JP7459922B2 - Vapor chambers, electronic devices and metal sheets for vapor chambers - Google Patents

Vapor chambers, electronic devices and metal sheets for vapor chambers Download PDF

Info

Publication number
JP7459922B2
JP7459922B2 JP2022210635A JP2022210635A JP7459922B2 JP 7459922 B2 JP7459922 B2 JP 7459922B2 JP 2022210635 A JP2022210635 A JP 2022210635A JP 2022210635 A JP2022210635 A JP 2022210635A JP 7459922 B2 JP7459922 B2 JP 7459922B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
groove
flow path
metal sheet
grooves
mainstream
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2022210635A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2023052131A (en
JP2023052131A5 (en
Inventor
伸一郎 高橋
賢郎 平田
貴之 太田
大蔵 橋本
清隆 竹松
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dai Nippon Printing Co Ltd
Original Assignee
Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dai Nippon Printing Co Ltd filed Critical Dai Nippon Printing Co Ltd
Publication of JP2023052131A publication Critical patent/JP2023052131A/en
Publication of JP2023052131A5 publication Critical patent/JP2023052131A5/en
Priority to JP2023189597A priority Critical patent/JP2024016179A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP7459922B2 publication Critical patent/JP7459922B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F28HEAT EXCHANGE IN GENERAL
    • F28DHEAT-EXCHANGE APPARATUS, NOT PROVIDED FOR IN ANOTHER SUBCLASS, IN WHICH THE HEAT-EXCHANGE MEDIA DO NOT COME INTO DIRECT CONTACT
    • F28D15/00Heat-exchange apparatus with the intermediate heat-transfer medium in closed tubes passing into or through the conduit walls ; Heat-exchange apparatus employing intermediate heat-transfer medium or bodies
    • F28D15/02Heat-exchange apparatus with the intermediate heat-transfer medium in closed tubes passing into or through the conduit walls ; Heat-exchange apparatus employing intermediate heat-transfer medium or bodies in which the medium condenses and evaporates, e.g. heat pipes
    • F28D15/0233Heat-exchange apparatus with the intermediate heat-transfer medium in closed tubes passing into or through the conduit walls ; Heat-exchange apparatus employing intermediate heat-transfer medium or bodies in which the medium condenses and evaporates, e.g. heat pipes the conduits having a particular shape, e.g. non-circular cross-section, annular
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F28HEAT EXCHANGE IN GENERAL
    • F28DHEAT-EXCHANGE APPARATUS, NOT PROVIDED FOR IN ANOTHER SUBCLASS, IN WHICH THE HEAT-EXCHANGE MEDIA DO NOT COME INTO DIRECT CONTACT
    • F28D15/00Heat-exchange apparatus with the intermediate heat-transfer medium in closed tubes passing into or through the conduit walls ; Heat-exchange apparatus employing intermediate heat-transfer medium or bodies
    • F28D15/02Heat-exchange apparatus with the intermediate heat-transfer medium in closed tubes passing into or through the conduit walls ; Heat-exchange apparatus employing intermediate heat-transfer medium or bodies in which the medium condenses and evaporates, e.g. heat pipes
    • F28D15/04Heat-exchange apparatus with the intermediate heat-transfer medium in closed tubes passing into or through the conduit walls ; Heat-exchange apparatus employing intermediate heat-transfer medium or bodies in which the medium condenses and evaporates, e.g. heat pipes with tubes having a capillary structure
    • F28D15/046Heat-exchange apparatus with the intermediate heat-transfer medium in closed tubes passing into or through the conduit walls ; Heat-exchange apparatus employing intermediate heat-transfer medium or bodies in which the medium condenses and evaporates, e.g. heat pipes with tubes having a capillary structure characterised by the material or the construction of the capillary structure
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F28HEAT EXCHANGE IN GENERAL
    • F28DHEAT-EXCHANGE APPARATUS, NOT PROVIDED FOR IN ANOTHER SUBCLASS, IN WHICH THE HEAT-EXCHANGE MEDIA DO NOT COME INTO DIRECT CONTACT
    • F28D15/00Heat-exchange apparatus with the intermediate heat-transfer medium in closed tubes passing into or through the conduit walls ; Heat-exchange apparatus employing intermediate heat-transfer medium or bodies
    • F28D15/02Heat-exchange apparatus with the intermediate heat-transfer medium in closed tubes passing into or through the conduit walls ; Heat-exchange apparatus employing intermediate heat-transfer medium or bodies in which the medium condenses and evaporates, e.g. heat pipes
    • F28D15/0266Heat-exchange apparatus with the intermediate heat-transfer medium in closed tubes passing into or through the conduit walls ; Heat-exchange apparatus employing intermediate heat-transfer medium or bodies in which the medium condenses and evaporates, e.g. heat pipes with separate evaporating and condensing chambers connected by at least one conduit; Loop-type heat pipes; with multiple or common evaporating or condensing chambers
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F28HEAT EXCHANGE IN GENERAL
    • F28DHEAT-EXCHANGE APPARATUS, NOT PROVIDED FOR IN ANOTHER SUBCLASS, IN WHICH THE HEAT-EXCHANGE MEDIA DO NOT COME INTO DIRECT CONTACT
    • F28D15/00Heat-exchange apparatus with the intermediate heat-transfer medium in closed tubes passing into or through the conduit walls ; Heat-exchange apparatus employing intermediate heat-transfer medium or bodies
    • F28D15/02Heat-exchange apparatus with the intermediate heat-transfer medium in closed tubes passing into or through the conduit walls ; Heat-exchange apparatus employing intermediate heat-transfer medium or bodies in which the medium condenses and evaporates, e.g. heat pipes
    • F28D15/0283Means for filling or sealing heat pipes
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F28HEAT EXCHANGE IN GENERAL
    • F28FDETAILS OF HEAT-EXCHANGE AND HEAT-TRANSFER APPARATUS, OF GENERAL APPLICATION
    • F28F3/00Plate-like or laminated elements; Assemblies of plate-like or laminated elements
    • F28F3/12Elements constructed in the shape of a hollow panel, e.g. with channels
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/34Arrangements for cooling, heating, ventilating or temperature compensation ; Temperature sensing arrangements
    • H01L23/42Fillings or auxiliary members in containers or encapsulations selected or arranged to facilitate heating or cooling
    • H01L23/427Cooling by change of state, e.g. use of heat pipes
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K7/00Constructional details common to different types of electric apparatus
    • H05K7/20Modifications to facilitate cooling, ventilating, or heating
    • H05K7/2029Modifications to facilitate cooling, ventilating, or heating using a liquid coolant with phase change in electronic enclosures
    • H05K7/20309Evaporators
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K7/00Constructional details common to different types of electric apparatus
    • H05K7/20Modifications to facilitate cooling, ventilating, or heating
    • H05K7/2029Modifications to facilitate cooling, ventilating, or heating using a liquid coolant with phase change in electronic enclosures
    • H05K7/20336Heat pipes, e.g. wicks or capillary pumps
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K7/00Constructional details common to different types of electric apparatus
    • H05K7/20Modifications to facilitate cooling, ventilating, or heating
    • H05K7/2039Modifications to facilitate cooling, ventilating, or heating characterised by the heat transfer by conduction from the heat generating element to a dissipating body
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F28HEAT EXCHANGE IN GENERAL
    • F28DHEAT-EXCHANGE APPARATUS, NOT PROVIDED FOR IN ANOTHER SUBCLASS, IN WHICH THE HEAT-EXCHANGE MEDIA DO NOT COME INTO DIRECT CONTACT
    • F28D21/00Heat-exchange apparatus not covered by any of the groups F28D1/00 - F28D20/00
    • F28D2021/0019Other heat exchangers for particular applications; Heat exchange systems not otherwise provided for
    • F28D2021/0028Other heat exchangers for particular applications; Heat exchange systems not otherwise provided for for cooling heat generating elements, e.g. for cooling electronic components or electric devices
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F28HEAT EXCHANGE IN GENERAL
    • F28DHEAT-EXCHANGE APPARATUS, NOT PROVIDED FOR IN ANOTHER SUBCLASS, IN WHICH THE HEAT-EXCHANGE MEDIA DO NOT COME INTO DIRECT CONTACT
    • F28D21/00Heat-exchange apparatus not covered by any of the groups F28D1/00 - F28D20/00
    • F28D2021/0019Other heat exchangers for particular applications; Heat exchange systems not otherwise provided for
    • F28D2021/0028Other heat exchangers for particular applications; Heat exchange systems not otherwise provided for for cooling heat generating elements, e.g. for cooling electronic components or electric devices
    • F28D2021/0029Heat sinks

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Thermal Sciences (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Sustainable Development (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Cooling Or The Like Of Semiconductors Or Solid State Devices (AREA)
  • Cooling Or The Like Of Electrical Apparatus (AREA)
  • Fixed Capacitors And Capacitor Manufacturing Machines (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Description

本発明は、作動液が密封された密封空間を有するベーパーチャンバ、電子機器、ベーパーチャンバ用金属シートおよびベーパーチャンバの製造方法に関する。 The present invention relates to a vapor chamber having a sealed space in which a working fluid is sealed, an electronic device, a metal sheet for a vapor chamber, and a method for manufacturing a vapor chamber.

携帯端末やタブレット端末といったモバイル端末等で使用される中央演算処理装置(CPU)や発光ダイオード(LED)、パワー半導体等の発熱を伴うデバイスは、ヒートパイプ等の放熱用部材によって冷却されている(例えば、特許文献1乃至5参照)。近年では、モバイル端末等の薄型化のために、放熱用部材の薄型化も求められており、ヒートパイプよりも薄型化を図ることができるベーパーチャンバの開発が進められている。ベーパーチャンバ内には、作動液が封入されており、この作動液がデバイスの熱を吸収して外部に放出することで、デバイスの冷却を行っている。 Devices that generate heat, such as central processing units (CPUs), light-emitting diodes (LEDs), and power semiconductors used in mobile devices such as mobile terminals and tablet terminals, are cooled by heat dissipation members such as heat pipes (see, for example, Patent Documents 1 to 5). In recent years, there has been a demand for thinner heat dissipation members in order to make mobile terminals thinner, and vapor chambers that can be made thinner than heat pipes have been developed. A working fluid is sealed inside the vapor chamber, and this working fluid absorbs the heat of the device and releases it to the outside, thereby cooling the device.

より具体的には、ベーパーチャンバ内の作動液は、デバイスに近接した部分(蒸発部)でデバイスから熱を受けて蒸発して蒸気になり、その後蒸気が、蒸発部から離れた位置に移動して冷却され、凝縮して液状になる。ベーパーチャンバ内には、毛細管構造(ウィック)としての液流路部が設けられており、液状になった作動液は、この液流路部を通過して蒸発部に向かって輸送され、再び蒸発部で熱を受けて蒸発する。このようにして、作動液が、相変化、すなわち蒸発と凝縮とを繰り返しながらベーパーチャンバ内を還流することによりデバイスの熱を移動させ、放熱効率を高めている。 More specifically, the working fluid in the vapor chamber receives heat from the device in the part close to the device (evaporation part) and evaporates into vapor, and the vapor then moves to a position away from the evaporation part where it is cooled and condenses into liquid. A liquid flow path part with a capillary structure (wick) is provided in the vapor chamber, and the liquefied working fluid passes through this liquid flow path part and is transported toward the evaporation part, where it receives heat again and evaporates. In this way, the working fluid circulates through the vapor chamber while repeatedly changing phases, i.e., evaporating and condensing, thereby transferring heat from the device and increasing heat dissipation efficiency.

ところで、液流路部は、第1方向に延びる溝を複数有している。作動液は、毛細管作用を受けて蒸発部に向かう推進力を得て、溝内を蒸発部に向かって通過するようになっている。また、隣り合う溝同士で作動液を往来させるために、第1方向に直交する第2方向に延びる他の溝が設けられている。このようにして、液流路部においては複数の溝が格子状に形成されており、液流路部内に均等に作動液が行き渡るようにしている。 By the way, the liquid flow path section has a plurality of grooves extending in the first direction. The working fluid receives a driving force toward the evaporation section through capillary action, and passes through the groove toward the evaporation section. In addition, another groove extending in a second direction orthogonal to the first direction is provided to allow hydraulic fluid to flow between adjacent grooves. In this manner, a plurality of grooves are formed in a lattice pattern in the liquid flow path, so that the working fluid is distributed evenly within the liquid flow path.

特開2015-59693号公報JP 2015-59693 Publication 特開2015-88882号公報JP2015-88882A 特開2016-17702号公報JP 2016-17702 A 特開2016-50682号公報JP 2016-50682 A 特開2016-205693号公報Japanese Patent Application Publication No. 2016-205693

しかしながら、格子状に複数の溝を形成する場合、外気から受ける圧力によって問題が生じ得る。 However, when forming a plurality of grooves in a lattice pattern, problems may arise due to pressure from the outside air.

すなわち、ベーパーチャンバは、2つの金属シートによって構成されており、上述した溝は、少なくとも一方の金属シートに形成されている。このことにより、金属シートのうち溝が形成された部分では、金属材料の厚みが小さくなっている。液流路部内の空間は減圧されているために、金属シートは、外気から内側に凹む方向の圧力を受ける。このため、金属シートは、溝に沿って内側に凹むおそれがある。とりわけ、上述したようにベーパーチャンバの薄型化を図る場合には、金属シートの厚みが小さくなり、凹みやすくなり得る。 That is, the vapor chamber is constituted by two metal sheets, and the above-mentioned grooves are formed in at least one of the metal sheets. As a result, the thickness of the metal material is reduced in the portion of the metal sheet where the grooves are formed. Since the space within the liquid flow path section is under reduced pressure, the metal sheet receives pressure from the outside air that causes it to dent inward. For this reason, the metal sheet may dent inward along the groove. In particular, when the vapor chamber is made thinner as described above, the thickness of the metal sheet becomes smaller, which may make it more likely to dent.

互いに直交する溝同士が交わる交差部において、第2方向に沿う溝に沿って金属シートが凹むと、この凹みが、第1方向に沿う溝を横断するように形成され得る。この場合、第1方向に沿う溝の流路断面積が小さくなり、作動液の流路抵抗が増大し得る。このため、蒸発部への液状の作動液の輸送機能が低下し、蒸発部への作動液の供給量が低減し得る。この場合、蒸発部からの熱の輸送量が低減し、熱輸送効率が低下するという問題が生じる。 When the metal sheet is recessed along the groove extending in the second direction at the intersection where the grooves perpendicular to each other intersect, the recess may be formed to cross the groove extending in the first direction. In this case, the flow path cross-sectional area of the groove along the first direction becomes small, and the flow path resistance of the hydraulic fluid may increase. For this reason, the function of transporting the liquid working fluid to the evaporator may be reduced, and the amount of working fluid supplied to the evaporator may be reduced. In this case, a problem arises in that the amount of heat transported from the evaporator is reduced and the heat transport efficiency is reduced.

本発明はこのような点を考慮してなされたものであり、液流路部の流路断面積を確保して液状の作動液の輸送機能を向上させ、熱輸送効率を向上させることができるベーパーチャンバ、電子機器、ベーパーチャンバ用金属シートおよびベーパーチャンバの製造方法を提供することを目的とする。 The present invention has been made in consideration of these points, and it is possible to improve the transport function of liquid working fluid by ensuring a flow passage cross-sectional area of the liquid flow passage portion, and to improve heat transport efficiency. The present invention aims to provide a vapor chamber, an electronic device, a metal sheet for a vapor chamber, and a method for manufacturing a vapor chamber.

本発明は、
作動液が封入されたベーパーチャンバであって、
第1金属シートと、
前記第1金属シート上に設けられた第2金属シートと、
前記第1金属シートと前記第2金属シートとの間に設けられた密封空間であって、前記作動液の蒸気が通る蒸気流路部と、液状の前記作動液が通る液流路部と、を有する密封空間と、を備え、
前記液流路部は、前記第1金属シートの前記第2金属シートの側の面に設けられ、
前記液流路部は、各々が第1方向に延びて液状の前記作動液が通る第1主流溝、第2主流溝および第3主流溝を有し、
前記第1主流溝、前記第2主流溝および前記第3主流溝は、前記第1方向に直交する第2方向にこの順に配置され、
前記第1主流溝と前記第2主流溝との間に、第1連絡溝を介して前記第1方向に配列された複数の第1凸部を含む第1凸部列が設けられ、
前記第2主流溝と前記第3主流溝との間に、第2連絡溝を介して前記第1方向に配列された複数の第2凸部を含む第2凸部列が設けられ、
前記第1連絡溝は、前記第1主流溝と前記第2主流溝とを連通し、
前記第2連絡溝は、前記第2主流溝と前記第3主流溝とを連通し、
前記第2主流溝は、前記第1連絡溝の少なくとも一部が前記第2凸部に対向する第1交差部と、前記第2連絡溝の少なくとも一部が前記第1凸部に対向する第2交差部と、を含んでいる、ベーパーチャンバ、
を提供する。
The present invention
A vapor chamber filled with hydraulic fluid,
a first metal sheet;
a second metal sheet provided on the first metal sheet;
a sealed space provided between the first metal sheet and the second metal sheet, a vapor flow path section through which vapor of the working fluid passes, and a liquid flow path section through which the liquid working fluid passes; a sealed space having;
The liquid flow path portion is provided on a surface of the first metal sheet on the second metal sheet side,
The liquid flow path portion has a first mainstream groove, a second mainstream groove, and a third mainstream groove, each of which extends in a first direction and through which the liquid working fluid passes;
The first mainstream groove, the second mainstream groove, and the third mainstream groove are arranged in this order in a second direction perpendicular to the first direction,
A first protrusion row including a plurality of first protrusions arranged in the first direction via a first communication groove is provided between the first main flow groove and the second main flow groove,
A second protrusion row including a plurality of second protrusions arranged in the first direction via a second communication groove is provided between the second main flow groove and the third main flow groove,
The first communication groove communicates the first mainstream groove and the second mainstream groove,
The second communication groove communicates the second mainstream groove with the third mainstream groove,
The second main flow groove includes a first intersection portion where at least a portion of the first communication groove faces the second convex portion, and a first intersection portion where at least a portion of the second communication groove faces the first convex portion. a vapor chamber comprising: two intersections;
I will provide a.

なお、上述したベーパーチャンバにおいて、
前記第2主流溝の前記第1交差部と前記第2交差部は、互いに隣り合っている、
ようにしてもよい。
In addition, in the vapor chamber mentioned above,
the first intersection and the second intersection of the second mainstream groove are adjacent to each other;
You can do it like this.

また、上述したベーパーチャンバにおいて、
前記第2主流溝は、複数の前記第1交差部と、複数の前記第2交差部と、を含み、
前記第2主流溝の前記第1交差部と前記第2交差部は、交互に配置されている、
ようにしてもよい。
Moreover, in the vapor chamber mentioned above,
The second mainstream groove includes a plurality of the first intersections and a plurality of the second intersections,
The first intersection portions and the second intersection portions of the second mainstream groove are alternately arranged;
You can do it like this.

また、上述したベーパーチャンバにおいて、
前記液流路部は、前記第1方向に延びて液状の前記作動液が通る第4主流溝を更に有し、
前記第4主流溝は、前記第3主流溝に対して前記第2主流溝の側とは反対側に配置され、
前記第3主流溝と前記第4主流溝との間に、第3連絡溝を介して前記第1方向に配列された複数の第3凸部を含む第3凸部列が設けられ、
前記第3連絡溝は、前記第3主流溝と前記第4主流溝とを連通し、
前記第3主流溝は、前記第2連絡溝の少なくとも一部が前記第3凸部に対向する第1交差部と、前記第3連絡溝の少なくとも一部が前記第2凸部に対向する第2交差部と、を含んでいる、
ようにしてもよい。
In addition, in the vapor chamber described above,
the liquid flow path portion further includes a fourth main groove extending in the first direction and through which the liquid working fluid passes,
the fourth mainstream groove is disposed on an opposite side to the second mainstream groove with respect to the third mainstream groove,
a third convex portion row including a plurality of third convex portions arranged in the first direction via a third connecting groove is provided between the third main groove and the fourth main groove,
the third communication groove communicates the third main groove with the fourth main groove,
the third main groove includes a first intersection portion where at least a portion of the second communication groove faces the third convex portion, and a second intersection portion where at least a portion of the third communication groove faces the second convex portion.
This may be done.

また、上述したベーパーチャンバにおいて、
前記第3主流溝の前記第1交差部と前記第2交差部は、互いに隣り合っている、
ようにしてもよい。
Moreover, in the vapor chamber mentioned above,
The first intersection and the second intersection of the third mainstream groove are adjacent to each other,
You can do it like this.

また、上述したベーパーチャンバにおいて、
前記第3主流溝は、複数の前記第1交差部と、複数の前記第2交差部と、を含み、
前記第3主流溝の前記第1交差部と前記第2交差部は、交互に配置されている、
ようにしてもよい。
Moreover, in the vapor chamber mentioned above,
The third mainstream groove includes a plurality of the first intersections and a plurality of the second intersections,
The first intersecting portions and the second intersecting portions of the third mainstream groove are alternately arranged;
You can do it like this.

また、上述したベーパーチャンバにおいて、
前記第2金属シートは、前記第1金属シートの前記第2金属シートの側の面に当接するとともに前記第2主流溝を覆う平坦状の当接面を有している、
ようにしてもよい。
In addition, in the vapor chamber described above,
the second metal sheet has a flat abutment surface that abuts against a surface of the first metal sheet on the second metal sheet side and covers the second main groove,
This may be done.

また、上述したベーパーチャンバにおいて、
前記第2主流溝の幅は、前記第1凸部の幅および前記第2凸部の幅よりも大きい、
ようにしてもよい。
Moreover, in the vapor chamber mentioned above,
The width of the second mainstream groove is larger than the width of the first convex portion and the width of the second convex portion.
You can do it like this.

また、上述したベーパーチャンバにおいて、
前記第1連絡溝の幅は、前記第1主流溝の幅および前記第2主流溝の幅よりも大きく、 前記第2連絡溝の幅は、前記第2主流溝の幅および前記第3主流溝の幅よりも大きい、ようにしてもよい。
Moreover, in the vapor chamber mentioned above,
The width of the first communication groove is larger than the width of the first main flow groove and the width of the second main flow groove, and the width of the second communication groove is larger than the width of the second main flow groove and the third main flow groove. It may be larger than the width of .

また、上述したベーパーチャンバにおいて、
前記第1連絡溝の深さは、前記第1主流溝の深さおよび前記第2主流溝の深さよりも深く、
前記第2連絡溝の深さは、前記第2主流溝の深さおよび前記第3主流溝の深さよりも深い、
ようにしてもよい。
Moreover, in the vapor chamber mentioned above,
The depth of the first communication groove is deeper than the depth of the first mainstream groove and the depth of the second mainstream groove,
The depth of the second communication groove is deeper than the depth of the second mainstream groove and the depth of the third mainstream groove,
You can do it like this.

また、上述したベーパーチャンバにおいて、
前記第2主流溝の前記第1交差部の深さおよび前記第2交差部の深さは、前記第2主流溝のうち互いに隣り合う前記第1凸部と前記第2凸部との間の部分の深さよりも深い、
ようにしてもよい。
Moreover, in the vapor chamber mentioned above,
The depth of the first intersecting portion and the depth of the second intersecting portion of the second mainstream groove are determined by the depth between the first convex portion and the second convex portion that are adjacent to each other in the second mainstream groove. deeper than the depth of the part,
You can do it like this.

また、上述したベーパーチャンバにおいて、
前記第2主流溝の前記第1交差部の深さおよび前記第2交差部の深さは、前記第1連絡溝の深さおよび前記第2連絡溝の深さよりも深い、
ようにしてもよい。
Moreover, in the vapor chamber mentioned above,
The depth of the first intersection and the second intersection of the second mainstream groove are deeper than the first communication groove and the second communication groove,
You can do it like this.

また、上述したベーパーチャンバにおいて、
前記第1凸部は、前記第1方向における両端部に設けられた一対の第1凸部端部と、一対の前記第1凸部端部の間に設けられた第1凸部中間部と、を含み、
前記第1凸部中間部の幅は、前記第1凸部端部の幅よりも小さい、
ようにしてもよい。
In addition, in the vapor chamber described above,
the first protrusion includes a pair of first protrusion end portions provided at both ends in the first direction, and a first protrusion intermediate portion provided between the pair of first protrusion end portions,
The width of the first protrusion middle portion is smaller than the width of the first protrusion end portion.
This may be done.

また、上述したベーパーチャンバにおいて、
前記第1凸部の角部に、丸みを帯びた湾曲部が設けられている、
ようにしてもよい。
In addition, in the vapor chamber described above,
The first protrusion has a rounded corner.
This may be done.

また、上述したベーパーチャンバにおいて、
前記第2金属シートは、前記第2金属シートの前記第1金属シートの側の面から、前記第1金属シートの前記第1主流溝、前記第2主流溝および前記第3主流溝にそれぞれ突出する複数の主流溝凸部を有している、
ようにしてもよい。
In addition, in the vapor chamber described above,
the second metal sheet has a plurality of main groove convex portions protruding from a surface of the second metal sheet facing the first metal sheet into the first main groove, the second main groove, and the third main groove of the first metal sheet, respectively.
This may be done.

また、上述したベーパーチャンバにおいて、
前記主流溝凸部の横断面は、湾曲状に形成されている、
ようにしてもよい。
In addition, in the vapor chamber described above,
The cross section of the main groove convex portion is formed in a curved shape.
This may be done.

また、上述したベーパーチャンバにおいて、
前記第2金属シートは、前記第2金属シートの前記第1金属シートの側の面から、前記第1金属シートの前記第1連絡溝および前記第2連絡溝にそれぞれ突出する複数の連絡溝凸部を有している、
ようにしてもよい。
Moreover, in the vapor chamber mentioned above,
The second metal sheet has a plurality of communication groove protrusions that protrude from a surface of the second metal sheet on the side of the first metal sheet to the first communication groove and the second communication groove of the first metal sheet, respectively. has a section,
You can do it like this.

また、上述したベーパーチャンバにおいて、
前記連絡溝凸部の横断面は、湾曲状に形成されている、
ようにしてもよい。
Moreover, in the vapor chamber mentioned above,
A cross section of the communicating groove convex portion is formed in a curved shape.
You can do it like this.

また、本発明は、
ハウジングと、
前記ハウジング内に収容されたデバイスと、
前記デバイスに熱的に接触した、上述のベーパーチャンバと、を備えた、電子機器、
を提供する。
The present invention also provides a method for producing a method for manufacturing a semiconductor device comprising the steps of:
Housing and
A device contained within the housing; and
an electronic device comprising: a vapor chamber as described above in thermal contact with the device;
I will provide a.

また、本発明は、
作動液が封入された、前記作動液の蒸気が通る蒸気流路部と、液状の前記作動液が通る液流路部と、を含む密封空間を有するベーパーチャンバのためのベーパーチャンバ用金属シートであって、
前記第1面と、
前記第1面とは反対側に設けられた第2面と、を備え、
前記第1面に、前記液流路部が設けられ、
前記液流路部は、各々が第1方向に延びて液状の前記作動液が通る第1主流溝、第2主流溝および第3主流溝を有し、
前記第1主流溝、前記第2主流溝および前記第3主流溝は、前記第1方向に直交する第2方向にこの順に配置され、
前記第1主流溝と前記第2主流溝との間に、第1連絡溝を介して前記第1方向に配列された複数の第1凸部を含む第1凸部列が設けられ、
前記第2主流溝と前記第3主流溝との間に、第2連絡溝を介して前記第1方向に配列された複数の第2凸部を含む第2凸部列が設けられ、
前記第1連絡溝は、前記第1主流溝と前記第2主流溝とを連通し、
前記第2連絡溝は、前記第2主流溝と前記第3主流溝とを連通し、
前記第2主流溝は、前記第1連絡溝の少なくとも一部が前記第2凸部に対向する第1交差部と、前記第2連絡溝の少なくとも一部が前記第1凸部に対向する第2交差部と、を含んでいる、ベーパーチャンバ用金属シート、
を提供する。
The present invention also provides a method for producing a method for manufacturing a semiconductor device comprising the steps of:
A metal sheet for a vapor chamber for a vapor chamber having a sealed space including a vapor flow path portion through which a vapor of the working liquid passes and a liquid flow path portion through which the liquid working liquid passes,
The first surface;
A second surface provided on the opposite side to the first surface,
The liquid flow path portion is provided on the first surface,
the liquid flow path portion has a first mainstream groove, a second mainstream groove, and a third mainstream groove, each extending in a first direction and through which the liquid working fluid passes,
the first mainstream groove, the second mainstream groove, and the third mainstream groove are arranged in this order in a second direction perpendicular to the first direction,
a first convex-portion row including a plurality of first convex portions arranged in the first direction via a first connecting groove is provided between the first main groove and the second main groove,
a second convex portion row including a plurality of second convex portions arranged in the first direction via a second connecting groove is provided between the second main groove and the third main groove,
the first communication groove communicates the first main groove and the second main groove,
the second communication groove communicates the second main groove and the third main groove,
the second main groove includes a first intersection portion where at least a portion of the first communication groove faces the second convex portion, and a second intersection portion where at least a portion of the second communication groove faces the first convex portion;
I will provide a.

また、本発明は、
第1金属シートと第2金属シートとの間に設けられた、作動液が封入される密封空間であって、前記作動液の蒸気が通る蒸気流路部と、液状の前記作動液が通る液流路部と、を含む密封空間を有するベーパーチャンバの製造方法であって、
ハーフエッチングにより、前記第1金属シートの前記第2金属シートの側の面に前記液流路部を形成するハーフエッチング工程と、
前記第1金属シートと前記第2金属シートとを接合する接合工程であって、前記第1金属シートと前記第2金属シートとの間に前記密封空間を形成する接合工程と、
前記密封空間に前記作動液を封入する封入工程と、を備え、
前記液流路部は、各々が第1方向に延びて液状の前記作動液が通る第1主流溝、第2主流溝および第3主流溝を有し、
前記第1主流溝、前記第2主流溝および前記第3主流溝は、前記第1方向に直交する第2方向にこの順に配置され、
前記第1主流溝と前記第2主流溝との間に、第1連絡溝を介して前記第1方向に配列された複数の第1凸部を含む第1凸部列が設けられ、
前記第2主流溝と前記第3主流溝との間に、第2連絡溝を介して前記第1方向に配列された複数の第2凸部を含む第2凸部列が設けられ、
前記第1連絡溝は、前記第1主流溝と前記第2主流溝とを連通し、
前記第2連絡溝は、前記第2主流溝と前記第3主流溝とを連通し、
前記第2主流溝は、前記第1連絡溝の少なくとも一部が前記第2凸部に対向する第1交差部と、前記第2連絡溝の少なくとも一部が前記第1凸部に対向する第2交差部と、を含んでいる、ベーパーチャンバの製造方法、
を提供する。
The present invention also provides a method for producing a method for manufacturing a semiconductor device comprising the steps of:
A method for manufacturing a vapor chamber having a sealed space provided between a first metal sheet and a second metal sheet, in which a working fluid is sealed, the sealed space including a vapor flow path portion through which vapor of the working fluid passes and a liquid flow path portion through which the working fluid in a liquid state passes,
a half-etching step of forming the liquid flow path portion on a surface of the first metal sheet on the side of the second metal sheet by half-etching;
a joining step of joining the first metal sheet and the second metal sheet, the joining step forming the sealed space between the first metal sheet and the second metal sheet;
and a sealing step of sealing the hydraulic fluid in the sealed space,
the liquid flow path portion has a first mainstream groove, a second mainstream groove, and a third mainstream groove, each extending in a first direction and through which the liquid working fluid passes,
the first mainstream groove, the second mainstream groove, and the third mainstream groove are arranged in this order in a second direction perpendicular to the first direction,
a first convex-portion row including a plurality of first convex portions arranged in the first direction via a first connecting groove is provided between the first main groove and the second main groove,
a second convex portion row including a plurality of second convex portions arranged in the first direction via a second connecting groove is provided between the second main groove and the third main groove,
the first communication groove communicates the first main groove and the second main groove,
the second communication groove communicates the second main groove and the third main groove,
a second main groove including a first intersection portion where at least a portion of the first communication groove faces the second convex portion, and a second intersection portion where at least a portion of the second communication groove faces the first convex portion;
I will provide a.

本発明によれば、液流路部の流路断面積を確保して液状の作動液の輸送機能を向上させ、熱輸送効率を向上させることができる。 According to the present invention, the cross-sectional area of the liquid flow path section can be secured, improving the transport function of the liquid working fluid and improving the heat transport efficiency.

図1は、本発明の第1の実施の形態による電子機器を説明する模式斜視図である。FIG. 1 is a schematic perspective view illustrating an electronic device according to a first embodiment of the present invention. 図2は、本発明の第1の実施の形態によるベーパーチャンバを示す上面図である。FIG. 2 is a top view showing a vapor chamber according to a first embodiment of the present invention. 図3は、図2のベーパーチャンバを示すA-A線断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view of the vapor chamber taken along line AA of FIG. 図4は、図2の下側金属シートの上面図である。FIG. 4 is a top view of the lower metal sheet of FIG. 図5は、図2の上側金属シートの下面図である。FIG. 5 is a bottom view of the upper metal sheet of FIG. 図6は、図4の液流路部を示す拡大上面図である。FIG. 6 is an enlarged top view showing the liquid flow path portion of FIG. 図7は、図6のB-B線断面に、上側金属シートの上側流路壁部を追加して示す断面図である。FIG. 7 is a cross-sectional view showing the cross section taken along line BB of FIG. 6, with the upper flow passage wall of the upper metal sheet being added thereto. 図8は、本発明の第1の実施の形態のベーパーチャンバの製造方法において、下側金属シートの準備工程を説明するための図である。FIG. 8 is a diagram for explaining the step of preparing the lower metal sheet in the vapor chamber manufacturing method according to the first embodiment of the present invention. 図9は、本発明の第1の実施の形態のベーパーチャンバの製造方法において、下側金属シートの第1ハーフエッチング工程を説明するための図である。FIG. 9 is a diagram for explaining the first half-etching step of the lower metal sheet in the vapor chamber manufacturing method according to the first embodiment of the present invention. 図10は、本発明の第1の実施の形態のベーパーチャンバの製造方法において、下側金属シートの第2ハーフエッチング工程を説明するための図である。FIG. 10 is a diagram for explaining a second half-etching step of the lower metal sheet in the manufacturing method of the vapor chamber according to the first embodiment of the present invention. 図11は、本発明の第1の実施の形態のベーパーチャンバの製造方法において、仮止め工程を説明するための図である。FIG. 11 is a diagram for explaining a temporary fixing step in the vapor chamber manufacturing method according to the first embodiment of the present invention. 図12は、本発明の第1の実施の形態のベーパーチャンバの製造方法において、恒久接合工程を説明するための図である。FIG. 12 is a diagram for explaining a permanent joining step in the manufacturing method of the vapor chamber according to the first embodiment of the present invention. 図13は、本発明の第1の実施の形態のベーパーチャンバの製造方法において、作動液の封入工程を説明するための図である。FIG. 13 is a diagram for explaining the step of sealing in the working liquid in the manufacturing method of the vapor chamber according to the first embodiment of the present invention. 図14は、図6の変形例を示す図である。FIG. 14 is a diagram showing a modification of FIG. 6. 図15は、図6に示す液流路凸部の変形例を示す上面図である。FIG. 15 is a top view showing a modification of the liquid flow path convex portion shown in FIG. 図16は、図6に示す液流路凸部の他の変形例を示す上面図である。FIG. 16 is a top view showing another modified example of the liquid flow path convex portion shown in FIG. 図17は、図6の他の変形例を示す図である。FIG. 17 is a diagram showing another modification of FIG. 6. 図18は、図3の他の変形例を示す図である。FIG. 18 is a diagram showing another modification of FIG. 3. 図19は、本発明の第2の実施の形態におけるベーパーチャンバにおいて、液流路部を示す拡大上面図である。FIG. 19 is an enlarged top view showing the liquid flow path section in the vapor chamber according to the second embodiment of the present invention. 図20は、図19のC-C線断面に、上側金属シートの上側流路壁部を追加して示す断面図である。FIG. 20 is a cross-sectional view showing the cross section taken along line CC of FIG. 19, with the upper flow passage wall of the upper metal sheet being added. 図21は、図19のD-D線断面に、上側金属シートの上側流路壁部を追加して示す断面図である。FIG. 21 is a cross-sectional view showing the upper flow path wall portion of the upper metal sheet added to the cross-section taken along the line DD in FIG. 19. 図22は、図19のE-E線断面に、上側金属シートの上側流路壁部を追加して示す断面図である。FIG. 22 is a cross-sectional view showing the cross section taken along the line E--E of FIG. 19, with the upper flow passage wall of the upper metal sheet added. 図23は、本発明の第3の実施の形態におけるベーパーチャンバにおいて、主流溝凸部を示す拡大断面図であって、図20に対応する図である。FIG. 23 is an enlarged sectional view showing the main groove convex portion in the vapor chamber according to the third embodiment of the present invention, and is a view corresponding to FIG. 20. 図24は、本発明の第3の実施の形態におけるベーパーチャンバにおいて、連絡溝凸部を示す拡大断面図であって、図21に対応する図である。FIG. 24 is an enlarged sectional view showing the connecting groove convex portion in the vapor chamber according to the third embodiment of the present invention, and is a view corresponding to FIG. 21. 図25は、本発明の第3の実施の形態におけるベーパーチャンバにおいて、連絡溝凸部を示す拡大断面図であって、図22に対応する図である。FIG. 25 is an enlarged sectional view showing the connecting groove convex portion in the vapor chamber according to the third embodiment of the present invention, and is a view corresponding to FIG. 22.

以下、図面を参照して本発明の実施の形態について説明する。なお、本明細書に添付する図面においては、図示と理解のしやすさの便宜上、適宜縮尺及び縦横の寸法比等を、実物のそれらから変更し誇張してある。 The following describes an embodiment of the present invention with reference to the drawings. Note that in the drawings attached to this specification, the scale and aspect ratios have been appropriately altered and exaggerated from those of the actual objects for the sake of ease of illustration and understanding.

(第1の実施の形態)
図1乃至図18を用いて、本発明の第1の実施の形態におけるベーパーチャンバ、電子機器、ベーパーチャンバ用金属シートおよびベーパーチャンバの製造方法について説明する。本実施の形態におけるベーパーチャンバ1は、電子機器Eに収容された発熱体としてのデバイスDを冷却するために、電子機器Eに搭載される装置である。デバイスDの例としては、携帯端末やタブレット端末といったモバイル端末等で使用される中央演算処理装置(CPU)や発光ダイオード(LED)、パワートランジスタ等の発熱を伴う電子デバイス(被冷却装置)が挙げられる。
(First embodiment)
A vapor chamber, an electronic device, a metal sheet for a vapor chamber, and a method for manufacturing a vapor chamber according to a first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 to 18. The vapor chamber 1 in this embodiment is a device installed in the electronic device E in order to cool a device D as a heating element housed in the electronic device E. Examples of device D include electronic devices that generate heat (cooled devices) such as central processing units (CPUs), light emitting diodes (LEDs), and power transistors used in mobile terminals such as mobile terminals and tablet terminals. It will be done.

ここではまず、本実施の形態によるベーパーチャンバ1が搭載される電子機器Eについて、タブレット端末を例にとって説明する。図1に示すように、電子機器E(タブレット端末)は、ハウジングHと、ハウジングH内に収容されたデバイスDと、ベーパーチャンバ1と、を備えている。図1に示す電子機器Eでは、ハウジングHの前面にタッチパネルディスプレイTDが設けられている。ベーパーチャンバ1は、ハウジングH内に収容されて、デバイスDに熱的に接触するように配置される。このことにより、電子機器Eの使用時にデバイスDで発生する熱をベーパーチャンバ1が受けることができる。ベーパーチャンバ1が受けた熱は、後述する作動液2を介してベーパーチャンバ1の外部に放出される。このようにして、デバイスDは効果的に冷却される。電子機器Eがタブレット端末である場合には、デバイスDは、中央演算処理装置等に相当する。 Here, first, the electronic device E equipped with the vapor chamber 1 according to the present embodiment will be described using a tablet terminal as an example. As shown in FIG. 1, the electronic device E (tablet terminal) includes a housing H, a device D housed in the housing H, and a vapor chamber 1. In the electronic device E shown in FIG. 1, a touch panel display TD is provided on the front surface of the housing H. The vapor chamber 1 is housed in the housing H and arranged so as to be in thermal contact with the device D. This allows the vapor chamber 1 to receive heat generated in the device D when the electronic device E is in use. The heat received by the vapor chamber 1 is released to the outside of the vapor chamber 1 via the working liquid 2 described later. In this way, the device D is effectively cooled. When the electronic device E is a tablet terminal, the device D corresponds to a central processing unit or the like.

次に、本実施の形態によるベーパーチャンバ1について説明する。ベーパーチャンバ1は、作動液2が封入された密封空間3を有しており、密封空間3内の作動液2が相変化を繰り返すことにより、上述した電子機器EのデバイスDを効果的に冷却するようになっている。 Next, the vapor chamber 1 according to this embodiment will be described. The vapor chamber 1 has a sealed space 3 in which a working liquid 2 is sealed, and the working liquid 2 in the sealed space 3 repeatedly changes phase, thereby effectively cooling the device D of the electronic device E described above.

ベーパーチャンバ1は、概略的に薄い平板状に形成されている。ベーパーチャンバ1の平面形状は任意であるが、図2に示すような矩形状であってもよい。この場合、ベーパーチャンバ1は、平面外輪郭をなす4つの直線状の外縁1a、1bを有する。このうち2つの外縁1aが、後述する第1方向Xに沿うように形成され、残りの2つの外縁1bが、後述する第2方向Yに沿うように形成される。ベーパーチャンバ1の平面形状は、例えば、1辺が1cmで他の辺が3cmの長方形であってもよく、1辺が15cmの正方形であってもよく、ベーパーチャンバ1の平面寸法は任意である。 The vapor chamber 1 is generally formed into a thin flat plate shape. Although the planar shape of the vapor chamber 1 is arbitrary, it may be rectangular as shown in FIG. In this case, the vapor chamber 1 has four straight outer edges 1a, 1b forming an out-of-plane contour. Two of the outer edges 1a are formed along a first direction X, which will be described later, and the remaining two outer edges 1b are formed along a second direction Y, which will be described later. The planar shape of the vapor chamber 1 may be, for example, a rectangle with one side of 1 cm and the other side of 3 cm, or a square with one side of 15 cm, and the planar dimensions of the vapor chamber 1 are arbitrary. .

図2および図3に示すように、ベーパーチャンバ1は、上面10a(第1面)と、上面10aとは反対側に設けられた下面10b(第2面)とを有する下側金属シート10(第1金属シート)と、下側金属シート10上に設けられた上側金属シート20(第2金属シート)と、を備えている。下側金属シート10および上側金属シート20は、いずれもベーパーチャンバ用金属シートに相当する。上側金属シート20は、下側金属シート10の上面10a(上側金属シート20の側の面)に重ね合わされた下面20a(下側金属シート10の側の面)と、下面20aとは反対側に設けられた上面20bと、を有している。下側金属シート10の下面10b(とりわけ、後述する蒸発部11の下面)に、冷却対象物であるデバイスDが取り付けられる。 2 and 3, the vapor chamber 1 includes a lower metal sheet 10 (first metal sheet) having an upper surface 10a (first surface) and a lower surface 10b (second surface) provided on the opposite side of the upper surface 10a, and an upper metal sheet 20 (second metal sheet) provided on the lower metal sheet 10. The lower metal sheet 10 and the upper metal sheet 20 each correspond to a metal sheet for a vapor chamber. The upper metal sheet 20 has a lower surface 20a (the surface on the lower metal sheet 10 side) superimposed on the upper surface 10a (the surface on the upper metal sheet 20 side) of the lower metal sheet 10, and an upper surface 20b provided on the opposite side of the lower surface 20a. A device D, which is an object to be cooled, is attached to the lower surface 10b of the lower metal sheet 10 (particularly the lower surface of the evaporation section 11 described later).

ベーパーチャンバ1の厚さは、例えば0.1mm~1.0mmである。図3では、下側金属シート10の厚さT1および上側金属シート20の厚さT2が等しい場合を示しているが、これに限られることはなく、下側金属シート10の厚さT1と上側金属シート20の厚さT2は、等しくなくてもよい。 The thickness of the vapor chamber 1 is, for example, 0.1 mm to 1.0 mm. Although FIG. 3 shows a case where the thickness T1 of the lower metal sheet 10 and the thickness T2 of the upper metal sheet 20 are equal, the invention is not limited to this, and the thickness T1 of the lower metal sheet 10 and the thickness T2 of the upper metal sheet The thicknesses T2 of the metal sheets 20 do not have to be equal.

下側金属シート10と上側金属シート20との間には、作動液2が封入された密封空間3が形成されている。本実施の形態では、密封空間3は、主として作動液2の蒸気が通る蒸気流路部(後述する下側蒸気流路凹部12および上側蒸気流路凹部21)と、主として液状の作動液2が通る液流路部30と、を有している。作動液2の例としては、純水、エタノール、メタノール、アセトン等が挙げられる。 Between the lower metal sheet 10 and the upper metal sheet 20, a sealed space 3 is formed in which the working fluid 2 is sealed. In this embodiment, the sealed space 3 has a vapor flow path portion (a lower vapor flow path recess 12 and an upper vapor flow path recess 21 described later) through which the vapor of the working fluid 2 mainly passes, and a liquid flow path portion 30 through which the liquid working fluid 2 mainly passes. Examples of the working fluid 2 include pure water, ethanol, methanol, acetone, etc.

下側金属シート10と上側金属シート20とは、後述する拡散接合によって接合されている。図2および図3に示す形態では、下側金属シート10および上側金属シート20は、平面視でいずれも矩形状に形成されている例が示されているが、これに限られることはない。ここで平面視とは、ベーパーチャンバ1がデバイスDから熱を受ける面(下側金属シート10の下面10b)、および受けた熱を放出する面(上側金属シート20の上面20b)に直交する方向から見た状態であって、例えば、ベーパーチャンバ1を上方から見た状態(図2参照)、または下方から見た状態に相当している。 The lower metal sheet 10 and the upper metal sheet 20 are joined by diffusion bonding, which will be described later. In the embodiment shown in FIG. 2 and FIG. 3, the lower metal sheet 10 and the upper metal sheet 20 are both formed in a rectangular shape in a plan view, but this is not limited to this. Here, a plan view refers to a state in which the vapor chamber 1 is viewed from a direction perpendicular to the surface that receives heat from the device D (the lower surface 10b of the lower metal sheet 10) and the surface that releases the received heat (the upper surface 20b of the upper metal sheet 20), and corresponds to, for example, a state in which the vapor chamber 1 is viewed from above (see FIG. 2) or from below.

なお、ベーパーチャンバ1がモバイル端末内に設置される場合、モバイル端末の姿勢によっては、下側金属シート10と上側金属シート20との上下関係が崩れる場合もある。しかしながら、本実施の形態では、便宜上、デバイスDから熱を受ける金属シートを下側金属シート10と称し、受けた熱を放出する金属シートを上側金属シート20と称して、下側金属シート10が下側に配置され、上側金属シート20が上側に配置された状態で説明する。 When the vapor chamber 1 is installed inside a mobile terminal, the vertical relationship between the lower metal sheet 10 and the upper metal sheet 20 may be lost depending on the attitude of the mobile terminal. However, in this embodiment, for convenience, the metal sheet that receives heat from the device D is referred to as the lower metal sheet 10, and the metal sheet that dissipates the received heat is referred to as the upper metal sheet 20, and the description will be given with the lower metal sheet 10 arranged on the lower side and the upper metal sheet 20 arranged on the upper side.

図4に示すように、下側金属シート10は、作動液2が蒸発して蒸気を生成する蒸発部11と、上面10aに設けられ、平面視で矩形状に形成された下側蒸気流路凹部12(第1蒸気流路凹部)と、を有している。このうち下側蒸気流路凹部12は、上述した密封空間3の一部を構成しており、主として、蒸発部11で生成された蒸気が通るように構成されている。 As shown in FIG. 4, the lower metal sheet 10 has an evaporation section 11 where the working fluid 2 evaporates to generate steam, and a lower steam flow path recess 12 (first steam flow path recess) that is provided on the upper surface 10a and has a rectangular shape in a plan view. Of these, the lower steam flow path recess 12 constitutes a part of the above-mentioned sealed space 3, and is configured mainly to allow the steam generated in the evaporation section 11 to pass through.

蒸発部11は、この下側蒸気流路凹部12内に配置されており、下側蒸気流路凹部12内の蒸気は、蒸発部11から離れる方向に拡散して、蒸気の多くは、比較的温度の低い周縁部に向かって輸送される。なお、蒸発部11は、下側金属シート10の下面10bに取り付けられるデバイスDから熱を受けて、密封空間3内の作動液2が蒸発する部分である。このため、蒸発部11という用語は、デバイスDに重なっている部分に限られる概念ではなく、デバイスDに重なっていなくても作動液2が蒸発可能な部分をも含む概念として用いている。ここで蒸発部11は、下側金属シート10の任意の場所に設けることができるが、図2および図4においては、下側金属シート10の中央部に設けられている例が示されている。この場合、ベーパーチャンバ1が設置されたモバイル端末の姿勢によらずに、ベーパーチャンバ1の動作の安定化を図ることができる。 The evaporator 11 is arranged within the lower vapor flow path recess 12, and the vapor in the lower vapor flow path recess 12 is diffused in the direction away from the evaporator 11, and most of the vapor is relatively small. It is transported towards the cooler periphery. The evaporation section 11 is a section where the working fluid 2 in the sealed space 3 evaporates by receiving heat from the device D attached to the lower surface 10b of the lower metal sheet 10. For this reason, the term evaporation section 11 is not limited to a portion that overlaps the device D, but is used as a concept that includes a portion where the working fluid 2 can be evaporated even if it does not overlap the device D. Here, the evaporator 11 can be provided at any location on the lower metal sheet 10, but in FIGS. 2 and 4, an example is shown in which it is provided in the center of the lower metal sheet 10. . In this case, the operation of the vapor chamber 1 can be stabilized regardless of the posture of the mobile terminal on which the vapor chamber 1 is installed.

本実施の形態では、図3および図4に示すように、下側金属シート10の下側蒸気流路凹部12内に、下側蒸気流路凹部12の底面12a(後述)から上方(底面12aに垂直な方向)に突出する複数の下側流路壁部13(第1流路壁部)が設けられている。本実施の形態では、下側流路壁部13が、ベーパーチャンバ1の第1方向X(長手方向、図4にける左右方向)に沿って細長状に延びている例が示されている。この下側流路壁部13は、後述する上側流路壁部22の下面22aに当接する上面13a(第1当接面、突出端面)を含んでいる。この上面13aは、後述する2つのエッチング工程によってエッチングされない面であり、下側金属シート10の上面10aと同一平面上に形成されている。また、各下側流路壁部13は等間隔に離間して、互いに平行に配置されている。このようにして、各下側流路壁部13の周囲を作動液2の蒸気が流れて、下側蒸気流路凹部12の周縁部に向かって蒸気が輸送されるように構成されており、蒸気の流れが妨げられることを抑制している。また、下側流路壁部13は、上側金属シート20の対応する上側流路壁部22(後述)に平面視で重なるように配置されており、ベーパーチャンバ1の機械的強度の向上を図っている。下側流路壁部13の幅w0は、例えば、0.1mm~30mm、好ましくは0.1mm~2.0mmであり、互いに隣り合う下側流路壁部13同士の間隔dは、0.1mm~30mm、好ましくは0.1mm~2.0mmである。ここで、幅w0は、下側流路壁部13の第1方向Xに直交する第2方向Yにおける下側流路壁部13の寸法を意味しており、例えば、図4における上下方向の寸法に相当する。また、下側流路壁部13の高さ(言い換えると、下側蒸気流路凹部12の深さ)h0(図3参照)は、後述する下側金属シート10の厚さT1よりも10μm以上小さいことが好ましい。この場合、厚さT1と高さh0との差、すなわち下側蒸気流路凹部12が形成された部分における下側金属シート10の金属材料の厚さを10μm以上にすることができる。このため、当該部分の強度を確保し、外気から受ける圧力に対して内側に凹むように変形することを防止できる。このような高さh0は、10μm~300μmであってもよい。例えば、ベーパーチャンバ1の厚さT0が0.5mmで、下側金属シート10の厚さT1と上側金属シート20の厚さT2が等しい場合、高さh0は、200μmとすることができる。 In this embodiment, as shown in FIG. 3 and FIG. A plurality of lower flow path wall portions 13 (first flow path wall portions) are provided that protrude in a direction perpendicular to . In this embodiment, an example is shown in which the lower flow path wall portion 13 extends in an elongated shape along the first direction X (longitudinal direction, left-right direction in FIG. 4) of the vapor chamber 1. The lower channel wall 13 includes an upper surface 13a (first contact surface, protruding end surface) that abuts a lower surface 22a of the upper channel wall 22, which will be described later. This upper surface 13a is a surface that will not be etched in the two etching steps described below, and is formed on the same plane as the upper surface 10a of the lower metal sheet 10. Further, the lower flow path wall portions 13 are arranged parallel to each other and spaced apart from each other at equal intervals. In this way, the vapor of the working fluid 2 flows around each lower flow path wall portion 13 and is configured to be transported toward the peripheral edge of the lower steam flow path recess 12, This prevents the flow of steam from being obstructed. Further, the lower channel wall portion 13 is arranged so as to overlap the corresponding upper channel wall portion 22 (described later) of the upper metal sheet 20 in plan view, and is designed to improve the mechanical strength of the vapor chamber 1. ing. The width w0 of the lower channel wall portion 13 is, for example, 0.1 mm to 30 mm, preferably 0.1 mm to 2.0 mm, and the interval d between adjacent lower channel wall portions 13 is 0.1 mm to 30 mm, preferably 0.1 mm to 2.0 mm. It is 1 mm to 30 mm, preferably 0.1 mm to 2.0 mm. Here, the width w0 means the dimension of the lower flow path wall portion 13 in the second direction Y perpendicular to the first direction X, and for example, in the vertical direction in FIG. Corresponds to the dimensions. Further, the height of the lower flow path wall portion 13 (in other words, the depth of the lower steam flow path recess 12) h0 (see FIG. 3) is 10 μm or more than the thickness T1 of the lower metal sheet 10, which will be described later. Preferably small. In this case, the difference between the thickness T1 and the height h0, that is, the thickness of the metal material of the lower metal sheet 10 in the portion where the lower steam flow path recess 12 is formed, can be set to 10 μm or more. Therefore, the strength of the portion can be ensured, and it is possible to prevent the portion from deforming inwardly in response to pressure from the outside air. Such height h0 may be 10 μm to 300 μm. For example, when the thickness T0 of the vapor chamber 1 is 0.5 mm and the thickness T1 of the lower metal sheet 10 and the thickness T2 of the upper metal sheet 20 are equal, the height h0 can be 200 μm.

図3および図4に示すように、下側金属シート10の周縁部には、下側周縁壁14が設けられている。下側周縁壁14は、密封空間3、とりわけ下側蒸気流路凹部12を囲むように形成されており、密封空間3を画定している。また、平面視で下側周縁壁14の四隅に、下側金属シート10と上側金属シート20との位置決めをするための下側アライメント孔15がそれぞれ設けられている。 As shown in Figures 3 and 4, a lower peripheral wall 14 is provided on the peripheral portion of the lower metal sheet 10. The lower peripheral wall 14 is formed to surround the sealed space 3, particularly the lower steam flow path recess 12, and defines the sealed space 3. In addition, lower alignment holes 15 are provided at the four corners of the lower peripheral wall 14 in a plan view to position the lower metal sheet 10 and the upper metal sheet 20.

本実施の形態では、上側金属シート20は、後述する液流路部30が設けられていない点を除けば、下側金属シート10と略同一の構造を有している。以下に、上側金属シート20の構成についてより詳細に説明する。 In this embodiment, the upper metal sheet 20 has substantially the same structure as the lower metal sheet 10, except that a liquid flow path section 30, which will be described later, is not provided. Below, the structure of the upper metal sheet 20 will be explained in more detail.

図3および図5に示すように、上側金属シート20は、下面20aに設けられた上側蒸気流路凹部21(第2蒸気流路凹部)を有している。この上側蒸気流路凹部21は、密封空間3の一部を構成しており、主として、蒸発部11で生成された蒸気を拡散して冷却するように構成されている。より具体的には、上側蒸気流路凹部21内の蒸気は、蒸発部11から離れる方向に拡散して、蒸気の多くは、比較的温度の低い周縁部に向かって輸送される。また、図3に示すように、上側金属シート20の上面20bには、モバイル端末等のハウジングH(図1参照)の一部を構成するハウジング部材Haが配置される。このことにより、上側蒸気流路凹部21内の蒸気は、上側金属シート20およびハウジング部材Haを介して外部によって冷却される。 3 and 5, the upper metal sheet 20 has an upper steam flow path recess 21 (second steam flow path recess) provided on the lower surface 20a. This upper steam flow path recess 21 constitutes a part of the sealed space 3, and is mainly configured to diffuse and cool the steam generated in the evaporation section 11. More specifically, the steam in the upper steam flow path recess 21 diffuses in a direction away from the evaporation section 11, and most of the steam is transported toward the peripheral portion where the temperature is relatively low. Also, as shown in FIG. 3, a housing member Ha constituting a part of the housing H (see FIG. 1) of a mobile terminal or the like is arranged on the upper surface 20b of the upper metal sheet 20. As a result, the steam in the upper steam flow path recess 21 is cooled by the outside via the upper metal sheet 20 and the housing member Ha.

本実施の形態では、図2、図3および図5に示すように、上側金属シート20の上側蒸気流路凹部21内に、上側蒸気流路凹部21の底面21aから下方(底面21aに垂直な方向)に突出する複数の上側流路壁部22(第2流路壁部)が設けられている。本実施の形態では、上側流路壁部22がベーパーチャンバ1の第1方向X(図5における左右方向)に沿って細長状に延びている例が示されている。この上側流路壁部22は、下側金属シート10の上面10a(より具体的には、上述した下側流路壁部13の上面13a)に当接するとともに液流路部30を覆う平坦状の下面22a(第2当接面、突出端面)を含んでいる。また、各上側流路壁部22は、等間隔に離間して、互いに平行に配置されている。このようにして、各上側流路壁部22の周囲を作動液2の蒸気が流れて、上側蒸気流路凹部21の周縁部に向かって蒸気が輸送されるように構成されており、蒸気の流れが妨げられることを抑制している。また、上側流路壁部22は、下側金属シート10の対応する下側流路壁部13に平面視で重なるように配置されており、ベーパーチャンバ1の機械的強度の向上を図っている。なお、上側流路壁部22の幅、高さは、上述した下側流路壁部13の幅w0、高さh0と同一であることが好適である。ここで、上側蒸気流路凹部21の底面21aは、図3等に示すような下側金属シート10と上側金属シート20との上下配置関係では、天井面と言うこともできるが、上側蒸気流路凹部21の奥側の面に相当するため、本明細書では、底面21aと記す。 In this embodiment, as shown in Figs. 2, 3 and 5, a plurality of upper flow path walls 22 (second flow path walls) protruding downward (perpendicular to the bottom surface 21a) from the bottom surface 21a of the upper steam flow path recess 21 of the upper metal sheet 20 are provided in the upper steam flow path recess 21. In this embodiment, an example is shown in which the upper flow path wall 22 extends in an elongated shape along the first direction X (left-right direction in Fig. 5) of the vapor chamber 1. The upper flow path wall 22 includes a flat lower surface 22a (second abutment surface, protruding end surface) that abuts against the upper surface 10a of the lower metal sheet 10 (more specifically, the upper surface 13a of the above-mentioned lower flow path wall 13) and covers the liquid flow path portion 30. In addition, the upper flow path walls 22 are arranged parallel to each other at equal intervals. In this way, the vapor of the working fluid 2 flows around each upper flow passage wall 22, and the vapor is transported toward the periphery of the upper steam flow passage recess 21, preventing the flow of the vapor from being impeded. The upper flow passage wall 22 is arranged so as to overlap the corresponding lower flow passage wall 13 of the lower metal sheet 10 in a plan view, improving the mechanical strength of the vapor chamber 1. It is preferable that the width and height of the upper flow passage wall 22 are the same as the width w0 and height h0 of the lower flow passage wall 13 described above. Here, the bottom surface 21a of the upper steam flow passage recess 21 can be called a ceiling surface in the vertical arrangement relationship between the lower metal sheet 10 and the upper metal sheet 20 as shown in FIG. 3, etc., but since it corresponds to the back surface of the upper steam flow passage recess 21, it is referred to as the bottom surface 21a in this specification.

図3および図5に示すように、上側金属シート20の周縁部には、上側周縁壁23が設けられている。上側周縁壁23は、密封空間3、とりわけ上側蒸気流路凹部21を囲むように形成されており、密封空間3を画定している。また、平面視で上側周縁壁23の四隅に、下側金属シート10と上側金属シート20との位置決めをするための上側アライメント孔24がそれぞれ設けられている。すなわち、各上側アライメント孔24は、後述する仮止め時に、上述した各下側アライメント孔15に重なるように配置され、下側金属シート10と上側金属シート20との位置決めが可能に構成されている。 As shown in FIGS. 3 and 5, an upper peripheral wall 23 is provided at the peripheral edge of the upper metal sheet 20. As shown in FIGS. The upper peripheral wall 23 is formed to surround the sealed space 3 , particularly the upper steam passage recess 21 , and defines the sealed space 3 . Furthermore, upper alignment holes 24 for positioning the lower metal sheet 10 and the upper metal sheet 20 are provided at each of the four corners of the upper peripheral wall 23 in a plan view. That is, each upper alignment hole 24 is arranged so as to overlap each of the lower alignment holes 15 described above during temporary fixing, which will be described later, and is configured to enable positioning of the lower metal sheet 10 and the upper metal sheet 20. .

このような下側金属シート10と上側金属シート20とは、好適には拡散接合で、互いに恒久的に接合されている。より具体的には、図3に示すように、下側金属シート10の下側周縁壁14の上面14aと、上側金属シート20の上側周縁壁23の下面23aとが当接し、下側周縁壁14と上側周縁壁23とが互いに接合されている。このことにより、下側金属シート10と上側金属シート20との間に、作動液2を密封した密封空間3が形成されている。また、下側金属シート10の下側流路壁部13の上面13aと、上側金属シート20の上側流路壁部22の下面22aとが当接し、各下側流路壁部13と対応する上側流路壁部22とが互いに接合されている。このことにより、ベーパーチャンバ1の機械的強度を向上させている。とりわけ、本実施の形態による下側流路壁部13および上側流路壁部22は等間隔に配置されているため、ベーパーチャンバ1の各位置における機械的強度を均等化させることができる。なお、下側金属シート10と上側金属シート20とは、拡散接合ではなく、恒久的に接合できれば、ろう付け等の他の方式で接合されていてもよい。 Such lower metal sheet 10 and upper metal sheet 20 are permanently joined to each other, preferably by diffusion bonding. More specifically, as shown in FIG. 3, the upper surface 14a of the lower peripheral wall 14 of the lower metal sheet 10 and the lower surface 23a of the upper peripheral wall 23 of the upper metal sheet 20 abut, and the lower peripheral wall 14 and the upper peripheral wall 23 are joined to each other. As a result, a sealed space 3 in which the working fluid 2 is sealed is formed between the lower metal sheet 10 and the upper metal sheet 20. Further, the upper surface 13a of the lower channel wall portion 13 of the lower metal sheet 10 and the lower surface 22a of the upper channel wall portion 22 of the upper metal sheet 20 are in contact with each other, and correspond to each lower channel wall portion 13. The upper channel wall portions 22 are joined to each other. This improves the mechanical strength of the vapor chamber 1. In particular, since the lower flow path wall portion 13 and the upper flow path wall portion 22 according to the present embodiment are arranged at equal intervals, the mechanical strength at each position of the vapor chamber 1 can be equalized. Note that the lower metal sheet 10 and the upper metal sheet 20 may be joined by other methods such as brazing, instead of diffusion bonding, as long as they can be permanently joined.

また、図2に示すように、ベーパーチャンバ1は、第1方向Xにおける一対の端部のうちの一方の端部に、密封空間3に作動液2を注入する注入部4を更に備えている。この注入部4は、下側金属シート10の端面から突出する下側注入突出部16と、上側金属シート20の端面から突出する上側注入突出部25と、を有している。このうち下側注入突出部16の上面に下側注入流路凹部17が形成され、上側注入突出部25の下面に上側注入流路凹部26が形成されている。下側注入流路凹部17は、下側蒸気流路凹部12に連通しており、上側注入流路凹部26は、上側蒸気流路凹部21に連通している。下側注入流路凹部17および上側注入流路凹部26は、下側金属シート10と上側金属シート20とが接合された際、作動液2の注入流路を形成する。当該注入流路を通過して作動液2は密封空間3に注入される。なお、本実施の形態では、注入部4は、ベーパーチャンバ1の第1方向Xにおける一対の端部のうちの一方の端部に設けられている例が示されているが、これに限られることはない。 2, the vapor chamber 1 further includes an injection section 4 at one end of a pair of ends in the first direction X for injecting the working fluid 2 into the sealed space 3. The injection section 4 has a lower injection protrusion 16 protruding from the end face of the lower metal sheet 10 and an upper injection protrusion 25 protruding from the end face of the upper metal sheet 20. A lower injection flow path recess 17 is formed on the upper surface of the lower injection protrusion 16, and an upper injection flow path recess 26 is formed on the lower surface of the upper injection protrusion 25. The lower injection flow path recess 17 is connected to the lower steam flow path recess 12, and the upper injection flow path recess 26 is connected to the upper steam flow path recess 21. The lower injection flow path recess 17 and the upper injection flow path recess 26 form an injection flow path for the working fluid 2 when the lower metal sheet 10 and the upper metal sheet 20 are joined. The working fluid 2 is injected into the sealed space 3 through the injection flow path. In this embodiment, the injection part 4 is shown as being provided at one of a pair of ends of the vapor chamber 1 in the first direction X, but is not limited to this.

次に、下側金属シート10の液流路部30について、図3、図4、図6および図7を用いてより詳細に説明する。 Next, the liquid flow path portion 30 of the lower metal sheet 10 will be described in more detail using Figures 3, 4, 6 and 7.

図3および図4に示すように、下側金属シート10の上面10a(より具体的には、各下側流路壁部13の上面13a)に、液状の作動液2が通る液流路部30が設けられている。液流路部30は、上述した密封空間3の一部を構成しており、上述した下側蒸気流路凹部12および上側蒸気流路凹部21に連通している。 As shown in FIGS. 3 and 4, a liquid flow path portion through which the liquid working fluid 2 passes is provided on the upper surface 10a of the lower metal sheet 10 (more specifically, the upper surface 13a of each lower flow path wall portion 13). 30 are provided. The liquid flow path section 30 constitutes a part of the sealed space 3 described above, and communicates with the lower steam flow path recess 12 and the upper steam flow path recess 21 described above.

図6に示すように、液流路部30は、第1主流溝31と、第2主流溝32と、第3主流溝33と、第4主流溝34と、を有している。第1~第4主流溝31~34はそれぞれ、第1方向Xに直線状に延びて液状の作動液2が通るようになっており、上述した第2方向Yにこの順に配置されている。すなわち、第4主流溝34は、第3主流溝33に対して第2主流溝32の側とは反対側に配置されている。第1~第4主流溝31~34は、主として、蒸発部11で生成された蒸気から凝縮した作動液2を蒸発部11に向けて輸送するように構成されている。 As shown in FIG. 6, the liquid flow path section 30 has a first mainstream groove 31, a second mainstream groove 32, a third mainstream groove 33, and a fourth mainstream groove 34. The first to fourth mainstream grooves 31 to 34 each extend linearly in the first direction X to allow the liquid working fluid 2 to pass through, and are arranged in this order in the second direction Y described above. In other words, the fourth mainstream groove 34 is arranged on the opposite side of the third mainstream groove 33 from the second mainstream groove 32. The first to fourth mainstream grooves 31 to 34 are mainly configured to transport the working fluid 2 condensed from the steam generated in the evaporation section 11 toward the evaporation section 11.

第1主流溝31と第2主流溝32との間に、第1凸部列41が設けられている。この第1凸部列41は、第1方向Xに配列された複数の第1凸部41aを含んでいる。図6においては、各第1凸部41aは、平面視で、第1方向Xが長手方向となるように矩形状に形成されている。互いに隣り合う第1凸部41aの間には、第1連絡溝51が介在されている。第1連絡溝51は、第2方向Yに延びるように形成され、第1主流溝31と第2主流溝32とを連通しており、第1主流溝31と第2主流溝32との間で作動液2が往来可能になっている。第1連絡溝51は、互いに隣り合う第1凸部41aの間の領域であって、第1主流溝31と第2主流溝32との間の領域としている。 A first convex row 41 is provided between the first mainstream groove 31 and the second mainstream groove 32. This first convex row 41 includes a plurality of first convex portions 41a arranged in the first direction X. In FIG. 6, each first convex portion 41a is formed in a rectangular shape so that the first direction X is the longitudinal direction in a plan view. A first communication groove 51 is interposed between adjacent first convex portions 41a. The first communication groove 51 is formed to extend in the second direction Y, and communicates with the first mainstream groove 31 and the second mainstream groove 32, so that the working fluid 2 can move between the first mainstream groove 31 and the second mainstream groove 32. The first communication groove 51 is a region between adjacent first convex portions 41a, and is a region between the first mainstream groove 31 and the second mainstream groove 32.

第2主流溝32と第3主流溝33との間に、第2凸部列42が設けられている。この第2凸部列42は、第1方向Xに配列された複数の第2凸部42aを含んでいる。図6においては、各第2凸部42aは、平面視で、第1方向Xが長手方向となるように矩形状に形成されている。互いに隣り合う第2凸部42aの間には、第2連絡溝52が介在されている。第2連絡溝52は、第2方向Yに延びるように形成され、第2主流溝32と第3主流溝33とを連通しており、第2主流溝32と第3主流溝33との間で作動液2が往来可能になっている。第2連絡溝52は、互いに隣り合う第2凸部42aの間の領域であって、第2主流溝32と第3主流溝33との間の領域としている。 A second convex row 42 is provided between the second main flow groove 32 and the third main flow groove 33 . This second convex row 42 includes a plurality of second convex portions 42a arranged in the first direction X. In FIG. 6, each second convex portion 42a is formed in a rectangular shape so that the first direction X is the longitudinal direction in plan view. A second communication groove 52 is interposed between the second convex portions 42a adjacent to each other. The second communication groove 52 is formed to extend in the second direction Y, communicates the second mainstream groove 32 and the third mainstream groove 33, and is between the second mainstream groove 32 and the third mainstream groove 33. The hydraulic fluid 2 can flow back and forth. The second communication groove 52 is a region between the second convex portions 42a adjacent to each other, and is a region between the second mainstream groove 32 and the third mainstream groove 33.

第2主流溝32は、第1連絡溝51が連通する第1交差部P1と、第2連絡溝52が連通する第2交差部P2と、を含んでいる。 The second main groove 32 includes a first intersection P1 with which the first connecting groove 51 communicates, and a second intersection P2 with which the second connecting groove 52 communicates.

このうち第1交差部P1において、第1連絡溝51の少なくとも一部が第2凸部42aに対向している。図6に示すように、第1交差部P1において、第1連絡溝51の全体(第1連絡溝51の幅方向(第1方向X)における全領域)が第2凸部42aに対向している。このことにより、第1交差部P1の全体にわたって、第2主流溝32の第1方向Xに沿う一対の側壁35、36のうち第1連絡溝51の側とは反対側の側壁36(第2凸部42aの壁)が配置されている。図6に示す形態では、第2方向Yで見たときに、第1連絡溝51は、第2凸部42aの第1方向Xにおける中心に重なるように配置されている。このようにして、第1交差部P1において、第2主流溝32と第1連絡溝51とがT字状に交わっている。第1交差部P1は、第1方向Xにおいて互いに隣り合う主流溝本体部31a~34aの間の領域であるとともに、第2方向Yにおいて互いに隣り合う連絡溝51~54と凸部41a~44aとの間の領域としている。言い換えると、主流溝31~34と、連絡溝51~54とが交わる領域(すなわち、重なる領域)としている。ここで、第1主流溝本体部31a~34aは、第1~第4主流溝31~34の一部を構成しており、第1交差部P1と第2交差部P2との間に設けられた部分であって、互いに隣り合う凸部41a~44aの間に位置する部分である。 At the first intersection P1, at least a portion of the first communication groove 51 faces the second convex portion 42a. As shown in FIG. 6, at the first intersection P1, the entire first communication groove 51 (the entire area of the first communication groove 51 in the width direction (first direction X)) faces the second convex portion 42a. There is. As a result, the side wall 36 on the opposite side to the first communication groove 51 (the second A wall of the convex portion 42a) is arranged. In the form shown in FIG. 6, the first communication groove 51 is arranged so as to overlap the center of the second convex portion 42a in the first direction X when viewed in the second direction Y. In this way, the second main flow groove 32 and the first communication groove 51 intersect in a T-shape at the first intersection P1. The first intersection P1 is a region between the main groove main body portions 31a to 34a adjacent to each other in the first direction The area is between . In other words, the main grooves 31 to 34 and the communication grooves 51 to 54 intersect (ie, overlap). Here, the first main flow groove body parts 31a to 34a constitute a part of the first to fourth main flow grooves 31 to 34, and are provided between the first intersection P1 and the second intersection P2. This is a portion located between adjacent convex portions 41a to 44a.

同様に、第2交差部P2において、第2連絡溝52の少なくとも一部が第1凸部41aに対向している。図6に示すように、第2交差部P2において、第2連絡溝52の全体(第2連絡溝52の幅方向(第1方向X)における全領域)が第1凸部41aに対向している。このことにより、第2交差部P2の全体にわたって、第2主流溝32の第1方向Xに沿う一対の側壁35、36のうち第2連絡溝52の側とは反対側の側壁35(第1凸部41aの壁)が配置されている。図6に示す形態では、第2方向Yで見たときに、第2連絡溝52は、第1凸部41aの第1方向Xにおける中心に重なるように配置されている。このようにして、第2交差部P2において、第2主流溝32と第2連絡溝52とがT字状に交わっている。第2交差部P2は、第1方向Xにおいて互いに隣り合う主流溝本体部31a~34aの間の領域であるとともに、第2方向Yにおいて互いに隣り合う連絡溝51~54と凸部41a~44aとの間の領域としている。言い換えると、主流溝31~34と、連絡溝51~54とが交わる領域(すなわち、重なる領域)としている。 Similarly, at the second intersection P2, at least a part of the second communication groove 52 faces the first convex portion 41a. As shown in FIG. 6, at the second intersection P2, the entire second communication groove 52 (the entire area in the width direction (first direction X) of the second communication groove 52) faces the first convex portion 41a. As a result, the side wall 35 (the wall of the first convex portion 41a) of the pair of side walls 35, 36 of the second mainstream groove 32 along the first direction X on the opposite side to the second communication groove 52 is arranged throughout the second intersection P2. In the embodiment shown in FIG. 6, when viewed in the second direction Y, the second communication groove 52 is arranged so as to overlap the center of the first convex portion 41a in the first direction X. In this way, at the second intersection P2, the second mainstream groove 32 and the second communication groove 52 intersect in a T-shape. The second intersection P2 is the region between the adjacent main groove body portions 31a-34a in the first direction X, and is the region between the adjacent communication grooves 51-54 and the protrusions 41a-44a in the second direction Y. In other words, it is the region where the main grooves 31-34 and the communication grooves 51-54 intersect (i.e., overlap).

上述したように、第2主流溝32の第1交差部P1において、第1連絡溝51は第2凸部42aに対向しているとともに、第2主流溝32の第2交差部P2において、第2連絡溝52は第1凸部41aに対向している。このことにより、第1連絡溝51と第2連絡溝52とは、一直線上に配置されていない。すなわち、第2主流溝32に一方の側で連通する第1連絡溝51と、他方の側で連通する第2連絡溝52とが、一直線上に配置されるようにはなっていない。 As described above, at the first intersection P1 of the second mainstream groove 32, the first communication groove 51 faces the second protrusion 42a, and at the second intersection P2 of the second mainstream groove 32, the first communication groove 51 faces the second convex portion 42a. The two communication grooves 52 face the first protrusion 41a. As a result, the first communication groove 51 and the second communication groove 52 are not arranged in a straight line. That is, the first communication groove 51 communicating with the second mainstream groove 32 on one side and the second communication groove 52 communicating on the other side are not arranged in a straight line.

本実施の形態においては、第1凸部41aと第2凸部42aは同一形状を有し、第1凸部41aの配列ピッチと第2凸部42aの配列ピッチは、同一になっている。そして、この配列ピッチの半分の寸法で、第1凸部41aと第2凸部42aは、第1方向Xに互いにずれて配置されている。 In this embodiment, the first protrusions 41a and the second protrusions 42a have the same shape, and the arrangement pitch of the first protrusions 41a and the arrangement pitch of the second protrusions 42a are the same. The first convex portion 41a and the second convex portion 42a are arranged offset from each other in the first direction X with a dimension that is half of this arrangement pitch.

また、本実施の形態では、第2主流溝32の第1交差部P1と第2交差部P2は、互いに隣り合っている。すなわち、第1交差部P1と第2交差部P2との間に、他の交差部(例えば、後述する図14に示すような第3交差部P3)が介在されていない。そして、第2主流溝32は、複数の第1交差部P1と、複数の第2交差部P2と、を含んでおり、第1交差部P1と第2交差部P2は、第1方向Xに交互に配置されている。すなわち、第2主流溝32の一対の側壁35、36が断続的に形成されており、各側壁35、36の分断位置が、第1方向Xに互いにずれている。 Further, in this embodiment, the first intersection P1 and the second intersection P2 of the second mainstream groove 32 are adjacent to each other. That is, no other intersection (for example, a third intersection P3 as shown in FIG. 14, which will be described later) is interposed between the first intersection P1 and the second intersection P2. The second mainstream groove 32 includes a plurality of first intersections P1 and a plurality of second intersections P2, and the first intersections P1 and the second intersections P2 are arranged in the first direction X. arranged alternately. That is, the pair of side walls 35 and 36 of the second mainstream groove 32 are formed intermittently, and the dividing positions of the side walls 35 and 36 are shifted from each other in the first direction X.

ところで、第3主流溝33と第4主流溝34との間に、第3凸部列43が設けられている。この第3凸部列43は、第1凸部列41と同様に、第1方向Xに配列された複数の第3凸部43aを含んでいる。互いに隣り合う第3凸部43aの間には、第3連絡溝53が介在されている。第3連絡溝53は、第2方向Yに延びるように形成され、第3主流溝33と第4主流溝34とを連通しており、第3主流溝33と第4主流溝34との間で作動液2が往来可能になっている。第3連絡溝53は、互いに隣り合う第3凸部43aの間の領域であって、第3主流溝33と第4主流溝34との間の領域としている。 By the way, a third convex row 43 is provided between the third main flow groove 33 and the fourth main flow groove 34. The third protrusion row 43 includes a plurality of third protrusions 43a arranged in the first direction X, similarly to the first protrusion row 41. A third communication groove 53 is interposed between the third protrusions 43a adjacent to each other. The third communication groove 53 is formed to extend in the second direction Y, communicates the third mainstream groove 33 and the fourth mainstream groove 34, and is between the third mainstream groove 33 and the fourth mainstream groove 34. The hydraulic fluid 2 can flow back and forth. The third communication groove 53 is a region between the third convex portions 43 a adjacent to each other, and is a region between the third mainstream groove 33 and the fourth mainstream groove 34 .

第3主流溝33は、第2連絡溝52が連通する第1交差部P1と、第3連絡溝53が連通する第2交差部P2と、を含んでいる。このうち第1交差部P1において、第2連絡溝52の少なくとも一部が第3凸部43aに対向している。図6においては、第1交差部P1において、第2連絡溝52の全体(第2連絡溝52の幅方向(第1方向X)における全領域)が第3凸部43aに対向している。このことにより、第1交差部P1の全体にわたって、第3主流溝33の第1方向Xに沿う一対の側壁35、36のうち第2連絡溝52の側とは反対側の側壁36(第3凸部43aの壁)が存在している。図6に示す形態では、第2方向Yで見たときに、第2連絡溝52は、第3凸部43aの第1方向Xにおける中心に重なるように配置されている。このようにして、第1交差部P1において、第3主流溝33と第2連絡溝52とがT字状に交わっている。 The third main groove 33 includes a first intersection P1 to which the second communication groove 52 communicates, and a second intersection P2 to which the third communication groove 53 communicates. At the first intersection P1, at least a part of the second communication groove 52 faces the third convex portion 43a. In FIG. 6, at the first intersection P1, the entire second communication groove 52 (the entire area in the width direction (first direction X) of the second communication groove 52) faces the third convex portion 43a. As a result, the side wall 36 (the wall of the third convex portion 43a) of the pair of side walls 35, 36 of the third main groove 33 along the first direction X on the opposite side to the second communication groove 52 exists throughout the first intersection P1. In the embodiment shown in FIG. 6, the second communication groove 52 is arranged to overlap the center of the third convex portion 43a in the first direction X when viewed in the second direction Y. In this way, the third main groove 33 and the second connecting groove 52 intersect in a T-shape at the first intersection P1.

同様に、第2交差部P2において、第3連絡溝53の少なくとも一部が第2凸部42aに対向している。図6においては、第2交差部P2において、第3連絡溝53の全体(第3連絡溝53の幅方向(第1方向X)における全領域)が第2凸部42aに対向している。このことにより、第2交差部P2の全体にわたって、第3主流溝33の第1方向Xに沿う一対の側壁35、36のうち第3連絡溝53の側とは反対側の側壁35(第2凸部42aの壁)が配置されている。図6に示す形態では、第2方向Yで見たときに、第3連絡溝53は、第2凸部42aの第1方向Xにおける中心に重なるように配置されている。このようにして、第2交差部P2において、第3主流溝33と第3連絡溝53とがT字状に交わっている。 Similarly, at the second intersection P2, at least a portion of the third communication groove 53 faces the second convex portion 42a. In FIG. 6, the entire third communication groove 53 (the entire area of the third communication groove 53 in the width direction (first direction X)) faces the second convex portion 42a at the second intersection P2. As a result, the side wall 35 on the opposite side to the third communication groove 53 (the second A wall of the convex portion 42a) is arranged. In the form shown in FIG. 6, the third communication groove 53 is arranged so as to overlap the center of the second convex portion 42a in the first direction X when viewed in the second direction Y. In this way, the third main flow groove 33 and the third communication groove 53 intersect in a T-shape at the second intersection P2.

すなわち、本実施の形態においては、第1凸部41a、第2凸部42aおよび第3凸部43aは同一形状を有し、第1凸部41aの配列ピッチ、第2凸部42aの配列ピッチおよび第3凸部43aの配列ピッチは、同一になっている。そして、この配列ピッチの半分の寸法で、第2凸部42aと第3凸部43aは、第1方向Xに互いにずれて配置されている。この結果、第1凸部41aと第3凸部43aは、第1方向Xにおいて同じ位置に配置されており、第2方向Yで見たときに、第1凸部41aと第3凸部43aは重なっている。 That is, in the present embodiment, the first convex portion 41a, the second convex portion 42a, and the third convex portion 43a have the same shape, and the arrangement pitch of the first convex portion 41a and the arrangement pitch of the second convex portion 42a are the same. The arrangement pitch of the third convex portions 43a is the same. The second convex portion 42a and the third convex portion 43a are arranged offset from each other in the first direction X with a dimension that is half of this arrangement pitch. As a result, the first convex portion 41a and the third convex portion 43a are arranged at the same position in the first direction X, and when viewed in the second direction Y, the first convex portion 41a and the third convex portion 43a are overlapping.

本実施の形態では、第2主流溝32と同様に、第3主流溝33の第1交差部P1と第2交差部P2は、互いに隣り合っている。そして、第3主流溝33は、複数の第1交差部P1と、複数の第2交差部P2と、を含んでおり、第1交差部P1と第2交差部P2は、第1方向Xに交互に配置されている。すなわち、第3主流溝33の一対の側壁35、36が断続的に形成されており、各側壁35、36の分断位置が、第1方向Xに互いにずれている。 In this embodiment, like the second mainstream groove 32, the first intersection P1 and the second intersection P2 of the third mainstream groove 33 are adjacent to each other. The third mainstream groove 33 includes a plurality of first intersections P1 and a plurality of second intersections P2, and the first intersections P1 and the second intersections P2 are arranged in the first direction X. arranged alternately. That is, the pair of side walls 35 and 36 of the third mainstream groove 33 are formed intermittently, and the dividing positions of the side walls 35 and 36 are shifted from each other in the first direction X.

以上のように第1凸部41a、第2凸部42aおよび第3凸部43aが配置されているため、本実施の形態では、第1凸部41a、第2凸部42aおよび第3凸部43aの配置は、千鳥状になっている。この結果、第1連絡溝51、第2連絡溝52および第3連絡溝53も、千鳥状に配置されている。 Since the first convex portion 41a, the second convex portion 42a, and the third convex portion 43a are arranged as described above, in this embodiment, the first convex portion 41a, the second convex portion 42a, and the third convex portion The arrangement of 43a is staggered. As a result, the first communication groove 51, the second communication groove 52, and the third communication groove 53 are also arranged in a staggered manner.

図6においては、上述した第1~第4主流溝31~34を1セットとしたときの1セット分の主流溝が示されている。このセットは、複数設けられていてもよく、全体として多数の主流溝31~34が、下側流路壁部13の上面13aに形成されていてもよい。なお、液流路部30を構成する主流溝は、第1~第4主流溝31~34を一つのセットとして構成する必要はなく、少なくとも3つの主流溝が形成されていれば、主流溝の個数は、4の倍数に限られることはなく任意である。 In FIG. 6, one set of mainstream grooves is shown, where the first to fourth mainstream grooves 31 to 34 mentioned above are one set. A plurality of these sets may be provided, and a large number of mainstream grooves 31 to 34 as a whole may be formed on the upper surface 13a of the lower channel wall portion 13. Note that the main stream grooves constituting the liquid flow path section 30 do not need to be composed of the first to fourth main stream grooves 31 to 34 as one set, and as long as at least three main stream grooves are formed, the main stream grooves The number is not limited to a multiple of 4 and is arbitrary.

この場合、第4主流溝34の第3主流溝33の側とは反対側には、上述した第1主流溝31が設けられており、この第4主流溝34と第1主流溝31との間に、第4凸部列44が設けられている。この第4凸部列44は、上述した第2凸部列42と同様に、第1方向Xに配列された複数の第4凸部44aを含んでいる。第4凸部44aと第2凸部42aは、第1方向Xにおいて同じ位置に配置されており、第2方向Yで見たときに、第4凸部44aと第2凸部42aは重なっている。互いに隣り合う第4凸部44aの間には、第4連絡溝54が介在されている。第4連絡溝54は、第2方向Yに延びるように形成され、第4主流溝34と第1主流溝31とを連通しており、第4主流溝34と第1主流溝31との間で作動液2が往来可能になっている。第4連絡溝54は、互いに隣り合う第4凸部44aの間の領域であって、第4主流溝34と第1主流溝31との間の領域としている。 In this case, the above-mentioned first mainstream groove 31 is provided on the opposite side of the fourth mainstream groove 34 from the third mainstream groove 33, and the fourth mainstream groove 34 and the first mainstream groove 31 are connected to each other. A fourth convex row 44 is provided between them. The fourth convex row 44 includes a plurality of fourth convex portions 44a arranged in the first direction X, similar to the second convex row 42 described above. The fourth convex portion 44a and the second convex portion 42a are arranged at the same position in the first direction X, and when viewed in the second direction Y, the fourth convex portion 44a and the second convex portion 42a overlap. There is. A fourth communication groove 54 is interposed between the adjacent fourth convex portions 44a. The fourth communication groove 54 is formed to extend in the second direction Y, communicates the fourth mainstream groove 34 and the first mainstream groove 31, and is between the fourth mainstream groove 34 and the first mainstream groove 31. The hydraulic fluid 2 can flow back and forth. The fourth communication groove 54 is a region between adjacent fourth convex portions 44a, and is a region between the fourth mainstream groove 34 and the first mainstream groove 31.

第4主流溝34は、第2主流溝32と同様な第1交差部P1および第2交差部P2を有している。ここでは、第1交差部P1において、第4主流溝34に第3連絡溝53が連通し、第2交差部P2において、第4主流溝34に第4連絡溝54が連通している。また、第1主流溝31は、第3主流溝33と同様な第1交差部P1および第2交差部P2を有している。ここでは、第1交差部P1において、第1主流溝31に第4連絡溝54が連通し、第2交差部P2において、第1主流溝31に第1連絡溝51が連通している。第1主流溝31および第4主流溝34における第1交差部P1および第2交差部P2は、第2主流溝32および第3主流溝33における第1交差部P1および第2交差部P2と同様であるため、ここでは詳細な説明は省略する。 The fourth main flow groove 34 has a first intersection P1 and a second intersection P2 similar to the second main flow groove 32. Here, the third communication groove 53 communicates with the fourth main groove 34 at the first intersection P1, and the fourth communication groove 54 communicates with the fourth main groove 34 at the second intersection P2. Further, the first mainstream groove 31 has a first intersection P1 and a second intersection P2 similar to the third mainstream groove 33. Here, the fourth communication groove 54 communicates with the first mainstream groove 31 at the first intersection P1, and the first communication groove 51 communicates with the first mainstream groove 31 at the second intersection P2. The first intersection P1 and the second intersection P2 in the first main flow groove 31 and the fourth main flow groove 34 are the same as the first intersection P1 and the second intersection P2 in the second main flow groove 32 and the third main flow groove 33. Therefore, detailed explanation will be omitted here.

各凸部41a~44aは、各液流路部30の全体にわたって、上述したように矩形状で、千鳥状に配置されていてもよい。 Each of the protrusions 41a to 44a may be rectangular and arranged in a staggered pattern across the entirety of each liquid flow path section 30, as described above.

ところで、第1~第4主流溝31~34の幅w1(第2方向Yの寸法)は、第1~第4凸部41a~44aの幅w2(第2方向Yの寸法)よりも大きいことが好適である。この場合、下側流路壁部13の上面13aに占める第1~第4主流溝31~34の割合を大きくすることができる。このため、当該上面13aにおける主流溝31~34の流路密度を増大させて、液状の作動液2の輸送機能を向上させることができる。例えば、第1~第4主流溝31~34の幅w1を、30μm~200μm、第1~第4凸部41a~44aの幅w2を、20μm~180μmとしてもよい。 By the way, the width w1 (dimension in the second direction Y) of the first to fourth mainstream grooves 31 to 34 is larger than the width w2 (dimension in the second direction Y) of the first to fourth convex portions 41a to 44a. is suitable. In this case, the proportion of the first to fourth mainstream grooves 31 to 34 in the upper surface 13a of the lower channel wall portion 13 can be increased. Therefore, the flow path density of the mainstream grooves 31 to 34 on the upper surface 13a can be increased, and the transport function of the liquid working fluid 2 can be improved. For example, the width w1 of the first to fourth main grooves 31 to 34 may be 30 μm to 200 μm, and the width w2 of the first to fourth convex portions 41a to 44a may be 20 μm to 180 μm.

第1~第4主流溝31~34の深さh1は、上述した下側蒸気流路凹部12の深さh0よりも小さいことが好適である。この場合、第1~第4主流溝31~34の毛細管作用を高めることができる。例えば、第1~第4主流溝31~34の深さh1は、h0の半分程度が好ましく、5μm~180μmとしてもよい。 It is preferable that the depth h1 of the first to fourth mainstream grooves 31 to 34 is smaller than the depth h0 of the lower steam flow path recess 12 described above. In this case, the capillary action of the first to fourth mainstream grooves 31 to 34 can be enhanced. For example, the depth h1 of the first to fourth mainstream grooves 31 to 34 is preferably about half of h0, and may be 5 μm to 180 μm.

また、第1~第4連絡溝51~54の幅w3(第1方向Xの寸法)は、第1~第4主流溝31~34の幅w1よりも小さいことが好適である。この場合、各主流溝31~34において蒸発部11に向かって液状の作動液2が輸送されている間では、作動液2が連絡溝51~54に流れることを抑制でき、作動液2の輸送機能を向上させることができる。一方、主流溝31~34のいずれかにドライアウトが発生した場合には、隣の主流溝31~34から対応する連絡溝51~54を介して作動液2を移動させることができ、ドライアウトを迅速に解消して、作動液2の輸送機能を確保することができる。すなわち、第1~第4連絡溝51~54は、隣り合う主流溝31~34同士を連通することができれば、主流溝31~34の幅w1よりも小さくても、その機能を発揮することができる。このような第1~第4連絡溝51~54の幅w3は、例えば20μm~180μmとしてもよい。 Furthermore, it is preferable that the width w3 (dimension in the first direction X) of the first to fourth communication grooves 51 to 54 is smaller than the width w1 of the first to fourth main flow grooves 31 to 34. In this case, while the liquid working fluid 2 is being transported toward the evaporation section 11 in each of the main flow grooves 31 to 34, it is possible to prevent the working fluid 2 from flowing into the communication grooves 51 to 54, and the transport of the working fluid 2 Functionality can be improved. On the other hand, if dryout occurs in any of the main flow grooves 31 to 34, the hydraulic fluid 2 can be moved from the adjacent main flow grooves 31 to 34 through the corresponding communication grooves 51 to 54, and the dryout occurs. This can be quickly resolved and the transport function of the hydraulic fluid 2 can be ensured. In other words, if the first to fourth communication grooves 51 to 54 can communicate with each other, they can perform their functions even if they are smaller than the width w1 of the main grooves 31 to 34. can. The width w3 of the first to fourth communication grooves 51 to 54 may be, for example, 20 μm to 180 μm.

第1~第4連絡溝51~54の深さh3は、その幅w3に応じて、第1~第4主流溝31~34の深さh1よりも浅くしてもよい。例えば、第1~第4連絡溝51~54の深さh3(図示せず)は、第1~第4主流溝31~34の深さh1を50μmとした場合には、40μmとしてもよい。 The depth h3 of the first to fourth communication grooves 51 to 54 may be shallower than the depth h1 of the first to fourth main flow grooves 31 to 34, depending on the width w3 thereof. For example, the depth h3 (not shown) of the first to fourth communication grooves 51 to 54 may be 40 μm when the depth h1 of the first to fourth main flow grooves 31 to 34 is 50 μm.

ここで、完成形のベーパーチャンバ1から主流溝31~34の幅、深さおよび連絡溝51~54の幅、深さを確認する方法については、後述する。 The method for checking the width and depth of the main grooves 31-34 and the width and depth of the connecting grooves 51-54 from the completed vapor chamber 1 will be described later.

第1~第4主流溝31~34の横断面(第2方向Yにおける断面)形状は、特に限られることはなく、例えば矩形状、湾曲状、半円状、V字状にすることができる。第1~第4連絡溝51~54の横断面(第1方向Xにおける断面)形状も同様である。図7においては、第1~第4主流溝31~34の横断面が、矩形状に形成されている例が示されている。 The shape of the cross section (cross section in the second direction Y) of the first to fourth mainstream grooves 31 to 34 is not particularly limited, and may be, for example, rectangular, curved, semicircular, or V-shaped. . The cross-sectional shapes (cross-sections in the first direction X) of the first to fourth communication grooves 51 to 54 are also similar. FIG. 7 shows an example in which the first to fourth mainstream grooves 31 to 34 have rectangular cross sections.

ところで、上述した液流路部30は、下側金属シート10の下側流路壁部13の上面13aに形成されている。一方、本実施の形態では、上側金属シート20の上側流路壁部22の下面22aは、平坦状に形成されている。このことにより、液流路部30の各主流溝31~34は、平坦状の下面22aで覆われている。この場合、図7に示すように、主流溝31~34の第1方向Xに延びる一対の側壁35、36と上側流路壁部22の下面22aとにより、直角状あるいは鋭角状の2つの角部37を形成することができ、これら2つの角部37における毛細管作用を高めることができる。すなわち、主流溝31~34の底面(下側金属シート10の下面10bの側の面)と、主流溝31~34の一対の側壁35、36とによっても、2つの角部38は形成され得るが、主流溝31~34を後述するようにエッチングによって形成する場合には、底面側の角部38は、丸みを帯びるように形成される傾向にある。このため、上側流路壁部22の下面22aを、主流溝31~34および連絡溝51~54を覆うように平坦状に形成することにより、上側流路壁部22の下面22aの側の角部37において毛細管作用を高めることができる。なお、図7においては、図面を明瞭にするために、第1主流溝31についてのみ、側壁35、36と角部37、38とを示し、第2~第4主流溝32~34については、側壁35、36と角部37、38とを省略している。 The above-mentioned liquid flow path section 30 is formed on the upper surface 13a of the lower flow path wall section 13 of the lower metal sheet 10. On the other hand, in this embodiment, the lower surface 22a of the upper flow path wall section 22 of the upper metal sheet 20 is formed flat. As a result, each of the main flow grooves 31 to 34 of the liquid flow path section 30 is covered with the flat lower surface 22a. In this case, as shown in FIG. 7, a pair of side walls 35, 36 extending in the first direction X of the main flow grooves 31 to 34 and the lower surface 22a of the upper flow path wall section 22 can form two right-angled or acute-angled corners 37, and the capillary action at these two corners 37 can be enhanced. That is, the two corners 38 can be formed by the bottom surface of the main grooves 31-34 (the surface on the side of the lower surface 10b of the lower metal sheet 10) and the pair of side walls 35, 36 of the main grooves 31-34, but when the main grooves 31-34 are formed by etching as described below, the corners 38 on the bottom surface side tend to be rounded. Therefore, by forming the lower surface 22a of the upper flow passage wall 22 flat so as to cover the main grooves 31-34 and the connecting grooves 51-54, the capillary action can be enhanced at the corners 37 on the side of the lower surface 22a of the upper flow passage wall 22. Note that in FIG. 7, for clarity of the drawing, the side walls 35, 36 and the corners 37, 38 are shown only for the first main groove 31, and the side walls 35, 36 and the corners 37, 38 are omitted for the second to fourth main grooves 32-34.

なお、下側金属シート10および上側金属シート20に用いる材料は、熱伝導率が良好な材料であれば特に限られることはないが、例えば、下側金属シート10および上側金属シート20は、銅(無酸素銅)または銅合金により形成されていることが好適である。このことにより、下側金属シート10および上側金属シート20の熱伝導率を高めることができる。このため、ベーパーチャンバ1の放熱効率を高めることができる。あるいは、所望の放熱効率を得ることができれば、これらの金属シート10および20には、アルミニウム等の他の金属材料や、ステンレスなどの他の金属合金材料を用いることもできる。 The material used for the lower metal sheet 10 and the upper metal sheet 20 is not particularly limited as long as it has good thermal conductivity. For example, it is preferable that the lower metal sheet 10 and the upper metal sheet 20 are made of copper (oxygen-free copper) or a copper alloy. This increases the thermal conductivity of the lower metal sheet 10 and the upper metal sheet 20. This increases the heat dissipation efficiency of the vapor chamber 1. Alternatively, other metal materials such as aluminum or other metal alloy materials such as stainless steel can be used for these metal sheets 10 and 20 as long as the desired heat dissipation efficiency can be obtained.

次に、このような構成からなる本実施の形態の作用について説明する。ここでは、まず、ベーパーチャンバ1の製造方法について、図8乃至図13を用いて説明するが、上側金属シート20のハーフエッチング工程の説明は簡略化する。なお、図8乃至図13では、図3の断面図と同様の断面を示している。 Next, the operation of this embodiment having such a configuration will be explained. Here, first, a method for manufacturing the vapor chamber 1 will be explained using FIGS. 8 to 13, but the explanation of the half-etching process of the upper metal sheet 20 will be simplified. Note that FIGS. 8 to 13 show cross sections similar to the cross-sectional view of FIG. 3.

まず、図8に示すように、準備工程として、平板状の金属材料シートMを準備する。 First, as shown in Figure 8, a flat metal material sheet M is prepared as a preparation step.

続いて、図9に示すように、金属材料シートMがハーフエッチングされて、密封空間3の一部を構成する下側蒸気流路凹部12が形成される。この場合、まず、金属材料シートMの上面Maに図示しない第1レジスト膜が、フォトリソグラフィー技術によって、複数の下側流路壁部13および下側周縁壁14に対応するパターン状に形成される。続いて、第1ハーフエッチング工程として、金属材料シートMの上面Maがハーフエッチングされる。このことにより、金属材料シートMの上面Maのうち第1レジスト膜のレジスト開口(図示せず)に対応する部分がハーフエッチングされて、図9に示すような下側蒸気流路凹部12、下側流路壁部13および下側周縁壁14が形成される。この際、図2および図4に示す下側注入流路凹部17も同時に形成され、また、図4に示すような外形輪郭形状を有するように金属材料シートMが上面Maおよび下面からエッチングされて、所定の外形輪郭形状が得られる。第1ハーフエッチング工程の後、第1レジスト膜が除去される。なお、ハーフエッチングとは、材料を貫通しないような凹部を形成するためのエッチングを意味している。このため、ハーフエッチングにより形成される凹部の深さは、下側金属シート10の厚さの半分であることには限られない。エッチング液には、例えば、塩化第二鉄水溶液等の塩化鉄系エッチング液、または塩化銅水溶液等の塩化銅系エッチング液を用いることができる。 Subsequently, as shown in FIG. 9, the metal material sheet M is half-etched to form a lower vapor flow path recess 12 that constitutes a part of the sealed space 3. In this case, first, a first resist film (not shown) is formed on the upper surface Ma of the metal material sheet M in a pattern corresponding to the plurality of lower channel walls 13 and the lower peripheral wall 14 by photolithography technology. . Subsequently, as a first half-etching step, the upper surface Ma of the metal material sheet M is half-etched. As a result, a portion of the upper surface Ma of the metal material sheet M that corresponds to the resist opening (not shown) of the first resist film is half-etched, and the lower vapor flow path recess 12 and the lower portion as shown in FIG. A side channel wall portion 13 and a lower peripheral wall 14 are formed. At this time, the lower injection channel recess 17 shown in FIGS. 2 and 4 is also formed at the same time, and the metal material sheet M is etched from the upper surface Ma and the lower surface so as to have the outer contour shape shown in FIG. , a predetermined external contour shape is obtained. After the first half-etching process, the first resist film is removed. Note that half etching means etching for forming a recess that does not penetrate the material. Therefore, the depth of the recess formed by half etching is not limited to half the thickness of the lower metal sheet 10. As the etching solution, for example, an iron chloride-based etching solution such as a ferric chloride aqueous solution, or a copper chloride-based etching solution such as a copper chloride aqueous solution can be used.

下側蒸気流路凹部12が形成された後、図10に示すように、下側流路壁部13の上面13aに液流路部30が形成される。 After the lower steam flow path recess 12 is formed, the liquid flow path section 30 is formed on the upper surface 13a of the lower flow path wall section 13, as shown in FIG. 10.

この場合、まず、下側流路壁部13の上面13aに、図示しない第2レジスト膜が、フォトリソグラフィー技術によって、液流路部30の第1~第4凸部41a~44aに対応するパターン状に形成される。続いて、第2ハーフエッチング工程として、下側流路壁部13の上面13aがハーフエッチングされる。このことにより、当該上面13aのうち第2レジスト膜のレジスト開口(図示せず)に対応する部分がハーフエッチングされて、下側流路壁部13の上面13aに液流路部30が形成される。すなわち、当該上面13aに、各凸部41a~44aが形成される。これらの凸部41a~44aによって、第1~第4主流溝31~34および第1~第4連絡溝51~54が画定される。第2ハーフエッチング工程の後、第2レジスト膜が除去される。 In this case, first, a second resist film (not shown) is formed on the upper surface 13a of the lower flow path wall 13 by photolithography in a pattern corresponding to the first to fourth convex portions 41a to 44a of the liquid flow path portion 30. Then, as a second half-etching step, the upper surface 13a of the lower flow path wall 13 is half-etched. As a result, the portions of the upper surface 13a that correspond to the resist openings (not shown) of the second resist film are half-etched, and the liquid flow path portion 30 is formed on the upper surface 13a of the lower flow path wall 13. That is, the respective convex portions 41a to 44a are formed on the upper surface 13a. The first to fourth main grooves 31 to 34 and the first to fourth connecting grooves 51 to 54 are defined by these convex portions 41a to 44a. After the second half-etching step, the second resist film is removed.

このようにして、液流路部30が形成された下側金属シート10が得られる。なお、第1ハーフエッチング工程とは別の工程である第2ハーフエッチング工程として、液流路部30を形成することにより、下側蒸気流路凹部12の深さh0とは異なる深さで主流溝31~34および連絡溝51~54を容易に形成することが可能になる。しかしながら、下側蒸気流路凹部12と、主流溝31~34および連絡溝51~54は、同一のハーフエッチング工程で形成するようにしてもよい。この場合には、ハーフエッチング工程の回数を削減することができ、ベーパーチャンバ1の製造コストを低減可能になる。 In this way, the lower metal sheet 10 in which the liquid flow path section 30 is formed is obtained. In addition, by forming the liquid flow path part 30 as a second half etching process which is a process different from the first half etching process, the main flow is formed at a depth different from the depth h0 of the lower vapor flow path recessed part 12. It becomes possible to easily form the grooves 31 to 34 and the communication grooves 51 to 54. However, the lower vapor flow path recess 12, the main grooves 31 to 34, and the communication grooves 51 to 54 may be formed in the same half-etching process. In this case, the number of half-etching steps can be reduced, and the manufacturing cost of the vapor chamber 1 can be reduced.

一方、下側金属シート10と同様にして、上側金属シート20が下面20aからハーフエッチングされて、上側蒸気流路凹部21、上側流路壁部22および上側周縁壁23が形成される。このようにして、上述した上側金属シート20が得られる。 On the other hand, in the same manner as the lower metal sheet 10, the upper metal sheet 20 is half-etched from the lower surface 20a to form the upper vapor passage recess 21, the upper passage wall 22, and the upper peripheral wall 23. In this way, the upper metal sheet 20 described above is obtained.

次に、図11に示すように、仮止め工程として、下側蒸気流路凹部12を有する下側金属シート10と、上側蒸気流路凹部21を有する上側金属シート20とが仮止めされる。この場合、まず、下側金属シート10の下側アライメント孔15(図2および図4参照)と上側金属シート20の上側アライメント孔24(図2および図5参照)とを利用して、下側金属シート10と上側金属シート20とが位置決めされる。続いて、下側金属シート10と上側金属シート20とが固定される。固定の方法としては、特に限られることはないが、例えば、下側金属シート10と上側金属シート20とに対して抵抗溶接を行うことによって下側金属シート10と上側金属シート20とを固定してもよい。この場合、図11に示すように、電極棒40を用いてスポット的に抵抗溶接を行うことが好適である。抵抗溶接の代わりにレーザ溶接を行ってもよい。あるいは、超音波を照射して下側金属シート10と上側金属シート20とを超音波接合して固定してもよい。さらには、接着剤を用いてもよいが、有機成分を有しないか、若しくは有機成分が少ない接着剤を用いることが好適である。このようにして、下側金属シート10と上側金属シート20とが、位置決めされた状態で固定される。 Next, as shown in FIG. 11, in a temporary fixing step, the lower metal sheet 10 having the lower steam passage recess 12 and the upper metal sheet 20 having the upper steam passage recess 21 are temporarily joined. In this case, first, by using the lower alignment hole 15 (see FIGS. 2 and 4) of the lower metal sheet 10 and the upper alignment hole 24 (see FIGS. 2 and 5) of the upper metal sheet 20, The metal sheet 10 and the upper metal sheet 20 are positioned. Subsequently, the lower metal sheet 10 and the upper metal sheet 20 are fixed. The fixing method is not particularly limited, but for example, the lower metal sheet 10 and the upper metal sheet 20 may be fixed by resistance welding to the lower metal sheet 10 and the upper metal sheet 20. It's okay. In this case, as shown in FIG. 11, it is preferable to perform spot resistance welding using an electrode rod 40. Laser welding may be used instead of resistance welding. Alternatively, the lower metal sheet 10 and the upper metal sheet 20 may be ultrasonically bonded and fixed by irradiating ultrasonic waves. Furthermore, although an adhesive may be used, it is preferable to use an adhesive that does not have an organic component or has a small amount of organic component. In this way, the lower metal sheet 10 and the upper metal sheet 20 are fixed in a positioned state.

仮止めの後、図12に示すように、恒久接合工程として、下側金属シート10と上側金属シート20とが、拡散接合によって恒久的に接合される。拡散接合とは、接合する下側金属シート10と上側金属シート20とを密着させ、真空や不活性ガス中などの制御された雰囲気中で、各金属シート10、20を密着させる方向に加圧するとともに加熱して、接合面に生じる原子の拡散を利用して接合する方法である。拡散接合は、下側金属シート10および上側金属シート20の材料を融点に近い温度まで加熱するが、融点よりは低いため、各金属シート10、20が溶融して変形することを回避できる。より具体的には、下側金属シート10の下側周縁壁14の上面14aと上側金属シート20の上側周縁壁23の下面23aとが、接合面となって拡散接合される。このことにより、下側周縁壁14と上側周縁壁23とによって、下側金属シート10と上側金属シート20との間に密封空間3が形成される。また、下側注入流路凹部17(図2および図4参照)と上側注入流路凹部26(図2および図5参照)とによって、密封空間3に連通する作動液2の注入流路が形成される。さらに、下側金属シート10の下側流路壁部13の上面13aと、上側金属シート20の上側流路壁部22の下面22aとが、接合面となって拡散接合され、ベーパーチャンバ1の機械的強度が向上する。下側流路壁部13の上面13aに形成された液流路部30は、液状の作動液2の流路として残存する。 After the temporary fixing, as shown in FIG. 12, the lower metal sheet 10 and the upper metal sheet 20 are permanently bonded by diffusion bonding as a permanent bonding process. Diffusion bonding is a method in which the lower metal sheet 10 and the upper metal sheet 20 to be bonded are brought into close contact with each other, and in a controlled atmosphere such as a vacuum or an inert gas, the metal sheets 10 and 20 are pressurized in the direction of contact and heated to bond them by utilizing the diffusion of atoms that occurs at the bonding surface. In diffusion bonding, the materials of the lower metal sheet 10 and the upper metal sheet 20 are heated to a temperature close to the melting point, but since it is lower than the melting point, it is possible to avoid the metal sheets 10 and 20 from melting and deforming. More specifically, the upper surface 14a of the lower peripheral wall 14 of the lower metal sheet 10 and the lower surface 23a of the upper peripheral wall 23 of the upper metal sheet 20 are diffusion bonded as bonding surfaces. As a result, the lower peripheral wall 14 and the upper peripheral wall 23 form a sealed space 3 between the lower metal sheet 10 and the upper metal sheet 20. In addition, the lower injection flow path recess 17 (see Figures 2 and 4) and the upper injection flow path recess 26 (see Figures 2 and 5) form an injection flow path for the working fluid 2 that communicates with the sealed space 3. Furthermore, the upper surface 13a of the lower flow path wall 13 of the lower metal sheet 10 and the lower surface 22a of the upper flow path wall 22 of the upper metal sheet 20 are diffusion bonded to form a joining surface, improving the mechanical strength of the vapor chamber 1. The liquid flow path portion 30 formed on the upper surface 13a of the lower flow path wall 13 remains as a flow path for the liquid working fluid 2.

恒久的な接合の後、図13に示すように、封入工程として、注入部4(図2参照)から密封空間3に作動液2が注入される。この際、まず、密封空間3が真空引きされて減圧され、その後に、作動液2が密封空間3に注入される。注入時、作動液2は、下側注入流路凹部17と上側注入流路凹部26とにより形成された注入流路を通過する。例えば、作動液2の封入量は、ベーパーチャンバ1内部の液流路部30の構成にもよるが、密封空間3の全体積に対して10%~30%としてもよい。 After the permanent joining, as shown in FIG. 13, the working fluid 2 is injected into the sealed space 3 from the injection section 4 (see FIG. 2) as a sealing process. At this time, the sealed space 3 is first evacuated to reduce the pressure, and then the working fluid 2 is injected into the sealed space 3. During injection, the working fluid 2 passes through the injection flow path formed by the lower injection flow path recess 17 and the upper injection flow path recess 26. For example, the amount of the working fluid 2 to be sealed may be 10% to 30% of the total volume of the sealed space 3, depending on the configuration of the liquid flow path section 30 inside the vapor chamber 1.

作動液2の注入の後、上述した注入流路が封止される。例えば、注入部4にレーザを照射し、注入部4を部分的に溶融させて注入流路を封止するようにしてもよい。このことにより、密封空間3と外部との連通が遮断され、作動液2が密封空間3に封入される。このようにして、密封空間3内の作動液2が外部に漏洩することが防止される。なお、封止のためには、注入部4をかしめてもよく、またはろう付けしてもよい。 After injection of the working fluid 2, the injection channel described above is sealed. For example, the injection portion 4 may be irradiated with a laser to partially melt the injection portion 4 and seal the injection channel. As a result, communication between the sealed space 3 and the outside is cut off, and the hydraulic fluid 2 is sealed in the sealed space 3. In this way, the hydraulic fluid 2 in the sealed space 3 is prevented from leaking to the outside. Note that for sealing, the injection portion 4 may be caulked or brazed.

以上のようにして、本実施の形態によるベーパーチャンバ1が得られる。 In the manner described above, the vapor chamber 1 according to this embodiment is obtained.

次に、ベーパーチャンバ1の作動方法、すなわち、デバイスDの冷却方法について説明する。 Next, we will explain how the vapor chamber 1 operates, i.e., how the device D is cooled.

上述のようにして得られたベーパーチャンバ1は、モバイル端末等のハウジングH内に設置されるとともに、下側金属シート10の下面10bに、被冷却対象物であるCPU等のデバイスDが取り付けられる。密封空間3内に注入された作動液2の量は少ないため、密封空間3内の液状の作動液2は、その表面張力によって、密封空間3の壁面、すなわち、下側蒸気流路凹部12の壁面、上側蒸気流路凹部21の壁面および液流路部30の壁面に付着する。 The vapor chamber 1 obtained as described above is installed in a housing H of a mobile terminal or the like, and a device D, such as a CPU, which is an object to be cooled, is attached to the lower surface 10b of the lower metal sheet 10. Since the amount of working fluid 2 injected into the sealed space 3 is small, the liquid working fluid 2 in the sealed space 3 adheres to the wall surfaces of the sealed space 3, i.e., the wall surfaces of the lower steam flow path recess 12, the wall surfaces of the upper steam flow path recess 21, and the wall surfaces of the liquid flow path section 30, due to its surface tension.

この状態でデバイスDが発熱すると、下側蒸気流路凹部12のうち蒸発部11に存在する作動液2が、デバイスDから熱を受ける。受けた熱は潜熱として吸収されて作動液2が蒸発(気化)し、作動液2の蒸気が生成される。生成された蒸気の多くは、密封空間3を構成する下側蒸気流路凹部12内および上側蒸気流路凹部21内で拡散する(図4の実線矢印参照)。上側蒸気流路凹部21内および下側蒸気流路凹部12内の蒸気は、蒸発部11から離れ、蒸気の多くは、比較的温度の低いベーパーチャンバ1の周縁部に向かって輸送される。拡散した蒸気は、下側金属シート10および上側金属シート20に放熱して冷却される。下側金属シート10および上側金属シート20が蒸気から受けた熱は、ハウジング部材Ha(図3参照)を介して外部に伝達される。 When the device D generates heat in this state, the working fluid 2 present in the evaporation section 11 of the lower vapor flow path recess 12 receives heat from the device D. The received heat is absorbed as latent heat, the working fluid 2 evaporates (vaporizes), and vapor of the working fluid 2 is generated. Most of the generated steam diffuses within the lower steam flow path recess 12 and the upper steam flow path recess 21 that constitute the sealed space 3 (see solid line arrows in FIG. 4). The vapor in the upper vapor flow path recess 21 and the lower vapor flow path recess 12 leaves the evaporator 11, and most of the vapor is transported toward the peripheral edge of the vapor chamber 1 where the temperature is relatively low. The diffused vapor radiates heat to the lower metal sheet 10 and the upper metal sheet 20 and is cooled. The heat received by the lower metal sheet 10 and the upper metal sheet 20 from the steam is transferred to the outside via the housing member Ha (see FIG. 3).

蒸気は、下側金属シート10および上側金属シート20に放熱することにより、蒸発部11において吸収した潜熱を失って凝縮する。凝縮して液状になった作動液2は、下側蒸気流路凹部12の壁面または上側蒸気流路凹部21の壁面に付着する。ここで、蒸発部11では作動液2が蒸発し続けているため、液流路部30のうち蒸発部11以外の部分における作動液2は、蒸発部11に向かって輸送される(図4の破線矢印参照)。このことにより、下側蒸気流路凹部12の壁面および上側蒸気流路凹部21の壁面に付着した液状の作動液2は、液流路部30に向かって移動し、液流路部30内に入り込む。すなわち、第1~第4連絡溝51~54を通って第1~第4主流溝31~34に入り込み、各主流溝31~34および各連絡溝51~54に、液状の作動液2が充填される。このため、充填された作動液2は、各主流溝31~34の毛細管作用により、蒸発部11に向かう推進力を得て、蒸発部11に向かってスムースに輸送される。 The steam condenses by losing the latent heat absorbed in the evaporation section 11 by dissipating heat to the lower metal sheet 10 and the upper metal sheet 20. The condensed liquid working fluid 2 adheres to the wall surface of the lower steam flow path recess 12 or the wall surface of the upper steam flow path recess 21. Here, since the working fluid 2 continues to evaporate in the evaporation section 11, the working fluid 2 in the part of the liquid flow path section 30 other than the evaporation section 11 is transported toward the evaporation section 11 (see the dashed arrow in FIG. 4). As a result, the liquid working fluid 2 adhered to the wall surface of the lower steam flow path recess 12 and the wall surface of the upper steam flow path recess 21 moves toward the liquid flow path section 30 and enters the liquid flow path section 30. That is, the liquid working fluid 2 enters the first to fourth mainstream grooves 31 to 34 through the first to fourth communication grooves 51 to 54, and the liquid working fluid 2 is filled in each mainstream groove 31 to 34 and each communication groove 51 to 54. As a result, the filled working fluid 2 obtains a driving force toward the evaporation section 11 due to the capillary action of each of the main grooves 31 to 34, and is smoothly transported toward the evaporation section 11.

液流路部30においては、各主流溝31~34が、対応する連絡溝51~54を介して、隣り合う他の主流溝31~34と連通している。このことにより、互いに隣り合う主流溝31~34同士で、液状の作動液2が往来し、主流溝31~34でドライアウトが発生することが抑制されている。このため、各主流溝31~34内の作動液2に毛細管作用が付与されて、作動液2は、蒸発部11に向かってスムースに輸送される。 In the liquid flow path section 30, each of the main stream grooves 31 to 34 communicates with other adjacent main stream grooves 31 to 34 via corresponding communication grooves 51 to 54. As a result, the liquid working fluid 2 flows back and forth between the adjacent mainstream grooves 31 to 34, and dryout is suppressed from occurring in the mainstream grooves 31 to 34. Therefore, a capillary action is applied to the working fluid 2 in each of the main flow grooves 31 to 34, and the working fluid 2 is smoothly transported toward the evaporation section 11.

また、各主流溝31~34が、上述した第1交差部P1および第2交差部P2を含んでいることにより、各主流溝31~34内の作動液2に作用する毛細管作用が喪失されることが防止される。ここで、例えば、第1連絡溝51と第2連絡溝52が第2主流溝32を介して一直線上に配置される場合には、第2主流溝32との交差部において、一対の側壁35、36の両方が存在しないことになる。この場合には、当該交差部において、蒸発部11に向かう方向の毛細管作用が喪失され、蒸発部11に向かう作動液2の推進力が低減され得る。 In addition, since each of the main grooves 31-34 includes the first intersection P1 and the second intersection P2 described above, the capillary action acting on the working fluid 2 in each of the main grooves 31-34 is prevented from being lost. Here, for example, if the first communication groove 51 and the second communication groove 52 are arranged in a straight line via the second main groove 32, both of the pair of side walls 35, 36 will not be present at the intersection with the second main groove 32. In this case, the capillary action in the direction toward the evaporation section 11 will be lost at the intersection, and the driving force of the working fluid 2 toward the evaporation section 11 may be reduced.

これに対して本実施の形態では、上述したように、第2主流溝32に一方の側で連通する第1連絡溝51と、他方の側で連通する第2連絡溝52とが、一直線上に配置されていない。この場合、図6に示すように、第1交差部P1において、第2主流溝32の第1方向Xに沿う一対の側壁35、36のうち第1連絡溝51の側とは反対側の側壁36が配置されている。このことにより、第1交差部P1において、蒸発部11に向かう方向の毛細管作用が喪失されることを防止できる。第2交差部P2においても同様に、第2連絡溝52の側とは反対側の側壁35が配置されているため、蒸発部11に向かう方向の毛細管作用が喪失されることを防止できる。このため各交差部P1、P2において、毛細管作用が低減することを抑制でき、蒸発部11に向かう作動液2に連続的に毛細管作用を付与させることができる。 In contrast, in this embodiment, as described above, the first communication groove 51 that communicates with the second mainstream groove 32 on one side and the second communication groove 52 that communicates with the second mainstream groove 32 on the other side are not arranged in a straight line. In this case, as shown in FIG. 6, at the first intersection P1, the side wall 36 opposite the first communication groove 51 side of the pair of side walls 35, 36 along the first direction X of the second mainstream groove 32 is arranged. This makes it possible to prevent the capillary action in the direction toward the evaporation section 11 from being lost at the first intersection P1. Similarly, at the second intersection P2, the side wall 35 opposite the second communication groove 52 side is arranged, so that the capillary action in the direction toward the evaporation section 11 can be prevented from being lost. Therefore, at each intersection P1, P2, the capillary action can be suppressed from being reduced, and the working fluid 2 heading toward the evaporation section 11 can be continuously given the capillary action.

そして、本実施の形態では、第2主流溝32の第1交差部P1と第2交差部P2が交互に配置されている。すなわち、第2主流溝32の第1交差部P1では第2連絡溝52の側の側壁36によって第2主流溝32内の作動液2に毛細管作用を付与するが、第2交差部P2では、側壁36とは反対側である第1連絡溝51の側の側壁35によって第2主流溝32内の作動液2に毛細管作用を付与することができる。このため、第2主流溝32内の作動液2に作用する毛細管作用を、幅方向(第2方向Y)で均等化させることができる。 In the present embodiment, the first intersection portions P1 and the second intersection portions P2 of the second mainstream groove 32 are alternately arranged. That is, at the first intersection P1 of the second mainstream groove 32, the side wall 36 on the side of the second communication groove 52 imparts a capillary action to the hydraulic fluid 2 in the second mainstream groove 32, but at the second intersection P2, The side wall 35 on the side of the first communication groove 51 that is opposite to the side wall 36 can impart capillary action to the working fluid 2 in the second mainstream groove 32 . Therefore, the capillary action acting on the hydraulic fluid 2 in the second mainstream groove 32 can be made equal in the width direction (second direction Y).

本実施の形態では、第1主流溝31、第3主流溝33および第4主流溝34が、第2主流溝32と同様の第1交差部P1および第2交差部P2をそれぞれ有している。このことにより、第1~第4主流溝31~34内の作動液2に付与される毛細管作用が低減することを抑制できる。 In this embodiment, the first main flow groove 31, the third main flow groove 33, and the fourth main flow groove 34 have the same first intersection P1 and second intersection P2 as the second main flow groove 32, respectively. . This makes it possible to suppress the capillary action exerted on the working fluid 2 in the first to fourth mainstream grooves 31 to 34 from being reduced.

蒸発部11に達した作動液2は、デバイスDから再び熱を受けて蒸発する。このようにして、作動液2が、相変化、すなわち蒸発と凝縮とを繰り返しながらベーパーチャンバ1内を還流してデバイスDの熱を移動させて放出する。この結果、デバイスDが冷却される。 The working fluid 2 that has reached the evaporator 11 receives heat from the device D again and evaporates. In this way, the working fluid 2 circulates within the vapor chamber 1 while repeating phase changes, that is, evaporation and condensation, thereby transferring and discharging the heat of the device D. As a result, device D is cooled.

ところで、本実施の形態では、上述したように、第2主流溝32において、第1連絡溝51と第2連絡溝52とが同一直線状に配置されていない。このため、ベーパーチャンバ1が設置されたモバイル端末の姿勢によっては、第1方向Xよりも第2方向Yが重力方向に沿う場合があり得る。このような姿勢では、第1連絡溝51と第2連絡溝52とが同一直線状に配置されていると、各主流溝31~34内の作動液2の一部が、重力の影響を受けて、各連絡溝51~54内を第2方向Yの一側に向かって流れて、当該一側に作動液2が偏ると考えられる。 By the way, in this embodiment, as described above, in the second mainstream groove 32, the first communication groove 51 and the second communication groove 52 are not arranged in the same straight line. Therefore, depending on the posture of the mobile terminal in which the vapor chamber 1 is installed, the second direction Y may be along the gravity direction rather than the first direction X. In such a posture, if the first communication groove 51 and the second communication groove 52 are arranged in the same straight line, a part of the hydraulic fluid 2 in each of the main flow grooves 31 to 34 will be affected by gravity. Therefore, it is considered that the hydraulic fluid 2 flows toward one side in the second direction Y in each of the communication grooves 51 to 54, and the hydraulic fluid 2 is biased toward the one side.

しかしながら、本実施の形態のように、各主流溝31~34が第1交差部P1と第2交差部P2とを含んでいる場合には、作動液2が、第2方向Yの一側に向かって直線的に流れることを抑制できる。すなわち、作動液2は、第2方向Yの一側に向かう間に、主流溝31~34を通って蒸発部11に向かって進むことができ、作動液2の蒸発部11への流れが弱まることを抑制できる。このため、ベーパーチャンバ1の姿勢が、作動液2の輸送機能を阻害する方向に重力が作用するような姿勢であっても、液状の作動液2の輸送機能を向上させることができる。 However, in the present embodiment, when each of the main grooves 31-34 includes a first intersection P1 and a second intersection P2, the working fluid 2 can be prevented from flowing linearly toward one side of the second direction Y. In other words, the working fluid 2 can proceed toward the evaporation section 11 through the main grooves 31-34 while moving toward one side of the second direction Y, and the flow of the working fluid 2 toward the evaporation section 11 can be prevented from weakening. Therefore, even if the vapor chamber 1 is in a position in which gravity acts in a direction that inhibits the transport function of the working fluid 2, the transport function of the liquid working fluid 2 can be improved.

ところで、密封空間3内は、上述したように減圧されている。このことにより、下側金属シート10および上側金属シート20は、外気から、内側に凹む方向への圧力を受けている。ここで、第1連絡溝51と第2連絡溝52が第2主流溝32を介して一直線上に配置される場合には、第2主流溝32、第1連絡溝51および第2連絡溝52が十字状に交わる交差部が形成される。この場合、第1方向Xに直交する第2方向Yに延びる溝に沿って、下側金属シート10および上側金属シート20が内側に凹み、その凹みが、第2主流溝32を横断するように形成され得る。この場合、第2主流溝32の流路断面積が小さくなり、作動液2の流路抵抗が増大し得る。 By the way, the pressure inside the sealed space 3 is reduced as described above. As a result, the lower metal sheet 10 and the upper metal sheet 20 are under pressure from the outside air in the direction of concave inward. Here, when the first communication groove 51 and the second communication groove 52 are arranged in a straight line via the second main flow groove 32, the second main flow groove 32, the first communication groove 51 and the second communication groove 52 An intersection is formed where the two intersect in a cross shape. In this case, the lower metal sheet 10 and the upper metal sheet 20 are recessed inwardly along the groove extending in the second direction Y perpendicular to the first direction X, and the recess crosses the second mainstream groove 32. can be formed. In this case, the flow passage cross-sectional area of the second mainstream groove 32 becomes small, and the flow passage resistance of the working fluid 2 may increase.

これに対して本実施の形態では、第2主流溝32の第1交差部P1では、第1連絡溝51が、第2凸部42aに対向している。このことにより、下側金属シート10および上側金属シート20が第1連絡溝51に沿って内側に凹んだ場合であっても、その凹みが、第2主流溝32を横断することを防止できる。このため、第2主流溝32の流路断面積を確保することができ、作動液2の流れが妨げられることを防止できる。例えば、薄さを求められるモバイル端末用のベーパーチャンバでは、その薄さによって凹み変形を抑制することが困難になり得るが、本実施の形態によるベーパーチャンバ1をこのようなモバイル端末用のベーパーチャンバに適用した場合であっても、本実施の形態によれば、凹み変形を効果的に抑制することができる。例えば、下側金属シート10のうち主流溝31~34および連絡溝51~54が形成されている部分の厚さ(残厚)が、50μm~150μm程度になる場合には、凹み変形を抑制するために、第1凸部41a~第4凸部44aを千鳥状に配置することが効果的な場合も考えられる。また、熱伝導率の良好な材料として無酸素銅を用いる場合も、その材料の機械的強度の低さによって凹み変形を抑制することが困難になり得るが、本実施の形態によるベーパーチャンバ1を無酸素銅で形成した場合であっても、凹み変形を効果的に抑制することができる。 In contrast, in the present embodiment, at the first intersection P1 of the second mainstream groove 32, the first communication groove 51 faces the second convex portion 42a. Thereby, even if the lower metal sheet 10 and the upper metal sheet 20 are recessed inward along the first communication groove 51, the recess can be prevented from crossing the second mainstream groove 32. Therefore, the cross-sectional area of the second mainstream groove 32 can be secured, and the flow of the hydraulic fluid 2 can be prevented from being obstructed. For example, in a vapor chamber for a mobile terminal that is required to be thin, it may be difficult to suppress concave deformation due to the thinness. Even when applied to the present invention, according to the present embodiment, concave deformation can be effectively suppressed. For example, if the thickness (residual thickness) of the portion of the lower metal sheet 10 where the main grooves 31 to 34 and the communication grooves 51 to 54 are formed is about 50 μm to 150 μm, concave deformation is suppressed. Therefore, it may be effective to arrange the first to fourth protrusions 41a to 44a in a staggered manner. Furthermore, even when oxygen-free copper is used as a material with good thermal conductivity, it may be difficult to suppress concave deformation due to the low mechanical strength of the material. Even when formed from oxygen-free copper, concave deformation can be effectively suppressed.

このように、本実施の形態によれば、上述したように、第1交差部P1において、第2主流溝32の一対の側壁35、36のうち第1連絡溝51の側とは反対側の側壁36を配置することができるため、下側金属シート10および上側金属シート20が、外気の圧力によって第1連絡溝51に沿って内側に凹んだ場合であっても、その凹みが、第2主流溝32を横断することを防止できる。同様に、第2交差部P2において、第2主流溝32の一対の側壁35、36のうち第2連絡溝52の側とは反対側の側壁35を配置させることができるため、下側金属シート10および上側金属シート20が、外気の圧力によって第1連絡溝51に沿って凹んだ場合であっても、その凹みが、第2主流溝32を横断することを防止できる。このため、第2主流溝32の流路断面積を確保することができ、作動液2の流れが妨げられることを防止できる。この結果、液状の作動液2の輸送機能を向上させ、熱輸送効率を向上させることができる。 As described above, according to this embodiment, at the first intersection P1, the side wall 36 of the pair of side walls 35, 36 of the second mainstream groove 32 opposite to the side of the first communication groove 51 can be arranged, so that even if the lower metal sheet 10 and the upper metal sheet 20 are recessed inward along the first communication groove 51 due to the pressure of the outside air, the recess can be prevented from crossing the second mainstream groove 32. Similarly, at the second intersection P2, the side wall 35 of the pair of side walls 35, 36 of the second mainstream groove 32 opposite to the side of the second communication groove 52 can be arranged, so that even if the lower metal sheet 10 and the upper metal sheet 20 are recessed along the first communication groove 51 due to the pressure of the outside air, the recess can be prevented from crossing the second mainstream groove 32. Therefore, the flow path cross-sectional area of the second mainstream groove 32 can be secured, and the flow of the working fluid 2 can be prevented from being obstructed. As a result, the transport function of the liquid working fluid 2 can be improved, and the heat transport efficiency can be improved.

また、本実施の形態によれば、液流路部30の第2主流溝32が、第1連絡溝51が第2凸部42aに対向する第1交差部P1と、第2連絡溝52が第1凸部41aに対向する第2交差部P2と、を含んでいる。このことにより、第1交差部P1において、第2主流溝32の一対の側壁35、36のうち第1連絡溝51の側とは反対側の側壁36を配置させることができるとともに、第2交差部P2において、第2連絡溝52の側とは反対側の側壁35を配置させることができる。このため、蒸発部11に向かう作動液2に連続的に毛細管作用を付与させることができる。また、第1交差部P1と第2交差部P2で、互いに反対側に配置された側壁35、36で、第2主流溝32内の作動液2に毛細管作用を付与することができるため、第2主流溝32内の作動液2に付与される毛細管作用を第2方向Yにおいて均等化させることができる。この結果、蒸発部11に向かう作動液2の推進力が交差部P1、P2で低下することを抑制し、液状の作動液2の輸送機能を向上させ、熱輸送効率を向上させることができる。 In addition, according to this embodiment, the second mainstream groove 32 of the liquid flow path section 30 includes a first intersection P1 where the first communication groove 51 faces the second convex portion 42a, and a second intersection P2 where the second communication groove 52 faces the first convex portion 41a. As a result, the side wall 36 of the pair of side walls 35, 36 of the second mainstream groove 32 opposite the side of the first communication groove 51 can be arranged at the first intersection P1, and the side wall 35 opposite the side of the second communication groove 52 can be arranged at the second intersection P2. Therefore, the working fluid 2 heading toward the evaporation section 11 can be continuously given a capillary action. In addition, since the capillary action can be given to the working fluid 2 in the second mainstream groove 32 by the side walls 35, 36 arranged on the opposite sides at the first intersection P1 and the second intersection P2, the capillary action given to the working fluid 2 in the second mainstream groove 32 can be equalized in the second direction Y. As a result, the driving force of the working fluid 2 toward the evaporation section 11 is prevented from decreasing at the intersections P1 and P2, improving the transport function of the liquid working fluid 2 and improving heat transport efficiency.

また、本実施の形態によれば、第2主流溝32の第1交差部P1と第2交差部P2は、互いに隣り合っている。このことにより、第2主流溝32内の作動液2に作用する毛細管作用を幅方向で均等化させることができる。 In addition, according to this embodiment, the first intersection P1 and the second intersection P2 of the second mainstream groove 32 are adjacent to each other. This allows the capillary action acting on the working fluid 2 in the second mainstream groove 32 to be equalized in the width direction.

また、本実施の形態によれば、第2主流溝32の複数の第1交差部P1と複数の第2交差部P2が交互に配置されている。このことにより、第2主流溝32内の作動液2に付与される毛細管作用をより一層均等化させることができる。 Further, according to the present embodiment, the plurality of first intersections P1 and the plurality of second intersections P2 of the second mainstream groove 32 are arranged alternately. Thereby, the capillary action applied to the working fluid 2 in the second mainstream groove 32 can be made even more uniform.

また、本実施の形態によれば、液流路部30が第3主流溝33を有し、第3主流溝33が、第2連絡溝52が第3凸部43aに対向する第1交差部P1と、第3連絡溝53が第2凸部42aに対向する第2交差部P2と、を含んでいる。このことにより、上述した第2主流溝32と同様にして、下側金属シート10および上側金属シート20が、外気の圧力によって内側に凹んだ場合であっても、その凹みが、第3主流溝33を横断することを防止できる。また、第3主流溝33内の作動液2に付与される毛細管作用を均等化させることができる。このため、第3主流溝33の流路断面積を確保することができる。とりわけ、本実施の形態では、第1主流溝31および第4主流溝34も同様の第1交差部P1および第2交差部P2を含んでいるため、液流路部30の全体にわたって作動液2に付与される毛細管作用を均等化させるとともに、各主流溝31~34の流路断面積を確保することができ、作動液2の輸送機能をより一層向上させることができる。 In addition, according to this embodiment, the liquid flow path section 30 has a third mainstream groove 33, and the third mainstream groove 33 includes a first intersection P1 where the second communication groove 52 faces the third convex portion 43a, and a second intersection P2 where the third communication groove 53 faces the second convex portion 42a. As a result, in the same manner as the second mainstream groove 32 described above, even if the lower metal sheet 10 and the upper metal sheet 20 are recessed inward by the pressure of the outside air, the recess can be prevented from crossing the third mainstream groove 33. In addition, the capillary action imparted to the working fluid 2 in the third mainstream groove 33 can be made uniform. Therefore, the flow path cross-sectional area of the third mainstream groove 33 can be secured. In particular, in this embodiment, the first mainstream groove 31 and the fourth mainstream groove 34 also include the same first intersection P1 and second intersection P2, so that the capillary action imparted to the working fluid 2 throughout the entire liquid flow path section 30 can be equalized and the flow path cross-sectional area of each of the main mainstream grooves 31 to 34 can be secured, further improving the transport function of the working fluid 2.

また、本実施の形態によれば、第3主流溝33の第1交差部P1と第2交差部P2は、互いに隣り合っているため、毛細管作用が偏って付与されることをより一層抑制できる。とりわけ、第3主流溝33の複数の第1交差部P1と複数の第2交差部P2が交互に配置されているため、第3主流溝33内の作動液2に付与される毛細管作用をより一層均等化させることができる。 Further, according to the present embodiment, since the first intersection P1 and the second intersection P2 of the third mainstream groove 33 are adjacent to each other, uneven application of capillary action can be further suppressed. . In particular, since the plurality of first intersections P1 and the plurality of second intersections P2 of the third mainstream groove 33 are arranged alternately, the capillary action imparted to the working fluid 2 in the third mainstream groove 33 is further enhanced. Further equalization can be achieved.

また、本実施の形態によれば、下側流路壁部13の上面13aに当接する上側金属シート20の上側流路壁部22の下面22aが、平坦状になっており、第2主流溝32を覆っている。このことにより、各主流溝31~34および各連絡溝51~54の横断面において、直角状あるいは鋭角状の2つの角部37(図7参照)を形成することができ、各主流溝31~34内および各連絡溝51~54内の作動液2に作用する毛細管作用を高めることができる。 In addition, according to this embodiment, the lower surface 22a of the upper flow path wall portion 22 of the upper metal sheet 20, which abuts against the upper surface 13a of the lower flow path wall portion 13, is flat and covers the second mainstream groove 32. This allows two right-angled or acute-angled corners 37 (see FIG. 7) to be formed in the cross section of each of the mainstream grooves 31-34 and each of the connecting grooves 51-54, enhancing the capillary action acting on the working fluid 2 in each of the mainstream grooves 31-34 and each of the connecting grooves 51-54.

また、本実施の形態によれば、第1~第4主流溝31~34の幅w1が、第1~第4凸部41a~44aの幅w2よりも大きくなっている。このことにより、下側流路壁部13の上面13aに占める第1~第4主流溝31~34の割合を大きくすることができる。このため、液状の作動液2の輸送機能を向上させることができる。 In addition, according to this embodiment, the width w1 of the first to fourth main grooves 31 to 34 is greater than the width w2 of the first to fourth convex portions 41a to 44a. This increases the proportion of the upper surface 13a of the lower flow passage wall portion 13 that is occupied by the first to fourth main grooves 31 to 34. This improves the transport function of the liquid working fluid 2.

さらに、本実施の形態によれば、第1~第4連絡溝51~54の幅w3が、第1~第4主流溝31~34の幅w1よりも小さくなっている。このことにより、各主流溝31~34において蒸発部11に向かって液状の作動液2が輸送されている間では、作動液2が、連絡溝51~54に流れることを抑制でき、作動液2の輸送機能を向上させることができる。一方、主流溝31~34のいずれかにドライアウトが発生した場合には、隣の主流溝31~34から対応する連絡溝51~54を介して作動液2を移動させることができ、ドライアウトを迅速に解消して、作動液2の輸送機能を確保することができる。 Furthermore, according to this embodiment, the width w3 of the first to fourth communication grooves 51 to 54 is smaller than the width w1 of the first to fourth main grooves 31 to 34. As a result, while the liquid working fluid 2 is being transported toward the evaporation section 11 in each of the main grooves 31 to 34, the working fluid 2 can be prevented from flowing into the communication grooves 51 to 54, and the transport function of the working fluid 2 can be improved. On the other hand, if dryout occurs in any of the main grooves 31 to 34, the working fluid 2 can be moved from the adjacent main groove 31 to 34 through the corresponding communication groove 51 to 54, and the dryout can be quickly eliminated and the transport function of the working fluid 2 can be secured.

なお、上述した本実施の形態においては、第2主流溝32の第1交差部P1において、第1連絡溝51の全体が第2凸部42aに対向しているとともに、第2交差部P2において、第2連絡溝52の全体が第1凸部41aに対向している例について説明した。しかしながら、このことに限られることはなく、当該第1交差部P1において、第1連絡溝51の一部(第1連絡溝51の幅方向(第1方向X)における一部の領域)が、第2凸部42aに対向していればよい。また、第2交差部P2において、第2連絡溝52の一部が、第1凸部41aに対向していればよい。すなわち、第2方向Yで見たときに、第1連絡溝51と第2連絡溝52とが全体的に重なり合わなければ(第1連絡溝51と第2連絡溝52が一直線上に配置されなければ)、部分的に重なり合うようになっていてもよい。この場合であっても、第1方向Xにおける第1交差部P1の一部において、第2主流溝32の側壁36を配置させることができるとともに、第1方向Xにおける第2交差部P2の一部において、第2主流溝32の側壁35を配置させることができる。このため、第1交差部P1において蒸発部11に向かう方向の毛細管作用が喪失されることを防止できる。第1主流溝31、第3主流溝33および第4主流溝34の各々における第1交差部P1および第2交差部P2においても同様である。 In the present embodiment described above, at the first intersection P1 of the second main flow groove 32, the entire first communication groove 51 faces the second convex portion 42a, and at the second intersection P2, , an example has been described in which the entire second communication groove 52 faces the first convex portion 41a. However, the invention is not limited to this, and at the first intersection P1, a part of the first communication groove 51 (a part of the area in the width direction (first direction X) of the first communication groove 51) is It is sufficient that it faces the second convex portion 42a. Further, at the second intersection P2, a portion of the second communication groove 52 only needs to face the first convex portion 41a. That is, when viewed in the second direction Y, if the first communication groove 51 and the second communication groove 52 do not entirely overlap (the first communication groove 51 and the second communication groove 52 are arranged in a straight line) (if not), they may partially overlap. Even in this case, the side wall 36 of the second mainstream groove 32 can be disposed in a part of the first intersection P1 in the first direction X, and a part of the second intersection P2 in the first direction The side wall 35 of the second main flow groove 32 can be arranged in the section. Therefore, it is possible to prevent the capillary action in the direction toward the evaporation section 11 from being lost at the first intersection P1. The same applies to the first intersection P1 and the second intersection P2 in each of the first main flow groove 31, the third main flow groove 33, and the fourth main flow groove 34.

また、上述した本実施の形態においては、第1~第4主流溝31~34が、第1交差部P1および第2交差部P2をそれぞれ含んでいる例について説明した。しかしながら、このことに限られることはなく、液流路部30のうち少なくとも1つの主流溝31~34に、第1交差部P1および第2交差部P2を含んでいればよい。 In the above-described embodiment, an example has been described in which the first to fourth main grooves 31 to 34 each include a first intersection portion P1 and a second intersection portion P2. However, this is not limited to the above, and it is sufficient that at least one of the main grooves 31 to 34 in the liquid flow path section 30 includes the first intersection portion P1 and the second intersection portion P2.

例えば、液流路部30は、図14に示すような構成を有するようにしてもよい。図14に示す形態では、第2主流溝32および第4主流溝34は、図6に示す形態と同様に第1交差部P1および第2交差部P2を含んでいる。しかしながら、第1主流溝31および第3主流溝33は、図6に示す形態のような第1交差部P1および第2交差部P2を含んでいない。すなわち、第1主流溝31においては、第2方向Yに延びる第4連絡溝54および第1連絡溝51が、一直線上に配置されて、第1主流溝31、第4連絡溝54および第1連絡溝51が十字状に交わる第3交差部P3が形成されている。同様に、第3主流溝33においても、第2方向Yに延びる第2連絡溝52および第3連絡溝53が、一直線上に配置されて、第3主流溝33、第2連絡溝52および第3連絡溝53が十字状に交わる第3交差部P3が形成されている。このような形態であっても、第2主流溝32および第4主流溝34が、第1交差部P1および第2交差部P2を含んでいることにより、液流路部30における液状の作動液2の輸送機能を向上させることができる。 For example, the liquid flow path section 30 may have a configuration as shown in FIG. 14. In the form shown in FIG. 14, the second main flow groove 32 and the fourth main flow groove 34 include a first intersection P1 and a second intersection P2, similar to the form shown in FIG. However, the first mainstream groove 31 and the third mainstream groove 33 do not include the first intersection P1 and the second intersection P2 as shown in FIG. 6 . That is, in the first mainstream groove 31, the fourth communication groove 54 and the first communication groove 51 extending in the second direction Y are arranged in a straight line, and the first main flow groove 31, the fourth communication groove 54, and the first communication groove 51 extend in the second direction Y. A third intersection P3 is formed where the communication grooves 51 intersect in a cross shape. Similarly, in the third main flow groove 33, the second communication groove 52 and the third communication groove 53 extending in the second direction Y are arranged in a straight line, and the third main flow groove 33, the second communication groove 52, and the third communication groove 53 extend in the second direction Y. A third intersection P3 is formed where the three communication grooves 53 intersect in a cross shape. Even in such a configuration, the second mainstream groove 32 and the fourth mainstream groove 34 include the first intersection P1 and the second intersection P2, so that the liquid working fluid in the liquid flow path section 30 is 2 transportation function can be improved.

また、上述した本実施の形態においては、第1交差部P1および第2交差部P2は、各主流溝31~34に複数設けて交互に配置させる例について説明した。しかしながら、このことに限られることはない。例えば、各主流溝31~34に、1つの第1交差部P1と1つの第2交差部P2とを含んでいれば、作動液2の輸送機能向上を図ることができる。さらに、各主流溝31~34において、第1交差部P1と第2交差部P2とが互いに隣り合っている例について説明したが、これに限られることはない。例えば、各主流溝31~34において、第1交差部P1と第2交差部P2との間に、両側の連絡溝51~54が一直線上に配置されて主流溝31~34と連絡溝51~54とが十字状に交わる交差部(例えば、図14に示すP3)が形成されていてもよい。この場合であっても、第1交差部P1と第2交差部P2とによって、液流路部30における液状の作動液2の輸送機能向上を図ることができる。 Furthermore, in the present embodiment described above, an example has been described in which a plurality of first intersection portions P1 and second intersection portions P2 are provided in each of the main stream grooves 31 to 34 and arranged alternately. However, it is not limited to this. For example, if each of the main flow grooves 31 to 34 includes one first intersection P1 and one second intersection P2, the transport function of the hydraulic fluid 2 can be improved. Furthermore, although an example has been described in which the first intersection portion P1 and the second intersection portion P2 are adjacent to each other in each of the main flow grooves 31 to 34, the present invention is not limited to this. For example, in each of the main grooves 31 to 34, the communication grooves 51 to 54 on both sides are arranged in a straight line between the first intersection P1 and the second intersection P2, and the communication grooves 51 to 54 are arranged in a straight line between the first intersection P1 and the second intersection P2. An intersection (for example, P3 shown in FIG. 14) may be formed where 54 intersects in a cross shape. Even in this case, the first intersection P1 and the second intersection P2 can improve the transport function of the liquid hydraulic fluid 2 in the liquid flow path section 30.

また、上述した本実施の形態においては、第1~第4主流溝31~34と第1~第4連絡溝51~54が直交している例について説明した。しかしながら、このことに限られることはなく、第1~第4主流溝31~34と第1~第4連絡溝51~54は、互いに交わることができれば、直交していなくてもよい。 Furthermore, in the present embodiment described above, an example has been described in which the first to fourth main grooves 31 to 34 and the first to fourth communication grooves 51 to 54 are perpendicular to each other. However, the present invention is not limited to this, and the first to fourth main grooves 31 to 34 and the first to fourth communication grooves 51 to 54 do not need to be perpendicular to each other as long as they can intersect with each other.

例えば、図15に示すように、連絡溝51~54が整列する方向が、第1方向Xおよび第2方向Yに対してそれぞれ傾斜していてもよい。この場合の連絡溝51~54の第1方向Xに対する傾斜角度θは任意である。図15に示す例では、各凸部41a~44aの平面形状は、平行四辺形になっている。このような形状を矩形状のベーパーチャンバ1に採用した場合には、ベーパーチャンバ1の平面外輪郭をなす4つの外縁1a、1b(図2参照)と、連絡溝51~54とが直交しなくなる。この場合には、第2方向Yに延びる折り線で折れ曲がるように変形することを防止することができ、液流路部30の各溝31~34、51~54がつぶれることを防止できる。 For example, as shown in FIG. 15, the direction in which the communication grooves 51-54 are aligned may be inclined with respect to the first direction X and the second direction Y. In this case, the inclination angle θ of the communication grooves 51-54 with respect to the first direction X is arbitrary. In the example shown in FIG. 15, the planar shape of each of the convex portions 41a-44a is a parallelogram. If such a shape is adopted for a rectangular vapor chamber 1, the four outer edges 1a, 1b (see FIG. 2) that form the out-of-plane contour of the vapor chamber 1 and the communication grooves 51-54 will no longer be perpendicular. In this case, it is possible to prevent deformation such as bending at the fold lines extending in the second direction Y, and it is possible to prevent the grooves 31-34, 51-54 of the liquid flow path portion 30 from being crushed.

また、第1~第4主流溝31~34は、直線状に形成されていなくてもよい。例えば、図16においては、主流溝31~34は、直線状ではなく蛇行するように延びており、大局的には第1方向Xに延びている。より詳細には、主流溝31の一対の側壁35、36が、湾曲凹部と湾曲凸部とが交互に配置されるとともに連続状に滑らかに接続されるように形成されている。図16に示すように主流溝31~34が形成されている場合には、作動液2と凸部41a~44aとの接触面積が増え、作動液2の冷却効率を向上できる。 The first to fourth main grooves 31 to 34 do not have to be formed in a straight line. For example, in FIG. 16, the main grooves 31 to 34 extend in a meandering manner rather than in a straight line, and generally extend in the first direction X. More specifically, a pair of side walls 35, 36 of the main groove 31 are formed such that curved concave portions and curved convex portions are alternately arranged and smoothly connected in a continuous manner. When the main grooves 31 to 34 are formed as shown in FIG. 16, the contact area between the working fluid 2 and the convex portions 41a to 44a increases, and the cooling efficiency of the working fluid 2 can be improved.

また、上述した本実施の形態においては、各液流路部30の全体にわたって、凸部41a~44aが、矩形状で千鳥状に配置されている例について説明した。しかしながら、このことに限られることはなく、凸部41a~44aの少なくとも一部が、上述した図15または図16に示すような形状で配置されていてもよい。さらには、凸部41a~44aは、図6に示す千鳥状の配置、図15の配置、図16の配置のうちの少なくとも2つが組み合わされていてもよい。 In the above-described embodiment, an example has been described in which the protrusions 41a to 44a are arranged in a staggered rectangular pattern throughout each liquid flow path section 30. However, this is not limited to the above, and at least some of the protrusions 41a to 44a may be arranged in a shape as shown in FIG. 15 or FIG. 16. Furthermore, the protrusions 41a to 44a may be arranged in a combination of at least two of the staggered pattern shown in FIG. 6, the arrangement in FIG. 15, and the arrangement in FIG. 16.

また、上述した本実施の形態においては、第1凸部41a、第2凸部42a、第3凸部43aおよび第4凸部44aが同一形状を有している例について説明した。しかしながら、このことに限られることはなく、第1~第4凸部41a~44aは、互いに異なる形状を有していてもよい。 Furthermore, in the present embodiment described above, an example has been described in which the first convex portion 41a, the second convex portion 42a, the third convex portion 43a, and the fourth convex portion 44a have the same shape. However, the present invention is not limited to this, and the first to fourth convex portions 41a to 44a may have mutually different shapes.

例えば、第2凸部42aおよび第4凸部44aの第1方向Xの長さが、図17に示すように、第1凸部41aおよび第3凸部43aよりも長くなっていてもよい。図17に示す形態では、第2主流溝32および第4主流溝34において、2つの第2交差部P2の間に、2つの第1交差部P1が介在されている。すなわち、図6に示すように第1交差部P1と第2交差部P2とが互いに交互に配置されるようにはなっていない。また、第1主流溝31および第3主流溝33において、2つの第1交差部P1の間に、2つの第2交差部P2が介在されており、第1交差部P1と第2交差部P2とが交互に配置されていない。この場合においても、第1交差部P1と第2交差部P2とによって、液流路部30における液状の作動液2の輸送機能向上を図ることができる。 For example, the lengths in the first direction X of the second convex portion 42a and the fourth convex portion 44a may be longer than those of the first convex portion 41a and the third convex portion 43a, as shown in FIG. In the form shown in FIG. 17, in the second mainstream groove 32 and the fourth mainstream groove 34, two first intersections P1 are interposed between two second intersections P2. That is, as shown in FIG. 6, the first intersections P1 and the second intersections P2 are not arranged alternately. Further, in the first mainstream groove 31 and the third mainstream groove 33, two second intersections P2 are interposed between the two first intersections P1, and the first intersection P1 and the second intersection P2 are interposed between the two first intersections P1. are not arranged alternately. Even in this case, the first intersection P1 and the second intersection P2 can improve the transport function of the liquid hydraulic fluid 2 in the liquid flow path section 30.

また、上述した本実施の形態においては、上側金属シート20の上側流路壁部22が、ベーパーチャンバ1の第1方向Xに沿って細長状に延びている例について説明した。しかしながら、このことに限られることはなく、上側流路壁部22の形状は任意である。例えば、上側流路壁部22は、円柱状のボスとして形成されていてもよい。この場合においても、上側流路壁部22は、下側流路壁部13に平面視で重なるように配置して、上側流路壁部22の下面22aを、下側流路壁部13の上面13aに当接させることが好適である。 In the above-described embodiment, an example has been described in which the upper flow passage wall portion 22 of the upper metal sheet 20 extends in an elongated shape along the first direction X of the vapor chamber 1. However, this is not limited to this, and the shape of the upper flow passage wall portion 22 is arbitrary. For example, the upper flow passage wall portion 22 may be formed as a cylindrical boss. Even in this case, it is preferable to arrange the upper flow passage wall portion 22 so that it overlaps the lower flow passage wall portion 13 in a plan view, and to abut the lower surface 22a of the upper flow passage wall portion 22 against the upper surface 13a of the lower flow passage wall portion 13.

また、上述した本実施の形態においては、上側金属シート20が、上側蒸気流路凹部21を有している例について説明したが、このことに限られることはなく、上側金属シート20は、全体的に平板状に形成されて、上側蒸気流路凹部21を有していなくてもよい。この場合には、上側金属シート20の下面20aが、第2当接面として下側流路壁部13の上面13aに当接するようになり、ベーパーチャンバ1の機械的強度を向上させることができる。 In addition, in the above-described embodiment, an example has been described in which the upper metal sheet 20 has the upper steam flow path recess 21, but this is not limited thereto, and the upper metal sheet 20 may be formed as a flat plate overall and may not have the upper steam flow path recess 21. In this case, the lower surface 20a of the upper metal sheet 20 abuts against the upper surface 13a of the lower flow path wall portion 13 as a second abutment surface, thereby improving the mechanical strength of the vapor chamber 1.

また、上述した本実施の形態においては、下側金属シート10が、下側蒸気流路凹部12と、液流路部30と、を有している例について説明した。しかしながら、このことに限られることはなく、上側金属シート20が上側蒸気流路凹部21を有していれば、下側金属シート10は、下側蒸気流路凹部12を有することなく、液流路部30が、下側金属シート10の上面10aに設けられていてもよい。この場合、図18に示すように、上面10aのうち液流路部30が形成される領域は、上側流路壁部22に対向する領域に加えて、上側蒸気流路凹部21に対向する領域のうち上側流路壁部22を除く領域にも形成されていてもよい。この場合、液流路部30を構成する主流溝31~34の個数を増やすことができ、液状の作動液2の輸送機能を向上させることができる。しかしながら、液流路部30を形成する領域は、図18に示す形態に限られることはなく、液状の作動液2の輸送機能を確保することができれば任意である。また、図18に示す形態では、上側金属シート20の上側流路壁部22の下面22a(当接面)は、蒸気流路を確保するために、上側金属シート20の下面20aのうちの一部の領域に形成されており、下側金属シート10の上面10aのうち液流路部30が形成された領域の一部に、上側流路壁部22の下面22aが当接するようになる。 Furthermore, in the present embodiment described above, an example has been described in which the lower metal sheet 10 has the lower vapor channel recess 12 and the liquid channel section 30. However, the present invention is not limited to this, and if the upper metal sheet 20 has the upper steam flow path recess 21, the lower metal sheet 10 does not have the lower steam flow path recess 12, and the liquid flow The path portion 30 may be provided on the upper surface 10a of the lower metal sheet 10. In this case, as shown in FIG. 18, the region of the upper surface 10a where the liquid flow path portion 30 is formed is the region facing the upper steam flow path recess 21 in addition to the region facing the upper flow path wall portion 22. It may also be formed in a region other than the upper channel wall portion 22. In this case, the number of mainstream grooves 31 to 34 constituting the liquid flow path section 30 can be increased, and the transport function of the liquid working fluid 2 can be improved. However, the region forming the liquid flow path portion 30 is not limited to the form shown in FIG. 18, and may be any region as long as it can ensure the transport function of the liquid working fluid 2. Further, in the form shown in FIG. 18, the lower surface 22a (contact surface) of the upper flow path wall portion 22 of the upper metal sheet 20 is attached to one of the lower surfaces 20a of the upper metal sheet 20 in order to secure a steam flow path. The lower surface 22a of the upper flow path wall portion 22 comes into contact with a part of the region of the upper surface 10a of the lower metal sheet 10 where the liquid flow path portion 30 is formed.

また、上述した本実施の形態においては、第1~第4主流溝31~34が、第1交差部P1と第2交差部P2とを含んでいる例について説明した。しかしながら、このことに限られることはなく、各主流溝31~34が交差部P1、P2を含んでいなくても、第1~第4主流溝31~34の幅w1が、第1~第4凸部41a~44aの幅w2よりも大きくなっていれば、下側流路壁部13の上面13aに占める第1~第4主流溝31~34の割合を大きくすることができる。この場合においても、作動液2の輸送機能を向上させて、熱輸送効率を向上させることができる。 In the above-described embodiment, an example has been described in which the first to fourth mainstream grooves 31 to 34 include the first intersection P1 and the second intersection P2. However, this is not limited to the above, and even if each mainstream groove 31 to 34 does not include the intersections P1 and P2, the proportion of the first to fourth mainstream grooves 31 to 34 on the upper surface 13a of the lower flow path wall 13 can be increased as long as the width w1 of the first to fourth mainstream grooves 31 to 34 is greater than the width w2 of the first to fourth convex portions 41a to 44a. Even in this case, the transport function of the working fluid 2 can be improved, and the heat transport efficiency can be improved.

(第2の実施の形態)
次に、図19乃至図23を用いて、本発明の第2の実施の形態におけるベーパーチャンバ、電子機器、ベーパーチャンバ用金属シートおよびベーパーチャンバの製造方法について説明する。
(Second embodiment)
Next, a vapor chamber, an electronic device, a metal sheet for a vapor chamber, and a method for manufacturing a vapor chamber according to a second embodiment of the present invention will be described using FIGS. 19 to 23.

図19乃至図23に示す第2の実施の形態においては、第1~第4連絡溝の幅が、第1~第4主流溝の幅よりも大きい点が主に異なり、他の構成は、図1乃至図18に示す第1の実施の形態と略同一である。なお、図19乃至図23において、図1乃至図18に示す第1の実施の形態と同一部分には同一符号を付して詳細な説明は省略する。 The second embodiment shown in Figures 19 to 23 differs mainly in that the widths of the first to fourth connecting grooves are greater than the widths of the first to fourth main grooves, and the rest of the configuration is substantially the same as the first embodiment shown in Figures 1 to 18. Note that in Figures 19 to 23, the same parts as those in the first embodiment shown in Figures 1 to 18 are given the same reference numerals and detailed descriptions are omitted.

図19に示すように、本実施の形態においては、第1~第4連絡溝51~54の幅w3’が、第1~第4主流溝31~34の幅w1(より詳細には、後述する第1~第4主流溝本体部31a~34aの幅)よりも大きくなっている。連絡溝51~54の幅w3’は、例えば40μm~300μmとしてもよい。本実施の形態では、図20および図21に示すように、各主流溝31~34の横断面形状および各連絡溝51~54の横断面形状が湾曲状に形成されている例について説明する。この場合、溝31~34、51~54の幅は、下側流路壁部13の上面13aにおける溝の幅とする。後述する凸部41a~44aの幅も同様に、上面13aにおける凸部の幅とする。 As shown in FIG. 19, in this embodiment, the width w3' of the first to fourth communication grooves 51 to 54 is larger than the width w1 of the first to fourth mainstream grooves 31 to 34 (more specifically, the width of the first to fourth mainstream groove main bodies 31a to 34a described later). The width w3' of the communication grooves 51 to 54 may be, for example, 40 μm to 300 μm. In this embodiment, as shown in FIG. 20 and FIG. 21, an example will be described in which the cross-sectional shapes of the main mainstream grooves 31 to 34 and the cross-sectional shapes of the communication grooves 51 to 54 are curved. In this case, the widths of the grooves 31 to 34 and 51 to 54 are the widths of the grooves on the upper surface 13a of the lower flow path wall portion 13. Similarly, the widths of the convex portions 41a to 44a described later are the widths of the convex portions on the upper surface 13a.

ところで、本実施の形態においても、上側金属シート20の上側流路壁部22の下面22aは、平坦状に形成されている。このことにより、液流路部30の第1~第4主流溝31~34は、平坦状の下面22aで覆われている。この場合、図20に示すように、第1~第4主流溝31~34の第1方向Xに延びる一対の側壁35、36と上側流路壁部22の下面22aとにより、直角状あるいは鋭角状の2つの角部37を形成することができ、これら2つの角部37における毛細管作用を高めることができる。すなわち、第1~第4主流溝31~34の横断面が湾曲状に形成されている場合であっても、角部37において毛細管作用を高めることができる。 Incidentally, even in this embodiment, the lower surface 22a of the upper flow path wall portion 22 of the upper metal sheet 20 is formed flat. As a result, the first to fourth mainstream grooves 31 to 34 of the liquid flow path portion 30 are covered with the flat lower surface 22a. In this case, as shown in FIG. 20, a pair of side walls 35, 36 extending in the first direction X of the first to fourth mainstream grooves 31 to 34 and the lower surface 22a of the upper flow path wall portion 22 can form two right-angled or acute-angled corners 37, and the capillary action at these two corners 37 can be enhanced. In other words, even if the cross sections of the first to fourth mainstream grooves 31 to 34 are formed curved, the capillary action at the corners 37 can be enhanced.

同様に、液流路部30の第1~第4連絡溝51~54は、平坦状の下面22aで覆われている。この場合、図21に示すように、第1~第4連絡溝51~54の第2方向Yに延びる一対の側壁55、56と上側流路壁部22の下面22aとにより、直角状あるいは鋭角状の2つの角部57を形成することができ、これら2つの角部57における毛細管作用を高めることができる。すなわち、第1~第4連絡溝51~54の横断面が湾曲状に形成されている場合であっても、角部57において毛細管作用を高めることができる。 Similarly, the first to fourth communication grooves 51 to 54 of the liquid flow path section 30 are covered with a flat lower surface 22a. In this case, as shown in FIG. 21, a pair of side walls 55, 56 extending in the second direction Y of the first to fourth communication grooves 51 to 54 and the lower surface 22a of the upper flow path wall section 22 can form two right-angled or acute-angled corners 57, and the capillary action at these two corners 57 can be enhanced. In other words, even if the cross sections of the first to fourth communication grooves 51 to 54 are formed in a curved shape, the capillary action at the corners 57 can be enhanced.

ここで、蒸気から凝縮した液状の作動液2は、後述するように、第1~第4連絡溝51~54を通って第1~第4主流溝31~34に入り込む。このため、第1~第4連絡溝51~54の毛細管作用が高められることにより、凝縮した液状の作動液2をスムースに第1~第4主流溝31~34に入り込ませることができる。凝縮した液状の作動液2は、第1~第4連絡溝51~54の毛細管作用によって、蒸気流路凹部12、21に近い側の主流溝31だけでなく、蒸気流路凹部12、21から遠い側の第1~第4主流溝31~34にスムースに入り込むことができ、凝縮した液状の作動液2の輸送機能を向上させることができる。また、第1~第4連絡溝51の幅w3’を第1~第4主流溝31~34の幅w1よりも大きくしていることにより、第1~第4連絡溝51~54内における作動液2の流路抵抗を低減することができ、この点においても、凝縮した液状の作動液2を、第1~第4各主流溝31~34にスムースに入り込ませることができる。そして、第1~第4主流溝31~34に入り込んだ作動液2は、第1~第4主流溝31~34の毛細管作用によって蒸発部11に向かってスムースに輸送することができる。このため、液流路部30全体として、液状の作動液2の輸送機能を向上させることができる。 Here, the liquid working fluid 2 condensed from steam enters the first to fourth main flow grooves 31 to 34 through the first to fourth communication grooves 51 to 54, as described later. Therefore, by increasing the capillary action of the first to fourth communication grooves 51 to 54, the condensed liquid working fluid 2 can smoothly enter the first to fourth mainstream grooves 31 to 34. Due to the capillary action of the first to fourth communication grooves 51 to 54, the condensed liquid working fluid 2 flows not only from the main stream groove 31 on the side closer to the steam flow path recesses 12 and 21 but also from the steam flow path recesses 12 and 21. It can smoothly enter the first to fourth mainstream grooves 31 to 34 on the far side, and the transport function of the condensed liquid working fluid 2 can be improved. Furthermore, by making the width w3' of the first to fourth communication grooves 51 larger than the width w1 of the first to fourth main flow grooves 31 to 34, the operation within the first to fourth communication grooves 51 to 54 is The flow path resistance of the liquid 2 can be reduced, and in this respect as well, the condensed liquid working liquid 2 can smoothly enter the first to fourth main flow grooves 31 to 34. The working fluid 2 that has entered the first to fourth mainstream grooves 31 to 34 can be smoothly transported toward the evaporation section 11 by the capillary action of the first to fourth mainstream grooves 31 to 34. Therefore, the transport function of the liquid working fluid 2 can be improved as a whole of the liquid flow path section 30.

また、第1~第4凸部41a~44aの第1方向Xにおける両端部は、平面視で丸みを帯びた形状になっている。すなわち、各凸部41a~44aは、大局的に見れば矩形状に形成されているが、その角部には、丸みを帯びた湾曲部45が設けられている。これにより、各凸部41a~44aの角部が滑らかに湾曲状に形成され、液状の作動液2の流路抵抗の低減が図られている。なお、凸部41a~44aの図19における右側の端部および左側の端部ではそれぞれ、2つの湾曲部45が設けられており、これら2つの湾曲部45の間に直線状部分46が設けられている例が示されている。このため、第1~第4連絡溝51~54の幅w3’は、第1方向Xに互いに隣り合う凸部41a~44aの直線状部分46の間の距離とする。図6に示すように、各凸部41a~44aに湾曲部45が形成されていない場合も同様である。しかしながら、凸部41a~44aの端部形状は、これに限られることはない。例えば、右側の端部および左側の端部のそれぞれに、直線状部分46が設けられることなく、端部の全体が湾曲するように(例えば半円状のように)形成されていてもよい。この場合の各連絡溝51~54の幅w3’は、第1方向Xにおいて互いに隣り合う凸部41a~44aの間の最小距離とする。なお、図面を明瞭にするために、図19においては、最も下に図示した第4凸部44aに湾曲部45および直線状部分46を代表的に示している。 In addition, both ends of the first to fourth convex portions 41a to 44a in the first direction X are rounded in plan view. That is, each of the convex portions 41a to 44a is formed in a rectangular shape when viewed from a broad perspective, but the corners are provided with rounded curved portions 45. As a result, the corners of each of the convex portions 41a to 44a are smoothly curved, reducing the flow resistance of the liquid working fluid 2. In addition, an example is shown in which two curved portions 45 are provided at the right end and the left end of the convex portions 41a to 44a in FIG. 19, and a straight portion 46 is provided between these two curved portions 45. For this reason, the width w3' of the first to fourth communication grooves 51 to 54 is the distance between the straight portions 46 of the convex portions 41a to 44a adjacent to each other in the first direction X. As shown in FIG. 6, the same applies when the curved portions 45 are not formed in each of the convex portions 41a to 44a. However, the shape of the ends of the convex portions 41a to 44a is not limited to this. For example, the right end and the left end may be formed so that the entire end is curved (e.g., semicircular) without the straight portion 46. In this case, the width w3' of each communication groove 51 to 54 is the minimum distance between adjacent convex portions 41a to 44a in the first direction X. Note that, for clarity of illustration, in FIG. 19, the curved portion 45 and the straight portion 46 are representatively shown in the fourth convex portion 44a shown at the bottom.

図20および図21に示すように、本実施の形態においては、第1~第4連絡溝51~54の深さh3’は、第1~第4主流溝31~34の深さh1(より詳細には、後述する第1~第4主流溝本体部31a~34aの深さ)よりも大きくなっている。ここで、上述したように、各主流溝31~34の横断面形状および各連絡溝51~54の横断面形状が湾曲状に形成されている場合、溝31~34、51~54の深さは、その溝において最も深い位置における深さとする。第1~第4連絡溝51~54の深さh3’は、例えば10μm~250μmとしてもよい。 As shown in FIGS. 20 and 21, in the present embodiment, the depth h3' of the first to fourth communication grooves 51 to 54 is greater than the depth h1 of the first to fourth main flow grooves 31 to 34. Specifically, the depth is larger than the depths of first to fourth main groove main body portions 31a to 34a, which will be described later. Here, as described above, when the cross-sectional shape of each main flow groove 31-34 and the cross-sectional shape of each communication groove 51-54 are formed in a curved shape, the depth of the grooves 31-34, 51-54 is the depth at the deepest position in the groove. The depth h3' of the first to fourth communication grooves 51 to 54 may be, for example, 10 μm to 250 μm.

本実施の形態においては、図22に示すように、第1~第4主流溝31~34の第1交差部P1および第2交差部P2の深さh1’が、主流溝31~34のうち第1交差部P1以外かつ第2交差部P2以外の部分の深さh1よりも深くなっている。すなわち、第1~第4主流溝31~34は、第1交差部P1と第2交差部P2との間に設けられた第1~第4主流溝本体部31a~34aを更に含んでいる。第1~第4主流溝本体部31a~34aは、互いに隣り合う凸部41a~44aの間に位置する部分であって、互いに隣り合う第1交差部P1と第2交差部P2との間に位置する部分である。この第1~第4主流溝本体部31a~34aの深さh1よりも第1交差部P1および第2交差部P2の深さh1’が深くなっている。第1交差部P1の深さh1’は、第1交差部P1において最も深い位置における深さとし、第2交差部P2の深さh1’は、第2交差部P2において最も深い位置における深さとする。 In this embodiment, as shown in FIG. 22, the depth h1' of the first intersection P1 and the second intersection P2 of the first to fourth mainstream grooves 31 to 34 is deeper than the depth h1 of the portions of the mainstream grooves 31 to 34 other than the first intersection P1 and the second intersection P2. That is, the first to fourth mainstream grooves 31 to 34 further include the first to fourth mainstream groove main bodies 31a to 34a provided between the first intersection P1 and the second intersection P2. The first to fourth mainstream groove main bodies 31a to 34a are portions located between the adjacent convex portions 41a to 44a, and are portions located between the adjacent first intersection P1 and the second intersection P2. The depth h1' of the first intersection P1 and the second intersection P2 is deeper than the depth h1 of the first to fourth mainstream groove main bodies 31a to 34a. The depth h1' of the first intersection P1 is the depth at the deepest position of the first intersection P1, and the depth h1' of the second intersection P2 is the depth at the deepest position of the second intersection P2.

より具体的には、図19および図22に示すように、第1主流溝31の第1交差部P1および第2交差部P2の深さh1’が、第1主流溝31のうち第4凸部44aと第1凸部41aとの間の部分(第1主流溝本体部31a)の深さh1よりも深くなっている。同様に、第2主流溝32の第1交差部P1および第2交差部P2の深さh1’が、第2主流溝32のうち第1凸部41aと第2凸部42aとの間の部分(第2主流溝本体部32a)の深さh1よりも深くなっている。第3主流溝33の第1交差部P1および第2交差部P2の深さh1’が、第3主流溝33のうち第2凸部42aと第3凸部43aとの間の部分(第3主流溝本体部33a)の深さh1よりも深くなっている。第4主流溝34の第1交差部P1および第2交差部P2の深さh1’が、第4主流溝34のうち第3凸部43aと第4凸部44aとの間の部分(第4主流溝本体部34a)の深さh1よりも深くなっている。 19 and 22, the depth h1' of the first intersection P1 and the second intersection P2 of the first mainstream groove 31 is deeper than the depth h1 of the portion (first mainstream groove main body 31a) between the fourth convex portion 44a and the first convex portion 41a of the first mainstream groove 31. Similarly, the depth h1' of the first intersection P1 and the second intersection P2 of the second mainstream groove 32 is deeper than the depth h1 of the portion (second mainstream groove main body 32a) between the first convex portion 41a and the second convex portion 42a of the second mainstream groove 32. The depth h1' of the first intersection P1 and the second intersection P2 of the third mainstream groove 33 is deeper than the depth h1 of the portion (third mainstream groove main body 33a) between the second convex portion 42a and the third convex portion 43a of the third mainstream groove 33. The depth h1' of the first intersection P1 and the second intersection P2 of the fourth mainstream groove 34 is deeper than the depth h1 of the portion of the fourth mainstream groove 34 between the third convex portion 43a and the fourth convex portion 44a (the fourth mainstream groove main body portion 34a).

また、第1~第4主流溝31~34の第1交差部P1および第2交差部P2の深さh1’は、第1~第4連絡溝51~54の深さh3’よりも深くなっていてもよい。このような第1交差部P1および第2交差部P2の深さh1’は、例えば20μm~300μmとしてもよい。 Further, the depth h1' of the first intersection P1 and the second intersection P2 of the first to fourth main flow grooves 31 to 34 is deeper than the depth h3' of the first to fourth communication grooves 51 to 54. You can leave it there. The depth h1' of the first intersection P1 and the second intersection P2 may be, for example, 20 μm to 300 μm.

また、図19に示すように、第1~第4凸部41a~44aは、上述したように、大局的に見れば矩形状に形成されているが、図6に示すような第1~第4凸部41a~44aの平面形状とは異なっている。すなわち、第1~第4凸部41a~44aは、第1方向Xにおける両側に設けられた一対の第1~第4凸部端部41b~44bと、一対の第1~第4凸部端部41b~44bの間に設けられた第1~第4凸部中間部41c~44cと、を含んでいる。このうち第1~第4凸部中間部41c~44cの幅w4は、第1~第4凸部端部41b~44bの幅w2(上述した第1~第4凸部41a~44aの幅w2に相当)よりも小さくなっている。 As shown in FIG. 19, the first to fourth convex portions 41a to 44a are generally rectangular as described above, but are different from the planar shapes of the first to fourth convex portions 41a to 44a shown in FIG. 6. That is, the first to fourth convex portions 41a to 44a include a pair of first to fourth convex portion ends 41b to 44b provided on both sides in the first direction X, and a pair of first to fourth convex portion intermediate portions 41c to 44c provided between the pair of first to fourth convex portion ends 41b to 44b. Of these, the width w4 of the first to fourth convex portion intermediate portions 41c to 44c is smaller than the width w2 of the first to fourth convex portion ends 41b to 44b (corresponding to the width w2 of the first to fourth convex portions 41a to 44a described above).

より具体的には、第1凸部中間部41cの幅w4は、第1凸部端部41bの幅w2よりも小さくなっており、第1凸部41aの壁(すなわち、第1主流溝31の側壁36および第2主流溝32の側壁35)は、第1凸部41aの内部に向かって凹むように滑らかに湾曲している。このため、第1凸部中間部41cの幅w4は、2つの壁の間の最小距離とする。同様に、第2凸部中間部42cの幅w4は、第2凸部端部42bの幅w2よりも小さくなっており、第2凸部42aの壁(すなわち、第2主流溝32の側壁36および第3主流溝33の側壁35)は、第2凸部42aの内部に向かって凹むように滑らかに湾曲している。第3凸部中間部43cの幅w4は、第3凸部端部43bの幅w2よりも小さくなっており、第3凸部43aの壁(すなわち、第3主流溝33の側壁36および第4主流溝34の側壁35)は、第3凸部43aの内部に向かって凹むように滑らかに湾曲している。第4凸部中間部44cの幅w4は、第4凸部端部44bの幅w2よりも小さくなっており、第4凸部44aの壁(すなわち、第4主流溝34の側壁36および第1主流溝31の側壁35)は、第4凸部44aの内部に向かって凹むように滑らかに湾曲している。このような第1~第4凸部中間部41c~44cの幅w4は、例えば15μm~175μmとしてもよい。 More specifically, the width w4 of the first convex intermediate portion 41c is smaller than the width w2 of the first convex end portion 41b, and the walls of the first convex portion 41a (i.e., the side wall 36 of the first main groove 31 and the side wall 35 of the second main groove 32) are smoothly curved so as to be concave toward the inside of the first convex portion 41a. For this reason, the width w4 of the first convex intermediate portion 41c is the minimum distance between the two walls. Similarly, the width w4 of the second convex intermediate portion 42c is smaller than the width w2 of the second convex end portion 42b, and the walls of the second convex portion 42a (i.e., the side wall 36 of the second main groove 32 and the side wall 35 of the third main groove 33) are smoothly curved so as to be concave toward the inside of the second convex portion 42a. The width w4 of the third convex intermediate portion 43c is smaller than the width w2 of the third convex end portion 43b, and the walls of the third convex portion 43a (i.e., the sidewall 36 of the third main groove 33 and the sidewall 35 of the fourth main groove 34) are smoothly curved so as to be recessed toward the inside of the third convex portion 43a. The width w4 of the fourth convex intermediate portion 44c is smaller than the width w2 of the fourth convex end portion 44b, and the walls of the fourth convex portion 44a (i.e., the sidewall 36 of the fourth main groove 34 and the sidewall 35 of the first main groove 31) are smoothly curved so as to be recessed toward the inside of the fourth convex portion 44a. The width w4 of the first to fourth convex intermediate portions 41c to 44c may be, for example, 15 μm to 175 μm.

上述したように、第1~第4連絡溝51~54の深さh3’が、第1~第4主流溝31~34の第1~第4主流溝本体部31a~34aの深さh1よりも深くなっているとともに、第1~第4主流溝31~34の第1交差部P1および第2交差部P2の深さh1’が、第1~第4主流溝本体部31a~34aの深さh1よりも深くなっている。このことにより、第2交差部P2から第1~第4連絡溝51~54を介して第1交差部P1にわたる領域に、第1~第4主流溝本体部31a~34aの深さh1よりも深いバッファ領域Qが形成されている。このバッファ領域Qは、液状の作動液2を貯留可能になっている。 As described above, the depth h3' of the first to fourth communication grooves 51 to 54 is deeper than the depth h1 of the first to fourth main groove body portions 31a to 34a of the first to fourth main grooves 31 to 34, and the depth h1' of the first intersection portion P1 and the second intersection portion P2 of the first to fourth main grooves 31 to 34 is deeper than the depth h1 of the first to fourth main groove body portions 31a to 34a. As a result, a buffer region Q deeper than the depth h1 of the first to fourth main groove body portions 31a to 34a is formed in the region from the second intersection portion P2 to the first intersection portion P1 via the first to fourth communication grooves 51 to 54. This buffer region Q is capable of storing the liquid working fluid 2.

より具体的には、例えば、第1主流溝31の第2交差部P2から第1連絡溝51を介して第2主流溝32の第1交差部P1にわたる領域に、第1主流溝本体部31aおよび第2主流溝本体部32aの深さh1より深いバッファ領域Qが形成されている。通常、液流路部30の各主流溝31~34および各連絡溝51~54には、液状の作動液2が充填されている。このため、バッファ領域Qの深さ(h1’およびh3’)が第1~第4主流溝本体部31a~34aの深さh1よりも深くなっていることにより、バッファ領域Qに多くの作動液2を貯留することが可能になっている。上述のように、各主流溝31~34および各連絡溝51~54には作動液2が充填されることから、ベーパーチャンバ1の姿勢に関わることなく、バッファ領域Qには作動液2を貯留することができる。 More specifically, for example, a buffer region Q deeper than the depth h1 of the first mainstream groove body portion 31a and the second mainstream groove body portion 32a is formed in the region extending from the second intersection portion P2 of the first mainstream groove 31 to the first intersection portion P1 of the second mainstream groove 32 via the first connecting groove 51. Normally, each of the mainstream grooves 31-34 and each of the connecting grooves 51-54 of the liquid flow path portion 30 is filled with liquid working fluid 2. Therefore, since the depth (h1' and h3') of the buffer region Q is deeper than the depth h1 of the first to fourth mainstream groove body portions 31a-34a, it is possible to store a large amount of working fluid 2 in the buffer region Q. As described above, each of the mainstream grooves 31-34 and each of the connecting grooves 51-54 are filled with the working fluid 2, so that the working fluid 2 can be stored in the buffer region Q regardless of the attitude of the vapor chamber 1.

同様にして、第2主流溝32の第2交差部P2から第2連絡溝52を介して第3主流溝33の第1交差部P1にわたる領域に、第2主流溝本体部32aおよび第3主流溝本体部33aの深さh1より深いバッファ領域Qが形成されている。第3主流溝33の第2交差部P2から第3連絡溝53を介して第4主流溝34の第1交差部P1にわたる領域に、第3主流溝本体部33aおよび第4主流溝本体部34aの深さh1より深いバッファ領域Qが形成されている。第4主流溝34の第2交差部P2から第4連絡溝54を介して第1主流溝31の第1交差部P1にわたる領域に、第4主流溝本体部34aおよび第1主流溝本体部31aの深さh1より深いバッファ領域Qが形成されている。 Similarly, the second mainstream groove body 32a and the third mainstream A buffer region Q is formed which is deeper than the depth h1 of the groove main body portion 33a. A third mainstream groove body 33a and a fourth mainstream groove body 34a are provided in a region extending from the second intersection P2 of the third mainstream groove 33 to the first intersection P1 of the fourth mainstream groove 34 via the third communication groove 53. A buffer region Q deeper than the depth h1 is formed. In a region extending from the second intersection P2 of the fourth mainstream groove 34 to the first intersection P1 of the first mainstream groove 31 via the fourth communication groove 54, the fourth main groove body 34a and the first mainstream groove body 31a are A buffer region Q deeper than the depth h1 is formed.

なお、ベーパーチャンバ1の各液流路部30には多数の第1交差部P1および第2交差部P2が形成されているが、そのうちの少なくとも1つの交差部P1、P2の深さh1’が主流溝本体部31a~34aの深さh1(または連絡溝51~54の深さh3’)よりも深くなっていれば、当該交差部P1、P2における作動液2の貯留性能を向上させることができる。この貯留性能は、主流溝本体部31a~34aの深さh1よりも深いh1’を有する交差部P1、P2の箇所数が増えるにつれて向上するため、全ての交差部P1、P2の深さh1’が同様の深さを有していることが好ましい。しかしながら、製造誤差などによって、一部の交差部P1、P2の深さh1’が、主流溝本体部31a~34aの深さh1よりも深くなくても、作動液2の貯留性能を向上させることができることは明らかである。連絡溝51~54の深さh3’についても同様である。 In addition, a large number of first intersections P1 and second intersections P2 are formed in each liquid flow path section 30 of the vapor chamber 1, and if the depth h1' of at least one of the intersections P1, P2 is deeper than the depth h1 of the main groove body parts 31a to 34a (or the depth h3' of the communication grooves 51 to 54), the storage performance of the working fluid 2 at the intersections P1, P2 can be improved. This storage performance improves as the number of intersections P1, P2 having a depth h1' deeper than the depth h1 of the main groove body parts 31a to 34a increases, so it is preferable that the depth h1' of all intersections P1, P2 have the same depth. However, it is clear that the storage performance of the working fluid 2 can be improved even if the depth h1' of some intersections P1, P2 is not deeper than the depth h1 of the main groove body parts 31a to 34a due to manufacturing errors, etc. The same applies to the depth h3' of the communication grooves 51 to 54.

ここで、完成形のベーパーチャンバ1から主流溝31~34の幅、深さおよび連絡溝51~54の幅、深さを確認する方法について説明する。一般に、ベーパーチャンバ1の外部からは、主流溝31~34および連絡溝51~54は見えないようになっている。このため、完成形のベーパーチャンバ1を所望の位置で切断して得られた断面形状から、主流溝31~34および連絡溝51~54の幅、深さを確認する方法が挙げられる。 Here, a method for checking the widths and depths of the main stream grooves 31 to 34 and the widths and depths of the communication grooves 51 to 54 from the completed vapor chamber 1 will be explained. Generally, the main stream grooves 31 to 34 and the communication grooves 51 to 54 are not visible from the outside of the vapor chamber 1. For this reason, there is a method of checking the width and depth of the main stream grooves 31 to 34 and the communication grooves 51 to 54 from the cross-sectional shape obtained by cutting the completed vapor chamber 1 at a desired position.

具体的には、まず、ベーパーチャンバ1を10mm角片にワイヤーソーで切断して試料とした。続いて、蒸気流路凹部12、21および液流路部30(主流溝31~34および連絡溝51~54)に樹脂が入り込むように、試料を真空脱泡しながら樹脂包埋する。次に、所望の断面が得られるようにダイヤモンドナイフでトリミング加工する。この際、ミクロトーム(ライカマイクロシステムズ社製のウルトラミクロトーム)のダイヤモンナイフを使用して、測定目的位置から40μm離れた部分までトリミング加工する。例えば、連絡溝51~54のピッチが200μmであるとすると、測定目的としている連絡溝51~54の隣の連絡溝51~54から160μm削ることにより、測定目的としている連絡溝51~54から40μm離れた部分を特定することができる。次に、トリミング加工を行った切断面を削ることにより、観察用の切断面を作製する。この際、断面試料作製装置(JOEL社製のクロスセクションポリッシャー)を使用して、飛び出し幅を40μm、電圧を5kV、時間を6時間に設定し、イオンビーム加工にて切断面を削る。その後、得られた試料の切断面を観察する。この際、走査型電子顕微鏡(カールツァイス社製の走査型電子顕微鏡)を使用して、電圧を5kV、作動距離を3mm、観察倍率を500倍に設定し、切断面を観察する。このようにして、主流溝31~34および連絡溝51~54の幅、深さを測定することができる。なお、撮影時の観察倍率基準は、Polaroid545とする Specifically, first, the vapor chamber 1 was cut into a 10 mm square piece using a wire saw to prepare a sample. Subsequently, the sample is embedded in a resin while degassing under vacuum so that the resin enters the vapor flow path recesses 12 and 21 and the liquid flow path portion 30 (mainstream grooves 31 to 34 and communication grooves 51 to 54). Next, trimming is performed using a diamond knife to obtain the desired cross section. At this time , a diamond knife of a microtome (Ultra Microtome manufactured by Leica Microsystems) is used to perform trimming to a portion 40 μm away from the measurement target position. For example, if the pitch of the communication grooves 51 to 54 is 200 μm, by cutting 160 μm from the communication groove 51 to 54 next to the communication groove 51 to 54 that is the purpose of measurement, it is possible to cut 40 μm from the communication groove 51 to 54 that is the purpose of measurement. Distant parts can be identified. Next, a cut surface for observation is prepared by cutting the trimmed cut surface. At this time, using a cross-sectional sample preparation device (cross-section polisher manufactured by J OEL), the cut surface is polished by ion beam processing with the protrusion width set to 40 μm, the voltage to 5 kV, and the time to 6 hours. Thereafter, the cut surface of the obtained sample is observed. At this time, the cut surface is observed using a scanning electron microscope (scanning electron microscope manufactured by Carl Zeiss) with the voltage set to 5 kV, the working distance set to 3 mm, and the observation magnification set to 500 times. In this way, the width and depth of the main grooves 31 to 34 and the communication grooves 51 to 54 can be measured. Note that the observation magnification standard during photographing is Polaroid 545 .

ところで、上述したように、第1~第4連絡溝51~54の幅w3’が、第1~第4主流溝31~34の幅w1よりも大きくなっている。このことにより、バッファ領域Qは、第1~第4主流溝本体部31a~34aよりも大きく開口した領域になっている。このため、図10に示す第2ハーフエッチング工程において、エッチング液は、第1~第4主流溝本体部31a~34aよりも、バッファ領域Qに多く入り込むようになる。この結果、バッファ領域Qでのエッチング液による浸食が進み、バッファ領域Qの深さが深くなる。そして、バッファ領域Qのうち第1交差部P1および第2交差部P2に相当する部分は、第1~第4主流溝本体部31a~34aに連通しているため、第1~第4連絡溝51~54よりもエッチング液が入り込みやすくなっている。このことにより、第1交差部P1および第2交差部P2の深さh1’が、第1~第4連絡溝51~54の深さh3’よりも深くなり得る。このようにして、図22に示すようなバッファ領域Qが形成される。 By the way, as described above, the width w3' of the first to fourth communication grooves 51 to 54 is larger than the width w1 of the first to fourth main flow grooves 31 to 34. As a result, the buffer region Q has a larger opening than the first to fourth main groove main body portions 31a to 34a. Therefore, in the second half-etching step shown in FIG. 10, more of the etching solution enters the buffer region Q than the first to fourth main groove main portions 31a to 34a. As a result, the buffer region Q is eroded by the etching solution, and the depth of the buffer region Q becomes deeper. The portions of the buffer region Q corresponding to the first intersection P1 and the second intersection P2 communicate with the first to fourth main groove main body parts 31a to 34a, so that the first to fourth communication grooves Etching solution can penetrate more easily than in Nos. 51 to 54. As a result, the depth h1' of the first intersection P1 and the second intersection P2 can be deeper than the depth h3' of the first to fourth communication grooves 51 to 54. In this way, a buffer region Q as shown in FIG. 22 is formed.

また、バッファ領域Qにエッチング液が多く入り込むことにより、第1~第4凸部41a~44aの壁(第1~第4主流溝31~34の側壁35、36)のうち第1交差部P1および第2交差部P2に面する部分では、エッチング液による浸食が進む。このことにより、各凸部41a~44aの壁が、エッチング液によってえぐられるように浸食され、各凸部41a~44aの内部に向かって凹むように滑らかな湾曲形状をなす。 In addition, as a large amount of etching solution enters the buffer region Q, the walls of the first to fourth convex portions 41a to 44a (side walls 35, 36 of the first to fourth main grooves 31 to 34) that face the first intersection P1 and the second intersection P2 are eroded by the etching solution. As a result, the walls of each convex portion 41a to 44a are eroded by the etching solution, forming a smoothly curved shape that is recessed toward the inside of each convex portion 41a to 44a.

なお、図10に示す第2ハーフエッチング工程においては、上述したように、下側流路壁部13の上面13aにパターン状に第2レジスト膜が形成され、この第2レジスト膜のレジスト開口にエッチング液が入り込んで第1~第4主流溝31~34および第1~第4連絡溝51~54が形成される。このレジスト開口が第1方向Xおよび第2方向Yに平行に形成されている場合であっても、第1~第4連絡溝51~54の幅w3’が第1~第4主流溝31~34の幅w1よりも大きくなっているため、バッファ領域Qにはエッチング液が入り込みやすくなっている。このため、上述したようなバッファ領域Qを形成することができる。 In the second half-etching step shown in FIG. 10, as described above, a second resist film is formed in a pattern on the upper surface 13a of the lower flow path wall portion 13, and the etching liquid enters the resist openings of the second resist film to form the first to fourth main grooves 31 to 34 and the first to fourth connecting grooves 51 to 54. Even if the resist openings are formed parallel to the first direction X and the second direction Y, the width w3' of the first to fourth connecting grooves 51 to 54 is larger than the width w1 of the first to fourth main grooves 31 to 34, so that the etching liquid easily enters the buffer region Q. Therefore, the buffer region Q as described above can be formed.

本実施の形態によるベーパーチャンバ1において、ベーパーチャンバ1の周縁部に拡散された作動液2の蒸気は冷却されて凝縮する。凝縮して液状になった作動液2は、第1~第4連絡溝51~54を通って主流溝31に入り込む。ここで、上述したように、第1~第4連絡溝51~54の幅w3’が、第1~第4主流溝31~34の幅w1よりも大きくなっているため、各連絡溝51~54内における作動液2の流路抵抗は小さくなっている。このため、各蒸気流路凹部12、21の壁面に付着した液状の作動液2は、各連絡溝51~54を通って各主流溝31~34にスムースに入り込む。そして、各主流溝31~34および各連絡溝51~54に、液状の作動液2が充填される。 In the vapor chamber 1 according to this embodiment, the vapor of the working fluid 2 diffused to the periphery of the vapor chamber 1 is cooled and condensed. The condensed working fluid 2 passes through the first to fourth connecting grooves 51 to 54 and enters the main groove 31. As described above, the width w3' of the first to fourth connecting grooves 51 to 54 is larger than the width w1 of the first to fourth main grooves 31 to 34, so the flow resistance of the working fluid 2 in each connecting groove 51 to 54 is small. Therefore, the liquid working fluid 2 adhering to the wall surface of each vapor flow recess 12, 21 passes through each connecting groove 51 to 54 and smoothly enters each main groove 31 to 34. Then, each main groove 31 to 34 and each connecting groove 51 to 54 are filled with the liquid working fluid 2.

各主流溝31~34に充填された作動液2が、蒸発部11に向かって輸送される際、作動液2の一部は、第1交差部P1および第2交差部P2を通過しながら蒸発部11に向かう。第1交差部P1および第2交差部P2においては、作動液2は、主として、第1~第4主流溝31~34の側壁35、36と上側流路壁部22の下面22aとにより形成された角部37による毛細管作用により、蒸発部11に向かう推進力を得る。 When the working fluid 2 filled in each of the main grooves 31-34 is transported toward the evaporation section 11, a portion of the working fluid 2 passes through the first intersection P1 and the second intersection P2 toward the evaporation section 11. At the first intersection P1 and the second intersection P2, the working fluid 2 obtains a driving force toward the evaporation section 11 mainly due to the capillary action of the corners 37 formed by the side walls 35, 36 of the first to fourth main grooves 31-34 and the lower surface 22a of the upper flow channel wall 22.

一方、蒸発部11に向かう作動液2の一部は、第1交差部P1または第2交差部P2によって構成されるバッファ領域Qに引き込まれて貯留される。 On the other hand, a part of the working fluid 2 heading toward the evaporator 11 is drawn into and stored in the buffer region Q formed by the first intersection P1 or the second intersection P2.

ここで、第1~第4主流溝本体部31a~34aでドライアウトが発生すると、バッファ領域Qに貯留されている作動液2が、このドライアウトの発生部に向かって移動する。より具体的には、例えば、第1主流溝本体部31aでドライアウトが発生した場合、そのドライアウトの発生部に最も近いバッファ領域Qから作動液2が、第1主流溝本体部31aの毛細管作用によってドライアウトの発生部に移動する。このことにより、ドライアウトの発生部に、作動液2が充填されてドライアウトが解消される。 Here, when dryout occurs in the first to fourth mainstream groove body parts 31a to 34a, the working fluid 2 stored in the buffer region Q moves toward the area where the dryout occurred. More specifically, for example, when dryout occurs in the first mainstream groove body part 31a, the working fluid 2 moves from the buffer region Q closest to the area where the dryout occurred to the area where the dryout occurred due to the capillary action of the first mainstream groove body part 31a. As a result, the area where the dryout occurred is filled with the working fluid 2, and the dryout is resolved.

また、第1~第4主流溝本体部31a~34aにおいて、液状の作動液2中にその蒸気による気泡が発生した場合、その気泡は、下流側(蒸発部11の側)のバッファ領域Qに引き込まれて保持される。バッファ領域Qの深さが第1~第4主流溝本体部31a~34aの深さh1よりも深くなっているため、バッファ領域Qに引き込まれた気泡は、バッファ領域Qから主流溝本体部31a~34aに移動することが抑制される。このため、バッファ領域Qによって、主流溝本体部31a~34aに発生した気泡を捕捉することができ、作動液2の蒸発部11への流れが気泡によって妨げられることを抑制できる。 In addition, in the first to fourth mainstream groove body portions 31a to 34a, when bubbles are generated in the liquid working fluid 2 due to its vapor, the bubbles are drawn into and held in the buffer region Q on the downstream side (the side of the evaporation section 11). Because the depth of the buffer region Q is deeper than the depth h1 of the first to fourth mainstream groove body portions 31a to 34a, the bubbles drawn into the buffer region Q are prevented from moving from the buffer region Q to the mainstream groove body portions 31a to 34a. Therefore, the buffer region Q can capture the bubbles generated in the mainstream groove body portions 31a to 34a, and can prevent the flow of the working fluid 2 to the evaporation section 11 from being obstructed by the bubbles.

このように、本実施の形態によれば、第1~第4連絡溝51~54の幅w3’が、第1~第4主流溝31~34の幅w1よりも大きくなっている。このことにより、各連絡溝51~54内における作動液2の流路抵抗を低減することができる。このため、蒸気から凝縮した液状の作動液2をスムースに各主流溝31~34に入り込ませることができる。すなわち、蒸気流路凹部12、21に近い側の主流溝31~34だけでなく、蒸気流路凹部12、21から遠い側の主流溝31~34にもスムースに入り込ませることができ、凝縮した液状の作動液2の輸送機能を向上させることができる。この結果、液状の作動液2の輸送機能を向上させ、熱輸送効率を向上させることができる。 As described above, according to the present embodiment, the width w3' of the first to fourth communication grooves 51 to 54 is larger than the width w1 of the first to fourth main flow grooves 31 to 34. This makes it possible to reduce the flow path resistance of the hydraulic fluid 2 in each of the communication grooves 51 to 54. Therefore, the liquid working fluid 2 condensed from steam can smoothly enter each of the main stream grooves 31 to 34. That is, it is possible to smoothly enter not only the mainstream grooves 31 to 34 on the side closer to the steam flow path recesses 12 and 21 but also the mainstream grooves 31 to 34 on the side farther from the steam flow path recesses 12 and 21, and the condensed The transport function of the liquid hydraulic fluid 2 can be improved. As a result, the transport function of the liquid working fluid 2 can be improved, and the heat transport efficiency can be improved.

また、本実施の形態によれば、第1~第4連絡溝51~54の深さh3’は、第1~第4主流溝31~34の深さh1よりも深くなっている。このことにより、各連絡溝51~54に、作動液2を貯留するバッファ領域Qを形成することができる。このため、主流溝31~34においてドライアウトが発生した場合には、バッファ領域Qに貯留された作動液2をドライアウトの発生部に移動させることができる。このため、ドライアウトを解消することができ、各主流溝31~34における作動液2の輸送機能を回復させることができる。また、主流溝31~34内に、気泡が発生した場合には、その気泡をバッファ領域Qに引き込ませて捕捉することができる。この点においても、各主流溝31~34における作動液2の輸送機能を回復させることができる。 In addition, according to this embodiment, the depth h3' of the first to fourth communication grooves 51 to 54 is deeper than the depth h1 of the first to fourth main grooves 31 to 34. This allows a buffer region Q for storing the working fluid 2 to be formed in each communication groove 51 to 54. Therefore, when dryout occurs in the main grooves 31 to 34, the working fluid 2 stored in the buffer region Q can be moved to the area where the dryout occurs. This makes it possible to eliminate the dryout and restore the transport function of the working fluid 2 in each main groove 31 to 34. In addition, when air bubbles are generated in the main grooves 31 to 34, the air bubbles can be drawn into the buffer region Q and captured. In this respect, too, the transport function of the working fluid 2 in each main groove 31 to 34 can be restored.

また、本実施の形態によれば、第1~第4主流溝31~34の第1交差部P1および第2交差部P2の深さh1’が、第1~第4主流溝本体部31a~34aの深さh1よりも深くなっている。このことにより、バッファ領域Qを、第1交差部P1および第2交差部P2に延ばすことができる。このため、バッファ領域Qにおける作動液2の貯留量を増大させることができ、ドライアウトをより一層解消させやすくすることができる。 In addition, according to this embodiment, the depth h1' of the first intersection P1 and the second intersection P2 of the first to fourth mainstream grooves 31 to 34 is deeper than the depth h1 of the first to fourth mainstream groove body portions 31a to 34a. This allows the buffer region Q to extend to the first intersection P1 and the second intersection P2. This increases the amount of hydraulic fluid 2 stored in the buffer region Q, making it easier to eliminate dryout.

また、本実施の形態によれば、第1~第4主流溝31~34の第1交差部P1および第2交差部P2の深さh1’は、第1~第4連絡溝51~54の深さh3’よりも深くなっている。このことにより、バッファ領域Qのうちドライアウトの発生部に近い側でバッファ領域Qの深さを深くすることができる。このため、貯留された作動液2を、ドライアウトの発生部にスムースに移動させることができ、ドライアウトをより一層解消させやすくすることができる。 In addition, according to this embodiment, the depth h1' of the first intersection P1 and the second intersection P2 of the first to fourth main grooves 31 to 34 is deeper than the depth h3' of the first to fourth communication grooves 51 to 54. This allows the depth of the buffer region Q to be deeper on the side closer to the area where dryout occurs. This allows the stored working fluid 2 to be smoothly moved to the area where dryout occurs, making it even easier to eliminate dryout.

また、本実施の形態によれば、第1~第4凸部41a~44aの第1~第4凸部中間部41c~44cの幅w4が、第1~第4凸部端部41b~44bの幅w2よりも小さくなっている。このことにより、第1交差部P1および第2交差部P2の平面面積を増大させることができる。このため、バッファ領域Qにおける作動液2の貯留量を増大させることができ、ドライアウトをより一層解消させやすくすることができる。 Further, according to the present embodiment, the width w4 of the first to fourth convex intermediate portions 41c to 44c of the first to fourth convex portions 41a to 44a is the same as the width w4 of the first to fourth convex portion ends 41b to 44b. The width w2 is smaller than the width w2. Thereby, the planar area of the first intersection P1 and the second intersection P2 can be increased. Therefore, the amount of hydraulic fluid 2 stored in the buffer region Q can be increased, making it easier to eliminate dryout.

また、本実施の形態によれば、各凸部41a~44aの角部には、丸みを帯びた湾曲部45が設けられている。このことにより、各凸部41a~44aの角部を滑らかに湾曲状に形成することができ、液状の作動液2の流路抵抗を低減することができる。 Further, according to the present embodiment, rounded curved portions 45 are provided at the corners of each of the convex portions 41a to 44a. As a result, the corners of each of the convex portions 41a to 44a can be formed into a smoothly curved shape, and the flow path resistance of the liquid working fluid 2 can be reduced.

(第3の実施の形態)
次に、図23乃至図25を用いて、本発明の第3の実施の形態におけるベーパーチャンバ、ベーパーチャンバ用金属シートおよびベーパーチャンバの製造方法について説明する。
Third Embodiment
Next, a vapor chamber, a metal sheet for a vapor chamber, and a method for manufacturing a vapor chamber according to a third embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.

図23乃至図25に示す第3の実施の形態においては、第1~第4主流溝内に、主流溝凸部が突出しているとともに、第1~第4連絡溝内に、連絡溝凸部が突出している点が主に異なり、他の構成は、図19乃至図22に示す第2の実施の形態と略同一である。なお、図23乃至図25において、図19乃至図22に示す第2の実施の形態と同一部分には同一符号を付して詳細な説明は省略する。 In the third embodiment shown in FIGS. 23 to 25, the main flow groove protrusions protrude within the first to fourth main flow grooves, and the communication groove protrusions protrude within the first to fourth communication grooves. The main difference is that the second embodiment is protruded, and the other configurations are substantially the same as the second embodiment shown in FIGS. 19 to 22. Note that in FIGS. 23 to 25, the same parts as those in the second embodiment shown in FIGS. 19 to 22 are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof will be omitted.

図23に示すように、本実施の形態においては、上側金属シート20は、下面20aに設けられた複数の主流溝凸部27を有している。各主流溝凸部27は、下面20aから下側金属シート10の第1~第4主流溝31~34のうち対応する主流溝31~34に突出している。主流溝凸部27の下端は、主流溝31~34の底部から離間しており、作動液2の流路は確保されている。また、各主流溝凸部27は、対応する主流溝31~34に沿って第1方向Xに延びるように形成されている。 As shown in FIG. 23, in this embodiment, the upper metal sheet 20 has multiple main groove convex portions 27 provided on the lower surface 20a. Each main groove convex portion 27 protrudes from the lower surface 20a into a corresponding one of the first to fourth main grooves 31 to 34 of the lower metal sheet 10. The lower end of the main groove convex portion 27 is spaced apart from the bottom of the main grooves 31 to 34, ensuring a flow path for the working fluid 2. In addition, each main groove convex portion 27 is formed to extend in the first direction X along the corresponding main groove 31 to 34.

主流溝凸部27の横断面は、湾曲状に形成されている。また、主流溝凸部27の側縁は、第1~第4主流溝31~34の側壁35、36に接する、または近接している。これにより、第1~第4主流溝31~34の側壁35、36と上側流路壁部22の下面22aとにより形成される角部37が、楔状(または鋭角状)に形成されている。このようにして、主流溝31~34と主流溝凸部27とによって画定される流路断面(第2方向Yにおける流路断面)が、図23に示すように三日月状に形成されている。 The cross section of the main stream groove convex portion 27 is formed in a curved shape. Further, the side edges of the main stream groove convex portion 27 are in contact with or close to the side walls 35 and 36 of the first to fourth main stream grooves 31 to 34. As a result, the corner portion 37 formed by the side walls 35, 36 of the first to fourth mainstream grooves 31 to 34 and the lower surface 22a of the upper channel wall portion 22 is formed into a wedge shape (or an acute angle shape). In this way, the flow path cross section (flow path cross section in the second direction Y) defined by the main flow grooves 31 to 34 and the main flow groove convex portion 27 is formed in a crescent shape as shown in FIG. 23.

また、図24および図25に示すように、本実施の形態においては、上側金属シート20は、下面20aに設けられた複数の連絡溝凸部28を有している。各連絡溝凸部28は、下面20aから下側金属シート10の第1~第4連絡溝51~54のうち対応する連絡溝51~54に突出している。連絡溝凸部28の下端は、連絡溝51~54の底部から離間しており、作動液2の流路は確保されている。また、各連絡溝凸部28は、対応する連絡溝51~54に沿って第2方向Yに延びるように形成されている。第1~第4主流溝31~34の第1交差部P1および第2交差部P2において、上述した主流溝凸部27と連絡溝凸部28とがT字状に交わっている。 As shown in Figs. 24 and 25, in this embodiment, the upper metal sheet 20 has a plurality of communication groove protrusions 28 provided on the lower surface 20a. Each communication groove protrusion 28 protrudes from the lower surface 20a into a corresponding one of the first to fourth communication grooves 51 to 54 of the lower metal sheet 10. The lower end of the communication groove protrusion 28 is spaced from the bottom of the communication groove 51 to 54, ensuring a flow path for the working fluid 2. Each communication groove protrusion 28 is formed to extend in the second direction Y along the corresponding communication groove 51 to 54. At the first intersection P1 and the second intersection P2 of the first to fourth mainstream grooves 31 to 34, the above-mentioned mainstream groove protrusion 27 and the communication groove protrusion 28 intersect in a T-shape.

連絡溝凸部28の横断面は、主流溝凸部27と同様に湾曲状に形成されている。また、連絡溝凸部28の側縁は、第1~第4連絡溝51~54の第2方向Yに延びる一対の側壁55、56(図19参照)に接する、または当該側壁55、56に近接している。これにより、第1~第4連絡溝51~54の側壁55、56と上側流路壁部22の下面22aとにより形成される角部57が、楔状(または鋭角状)に形成されている。このようにして、連絡溝51~54と連絡溝凸部28とによって画定される流路断面(第1方向Xにおける流路断面)が、図24に示すように三日月状に形成されている。また、第2方向Yにおける流路断面は、図23に示す主流溝31~34の流路断面の間に、第1~第4連絡溝51~54の第2方向Yにおける流路断面が介在されるように形成されるため、図25に示すように、間延びした三日月状に形成されている。なお、図19においては、図面を明瞭にするために、第3連絡溝53についてのみ側壁に符号55、56を付している。側壁55、56は、凸部41a~44aの上述した直線状部分46に対応している。 The cross section of the communicating groove convex portion 28 is formed in a curved shape similarly to the main stream groove convex portion 27 . Further, the side edges of the communication groove convex portion 28 are in contact with a pair of side walls 55 and 56 (see FIG. 19) extending in the second direction Y of the first to fourth communication grooves 51 to 54, or are in contact with the side walls 55 and 56. Close to each other. As a result, the corner portion 57 formed by the side walls 55, 56 of the first to fourth communication grooves 51 to 54 and the lower surface 22a of the upper channel wall portion 22 is formed into a wedge shape (or an acute angle shape). In this way, the flow path cross section (flow path cross section in the first direction X) defined by the communication grooves 51 to 54 and the communication groove convex portion 28 is formed in a crescent shape as shown in FIG. 24. In addition, the flow path cross section in the second direction Y is such that the flow path cross section in the second direction Y of the first to fourth communication grooves 51 to 54 is interposed between the flow path cross sections of the main flow grooves 31 to 34 shown in FIG. As shown in FIG. 25, it is formed in an elongated crescent shape. In addition, in FIG. 19, in order to make the drawing clear, only the side walls of the third communication groove 53 are labeled with numerals 55 and 56. The side walls 55, 56 correspond to the above-mentioned linear portions 46 of the convex portions 41a to 44a.

主流溝凸部27および連絡溝凸部28は、例えば、上側金属シート20をハーフエッチングして上側流路壁部22等を形成した後に、上側金属シート20を単体でプレス加工することによって形成することができる。あるいは、図12に示す恒久接合工程において、下側金属シート10と上側金属シート20とに与える加圧力を高めることによって主流溝凸部27および連絡溝凸部28を形成することができる。すなわち、加圧力を高めることにより、上側金属シート20の上側流路壁部22の一部を、第1~第4主流溝31~34内および第1~第4連絡溝51~54内に入り込ませることができ、これにより、湾曲状の横断面を有する主流溝凸部27および連絡溝凸部28を形成することができる。 The main groove convex portion 27 and the connecting groove convex portion 28 can be formed, for example, by half-etching the upper metal sheet 20 to form the upper flow passage wall portion 22 and the like, and then pressing the upper metal sheet 20 alone. Alternatively, the main groove convex portion 27 and the connecting groove convex portion 28 can be formed by increasing the pressure applied to the lower metal sheet 10 and the upper metal sheet 20 in the permanent joining process shown in FIG. 12. That is, by increasing the pressure, a part of the upper flow passage wall portion 22 of the upper metal sheet 20 can be inserted into the first to fourth main grooves 31 to 34 and the first to fourth connecting grooves 51 to 54, thereby forming the main groove convex portion 27 and the connecting groove convex portion 28 having a curved cross section.

このように、本実施の形態によれば、上側金属シート20の下面20aから下側金属シート10の第1~第4主流溝31~34のうち対応する主流溝31~34に、主流溝凸部27が突出している。このことにより、第1~第4主流溝31~34の側壁35、36と上側流路壁部22の下面22aとにより形成される角部37を、第1~第4主流溝31~34の側壁35、36と主流溝凸部27とによって画定される微小な空間にすることができる。このため、角部37における毛細管作用を高めることができる。この結果、各主流溝31~34における液状の作動液2の輸送機能を向上させ、熱輸送効率を向上させることができる。とりわけ、各主流溝31~34の第1交差部P1および第2交差部P2を図19に示すようなバッファ領域Qとして構成する場合であっても、第1交差部P1および第2交差部P2における作動液2に、主流溝凸部27による毛細管作用により、蒸発部11に向かう高い推進力を与えることができ、作動液2の輸送機能を効果的に向上させることができる。 Thus, according to this embodiment, the main groove convex portion 27 protrudes from the lower surface 20a of the upper metal sheet 20 to the corresponding main groove 31-34 of the first to fourth main grooves 31-34 of the lower metal sheet 10. As a result, the corner portion 37 formed by the side walls 35, 36 of the first to fourth main grooves 31-34 and the lower surface 22a of the upper flow passage wall portion 22 can be made into a minute space defined by the side walls 35, 36 of the first to fourth main grooves 31-34 and the main groove convex portion 27. Therefore, the capillary action at the corner portion 37 can be enhanced. As a result, the transport function of the liquid working fluid 2 in each of the main grooves 31-34 can be improved, and the heat transport efficiency can be improved. In particular, even if the first intersection P1 and second intersection P2 of each of the main grooves 31-34 are configured as a buffer region Q as shown in FIG. 19, the working fluid 2 at the first intersection P1 and second intersection P2 can be given a high driving force toward the evaporation section 11 due to the capillary action of the main groove convex portion 27, and the transport function of the working fluid 2 can be effectively improved.

また、本実施の形態によれば、主流溝凸部27の横断面が湾曲状に形成されている。このことにより、角部37を三日月形状の端部のような形状することができる。このため、角部37における毛細管作用をより一層高めることができる。 In addition, according to this embodiment, the cross section of the main groove convex portion 27 is formed in a curved shape. This allows the corner portion 37 to be shaped like a crescent-shaped end. This further enhances the capillary action at the corner portion 37.

また、本実施の形態によれば、上側金属シート20の下面20aから下側金属シート10の第1~第4連絡溝51~54のうち対応する連絡溝51~54に、連絡溝凸部28が突出している。このことにより、第1~第4連絡溝51~54の側壁55、56と上側流路壁部22の下面22aとにより形成される角部57を、第1~第4連絡溝51~54の側壁55、56と連絡溝凸部28とによって画定される微小な空間にすることができる。このため、角部57における毛細管作用を高めることができる。 In addition, according to this embodiment, the communication groove protrusions 28 protrude from the lower surface 20a of the upper metal sheet 20 into the corresponding communication grooves 51-54 of the first to fourth communication grooves 51-54 of the lower metal sheet 10. This makes it possible to make the corners 57 formed by the side walls 55, 56 of the first to fourth communication grooves 51-54 and the lower surface 22a of the upper flow path wall 22 into minute spaces defined by the side walls 55, 56 of the first to fourth communication grooves 51-54 and the communication groove protrusions 28. This makes it possible to enhance the capillary action at the corners 57.

ここで、蒸気から凝縮した液状の作動液2は、上述したように、第1~第4連絡溝51~54を通って第1~第4主流溝31~34に入り込む。このため、第1~第4連絡溝51~54の毛細管作用が高められることにより、凝縮した液状の作動液2をスムースに第1~第4主流溝31~34に入り込ませることができる。凝縮した液状の作動液2は、第1~第4連絡溝51~54の毛細管作用によって蒸気流路凹部12、21に近い側の主流溝31~34だけでなく、蒸気流路凹部12、21から遠い側の主流溝31~34にもスムースに入り込むことができ、凝縮した液状の作動液2の輸送機能を向上させることができる。また、第1~第4連絡溝51~54の幅w3’を第1~第4主流溝31~34の幅w1よりも大きくしていることにより、第1~第4連絡溝51~54内における作動液2の流路抵抗を低減することができ、この点においても、凝縮した液状の作動液2を、第1~第4主流溝31~34にスムースに入り込ませることができる。そして、第1~第4主流溝31~34に入り込んだ作動液2を、第1~第4主流溝31~34の毛細管作用によって蒸発部11に向けてスムースに輸送することができる。このため、液流路部30全体として、液状の作動液2の輸送機能を向上させることができる。また、上述したように、第1~第4連絡溝51~54の毛細管作用を高めることにより、ドライアウトが発生した場合には、第1~第4連絡溝51~54の毛細管作用によって、第1~第4主流溝31~34間で作動液2を往来させることができ、ドライアウトを解消することができる。 Here, as described above, the liquid working fluid 2 condensed from the vapor passes through the first to fourth communication grooves 51 to 54 and enters the first to fourth mainstream grooves 31 to 34. Therefore, by enhancing the capillary action of the first to fourth communication grooves 51 to 54, the condensed liquid working fluid 2 can smoothly enter the first to fourth mainstream grooves 31 to 34. The capillary action of the first to fourth communication grooves 51 to 54 allows the condensed liquid working fluid 2 to smoothly enter not only the mainstream grooves 31 to 34 closer to the steam flow path recesses 12, 21, but also the mainstream grooves 31 to 34 farther from the steam flow path recesses 12, 21, improving the transport function of the condensed liquid working fluid 2. In addition, by making the width w3' of the first to fourth communication grooves 51 to 54 larger than the width w1 of the first to fourth main grooves 31 to 34, the flow resistance of the working fluid 2 in the first to fourth communication grooves 51 to 54 can be reduced, and in this respect, the condensed liquid working fluid 2 can be smoothly introduced into the first to fourth main grooves 31 to 34. The working fluid 2 that has entered the first to fourth main grooves 31 to 34 can be smoothly transported toward the evaporation section 11 by the capillary action of the first to fourth main grooves 31 to 34. Therefore, the liquid flow path section 30 as a whole can improve the transport function of the liquid working fluid 2. In addition, as described above, by increasing the capillary action of the first to fourth communication grooves 51 to 54, when dryout occurs, the working fluid 2 can be moved between the first to fourth main grooves 31 to 34 by the capillary action of the first to fourth communication grooves 51 to 54, and dryout can be eliminated.

また、本実施の形態によれば、連絡溝凸部28の横断面が湾曲状に形成されている。このことにより、角部57を三日月形状の端部のような形状にすることができる。このため、角部57における毛細管作用をより一層高めることができる。 Further, according to this embodiment, the cross section of the communicating groove convex portion 28 is formed in a curved shape. This allows the corner 57 to be shaped like a crescent-shaped end. Therefore, the capillary action at the corner 57 can be further enhanced.

なお、上述した本実施の形態においては、第1~第4主流溝31~34の横断面および第1~第4連絡溝51~54の横断面が湾曲状に形成されている例について説明した。しかしながら、このことに限られることはなく、第1~第4主流溝31~34の横断面および第1~第4連絡溝51~54の横断面は、図7に示すように、矩形状に形成されていてもよい。この場合においても、角部37、57における毛細管作用を高めることができ、第1~第4主流溝31~34および第1~第4連絡溝51~54における液状の作動液2の輸送機能を向上させることができる。横断面を矩形状にするためには、主流溝31~34および連絡溝51~54は、プレス加工や切削加工で形成されることが好ましい。 In the above embodiment, the cross sections of the first to fourth main grooves 31 to 34 and the first to fourth connecting grooves 51 to 54 are curved. However, this is not limited to the above, and the cross sections of the first to fourth main grooves 31 to 34 and the first to fourth connecting grooves 51 to 54 may be rectangular, as shown in FIG. 7. Even in this case, the capillary action at the corners 37, 57 can be enhanced, and the transport function of the liquid working fluid 2 in the first to fourth main grooves 31 to 34 and the first to fourth connecting grooves 51 to 54 can be improved. In order to make the cross sections rectangular, it is preferable to form the main grooves 31 to 34 and the connecting grooves 51 to 54 by pressing or cutting.

また、上述した本実施の形態においては、第1~第4連絡溝51~54の幅w3’が、第1~第4主流溝31~34の幅w1よりも大きくなっている例について説明した。しかしながら、このことに限られることはなく、各連絡溝51~54の幅w3’は、図6に示すように、各主流溝31~34の幅w1よりも大きくなくてもよい。すなわち、主流溝凸部27によって第1~第4主流溝31~34の毛細管作用を高めて主流溝31~34における液状の作動液2の輸送機能を高めるという効果は、連絡溝51~54の幅w3’と主流溝31~34の幅w1との大小関係とは無関係に発揮することができる。同様に、連絡溝凸部28によって第1~第4連絡溝51~54の毛細管作用を高めて、凝縮した液状の作動液2の輸送機能を高めるという効果も、連絡溝51~54の幅w3’と主流溝31~34の幅w1との大小関係とは無関係に発揮することができる。 Further, in the present embodiment described above, an example was described in which the width w3' of the first to fourth communication grooves 51 to 54 is larger than the width w1 of the first to fourth main flow grooves 31 to 34. . However, the present invention is not limited to this, and the width w3' of each of the communication grooves 51 to 54 does not have to be larger than the width w1 of each of the main flow grooves 31 to 34, as shown in FIG. That is, the effect of increasing the capillary action of the first to fourth mainstream grooves 31 to 34 by the main stream groove convex portion 27 and enhancing the transport function of the liquid working fluid 2 in the main stream grooves 31 to 34 is due to the effect of the communication grooves 51 to 54. This effect can be achieved regardless of the magnitude relationship between the width w3' and the width w1 of the main grooves 31 to 34. Similarly, the effect of increasing the capillary action of the first to fourth communication grooves 51 to 54 by the communication groove convex portion 28 and enhancing the transport function of the condensed liquid working fluid 2 is also due to the width w3 of the communication grooves 51 to 54. This can be achieved regardless of the magnitude relationship between ' and the width w1 of the main grooves 31 to 34.

本発明は上記実施の形態および変形例そのままに限定されるものではなく、実施段階ではその要旨を逸脱しない範囲で構成要素を変形して具体化できる。また、上記実施の形態および変形例に開示されている複数の構成要素の適宜な組み合わせにより、種々の発明を形成できる。実施の形態および変形例に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよい。また、上記各実施の形態および変形例では、下側金属シート10の構成と、上側金属シート20の構成とを入れ替えてもよい。 The present invention is not limited to the above-described embodiments and modifications as they are, but can be implemented by modifying the constituent elements within the scope of the invention at the implementation stage. Moreover, various inventions can be formed by appropriately combining the plurality of components disclosed in the above embodiments and modified examples. Some components may be deleted from all the components shown in the embodiments and modifications. Furthermore, in each of the embodiments and modifications described above, the configuration of the lower metal sheet 10 and the configuration of the upper metal sheet 20 may be replaced.

Claims (5)

作動液が封入されたベーパーチャンバであって、
第1金属シートと、
前記第1金属シート上に設けられた第2金属シートと、
前記作動液の蒸気が通る蒸気流路部と、
液状の前記作動液が通る液流路部と、を備え、
前記液流路部は、前記第1金属シートの前記第2金属シートの側の面に設けられ、
前記液流路部は、第1方向に延びて液状の前記作動液が通る第1主流溝と、前記第1主流溝の隣に設けられ、第1連絡溝を介して前記第1方向に配列された複数の第1凸部を含む第1凸部列と、を有し、
少なくとも1つの前記第1凸部の前記第1方向における両端部は、平面視で丸みを帯びた形状であり、
前記第1連絡溝の深さは、前記第1主流溝の深さよりも深い、ベーパーチャンバ。
A vapor chamber containing a hydraulic fluid,
A first metal sheet;
a second metal sheet provided on the first metal sheet;
A vapor flow path portion through which the vapor of the working fluid passes;
a liquid flow path portion through which the liquid working fluid passes,
The liquid flow path portion is provided on a surface of the first metal sheet on the side of the second metal sheet,
the liquid flow path portion includes a first main groove extending in a first direction and through which the liquid working fluid passes, and a first convex portion row provided adjacent to the first main groove and including a plurality of first convex portions arranged in the first direction via a first communication groove,
Both ends of at least one of the first protrusions in the first direction are rounded in a plan view,
A vapor chamber , wherein the depth of the first communication groove is greater than the depth of the first main groove .
作動液が封入されたベーパーチャンバであって、
第1金属シートと、
前記第1金属シート上に設けられた第2金属シートと、
前記作動液の蒸気が通る蒸気流路部と、
液状の前記作動液が通る液流路部であって、平面視で前記蒸気流路部とは異なる位置に配置された液流路部と、を備え、
前記液流路部は、前記第1金属シートの前記第2金属シートの側の面に設けられ、
前記液流路部は、第1連絡溝を介して第1方向に配列された複数の第1凸部を含む第1凸部列と、前記第1方向に延びて液状の前記作動液が通る第1主流溝と、第2連絡溝を介して前記第1方向に配列された複数の第2凸部を含む第2凸部列と、前記第1方向に延びて液状の前記作動液が通る第2主流溝と、第3連絡溝を介して前記第1方向に配列された複数の第3凸部を含む第3凸部列と、を有し、
前記第1凸部列、前記第1主流溝、前記第2凸部列、前記第2主流溝、前記第3凸部列は、前記第1方向に直交する第2方向にこの順に配置され、
少なくとも1つの前記第1凸部の前記第1方向における長さと少なくとも1つの前記第3凸部の前記第1方向における長さは、少なくとも1つの前記第2凸部の前記第1方向における長さよりも長い、ベーパーチャンバ。
A vapor chamber filled with hydraulic fluid,
a first metal sheet;
a second metal sheet provided on the first metal sheet;
a steam flow path portion through which the vapor of the working fluid passes;
a liquid flow path portion through which the liquid working fluid passes, the liquid flow path portion being disposed at a position different from the vapor flow path portion in plan view ;
The liquid flow path portion is provided on a surface of the first metal sheet on the second metal sheet side,
The liquid flow path portion includes a first convex row including a plurality of first convex portions arranged in a first direction via a first communication groove, and a first convex row extending in the first direction and through which the liquid hydraulic fluid passes. a first main stream groove; a second convex row including a plurality of second convexes arranged in the first direction via a second communication groove; and a second convex row extending in the first direction and through which the liquid hydraulic fluid passes. a second main stream groove, and a third convex row including a plurality of third convex portions arranged in the first direction via a third communication groove;
The first convex row, the first mainstream groove, the second convex row, the second mainstream groove, and the third convex row are arranged in this order in a second direction perpendicular to the first direction,
The length of at least one of the first convex portions in the first direction and the length of at least one of the third convex portions in the first direction are longer than the length of at least one of the second convex portions in the first direction. Also long, vapor chamber.
ハウジングと、
前記ハウジング内に収容されたデバイスと、
前記デバイスに熱的に接触した、請求項1または2に記載のベーパーチャンバと、を備えた、電子機器。
housing and
a device contained within the housing;
An electronic device comprising: the vapor chamber according to claim 1 or 2 , in thermal contact with the device.
作動液が封入された、前記作動液の蒸気が通る蒸気流路部と、液状の前記作動液が通る液流路部と、を有するベーパーチャンバのためのべーパーチャンバ用金属シートであって、
第1面と、
前記第1面とは反対側に設けられた第2面と、を備え、
前記第1面に、前記液流路部が設けられ、
前記液流路部は、第1方向に延びて液状の前記作動液が通る第1主流溝と、前記第1主流溝の隣に設けられ、第1連絡溝を介して前記第1方向に配列された複数の第1凸部を含む第1凸部列と、を有し、
少なくとも1つの前記第1凸部の前記第1方向における両端部は、平面視で丸みを帯びた形状であり、
前記第1連絡溝の深さは、前記第1主流溝の深さよりも深い、ベーパーチャンバ用金属シート。
A vapor chamber metal sheet for a vapor chamber having a vapor flow path portion in which a working fluid is sealed and through which the vapor of the working fluid passes, and a liquid flow path portion through which the liquid working fluid passes,
The first page and
a second surface provided on the opposite side to the first surface,
The liquid flow path section is provided on the first surface,
The liquid flow path section is provided next to a first mainstream groove that extends in a first direction and through which the liquid working fluid passes, and is arranged next to the first mainstream groove, and is arranged in the first direction via a first communication groove. a first convex row including a plurality of first convex portions,
Both ends of the at least one first convex portion in the first direction have a rounded shape in plan view,
A metal sheet for a vapor chamber, wherein the depth of the first communication groove is deeper than the depth of the first mainstream groove .
作動液が封入された、前記作動液の蒸気が通る蒸気流路部と、液状の前記作動液が通る液流路部であって、平面視で前記蒸気流路部とは異なる位置に配置された液流路部と、を有するベーパーチャンバのためのべーパーチャンバ用金属シートであって、
第1面と、
前記第1面とは反対側に設けられた第2面と、を備え、
前記第1面に、前記液流路部が設けられ、
前記液流路部は、第1連絡溝を介して第1方向に配列された複数の第1凸部を含む第1凸部列と、前記第1方向に延びて液状の前記作動液が通る第1主流溝と、第2連絡溝を介して前記第1方向に配列された複数の第2凸部を含む第2凸部列と、前記第1方向に延びて液状の前記作動液が通る第2主流溝と、第3連絡溝を介して前記第1方向に配列された複数の第3凸部を含む第3凸部列と、を有し、
前記第1凸部列、前記第1主流溝、前記第2凸部列、前記第2主流溝、前記第3凸部列は、前記第1方向に直交する第2方向にこの順に配置され、
少なくとも1つの前記第1凸部の前記第1方向における長さと少なくとも1つの前記第3凸部の前記第1方向における長さは、少なくとも1つの前記第2凸部の前記第1方向における長さよりも長い、ベーパーチャンバ用金属シート。
A steam flow path portion in which a working fluid is sealed and through which the vapor of the working fluid passes, and a liquid flow path portion through which the liquid working fluid passes, which are arranged at a different position from the steam flow path portion in a plan view. A vapor chamber metal sheet for a vapor chamber having a liquid flow path section ,
The first page and
a second surface provided on the opposite side to the first surface,
The liquid flow path section is provided on the first surface,
The liquid flow path portion includes a first convex row including a plurality of first convex portions arranged in a first direction via a first communication groove, and a first convex row extending in the first direction and through which the liquid hydraulic fluid passes. a first main stream groove; a second convex row including a plurality of second convexes arranged in the first direction via a second communication groove; and a second convex row extending in the first direction and through which the liquid hydraulic fluid passes. a second main stream groove, and a third convex row including a plurality of third convex portions arranged in the first direction via a third communication groove;
The first convex row, the first mainstream groove, the second convex row, the second mainstream groove, and the third convex row are arranged in this order in a second direction perpendicular to the first direction,
The length of at least one of the first convex portions in the first direction and the length of at least one of the third convex portions in the first direction are longer than the length of at least one of the second convex portions in the first direction. Also long, metal sheet for vapor chamber .
JP2022210635A 2017-02-24 2022-12-27 Vapor chambers, electronic devices and metal sheets for vapor chambers Active JP7459922B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2023189597A JP2024016179A (en) 2017-02-24 2023-11-06 Vapor chamber, electronic apparatus and metal sheet for vapor chamber

Applications Claiming Priority (8)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2017033622 2017-02-24
JP2017033622 2017-02-24
JP2017217593 2017-11-10
JP2017217593 2017-11-10
JP2017217633 2017-11-10
JP2017217633 2017-11-10
JP2020202159A JP6955712B2 (en) 2017-02-24 2020-12-04 Manufacturing method of vapor chamber, electronic equipment, metal sheet for vapor chamber and vapor chamber
JP2021163743A JP7205597B2 (en) 2017-02-24 2021-10-04 metal sheets for vapor chambers, electronics and vapor chambers

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2021163743A Division JP7205597B2 (en) 2017-02-24 2021-10-04 metal sheets for vapor chambers, electronics and vapor chambers

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2023189597A Division JP2024016179A (en) 2017-02-24 2023-11-06 Vapor chamber, electronic apparatus and metal sheet for vapor chamber

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2023052131A JP2023052131A (en) 2023-04-11
JP2023052131A5 JP2023052131A5 (en) 2023-05-11
JP7459922B2 true JP7459922B2 (en) 2024-04-02

Family

ID=63253812

Family Applications (6)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2018534996A Active JP6853962B2 (en) 2017-02-24 2018-02-23 Manufacturing method of vapor chamber, electronic equipment and vapor chamber
JP2018142809A Active JP6587164B2 (en) 2017-02-24 2018-07-30 Vapor chamber, electronic device, metal sheet for vapor chamber, and method for manufacturing vapor chamber
JP2020202159A Active JP6955712B2 (en) 2017-02-24 2020-12-04 Manufacturing method of vapor chamber, electronic equipment, metal sheet for vapor chamber and vapor chamber
JP2021163743A Active JP7205597B2 (en) 2017-02-24 2021-10-04 metal sheets for vapor chambers, electronics and vapor chambers
JP2022210635A Active JP7459922B2 (en) 2017-02-24 2022-12-27 Vapor chambers, electronic devices and metal sheets for vapor chambers
JP2023189597A Pending JP2024016179A (en) 2017-02-24 2023-11-06 Vapor chamber, electronic apparatus and metal sheet for vapor chamber

Family Applications Before (4)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2018534996A Active JP6853962B2 (en) 2017-02-24 2018-02-23 Manufacturing method of vapor chamber, electronic equipment and vapor chamber
JP2018142809A Active JP6587164B2 (en) 2017-02-24 2018-07-30 Vapor chamber, electronic device, metal sheet for vapor chamber, and method for manufacturing vapor chamber
JP2020202159A Active JP6955712B2 (en) 2017-02-24 2020-12-04 Manufacturing method of vapor chamber, electronic equipment, metal sheet for vapor chamber and vapor chamber
JP2021163743A Active JP7205597B2 (en) 2017-02-24 2021-10-04 metal sheets for vapor chambers, electronics and vapor chambers

Family Applications After (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2023189597A Pending JP2024016179A (en) 2017-02-24 2023-11-06 Vapor chamber, electronic apparatus and metal sheet for vapor chamber

Country Status (6)

Country Link
US (3) US11578927B2 (en)
JP (6) JP6853962B2 (en)
KR (4) KR102608789B1 (en)
CN (2) CN110325810B (en)
TW (3) TW202321640A (en)
WO (1) WO2018155641A1 (en)

Families Citing this family (29)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11578927B2 (en) 2017-02-24 2023-02-14 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Vapor chamber, electronic device, metallic sheet for vapor chamber and manufacturing method of vapor chamber
JP6801700B2 (en) * 2017-11-10 2020-12-16 大日本印刷株式会社 Manufacturing method of vapor chamber, electronic equipment and vapor chamber
JP7015197B2 (en) * 2018-03-26 2022-02-02 新光電気工業株式会社 Loop type heat pipe and its manufacturing method
JP7363199B2 (en) * 2018-08-31 2023-10-18 大日本印刷株式会社 vapor chamber, electronic equipment
TWI738179B (en) * 2019-01-18 2021-09-01 李克勤 Thin heat dissipation device and manufacturing method thereof
TW202040085A (en) * 2019-03-11 2020-11-01 日商大日本印刷股份有限公司 Vapor chamber, electronic device, and sheet for vapor chamber
JP7249408B2 (en) * 2019-05-28 2023-03-30 三井化学株式会社 Cooling device and cooling device manufacturing method
CN110572981B (en) 2019-07-31 2020-12-22 华为技术有限公司 Heat conduction device and terminal equipment
US20220279678A1 (en) * 2019-09-06 2022-09-01 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Vapor chamber, electronic device, sheet for vapor chamber, sheet where multiple intermediates for vapor chamber are imposed, roll of wound sheet where multiple intermediates for vapor chamber are imposed, and intermediate for vapor chamber
CN112484544A (en) * 2019-10-30 2021-03-12 株式会社Cgi Non-directional soaking plate
TWI811504B (en) * 2019-12-16 2023-08-11 訊凱國際股份有限公司 Heat dissipating device
KR102381018B1 (en) * 2020-03-23 2022-03-31 화인시스 주식회사 Vapor chamber
KR102442845B1 (en) * 2020-03-23 2022-09-15 화인시스 주식회사 Vapor chamber
CN113465420A (en) * 2020-03-30 2021-10-01 超众科技股份有限公司 Heat conduction member and joining device for joining heat conduction members
TWI747305B (en) * 2020-06-01 2021-11-21 建準電機工業股份有限公司 Temperature-uniformizing board structure
JP2022011551A (en) * 2020-06-30 2022-01-17 古河電気工業株式会社 Vapor chamber and method for manufacturing vapor chamber
CN113883936A (en) * 2020-07-03 2022-01-04 台达电子工业股份有限公司 Thin type temperature equalizing plate structure
KR20220055070A (en) 2020-10-26 2022-05-03 주식회사 엘지화학 Vapor Chamber
CN220187502U (en) * 2020-11-04 2023-12-15 株式会社村田制作所 Heat diffusion device and electronic apparatus
TWI817052B (en) * 2020-11-09 2023-10-01 欣興電子股份有限公司 Vapor chamber device and manufacturing method thereof
JP2022084057A (en) * 2020-11-26 2022-06-07 古河電気工業株式会社 Vapor chamber and method of manufacturing vapor chamber
KR20220075765A (en) 2020-11-30 2022-06-08 주식회사 엘지화학 The Vapor Chamber
KR20220075762A (en) 2020-11-30 2022-06-08 주식회사 엘지화학 The Vapor Chamber
KR20220075764A (en) 2020-11-30 2022-06-08 주식회사 엘지화학 The Vapor Chamber
KR20220075763A (en) 2020-11-30 2022-06-08 주식회사 엘지화학 The Vapor Chamber
TW202239587A (en) * 2021-03-04 2022-10-16 宸寰科技有限公司 Thin encapsulating attachment structure
US20240172395A1 (en) 2021-03-10 2024-05-23 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Vapor chamber, wick sheet for vapor chamber, and electronic apparatus
CN113316355A (en) * 2021-04-20 2021-08-27 江西展耀微电子有限公司 Soaking structure and electronic equipment
FR3128821B1 (en) * 2021-11-04 2023-12-22 Commissariat Energie Atomique Steam chamber

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007266153A (en) 2006-03-28 2007-10-11 Sony Corp Plate-shape heat transport device and electronic device
JP2014142143A (en) 2013-01-24 2014-08-07 Ntec Co Ltd Heat pipe
JP2015059693A (en) 2013-09-18 2015-03-30 東芝ホームテクノ株式会社 Sheet type heat pipe or portable information terminal
US20160209122A1 (en) 2015-01-20 2016-07-21 Chaun-Choung Technology Corp. Slim-type vapor chamber and capillary structure thereof
JP2016142416A (en) 2015-01-29 2016-08-08 富士通株式会社 Loop heat pipe and process of manufacture of loop heat pipe

Family Cites Families (42)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5812991A (en) 1981-07-17 1983-01-25 Hitachi Ltd Heat transfer device
JPS62156273U (en) 1986-03-18 1987-10-03
JPH03186195A (en) 1989-12-13 1991-08-14 Hitachi Cable Ltd Radiator with heat pipe and manufacture thereof
JPH0827146B2 (en) * 1990-03-19 1996-03-21 さとみ 伊藤 heat pipe
JPH0650235B2 (en) 1990-05-29 1994-06-29 三菱電線工業株式会社 Heat pipe sealing method
JP3438087B2 (en) * 1995-02-16 2003-08-18 アクトロニクス株式会社 Ribbon plate heat pipe
JPH10185465A (en) 1996-12-24 1998-07-14 Showa Alum Corp Plate type heat pipe
JP2002039693A (en) 2000-07-21 2002-02-06 Toufuji Denki Kk Flat type heat pipe
US6843308B1 (en) * 2000-12-01 2005-01-18 Atmostat Etudes Et Recherches Heat exchanger device using a two-phase active fluid, and a method of manufacturing such a device
JP2002323292A (en) 2001-04-24 2002-11-08 Fujine Sangyo:Kk Sealed flat plate heat transfer material and method for manufacturing radiator using the same
JP2004309002A (en) * 2003-04-04 2004-11-04 Hitachi Cable Ltd Plate type heat pipe and its manufacturing method
TWI273210B (en) 2004-12-30 2007-02-11 Delta Electronics Inc Heat-dissipation device and fabricating method thereof
TW200712421A (en) * 2005-05-18 2007-04-01 Univ Nat Central Planar heat dissipating device
JP4112602B2 (en) 2005-09-01 2008-07-02 株式会社渕上ミクロ heat pipe
US20070068657A1 (en) * 2005-09-27 2007-03-29 Kenichi Yamamoto Sheet -shaped heat pipe and method of manufacturing the same
JP4874664B2 (en) * 2006-02-08 2012-02-15 株式会社フジクラ heat pipe
JP2008041750A (en) 2006-08-02 2008-02-21 Alps Electric Co Ltd Water-cooling heat sink and water-cooling system
US20080216994A1 (en) 2007-03-08 2008-09-11 Convergence Technologies Limited Vapor-Augmented Heat Spreader Device
KR100917599B1 (en) 2007-12-06 2009-09-17 한국전자통신연구원 The flat plate type micro heat spreading device
US20090178784A1 (en) 2008-01-15 2009-07-16 Chin-Wen Wang Manufacturing Method of Isothermal Vapor Chamber And Product Thereof
JP4683080B2 (en) 2008-07-10 2011-05-11 ソニー株式会社 HEAT TRANSPORT DEVICE, ELECTRONIC APPARATUS, ENCLOSURE APPARATUS AND METHOD
JP2010181057A (en) 2009-02-04 2010-08-19 Mitsubishi Electric Corp Sealed pipe and method of sealing thin pipe
JP5413735B2 (en) 2010-01-18 2014-02-12 日本モレックス株式会社 Heat transport unit, electronic equipment
JP5714836B2 (en) 2010-04-17 2015-05-07 モレックス インコーポレイテドMolex Incorporated Heat transport unit, electronic board, electronic equipment
CN102693949A (en) * 2011-03-22 2012-09-26 富准精密工业(深圳)有限公司 Heat spreader
CN102778156A (en) 2011-05-11 2012-11-14 奇鋐科技股份有限公司 Thin heat tube structure and manufacturing method thereof
CN104112724A (en) 2013-04-22 2014-10-22 华硕电脑股份有限公司 Radiating element
TW201502457A (en) * 2013-07-08 2015-01-16 Asia Vital Components Co Ltd Vapor chamber structure and manufacturing method thereof
JP6125972B2 (en) 2013-10-30 2017-05-10 東芝ホームテクノ株式会社 Portable information terminal
CN203687721U (en) 2014-01-28 2014-07-02 泽鸿(广州)电子科技有限公司 Ultra-thin heat-conduction pipe
KR101508877B1 (en) * 2014-04-14 2015-04-07 김흥배 Vapor Chamber with Structure having capillary force
JP6023120B2 (en) 2014-05-15 2016-11-09 レノボ・シンガポール・プライベート・リミテッド Portable information equipment
JP6057952B2 (en) 2014-07-09 2017-01-11 東芝ホームテクノ株式会社 Sheet type heat pipe
JP6191561B2 (en) 2014-08-28 2017-09-06 東芝ホームテクノ株式会社 Sheet type heat pipe
JP2016156584A (en) 2015-02-25 2016-09-01 株式会社フジクラ Thin plate heat pipe type heat diffusion plate
CN104754926B (en) * 2015-04-14 2017-11-14 厦门烯成石墨烯科技有限公司 A kind of preparation method of thermal sheet and its bottom plate
JP6305959B2 (en) 2015-04-21 2018-04-04 東芝ホームテクノ株式会社 Sheet heat pipe
US10502498B2 (en) * 2015-07-20 2019-12-10 Delta Electronics, Inc. Slim vapor chamber
US9726436B2 (en) * 2015-07-21 2017-08-08 Chaun-Choung Technology Corp. Vapor chamber having no gas discharging protrusion and manufacturing method thereof
JP2017106672A (en) 2015-12-10 2017-06-15 Leading Edge Associates株式会社 Heat radiator and manufacturing method of heat radiator
JP6648824B2 (en) 2016-05-23 2020-02-14 富士通株式会社 Loop heat pipe, method for manufacturing the same, and electronic equipment
US11578927B2 (en) 2017-02-24 2023-02-14 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Vapor chamber, electronic device, metallic sheet for vapor chamber and manufacturing method of vapor chamber

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007266153A (en) 2006-03-28 2007-10-11 Sony Corp Plate-shape heat transport device and electronic device
JP2014142143A (en) 2013-01-24 2014-08-07 Ntec Co Ltd Heat pipe
JP2015059693A (en) 2013-09-18 2015-03-30 東芝ホームテクノ株式会社 Sheet type heat pipe or portable information terminal
US20160209122A1 (en) 2015-01-20 2016-07-21 Chaun-Choung Technology Corp. Slim-type vapor chamber and capillary structure thereof
JP2016142416A (en) 2015-01-29 2016-08-08 富士通株式会社 Loop heat pipe and process of manufacture of loop heat pipe

Also Published As

Publication number Publication date
JP2022000606A (en) 2022-01-04
KR102561617B1 (en) 2023-08-01
JPWO2018155641A1 (en) 2019-11-07
KR102608789B1 (en) 2023-12-04
TW202140982A (en) 2021-11-01
KR20220125721A (en) 2022-09-14
TW201842296A (en) 2018-12-01
CN113237368B (en) 2023-10-10
CN110325810B (en) 2021-05-14
KR102442311B1 (en) 2022-09-13
JP6955712B2 (en) 2021-10-27
US20230358481A1 (en) 2023-11-09
JP6587164B2 (en) 2019-10-09
KR20230117628A (en) 2023-08-08
US20200025458A1 (en) 2020-01-23
TWI736745B (en) 2021-08-21
US20220107136A1 (en) 2022-04-07
JP6853962B2 (en) 2021-04-07
JP2023052131A (en) 2023-04-11
JP2019158323A (en) 2019-09-19
JP2021050905A (en) 2021-04-01
CN110325810A (en) 2019-10-11
CN113237368A (en) 2021-08-10
KR20190121309A (en) 2019-10-25
US11747090B2 (en) 2023-09-05
KR20230167150A (en) 2023-12-07
TWI794886B (en) 2023-03-01
JP7205597B2 (en) 2023-01-17
US11578927B2 (en) 2023-02-14
TW202321640A (en) 2023-06-01
JP2024016179A (en) 2024-02-06
WO2018155641A1 (en) 2018-08-30

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP7459922B2 (en) Vapor chambers, electronic devices and metal sheets for vapor chambers
JP7002025B2 (en) How to make vapor chambers, electronic devices, and vapor chambers
JP7137783B2 (en) Wick sheet for vapor chamber, vapor chamber and method for manufacturing vapor chamber
JP7472947B2 (en) Vapor chambers, electronic devices and metal sheets for vapor chambers
JP2023052355A (en) Vapor chamber, sheet for vapor chamber, and method for manufacturing vapor chamber
JP7182071B2 (en) Vapor chamber, electronic device, metal sheet for vapor chamber and method for manufacturing vapor chamber
JP7205745B2 (en) Vapor chamber, electronic device, metal sheet for vapor chamber and method for manufacturing vapor chamber

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20221227

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20230427

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20230830

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20230908

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20231106

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20240220

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20240304

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 7459922

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150