JP7462656B2 - 熱特性を有する積層体及び吸収体層を備えた基材 - Google Patents

Description

本発明は、透明基材に関し、特にガラスのような硬質鉱物材料（又は硬質又は可撓性であり得るポリマー基材のような有機材料）から作製され、前記基材は、太陽放射及び／又は長波赤外放射に作用し得る金属挙動を有する少なくとも１つの層を含む薄層の積層体で被覆される。

本発明は、より具体的には、断熱グレージング及び／又は太陽光保護グレージングを製造するための、このような基材の使用に関する。これらのグレージングは、建物内及び車両内への設置に対して同様に意図されている。これらは、特に、空調工数の削減及び／又は過度の過熱の削減（いわゆる「ソーラーコントロール」グレージング）、及び／又は外部へ放散されるエネルギー量の削減（いわゆる「低排出」グレージング）を目的としている。

基材にそのような特性を付与することが知られている層の積層体の１つの種類は、赤外線領域及び／又は太陽放射領域に反射特性を有する少なくとも１つの機能金属層、特に銀又は銀含有金属合金に基づく層を含む。

この機能性金属層は、各々が概して金属窒化物、金属酸化物又は金属酸窒化物タイプの誘電体材料からなる数層を含む２つの誘電体被覆の間に配置される。光学的観点から、金属機能層をフレーム化するこれらの被覆の目的は、この金属機能層を「反射防止」することである。

この積層体は、概して、磁場によって任意に補助されるカソードスパッタリングのような真空を使用する技術によって実行される一連の堆積によって得られる。

また、２つの非常に薄い金属層を銀層の両側に設けることができ、下にある層を結合性の核形成層として設け、上にある層を保護層又は「犠牲」層として設けて、上にある酸化物層が酸素の存在下でカソードスパッタリングによって堆積される場合に銀が劣化するのを防止する。

また、これらの金属層は、曲げ及び／又は焼戻しなどの、行いうる高温熱処理中に機能層を保護する機能を有する。

単一の機能層（以下、「単一機能層積層体」という発現によって参照される）又は２つの機能層（以下、「二機能層積層体」という発現によって参照される）を有する低放出薄層の積層体が、現在存在する。

欧州特許第０８４７９６５号は、窒化ケイ素などの酸素バリア層、及び銀層を安定化する層の使用のおかげで、有意な光学的変化なしに曲げ又は焼戻しなどの熱処理を受けることができるように設計された２つの銀層（「二機能層」）を有する積層体を記載している。

欧州特許第０８４４２１９号明細書もまた、太陽因子が少なくとも３２％に低下したグレージングを得ることを可能にする、まったく異なる厚さの２つの銀層を有する積層体も記載している。この種の積層体を用いた二重グレージングは、６０～６５％のオーダーの光透過性を持つ。

注意すべきこととして、グレージングの太陽因子（ＳＦ又は「ｇ」）は、このグレージングを通って内部に入る全太陽エネルギーの、全入射太陽エネルギーに対する割合であり、選択性は、グレージングの可視領域における光透過ＬＴ_visのグレージングの太陽因子ＳＦに対する割合に対応し、ｓ＝ＬＴ_vis／ＳＦとなるようなものである。

これらのグレージングが設置される国の気候に依存して、特に日光のレベルに依存して、光透過率及び太陽因子に関して求められる性能は変化し得る。従って、それらの光透過レベルによって特徴づけられる異なる範囲のグレージングが開発された。

例えば、高レベルの太陽光を有する国では、２５～４５％のオーダーの光透過率（ＬＴ_vis）及び十分に低い太陽因子（ＳＦ）値（１５～２５％）を有するグレージングに対する強い需要がある。

特に、エネルギー反射を維持しながら、光反射（ＬＲ）を過度に増加させることなく、低ＬＴのグレージングを得ることが望ましい場合がある。特に、２０％未満（又はさらに１５％未満）のＬＲが求められる。

当業者は、積層体、より詳細には、１つ（又は複数）の誘電体被覆に、可視領域を吸収する１つ（又は複数）の層を挿入できることを知っている。

従来技術は、複数の機能層を有する積層体における、可視領域を吸収する層の使用を既に開示しており、特に、曲げ／焼戻しタイプの熱処理に耐える積層体おける、可視領域で吸収するそのような層の使用に関する欧州特許第１ ３４１ ７３２ Ｂ１号明細書を、既に開示していることに留意されたい。吸収体層は、１～３ｎｍのオーダーである。この積層体は、５０～６５％のオーダーの高い光透過率をグレージングに与えることを目的とする。

高い選択性は、美的外観、特に色を犠牲にして達成されるべきではない。概して、外部及び内部反射、並びに透過において、可能な最も無彩色な美観、すなわち、０に近い又はわずかに負の指数ａ^＊及びｂ^＊を得ることが求められる。

高い選択性及び優れた無彩色性の両方を達成するための従来の手法は、ますます洗練された機能性被覆を開発することにある。

これらのグレージングの比色定量の適合は、金属及び／又は誘電体機能被覆を構成する層又は被覆の性質、厚さを弄ることによって得られる。

被覆の複雑さは、良好な熱性能と優れた無彩色性を同時に得ることを困難にする。

優れた無彩色性を達成する上でのこの困難さは、２５～７５％のオーダーの光透過性を有するグレージングに対しては、それらがより高い又はより低い光透過性を有するグレージングよりも本質的により多くの色彩を有するので、さらに顕著である。実際、透明度が０又は１００に近い非常に低い又は非常に高い光透過率の場合、色の知覚はあまり強くない。色は、白黒に向かって「収束」する。

最後に、これらの被覆の複雑さはまた、所与の被覆について一貫した生産品質を維持することを困難にする。実際に、これらの被覆を構成する層及び材料の数を増やすと、同じ製造現場で製造された２つのバッチから、又は２つの異なる製造現場で製造された２つのバッチから、同じ色の被覆を得るために、堆積条件の設定を適合させることがますます困難になる。

また、グレージングの視覚的外観は、グレージングが観察される入射角にかかわらず、ほとんど変化しないことが要求される。したがって、観察者が法線に対して４５°又は６０°の入射角でそれを見るときでさえ、反射された色、特にグレージングの外側の反射された色が許容可能な色であることが望ましい。これは、観測者がとりわけ高層ビルにおいて、色相又は外観の著しい不均一性の印象を得ないことを意味する。

したがって、本発明の目的は、良好な熱性能と所望の美的外観との両方を提供するグレージングを開発することによって、上述の欠点を克服することである。

特に、本発明の目的は、新しいタイプの機能性二層積層体を開発することであり、この積層体は、低い光透過率と比較的に無彩色の反射色とを有する。

別の重要な目的は、高い選択性を有すると同時に、特にグレージングの外側反射において、特に赤色ではない適切な着色を有する二機能層積層体を提案することである。

本発明の別の目的は、観察者が法線（垂直）から離れた入射角にいる場合であっても、外側の反射色を安定させることである。

したがって、本発明はその最も広い意味において、赤外線及び／又は太陽放射線に作用することができる機能被覆を形成する薄層の積層体で被覆された基材に関し、前記被覆は、２つの金属機能層（Ｆ）、特に銀に基づいており、それぞれが、層Ｄｉ１／Ｆ１／Ｄｉ２／Ｆ２／Ｄｉ３の配列を形成するように２つの誘電被覆（Ｄｉ）の間に配置され、各誘電被覆（Ｄｉ）は、少なくとも１つの誘電材料層を含み、前記機能被覆は、スペクトルの可視部分において太陽放射線を吸収する少なくとも２つの吸収体層（Ａ１；Ａ２）を含み、これらは少なくとも２つの異なる誘電体被覆に配置される。

吸収体層（Ａ１、Ａ２）は、少なくとも１つの誘電体層によって金属機能層（Ｆ）から分離され、各吸収体層を金属機能層（Ｆ）から分離する全ての誘電体層の幾何学的厚さは、５ｎｍ以上である。

本発明の意味の範囲内の「被覆」は、被覆の内側に異なる材料の１つの層のみ、又はいくつかの層が存在し得ることを意味すると理解されるべきである。

通常のように、本発明の意味内の「誘電体層」は、その性質の観点から、材料が「非金属」、すなわち金属ではないことを意味すると理解されるべきである。本発明の文脈において、この用語は、５以上のｎ／ｋ比を示す材料を意味する。

本発明の意味における「吸収体層」は、層が０～５のｎ／ｋ比を示す材料であることを意味すると理解されるべきである。

ｎは、所与の波長における材料の実屈折率を表し、ｋは、所与の波長における屈折率の虚数部を表し、ｎ／ｋ比は、ｎ及びｋについて同一である所与の波長において計算され、本出願ではそれらは５５０ｎｍで測定されることが想起される。

機能性被覆は、第１の誘電体被覆（Ｄｉ１）中に少なくとも１つの吸収体層を含むことができる。

機能性被覆は、第２の誘電体被覆（Ｄｉ２）中に少なくとも１つの吸収体層を含むことができる。第２の誘電体被覆（Ｄｉ２）中に位置する吸収体層は、窒化ケイ素ベース及び／又は窒化アルミニウムベースの層から選択される誘電体材料の層で囲まれ、両側で接触することができる。

好ましくは、第１の吸収体層（Ａ１）が第１の誘電体被覆（Ｄｉ１）中に配置され、第２の吸収体層（Ａ２）が第２の誘電体被覆（Ｄｉ２）中に配置される。

有利には、本発明による被覆された基材の積層体において、２つの吸収体層（Ａ１及びＡ２）は、誘電材料の少なくとも１つの層によって、各金属機能層（Ｆ１及びＦ２）から分離される。

吸収体層（Ａ１、Ａ２）は、少なくとも１つの誘電体層によって銀ベースの機能層から分離され、各吸収体層を銀ベースの機能層から分離する誘電体層全ての幾何学的厚さは、１５ｎｍより大きい。

吸収体層（Ａ１、Ａ２）は、好ましくは窒化ケイ素ベース及び／又は窒化アルミニウムベースの層から選択される誘電体材料の層と接触することができる。

吸収体層（Ａ１及び／又はＡ２）と接触して位置する、好ましくは窒化ケイ素及び／又は窒化アルミニウムをベースとする誘電体材料の層の幾何学的厚さは、
－ １５超、２０超、２５超、３０超、３５超、４０ｎｍ超、及び／又は
－ １００未満、７５未満、６０ｎｍ未満、５０ｎｍ未満、
とすることができる。

積層体が、第２の誘電体被覆中に吸収体層を含む場合、この吸収体層は、誘電体材料の層で、一方の側面又は両側面で包囲され、接触することができる。好ましくは、誘電体材料の層は、窒化ケイ素ベース及び／又は窒化アルミニウムベースの層から選択される。好ましくは、第２の誘電体被覆内に位置する吸収体層は、窒化ケイ素及び／又は窒化アルミニウムベースの層によって両側において包囲される。

これらの実施形態は、以下の積層体に対応する：
－Ｄｉ１ａ／Ａ１／Ｄｉ１ｂ／Ｆ１／Ｄｉ２ａ／Ａ２／Ｄｉ２ｂ／Ｆ２／Ｄｉ３，
－Ｄｉ１／Ｆ１／Ｄｉ２ａ／Ａ１／Ｄｉ２ｂ／Ｆ２／Ｄｉ３ａ／Ａ２Ｄｉ３ｂ。

積層体Ｄｉ１ａ／Ａ１／Ｄｉ１ｂ／Ｆ１／Ｄｉ２ａ／Ａ２／Ｄｉ２ｂ／Ｆ２／Ｄｉ３、又は積層体Ｄｉ１／Ｆ１／Ｄｉ２ａ／Ａ１／Ｄｉ２ｂ／Ｆ２／Ｄｉ３ａ／Ａ２／Ｄｉ３ｂにおいて、第２の誘電体被覆（Ｄｉ２ａ）の吸収体層の下の部分は、好ましくは吸収体層上に位置する誘電体被覆（Ｄｉ２ｂ）の部分の光学的厚さ未満の光学的厚さを有する。

有利には、吸収体層は、本質的に窒化されている、又は金属的である。有利には、吸収体層（Ａ１及び／又はＡ２）は、本質的に金属的又は窒化されている、又は酸化若しくは酸窒化されているかのいずれかである。特に、吸収体層は、以下の材料のうちの１つをベースとする層から選択することができる：ＮｂＮ、ＴｉＮ、ＮｉＣｒＮ、ＳｎＺｎＮ、ＺｒＮ、Ｔｉ、ＮｉＣｒ、Ｎｂ、Ｚｒ又はそれらの混合物。このリストは、他の種類の吸収体が本発明に適しうるため、単に一例として提供されているに過ぎない。吸収体の性質は、美的特性、材料の入手可能性、エネルギー性能、耐久性、堆積装置の制約等の関数として選択される。

吸収体層の厚さは、特に、選択された材料の多かれ少なかれ吸収性の性質の関数として適合されるべきである。したがって、幾何学的厚さの値に、材料の吸収性を示す値を乗じることが望ましい。層の光学的厚さは、その幾何学的厚さにその（実数）光学屈折率ｎを乗じた積から定義することができるのと同様に、「吸収厚さ」は、幾何学的厚さにｋ／ｎを乗じたもので定義することができ、ｎは、光学屈折率の実数部であり、ｋは、光学屈折率の虚数部である。

特に、両方の吸収体層（Ａ１及びＡ２）のアセンブリの吸収厚さ（幾何学的厚さＸ ｋ／ｎ）は、０．６～２５ｎｍの間に含まれ、好ましくは０．８～１５ｎｍの間に含まれ、さらにより好ましくは１～１２ｎｍの間に含まれ；吸収厚さは積層体の全ての吸収体層を考慮して計算されるべきである。しかしながら、金属機能層と直接接触するブロッキング層は、それらの非常に小さい厚さの観点から、吸収体層であるとは考えられない。

有利には、第２の吸収体層の吸収厚さ（Ａ１／Ａ２）に対する第１の吸収体層の吸収厚さ（幾何学的厚さＸ ｋ／ｎ）の比率は、０．５～５．０、好ましくは０．７～４．０、より好ましくは０．９～２．５である。

従来、光特性は、特に断らない限り、材料に垂直から２°で光源Ｄ６５に従って測定される。

本発明の基材は、６０％未満、好ましくは５０％未満の光透過率（ＬＴ）を有する。これらの光透過値は、複数又は積層グレージングとして構成されることなく、基材自体で直接測定される。

本出願の残りの部分では、本発明による被覆された基材の全てのエネルギー及び美的性能が、以下の構成で測定される：
外側／６ｍｍ厚透明ガラス／積層体／１５ｍｍ９０％ Ａｒギャップ／６ｍｍ厚透明ガラス／内側。

特に、被覆された基材の光透過率（ＬＴ）は、所与のグレージング構成において、２５～４５％の間に含まれ、好ましくは３０～４０％の間に含まれる。

特に、所与のグレージング構成において、被覆された基材のソーラー因子（ｇ）は、１５～３０％、好ましくは１７～２６％である。

特に、被覆された基材の選択性（ｓ）は、所与の構成において、１．４より大きく、好ましくは１．５より大きく、さらにより好ましくは１．６より大きい。

特に、グレージング（ＬＲ_ext）の外部での光反射は、所与の構成では、２０％未満、好ましくは１８％未満、さらにより好ましくは１５％未満である。

特に、「外側／６ｍｍ厚透明ガラス／積層体／１５ｍｍ９０％ Ａｒギャップ／６ｍｍ厚透明ガラス／内側」構成では、Ｃｉｅｌａｂ測定系Ｌａ^*ｂ^*の比色指数ａ^*及びｂ^*、は：
－垂直入射での透過で測定されたもの、－１２と－２との間、及び／又は
－垂直入射での外部での反射で測定されたものは、－１２と２との間、好ましくは－１０と１との間、さらにより好ましくは－７と０との間、
－法線に対して６０°の入射角における、外側での反射で測定されたものは、－１０と２との間である。

緑がかった外部反射を回避するために、外部における反射での指数ａ^*は、好ましくは指数ｂ^*よりも高い。

Ｌａ^*ｂ^*測定システムの比色指数ａ^*は、垂直入射において、外部で反射で測定され、特に－７と２との間に含まれ得る。Ｌａ^*ｂ^*測定システムの比色指数ｂ^*は、垂直入射で、外側で反射で測定され、－１０と０との間に含まれ得る。

観察者の入射角が法線に対して４５°又は６０°である場合、比色指数ａ^*及びｂ^*は、垂直入射で測定された指数に対してあまり変化しないことが望ましい。

銀をベースとする機能性金属層は、銀で作られるか、又は銀含有金属合金をベースとする。

有利には、被覆は、２つの金属機能層（Ｆ）のうちの少なくとも１つの上に堆積された、好ましくは金属であるブロッキング層（ＯＢ）を含む。被覆は、各金属機能層（Ｆ）上に堆積されたブロッキング金属層（ＯＢ）を含むことができる。

有利には、被覆は、２つの金属機能層（Ｆ）の少なくとも１つの下に、ブロッキング層（ＵＢ）、好ましくは金属製を含むことができる。被覆は、各金属機能層（Ｆ）の下に配置されているブロッキング層（ＵＢ）、好ましくは金属製を含んでいる。

ブロッキング層は、Ｔｉ、ＴｉＮ、ＴｉＯ_ｘ、Ｎｂ、ＮｂＮ、Ｎｉ、ＮｉＮ、Ｃｒ、ＣｒＮ、ＮｉＣｒ、又はＮｉＣｒＮのような、チタン、ニッケル、クロム、タンタル及びニオブから選択される１つ以上の元素の金属又は金属合金、金属窒化物層、金属酸化物層、及び金属酸窒化物層をベースとする金属層から選択される。ブロッキング金属層は、好ましくはＴｉ、ＮｉＣｒをベースとする層から選択される。それらは、一般に、０．３～３ｎｍ又は０．３～２ｎｍのオーダーの厚さを有する。

ブロッキング層は、金属機能層（Ｆ）と接触している。

１つの特定の実施形態では、誘電体被覆（Ｄｉ）は、窒化物ベースの誘電体材料（例えば、Ｓｉ_３Ｎ_４）の層と、酸化物ベースの誘電体材料（例えば、ＺｎＯ、ＳｎＺｎＯ、又はＺｎＯ：Ａｌ）の層とを含み、窒化物ベースの層は、吸収体層と接している。窒化物ベースの誘電体層は、好ましくは窒化ケイ素及び／又は窒化アルミニウムベースの層の中から選択される。

誘電体被覆の光学的厚さは、一般に、１５ｎｍ～２００ｎｍで構成される。誘電体被覆がいくつかの連続した誘電体層を含む場合、厚さは、誘電体被覆を形成する全ての誘電体層について計算される。

第２の誘電体被覆が吸収体層を含む場合、吸収体層の下の部分は、好ましくは吸収体層の上の部分の光学的厚さよりも小さい光学的厚さを有する。特に、Ｄｉ２ｂ／Ｄｉ２ａ割合は、１．５と６との間、好ましくは１．８と５との間に含まれる。

特に、第２の誘電体被覆の吸収体層の下の部分の光学的厚さは、１５～１２０ｎｍ、好ましくは２５～１００ｎｍである。また、吸収体層の上方の部分は、８０～２００ｎｍ、好ましくは１００～１６５ｎｍの光学的厚さを有する。

所与の厚さ値に対して、２つの金属機能層の間の誘電体材料の全ての層が考慮される；しかしながら、吸収体層の厚さは、誘電体被覆の光学的厚さを計算する際に考慮されない。

１つの特定の実施形態によれば、２つの金属機能層のうちの少なくとも１つの下に薄いブロッキング金属層（ＵＢ）を設けることが可能である。これらのブロッキング層は概して、０．３～２ｎｍのオーダーを有する。

積層体はまた、上部保護層を含むことができる。上部保護層は、好ましくは積層体の最終層、すなわち、積層体で被覆された基材から最も遠い層である。これらの上部保護層は、最後の誘電体被覆（Ｄｉ３）に含まれているとは考えられない。

これらの層は、概して、２～１０ｎｍ、好ましくは２～５ｎｍの厚さを有する。

保護層は、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、亜鉛及び／又はスズの層から選択することができ；この金属又はこれらの金属は、金属、酸化物又は窒化物の形成である。有利には、保護層は、チタンの酸化物の層、スズ及び亜鉛の酸化物の層、又はジルコニウム及びチタンの酸化物をベースとする層である。

本発明はまた、二重グレージングを製造するための、上記のような被覆された基材の使用に関する。

好ましくは、本発明に係る積層体は、ガラス／薄層の積層体／ギャップ／ガラス型の構造を形成するように、ガラスの側面２、すなわち外側基材の内面に位置する。

各基材は、透明であっても着色されていてもよい。基材のうちの１つは、少なくとも、特に、バルク着色ガラスから作製されてもよい。着色の種類の選択は、光透過のレベル及び／又は一旦その製造が完了したグレージングに望まれる比色外観に依存する。

本発明によるグレージングの基材は、熱処理を受けることができる。したがって、それらは、任意選択で曲げられ、及び／又は焼き戻される。

以下の非限定的な実施例は、本発明の詳細及び有利な特徴を例示する。

実施例１
以下の表１は、比較例（Ｃ１～Ｃ４）の為、及び本発明（実施例１ａ～１ｈ）に従って製造された積層体の各層の幾何学的厚さをナノメートルで示す。製造された積層体は、３０％のオーダーのＬＴを達成しようとする。

比較例Ｃ１は本発明に従う積層体に類似しているが、吸収体層を含まない。

比較例Ｃ２、Ｃ３及びＣ４は、１^ｓｔ、２^ｎｄ及び３^ｒｄの誘電体被覆にそれぞれ一つの吸収体層を含む。

異なるタイプの吸収体層が選択された：例Ｃ１～Ｃ４及びａ、ｂ及びｃにおいて、２つの吸収体層は、ＮｂＮ（ｋ＝１．８；ｎ＝３．５）から作製される。吸収体層は、例ｄでは、ＮｉＣｒＮ（ｋ＝３．３；ｎ＝３．１）；例ｅでは、Ｔｉ（ｋ＝２．７；ｎ＝３．１）；例ｆでは、ＴｉＮ（ｋ＝１．６；ｎ＝１．８）；例ｇでは、Ｎｂ（ｋ＝１．４；ｎ＝４．４）；例ｈでは、ＳｎＺｎＮ（ｋ＝１．９；ｎ＝３．３）からなる。

以下の表２は、外側／６ｍｍ厚透明ガラス／積層体／１５ｍｍ９０％ Ａｒギャップ／６ｍｍ厚透明ガラス／内側の構成において得られた主な光学的及びエネルギー的特性をまとめたものである。

実施例２
以下の表３は、比較例（Ｃ１～Ｃ４）及び本発明（実施例２ａ～２ｈ）に従って製造された積層体の各層の幾何学的厚さをナノメートルで示す。製造された積層体は、４０％のオーダーのＬＴを達成しようとする。

比較例Ｃ１は、本発明による積層体に類似しているが、吸収体層を含まない。

比較例Ｃ２、Ｃ３及びＣ４は、１^ｓｔ、２^ｎｄ及び３^ｒｄの誘電体被覆にそれぞれ一つの吸収体層を含む。

異なるタイプの吸収体層が選択された：例Ｃ１～Ｃ４及びａ、ｂ及びｃにおいて、２つの吸収体層は、ＮｂＮ（ｋ＝１．８；ｎ＝３．５）から作製される。例ｄでは、吸収体層は、ＮｉＣｒＮ（ｋ＝３．３；ｎ＝３．１）；例ｅでは、Ｔｉ（ｋ＝２．７；ｎ＝３．１）；例ｆでは、ＴｉＮ（ｋ＝１．６；ｎ＝１．８）；例ｇでは、Ｎｂ（ｋ＝１．４；ｎ＝４．４）；例ｈでは、ＳｎＺｎＮ（ｋ＝１．９；ｎ＝３．３）からなる。

以下の表４は、外側／６ｍｍ厚透明ガラス／積層体／１５ｍｍ厚９０％ Ａｒ ／６ｍｍ厚透明ガラス／内側の同じ構成で得られた主な光学的及びエネルギー的特性をまとめたものである。

結論として、本発明による実施例は、求められる美観を提供しながら、低いソーラー因子（ＬＴが４０％のオーダーである場合、ｇは２６％以下であり、ＬＴが３０％である場合、ｇは２０％未満である）及び低い光反射（ＬＲｅｘｔは２０％未満である）を組み合わせながら、３０％及び４０％のオーダーの光透過率を有する二重グレージングを製造することができることが分かる。

比較例は、求められている全ての基準の組み合わせを許容していない。

特に注目すべきことは、比較例ではそうではないが、無彩色領域において外部に反射された色を維持することが可能であったことである。さらに、以下のことが理解され得る：
－実施例１において、比較例Ｖ２では透過色が緑すぎ、比較例Ｖ４では外部に反射した色が赤みを帯びている。
－実施例２において、Ｖ４では、指数ａ^＊は指数ｂ^＊よりも低く、これは過度に緑がかった色合いを与え、比較例Ｖ２及びＶ４では、透過色が緑すぎる。

外部に反射される色の角度安定性は、比較例からの積層体に比べて著しく改善される。

本発明は、上記の説明において例として記載される。当業者は、特許請求の技術的範囲によって定義されるような特許の技術的範囲から逸脱することなく、本発明の他の変形を実施することができることは言うまでもない。
本開示は更に以下の態様を含んでいる：
《態様１》
太陽放射線及び／又は赤外線に作用することができる機能性被覆を形成する薄層の積層体で被覆された基材であって、前記被覆は、各々が前記基材から出発して少なくとも一連の層Ｄｉ１／Ｆ１／Ｄｉ２／Ｆ２／Ｄｉ３を含むように、２つの誘電体被覆（Ｄｉ）の間に配置された２つの金属機能層（Ｆ）を含んでおり、各誘電体被覆（Ｄｉ）は、少なくとも１つの誘電体材料の層を含み、
前記被覆は、可視領域で吸収する少なくとも２つの層（Ａ１、Ａ２）を含み、前記２つの層（Ａ１、Ａ２）が、少なくとも２つの異なる誘電体被覆中に配置されていることを特徴とする、基材。
《態様２》
前記吸収体層（Ａ１、Ａ２）は、少なくとも１つの誘電体層によって金属機能層（Ｆ）から分離され、各吸収体層を金属機能層（Ｆ）から分離する全ての誘電体層の幾何学的厚さは、５ｎｍ以上であることを特徴とする、態様１に記載の被覆された基材。
《態様３》
前記第１の誘電体被覆（Ｄｉ１）中に少なくとも１つの吸収体層を含むことを特徴とする、態様１又は２に記載の被覆された基材。
《態様４》
前記第２の誘電体被覆（Ｄｉ２）中に少なくとも１つの吸収体層を含むことを特徴とする、態様１～３のいずれか一つに記載の被覆された基材。
《態様５》
前記第２の誘電体被覆（Ｄｉ２）中に位置する前記吸収体層は、両側で、窒化ケイ素及び／又は窒化アルミニウムベースの層から選択される誘電体材料の層と接触して包囲されることを特徴とする、態様４に記載の被覆された基材。
《態様６》
前記第１の誘電体被覆（Ｄｉ１）中に吸収体層（Ａ１）が配置され、前記第２の誘電体被覆（Ｄｉ２）中に第２の吸収体層（Ａ２）が配置され、各吸収体層は、誘電体材料の少なくとも１つの層によって各金属機能層（Ｆ１及びＦ２）から分離されていることを特徴とする、態様１～５のいずれか一つに記載の被覆された基材。
《態様７》
積層体Ｄｉ１ａ／Ａ１／Ｄｉ１ｂ／Ｆ１／Ｄｉ２ａ／Ａ２／Ｄｉ２ｂ／Ｆ２／Ｄｉ３において、前記第２の誘電体被覆（Ｄｉ２ａ）の吸収体層の下の部分は、前記吸収体層上に位置する誘電体被覆（Ｄｉ２ｂ）の部分の光学的厚さよりも小さい光学的厚さを有することを特徴とする、態様６に記載の被覆された基材。
《態様８》
前記吸収体層（Ａ１、Ａ２）は、金属性又は窒化性であることを特徴とする、態様１～７のいずれか一つに記載の被覆された基材。
《態様９》
前記吸収体層は、ＮｂＮ、ＴｉＮ、ＮｉＣｒＮ、ＳｎＺｎＮ、ＺｒＮ、Ｔｉ、ＮｉＣｒ、Ｎｂ、Ｚｒ又はこれらの混合物の１つの材料をベースとする層から選択されることを特徴とする、態様１～８のいずれか一つに記載の被覆された基材。
《態様１０》
６０％未満、好ましくは５０％未満の光透過率（ＬＴ）を示すことを特徴とする、態様１～９のいずれか一つに記載の被覆された基材。
《態様１１》
「外側／６ｍｍ厚の透明ガラス／積層体／１５ｍｍの９０％Ａｒギャップ／６ｍｍ厚の透明ガラス／内側」構成において、光透過率（ＬＴ）が２５～４５％であることを特徴とする、態様１～１０のいずれか一つに記載の被覆された基材。
《態様１２》
「外側／６ｍｍ厚の透明ガラス／積層体／１５ｍｍの９０％Ａｒギャップ／６ｍｍ厚の透明ガラス／内側」構成において、１．４を超える選択性を示すことを特徴とする、態様１～１１のいずれか一つに記載の被覆基材。
《態様１３》
前記基材の被覆されていない面は、グレージングの外側を形成することを意図しており、外側における前記光反射（ＬＲ）は、「外側／６ｍｍ厚の透明ガラス／積層体／１５～９０ｍｍ厚のＡｒギャップ／６ｍｍ厚の透明ガラス／内側」構成において、２０％未満であることを特徴とする、態様１～１２のいずれか一つに記載の被覆された基材。
《態様１４》
前記被覆は、前記２つの金属機能層（Ｆ）のうちの少なくとも１つの上に堆積された金属ブロッキング層（ＯＢ）を含むことを特徴とする、態様１～１３のいずれか一つに記載の被覆された基材。
《態様１５》
前記被覆は、前記２つの金属機能層（Ｆ）のうちの少なくとも１つの下に堆積されたブロッキング金属層（ＵＢ）を含むことを特徴とする、態様１～１４のいずれか一つに記載の被覆された基材。
《態様１６》
前記誘電体被覆（Ｄｉ）は、窒化物ベースの誘電体材料の少なくとも１つの層と、酸化物ベースの誘電体材料の少なくとも１つの層とを含み、前記窒化物ベースの層は、前記吸収体層と接触していることを特徴とする、態様１～１５のいずれか一つに記載の被覆基材。
《態様１７》
２つの透明基材を含む二重グレージングであって、前記グレージングの外側に配置された前記透明基材は、態様１～１６のいずれか一つに記載の基材であることを特徴とする、二重グレージング。

Claims (13)

1. 太陽放射線及び／又は赤外線に作用することができる機能性被覆を形成する薄層の積層体で被覆された基材であって、前記被覆は、各々が前記基材から出発して少なくとも一連の層である第１の誘電体被覆（Ｄｉ１）／金属機能層（Ｆ１）／第２の誘電体被覆（Ｄｉ２）／金属機能層Ｆ２／第３の誘電体被覆（Ｄｉ３）を含むように、２つの誘電体被覆（Ｄｉ）の間に配置された２つの金属機能層（Ｆ）を含んでおり、各誘電体被覆（Ｄｉ）は、少なくとも１つの誘電体材料の層を含み、
   前記被覆は、可視領域で吸収する少なくとも２つの吸収体層（Ａ１、Ａ２）を含み、前記２つの吸収体層（Ａ１、Ａ２）が、少なくとも２つの異なる誘電体被覆中に配置されており、
   各誘電体被覆は、金属窒化物、金属酸化物又は金属酸窒化物タイプの誘電体材料からなり、
   前記金属機能層（Ｆ）は、銀又は銀含有金属合金に基づく層であり、
   前記吸収体層は、ＮｂＮ、ＴｉＮ、ＮｉＣｒＮ、ＳｎＺｎＮ、ＺｒＮ、Ｔｉ、ＮｉＣｒ、Ｎｂ、Ｚｒ又はこれらの混合物の１つの材料をベースとする層から選択される、金属または窒化されている金属からなる層であり、
   前記吸収体層（Ａ１、Ａ２）は、少なくとも１つの誘電体層によって金属機能層（Ｆ）から分離され、各吸収体層を金属機能層（Ｆ）から分離する全ての誘電体層の幾何学的厚さは、５ｎｍ以上であり、
   第１の吸収体層（Ａ１）は、前記第１の誘電体被覆（Ｄｉ１）中に配置され、第２の吸収体層（Ａ２）は、前記第２の誘電体被覆（Ｄｉ２）中に配置されていることを特徴とする、
   基材。
2. 前記第２の誘電体被覆（Ｄｉ２）中に位置する前記第２の吸収体層は、両側で、窒化ケイ素及び／又は窒化アルミニウムベースの層から選択される誘電体材料の層と接触して包囲されることを特徴とする、請求項１に記載の被覆された基材。
3. 前記第１の誘電体被覆（Ｄｉ１）中に前記第１の吸収体層（Ａ１）が配置され、前記第２の誘電体被覆（Ｄｉ２）中に前記第２の吸収体層（Ａ２）が配置され、各吸収体層は、誘電体材料の少なくとも１つの層によって各金属機能層（Ｆ１及びＦ２）から分離されていることを特徴とする、請求項１又は２に記載の被覆された基材。
4. 積層体Ｄｉ１ａ／Ａ１／Ｄｉ１ｂ／Ｆ１／Ｄｉ２ａ／Ａ２／Ｄｉ２ｂ／Ｆ２／Ｄｉ３において、前記第２の誘電体被覆のうち前記第２の吸収体層（Ａ２）の下に位置する部分（Ｄｉ２ａ）は、誘電体被覆のうち前記第２の吸収体層（Ａ２）の上に位置する部分（Ｄｉ２ｂ）の光学的厚さよりも小さい光学的厚さを有することを特徴とする、請求項３に記載の被覆された基材。
5. 前記吸収体層（Ａ１、Ａ２）は、金属性又は窒化性であることを特徴とする、請求項１～４のいずれか一項に記載の被覆された基材。
6. ６０％未満の光透過率（ＬＴ）を示すことを特徴とする、請求項１～５のいずれか一項に記載の被覆された基材。
7. 「外側／６ｍｍ厚の透明ガラス／積層体／１５ｍｍの９０％Ａｒギャップ／６ｍｍ厚の透明ガラス／内側」構成において、光透過率（ＬＴ）が２５～４５％であることを特徴とする、請求項１～６のいずれか一項に記載の被覆された基材。
8. 「外側／６ｍｍ厚の透明ガラス／積層体／１５ｍｍの９０％Ａｒギャップ／６ｍｍ厚の透明ガラス／内側」構成において、１．４を超える選択性を示すことを特徴とする、請求項１～７のいずれか一項に記載の被覆基材。
9. 前記基材の被覆されていない面は、グレージングの外側を形成することを意図しており、外側における光反射（ＬＲ）は、「外側／６ｍｍ厚の透明ガラス／積層体／１５～９０ｍｍ厚のＡｒギャップ／６ｍｍ厚の透明ガラス／内側」構成において、２０％未満であることを特徴とする、請求項１～８のいずれか一項に記載の被覆された基材。
10. 前記被覆は、前記２つの金属機能層（Ｆ）のうちの少なくとも１つの上に堆積された金属ブロッキング層（ＯＢ）を含むことを特徴とする、請求項１～９のいずれか一項に記載の被覆された基材。
11. 前記被覆は、前記２つの金属機能層（Ｆ）のうちの少なくとも１つの下に堆積されたブロッキング金属層（ＵＢ）を含むことを特徴とする、請求項１～１０のいずれか一項に記載の被覆された基材。
12. 前記誘電体被覆（Ｄｉ）は、窒化物ベースの誘電体材料の少なくとも１つの層と、酸化物ベースの誘電体材料の少なくとも１つの層とを含み、前記窒化物ベースの層は、前記吸収体層と接触していることを特徴とする、請求項１～１１のいずれか一項に記載の被覆基材。
13. ２つの透明基材を含む二重グレージングであって、前記グレージングの外側に配置された前記透明基材は、請求項１～１２のいずれか一項に記載の基材であることを特徴とする、二重グレージング。