JP7460010B1 - シリコン単結晶製造装置 - Google Patents
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Abstract
Description
該チャンバー内に不活性ガスを導入するためのガス導入配管と、
前記チャンバー内に導入された前記不活性ガスを排気するためのガス排気配管とを備えており、
前記原料融液からチョクラルスキー法によってシリコン単結晶を製造するシリコン単結晶製造装置であって、
前記ガス排気配管は、各々が継ぎ手部を有する複数の配管と、冷却水の通水により液冷可能な配管クランプとを有しており、
前記複数の配管の継ぎ手部同士がシール材を間に挟んで対向しており、かつ、該対向した継ぎ手部同士が前記配管クランプにより挟まれていることで、前記複数の配管同士が接続されており、
前記配管クランプの液冷により、前記継ぎ手部同士の間の前記シール材の冷却が可能なものであることを特徴とするシリコン単結晶製造装置を提供する。
配管12自体は端部に継ぎ手部(フランジなど)15を有していればよい。図2では特に右図からわかるように管本体から継ぎ手部15にかけて段差が設けられているが、本発明の配管12の形状はこれに限定されず、この段差が存在していなくともよい。
またシール材14としては例えばOリングが挙げられるがこれに限定されない。
図2の左図に示すように、隣接する複数の配管12(12a、12b)において、それぞれの継ぎ手部15同士がシール材14を間に挟んだ状態で対向している。そして右図に示すように、その対向した継ぎ手部15同士が配管クランプ13のクランプ部18により挟まれていることで、隣接する複数の配管12同士が接続されている。
なお、左図において円形の実線および点線がほぼ同心円状に描かれているが、これらは配管12やクランプ部18の部位を表している。左図の最内周の円形の実線は右図に示す配管12の内周面12sを表しており、左図の最外周の円形の点線は右図に示すクランプ部18の内底面18sを表している。
貫通穴16の大きさ(太さ)は特に限定されないが、例えば配管クランプ13の厚さの40~50%のサイズとすることができる。貫通穴16の太さがこの程度あれば、より効率の良い液冷が可能である。また、テーパーネジ(おねじ、めねじ)については互いにそのサイズに合ったものとすることができる。
図2の貫通穴16は上下に通水させる直線形状となっているが、この形状も特に限定されず、冷却の効率性等を考慮して種々の形状とすることができる。
なお、ここでは貫通穴16と冷却水送液配管17とを接続するタイプについて説明したが、これとは別に例えば冷却水送液配管17を配管クランプ13の内部に貫通させるタイプとすることもできる。
そして配管クランプ13に冷却水送液配管17を接続し、図2の場合では冷却水を上側から下側へと通水するが、逆方向であっても良い。なお冷却水の温度は例えば20℃程度とすることができるが、この限りではない。冷却水の温度は、ガス排気配管10内のガスの温度やチャンバー2からの距離等に応じて適宜決定することができる。この冷却水の通水によって配管クランプ13自体が液冷され、該配管クランプ13が挟んでいる継ぎ手部15同士の間のシール材14を効果的に冷却可能である。
4…石英ルツボ、 5…原料融液、 6…シリコン単結晶、 7…ヒーター、
8…断熱部材、 9…ガス導入配管、 10…ガス排気配管、
11…真空ポンプ、 12(12a、12b)…配管、 12s…配管の内周面、
13(13a、13b)…配管クランプ(液冷型)、 14…シール材、
15…継ぎ手部、 16…貫通穴、 17…冷却水送液配管、
18…クランプ部、 18s…クランプ部の内底面、 19…ボルト、
S…種結晶。
Claims (1)
- シリコン多結晶原料を収容する石英ルツボと、該石英ルツボ内の前記シリコン多結晶原料を加熱溶融して原料融液とするヒーターとが内部に配置されるチャンバーと、
該チャンバー内に不活性ガスを導入するためのガス導入配管と、
前記チャンバー内に導入された前記不活性ガスを排気するためのガス排気配管とを備えており、
前記原料融液からチョクラルスキー法によってシリコン単結晶を製造するシリコン単結晶製造装置であって、
前記ガス排気配管は、各々が継ぎ手部を有する複数の配管と、冷却水の通水により液冷可能な配管クランプとを有しており、
前記複数の配管の継ぎ手部同士がシール材を間に挟んで対向しており、かつ、該対向した継ぎ手部同士が前記配管クランプにより挟まれていることで、前記複数の配管同士が接続されており、
前記配管クランプの液冷により、前記継ぎ手部同士の間の前記シール材の冷却が可能なものであることを特徴とするシリコン単結晶製造装置。
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JP2000327480A (ja) | 1999-05-24 | 2000-11-28 | Toshiba Ceramics Co Ltd | 単結晶引上げ設備及びその操作方法 |
JP2002068888A (ja) | 2000-08-23 | 2002-03-08 | Shin Etsu Handotai Co Ltd | シリコン単結晶引上げ装置の解体方法および排ガス配管 |
JP2009167073A (ja) | 2008-01-11 | 2009-07-30 | Union Material Kk | 単結晶成長装置及び単結晶成長方法 |
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