の工程は、第二の工程で形成した塗布層を乾燥する工程である。第三の工程を行うことにより、偏光子材料フィルム11の一方の面に樹脂層12が形成される。
第三の工程においては、塗布層を、温度50℃~120℃の温度の乾燥機中で、0.5分~10分乾燥することが好ましい。前記塗布層の乾燥温度は、より好ましくは60℃以上、更に好ましくは70℃以上であり、より好ましくは100℃以下、更に好ましくは90℃以下である。乾燥温度を下限値以上とすることにより乾燥時間を短縮することができ、乾燥温度を上限値以下とすることにより、偏光子材料フィルムの結晶化を抑えることができる。
[Third step]
The third step is a step of drying the coating layer formed in the second step. By carrying out the third step, a resin layer 12 is formed on one surface of the polarizer material film 11.
In the third step, the coating layer is preferably dried for 0.5 to 10 minutes in a dryer at a temperature of 50° C. to 120° C. The drying temperature for the coating layer is more preferably 60° C. or higher, even more preferably 70° C. or higher, and more preferably 100° C. or lower, even more preferably 90° C. or lower. By setting the drying temperature to the lower limit or higher, the drying time can be shortened, and by setting the drying temperature to the upper limit or lower, crystallization of the polarizer material film can be suppressed.

[第四の工程]
第四の工程は、第二の工程の前に、偏光子材料フィルムの表面を活性化処理する工程である。本発明において当該第四の工程は任意の工程であり、本発明の製造方法は第四の工程を含んでいても含んでいなくてもよい。第四の工程において、偏光子材料フィルムの表面を活性化することにより、偏光子材料フィルム表面にブリードした可塑剤等を除去し、偏光子材料フィルム表面を酸化することで樹脂層の接着性を高め、樹脂層を設ける際に樹脂層が剥離することを抑制することができる。
[Fourth step]
The fourth step is a step of activating the surface of the polarizer material film before the second step. In the present invention, the fourth step is an optional step, and the manufacturing method of the present invention may or may not include the fourth step. In the fourth step, by activating the surface of the polarizer material film, plasticizers and the like that have bled onto the polarizer material film surface can be removed, and the polarizer material film surface can be oxidized to increase the adhesion of the resin layer, thereby suppressing peeling of the resin layer when the resin layer is provided.

活性化処理の方法としては、例えば、コロナ処理、プラズマ処理、ケン化処理、プライマー処理、アンカーコーティング処理等が挙げられる。 Activation treatment methods include, for example, corona treatment, plasma treatment, saponification treatment, primer treatment, anchor coating treatment, etc.

第四の工程を行う時期は、第二の工程の前であれば限定はなく、後述の加熱処理工程を行う場合は、加熱処理工程の前、加熱処理工程の後、加熱処理工程と同時のいずれの時期に行ってもよい。加熱処理工程により偏光子材料フィルムに含まれる可塑剤等が偏光子材料フィルムの表面にブリードする可能性があるため、第四の工程は加熱処理工程の後に行うことが特に好ましい。There is no limitation on the timing of performing the fourth step, so long as it is performed before the second step. When the heat treatment step described below is performed, the fourth step may be performed before the heat treatment step, after the heat treatment step, or simultaneously with the heat treatment step. Since the heat treatment step may cause plasticizers and the like contained in the polarizer material film to bleed onto the surface of the polarizer material film, it is particularly preferable to perform the fourth step after the heat treatment step.

[加熱処理工程]
加熱処理工程は、第二の工程の前に、偏光子材料フィルムを加熱処理する工程である。本発明において当該加熱処理工程は任意の工程であり、本発明の製造方法は加熱処理工程を含んでいても含んでいなくてもよい。加熱処理工程において偏光子材料フィルムを加熱処理することにより偏光子材料フィルムに存在するシワを除去し、平面性を向上させることができる。偏光子材料フィルムを平滑にすることで第二の工程で形成される樹脂層の膜厚精度を向上させることができる。偏光子材料フィルムの加熱温度は、好ましくは50℃以上、より好ましくは60℃以上であり、好ましくは100℃以下、より好ましくは90℃以下である。
[Heat treatment process]
The heat treatment step is a step of heat treating the polarizer material film before the second step. In the present invention, the heat treatment step is an optional step, and the manufacturing method of the present invention may or may not include a heat treatment step. By heat treating the polarizer material film in the heat treatment step, wrinkles present in the polarizer material film can be removed and flatness can be improved. By smoothing the polarizer material film, the film thickness accuracy of the resin layer formed in the second step can be improved. The heating temperature of the polarizer material film is preferably 50°C or higher, more preferably 60°C or higher, and preferably 100°C or lower, more preferably 90°C or lower.

[積層体の用途]
本発明の積層体10は偏光板を製造するための材料である。積層体は延伸処理及び染色処理等の処理を行った後に偏光板とされうる。積層体10を偏光板の材料とする場合、図2に示す巻き取り装置203により巻き取られた積層体をそのまま用いてもよいし、巻き取り装置203に巻き取られた積層体の樹脂層12にセパレーターフィルムを積層し、ロール形状に巻き取って積層体フィルムロールとしてから用いてもよい。以下、本実施形態の積層体10を用いた本実施形態の偏光板について説明する。
[Applications of the laminate]
The laminate 10 of the present invention is a material for manufacturing a polarizing plate. The laminate can be made into a polarizing plate after being subjected to processes such as stretching and dyeing. When the laminate 10 is used as a material for a polarizing plate, the laminate taken up by the winding device 203 shown in FIG. 2 may be used as it is, or a separator film may be laminated on the resin layer 12 of the laminate taken up by the winding device 203, and the laminate may be taken up in a roll shape to form a laminate film roll and then used. Hereinafter, the polarizing plate of this embodiment using the laminate 10 of this embodiment will be described.

[3.偏光板]
[概要]
本発明の偏光板は本発明の積層体を一軸延伸することにより得られる。図3は本実施形態に係る積層体を用いて偏光板を製造する製造装置の一例を模式的に示した概略図である。図4は本実施形態に係る積層体を用いて製造した偏光板を模式的に示した断面図である。
[3. Polarizing Plate]
[overview]
The polarizing plate of the present invention can be obtained by uniaxially stretching the laminate of the present invention. Fig. 3 is a schematic diagram showing an example of a manufacturing apparatus for manufacturing a polarizing plate using the laminate of the present embodiment. Fig. 4 is a cross-sectional diagram showing a polarizing plate manufactured using the laminate of the present embodiment.

[偏光板]
本実施形態の偏光板100は本実施形態の積層体を一軸延伸することにより得られる偏光板である。図4に示すように、偏光板100においては、偏光子材料フィルム111の一方の面(図示上側面)の上に樹脂層112が積層されている。
[Polarizer]
The polarizing plate 100 of this embodiment is a polarizing plate obtained by uniaxially stretching the laminate of this embodiment. As shown in Fig. 4, in the polarizing plate 100, a resin layer 112 is laminated on one surface (the upper surface in the figure) of a polarizer material film 111.

[偏光板における各層の特性]
偏光板100における偏光子材料フィルム111の厚みは、30μm以下が好ましく、20μm以下がより好ましく、3μm以上が好ましく、5μm以上がより好ましい。厚みが上限値以下であることにより、偏光板の厚みを小さくすることができ、厚みが下限値以上であることにより、十分に高い偏光度を有する偏光板を得ることが出来る。
[Characteristics of each layer in the polarizing plate]
The thickness of the polarizer material film 111 in the polarizing plate 100 is preferably 30 μm or less, more preferably 20 μm or less, and preferably 3 μm or more, and more preferably 5 μm or more. When the thickness is equal to or less than the upper limit, the thickness of the polarizing plate can be reduced, and when the thickness is equal to or more than the lower limit, a polarizing plate having a sufficiently high degree of polarization can be obtained.

偏光板における樹脂層の面内方向の位相差は、20nm以下であることが好ましく、15nm以下がより好ましく、10nm以下がさらに好ましく、0nm以上が好ましい。偏光板における樹脂層の面内方向の位相差が上記範囲内であることにより、偏光板を液晶表示装置に実装した際のブラックカラーシフトを抑えることができる。The in-plane retardation of the resin layer in the polarizing plate is preferably 20 nm or less, more preferably 15 nm or less, even more preferably 10 nm or less, and preferably 0 nm or more. By having the in-plane retardation of the resin layer in the polarizing plate within the above range, black color shift can be suppressed when the polarizing plate is mounted on a liquid crystal display device.

[4.偏光板の製造方法]
[概要]
本発明の偏光板の製造方法は、本発明の積層体または、本発明の積層体の製造方法により得られた積層体を用いて偏光板を製造する方法である。本発明の偏光板の製造方法は、積層体を二色性色素で染色する第五の工程と、積層体を一軸延伸する第六の工程と、を含む。即ち、本発明の偏光板の製造方法は、前記本発明の積層体を任意の方法により製造する工程、または前記本発明の積層体の製造方法により積層体を製造する工程と、積層体を二色性色素で染色する第五の工程と、積層体を一軸延伸する第六の工程とを含む。
また、本発明の偏光板の製造方法は、第五の工程、第六の工程又はこれらの双方を経た後に、積層体の偏光子材料フィルム側の面及び樹脂層側の面のうち、一方又は両方の面に保護フィルムを貼合する第七の工程を含んでいてもよい。第七の工程は任意の工程であり、本実施形態においては、第七の工程を含まない製造方法により偏光板を製造する例について説明する。
[4. Manufacturing method of polarizing plate]
[overview]
The method for producing a polarizing plate of the present invention is a method for producing a polarizing plate using the laminate of the present invention or a laminate obtained by the method for producing a laminate of the present invention. The method for producing a polarizing plate of the present invention includes a fifth step of dyeing the laminate with a dichroic dye and a sixth step of uniaxially stretching the laminate. That is, the method for producing a polarizing plate of the present invention includes a step of producing the laminate of the present invention by any method or a step of producing a laminate by the method for producing a laminate of the present invention, a fifth step of dyeing the laminate with a dichroic dye, and a sixth step of uniaxially stretching the laminate.
The method for producing a polarizing plate of the present invention may further include a seventh step of laminating a protective film to one or both of the surface of the laminate on the polarizer material film side and the surface of the laminate on the resin layer side after the fifth step, the sixth step, or both of them. The seventh step is an optional step, and in this embodiment, an example of producing a polarizing plate by a production method that does not include the seventh step will be described.

[偏光板を製造する装置]
図3に示すように、偏光板を製造する製造装置300は、繰り出し装置301,307、処理装置302~305、乾燥装置306、貼り合わせ装置308、及び巻き取り装置310を備える。
[Polarizing plate manufacturing device]
As shown in FIG. 3, a manufacturing apparatus 300 for manufacturing a polarizing plate includes pay-out devices 301 and 307 , processing devices 302 to 305 , a drying device 306 , a laminating device 308 , and a winding device 310 .

[偏光板の製造方法]
本実施形態においては、繰り出し装置301から繰り出された積層体10を、処理装置302~305に搬送して、積層体10を二色性色素で染色する染色処理(第五の工程)及び積層体を一軸延伸する延伸処理(第六の工程)を行う。これらの処理を行った後の積層体を乾燥装置306にて乾燥する処理(乾燥工程)を行うと、偏光板100が得られる。以下、各工程について詳しく説明する。
[Method of manufacturing polarizing plate]
In this embodiment, the laminate 10 fed from the feed device 301 is transported to processing devices 302 to 305, where a dyeing process (fifth step) in which the laminate 10 is dyed with a dichroic dye and a stretching process (sixth step) in which the laminate is uniaxially stretched are performed. The laminate after these processes is then dried in a drying device 306 (drying step), to obtain the polarizing plate 100. Each step will be described in detail below.

[第五の工程]
第五の工程は、積層体10を二色性色素で染色する工程である。本実施形態では、第五の工程において、積層体の偏光子材料フィルムを染色する。本発明においては、第五の工程を行う積層体に含まれる偏光子材料フィルムは未染色であることが好ましいが、偏光子材料フィルムの染色は、積層体を形成する前の偏光子材料フィルムについて行ってもよい。
[Fifth step]
The fifth step is a step of dyeing the laminate 10 with a dichroic dye. In this embodiment, the polarizer material film of the laminate is dyed in the fifth step. In the present invention, it is preferable that the polarizer material film included in the laminate to be subjected to the fifth step is undyed, but the dyeing of the polarizer material film may be performed on the polarizer material film before the laminate is formed.

第五の工程における積層体を染色する二色性色素(二色性物質)としては、ヨウ素、有機染料などが挙げられる。これらの二色性色素を用いた染色方法は、任意である。例えば、二色性色素を含む染色溶液に、偏光子材料フィルムの層を浸漬することにより、染色を行ってもよい。また、二色性色素としてヨウ素を用いる場合、染色効率を高める観点から、染色溶液はヨウ化カリウム等のヨウ化物を含んでいてもよい。二色性色素に特に制限はないが、偏光板を車載用の表示装置において用いる場合、二色性色素としては、有機染料が好ましい。Examples of the dichroic dye (dichroic substance) used to dye the laminate in the fifth step include iodine and organic dyes. Any dyeing method may be used using these dichroic dyes. For example, dyeing may be performed by immersing a layer of the polarizer material film in a dyeing solution containing the dichroic dye. When iodine is used as the dichroic dye, the dyeing solution may contain an iodide such as potassium iodide in order to increase the dyeing efficiency. There are no particular limitations on the dichroic dye, but when the polarizing plate is used in an in-vehicle display device, an organic dye is preferred as the dichroic dye.

[第六の工程]
第六の工程は、積層体を一軸延伸する工程である。積層体を延伸する方法としては特に限定されないが、湿式延伸が好ましい。第六の工程は第五の工程の前、第五の工程の後、第五の工程と同時のいずれの時期に行ってもよい。また、第六の工程は第五の工程の前、第五の工程の後、第五の工程と同時のいずれかの時期に分割して複数回行っても良い。延伸工程は1回行っても、2回以上行ってもよい。
[Sixth step]
The sixth step is a step of uniaxially stretching the laminate. The method of stretching the laminate is not particularly limited, but wet stretching is preferred. The sixth step may be performed before the fifth step, after the fifth step, or simultaneously with the fifth step. The sixth step may be divided and performed multiple times before the fifth step, after the fifth step, or simultaneously with the fifth step. The stretching step may be performed once or more than once.

第六の工程における、積層体の延伸倍率はZ倍であり、Zは1.2≦Z≦5.0としうる。Zは、好ましくは1.2以上、より好ましくは1.5以上であり、好ましくは5.0以下、より好ましくは4.0以下である。積層体の延伸倍率を前記範囲の上限値以下とすると、延伸処理を含む偏光板の製造工程を経てもなお、樹脂層の位相差の発現を低くし、偏光板の破断の発生を防止することができ、延伸倍率を前記範囲の下限値以上とすると十分な偏光性能を持つ偏光板を得ることができる。積層体の延伸を2回以上行う場合、各回の延伸倍率の積で表されるトータルの延伸倍率が前記範囲となるようにすることが好ましい。In the sixth step, the stretching ratio of the laminate is Z times, and Z can be 1.2≦Z≦5.0. Z is preferably 1.2 or more, more preferably 1.5 or more, and preferably 5.0 or less, more preferably 4.0 or less. When the stretching ratio of the laminate is set to the upper limit value of the above range or less, the expression of the phase difference of the resin layer can be reduced and the occurrence of breakage of the polarizing plate can be prevented even after the polarizing plate manufacturing process including the stretching treatment, and when the stretching ratio is set to the lower limit value of the above range or more, a polarizing plate with sufficient polarizing performance can be obtained. When the laminate is stretched two or more times, it is preferable that the total stretching ratio represented by the product of the stretching ratios of each time is set to be in the above range.

第一の工程における原反フィルムの延伸倍率Xと、第六の工程における積層体の延伸倍率Zとは、5.1≦X*Y≦9.0を満たすことが好ましい。X*Yは、XとYの積(延伸倍率の積)である。X*Yは好ましくは5.1以上、より好ましくは5.5以上であり、好ましくは9.0以下、より好ましくは7.0以下である。X*Yが前記範囲の上限値以下であることにより、延伸処理を含む偏光板の製造工程を経てもなお、樹脂層の位相差の発現を低くし、偏光板の破断の発生を防止することができる。X*Yを前記範囲の下限値以上であることにより、十分な偏光性能を持つ偏光板を得ることができる。It is preferable that the stretching ratio X of the raw film in the first step and the stretching ratio Z of the laminate in the sixth step satisfy 5.1≦X*Y≦9.0. X*Y is the product of X and Y (product of stretching ratios). X*Y is preferably 5.1 or more, more preferably 5.5 or more, and preferably 9.0 or less, more preferably 7.0 or less. By making X*Y equal to or less than the upper limit of the above range, it is possible to reduce the expression of the phase difference of the resin layer and prevent the occurrence of breakage of the polarizing plate even after the polarizing plate manufacturing process including the stretching treatment is performed. By making X*Y equal to or more than the lower limit of the above range, it is possible to obtain a polarizing plate with sufficient polarization performance.

積層体の延伸温度は、特段の制限は無いが、好ましくは30℃以上、より好ましくは40℃以上、特に好ましくは50℃以上であり、好ましくは140℃以下、より好ましくは90℃以下、特に好ましくは70℃以下である。延伸温度が、前記範囲の下限値以上であることにより延伸を円滑に行うことができ、また、前記範囲の上限値以下であることにより延伸によって効果的な配向を行うことができる。前記延伸温度の範囲は乾式延伸及び湿式延伸のいずれの方法であっても好ましいが、湿式延伸の場合に特に好ましい。The stretching temperature of the laminate is not particularly limited, but is preferably 30°C or higher, more preferably 40°C or higher, particularly preferably 50°C or higher, and is preferably 140°C or lower, more preferably 90°C or lower, particularly preferably 70°C or lower. When the stretching temperature is equal to or higher than the lower limit of the above range, stretching can be performed smoothly, and when the stretching temperature is equal to or lower than the upper limit of the above range, effective orientation can be achieved by stretching. The above stretching temperature range is preferable for both dry stretching and wet stretching, but is particularly preferable for wet stretching.

積層体の延伸処理は、フィルム長手方向に延伸を行う縦延伸処理、フィルム幅方向に延伸を行う横延伸処理、フィルム幅方向に平行でもなく垂直でもない斜め方向に延伸を行う斜め延伸処理のいずれを行ってもよい。積層体の延伸処理は、自由端一軸延伸が好ましく、縦方向の自由端一軸延伸がより好ましい。The stretching process for the laminate may be any of the following: longitudinal stretching in the longitudinal direction of the film, transverse stretching in the width direction of the film, and oblique stretching in an oblique direction that is neither parallel nor perpendicular to the width direction of the film. The stretching process for the laminate is preferably free-end uniaxial stretching, and more preferably free-end uniaxial stretching in the longitudinal direction.

[乾燥工程]
乾燥工程は、第五の工程及び第六の工程を経た積層体を乾燥する工程である。本発明において乾燥工程は任意の工程である。乾燥工程においては、積層体を、温度50℃~100℃の温度の乾燥機中で、0.5分~10分乾燥することが好ましい。前記積層体の乾燥温度は、より好ましくは60℃以上であり、より好ましくは90℃以下である。乾燥温度を下限値以上とすることにより乾燥時間を短縮することができ、乾燥温度を上限値以下とすることにより、偏光子材料フィルムの割れを防止することができる。前記積層体の乾燥時間は、より好ましくは1分以上であり、より好ましくは5分以下である。乾燥時間を、乾燥時間を下限値以上とすることで前記積層体の乾燥を十分なものとし、上限値以下とすることにより、積層体における偏光子材料フィルムの割れを防止することができる。
[Drying process]
The drying step is a step of drying the laminate that has been through the fifth and sixth steps. In the present invention, the drying step is an optional step. In the drying step, the laminate is preferably dried for 0.5 to 10 minutes in a dryer at a temperature of 50° C. to 100° C. The drying temperature of the laminate is more preferably 60° C. or higher, and more preferably 90° C. or lower. By setting the drying temperature to the lower limit or higher, the drying time can be shortened, and by setting the drying temperature to the upper limit or lower, cracking of the polarizer material film can be prevented. The drying time of the laminate is more preferably 1 minute or higher, and more preferably 5 minutes or lower. By setting the drying time to the lower limit or higher, the drying of the laminate is sufficient, and by setting the drying time to the upper limit or lower, cracking of the polarizer material film in the laminate can be prevented.

従来のPVA樹脂のみからなる薄膜の偏光子においては、乾燥工程後に割れが発生することがあったが、本実施形態の偏光板は、偏光子材料フィルムと、偏光子材料フィルムに直接積層された樹脂層とを有する積層体を用いて製造するので、乾燥工程を経た後でも偏光子の割れの発生を抑制することができる。Conventional thin film polarizers made only of PVA resin could sometimes crack after the drying process, but the polarizing plate of this embodiment is manufactured using a laminate having a polarizer material film and a resin layer laminated directly onto the polarizer material film, so that cracks in the polarizer can be suppressed even after the drying process.

[5.本実施形態の作用・効果]
本実施形態においては、所定の位相差Re1を有し、厚みT1が小さい偏光子材料フィルムと、偏光子材料フィルムの上に直接設けられた樹脂層と、を有する積層体を延伸することにより偏光板を製造するので、該積層体を延伸して偏光板を製造するときの延伸倍率を低くすることができる。これにより、積層体を延伸処理した後の樹脂層における位相差の発現を抑えることができる。その結果、本実施形態によれば、樹脂層を剥離せずにそのまま偏光子材料フィルムの一方の面の保護フィルムとして用いることができ、かつ無駄になる材料を減らすことができるので、樹脂層を保護フィルムとしても用いることができ、厚みが薄くても効率的に製造することができる偏光板用積層体及びその製造方法、前記積層体を用いた偏光板及びその製造方法、ならびに前記偏光板を用いた表示装置の製造方法を提供することができる。
5. Effects and Advantages of the Present Embodiment
In this embodiment, a polarizing plate is manufactured by stretching a laminate having a polarizing material film having a predetermined retardation Re1 and a small thickness T1 and a resin layer provided directly on the polarizing material film, so that the stretching ratio when the laminate is stretched to manufacture a polarizing plate can be reduced. This makes it possible to suppress the occurrence of retardation in the resin layer after the laminate is stretched. As a result, according to this embodiment, the resin layer can be used as it is as a protective film on one side of the polarizing material film without peeling it off, and the amount of wasted material can be reduced, so that the resin layer can be used as a protective film, and a laminate for polarizing plate and a manufacturing method thereof that can be efficiently manufactured even if the thickness is thin, a polarizing plate using the laminate and a manufacturing method thereof, and a manufacturing method of a display device using the polarizing plate can be provided.

また、本実施形態の積層体10において、樹脂層12は、接着剤等を介さず偏光子材料フィルム11の上に直接設けられているので、接着剤等の染み込みによるしわ及びボイドの発生を防止することができる。その結果、本実施形態によれば、しわ及びボイドの発生を防止した積層体及びその製造方法、偏光板及びその製造方法、ならびに表示装置の製造方法を提供することができる。In addition, in the laminate 10 of this embodiment, the resin layer 12 is provided directly on the polarizer material film 11 without the use of an adhesive or the like, so that it is possible to prevent the occurrence of wrinkles and voids due to penetration of the adhesive or the like. As a result, according to this embodiment, it is possible to provide a laminate and a manufacturing method thereof, a polarizing plate and a manufacturing method thereof, and a manufacturing method of a display device, which prevent the occurrence of wrinkles and voids.

さらに、本実施形態によれば、樹脂層12と偏光子材料フィルム11との間に他の材料が介在しないので、破断抑制効果に優れかつ、生産環境における他物質による環境汚染の防止や、製品へのコンタミネーション(異物混入)を防止することができる。 Furthermore, according to this embodiment, since no other materials are interposed between the resin layer 12 and the polarizer material film 11, it has an excellent breakage suppression effect and can prevent environmental pollution by other substances in the production environment and contamination (mixing of foreign matter) into the product.

[実施形態2:偏光板及びその製造方法]
以下、実施形態2に係る偏光板120及びその製造方法について図3及び図5を参照しつつ説明する。本実施形態に係る偏光板120は、実施形態1に係る偏光板100を用いて製造したものである。実施形態1と同様の構成及び態様については同一の符号を付し、重複した説明は省略する。
[Embodiment 2: Polarizing plate and method for producing the same]
A polarizing plate 120 according to embodiment 2 and a method for manufacturing the same will be described below with reference to Fig. 3 and Fig. 5. The polarizing plate 120 according to this embodiment is manufactured using the polarizing plate 100 according to embodiment 1. The same reference numerals are used to designate the same configurations and aspects as those in embodiment 1, and duplicated descriptions will be omitted.

[偏光板]
図5は本発明の実施形態2に係る偏光板120を模式的に示した断面図である。この偏光板120においては、図5に示すように、偏光子材料フィルム111の一方の面(図示上側面)の上に樹脂層112が積層され、偏光子材料フィルム111の他方の面側(図示下側面)に保護フィルム115が積層されている。
[Polarizer]
5 is a cross-sectional view showing a polarizing plate 120 according to embodiment 2 of the present invention. In this polarizing plate 120, as shown in FIG. 5, a resin layer 112 is laminated on one surface (the upper surface in the figure) of a polarizer material film 111, and a protective film 115 is laminated on the other surface (the lower surface in the figure) of the polarizer material film 111.

[偏光板の製造方法]
本実施形態の偏光板120の製造方法は、第五の工程及び第六の工程を経た後に、積層体の偏光子材料フィルム側の面に、保護フィルムを貼合する第七の工程を含む。以下詳しく説明する。
[Method of manufacturing polarizing plate]
The method for producing the polarizing plate 120 of this embodiment includes a seventh step of laminating a protective film on the surface of the laminate on the polarizing material film side after the fifth step and the sixth step. This will be described in detail below.

本実施形態の偏光板120の製造方法では、積層体10の偏光子材料フィルム11を染色する染色処理(第五の工程)及び、積層体を一軸延伸する延伸処理(第六の工程)の後、乾燥装置306にて乾燥して得られる偏光板100を用いる。In the manufacturing method of the polarizing plate 120 of this embodiment, a dyeing process (fifth step) for dyeing the polarizer material film 11 of the laminate 10 and a stretching process (sixth step) for uniaxially stretching the laminate are performed, followed by drying in a drying device 306 to obtain a polarizing plate 100.

偏光板120は、図3に示すように、染色処理(第五の工程)及び延伸処理(第六の工程)を経て得られた偏光板100を、貼り合わせ装置308に搬送し、積層体の偏光子材料フィルム側の面に、繰り出し装置307から繰り出された保護フィルム115を貼合すること(第七の工程)により得られる。得られた偏光板120は、巻き取り装置310により巻き取られ、ロールの形状とし、さらなる工程に供することができる。3, the polarizing plate 120 is obtained by transporting the polarizing plate 100 obtained through the dyeing process (fifth step) and the stretching process (sixth step) to a lamination device 308, and laminating the protective film 115 unwound from a winding device 307 to the surface of the laminate facing the polarizer material film (seventh step). The obtained polarizing plate 120 is wound up by a winding device 310 into a roll shape, and can be subjected to further processes.

第七の工程において用いる保護フィルム115としては、シクロオレフィン樹脂、アクリル樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、及びトリアセチルセルロース樹脂から選ばれる一種以上の樹脂からなるフィルムが挙げられる。The protective film 115 used in the seventh step may be a film made of one or more resins selected from cycloolefin resin, acrylic resin, polyethylene terephthalate resin, and triacetyl cellulose resin.

保護フィルム115の偏光板100への貼合は、特段の制限は無く熱圧着等の方法により行ってもよい(図5参照)。保護フィルム115の偏光板100への貼合は、接着剤または粘着剤などを介して行ってもよい。第五の工程および第六の工程を経た後の偏向板において、偏光子材料フィルムは硬化しているため、接着剤などがしみこむことに起因したしわの発生の問題は生じにくい。
保護フィルムと偏向板との貼合に用いる接着剤および粘着剤としては、例えば、アクリル系接着剤、エポキシ系接着剤、ウレタン系接着剤、ポリエステル系接着剤、ポリビニルアルコール系接着剤、ポリオレフィン系接着剤、変性ポリオレフィン系接着剤、ポリビニルアルキルエーテル系接着剤、ゴム系接着剤、塩化ビニル-酢酸ビニル系接着剤、SEBS(スチレン-エチレン-ブチレン-スチレン共重合体)系接着剤、エチレン-スチレン共重合体などのエチレン系接着剤、エチレン-(メタ)アクリル酸メチル共重合体、エチレン-(メタ)アクリル酸エチル共重合体などのアクリル酸エステル系接着剤などが挙げられる。
The bonding of the protective film 115 to the polarizing plate 100 is not particularly limited and may be performed by a method such as thermocompression bonding (see FIG. 5). The bonding of the protective film 115 to the polarizing plate 100 may be performed via an adhesive or a pressure sensitive adhesive. In the polarizing plate after the fifth and sixth steps, the polarizer material film is hardened, so that the problem of wrinkles caused by penetration of an adhesive or the like is unlikely to occur.
Examples of adhesives and pressure-sensitive adhesives used to bond the protective film to the polarizing plate include acrylic adhesives, epoxy adhesives, urethane adhesives, polyester adhesives, polyvinyl alcohol adhesives, polyolefin adhesives, modified polyolefin adhesives, polyvinyl alkyl ether adhesives, rubber adhesives, vinyl chloride-vinyl acetate adhesives, SEBS (styrene-ethylene-butylene-styrene copolymer) adhesives, ethylene adhesives such as ethylene-styrene copolymers, and acrylic ester adhesives such as ethylene-methyl (meth)acrylate copolymers and ethylene-ethyl (meth)acrylate copolymers.

本実施形態の偏光板120も、実施形態1の偏光板と同様に、偏光子材料フィルムと、偏光子材料フィルムの面に直接積層された樹脂層と、を有する積層体を延伸することにより偏光板を製造するので、実施形態1と同様の作用効果を有する。Like the polarizing plate of embodiment 1, the polarizing plate 120 of this embodiment is manufactured by stretching a laminate having a polarizing material film and a resin layer laminated directly on the surface of the polarizing material film, and therefore has the same effect as embodiment 1.

また、本実施形態によれば、偏光子材料フィルム111の樹脂層112の積層されていない側の面に保護フィルム115を備えるので、偏光子材料フィルム111の表面に傷等がつくのを防止する効果も奏する。 In addition, according to this embodiment, a protective film 115 is provided on the side of the polarizer material film 111 that is not laminated with the resin layer 112, which also has the effect of preventing scratches, etc. on the surface of the polarizer material film 111.

[本発明の表示装置の製造方法の概要]
本発明の積層体を用いて製造した偏光板は、液晶表示装置、有機EL表示装置、及び無機EL表示装置及びマイクロLED表示装置等の表示装置の材料となりうる。
本発明の表示装置の製造方法は、本発明の偏光板の製造方法により得られた偏光板を用いて表示装置を製造する方法であって、偏光板をパネルに積層する第八の工程を含む。本発明の偏光板の製造方法において、パネルは、液晶パネル、有機ELパネル、マイクロLEDパネルから選ばれるパネルである。
[Outline of the manufacturing method of the display device of the present invention]
A polarizing plate produced using the laminate of the present invention can be used as a material for displays such as liquid crystal displays, organic EL displays, inorganic EL displays, and micro LED displays.
The method for producing a display device of the present invention is a method for producing a display device using the polarizing plate obtained by the method for producing a polarizing plate of the present invention, and includes an eighth step of laminating the polarizing plate onto a panel. In the method for producing a polarizing plate of the present invention, the panel is a panel selected from a liquid crystal panel, an organic EL panel, and a micro LED panel.

[実施形態3:表示装置の製造方法]
以下、実施形態1の積層体10を用いて製造した偏光板100を備える実施形態3に係る表示装置400について図4及び図6を参照しつつ説明する。
[Embodiment 3: Manufacturing method of display device]
A display device 400 according to a third embodiment, which includes a polarizing plate 100 manufactured using the laminate 10 of the first embodiment, will be described below with reference to FIGS.

本実施形態の表示装置の製造方法は、図4に示す偏光板100をパネルに積層する工程(第八の工程)を含む。本実施形態ではパネルとして液晶パネルを用いて液晶表示装置を製造する例について説明する。The manufacturing method of the display device of this embodiment includes a step (eighth step) of laminating the polarizing plate 100 shown in Figure 4 onto a panel. In this embodiment, an example of manufacturing a liquid crystal display device using a liquid crystal panel as the panel will be described.

通常、液晶表示装置は、光源、光源側偏光板、液晶セル及び視認側偏光板を、この順に備える。本発明により得られた偏光板は、光源側偏光板、視認側偏光板又はその双方に用いうる。Typically, a liquid crystal display device comprises a light source, a light source side polarizing plate, a liquid crystal cell, and a viewer side polarizing plate, in that order. The polarizing plate obtained by the present invention can be used as the light source side polarizing plate, the viewer side polarizing plate, or both.

本実施形態では、第八の工程において、偏光板100を光源側偏光板及び視認側偏光板としてそれぞれ液晶パネルに積層することにより、液晶表示装置を製造する。In this embodiment, in the eighth step, a liquid crystal display device is manufactured by laminating the polarizing plate 100 to a liquid crystal panel as a light source side polarizing plate and a viewer side polarizing plate, respectively.

図6は本発明の実施形態3に係る表示装置の製造方法により製造した表示装置を模式的に示した断面図である。表示装置400は図6に示すように、2枚の基板410,420と、その間に位置する液晶層430と、2枚の基板410,420の外側にそれぞれ配される偏光板100,100と、を有する。2枚の偏光板100は実施形態1の積層体10を用いて製造した偏光板100である。図6に示すように、2枚の偏光板100は、それぞれ、偏光板の偏光子材料フィルム111と液晶層430との間に、偏光板の樹脂層112が配されるように積層されている。 Figure 6 is a cross-sectional view showing a schematic diagram of a display device manufactured by the manufacturing method of a display device according to embodiment 3 of the present invention. As shown in Figure 6, the display device 400 has two substrates 410, 420, a liquid crystal layer 430 located therebetween, and polarizing plates 100, 100 arranged on the outer sides of the two substrates 410, 420, respectively. The two polarizing plates 100 are polarizing plates 100 manufactured using the laminate 10 of embodiment 1. As shown in Figure 6, the two polarizing plates 100 are laminated such that the resin layer 112 of the polarizing plate is arranged between the polarizer material film 111 of the polarizing plate and the liquid crystal layer 430 of the polarizing plate.

本実施形態によれば、樹脂層を保護フィルムとしても用いることができ、厚みが薄くても効率的に製造することができ、かつ、しわ及びボイドの発生を防止した偏光板を備えた表示装置を提供することができる。According to this embodiment, the resin layer can also be used as a protective film, and a display device can be provided that includes a polarizing plate that can be efficiently manufactured even with a thin thickness and prevents the occurrence of wrinkles and voids.

[実施形態4:表示装置の製造方法]
以下、実施形態2で製造した偏光板120を備える実施形態4に係る表示装置500について図5及び図7を参照しつつ説明する。
[Embodiment 4: Manufacturing method of display device]
A display device 500 according to a fourth embodiment, which includes the polarizing plate 120 manufactured in the second embodiment, will be described below with reference to FIGS.

本実施形態の表示装置の製造方法は、図5に示す偏光板120をパネルに積層する工程(第八の工程)を含む。本実施形態ではパネルとして有機ELパネルを用いて有機EL表示装置を製造する例について説明する。The manufacturing method of the display device of this embodiment includes a step (eighth step) of laminating a polarizing plate 120 shown in Figure 5 onto a panel. In this embodiment, an example of manufacturing an organic EL display device using an organic EL panel as the panel will be described.

通常、有機EL表示装置は、光出射側から順に、基板、透明電極、発光層及び金属電極層を備えるが、本発明の製造方法により得られた偏光板は、基板の光出射側に配される。
通常、有機EL表示装置は、2枚の基板とその間に位置する発光層と、2枚の基板のうち一方の基板の外側に配される偏光板とを有する。当該有機EL表示装置は本発明の偏光板を有機ELパネルに設けることにより製造することができる。
Generally, an organic EL display device comprises, in this order from the light-emitting side, a substrate, a transparent electrode, a light-emitting layer, and a metal electrode layer, and the polarizing plate obtained by the manufacturing method of the present invention is disposed on the light-emitting side of the substrate.
Typically, an organic EL display device has two substrates, a light-emitting layer disposed between them, and a polarizing plate disposed on the outer side of one of the two substrates. The organic EL display device can be manufactured by providing an organic EL panel with the polarizing plate of the present invention.

本実施形態では、第八の工程において、偏光板120を有機ELパネルに積層することにより、有機EL表示装置を製造する。In this embodiment, in the eighth step, an organic EL display device is manufactured by laminating a polarizing plate 120 onto an organic EL panel.

図7は本発明の実施形態4に係る表示装置の製造方法により製造した表示装置を模式的に示した断面図である。表示装置500は図7に示すように、2枚の基板510,520と、その間に位置する発光層530と、下側の基板510の外側(図示下側)に配される偏光板120と、を有する。偏光板120は積層体10を用いて製造した実施形態2の偏光板120である。図7に示すように、偏光板120は、偏光板の偏光子材料フィルム111と発光層530との間に、偏光板の樹脂層112が配されるように積層されている。 Figure 7 is a cross-sectional view showing a schematic diagram of a display device manufactured by the manufacturing method of a display device according to embodiment 4 of the present invention. As shown in Figure 7, the display device 500 has two substrates 510, 520, a light-emitting layer 530 located therebetween, and a polarizing plate 120 arranged on the outside (lower side in the figure) of the lower substrate 510. The polarizing plate 120 is the polarizing plate 120 of embodiment 2 manufactured using the laminate 10. As shown in Figure 7, the polarizing plate 120 is laminated such that the resin layer 112 of the polarizing plate is arranged between the polarizer material film 111 of the polarizing plate and the light-emitting layer 530.

本実施形態によれば、樹脂層を保護フィルムとしても用いることができ、厚みが薄くても効率的に製造することができ、かつ、しわ及びボイドの発生を防止した偏光板を備えた表示装置を提供することができる。According to this embodiment, the resin layer can also be used as a protective film, and a display device can be provided that is equipped with a polarizing plate that can be efficiently manufactured even with a thin thickness and prevents the occurrence of wrinkles and voids.

[他の実施形態]
(1)実施形態2では、積層体の偏光子材料フィルム側の面のみに保護フィルムを貼合した例を示したが、積層体の樹脂層側の面のみに保護フィルムを貼合してもよいし、積層体の偏光子材料フィルム側の面及び樹脂層側の面の双方に保護フィルムを貼合してもよい。
[Other embodiments]
(1) In embodiment 2, an example is shown in which a protective film is attached only to the surface of the laminate facing the polarizer material film. However, a protective film may be attached only to the surface of the laminate facing the resin layer, or a protective film may be attached to both the surface of the laminate facing the polarizer material film and the surface of the laminate facing the resin layer.

(2)実施形態3及び4では、パネルが液晶パネル及び有機ELパネルである例を示したが、偏光板を積層するパネルはマイクロLEDパネルであってもよい。(2) In embodiments 3 and 4, examples are shown in which the panels are liquid crystal panels and organic EL panels, but the panel on which the polarizing plate is laminated may also be a micro LED panel.

(3)実施形態3では実施形態1で説明した偏光板100を2枚積層する液晶表示装置の製造方法を示したが、これに限定されない。実施形態2で説明した偏光板120を2枚積層してもよいし、2種類の偏光板を積層してもよいし、1枚の偏光板を積層してもよい。(3) In the third embodiment, a method for manufacturing a liquid crystal display device in which two polarizing plates 100 described in the first embodiment are stacked is described, but the present invention is not limited to this. Two polarizing plates 120 described in the second embodiment may be stacked, two types of polarizing plates may be stacked, or one polarizing plate may be stacked.

(4)実施形態4では実施形態2の偏光板120を積層する有機EL表示装置の製造方法を示したが、偏光板120に代えて、偏光板100を用いてもよい。(4) In embodiment 4, a manufacturing method for an organic EL display device in which the polarizing plate 120 of embodiment 2 is laminated is shown, but polarizing plate 100 may be used instead of polarizing plate 120.

以下、実施例及び比較例を参照して、本発明をさらに詳細に説明するが、本発明は下記実施例に限定されるものではない。以下において、成分の量比に関する「部」及び「%」は、別に断らない限り重量部を表す。The present invention will be described in more detail below with reference to examples and comparative examples, but the present invention is not limited to the following examples. In the following, "parts" and "%" regarding the ratio of components represent parts by weight unless otherwise specified.

[評価方法]
[重量平均分子量(Mw)及び分子量分布(Mw/Mn]
ブロック共重合体及びブロック共重合体水素化物の分子量は、THFを溶離液とするGPCによる標準ポリスチレン換算値として、38℃において測定した。測定装置として、東ソー社製、HLC8020GPCを用いた。
[Evaluation method]
[Weight average molecular weight (Mw) and molecular weight distribution (Mw/Mn)]
The molecular weights of the block copolymer and the hydrogenated block copolymer were measured in terms of standard polystyrene by GPC using THF as an eluent at 38° C. The measuring device used was an HLC8020GPC manufactured by Tosoh Corporation.

[水素化率]
ブロック共重合体水素化物の水素化率は、H-NMRスペクトル又はGPC分析により算出した。水素化率99%以下の領域は、H-NMRスペクトルを測定して算出し、99%を超える領域は、GPC分析により、UV検出器及びRI検出器によるピーク面積の比率から算出した。
[Hydrogenation rate]
The hydrogenation rate of the hydrogenated block copolymer was calculated by 1 H-NMR spectrum or GPC analysis. The region with a hydrogenation rate of 99% or less was calculated by measuring the 1 H-NMR spectrum, and the region with a hydrogenation rate of more than 99% was calculated from the ratio of peak areas measured by a UV detector and an RI detector using GPC analysis.

[MFR(190℃、荷重2.16kgで測定したメルトフローレート)の測定]
各例で用いる製膜用塗布液を、セパレータフィルム(三菱化学社製、「MRV38」)にダイコーターを用いて塗布、乾燥して厚み10μmの重合体Xを含むフィルムを形成した。セパレータフィルムから前記重合体Xを含むフィルムを剥離して、サンプルフィルムとした。このサンプルフィルムを用いて、以下の方法により、MFRを測定した。
MFRは、JIS K7210に基づき、測定装置として押出型プラストメーター(立山科学工業株式会社製、商品名「メルトインデクサ(L240)」)を用いて、温度190℃、荷重2.16kgの条件で測定した。
[Measurement of MFR (Melt Flow Rate Measured at 190°C and a Load of 2.16 kg)]
The film-forming coating solution used in each example was applied to a separator film ("MRV38" manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) using a die coater, and dried to form a film containing polymer X having a thickness of 10 μm. The film containing polymer X was peeled off from the separator film to obtain a sample film. The MFR of this sample film was measured by the following method.
The MFR was measured in accordance with JIS K7210 using an extrusion-type plastometer (trade name "Melt Indexer (L240)" manufactured by Tateyama Scientific Industrial Co., Ltd.) at a temperature of 190° C. and a load of 2.16 kg.

[引張弾性率の測定]
「MFRの測定」の項で説明した、「サンプルフィルム」と同じ方法により作製したサンプルフィルムを用いて、引張弾性率を測定した。
引張弾性率は、JIS K7127に基づき、引張試験機(インストロンジャパン カンパニイリミテッド社製、商品名「電気機械式万能材料試験機(5564)」)を用いて、下記の方法によって測定した。
サンプルフィルムをJIS K7127記載の試験片タイプ1Bの形状に打ち抜き、この試験片を長辺方向に引っ張って歪ませる際の応力を測定した。応力の測定条件は、温度23℃、湿度60±5%RH、チャック間距離115mm、引張速度50mm/分とした。応力の測定は、5回行なった。測定された応力と、その応力に対応した歪みの測定データから、試験片の歪が0.6%~1.2%の範囲で0.2%毎に4点の測定データ(即ち、歪みが0.6%、0.8%、1.0%及び1.2%の時の測定データ)を選択し、5回の測定の4点の測定データ(合計20点)から、最小二乗法を用いて、引張弾性率を算出した。
[Measurement of tensile modulus]
The tensile modulus of elasticity was measured using a sample film prepared in the same manner as the "sample film" described in the section "Measurement of MFR".
The tensile modulus was measured by the following method based on JIS K7127 using a tensile tester (manufactured by Instron Japan Company Limited, trade name "Electromechanical Universal Material Tester (5564)").
The sample film was punched out into the shape of a test piece type 1B described in JIS K7127, and the stress was measured when the test piece was pulled in the long side direction to cause distortion. The stress measurement conditions were a temperature of 23°C, a humidity of 60±5% RH, a chuck distance of 115 mm, and a pulling speed of 50 mm/min. The stress measurement was performed five times. From the measured stress and the measurement data of the strain corresponding to the stress, four measurement data points were selected at intervals of 0.2% in the range of the strain of the test piece from 0.6% to 1.2% (i.e., measurement data when the strain was 0.6%, 0.8%, 1.0%, and 1.2%), and the tensile modulus was calculated from the four measurement data points (total of 20 points) of the five measurements using the least squares method.

[位相差の測定方法]
偏光子材料フィルムの面内方向の位相差Re1、位相差Re2、及び偏光板における樹脂層の面内方向の位相差は、位相差計(株式会社オプトサイエンス社製、ミュラー行列ポラリメータ、商品名「Axo Scan」)を用いて測定した。測定に際し、測定波長は550nmとした。
位相差Re2の測定は、延伸樹脂層、即ち積層体を所定温度(50℃および120℃)で、6.0倍に自由端一軸延伸して得られる樹脂層に発生する面内方向の位相差を測定した。本願では、積層体を50℃の温度条件で6.0倍に自由端一軸延伸した際に発生する樹脂層の面内方向の位相差、及び積層体を120℃の温度条件で6.0倍に自由端一軸延伸した際に発生する樹脂層の面内方向の位相差の双方が0nm以上20nm以下の範囲内であれば、積層体を50℃~120℃の温度条件で、6.0倍に自由端一軸延伸した際に発生する、樹脂層の面内方向の位相差Re2が、0nm以上20nm以下であると判断した。
[Method of measuring phase difference]
The in-plane retardation Re1 and the in-plane retardation Re2 of the polarizer material film and the in-plane retardation of the resin layer in the polarizing plate were measured using a retardation meter (Muller matrix polarimeter, product name "Axo Scan", manufactured by Optoscience Co., Ltd.) at a measurement wavelength of 550 nm.
The retardation Re2 was measured by measuring the in-plane retardation of the stretched resin layer, i.e., the resin layer obtained by stretching the laminate to 6.0 times the free end uniaxially at a predetermined temperature (50 ° C. and 120 ° C.). In the present application, if the in-plane retardation of the resin layer generated when the laminate is stretched to 6.0 times the free end uniaxially at a temperature condition of 50 ° C. and the in-plane retardation of the resin layer generated when the laminate is stretched to 6.0 times the free end uniaxially at a temperature condition of 120 ° C. are both within the range of 0 nm to 20 nm, the retardation Re2 in the in-plane direction of the resin layer generated when the laminate is stretched to 6.0 times the free end uniaxially at a temperature condition of 50 ° C. to 120 ° C. was determined to be 0 nm to 20 nm.

[厚みの測定方法]
積層体に含まれる各フィルム(偏光子材料フィルム及び樹脂層)の厚み、偏光板に含まれる各フィルムの厚みは、厚み計(株式会社ミツトヨ社製、商品名「ABSデジマチックシックネスゲージ(547-401)」)を使用して5回測定し、その平均値を各フィルムの厚みとした。
[Thickness measurement method]
The thickness of each film (polarizer material film and resin layer) included in the laminate and the thickness of each film included in the polarizing plate were measured five times using a thickness meter (manufactured by Mitutoyo Corporation, product name "ABS Digimatic Thickness Gauge (547-401)"), and the average value was taken as the thickness of each film.

[偏光板の面状の評価]
各例の偏光板の表面を、目視により観察し、10cm角あたりのしわ及びボイドの数を測定した。測定は、偏光板の5箇所について行い、その平均値を算出し、下記評価基準により評価を行った。
A:しわ及びボイドが認められない。
B:しわの数が1本以上3本以下、またはボイドの数が1個以上10個未満である。
C:しわ及の数が4本以上、またはボイドの数が10個以上である。
[Evaluation of Surface Condition of Polarizing Plate]
The surface of the polarizing plate of each example was visually observed, and the number of wrinkles and voids per 10 cm square was measured. The measurement was performed at five points on the polarizing plate, and the average value was calculated and evaluated according to the following evaluation criteria.
A: No wrinkles or voids are observed.
B: The number of wrinkles is 1 or more and 3 or less, or the number of voids is 1 or more and less than 10.
C: The number of wrinkles is 4 or more, or the number of voids is 10 or more.

[密着性の評価]
各例の偏光板の製造における第二延伸処理までの工程で、偏光子材料フィルムと樹脂層との間に剥離が発生しなかったものをA、一部に剥離が見られたものをB、完全に剥離したものをCとした。
[Evaluation of Adhesion]
In the processes up to the second stretching treatment in the manufacture of each polarizing plate, those in which no peeling occurred between the polarizing material film and the resin layer were rated A, those in which partial peeling was observed were rated B, and those in which complete peeling occurred were rated C.

[乾燥工程性の評価]
各例の偏光板の製造における70℃、5分の乾燥工程で、偏光子にクラックが発生しなかったものをA、クラックが発生したものをCとした。
[Evaluation of drying processability]
In the manufacturing process of the polarizing plate of each example, a polarizer in which no cracks were generated during the drying process at 70° C. for 5 minutes was rated as A, and a polarizer in which cracks were generated was rated as C.

[ブラックカラーシフト]
液晶表示装置(LGエレクトロニクス・ジャパン社製、商品名「IPSパネルモニター(23MP47)」)から液晶表示パネルを取り外し、視認側に配置されている偏光板を剥離して、実施例及び比較例で作製した偏光板を、樹脂層がパネル側になるように貼合した。また、保護フィルムの無い偏光子単体を実施例及び比較例で作製した偏光板の隣に貼合し、液晶表示装置を組み直した。実施例及び比較例で作成した偏光板、保護フィルムの無い偏光子単体の吸収軸は、剥離前の偏光板の吸収軸と同方向になるように貼合した。
視認側に配置されている偏光板の吸収軸の方向を方位角0°、パネルの垂直方向を極角0°とした際、パネルを黒表示状態(即ちパネルの表示画面全面に黒い色を表示した状態)にして、方位角45°、極角45°の方位から目視して保護フィルムの無い偏光子の場合と色味変化が同じものをA、わずかに色味変化があるものをB、変化が大きいものをCと判断した。
[Black color shift]
The liquid crystal display panel was removed from a liquid crystal display device (manufactured by LG Electronics Japan, product name "IPS Panel Monitor (23MP47)"), the polarizing plate arranged on the viewing side was peeled off, and the polarizing plate prepared in the Examples and Comparative Examples was attached so that the resin layer was on the panel side. In addition, a polarizer without a protective film was attached next to the polarizing plate prepared in the Examples and Comparative Examples, and the liquid crystal display device was reassembled. The polarizing plates prepared in the Examples and Comparative Examples and the polarizer without a protective film were attached so that the absorption axis of the polarizing plate before peeling was in the same direction as the absorption axis of the polarizing plate before peeling.
When the direction of the absorption axis of the polarizing plate arranged on the viewing side was set to an azimuth angle of 0° and the vertical direction of the panel was set to a polar angle of 0°, the panel was set to a black display state (i.e., a state in which black was displayed across the entire display screen of the panel), and when visually observed from an azimuth angle of 45° and a polar angle of 45°, those that showed the same color change as in the case of a polarizer without a protective film were rated as A, those that showed a slight color change were rated as B, and those that showed a large change were rated as C.

[実施例1]
(1-1)偏光子材料フィルムの製造
原反フィルムとして、未延伸ポリビニルアルコールフィルム(平均重合度約2400、ケン化度99.9モル%、厚み20μm、以下において「PVA20」ともいう)を用いた。
原反フィルムを、縦一軸延伸機を用いて、延伸温度130℃で長手方向に延伸倍率1.5倍(X=1.5)で乾式延伸し、偏光子材料フィルムを得た。偏光子材料フィルムの厚みT1は16μm、Re1は320nmであった。
[Example 1]
(1-1) Production of Polarizer Material Film An unstretched polyvinyl alcohol film (average polymerization degree: about 2400, saponification degree: 99.9 mol %, thickness: 20 μm, hereinafter also referred to as “PVA20”) was used as an original film.
The raw film was dry-stretched in the machine direction at a stretching temperature of 130° C. and a stretching ratio of 1.5 times (X=1.5) using a longitudinal uniaxial stretching machine to obtain a polarizer material film. The polarizer material film had a thickness T1 of 16 μm and an Re1 of 320 nm.

(1-2)重合体Xの作製
特開2002-105151号公報に記載の製造例を参照して、第1段階でスチレンモノマー25部を重合させた後、第2段階でスチレンモノマー30部及びイソプレンモノマー25部を重合させ、その後に第3段階でスチレンモノマー20部を重合させてブロック共重合体[D1]を得た後、該ブロック共重合体を水素化してブロック共重合体水素化物[E1]を合成した。ブロック共重合体水素化物[E1]のMwは84,500、Mw/Mnは1.20、主鎖及び芳香環の水素化率はほぼ100%であった。
ブロック共重合体水素化物[E1]100部に、酸化防止剤としてペンタエリスリチル・テトラキス[3-(3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシフェニル)プロピオネート](松原産業社製、製品名「Songnox1010」)0.1部を溶融混練して配合した後、ペレット状にして、成形用の重合体Xを得た。
(1-2) Preparation of Polymer X Referring to the production example described in JP 2002-105151 A, 25 parts of styrene monomer were polymerized in the first stage, 30 parts of styrene monomer and 25 parts of isoprene monomer were polymerized in the second stage, and then 20 parts of styrene monomer were polymerized in the third stage to obtain a block copolymer [D1], which was then hydrogenated to synthesize a hydrogenated block copolymer [E1]. The hydrogenated block copolymer [E1] had an Mw of 84,500, an Mw/Mn of 1.20, and a hydrogenation rate of the main chain and aromatic ring of approximately 100%.
100 parts of the hydrogenated block copolymer [E1] was mixed with 0.1 part of pentaerythrityl tetrakis[3-(3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl)propionate] (manufactured by Matsubara Sangyo Co., Ltd., product name "Songnox 1010") as an antioxidant by melt kneading, and then pelletized to obtain a polymer X for molding.

(1-3)積層体の製造
(1-2)で製造した重合体Xをシクロヘキサンに溶解させた後、重合体X100重量部に対して40重量部のポリイソブテン(JX日鉱日石エネルギー社製「日石ポリブテン HV-300」、数平均分子量1,400)、及び0.1重量部の有機ケイ素化合物(3-アミノプロピルトリエトキシシラン、KBM903、信越化学社製)を添加し、製膜用塗布液A(樹脂組成物A)を作製した。
得られた製膜用塗布液Aを、(1-1)で製造した偏光子材料フィルムの一方の面にダイコーターを用いて塗布、乾燥した。これにより、偏光子材料フィルムと、重合体Xを含む樹脂層(幅600mm、厚み10μm)と、からなる長尺の積層体を得た。
得られた積層体における、樹脂層の厚み、偏光子材料フィルムの厚みT1及び面内方向の位相差Re1、並びに位相差Re2(温度条件50℃、120℃)を測定した。また、樹脂層を構成する樹脂のMFRおよび引張弾性率を、評価方法で説明した方法により測定した。結果を表1に示す。
(1-3) Production of Laminate The polymer X produced in (1-2) was dissolved in cyclohexane, and then 40 parts by weight of polyisobutene ("Nippon Oil Polybutene HV-300", number average molecular weight 1,400, manufactured by JX Nippon Oil & Energy Corporation) and 0.1 parts by weight of an organosilicon compound (3-aminopropyltriethoxysilane, KBM903, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) were added relative to 100 parts by weight of polymer X to prepare a film-forming coating solution A (resin composition A).
The obtained coating solution A for film formation was applied to one surface of the polarizer material film produced in (1-1) using a die coater, and then dried, thereby obtaining a long laminate composed of the polarizer material film and a resin layer (width 600 mm, thickness 10 μm) containing polymer X.
In the obtained laminate, the thickness of the resin layer, the thickness T1 of the polarizer material film, and the in-plane retardation Re1 and retardation Re2 (temperature conditions: 50°C, 120°C) were measured. In addition, the MFR and tensile modulus of the resin constituting the resin layer were measured by the method described in the evaluation method. The results are shown in Table 1.

(1-4)偏光板の製造
(1-3)で製造した積層体を、ガイドロールを介して長手方向に連続搬送しながら、下記の操作を行った。
前記の積層体を、水に浸漬する膨潤処理、ヨウ素及びヨウ化カリウムを含む染色溶液に浸漬する染色処理、並びに、染色処理後の積層体を延伸する第一延伸処理を行った。次いで、第一延伸処理後の積層体を、ホウ酸及びヨウ化カリウムを含む浴槽中で延伸する第二延伸処理を行った。第一延伸処理での延伸倍率と第二延伸処理での延伸倍率との積で表されるトータルの延伸倍率が4.0倍(Z=4.0)となるように設定した。延伸温度は57℃とした。第二延伸処理後の積層体を乾燥機中で、70℃で5分間乾燥し(乾燥工程)、偏光板を得た。
第二延伸処理までの工程において密着性の評価を行い、乾燥工程において乾燥工程性の評価を行い、得られた偏光板について、面状の評価及びブラックカラーシフトの評価を行った。評価結果を表1に示す。
また、得られた偏光板における樹脂層の厚み及び位相差、偏光子材料フィルムの厚みを測定し、測定結果を表1に示した。
(1-4) Production of Polarizing Plate The laminate produced in (1-3) was continuously transported in the longitudinal direction via guide rolls, while the following operations were carried out.
The laminate was subjected to a swelling treatment of immersing in water, a dyeing treatment of immersing in a dyeing solution containing iodine and potassium iodide, and a first stretching treatment of stretching the laminate after the dyeing treatment. Next, the laminate after the first stretching treatment was subjected to a second stretching treatment of stretching in a bath containing boric acid and potassium iodide. The total stretching ratio, which is the product of the stretching ratio in the first stretching treatment and the stretching ratio in the second stretching treatment, was set to 4.0 times (Z = 4.0). The stretching temperature was set to 57 ° C. The laminate after the second stretching treatment was dried in a dryer at 70 ° C. for 5 minutes (drying step) to obtain a polarizing plate.
The adhesion was evaluated in the process up to the second stretching treatment, the drying processability was evaluated in the drying process, and the obtained polarizing plate was evaluated for surface condition and black color shift. The evaluation results are shown in Table 1.
In addition, the thickness and retardation of the resin layer of the obtained polarizing plate, and the thickness of the polarizing material film were measured. The measurement results are shown in Table 1.

[実施例2]
原反フィルムの延伸倍率を5.5倍(X=5.5)としたこと、及び積層体の延伸倍率を1.2倍(Z=1.2)としたこと以外は実施例1と同じ操作を行い、積層体及び偏光板を製造し、実施例1と同様に評価を行った。結果を表1に示す。
[Example 2]
Except for the fact that the stretching ratio of the raw film was 5.5 times (X=5.5) and the stretching ratio of the laminate was 1.2 times (Z=1.2), the same operations as in Example 1 were carried out to produce a laminate and a polarizing plate, and evaluations were carried out in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 1.

[実施例3]
原反フィルムの延伸倍率を2.0倍(X=2.0)としたこと、実施例1の(1-3)において、製膜用塗布液Aを塗布、乾燥する操作を行う際に、塗布量等を調整して、厚みが5μmとなるように樹脂層を設けたこと(幅は実施例1と同じ)、及び積層体の延伸倍率を3.0倍(Z=3.0)としたこと以外は実施例1と同じ操作を行い、積層体及び偏光板を製造し、実施例1と同様に評価を行った。結果を表1に示す。
[Example 3]
The stretching ratio of the raw film was 2.0 times (X = 2.0), the coating amount was adjusted when coating and drying the film-forming coating solution A in (1-3) of Example 1 to provide a resin layer with a thickness of 5 μm (width was the same as in Example 1), and the stretching ratio of the laminate was 3.0 times (Z = 3.0). Except for this, the same operations as in Example 1 were carried out to produce a laminate and a polarizing plate, and evaluations were performed in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 1.

[実施例4]
原反フィルムの延伸倍率を3.0倍(X=3.0)としたこと、及び積層体の延伸倍率を2.0倍(Z=2.0)としたこと以外は実施例1と同じ操作を行い、積層体及び偏光板を製造し、実施例1と同様に評価を行った。結果を表1に示す。
[Example 4]
Except for the fact that the stretching ratio of the raw film was 3.0 times (X=3.0) and the stretching ratio of the laminate was 2.0 times (Z=2.0), the same operations as in Example 1 were carried out to produce a laminate and a polarizing plate, which were then evaluated in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 1.

[実施例5]
原反フィルムの延伸倍率を3.0倍(X=3.0)としたこと、製膜用塗布液Aに代えて製膜用塗布液Bを用いたこと、及び積層体の延伸倍率を2.0倍(Z=2.0)としたこと以外は、実施例1と同じ操作を行い、積層体及び偏光板を製造し、実施例1と同様に評価を行った。結果を表1に示す。
[Example 5]
Except for the fact that the stretching ratio of the raw film was 3.0 times (X = 3.0), that the film-forming coating solution B was used instead of the film-forming coating solution A, and that the stretching ratio of the laminate was 2.0 times (Z = 2.0), the same operations as in Example 1 were carried out to produce a laminate and a polarizing plate, and evaluations were carried out in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 1.

製膜用塗布液Bは以下の方法により作製した。
実施例1の(1-2)で製造した重合体Xをシクロヘキサンに溶解させた後、重合体X100重量部に対して0.1重量部の有機ケイ素化合物(3-アミノプロピルトリエトキシシラン、KBM903、信越化学社製)を添加し、製膜用塗布液B(樹脂組成物B)を作製した。
Coating solution B for film formation was prepared by the following method.
The polymer X produced in (1-2) of Example 1 was dissolved in cyclohexane, and then 0.1 part by weight of an organosilicon compound (3-aminopropyltriethoxysilane, KBM903, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) was added to 100 parts by weight of the polymer X to prepare a film-forming coating solution B (resin composition B).

[実施例6]
原反フィルムの延伸倍率を3.0倍(X=3.0)としたこと、製膜用塗布液Aに代えて製膜用塗布液Cを用いたこと、及び積層体の延伸倍率を2.0倍(Z=2.0)としたこと以外は、実施例1と同じ操作を行い、積層体及び偏光板を製造し、実施例1と同様に評価を行った。結果を表2に示す。
[Example 6]
Except for the fact that the stretching ratio of the raw film was 3.0 times (X = 3.0), that the film-forming coating solution C was used instead of the film-forming coating solution A, and that the stretching ratio of the laminate was 2.0 times (Z = 2.0), the same operations as in Example 1 were carried out to produce a laminate and a polarizing plate, and evaluations were carried out in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 2.

製膜用塗布液Cは以下の方法により作製した。
実施例1の(1-2)で製造した重合体Xをシクロヘキサンに溶解させた後、重合体X100重量部に対して40重量部のポリイソブテン(JX日鉱日石エネルギー社製「日石ポリブテン HV-300」、数平均分子量1,400)、及び0.1重量部の有機チタン化合物(テトライソプロピルチタネート、オルガチックスTA-8、マツモトファインケミカル社製)を添加し、製膜用塗布液C(樹脂組成物C)を作製した。
The film-forming coating solution C was prepared by the following method.
The polymer X produced in Example 1 (1-2) was dissolved in cyclohexane, and then 40 parts by weight of polyisobutene ("Nippon Oil Polybutene HV-300", number average molecular weight 1,400, manufactured by JX Nippon Oil & Energy Corporation) and 0.1 parts by weight of an organic titanium compound (tetraisopropyl titanate, Orgatix TA-8, manufactured by Matsumoto Fine Chemical Co., Ltd.) were added relative to 100 parts by weight of the polymer X to prepare a film-forming coating solution C (resin composition C).

[実施例7]
原反フィルムの延伸倍率を2.0倍(X=2.0)としたこと、製膜用塗布液Aに代えて製膜用塗布液Dを用いたこと、及び積層体の延伸倍率を3.0倍(Z=3.0)としたこと以外は、実施例1と同じ操作を行い、積層体及び偏光板を製造し、実施例1と同様に評価を行った。結果を表2に示す。
[Example 7]
Except for the fact that the stretching ratio of the raw film was 2.0 times (X = 2.0), that the film-forming coating solution D was used instead of the film-forming coating solution A, and that the stretching ratio of the laminate was 3.0 times (Z = 3.0), the same operations as in Example 1 were carried out to produce a laminate and a polarizing plate, and evaluations were carried out in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 2.

製膜用塗布液Dは以下の方法により作製した。
実施例1の(1-2)で製造した重合体Xをシクロヘキサンに溶解させた後、重合体X100重量部に対して40重量部のポリイソブテン(JX日鉱日石エネルギー社製「日石ポリブテン HV-300」、数平均分子量1,400)、及び0.1重量部の有機ジルコニウム化合物(ノルマルプロピルジルコネート、オルガチックスZA-45、マツモトファインケミカル社製)を添加し、製膜用塗布液D(樹脂組成物D)を作製した。
The film-forming coating solution D was prepared by the following method.
Polymer X produced in Example 1 (1-2) was dissolved in cyclohexane, and then 40 parts by weight of polyisobutene ("Nippon Oil Polybutene HV-300", number average molecular weight 1,400, manufactured by JX Nippon Oil & Energy Corporation) and 0.1 parts by weight of an organic zirconium compound (normal propyl zirconate, Orgatix ZA-45, manufactured by Matsumoto Fine Chemical Co., Ltd.) were added relative to 100 parts by weight of Polymer X to prepare a film-forming coating solution D (resin composition D).

[実施例8]
原反フィルムとして、PVA20に代えて、厚みが45μmの未延伸ポリビニルアルコールフィルム(平均重合度約2400、ケン化度99.9モル%、以下において「PVA45」ともいう)を用いたこと、原反フィルムの延伸倍率を2.0倍(X=2.0)としたこと、及び積層体の延伸倍率を3.0倍(Z=3.0)としたこと以外は、実施例1と同じ操作を行い、積層体及び偏光板を製造し、実施例1と同様に評価を行った。結果を表2に示す。
[Example 8]
Except for using a 45 μm-thick unstretched polyvinyl alcohol film (average polymerization degree about 2400, saponification degree 99.9 mol%, hereinafter also referred to as "PVA45") as the raw film instead of PVA20, and setting the stretching ratio of the raw film to 2.0 times (X=2.0), and setting the stretching ratio of the laminate to 3.0 times (Z=3.0), the same operations as in Example 1 were carried out to produce a laminate and a polarizing plate, and evaluations were carried out in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 2.

[実施例9]
原反フィルムとして、PVA20に代えてPVA45を用いたこと、原反フィルムの延伸倍率を3.0倍(X=3.0)としたこと、及び積層体の延伸倍率を2.0倍(Z=2.0)としたこと以外は、実施例1と同じ操作を行い、積層体及び偏光板を製造し、実施例1と同様に評価を行った。結果を表2に示す。
[Example 9]
Except for using PVA45 instead of PVA20 as the raw film, setting the stretching ratio of the raw film to 3.0 times (X=3.0), and setting the stretching ratio of the laminate to 2.0 times (Z=2.0), the same operations as in Example 1 were carried out to produce a laminate and a polarizing plate, and evaluations were carried out in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 2.

[実施例10]
原反フィルムとして、PVA20に代えて、厚みが60μmの未延伸ポリビニルアルコールフィルム(平均重合度約2400、ケン化度99.9モル%、以下において「PVA60」ともいう)を用いたこと、原反フィルムの延伸倍率を2.0倍(X=2.0)としたこと、及び積層体の延伸倍率を3.0倍(Z=3.0)としたこと以外は、実施例1と同じ操作を行い、積層体及び偏光板を製造し、実施例1と同様に評価を行った。結果を表2に示す。
[Example 10]
Except for using a 60 μm-thick unstretched polyvinyl alcohol film (average polymerization degree: about 2400, saponification degree: 99.9 mol%, hereinafter also referred to as "PVA60") as the raw film instead of PVA20, and setting the stretching ratio of the raw film to 2.0 times (X=2.0), and setting the stretching ratio of the laminate to 3.0 times (Z=3.0), the same operations as in Example 1 were carried out to produce a laminate and a polarizing plate, and evaluations were carried out in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 2.

[実施例11]
原反フィルムの延伸倍率を3.0倍(X=3.0)としたこと、製膜用塗布液Aに代えて製膜用塗布液Eを用いたこと及び積層体の延伸倍率Zを2.0としたこと以外は、実施例1と同じ操作を行い、積層体及び偏光板を製造し、実施例1と同様に評価を行った。結果を表3に示す。
[Example 11]
Except for the fact that the stretching ratio of the raw film was 3.0 times (X=3.0), that the film-forming coating solution E was used instead of the film-forming coating solution A, and that the stretching ratio Z of the laminate was 2.0, the same operations as in Example 1 were carried out to produce a laminate and a polarizing plate, and evaluations were carried out in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 3.

製膜用塗布液Eは以下の方法により作製した。
実施例1の(1-2)で製造した重合体Xをシクロヘキサンに溶解させた後、重合体X100重量部に対して40重量部のポリイソブテン(JX日鉱日石エネルギー社製「日石ポリブテン HV-300」、数平均分子量1,400)を添加し、製膜用塗布液E(樹脂組成物E)を作製した。
The film-forming coating solution E was prepared by the following method.
Polymer X produced in Example 1 (1-2) was dissolved in cyclohexane, and then 40 parts by weight of polyisobutene ("Nippon Oil Polybutene HV-300", number average molecular weight 1,400, manufactured by JX Nippon Oil & Energy Corporation) was added per 100 parts by weight of Polymer X to prepare a film-forming coating solution E (resin composition E).

[比較例1]
実施例1の(1-4)において、(1-3)で製造した積層体に代えて、PVA20(未延伸のポリビニルアルコール樹脂フィルム)を用いたこと以外は、実施例1の(1-4)と同じ操作を行ったところ、第一延伸処理及び第二延伸処理において溶断が多発し、乾燥工程において破断が多発し、面状、密着性およびブラックカラーシフトの評価ができなかった。
[Comparative Example 1]
In Example 1 (1-4), the laminate produced in (1-3) was replaced with PVA20 (unstretched polyvinyl alcohol resin film), and the same operations as in Example 1 (1-4) were carried out. As a result, melting occurred frequently in the first stretching treatment and the second stretching treatment, and breakage occurred frequently in the drying step, and evaluation of the surface condition, adhesion, and black color shift was not possible.

[比較例2]
(C2-1)偏光子材料フィルムの製造
原反フィルムとしてPVA20を用い、縦一軸延伸機を用いて、延伸温度130℃で長手方向に延伸倍率2.0倍(X=2.0)で乾式延伸し、偏光子材料フィルムを得た。偏光子材料フィルムの厚みT1は14μm、Re1は350nmであった。
[Comparative Example 2]
(C2-1) Production of Polarizer Material Film A PVA20 raw film was dry-stretched in the longitudinal direction at a stretching temperature of 130° C. and a stretching ratio of 2.0 times (X=2.0) using a longitudinal uniaxial stretching machine to obtain a polarizer material film. The polarizer material film had a thickness T1 of 14 μm and an Re1 of 350 nm.

(C2-2)積層体の製造
実施例1の(1-3)で作製した製膜用塗布液Aを、セパレーターフィルム(三菱化学社製、「MRV38」)にダイコーターを用いて塗布、乾燥することにより、幅650mm、長さ500m、厚み10μmの重合体Xを含む長尺のフィルム(樹脂フィルム)を得た。
水100重量部、ポリビニルアルコール系接着剤(日本合成化学社製「Z-200」)3重量部、及び架橋剤(日本合成化学社製「SPM-01」)0.3重量部を混合して、接着剤を得た。この接着剤を、上記樹脂フィルムの一方の面に塗布し、(C2-1)で製造した偏光子材料フィルムを貼り合わせた。この状態で、接着剤を70℃において5分間加熱乾燥して、積層体を得た。得られた積層体について、実施例1の(1-4)と同じ操作を行い、偏光板を得た。得られた積層体および偏光板について、実施例1と同様に評価を行った。結果を表3に示す。
(C2-2) Production of Laminate [0123] The film-forming coating solution A prepared in (1-3) of Example 1 was applied to a separator film (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, "MRV38") using a die coater, followed by drying, to obtain a long film (resin film) containing polymer X having a width of 650 mm, a length of 500 m and a thickness of 10 µm.
An adhesive was obtained by mixing 100 parts by weight of water, 3 parts by weight of a polyvinyl alcohol-based adhesive ("Z-200" manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd.), and 0.3 parts by weight of a crosslinking agent ("SPM-01" manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd.). This adhesive was applied to one side of the resin film, and the polarizer material film produced in (C2-1) was attached thereto. In this state, the adhesive was heated and dried at 70°C for 5 minutes to obtain a laminate. The obtained laminate was subjected to the same operation as in (1-4) of Example 1 to obtain a polarizing plate. The obtained laminate and polarizing plate were evaluated in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 3.

表中、「Re2(50℃)」とは、積層体を50℃の温度条件で6.0倍に自由端一軸延伸した際に発生する樹脂層の面内方向の位相差を意味し、「Re2(120℃)」とは、積層体を120℃の温度条件で6.0倍に自由端一軸延伸した際に発生する樹脂層の面内方向の位相差を意味する。
表中、「Re1」とは、積層体における偏光子材料フィルムの面内方向の位相差を意味する。
表中、「直接塗布」とは、樹脂層を、偏光子材料フィルムに直接、製膜用塗布液(樹脂組成物)を塗布することにより形成したものを示し、「貼合」とは樹脂フィルムを、接着剤を介して偏光子材料フィルムに貼り合わせたことを示す。
表中、「偏光子」とは、偏光板における偏光子材料フィルムを示す。
In the table, "Re2 (50°C)" means the in-plane retardation of the resin layer that occurs when the laminate is free-end uniaxially stretched to 6.0 times at a temperature condition of 50°C, and "Re2 (120°C)" means the in-plane retardation of the resin layer that occurs when the laminate is free-end uniaxially stretched to 6.0 times at a temperature condition of 120°C.
In the table, "Re1" means the retardation in the in-plane direction of the polarizer material film in the laminate.
In the table, "direct coating" indicates that the resin layer was formed by applying a film-forming coating liquid (resin composition) directly to a polarizer material film, and "lamination" indicates that the resin film was laminated to the polarizer material film via an adhesive.
In the table, "polarizer" refers to a polarizer material film in a polarizing plate.

Figure 0007484728000001
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Figure 0007484728000002
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Figure 0007484728000003
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表1~表3の結果から、本発明によれば、積層体を延伸する工程を経た後の樹脂層に発現する位相差を小さくすることができ、密着性、乾燥工程性及び光学物性に優れた偏光板を得ることができることが分かる。また本発明によれば、しわ及びボイドの発生を防止しうることが分かる。これにより、樹脂層を保護フィルムとしても用いることができ、厚みが薄くても効率的に製造することができ、しわ及びボイドの発生を防止した積層体及びその製造方法、前記積層体を用いた偏光板及びその製造方法、ならびに表示装置の製造方法を提供しうることが分かる。 From the results in Tables 1 to 3, it can be seen that according to the present invention, it is possible to reduce the phase difference that appears in the resin layer after the process of stretching the laminate, and to obtain a polarizing plate that is excellent in adhesion, drying processability, and optical properties. It can also be seen that according to the present invention, it is possible to prevent the occurrence of wrinkles and voids. As a result, it can be seen that it is possible to provide a laminate and a manufacturing method thereof in which the resin layer can be used as a protective film and can be efficiently manufactured even if it is thin, and in which the occurrence of wrinkles and voids is prevented, a polarizing plate and a manufacturing method thereof using the laminate, and a manufacturing method for a display device.

1…原反フィルム
10…積層体
11…偏光子材料フィルム
12…樹脂層
100,120…偏光板
111…偏光子材料フィルム
112…樹脂層
115…保護フィルム
200…製造装置
201…繰り出し装置
202…塗布装置
203…巻き取り装置
204…延伸装置
205…活性化処理装置
206…乾燥装置
300…製造装置
301,307…繰り出し装置
302~305…処理装置
306…乾燥装置
308…貼り合わせ装置
310…巻き取り装置
400…表示装置(液晶表示装置)
410,420…基板
430…液晶層
500…表示装置(有機EL表示装置)
510,520…基板
530…発光層
1... Raw film 10... Laminate 11... Polarizer material film 12... Resin layer 100, 120... Polarizing plate 111... Polarizer material film 112... Resin layer 115... Protective film 200... Manufacturing device 201... Unwinding device 202... Coating device 203... Winding device 204... Stretching device 205... Activation processing device 206... Drying device 300... Manufacturing device 301, 307... Unwinding devices 302 to 305... Processing device 306... Drying device 308... Bonding device 310... Winding device 400... Display device (liquid crystal display device)
410, 420... Substrate 430... Liquid crystal layer 500... Display device (organic EL display device)
510, 520...substrate 530...light-emitting layer

Claims (7)

偏光板の製造方法であって、
偏光子の材料を含む原反フィルムを延伸して偏光子材料フィルムを得る第一の工程と、
前記偏光子材料フィルムの一方の表面に、樹脂を塗布して塗布層を形成する第二の工程と、
前記塗布層を乾燥させ樹脂層を得る第三の工程と、をこの順に含む、積層体の製造方法により積層体を製造し、さらに
前記積層体を二色性色素で染色する第五の工程と、
前記積層体を一軸延伸する第六の工程と、を含み、
前記偏光子材料フィルムがポリビニルアルコール樹脂フィルムであり、
前記樹脂層がシクロオレフィン系樹脂からなる、偏光板の製造方法。
A method for producing a polarizing plate, comprising the steps of:
A first step of stretching a raw film containing a polarizer material to obtain a polarizer material film;
a second step of applying a resin to one surface of the polarizer material film to form a coating layer;
a third step of drying the coating layer to obtain a resin layer, and a fifth step of dyeing the laminate with a dichroic dye.
A sixth step of uniaxially stretching the laminate,
the polarizer material film is a polyvinyl alcohol resin film,
The method for producing a polarizing plate, wherein the resin layer is made of a cycloolefin resin.
前記第一の工程における、前記延伸の延伸倍率がX倍であり、Xは1.5≦X≦5.5を満たす、請求項に記載の偏光板の製造方法。 The method for producing a polarizing plate according to claim 1 , wherein the stretching in the first step is performed at a stretching ratio of X times, where X satisfies 1.5≦X≦5.5. 前記第二の工程の前に、前記偏光子材料フィルムの前記表面を活性化処理する第四の工程を含む、請求項1又は2に記載の偏光板の製造方法。 The method for producing a polarizing plate according to claim 1 , further comprising a fourth step of activating the surface of the polarizer material film before the second step. 前記第六の工程における、前記延伸の倍率がZ倍であり、Zは1.2≦Z≦5.0を満たす、請求項1~3のいずれか一項に記載の偏光板の製造方法。 The method for producing a polarizing plate according to claim 1 , wherein the stretching ratio in the sixth step is Z times, and Z satisfies 1.2≦Z≦5.0. X及びZが、5.1≦X*Z≦9.0を満たす、請求項1~4のいずれか一項に記載の偏光板の製造方法。 The method for producing a polarizing plate according to any one of claims 1 to 4 , wherein X and Z satisfy 5.1≦X*Z≦9.0. 前記第五の工程、前記第六の工程又はこれらの双方を経た後に、前記積層体の前記偏光子材料フィルム側の面、及び前記樹脂層側の面のうち、一方又は両方の面に、保護フィルムを貼合する第七の工程を含む、請求項1~5のいずれか一項に記載の偏光板の製造方法。 The method for producing a polarizing plate according to any one of claims 1 to 5, further comprising a seventh step of laminating a protective film to one or both of a surface of the laminate facing the polarizer material film and a surface of the laminate facing the resin layer after the fifth step, the sixth step, or both of these steps. 表示装置を製造する方法であって、
請求項1~6のいずれか一項に記載の偏光板の製造方法により偏光板を製造する工程、及び
前記偏光板をパネルに積層する第八の工程を含み、
前記パネルが、液晶パネル、有機エレクトロルミネッセンスパネル、マイクロLEDパネルから選ばれるパネルである、表示装置の製造方法。
A method of manufacturing a display device, comprising the steps of:
A method for producing a polarizing plate according to any one of claims 1 to 6 , and an eighth step of laminating the polarizing plate on a panel,
The method for manufacturing a display device, wherein the panel is selected from a liquid crystal panel, an organic electroluminescence panel, and a micro LED panel.
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