JP7459003B2 - An ink composition, a pixel manufactured using the same, a color filter including the pixel, and an image display device including the color filter - Google Patents
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Description
本発明は、インク組成物、これを用いて製造された画素、前記画素を含むカラーフィルタおよび前記カラーフィルタを備える画像表示装置に関する。 The present invention relates to an ink composition, a pixel manufactured using the ink composition, a color filter including the pixel, and an image display device equipped with the color filter.
最近、工程の効率性および経済性を考慮して好まれる手段はインクジェット印刷である。インクジェット印刷は、ノズルを基材に接触させずにインク液滴が微細なノズルを通して基材上に噴射される非衝撃式印刷技術で、工程の単純化および優れた経済的効果を有する。 Recently, inkjet printing has been preferred in view of process efficiency and economy. Inkjet printing is a non-impact printing technology in which ink droplets are jetted onto a substrate through a fine nozzle without contacting the nozzle with the substrate, and has process simplification and excellent economical effects.
しかし、インクジェット印刷において散乱粒子または量子ドットを含む場合、散乱粒子および/または量子ドットの凝集現象による問題が発生する。具体的には、散乱粒子および/または量子ドットの場合、顔料または染料として用いられる着色剤より沈殿および凝集現象が発生しやすい。したがって、散乱粒子および/または量子ドットはよく沈殿および凝集され、インクジェットシステムのノズルを詰まらせる問題を発生させる。 However, when scattering particles or quantum dots are included in inkjet printing, problems arise due to aggregation phenomena of the scattering particles and/or quantum dots. Specifically, scattering particles and/or quantum dots are more prone to precipitation and aggregation phenomena than colorants used as pigments or dyes. Therefore, scattering particles and/or quantum dots often settle and aggregate, creating problems of clogging the nozzles of inkjet systems.
そこで、大韓民国公開公報第10-2017-0084107号のような従来技術は、インク組成物を2液型で製造し、使用前に混合して使用する方法を考案した。しかし、このような2液型で製造する場合、工程が複雑になり、使用直前に混合して使用しなければならないため、混合後の再使用が不可能で経済性が低下する問題が発生した。また、アクリレート樹脂を用いる従来技術の組成物では、粘度が高くてノズル詰まりが発生し、安定した吐出のために粘度が低いアルキルアクリレートモノマーのみを用いると、密着力が著しく低下する問題が発生した。 Therefore, a conventional technique such as the Republic of Korea Publication No. 10-2017-0084107 devises a method in which an ink composition is manufactured in a two-component type and mixed before use. However, when manufacturing in such a two-component type, the process is complicated and the product must be mixed immediately before use, which creates the problem that it is impossible to reuse it after mixing, reducing economic efficiency. . In addition, conventional compositions using acrylate resins have high viscosity, which causes nozzle clogging, and when only low-viscosity alkyl acrylate monomers are used for stable ejection, adhesion strength is significantly reduced. .
したがって、本発明は、上記の問題を解決するためになされた。 Therefore, the present invention has been made to solve the above problems.
本発明は、上述した従来技術の問題点を改善するためのものであって、インクジェット工程の後、インク組成物のブリトル(brittle)な特性から下部基材と剥離が起こりやすい現象が著しく改善されて密着力に優れ、製造された塗膜の浮き上がりやクラックが発生せず、粘度が低くてインクジェッティング工程で頻繁に発生するノズル詰まり現象なく連続してジェッティング可能なインク組成物を提供することを目的とする。 The present invention is intended to improve the above-mentioned problems of the prior art, and significantly improves the phenomenon in which the ink composition tends to peel off from the lower substrate due to the brittle characteristics after the inkjet process. To provide an ink composition that has excellent adhesion, does not cause lifting or cracking of a manufactured coating film, has a low viscosity, and can be jetted continuously without the nozzle clogging phenomenon that frequently occurs in an inkjet process. With the goal.
本発明は、散乱粒子および硬化性モノマーを含むインク組成物であって、前記硬化性モノマーは、2個の官能基を有する化学式1および化学式2で表される化合物のうちの1種以上を含むものである、インク組成物を提供する。 The present invention provides an ink composition comprising scattering particles and a curable monomer, wherein the curable monomer contains one or more of compounds represented by Chemical Formula 1 and Chemical Formula 2 having two functional groups. An ink composition is provided.
(前記化学式1において、R1は、それぞれ独立して、水素またはメチル基であり、mは、1~15の整数である。) (In the chemical formula 1, each R 1 is independently hydrogen or a methyl group, and m is an integer from 1 to 15.)
(前記化学式2において、R2は、それぞれ独立して、水素またはメチル基であり、mは、1~15の整数である。)
また、本発明は、上述したインク組成物の硬化物を用いて製造された光散乱画素を提供する。
(In the chemical formula 2, each R 2 is independently hydrogen or a methyl group, and m is an integer from 1 to 15.)
The present invention also provides a light scattering pixel manufactured using the cured product of the above-described ink composition.
さらに、本発明は、上述した光散乱画素を含むカラーフィルタを提供する。
尚、本発明は、上述したカラーフィルタを含む画像表示装置を提供する。
Furthermore, the present invention provides a color filter including the light scattering pixels described above.
Note that the present invention provides an image display device including the above-described color filter.
本発明は、特定の構造を有する硬化性モノマーを含むことにより、インクジェット工程の後、インク組成物のブリトル(brittle)な特性から下部基材と剥離が起こりやすい現象が著しく改善されて密着力に優れ、製造された塗膜の浮き上がりやクラックが発生せず、粘度が低くてインクジェッティング工程で頻繁に発生するノズル詰まり現象なく連続してジェッティング可能なインク組成物を提供する効果を有する。 The present invention provides an ink composition that contains a curable monomer having a specific structure, which significantly improves the phenomenon in which the ink composition is prone to peeling from the underlying substrate due to its brittle characteristics after the inkjet process, has excellent adhesion, does not cause lifting or cracks in the coating film produced, and has low viscosity, allowing for continuous jetting without nozzle clogging, which frequently occurs during the inkjet process.
さらに、長期保管時にも粘度の変化がほとんどなくて粘度安定性に優れ、インクジェット設備への適用時、指定された位置に正確にインクを吐出可能でインクジェッティング誤着弾を最小化できるインク組成物を提供することができる。 In addition, the ink composition has excellent viscosity stability with almost no change in viscosity even during long-term storage, and when applied to inkjet equipment, it can accurately eject ink at a specified position, minimizing inkjet misdirection.
本発明は、散乱粒子および/または量子ドットを含むインク組成物であって、インクジェット工程への導入時、密着力が著しく改善された効果を達成可能であり、特に、表面が改質された散乱粒子を用いることにより、長期保管時にも粘度安定性を確保することができ、インクジェッティング誤着弾を最小化する効果を極大化することができる。 The present invention relates to an ink composition containing scattering particles and/or quantum dots, which can achieve a significantly improved adhesion effect when introduced into an inkjet process, and in particular, a scattering powder having a modified surface. By using particles, viscosity stability can be ensured even during long-term storage, and the effect of minimizing erroneous inkjet bullets can be maximized.
具体的には、本発明は、散乱粒子および硬化性モノマーを含むインク組成物であって、前記硬化性モノマーは、化学式1および化学式2で表される化合物からなる群より選択される1種以上を含むものである、インク組成物に関する。 Specifically, the present invention provides an ink composition containing scattering particles and a curable monomer, wherein the curable monomer is one or more selected from the group consisting of compounds represented by Chemical Formula 1 and Chemical Formula 2. The present invention relates to an ink composition comprising:
(前記化学式1において、R1は、それぞれ独立して、水素またはメチル基であり、mは、1~15の整数である。) (In the chemical formula 1, each R 1 is independently hydrogen or a methyl group, and m is an integer from 1 to 15.)
(前記化学式2において、R2は、それぞれ独立して、水素またはメチル基であり、mは、1~15の整数である。)
散乱粒子
本発明において、散乱粒子は、インク組成物の光特性を向上させる役割を果たすものであって、通常の無機材料を用いることができ、好ましくは、平均粒径が50~1000nmの金属酸化物を含むことができる。前記散乱粒子は、分散液の形態で組成物に含まれる。
(In the chemical formula 2, each R 2 is independently hydrogen or a methyl group, and m is an integer from 1 to 15.)
Scattering Particles In the present invention, the scattering particles play a role of improving the optical properties of the ink composition, and can be made of ordinary inorganic materials, preferably metal oxide particles having an average particle size of 50 to 1000 nm. It can contain things. The scattering particles are included in the composition in the form of a dispersion.
前記金属酸化物は、Ti、Li、Be、B、Na、Mg、Al、Si、K、Ca、Sc、V、Cr、Mn、Fe、Ni、Cu、Zn、Ga、Ge、Rb、Sr、Y、Mo、Cs、Ba、La、Hf、W、Tl、Pb、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Sb、Sn、Zr、Nb、Ce、Ta、In、およびこれらの組み合わせからなる群より選択された1種の金属を含む酸化物であってもよいが、これに限定されない。具体的には、前記散乱粒子としては、TiO2、Al2O3、SiO2、ZnO、ZrO2、BaTiO3、Ta2O5、Ti3O5、ITO、IZO、ATO、ZnO-Al、Nb2O3、SnO、MgO、およびこれらの組み合わせからなる群より選択される1種以上の金属酸化物を含むことができ、TiO2を含むことが最も好ましい。 The metal oxides include Ti, Li, Be, B, Na, Mg, Al, Si, K, Ca, Sc, V, Cr, Mn, Fe, Ni, Cu, Zn, Ga, Ge, Rb, Sr, Y, Mo, Cs, Ba, La, Hf, W, Tl, Pb, Ce, Pr, Nd, Pm, Sm, Eu, Gd, Tb, Dy, Ho, Er, Tm, Yb, Sb, Sn, Zr, It may be an oxide containing one metal selected from the group consisting of Nb, Ce, Ta, In, and combinations thereof, but is not limited thereto. Specifically, the scattering particles include TiO 2 , Al 2 O 3 , SiO 2 , ZnO, ZrO 2 , BaTiO 3 , Ta 2 O 5 , Ti 3 O 5 , ITO, IZO, ATO, ZnO-Al, It can contain one or more metal oxides selected from the group consisting of Nb 2 O 3 , SnO, MgO, and combinations thereof, most preferably TiO 2 .
一実施形態において、散乱粒子として表面処理されたTiO2を使用することができ、前記TiO2は、Al、Si、Zr、Zn、および有機物から選択される1種以上の成分で表面処理したものが好ましく、この時、前記表面処理成分のうちAlは必須成分として含まれることがさらに好ましい。必要な場合、アクリレートなどの不飽和結合を有する化合物で表面処理された材質も使用可能である。インク組成物に散乱粒子が含まれる場合、連続ジェッティング性やジェッティング誤着弾特性の低下を引き起こすことがあるが、表面改質された散乱粒子を用いる場合、優れた光特性効果を得ながらも連続ジェッティング性およびジェッティング誤着弾特性を改善することができる。 In one embodiment, surface-treated TiO 2 can be used as scattering particles, said TiO 2 surface-treated with one or more components selected from Al, Si, Zr, Zn, and organic matter. is preferable, and in this case, it is more preferable that Al is included as an essential component among the surface treatment components. If necessary, a material surface-treated with a compound having an unsaturated bond such as acrylate can also be used. When an ink composition contains scattering particles, it may cause a decrease in continuous jetting properties and jetting mis-landing properties, but when using surface-modified scattering particles, while obtaining excellent optical properties effects, Continuous jetting performance and jetting erroneous landing characteristics can be improved.
また、表面処理されたTiO2において、TiO2と表面処理成分の含有量比率は、重量比で90:10~99:1であってもよく、92:8~99:1であることが最も好ましい。前記重量比を満たす場合、長期保管時にも粘度安定性に優れ、インクジェッティング時における誤着弾を最小化できる効果が得られる。 In addition, in surface-treated TiO 2 , the content ratio of TiO 2 and surface treatment components may be 90:10 to 99:1 by weight, and most preferably 92:8 to 99:1. preferable. When the above weight ratio is satisfied, the viscosity stability is excellent even during long-term storage, and the effect of minimizing erroneous landing during inkjetting is achieved.
前記散乱粒子は、50~1000nmの平均粒径を有することができ、好ましくは100~500nmの範囲のものを用いる。さらに好ましくは150~300nmの範囲であるのが良い。散乱粒子の大きさが上述した範囲を満たす場合、量子ドットやバックライト(BLU)から放出された光の十分な散乱効果を提供可能であり、インク組成物中に沈む問題が生じることなく均一な塗膜の表面が得られるという点で好ましい。 The scattering particles may have an average particle size of 50 to 1000 nm, preferably in the range of 100 to 500 nm. More preferably, the range is from 150 to 300 nm. When the size of the scattering particles satisfies the above-mentioned range, it can provide sufficient scattering effect of the light emitted from the quantum dots and the backlight (BLU), and can provide a uniform scattering effect without causing the problem of settling in the ink composition. This is preferable in that a coated surface can be obtained.
本発明において、平均粒径とは、数平均粒径であってもよいし、例えば、電界放出走査電子顕微鏡(FE-SEM)または透過電子顕微鏡(TEM)によって観察した像から求められる。具体的には、FE-SEMまたはTEMの観察画像からいくつかのサンプルを抽出し、これらサンプルの直径を測定して算術平均した値として得ることができる。 In the present invention, the average particle size may be a number average particle size, and is determined from an image observed using a field emission scanning electron microscope (FE-SEM) or a transmission electron microscope (TEM), for example. Specifically, several samples can be extracted from images observed by FE-SEM or TEM, and the diameters of these samples can be measured and obtained as an arithmetic average value.
前記散乱粒子は、前記インク組成物の総重量に対して0.5~20重量%、好ましくは1~15重量%、より好ましくは1~10重量%含まれる。 The scattering particles are contained in an amount of 0.5 to 20% by weight, preferably 1 to 15% by weight, and more preferably 1 to 10% by weight based on the total weight of the ink composition.
前記散乱粒子が上述した範囲内に含まれる場合には、発光強度増加効果が極大化され、散乱効果が十分で発光強度の確保が可能であり、散乱特性がしきい範囲を超えて発光された光を遮断することにより、発光強度低下の問題を防止できるという点で好ましい。 When the scattering particles are within the above-mentioned range, the emitted light intensity increasing effect is maximized, the scattering effect is sufficient and the emitted light intensity can be secured, and the scattering characteristics exceed the threshold range to emit light. Blocking light is preferable in that it is possible to prevent the problem of reduced luminescence intensity.
硬化性モノマー
本発明のインク組成物は、硬化性モノマーとして、化学式1および化学式2で表される化合物のうちの1種以上を含むことを特徴とし、必要に応じて、化学式1および/または2で表される化合物のほか、他の硬化性モノマーをさらに含んでもよい。インク組成物に本発明に係る硬化性モノマーを用いることにより基材との密着性が向上し、散乱粒子によって低下しうる連続ジェッティング性およびジェッティング誤着弾特性も改善することができる。
Curable Monomer The ink composition of the present invention is characterized in that it contains one or more compounds represented by Chemical Formula 1 and Chemical Formula 2 as a curable monomer, and if necessary, In addition to the compound represented by, other curable monomers may be further included. By using the curable monomer according to the present invention in an ink composition, the adhesion to the base material can be improved, and continuous jetting properties and jetting erroneous impact properties that can be degraded by scattering particles can also be improved.
本発明において、硬化性モノマーは、2個の官能基を有する化学式1および化学式2で表される化合物のうちの1種以上を含むことにより、低い粘度でノズル詰まりなくインクジェット工程が可能であり、ジェッティングされたインク組成物と基材との優れた密着力効果を有することができる。 In the present invention, the curable monomer contains one or more of the compounds represented by Chemical Formula 1 and Chemical Formula 2 having two functional groups, so that an inkjet process is possible with low viscosity and no nozzle clogging, The jetted ink composition can have excellent adhesion to the base material.
従来のアルキルアクリレートモノマーを用いると、塗膜自体がブリトル(brittle)で壊れやすくてよく割れ、下部基材との密着力が著しく低下する問題が発生し、窮極的に、画素または画像表面装置において下部基材とのインク層間の浮き上がりやクラックが発生して量子ドットの光特性や透過率の低下をもたらす。そこで、本発明は、化学式1および化学式2で表される化合物のうちの1種以上を含むことにより、低い粘度でノズル詰まりなくインクジェット工程が可能な効果を有することができる。 When conventional alkyl acrylate monomers are used, the coating film itself becomes brittle and easily cracks, resulting in a significant decrease in adhesion to the underlying substrate, which ultimately leads to problems in the pixel or image surface device. Lifting and cracking occur between the ink layer and the lower base material, resulting in a decrease in the optical properties and transmittance of the quantum dots. Therefore, by including one or more of the compounds represented by Chemical Formula 1 and Chemical Formula 2, the present invention can have the effect of enabling an inkjet process with low viscosity and without nozzle clogging.
前記化学式1において、R1は、それぞれ独立して、水素またはメチル基であり、mは、1~15の整数である。 In the above formula 1, R 1 is independently a hydrogen atom or a methyl group, and m is an integer of 1 to 15.
前記化学式2において、R2は、それぞれ独立して、水素またはメチル基であり、mは、1~15の整数である。 In Formula 2, each R 2 is independently hydrogen or a methyl group, and m is an integer from 1 to 15.
前記化学式1で表される化合物の具体例としては、ポリエチレングリコール200ジ(メタ)アクリレート(polyethylene glycol 200 diacrylate)、ポリエチレングリコール400ジ(メタ)アクリレート(polyethylene glycol 400 diacrylate)、ポリエチレングリコール600ジ(メタ)アクリレート(polyethylene glycol 600 diacrylate)などが挙げられる。 Specific examples of the compound represented by Formula 1 include polyethylene glycol 200 di(meth)acrylate, polyethylene glycol 400 di(meth)acrylate, and polyethylene glycol 600. di(meta) ) acrylate (polyethylene glycol 600 diacrylate) and the like.
前記化学式2で表される化合物の具体例としては、ジプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート(Dipropylene glycol diacrylate)、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート(Tripropylene glycol diacrylate)、ポリプロピレングリコール100ジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコール200ジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコール400ジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコール700ジ(メタ)アクリレートなどが挙げられる。 Specific examples of the compound represented by Chemical Formula 2 include dipropylene glycol di(meth)acrylate, tripropylene glycol di(meth)acrylate, polypropylene glycol 100 di(meth)acrylate, polypropylene glycol 200 di(meth)acrylate, polypropylene glycol 400 di(meth)acrylate, and polypropylene glycol 700 di(meth)acrylate.
また、硬化性モノマーとして、化学式1および/または2で表される化合物のほか、他の硬化性モノマーをさらに含む場合、全体硬化性モノマーの固形分を基準として、前記化学式1および/または2で表される化合物は5~40重量%含まれてもよく、好ましくは5~25重量%含まれることが好ましい。前記含有量範囲に含まれる場合、長期保管時に粘度安定性が向上可能であり、インクジェッティング時における誤着弾を低減することができる。 In addition, when the curable monomer further contains other curable monomers in addition to the compound represented by the chemical formula 1 and/or 2, based on the solid content of the entire curable monomer, the compound represented by the chemical formula 1 and/or 2 is The represented compounds may be present in an amount of 5 to 40% by weight, preferably 5 to 25% by weight. When the content is within the above range, viscosity stability can be improved during long-term storage, and erroneous landing during inkjetting can be reduced.
本発明において、硬化性モノマーは、下記化学式3で表される化合物をさらに含むことができる。下記化学式3で表される単官能モノマーを含むことにより、インクジェット工程の後、インク組成物と基材との密着性をより一層向上させることができ、量子ドットが含まれたインク組成物の場合、光特性を向上させる効果が現れる。 In the present invention, the curable monomer may further include a compound represented by the following chemical formula 3. By including the monofunctional monomer represented by the following chemical formula 3, the adhesion between the ink composition and the base material can be further improved after the inkjet process, and in the case of an ink composition containing quantum dots. , the effect of improving optical characteristics appears.
前記化学式3において、R3は、水素またはメチル基であり、Aは、-CH2-CH2-O-(エチレンオキシド)または-CH2-CH(CH3)-O-(プロピレンオキシド)である。 In the chemical formula 3, R 3 is hydrogen or a methyl group, and A is -CH 2 -CH 2 -O- (ethylene oxide) or -CH 2 -CH (CH 3 ) -O- (propylene oxide). .
前記化学式3で表される化合物の2-(メタ)アクリロイルオキシエチルスクシネート、モノ(2-アクリロイルエチル)スクシネート(Mono(2-acryloyloxyethyl)Succinate)などが挙げられる。 Examples of the compound represented by the chemical formula 3 include 2-(meth)acryloyloxyethyl succinate and Mono(2-acryloyloxyethyl) Succinate.
前記化学式3の単官能モノマーがさらに含まれる場合、硬化性モノマーを、総100重量%を基準とした時、0.5~30重量%含まれる。 When the monofunctional monomer of Formula 3 is further included, it is included in an amount of 0.5 to 30% by weight based on the total weight of 100% of the curable monomer.
本発明において、硬化性モノマーは、基材との密着性特性をさらに改善できるという点から、水酸基含有(メタ)アクリレートをさらに含むことができる。 In the present invention, the curable monomer can further contain a hydroxyl group-containing (meth)acrylate, since it can further improve the adhesive properties with the base material.
前記水酸基含有(メタ)アクリレートは、水酸基価が200~300mgKOH/gであり、粘度が50cP未満の場合により好ましい。前記水酸基含有(メタ)アクリレートの具体例としては、グリセロール(メタ)アクリレート(例えば、Glycerol diacrylate)などが挙げられる。 The hydroxyl group-containing (meth)acrylate preferably has a hydroxyl value of 200 to 300 mgKOH/g and a viscosity of less than 50 cP. Specific examples of the hydroxyl group-containing (meth)acrylate include glycerol (meth)acrylate (eg, glycerol diacrylate).
前記水酸基含有(メタ)アクリレートがさらに含まれる場合、硬化性モノマーを、総100重量%を基準とした時、0.5~30重量%含まれる。 When the hydroxyl group-containing (meth)acrylate is further included, it is included in an amount of 0.5 to 30% by weight based on the total 100% by weight of the curable monomer.
前記化学式3のモノマーおよび/または水酸基含有(メタ)アクリレートがさらに含まれる場合、インクジェットプリンティング工程でコーティングされる画素は、基材との剥離やクラックなく密着性に優れた特性を改善させることができる。化学式3のモノマーおよび/または水酸基含有(メタ)アクリレートが過度に含まれる場合、硬化がまともに行われなかったり、むしろ密着力がやや低下することがあり、含有量の増加による粘度の増加でジェッティング性が減少しうるため、含まれる場合、上述した範囲内に含まれることが好ましい。 When the monomer of formula 3 and/or hydroxyl group-containing (meth)acrylate is further included, the pixels coated in the inkjet printing process can have improved adhesion properties without peeling or cracking from the substrate. When the monomer of formula 3 and/or hydroxyl group-containing (meth)acrylate is included in excess, curing may not be performed properly or adhesion may be slightly reduced, and the increase in viscosity due to the increase in content may reduce jetting properties, so when included, it is preferable that it is included within the above-mentioned range.
前記硬化性モノマーは、前記インク組成物全100重量%に対して40~98%含まれ、より具体的には、量子ドットを含むインク組成物の場合、40~70重量%、好ましくは50~60重量%含まれ、量子ドットを含まずに散乱粒子のみを含むインク組成物の場合、80~95重量%含まれる。 The curable monomer is contained in an amount of 40 to 98% based on 100% by weight of the total ink composition, more specifically, in the case of an ink composition containing quantum dots, it is contained in an amount of 40 to 70% by weight, preferably 50 to 98% by weight. In the case of an ink composition containing only scattering particles without quantum dots, the content is 80 to 95% by weight.
前記硬化性モノマーが前記範囲内に含まれる場合、インクジェットプリンティング工程でノズル詰まりなく連続したジェッティングや画素部の密着性の面で好ましいという利点がある。また、上述した範囲に含まれる場合、画素部の密着性がやや低下して、インクジェット工程の後に塗膜のクラックや剥離が起こる問題を防止可能であり、量子ドットおよび/または散乱粒子の含有量が減少して塗膜の光特性や透過率がやや低下しうる問題も改善可能なので、好ましい。 When the curable monomer is contained within the above range, there is an advantage that it is preferable in terms of continuous jetting without nozzle clogging and adhesion of pixel portions in the inkjet printing process. In addition, if the content falls within the above range, the adhesion of the pixel area will decrease slightly, which can prevent the problem of cracking or peeling of the coating after the inkjet process, and the content of quantum dots and/or scattering particles can be reduced. This is preferable because it can also solve the problem that the optical properties and transmittance of the coating film may be slightly lowered due to a decrease in the amount of light.
量子ドット
前記量子ドットは、光による刺激で発光できるものであれば特に限定しないが、非カドミウム系であることが好ましく、II-VI族半導体化合物、III-V族半導体化合物、IV-VI族半導体化合物、およびIV族元素、またはこれを含む化合物から選択される1種以上を使用することができる。前記II-VI族半導体化合物は、CdS、CdSe、CdTe、ZnS、ZnSe、ZnTe、ZnO、HgS、HgSe、HgTe、およびこれらの混合物からなる群より選択される二元素化合物;CdSeS、CdSeTe、CdSTe、ZnSeS、ZnSeTe、ZnSTe、HgSeS、HgSeTe、HgSTe、CdZnS、CdZnSe、CdZnTe、CdHgS、CdHgSe、CdHgTe、HgZnS、HgZnSe、HgZnTe、およびこれらの混合物からなる群より選択される三元素化合物;並びにCdZnSeS、CdZnSeTe、CdZnSTe、CdHgSeS、CdHgSeTe、CdHgSTe、HgZnSeS、HgZnSeTe、HgZnSTe、およびこれらの混合物からなる群より選択される四元素化合物からなる群より選択される1種以上であってもよく、前記III-V族半導体化合物は、GaN、GaP、GaAs、GaSb、AlN、AlP、AlAs、AlSb、InN、InP、InAs、InSb、およびこれらの混合物からなる群より選択される二元素化合物;GaNP、GaNAs、GaNSb、GaPAs、GaPSb、AlNP、AlNAs、AlNSb、AlPAs、AlPSb、InNP、InNAs、InNSb、InPAs、InPSb、GaAlNP、およびこれらの混合物からなる群より選択される三元素化合物;並びにGaAlNAs、GaAlNSb、GaAlPAs、GaAlPSb、GaInNP、GaInNAs、GaInNSb、GaInPAs、GaInPSb、InAlNP、InAlNAs、InAlNSb、InAlPAs、InAlPSb、およびこれらの混合物からなる群より選択される四元素化合物からなる群より選択される1種以上であってもよい。
Quantum dots The quantum dots are not particularly limited as long as they can emit light by stimulation with light, but are preferably non-cadmium-based, and one or more selected from II-VI group semiconductor compounds, III-V group semiconductor compounds, IV-VI group semiconductor compounds, and IV group elements or compounds containing the same can be used. The II-VI group semiconductor compounds are bi-element compounds selected from the group consisting of CdS, CdSe, CdTe, ZnS, ZnSe, ZnTe, ZnO, HgS, HgSe, HgTe, and mixtures thereof; CdSeS, CdSeTe, CdSTe, ZnSeS, ZnSeTe, ZnSTe, HgSeS, HgSeTe, HgSTe, CdZnS, CdZnSe, CdZnTe, CdHgS, CdHgSe, CdHgTe, and ternary compounds selected from the group consisting of HgZnS, HgZnSe, HgZnTe, and mixtures thereof; and quaternary compounds selected from the group consisting of CdZnSeS, CdZnSeTe, CdZnSTe, CdHgSeS, CdHgSeTe, CdHgSTe, HgZnSeS, HgZnSeTe, HgZnSTe, and mixtures thereof. The solid compound may be one or more selected from the group consisting of two-element compounds selected from the group consisting of GaN, GaP, GaAs, GaSb, AlN, AlP, AlAs, AlSb, InN, InP, InAs, InSb, and mixtures thereof; three-element compounds selected from the group consisting of GaNP, GaNAs, GaNSb, GaPAs, GaPSb, AlNP, AlNAs, AlNSb, AlPAs, AlPSb, InNP, InNAs, InNSb, InPAs, InPSb, GaAlNP, and mixtures thereof; and four-element compounds selected from the group consisting of GaAlNAs, GaAlNSb, GaAlPAs, GaAlPSb, GaInNP, GaInNAs, GaInNSb, GaInPAs, GaInPSb, InAlNP, InAlNAs, InAlNSb, InAlPAs, InAlPSb, and mixtures thereof.
前記IV-VI族半導体化合物は、SnS、SnSe、SnTe、PbS、PbSe、PbTe、およびこれらの混合物からなる群より選択される二元素化合物;SnSeS、SnSeTe、SnSTe、PbSeS、PbSeTe、PbSTe、SnPbS、SnPbSe、SnPbTe、およびこれらの混合物からなる群より選択される三元素化合物;並びにSnPbSSe、SnPbSeTe、SnPbSTe、およびこれらの混合物からなる群より選択される四元素化合物からなる群より選択される1種以上であってもよい。 The IV-VI group semiconductor compound is a binary compound selected from the group consisting of SnS, SnSe, SnTe, PbS, PbSe, PbTe, and mixtures thereof; SnSeS, SnSeTe, SnSTe, PbSeS, PbSeTe, PbSTe, SnPbS, A ternary compound selected from the group consisting of SnPbSe, SnPbTe, and a mixture thereof; and one or more types selected from the group consisting of a quaternary compound selected from the group consisting of SnPbSSe, SnPbSeTe, SnPbSTe, and a mixture thereof. It may be.
前記IV族元素またはこれを含む化合物は、Si、Ge、およびこれらの混合物からなる群より選択される元素化合物;並びにSiC、SiGe、およびこれらの混合物からなる群より選択される二元素化合物からなる群より選択される1種以上であってもよいが、これに限定されない。 The Group IV element or a compound containing the same consists of an elemental compound selected from the group consisting of Si, Ge, and a mixture thereof; and a binary compound selected from the group consisting of SiC, SiGe, and a mixture thereof. It may be one or more selected from the group, but is not limited thereto.
前記量子ドットは、均質な(homogeneous)単一構造;コア-シェル(core-shell)構造、グラジエント(gradient)構造などのような二重構造;またはこれらの混合構造であってもよい。例えば、前記コア-シェル(core-shell)の二重構造において、それぞれのコア(core)とシェル(shell)をなす物質は、前記言及された互いに異なる半導体化合物からなってもよい。より具体的には、前記コアは、lnP、ZnS、ZnSe、PbSe、AgInZnS、およびZnOから選択される1種以上の物質を含むことができるが、これに限定されるものではない。前記シェルは、ZnSe、ZnS、ZnTe、PbS、TiO、SrSe、およびHgSeから選択される1種以上の物質を含むことができるが、これに限定されるものではない。 The quantum dots may have a homogeneous single structure; a dual structure such as a core-shell structure, a gradient structure, etc.; or a mixed structure thereof. For example, in the core-shell dual structure, the materials forming each core and shell may be made of the different semiconductor compounds mentioned above. More specifically, the core may include, but is not limited to, one or more materials selected from InP, ZnS, ZnSe, PbSe, AgInZnS, and ZnO. The shell may include, but is not limited to, one or more materials selected from ZnSe, ZnS, ZnTe, PbS, TiO, SrSe, and HgSe.
例えば、コア-シェル構造の量子ドットは、InP/ZnS、InP/GaP/ZnS、InP/GaP/ZnS、InP/ZnSe/ZnS、InP/ZnSeTe/ZnS、およびInP/MnSe/ZnSなどが挙げられる。 For example, core-shell quantum dots include InP/ZnS, InP/GaP/ZnS, InP/GaP/ZnS, InP/ZnSe/ZnS, InP/ZnSeTe/ZnS, and InP/MnSe/ZnS.
前記量子ドットは、湿式化学工程(wet chemical process)、有機金属化学蒸着工程(MOCVD、metal organic chemical vapor deposition)、または分子線エピタキシ工程(MBE、molecular beam epitaxy)によって合成できるが、これに限定されるものではない。 The quantum dots can be synthesized by, but are not limited to, a wet chemical process, a metal organic chemical vapor deposition process (MOCVD), or a molecular beam epitaxy process (MBE).
好ましくは、コア-シェル構造の量子ドットは、InP/ZnS、InP/ZnSe、InP/GaP/ZnS、InP/ZnSe/ZnS、InP/ZnSeTe/ZnS、およびInP/MnSe/ZnSなどが挙げられる。 Preferably, the core-shell quantum dots include InP/ZnS, InP/ZnSe, InP/GaP/ZnS, InP/ZnSe/ZnS, InP/ZnSeTe/ZnS, and InP/MnSe/ZnS.
前記量子ドットは、湿式化学工程(wet chemical process)、有機金属化学蒸着工程(MOCVD、metal organic chemical vapor deposition)、または分子線エピタキシ工程(MBE、molecular beam epitaxy)によって合成できるが、これに限定されるものではない。好ましくは、湿式化学工程(wet chemical process)によって合成する方が、より光特性に優れた量子ドットを得ることができる。 The quantum dots are synthesized by a wet chemical process, a metal organic chemical vapor deposition process (MOCVD), or a molecular beam epitaxy process (MBE). Yes, but limited to It's not something you can do. Preferably, quantum dots with better optical properties can be obtained by synthesizing by a wet chemical process.
前記湿式化学工程とは、有機溶剤に前駆体物質を入れて粒子を成長させる方法である。結晶が成長する時、有機溶剤が自然に量子ドット結晶の表面に配位されて分散剤の役割を果たして結晶の成長を調節するため、有機金属化学蒸着工程や分子線エピタキシのような気相蒸着法よりも容易かつ割安な工程によりナノ粒子の成長を制御できるため、前記湿式化学工程を用いて前記量子ドットを製造することが好ましい。 The wet chemical process is a method of growing particles by adding a precursor material to an organic solvent. When the crystal grows, the organic solvent is naturally coordinated to the surface of the quantum dot crystal and plays the role of a dispersing agent to control the crystal growth. It is preferable to manufacture the quantum dots using the wet chemical process because the growth of nanoparticles can be controlled by a process that is easier and cheaper than the wet chemical process.
湿式化学工程により量子ドットを製造する場合、量子ドットの凝集を防止し、量子ドットの粒子サイズをナノ水準に制御するために有機リガンドが使用される。このような有機リガンドとしては、一般的にオレイン酸が使用できる。 When producing quantum dots using a wet chemical process, organic ligands are used to prevent quantum dot aggregation and control the particle size of quantum dots to nanoscale levels. As such an organic ligand, oleic acid can generally be used.
本発明の一実施形態において、量子ドットは、ポリエチレングリコール系化合物を含むリガンド層を有するものであってもよい。前記ポリエチレングリコール系化合物は、より具体的には、下記化学式4a~4cおよび5aの構造で表されてもよい。 In one embodiment of the present invention, the quantum dots may have a ligand layer containing a polyethylene glycol compound. More specifically, the polyethylene glycol compound may be represented by the structures of the following chemical formulas 4a to 4c and 5a.
本発明の一実施形態において、前記量子ドットは、表面上に下記化学式4a~4cおよび化学式5aで表される化合物のうちの1つ以上を含むリガンド層を有するものである。 In one embodiment of the present invention, the quantum dot has on its surface a ligand layer containing one or more of the compounds represented by the following chemical formulas 4a to 4c and chemical formula 5a.
前記化学式4a~4cにおいて、
R’およびR’’は、それぞれ独立して、水素原子;カルボキシル基;フェニル基;またはチオール基で置換されているか置換されていないC1-C20のアルキル基であり、
R’とR’’は、同時に、水素原子;フェニル基;または置換されていないC1-C20のアルキル基ではなく、
Raは、置換もしくは非置換のC1-C22のアルキル基、または置換もしくは非置換のC4-C22のアルケニル基であり、
nは、1~20の整数であり、
p、qは、それぞれ独立して、1~100の整数であり、
rは、1~10の整数である。
In the chemical formulas 4a to 4c,
R' and R'' are each independently a hydrogen atom; a carboxyl group; a phenyl group; or a C1-C20 alkyl group substituted or unsubstituted with a thiol group,
R' and R'' are not at the same time a hydrogen atom; a phenyl group; or an unsubstituted C1-C20 alkyl group,
R a is a substituted or unsubstituted C1-C22 alkyl group, or a substituted or unsubstituted C4-C22 alkenyl group,
n is an integer from 1 to 20,
p and q are each independently an integer of 1 to 100,
r is an integer from 1 to 10.
また、本発明の量子ドットは、一実施形態において、下記化学式5aの構造を含むリガンド層を含むものであってもよい。 Further, in one embodiment, the quantum dot of the present invention may include a ligand layer having a structure represented by the following chemical formula 5a.
前記化学式5aにおいて、Rcは、置換もしくは非置換のC1-C22のアルキル基、または置換もしくは非置換のC4-C22のアルケニル基であり、
Rdは、置換もしくは非置換のC1-C22のアルキレン基、置換もしくは非置換のC3-C8のシクロアルキレン基、または置換もしくは非置換のC6-C14のアリーレン基であり、
AおよびBは、それぞれ独立して、単結合、置換もしくは非置換のC1-C22のアルキレン基、-O-、-NRe-、または-S-であり、
Xは、カルボキシル基、リン酸基、チオール基、アミン基、テトラゾール基、イミダゾール基、ピリジン基、またはリポアミド基であり、
Reは、置換もしくは非置換のC1-C22のアルキル基、または置換もしくは非置換のC4-C22のアルケニル基であり、
uは、1~100の整数である。
In the chemical formula 5a, R c is a substituted or unsubstituted C1-C22 alkyl group, or a substituted or unsubstituted C4-C22 alkenyl group,
R d is a substituted or unsubstituted C1-C22 alkylene group, a substituted or unsubstituted C3-C8 cycloalkylene group, or a substituted or unsubstituted C6-C14 arylene group,
A and B are each independently a single bond, a substituted or unsubstituted C1-C22 alkylene group, -O-, -NR e -, or -S-,
X is a carboxyl group, a phosphoric acid group, a thiol group, an amine group, a tetrazole group, an imidazole group, a pyridine group, or a lipoamide group,
R e is a substituted or unsubstituted C1-C22 alkyl group, or a substituted or unsubstituted C4-C22 alkenyl group,
u is an integer from 1 to 100.
本明細書で使用されるC1-C20のアルキル基は、炭素数1~20個からなる直鎖状または分枝状の1価の炭化水素を意味し、例えば、メチル、エチル、n-プロピル、イソプロピル、n-ブチル、イソブチル、tert-ブチル、sec-ブチル、1-メチル-ブチル、1-エチル-ブチル、n-ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、tert-ペンチル、n-ヘキシル、1-メチルペンチル、2-メチルペンチル、4-メチル-2-ペンチル、3,3-ジメチルブチル、2-エチルブチル、n-ヘプチル、1-メチルヘキシル、n-オクチル、tert-オクチル、1-メチルヘプチル、2-エチルヘキシル、2-プロピルペンチル、n-ノニル、2,2-ジメチルヘプチル、n-デシル、n-ウンデシルなどが含まれるが、これらに限定されるものではない。 The C1-C20 alkyl group used herein means a linear or branched monovalent hydrocarbon having 1 to 20 carbon atoms, such as methyl, ethyl, n-propyl, Isopropyl, n-butyl, isobutyl, tert-butyl, sec-butyl, 1-methyl-butyl, 1-ethyl-butyl, n-pentyl, isopentyl, neopentyl, tert-pentyl, n-hexyl, 1-methylpentyl, 2 -Methylpentyl, 4-methyl-2-pentyl, 3,3-dimethylbutyl, 2-ethylbutyl, n-heptyl, 1-methylhexyl, n-octyl, tert-octyl, 1-methylheptyl, 2-ethylhexyl, 2 -propylpentyl, n-nonyl, 2,2-dimethylheptyl, n-decyl, n-undecyl, and the like, but are not limited to these.
本明細書で使用されるC1-C22のアルキル基は、炭素数1~22個からなる直鎖状または分枝状の1価の炭化水素を意味し、例えば、メチル、エチル、n-プロピル、イソプロピル、n-ブチル、イソブチル、tert-ブチル、sec-ブチル、1-メチル-ブチル、1-エチル-ブチル、n-ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、tert-ペンチル、n-ヘキシル、1-メチルペンチル、2-メチルペンチル、4-メチル-2-ペンチル、3,3-ジメチルブチル、2-エチルブチル、n-ヘプチル、1-メチルヘキシル、n-オクチル、tert-オクチル、1-メチルヘプチル、2-エチルヘキシル、2-プロピルペンチル、n-ノニル、2,2-ジメチルヘプチル、n-デシル、n-ウンデシル、n-ドコサニルなどが含まれるが、これらに限定されるものではない。 The C1-C22 alkyl group used herein means a linear or branched monovalent hydrocarbon having 1 to 22 carbon atoms, such as methyl, ethyl, n-propyl, Isopropyl, n-butyl, isobutyl, tert-butyl, sec-butyl, 1-methyl-butyl, 1-ethyl-butyl, n-pentyl, isopentyl, neopentyl, tert-pentyl, n-hexyl, 1-methylpentyl, 2 -Methylpentyl, 4-methyl-2-pentyl, 3,3-dimethylbutyl, 2-ethylbutyl, n-heptyl, 1-methylhexyl, n-octyl, tert-octyl, 1-methylheptyl, 2-ethylhexyl, 2 -propylpentyl, n-nonyl, 2,2-dimethylheptyl, n-decyl, n-undecyl, n-docosanyl, and the like, but are not limited to these.
本明細書で使用されるC4-C22のアルケニル基は、1つ以上の炭素-炭素二重結合を有する炭素数4~22個からなる直鎖状または分枝状の1価の不飽和炭化水素を意味し、例えば、ブテニレン、ペンテニレン、ヘキセニレン、ヘプテニレン、オクテニレン、ノネニレン、デセニレン、ウンデセニレン、ドデセニレン、トリデセニレン、テトラデセニレン、ペンタデセニレン、ヘキサデセニレン、ヘプタデセニレン、オクタデセニレンなどが含まれるが、これらに限定されるものではない。 The C4-C22 alkenyl group used herein refers to a linear or branched monovalent unsaturated hydrocarbon having 4 to 22 carbon atoms and having one or more carbon-carbon double bonds. Examples thereof include, but are not limited to, butenylene, pentenylene, hexenylene, heptenylene, octenylene, nonenylene, decenylene, undecenylene, dodecenylene, tridecenylene, tetradecenylene, pentadecenylene, hexadecenylene, heptadecenylene, octadecenylene, and the like.
前記C1-C20のアルキル基、C1-C22のアルキル基、およびC4-C22のアルケニル基は、1つまたはそれ以上の水素がC1-C6のアルキル基、C2-C6のアルケニル基、C2-C6のアルキニル基、C3-C10のシクロアルキル基、C3-C10のヘテロシクロアルキル基、C3-C10のヘテロシクロアルキルオキシ基、C1-C6のハロアルキル基、C1-C6のアルコキシ基、C1-C6のチオアルコキシ基、アリール基、アシル基、ヒドロキシ、チオ(thio)、ハロゲン、アミノ、アルコキシカルボニル、カルボキシ、カルバモイル、シアノ、ニトロなどで置換されていてもよい。 The C1-C20 alkyl group, C1-C22 alkyl group, and C4-C22 alkenyl group may have one or more hydrogens substituted with a C1-C6 alkyl group, a C2-C6 alkenyl group, a C2-C6 alkynyl group, a C3-C10 cycloalkyl group, a C3-C10 heterocycloalkyl group, a C3-C10 heterocycloalkyloxy group, a C1-C6 haloalkyl group, a C1-C6 alkoxy group, a C1-C6 thioalkoxy group, an aryl group, an acyl group, a hydroxyl group, a thio (thio), a halogen group, an amino, an alkoxycarbonyl group, a carboxyl group, a carbamoyl group, a cyano group, a nitro group, or the like.
本発明の前記化学式4aで表される化合物は、量子ドットの光特性および分散性と、低粘度実現の面から、R’がチオール基で置換されているか置換されていないC1-C20のアルキル基であり、R’’がカルボキシル基である化合物であってもよい。 In the compound represented by the chemical formula 4a of the present invention, R' is a C1-C20 alkyl group substituted with a thiol group or not substituted with a thiol group, from the viewpoint of optical properties and dispersibility of quantum dots and realization of low viscosity. and R'' may be a carboxyl group.
本発明の一実施形態において、前記化学式4aで表される化合物の具体例としては、2-(2-メトキシエトキシ)酢酸(WAKO社)、2-[2-(2-メトキシエトキシ)エトキシ]酢酸(WAKO社)、{2-[2-(カルボキシメトキシ)エトキシ]エトキシ}酢酸(WAKO社)、2-[2-(ベンジルオキシ)エトキシ]酢酸、(2-(カルボキシメトキシ)エトキシ)酢酸(WAKO社)、(2-ブトキシエトキシ)酢酸(WAKO社)、カルボキシ-EG6-ウンデカンチオールなどが挙げられるが、これらに限定されない。 In one embodiment of the present invention, specific examples of the compound represented by the chemical formula 4a include 2-(2-methoxyethoxy)acetic acid (WAKO), 2-[2-(2-methoxyethoxy)ethoxy]acetic acid (WAKO), {2-[2-(carboxymethoxy)ethoxy]ethoxy}acetic acid (WAKO), 2-[2-(benzyloxy)ethoxy]acetic acid, (2-(carboxymethoxy)ethoxy)acetic acid (WAKO) Examples include, but are not limited to, (2-butoxyethoxy)acetic acid (WAKO), carboxy-EG6-undecanethiol, and the like.
本発明の前記化学式4bで表される化合物は、量子ドットの光特性および分散性と、低粘度実現の面から、Raは、C1-C22のアルキル基、またはC4-C20のアルケニル基であり、pは、1~50の整数である化合物であってもよい。特に、前記化学式4bにおいて、pが前記範囲を超える場合、光変換インク組成物の粘度に影響を及ぼすことがある。 In terms of realizing the optical properties and dispersibility of quantum dots and low viscosity, the compound represented by Chemical Formula 4b of the present invention may be a compound in which R a is a C1-C22 alkyl group or a C4-C20 alkenyl group, and p is an integer from 1 to 50. In particular, if p in Chemical Formula 4b exceeds the above range, it may affect the viscosity of the light conversion ink composition.
前記化学式4bで表される化合物は、チオール(thiol)基を有し、チオール基が量子ドットの表面に結合することができる。チオール基の場合、カルボン酸など通常の量子ドットが持つリガンド層化合物対比の、量子ドットの表面との結合力に優れ、量子ドットのダングリングボンド(dangling bond)のような表面欠点による消光および表面酸化による消光を抑制して、光特性(発光特性)と信頼性を向上させるという利点がある。 The compound represented by Formula 4b has a thiol group, and the thiol group can be bonded to the surface of the quantum dot. In the case of a thiol group, it has excellent bonding strength with the surface of quantum dots compared to the ligand layer compounds of ordinary quantum dots such as carboxylic acids, and has excellent bonding strength with the surface of quantum dots such as quenching due to surface defects such as dangling bonds of quantum dots. It has the advantage of suppressing quenching due to oxidation and improving optical characteristics (emission characteristics) and reliability.
本発明の一実施形態において、前記化学式4bで表される化合物は、量子ドットの光特性および分散性と、低粘度実現の面から、下記化学式4-1~4-6で表される化合物から選択される1つ以上の化合物であってもよい。 In one embodiment of the present invention, the compound represented by chemical formula 4b may be one or more compounds selected from the compounds represented by the following chemical formulas 4-1 to 4-6 in terms of the optical properties and dispersibility of the quantum dots and realization of low viscosity.
本発明の前記化学式4cで表される化合物は、量子ドットの光特性および分散性と、低粘度実現の面から、qは、1~50の整数であり、rは、1~8の整数である化合物であってもよい。特に、前記化学式4cにおいて、qおよびrが前記範囲を超える場合、光変換インク組成物の粘度に影響を及ぼすことがある。 In the compound represented by the chemical formula 4c of the present invention, q is an integer of 1 to 50, and r is an integer of 1 to 8, from the viewpoint of optical properties and dispersibility of quantum dots and realization of low viscosity. It may be a certain compound. In particular, in the chemical formula 4c, when q and r exceed the above ranges, the viscosity of the light conversion ink composition may be affected.
前記化学式4cで表される化合物は、チオール(thiol)基を有し、チオール基が量子ドットの表面に結合することができる。チオール基の場合、カルボン酸など通常の量子ドットが持つリガンド層化合物対比の、量子ドットの表面との結合力に優れ、量子ドットのダングリングボンド(dangling bond)のような表面欠点による消光および表面酸化による消光を抑制して、光特性(発光特性)と信頼性を向上させるという利点がある。 The compound represented by Formula 4c has a thiol group, and the thiol group can be bonded to the surface of the quantum dot. In the case of a thiol group, it has excellent bonding strength with the surface of quantum dots compared to the ligand layer compounds of ordinary quantum dots such as carboxylic acids, and has excellent bonding strength with the surface of quantum dots such as quenching due to surface defects such as dangling bonds of quantum dots. It has the advantage of suppressing quenching due to oxidation and improving optical characteristics (emission characteristics) and reliability.
本発明の一実施形態において、前記化学式4cで表される化合物は、量子ドットの光特性および分散性と、低粘度実現の面から、下記化学式4-7~4-12で表される化合物から選択される1つ以上の化合物であってもよい。 In one embodiment of the present invention, the compound represented by the chemical formula 4c is selected from the compounds represented by the following chemical formulas 4-7 to 4-12 from the viewpoint of optical properties and dispersibility of quantum dots and realization of low viscosity. It may be one or more compounds selected.
本発明の前記化学式4a~4cで表される化合物は有機リガンドであって、量子ドットの表面に配位結合されて量子ドットを安定化させる役割を果たすことができる。 The compounds represented by the chemical formulas 4a to 4c of the present invention are organic ligands that are coordinately bonded to the surface of quantum dots to stabilize the quantum dots.
通常、製造された量子ドットは、表面上にリガンド層を有することが一般的であり、製造直後のリガンド層は、オレイン酸(oleic acid)、ラウリン酸(lauric acid)などからなってもよい。この場合、本発明に係る量子ドットが前記化学式4a~4cで表される化合物をリガンド層として含む場合対比の、量子ドットとのより弱い結合力によって、量子ドットの表面の非結合欠陥による理由から、表面保護効果が低下することがある。また、オレイン酸の場合、高揮発性化合物(VOC;volatile organic compound)であるn-ヘキサンのような脂肪族炭化水素系溶剤、ベンゼンのような芳香族炭化水素系溶剤によく分散するが、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート(PGMEA)のような溶剤に分散性が不良である。本発明に係る量子ドットは、前記化学式4a~4cで表される化合物をリガンド層として含み、PGMEAのような溶剤に分散性が非常に優れ、光特性を向上させる効果が現れる。 Typically, manufactured quantum dots have a ligand layer on their surface, and the ligand layer immediately after manufacturing may be made of oleic acid, lauric acid, or the like. In this case, due to the weaker bonding force with the quantum dots compared to when the quantum dots according to the present invention contain the compounds represented by the chemical formulas 4a to 4c as a ligand layer, the reason is due to non-bonding defects on the surface of the quantum dots. , the surface protection effect may be reduced. In addition, in the case of oleic acid, it is well dispersed in aliphatic hydrocarbon solvents such as n-hexane and aromatic hydrocarbon solvents such as benzene, which are highly volatile organic compounds (VOCs), but propylene It has poor dispersibility in solvents such as glycol methyl ether acetate (PGMEA). The quantum dots according to the present invention contain the compounds represented by the chemical formulas 4a to 4c as a ligand layer, have excellent dispersibility in a solvent such as PGMEA, and exhibit the effect of improving optical properties.
また、前記量子ドットは、前記化学式4a~4cで表される化合物のうちの1つ以上のポリエチレングリコール系リガンドを含むことにより、溶剤なしに、下記に記述する硬化性モノマーだけでも良好な分散特性を示すことができる。 In addition, the quantum dots contain one or more polyethylene glycol-based ligands among the compounds represented by the chemical formulas 4a to 4c, and therefore have good dispersion properties even when using only the curable monomer described below without using a solvent. can be shown.
前記化学式4a~4cで表される化合物は、量子ドットの総表面積に対して5%以上の表面を覆っていてもよい。 The compounds represented by the chemical formulas 4a to 4c may cover 5% or more of the total surface area of the quantum dots.
この時、前記化学式4a~4cで表される化合物の含有量は、量子ドット1モルに対して0.1~10モルであってもよい。 At this time, the content of the compounds represented by the chemical formulas 4a to 4c may be 0.1 to 10 mol per 1 mol of quantum dots.
前記化学式4a~4cで表される化合物を含むリガンド層は、0.1nm~2nmの厚さ、例えば、0.5nm~1.5nmの厚さを有することができる。 The ligand layer containing the compounds represented by Formulas 4a to 4c may have a thickness of 0.1 nm to 2 nm, for example, 0.5 nm to 1.5 nm.
本発明の一実施形態において、前記量子ドットは、ナノサイズの半導体物質を称することができる。原子が分子をなし、分子はクラスターという小さい分子の集合体を構成してナノ粒子をなすが、このようなナノ粒子が半導体特性を呈している時、量子ドットという。前記量子ドットは、外部からエネルギーを受けて励起状態に至ると、前記量子ドットの自ら該当するエネルギーバンドギャップによるエネルギーを放出する。例えば、本発明の光変換インク組成物はこのような量子ドットを含むことにより、入射した青色光を、緑色光および赤色光に光変換可能である。 In one embodiment of the invention, the quantum dots may refer to nano-sized semiconductor materials. Atoms make up molecules, and molecules compose clusters of small molecules to form nanoparticles. When such nanoparticles exhibit semiconductor properties, they are called quantum dots. When the quantum dots receive energy from the outside and reach an excited state, they emit energy according to an energy band gap corresponding to the quantum dots. For example, the light conversion ink composition of the present invention can photoconvert incident blue light into green light and red light by including such quantum dots.
本発明の一実施形態において、前記量子ドットの製造過程で使用されたオレイン酸は、リガンド交換方法により、前記化学式4a~化学式4cのリガンドに代替される。 In one embodiment of the present invention, oleic acid used in the manufacturing process of the quantum dots is replaced with the ligands of Formulas 4a to 4c by a ligand exchange method.
前記リガンド交換は、元々の有機リガンド、すなわちオレイン酸を有する量子ドットを含む分散液に、交換しようとする有機リガンド、すなわち化学式4a~化学式4cの化合物を添加し、これを常温~200℃で30分~3時間撹拌して、化学式4a~化学式4cの化合物が結合した量子ドットを得ることにより行われる。必要に応じて、前記化学式4a~化学式4cの化合物が結合した量子ドットを分離し精製する過程を追加的に行ってもよい。 The ligand exchange is carried out by adding the organic ligand to be exchanged, i.e., the compounds of formulae 4a to 4c, to a dispersion containing quantum dots having the original organic ligand, i.e., oleic acid, and stirring the mixture at room temperature to 200°C for 30 minutes to 3 hours to obtain quantum dots bound with the compounds of formulae 4a to 4c. If necessary, an additional process of isolating and purifying the quantum dots bound with the compounds of formulae 4a to 4c may be carried out.
前記量子ドットが追加的に含まれる場合、インク組成物全100重量%に対して1~60重量%、好ましくは5~50重量%含まれる。前記量子ドットが前記範囲内に含まれる場合、発光効率に優れ、コーティング層の信頼性に優れるという利点がある。前記量子ドットが上述した範囲に含まれる場合、緑色光および赤色光の光変換効率に優れ、インク組成物の粘度が高くなってジェッティング性が低下する問題を防止できるという点で好ましい。 When the quantum dots are additionally included, they are included in an amount of 1 to 60% by weight, preferably 5 to 50% by weight, based on 100% by weight of the total ink composition. When the quantum dots are contained within the above range, there are advantages that the luminous efficiency is excellent and the reliability of the coating layer is excellent. When the quantum dots fall within the above range, it is preferable because the light conversion efficiency of green light and red light is excellent and the problem of increased viscosity of the ink composition and decreased jetting properties can be prevented.
分散剤
本発明において、分散剤は、酸価10~90mgKOH/gおよびアミン価10~90mgKOH/gを満たす分散剤を意味する。本発明の分散剤は、酸価とアミン価を同時に満たすことにより、効果的に散乱粒子とモノマーを同時に分散剤に付着してインク組成物に優れた分散性を与える役割を果たす。
Dispersant In the present invention, the dispersant means a dispersant that satisfies an acid value of 10 to 90 mgKOH/g and an amine value of 10 to 90 mgKOH/g. The dispersant of the present invention satisfies the acid value and the amine value at the same time, thereby effectively adhering the scattering particles and the monomer to the dispersant at the same time, thereby giving the ink composition excellent dispersibility.
より具体的には、本願発明において含まれる分散剤は、酸価10~90mgKOH/gおよびアミン価10~90mgKOH/gの範囲であってもよいし、酸価10~60mgKOH/gおよびアミン価10~60mgKOH/gの範囲がより好ましい。分散剤が上述した範囲の酸価およびアミン価を同時に満たす場合、インクジェット工程においてピクセル表面に散乱粒子のかたまり現象が著しく改善される効果を有し得るという点で好ましい。 More specifically, the dispersant included in the present invention may have an acid value of 10 to 90 mgKOH/g and an amine value of 10 to 90 mgKOH/g, or may have an acid value of 10 to 60 mgKOH/g and an amine value of 10. A range of ˜60 mgKOH/g is more preferable. When the dispersant satisfies the above-mentioned acid value and amine value at the same time, it is preferable because it can have the effect of significantly improving the phenomenon of clumping of scattering particles on the pixel surface in the inkjet process.
本発明は、上述した範囲の酸価およびアミン価を満たす分散剤であれば、種類に制限なく含むことができる。しかし、分散液の保管安定性の面から、Polyethylene(PE)またはPolyimine(PI)系の分散剤を含む方がより好ましい。 The present invention can include any type of dispersant as long as it satisfies the above-mentioned ranges of acid value and amine value. However, from the viewpoint of storage stability of the dispersion, it is more preferable to include a polyethylene (PE) or polyimine (PI)-based dispersant.
前記分散剤は、前記インク組成物の総重量%に対して0.01~20重量%、好ましくは0.5~15重量%、より好ましくは0.5~10重量%含まれる。 The dispersant is contained in an amount of 0.01 to 20% by weight, preferably 0.5 to 15% by weight, and more preferably 0.5 to 10% by weight, based on the total weight of the ink composition.
光重合開始剤
本発明において、光重合開始剤は、インク組成物のラジカル反応を開始させて、硬化を起こし感度を向上させる役割を果たす。開始剤は、自発光組成物に一般的に使用される光重合開始剤であって、アセトフェノン系、ベンゾフェノン系、トリアジン系、チオキサントン系、オキシム系、ベンゾイン系、ビイミダゾール系化合物などを使用することができる。
Photopolymerization Initiator In the present invention, the photopolymerization initiator plays the role of initiating a radical reaction in the ink composition, causing curing, and improving sensitivity. The initiator is a photopolymerization initiator commonly used in self-luminous compositions, such as acetophenone-based, benzophenone-based, triazine-based, thioxanthone-based, oxime-based, benzoin-based, biimidazole-based compounds, etc. I can do it.
さらに、本発明では、光重合開始補助剤を使用することができる。光重合開始補助剤は、光開始剤と組み合わせて使用される場合があり、光開始剤によって重合が開始された光重合性化合物の重合を促進させるために使用される化合物である。光重合開始補助剤としては、アミン系化合物、アルコキシアントラセン系化合物、チオキサントン系化合物、カルボン酸系化合物、およびスルホン酸系化合物などが挙げられる。 Furthermore, in the present invention, a photopolymerization initiation aid can be used. A photopolymerization initiation aid is a compound that may be used in combination with a photoinitiator, and is used to accelerate the polymerization of a photopolymerizable compound whose polymerization has been initiated by the photoinitiator. Examples of the photopolymerization initiation aid include amine compounds, alkoxyanthracene compounds, thioxanthone compounds, carboxylic acid compounds, and sulfonic acid compounds.
アミン系化合物としては、例えば、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、トリイソプロパノールアミン、4-ジメチルアミノ安息香酸メチル、4-ジメチルアミノ安息香酸エチル、4-ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、安息香酸2-ジメチルアミノエチル、4-ジメチルアミノ安息香酸2-エチルヘキシル、N,N-ジメチルパラトルイジン、4,4’-ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン(通称、ミヒラーズケトン)、4,4’-ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン、4,4’-ビス(エチルメチルアミノ)ベンゾフェノンなどが挙げられ、なかでも、4,4’-ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノンが好ましい。 Examples of amine compounds include triethanolamine, methyldiethanolamine, triisopropanolamine, methyl 4-dimethylaminobenzoate, ethyl 4-dimethylaminobenzoate, isoamyl 4-dimethylaminobenzoate, and 2-dimethylaminoethyl benzoate. , 2-ethylhexyl 4-dimethylaminobenzoate, N,N-dimethylparatoluidine, 4,4'-bis(dimethylamino)benzophenone (commonly known as Michler's ketone), 4,4'-bis(diethylamino)benzophenone, 4,4 Examples include '-bis(ethylmethylamino)benzophenone, among which 4,4'-bis(diethylamino)benzophenone is preferred.
アルコキシアントラセン系化合物としては、例えば、9,10-ジメトキシアントラセン、2-エチル-9,10-ジメトキシアントラセン、9,10-ジエトキシアントラセン、2-エチル-9,10-ジエトキシアントラセンなどが挙げられる。チオキサントン系化合物としては、例えば、2-イソプロピルチオキサントン、4-イソプロピルチオキサントン、2,4-ジエチルチオキサントン、2,4-ジクロロチオキサントン、1-クロロ-4-プロポキシチオキサントンなどが挙げられる。 Examples of alkoxyanthracene-based compounds include 9,10-dimethoxyanthracene, 2-ethyl-9,10-dimethoxyanthracene, 9,10-diethoxyanthracene, 2-ethyl-9,10-diethoxyanthracene, etc. . Examples of thioxanthone compounds include 2-isopropylthioxanthone, 4-isopropylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2,4-dichlorothioxanthone, and 1-chloro-4-propoxythioxanthone.
前記カルボン酸化合物の具体例としては、フェニルチオ酢酸、メチルフェニルチオ酢酸、エチルフェニルチオ酢酸、メチルエチルフェニルチオ酢酸、ジメチルフェニルチオ酢酸、メトキシフェニルチオ酢酸、ジメトキシフェニルチオ酢酸、クロロフェニルチオ酢酸、ジクロロフェニルチオ酢酸、N-フェニルグリシン、フェノキシ酢酸、ナフチルチオ酢酸、N-ナフチルグリシン、ナフトキシ酢酸などの芳香族ヘテロ酢酸類が挙げられる。 Specific examples of the carboxylic acid compounds include phenylthioacetic acid, methylphenylthioacetic acid, ethylphenylthioacetic acid, methylethylphenylthioacetic acid, dimethylphenylthioacetic acid, methoxyphenylthioacetic acid, dimethoxyphenylthioacetic acid, chlorophenylthioacetic acid, and dichlorophenylthioacetic acid. Examples include aromatic heteroacetic acids such as acetic acid, N-phenylglycine, phenoxyacetic acid, naphthylthioacetic acid, N-naphthylglycine, and naphthoxyacetic acid.
本発明において、光重合開始剤は、単独でまたは複数を組み合わせて使用しても支障がない。また、光重合開始補助剤として市販のものを使用することができ、市販の光重合開始補助剤としては、例えば、商品名「EAB-F」[製造元:保土谷化学工業株式会社]などが挙げられる。 In the present invention, the photopolymerization initiators may be used alone or in combination without any problem. In addition, commercially available photopolymerization initiation aids can be used, and examples of commercially available photopolymerization initiation aids include the product name "EAB-F" [manufacturer: Hodogaya Chemical Industry Co., Ltd.]. It will be done.
これらの光重合開始補助剤を使用する場合、その使用量は、光開始剤1モルあたり、通常10モル以下、好ましくは0.01~5モルが好ましい。前記範囲にあれば、自発光組成物の感度がより高くなり、この組成物を用いて形成される光変換積層基材の生産性が向上する傾向があるので、好ましい。 When these photopolymerization initiation aids are used, the amount used is usually 10 mol or less, preferably 0.01 to 5 mol, per 1 mol of photoinitiator. If it is within the above range, the sensitivity of the self-luminous composition tends to be higher and the productivity of the light conversion laminated base material formed using this composition tends to be improved, so it is preferable.
前記光重合開始剤は、インク組成物の総重量に対して0.1~3.0重量%、好ましくは0.5~2.0重量%含まれる。前記範囲内に光重合開始剤が含まれる場合、パターン形成が良好になり、自発光組成物が高感度化され、この組成物を用いて形成した画素部の強度や、この画素部の表面における平滑性が良好になる傾向があるので、好ましい。 The photopolymerization initiator is contained in an amount of 0.1 to 3.0% by weight, preferably 0.5 to 2.0% by weight, based on the total weight of the ink composition. When the photopolymerization initiator is contained within the above range, pattern formation becomes good, the self-luminous composition becomes highly sensitive, and the strength of the pixel part formed using this composition and the smoothness of the surface of this pixel part tend to be good, which is preferable.
添加剤
本発明の一実施形態に係るインク組成物は、上記の成分のほか、塗膜の平坦性または密着性を増進させるために、界面活性剤、シランカップリング剤、密着促進剤のような添加剤を追加的に含んでもよい。
Additives In addition to the above-mentioned components, the ink composition according to one embodiment of the present invention may also contain surfactants, silane coupling agents, adhesion promoters, etc. in order to improve the flatness or adhesion of the coating film. Additives may additionally be included.
本発明に係るインク組成物が前記界面活性剤を含む場合、塗膜の平坦性が向上できるという利点がある。例えば、前記界面活性剤は、F-554、BM-1000、BM-1100(BM Chemie社)、フロラードFC-135/FC-170C/FC-430(住友スリーエム(株))、SH-28PA/-190/-8400/SZ-6032(東レシリコーン(株))などのフッ素系界面活性剤を使用することができるが、これに限定されない。 When the ink composition according to the present invention contains the surfactant, it has the advantage of improving the flatness of the coating film. For example, the surfactant may be a fluorine-based surfactant such as F-554, BM-1000, BM-1100 (BM Chemie), Fluorad FC-135/FC-170C/FC-430 (Sumitomo 3M Limited), SH-28PA/-190/-8400/SZ-6032 (Toray Silicone Co., Ltd.), but is not limited to these.
前記密着促進剤は、基板との密着性を高めるために添加できるものであって、カルボキシル基、メタクリロイル基、イソシアネート基、エポキシ基、およびこれらの組み合わせからなる群より選択される反応性置換基を有するシランカップリング剤を含むことができるが、これに限定されるものではない。 The adhesion promoter can be added to enhance adhesion to the substrate, and can include, but is not limited to, a silane coupling agent having a reactive substituent selected from the group consisting of a carboxyl group, a methacryloyl group, an isocyanate group, an epoxy group, and combinations thereof.
この他にも、本発明に係るインク組成物は、本発明の効果を損なわない範囲で酸化防止剤、紫外線吸収剤、凝集防止剤のような添加剤をさらに含んでもよいし、前記添加剤は同じく、本発明の効果を損なわない範囲で当業者が適宜追加して使用可能である。 In addition, the ink composition according to the present invention may further contain additives such as antioxidants, ultraviolet absorbers, and anti-aggregation agents, as long as the effects of the present invention are not impaired. Similarly, the additives described above can be appropriately added and used by those skilled in the art, as long as the effects of the present invention are not impaired.
前記添加剤がさらに含まれる場合、前記インク組成物全100重量%に対して0.05~10重量%、具体的には0.1~10重量%、さらに具体的には0.1~5重量%使用することができるが、これに限定されるものではない。 When the additive is further included, it may be used in an amount of 0.05 to 10 wt %, specifically 0.1 to 10 wt %, and more specifically 0.1 to 5 wt %, based on 100 wt % of the total ink composition, but is not limited thereto.
本発明のインク組成物は、連続工程性の面から、無溶剤型の場合に最も好ましい。本明細書における無溶剤型は、インク組成物溶剤を全組成物100重量%に対して5重量%以下の量で含むことができることを意味する。より具体的には、本発明のインク組成物は、溶剤を含まない方がより好ましい。具体的には、本発明の一実施形態に係るインク組成物は無溶剤型で、溶剤の含有量が5重量%以下の量で低くても量子ドットの光特性および分散性に優れ、低粘度の実現が可能である。また、本発明の一実施形態に係るインク組成物は、溶剤の含有量が5重量%以下の量で低くて、ノズルの入口における溶剤の蒸発によるノズル詰まりが発生せず、連続工程に有利である。 The ink composition of the present invention is most preferably solvent-free from the viewpoint of continuous processability. The term "solvent-free" as used herein means that the ink composition can contain a solvent in an amount of 5% by weight or less based on 100% by weight of the total composition. More specifically, it is more preferable that the ink composition of the present invention does not contain a solvent. Specifically, the ink composition according to one embodiment of the present invention is solvent-free, has excellent optical properties and dispersibility of quantum dots, and has low viscosity even when the solvent content is as low as 5% by weight or less. It is possible to realize Furthermore, the ink composition according to an embodiment of the present invention has a low solvent content of 5% by weight or less, and no nozzle clogging due to evaporation of the solvent at the nozzle inlet does not occur, which is advantageous for continuous processes. be.
また、本発明の一実施形態に係るインク組成物は、樹脂成分を実質的に含まず、含むとしてもインク組成物全100重量%に対して0.5重量%以内で含む。本発明の一実施形態に係るインク組成物は、樹脂成分を含まないことにより低い粘度を実現可能で、インクのノズルジェッティング特性に優れる。 Furthermore, the ink composition according to one embodiment of the present invention does not substantially contain a resin component, and even if it does contain it, it is contained within 0.5% by weight based on 100% by weight of the total ink composition. The ink composition according to one embodiment of the present invention can achieve low viscosity by not containing a resin component, and has excellent ink nozzle jetting characteristics.
本発明の一実施形態は、上述したインク組成物の硬化物を含む画素に関する。
また、本発明の一実施形態は、上述した画素を含むカラーフィルタに関する。
One embodiment of the present invention relates to a pixel including a cured product of the above-described ink composition.
Moreover, one embodiment of the present invention relates to a color filter including the above-mentioned pixels.
本発明に係るインク組成物のパターン形成方法は、上述したインク組成物をインクジェット方式で所定領域に塗布するステップと、前記塗布されたインク組成物を硬化させるステップとを含んでなる。 A method for forming a pattern using an ink composition according to the present invention includes the steps of applying the above-described ink composition to a predetermined area using an inkjet method, and curing the applied ink composition.
まず、本発明のインク組成物をインクジェット噴射機に注入して基板の所定領域にプリンティングする。 First, the ink composition of the present invention is injected into an inkjet sprayer to print on a predetermined area of a substrate.
前記基板は限定はなく、一例として、ガラス基板、シリコン基板、ポリカーボネート基板、ポリエステル基板、芳香族ポリアミド基板、ポリアミドイミド基板、ポリイミド基板、Al基板、GaAs基板などの、表面が平坦な基板が挙げられる。これらの基板は、シランカップリング剤などの薬品による薬品処理、プラズマ処理、イオンプレーティング処理、スパッタリング処理、気相反応処理、真空蒸着処理などの前処理を施すことができる。基板としてシリコン基板などを用いる場合、シリコン基板などの表面には電荷結合素子(CCD)、薄膜トランジスタ(TFT)などが形成できる。また、隔壁マトリックスが形成されていてもよい。 The substrate is not limited, and examples include substrates with flat surfaces such as glass substrates, silicon substrates, polycarbonate substrates, polyester substrates, aromatic polyamide substrates, polyamideimide substrates, polyimide substrates, Al substrates, GaAs substrates, etc. . These substrates can be subjected to pretreatment such as chemical treatment with chemicals such as silane coupling agents, plasma treatment, ion plating treatment, sputtering treatment, gas phase reaction treatment, and vacuum evaporation treatment. When a silicon substrate or the like is used as the substrate, a charge coupled device (CCD), a thin film transistor (TFT), etc. can be formed on the surface of the silicon substrate or the like. Moreover, a partition matrix may be formed.
インクジェット噴射機の一例であるピエゾインクジェットヘッドから噴射されて基板上に適切な相(phase)を形成するために、粘度、流動性、量子ドット粒子などの特性がインクジェットヘッドとバランスをとらなければならない。本発明で用いられたピエゾインクジェットヘッドは限定されないが、約10~100pL、好ましくは約20~40pLの液滴サイズを有するインクを噴射する。 In order to form the appropriate phase on a substrate when ejected from a piezoelectric inkjet head, which is an example of an inkjet ejector, the properties of the viscosity, fluidity, quantum dot particles, etc. must be balanced with the inkjet head. The piezoelectric inkjet head used in the present invention ejects ink having a droplet size of about 10 to 100 pL, preferably about 20 to 40 pL, although there is no limitation thereto.
本発明のインク組成物の粘度は、約3~30cPが適当であり、より好ましくは7~20cPの範囲で形成される方が、ジェッティング性の向上の面で最も好ましい。 The viscosity of the ink composition of the present invention is suitably in the range of about 3 to 30 cP, more preferably in the range of 7 to 20 cP, from the viewpoint of improving jetting properties.
本発明の一実施形態に係るカラーフィルタは、前記パターン形成方法により形成される着色パターン層を含む。すなわち、カラーフィルタは、基板上に上述したインク組成物を所定のパターンに塗布した後、硬化させて形成される着色パターン層を含むことを特徴とする。カラーフィルタの構成および製造方法は、通常の方法で形成可能である。 A color filter according to one embodiment of the present invention includes a colored pattern layer formed by the pattern forming method. That is, the color filter is characterized by including a colored pattern layer formed by applying the ink composition described above in a predetermined pattern on a substrate and then curing the composition. The color filter can be configured and manufactured by a conventional method.
本発明の一実施形態は、上述したカラーフィルタが備えられた画像表示装置に関する。
本発明のカラーフィルタは、通常の液晶表示装置(LCD)だけでなく、電界発光表示装置(EL)、プラズマ表示装置(PDP)、電界放出表示装置(FED)、有機発光素子(OLED)などの各種画像表示装置に適用可能である。
One embodiment of the present invention relates to an image display device equipped with the above-mentioned color filter.
The color filter of the present invention can be applied not only to ordinary liquid crystal displays (LCDs), but also to electroluminescent displays (ELs), plasma displays (PDPs), field emission displays (FEDs), organic light emitting devices (OLEDs), etc. It is applicable to various image display devices.
本発明の画像表示装置は、上述したカラーフィルタを備えたことを除けば、当該技術分野で知られた構成を含む。 The image display device of the present invention includes a configuration known in the art except that it includes the color filter described above.
以下、製造例、実施例、比較例および実験例により本発明をより具体的に説明しようとする。これらの実施例、比較例および実験例は単に本発明を説明するためのものであり、本発明の範囲はこれらに制限されない。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to the following manufacturing examples, examples, comparative examples, and experimental examples. These examples, comparative examples, and experimental examples are provided merely to illustrate the present invention, and the scope of the present invention is not limited thereto.
製造例1:リガンド置換量子ドット(A-1)の合成
インジウムアセテート(Indium acetate)0.4mmol(0.058g)、パルミチン酸(palmitic acid)0.6mmol(0.15g)、および1-オクタデセン(1-octadecene)20mLを反応器に入れて、真空下、120℃に加熱した。1時間後に反応器内の雰囲気を窒素に切り替えた。280℃に加熱した後、トリス(トリメチルシリル)ホスフィン(TMS3P)0.2mmol(58μl)およびトリオクチルホスフィン1.0mLの混合溶液を迅速に注入して1分間反応させた。
Production Example 1: Synthesis of Ligand Substituted Quantum Dots (A-1) Indium acetate 0.4 mmol (0.058 g), palmitic acid 0.6 mmol (0.15 g), and 1-octadecene ( 1-octadecene) was placed in the reactor and heated to 120° C. under vacuum. After 1 hour, the atmosphere in the reactor was changed to nitrogen. After heating to 280° C., a mixed solution of 0.2 mmol (58 μl) of tris(trimethylsilyl)phosphine (TMS 3 P) and 1.0 mL of trioctylphosphine was quickly injected and reacted for 1 minute.
亜鉛アセテート2.4mmol(0.448g)、オレイン酸4.8mmol、およびトリオクチルアミン20mLを反応器に入れて、真空下、120℃に加熱した。1時間後に反応器内の雰囲気を窒素に切り替え、反応器を280℃に昇温させた。先に合成したInPコア溶液2mLを入れて、次いで、トリオクチルホスフィン中のセレン(Se/TOP)4.8mmolを入れた後、最終混合物を2時間反応させた。常温で迅速に冷やした反応溶液にエタノールを入れて遠心分離して得た沈殿を減圧濾過後、減圧乾燥して、InP/ZnSeコア-シェルを形成させた。 2.4 mmol (0.448 g) zinc acetate, 4.8 mmol oleic acid, and 20 mL trioctylamine were placed in a reactor and heated to 120° C. under vacuum. After 1 hour, the atmosphere in the reactor was changed to nitrogen, and the temperature of the reactor was raised to 280°C. After adding 2 mL of previously synthesized InP core solution and then 4.8 mmol of selenium in trioctylphosphine (Se/TOP), the final mixture was allowed to react for 2 hours. Ethanol was added to the reaction solution that was rapidly cooled at room temperature, and the resulting precipitate was centrifuged. The resulting precipitate was filtered under reduced pressure and dried under reduced pressure to form an InP/ZnSe core-shell.
次いで、亜鉛アセテート2.4mmol(0.448g)、オレイン酸4.8mmol、およびトリオクチルアミン20mLを反応器に入れて、真空下、120℃に加熱した。1時間後に反応器内の雰囲気を窒素に切り替え、反応器を280℃に昇温させた。先に合成したInP/ZnSeコア-シェル溶液2mLを入れて、次いで、トリオクチルホスフィン中の硫黄(S/TOP)4.8mmolを入れた後、最終混合物を2時間反応させた。常温で迅速に冷やした反応溶液にエタノールを入れて遠心分離して得た沈殿を減圧濾過後、減圧乾燥して、InP/ZnSe/ZnSコア-シェル構造の量子ドットをクロロホルムに分散させた。 Then, 2.4 mmol (0.448 g) of zinc acetate, 4.8 mmol of oleic acid, and 20 mL of trioctylamine were placed in the reactor and heated to 120° C. under vacuum. After 1 hour, the atmosphere in the reactor was changed to nitrogen, and the temperature of the reactor was raised to 280°C. After charging 2 mL of previously synthesized InP/ZnSe core-shell solution followed by 4.8 mmol of sulfur in trioctylphosphine (S/TOP), the final mixture was allowed to react for 2 hours. Ethanol was added to the reaction solution that was quickly cooled at room temperature, and the precipitate obtained by centrifugation was filtered under reduced pressure and dried under reduced pressure to disperse quantum dots with an InP/ZnSe/ZnS core-shell structure in chloroform.
得られたナノ量子ドットの光発光スペクトルの最大発光ピークは535nmであり、量子ドット溶液5mLを遠心分離チューブに入れて、エタノール20mLを入れて沈殿させた。遠心分離により上層液は捨てて、沈殿物に2mLのクロロホルムを入れて量子ドットを分散させた後、0.50gの(2-ブトキシエトキシ)酢酸を入れて、窒素雰囲気下、60℃に加熱しながら1時間反応させた。 The maximum emission peak of the photoemission spectrum of the obtained nano-quantum dots was 535 nm, and 5 mL of the quantum dot solution was placed in a centrifuge tube, and 20 mL of ethanol was added thereto for precipitation. The upper layer was discarded by centrifugation, and 2 mL of chloroform was added to the precipitate to disperse the quantum dots. Then, 0.50 g of (2-butoxyethoxy)acetic acid was added, and the mixture was heated to 60°C under a nitrogen atmosphere. The reaction was allowed to proceed for 1 hour.
次いで、反応物に25mLのn-ヘキサンを入れて量子ドットを沈殿させた後、遠心分離を実施して沈殿物を得た。 Next, 25 mL of n-hexane was added to the reaction mixture to precipitate the quantum dots, followed by centrifugation to obtain a precipitate.
製造例2:リガンド置換量子ドット(A-2)の合成
インジウムアセテート(Indium acetate)0.4mmol(0.058g)、パルミチン酸(palmitic acid)0.6mmol(0.15g)、および1-オクタデセン(1-octadecene)20mLを反応器に入れて、真空下、120℃に加熱した。1時間後に反応器内の雰囲気を窒素に切り替えた。280℃に加熱した後、トリス(トリメチルシリル)ホスフィン(TMS3P)0.2mmol(58μl)、およびトリオクチルホスフィン1.0mLの混合溶液を迅速に注入し、5分間反応後、反応溶液を常温で迅速に冷やした。吸収最大波長560~590nmを示した。
Production Example 2: Synthesis of Ligand-Substituted Quantum Dots (A-2) Indium acetate 0.4 mmol (0.058 g), palmitic acid 0.6 mmol (0.15 g), and 1-octadecene ( 1-octadecene) was placed in the reactor and heated to 120° C. under vacuum. After 1 hour, the atmosphere in the reactor was changed to nitrogen. After heating to 280°C, a mixed solution of 0.2 mmol (58 μl) of tris(trimethylsilyl)phosphine (TMS 3 P) and 1.0 mL of trioctylphosphine was quickly injected, and after reacting for 5 minutes, the reaction solution was allowed to stand at room temperature. Cooled quickly. The maximum absorption wavelength was 560 to 590 nm.
亜鉛アセテート2.4mmol(0.448g)、オレイン酸4.8mmol、およびトリオクチルアミン20mLを反応器に入れて、真空下、120℃に加熱した。1時間後に反応器内の雰囲気を窒素に切り替え、反応器を280℃に昇温させた。先に合成したInPコア溶液2mLを入れて、次いで、トリオクチルホスフィン中のセレン(Se/TOP)4.8mmolを入れた後、最終混合物を2時間反応後、常温に下げて、InP/ZnSeコア-シェルを形成させた。 2.4 mmol (0.448 g) of zinc acetate, 4.8 mmol of oleic acid, and 20 mL of trioctylamine were placed in a reactor and heated to 120°C under vacuum. After 1 hour, the atmosphere in the reactor was switched to nitrogen, and the reactor was heated to 280°C. 2 mL of the previously synthesized InP core solution was added, followed by 4.8 mmol of selenium in trioctylphosphine (Se/TOP), and the final mixture was reacted for 2 hours before being cooled to room temperature to form an InP/ZnSe core-shell.
次いで、亜鉛アセテート2.4mmol(0.448g)、オレイン酸4.8mmol、およびトリオクチルアミン20mLを反応器に入れて、真空下、120℃に加熱した。1時間後に反応器内の雰囲気を窒素に切り替え、反応器を280℃に昇温させた。先に合成したInP/ZnSeコア-シェル溶液2mLを入れて、次いで、トリオクチルホスフィン中の硫黄(S/TOP)4.8mmolを入れた後、最終混合物を2時間反応させた。常温で迅速に冷やした反応溶液にエタノールを入れて遠心分離して得た沈殿を減圧濾過後、減圧乾燥して、InP/ZnSe/ZnSコア-シェル構造の量子ドットを得た後、クロロホルムに分散させた。 Then, 2.4 mmol (0.448 g) of zinc acetate, 4.8 mmol of oleic acid, and 20 mL of trioctylamine were placed in the reactor and heated to 120° C. under vacuum. After 1 hour, the atmosphere in the reactor was changed to nitrogen, and the temperature of the reactor was raised to 280°C. After charging 2 mL of previously synthesized InP/ZnSe core-shell solution followed by 4.8 mmol of sulfur in trioctylphosphine (S/TOP), the final mixture was allowed to react for 2 hours. Ethanol was added to the reaction solution quickly cooled at room temperature, and the precipitate obtained by centrifugation was filtered under reduced pressure, dried under reduced pressure to obtain quantum dots with an InP/ZnSe/ZnS core-shell structure, and then dispersed in chloroform. I let it happen.
得られたナノ量子ドットの光発光スペクトルの最大発光ピークは635nmであり、合成された量子ドット溶液5mLを遠心分離チューブに入れて、エタノール20mLを入れて沈殿させた。遠心分離により上層液は捨てて、沈殿物に2mLのクロロホルムを入れて量子ドットを分散させた後、0.65gのカルボキシ-EG6-ウンデカンチオールを入れて、窒素雰囲気下、60℃に加熱しながら1時間反応させた。 The maximum emission peak of the photoemission spectrum of the obtained nano-quantum dots was 635 nm, and 5 mL of the synthesized quantum dot solution was placed in a centrifuge tube, and 20 mL of ethanol was added thereto for precipitation. The upper layer was discarded by centrifugation, and 2 mL of chloroform was added to the precipitate to disperse the quantum dots. Then, 0.65 g of carboxy-EG6-undecanethiol was added, and the mixture was heated to 60°C under a nitrogen atmosphere. The reaction was allowed to proceed for 1 hour.
次いで、反応物に25mLのn-ヘキサンを入れて量子ドットを沈殿させた後、遠心分離を実施して上層液は捨てて沈殿物を得た。 Next, 25 mL of n-hexane was added to the reaction mixture to precipitate the quantum dots, and then centrifugation was performed to discard the supernatant and obtain the precipitate.
製造例3:リガンド置換量子ドット(A-3)の合成
インジウムアセテート(Indium acetate)0.4mmol(0.058g)、パルミチン酸(palmitic acid)0.6mmol(0.15g)、および1-オクタデセン(octadecene)20mLを反応器に入れて、真空下、120℃に加熱した。1時間後に反応器内の雰囲気を窒素に切り替えた。
Production Example 3: Synthesis of ligand-substituted quantum dots (A-3) Indium acetate 0.4 mmol (0.058 g), palmitic acid 0.6 mmol (0.15 g), and 1-octadecene ( octadecene) was placed in the reactor and heated to 120° C. under vacuum. After 1 hour, the atmosphere in the reactor was changed to nitrogen.
280℃に加熱した後、トリス(トリメチルシリル)ホスフィン(TMS3P)0.2mmol(58μl)およびトリオクチルホスフィン1.0mLの混合溶液を迅速に注入して0.5分間反応させた。 After heating to 280° C., a mixed solution of 0.2 mmol (58 μl) of tris(trimethylsilyl)phosphine (TMS 3 P) and 1.0 mL of trioctylphosphine was rapidly injected and reacted for 0.5 min.
次いで、亜鉛アセテート2.4mmoL(0.448g)、オレイン酸4.8mmol、およびトリオクチルアミン20mLを反応器に入れて、真空下、120℃に加熱した。1時間後に反応器内の雰囲気を窒素に切り替え、反応器を280℃に昇温させた。先に合成したInPコア溶液2mLを入れて、次いで、トリオクチルホスフィン中のセレン(Se/TOP)4.8mmolを入れた後、最終混合物を2時間反応させた。常温で迅速に冷やした反応溶液にエタノールを入れて遠心分離して得た沈殿を減圧濾過後、減圧乾燥して、InP/ZnSeコア-シェルを形成させた。 Next, 2.4 mmol of zinc acetate (0.448 g), 4.8 mmol of oleic acid, and 20 mL of trioctylamine were placed in a reactor and heated to 120°C under vacuum. After 1 hour, the atmosphere in the reactor was switched to nitrogen, and the reactor was heated to 280°C. 2 mL of the previously synthesized InP core solution was added, followed by 4.8 mmol of selenium in trioctylphosphine (Se/TOP), and the final mixture was reacted for 2 hours. Ethanol was added to the reaction solution, which was quickly cooled to room temperature, and the precipitate obtained by centrifugation was filtered under reduced pressure and dried under reduced pressure to form an InP/ZnSe core-shell.
次いで、亜鉛アセテート2.4mmoL(0.448g)、オレイン酸4.8mmol、およびトリオクチルアミン20mLを反応器に入れて、真空下、120℃に加熱した。1時間後に反応器内の雰囲気を窒素に切り替え、反応器を280℃に昇温させた。先に合成したInP/ZnSeコア-シェル溶液2mLを入れて、次いで、トリオクチルホスフィン中の硫黄(S/TOP)4.8mmolを入れた後、最終混合物を2時間反応させた。常温で迅速に冷やした反応溶液にエタノールを入れて遠心分離して得た沈殿を減圧濾過後、減圧乾燥して、InP/ZnSe/ZnSコア-シェル構造の量子ドットを得た後、クロロホルムに分散させた。固形分は10%に調整した。最大発光波長は520nmであった。 Then, 2.4 mmol (0.448 g) of zinc acetate, 4.8 mmol of oleic acid, and 20 mL of trioctylamine were placed in the reactor and heated to 120° C. under vacuum. After 1 hour, the atmosphere in the reactor was changed to nitrogen, and the temperature of the reactor was raised to 280°C. After charging 2 mL of previously synthesized InP/ZnSe core-shell solution followed by 4.8 mmol of sulfur in trioctylphosphine (S/TOP), the final mixture was allowed to react for 2 hours. Ethanol was added to the reaction solution quickly cooled at room temperature, and the precipitate obtained by centrifugation was filtered under reduced pressure, dried under reduced pressure to obtain quantum dots with an InP/ZnSe/ZnS core-shell structure, and then dispersed in chloroform. I let it happen. The solid content was adjusted to 10%. The maximum emission wavelength was 520 nm.
合成された量子ドット溶液5mLを遠心分離チューブに入れて、エタノール20mLを入れて沈殿させた。遠心分離により上層液は捨てて、沈殿物に3mLのクロロホルムを入れて量子ドットを分散させた後、1.00gの下記化学式4-1で表されるmPEG5-SH(フューチャーケム社)を入れて、窒素雰囲気下、60℃に加熱しながら1時間反応させた。 5 mL of the synthesized quantum dot solution was placed in a centrifugation tube, and 20 mL of ethanol was added thereto for precipitation. Discard the upper layer by centrifugation, add 3 mL of chloroform to the precipitate to disperse the quantum dots, and then add 1.00 g of mPEG5-SH (FutureChem) represented by the following chemical formula 4-1. The mixture was reacted for 1 hour under a nitrogen atmosphere while heating at 60°C.
次いで、反応物に25mLのn-ヘキサンを入れて量子ドットを沈殿させた後、遠心分離を実施して上層液は捨てて沈殿物を得た。 Next, 25 mL of n-hexane was added to the reaction mixture to precipitate the quantum dots, followed by centrifugation and the upper layer was discarded to obtain a precipitate.
製造例4:リガンド置換量子ドット(A-4)の合成
製造例3で使用した1.00gのリガンドの代わりに、3.00gの下記化学式4-7で表される化合物を用いたことを除き、製造例3と同様に行った。
Preparation Example 4: Synthesis of ligand-substituted quantum dots (A-4) Preparation was carried out in the same manner as in Preparation Example 3, except that 3.00 g of a compound represented by the following chemical formula 4-7 was used instead of 1.00 g of the ligand used in Preparation Example 3.
製造例5:散乱粒子分散液(C-1)の製造
散乱粒子としてTiO2と表面処理成分(Al、Si、およびOrganic)を97:3の重量比で表面処理したTiO2(石原社のCR-63、210nm)70.0重量部、分散剤としてDISPERBYK-2001(BYK社製)4.0重量部、およびモノマーtおして1,6-ヘキサンジオールジアクリレート26重量部をビーズミルによって12時間混合および分散して、散乱粒子分散液(C-1)を製造した。
Production Example 5: Production of scattering particle dispersion liquid (C-1) TiO 2 (Ishihara Co., Ltd. CR) whose surface was treated with TiO 2 and surface treatment components (Al, Si, and Organic) at a weight ratio of 97:3 was used as scattering particles. -63, 210 nm) 70.0 parts by weight, 4.0 parts by weight of DISPERBYK-2001 (manufactured by BYK) as a dispersant, and 26 parts by weight of 1,6-hexanediol diacrylate were mixed in a bead mill for 12 hours. A scattering particle dispersion (C-1) was produced by dispersing.
製造例6:散乱粒子分散液(C-2)の製造
製造例5で使用した散乱粒子の代わりに、TiO2と表面処理成分(Al)を95:5の重量比で表面処理したTiO2(石原社のCR-60、210nm)を用いたことを除けば、前記製造例5と同様に散乱粒子分散液(C-2)を製造した。
Production Example 6: Production of scattering particle dispersion (C-2) Instead of the scattering particles used in Production Example 5, TiO 2 ( A scattering particle dispersion (C-2) was produced in the same manner as in Production Example 5, except that Ishihara Co., Ltd.'s CR-60, 210 nm) was used.
製造例7:散乱粒子分散液(C-3)の製造
製造例5で使用した散乱粒子の代わりに、TiO2と表面処理成分(Al、Zr、およびOrganic)を93:7の重量比で表面処理したTiO2(石原社のUT771、250nm)を用いたことを除けば、前記製造例5と同様に散乱粒子分散液(C-3)を製造した。
Production Example 7: Production of scattering particle dispersion (C-3) Instead of the scattering particles used in Production Example 5, TiO 2 and surface treatment components (Al, Zr, and Organic) were added to the surface in a weight ratio of 93:7. A scattering particle dispersion (C-3) was produced in the same manner as in Production Example 5, except that treated TiO 2 (UT771, 250 nm, manufactured by Ishihara Co., Ltd.) was used.
製造例8:散乱粒子分散液(C-4)の製造
製造例5で使用した散乱粒子の代わりに、TiO2と表面処理成分(Al、Si、Zn、およびOrganic)を92:8の重量比で表面処理したTiO2(石原社のPF-742、250nm)を用いたことを除けば、前記製造例5と同様に散乱粒子分散液(C-4)を製造した。
Production Example 8: Production of scattering particle dispersion (C-4) Instead of the scattering particles used in Production Example 5, TiO 2 and surface treatment components (Al, Si, Zn, and Organic) were used in a weight ratio of 92:8. A scattering particle dispersion (C-4) was produced in the same manner as in Production Example 5 above, except that TiO 2 (PF-742, 250 nm, manufactured by Ishihara Co., Ltd.) surface-treated with was used.
製造例9:散乱粒子分散液(C-5)の製造
製造例5で使用した散乱粒子の代わりに、TiO2と表面処理成分(AlおよびSi)を88:12の重量比で表面処理したTiO2(石原社のS-305、250nm)を用いたことを除けば、前記製造例5と同様に散乱粒子分散液(C-5)を製造した。
Production Example 9: Production of scattering particle dispersion (C-5) Instead of the scattering particles used in Production Example 5, TiO was surface-treated with TiO 2 and surface treatment components (Al and Si) at a weight ratio of 88:12. A scattering particle dispersion (C-5) was produced in the same manner as in Production Example 5, except that 2 (S-305, 250 nm, manufactured by Ishihara Co., Ltd.) was used.
製造例10:散乱粒子分散液(C-6)の製造
製造例5で使用した散乱粒子の代わりに、表面処理しない純粋なTiO2(石原社のPT-301、270nm)を用いたことを除けば、前記製造例5と同様に散乱粒子分散液(C-6)を製造した。
Production Example 10: Production of scattering particle dispersion (C-6) Except that pure TiO 2 (PT-301, 270 nm, manufactured by Ishiharasha) without surface treatment was used instead of the scattering particles used in Production Example 5. For example, a scattering particle dispersion (C-6) was produced in the same manner as in Production Example 5 above.
実施例1~90および比較例1~8:インク組成物の製造
下記表1~表8の組成でそれぞれの成分を混合して、インク組成物を製造した(重量%)。
Examples 1 to 90 and Comparative Examples 1 to 8: Production of ink compositions Ink compositions were produced by mixing the respective components in the compositions shown in Tables 1 to 8 below (% by weight).
*前記表1~8中、「(B)含有量比率」は、硬化性モノマー(B)の固形分を基準として、化学式1および2で表される化合物の含有量(重量%)を意味する。 *In Tables 1 to 8 above, "(B) content ratio" means the content (% by weight) of the compounds represented by chemical formulas 1 and 2, based on the solid content of the curable monomer (B). .
量子ドットA-1~A-4:それぞれ、製造例1~4で製造された量子ドット
B-1:polyethylene glycol 200 diacrylate(新中村化学社、A-200)
B-2:polyethylene glycol 400 diacrylate(新中村化学社、A-400)
B-3:polyethylene glycol 600 diacrylate(新中村化学社、A-600)
B-4:Polypropylene glycol 100 diacrylate(新中村化学社、APG-100)
B-5:Polypropylene glycol 200 diacrylate(新中村化学社、APG-200)
B-6:Polypropylene glycol 400 diacrylate(新中村化学社、APG-400)
B-7:Polypropylene glycol 700 diacrylate(新中村化学社、APG-700)
B-8:Mono(2-acryloyloxyethyl)Succinate(TCI社)-化学式3
B-9:Glycerol diacrylate(東亜合成社、MT-3560)
B-10:1,6-Haxanediol diacrylate(新中村化学社)
B-11:1,10-Decanediol diacrylate(新中村化学社)
B-12:Propoxylated trimethylolpropane triacrylate(新中村化学社)
C-1:製造例5で製造された散乱粒子分散液-TiO2(石原社、CR-63;粒径210nm;Al、Si、Organic表面処理3%)
C-2:製造例6で製造された散乱粒子分散液-TiO2(石原社、CR-60;粒径210nm;Al表面処理5%)
C-3:製造例7で製造された散乱粒子分散液-TiO2(石原社、UT771;粒径250nm;Al、Zr、Organic表面処理7%)
C-4:製造例8で製造された散乱粒子分散液-TiO2(石原社、PF-742;粒径250nm;Al、Si、Zn、Organic表面処理8%)
C-5:製造例9で製造された散乱粒子分散液-TiO2(石原社、S-305;粒径250nm;Al、Si表面処理12%)
C-6:製造例10で製造された散乱粒子分散液-TiO2(石原社、PT-301;粒径270nm;表面処理0%)
光重合開始剤(E):Irgacure OXE-01(バスフ社)
F-1:フッ素系界面活性剤(F-554、DIC社)
F-2:シランカップリング剤(NSC-02、NIC社)
<実験例>
上記の実施例および比較例で製造されたインク組成物を用いて粘度および連続ジェッティング回数を測定し、10μmの厚さのコーティング層を製造して、光変換効率およびコーティング層の密着性を測定して、その結果は下記表10~13に示した。
Quantum dots A-1 to A-4: Quantum dots produced in Production Examples 1 to 4, respectively. B-1: Polyethylene glycol 200 diacrylate (Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., A-200)
B-2: polyethylene glycol 400 diacrylate (Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., A-400)
B-3: polyethylene glycol 600 diacrylate (Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., A-600)
B-4: Polypropylene glycol 100 diacrylate (Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., APG-100)
B-5: Polypropylene glycol 200 diacrylate (Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., APG-200)
B-6: Polypropylene glycol 400 diacrylate (Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., APG-400)
B-7: Polypropylene glycol 700 diacrylate (Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., APG-700)
B-8: Mono(2-acryloyloxyethyl) Succinate (TCI) - Chemical formula 3
B-9: Glycerol diacrylate (Toagosei Co., Ltd., MT-3560)
B-10: 1,6-Haxanediol diacrylate (Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.)
B-11: 1,10-Decanediol diacrylate (Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.)
B-12: Propoxylated trimethylolpropane triacrylate (Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.)
C-1: Scattering particle dispersion liquid produced in Production Example 5-TiO 2 (Ishihara Corporation, CR-63; particle size 210 nm; Al, Si, organic surface treatment 3%)
C-2: Scattering particle dispersion liquid produced in Production Example 6-TiO 2 (Ishihara Corporation, CR-60; particle size 210 nm; Al surface treatment 5%)
C-3: Scattering particle dispersion liquid produced in Production Example 7-TiO 2 (Ishihara Corporation, UT771; particle size 250 nm; Al, Zr, organic surface treatment 7%)
C-4: Scattering particle dispersion liquid produced in Production Example 8-TiO 2 (Ishihara Corporation, PF-742; particle size 250 nm; Al, Si, Zn, organic surface treatment 8%)
C-5: Scattering particle dispersion liquid produced in Production Example 9-TiO 2 (Ishihara Corporation, S-305; particle size 250 nm; Al, Si surface treatment 12%)
C-6: Scattering particle dispersion liquid produced in Production Example 10-TiO 2 (Ishihara Corporation, PT-301; particle size 270 nm; surface treatment 0%)
Photopolymerization initiator (E): Irgacure OXE-01 (BASF)
F-1: Fluorine-based surfactant (F-554, DIC Corporation)
F-2: Silane coupling agent (NSC-02, NIC Corporation)
<Experimental Example>
Using the ink compositions prepared in the above examples and comparative examples, the viscosity and the number of continuous jetting were measured, and a coating layer having a thickness of 10 μm was prepared, and the light conversion efficiency and adhesion of the coating layer were measured. The results are shown in Tables 10 to 13 below.
(1)コーティング層の製造および光変換効率の測定
実施例および比較例で製造されたそれぞれのインク組成物をインクジェット方式で5cm×5cmのガラス基板上に塗布した後、紫外線光源としてg、h、i線をすべて含む1kWの高圧水銀灯を用いて1000mJ/cm2で照射後、180℃の加熱オーブンで30分間加熱してコーティング層を製造した。
(1) Production of coating layer and measurement of light conversion efficiency After applying each ink composition produced in Examples and Comparative Examples onto a 5 cm x 5 cm glass substrate using an inkjet method, g, h, After irradiating with 1000 mJ/cm 2 using a 1 kW high-pressure mercury lamp containing all i-rays, the coating layer was prepared by heating in a heating oven at 180° C. for 30 minutes.
製造されたコーティング層のうち量子ドットが含まれたコーティング層を青色(blue)光源(XLamp XR-E LED、Royal blue 450、Cree社)の上部に位置させた後、輝度測定器(CAS140CT Spectrometer、Instrument systems社)を用いて光変換効率を下記の数式1を用いて測定し、その結果を下記表10~13に示した。 The coating layer containing quantum dots was placed on top of a blue light source (XLamp XR-E LED, Royal blue 450, Cree), and the light conversion efficiency was measured using a luminance meter (CAS140CT Spectrometer, Instrument Systems) according to the following formula 1, and the results are shown in Tables 10 to 13 below.
光変換効率(%)が高いほど、優れた輝度を得ることができる。 The higher the light conversion efficiency (%), the better the brightness you can achieve.
(2)粘度
前記インク組成物の粘度は、R型粘度計(VISCOMETER MODEL RE120L SYSTEM、東機産業株式会社製品)を用いて回転数20rpm、温度25℃の条件で測定し、その結果を下記表10~13に示した。
(2) Viscosity The viscosity of the ink composition was measured using an R-type viscometer (VISCOMETER MODEL RE120L SYSTEM, manufactured by Toki Sangyo Co., Ltd.) at a rotation speed of 20 rpm and a temperature of 25°C, and the results are shown in the table below. Shown in 10-13.
(3)連続ジェッティング回数
前記インク組成物をユニジェット社のインクジェットプリンティング設備に充填後、ジェッティングヘッドの温度を40℃に固定した後、1分間インクを吐出後、30分間放置をジェッティングヘッド部のノズル詰まりで吐出されなくなるまで繰り返し行って連続ジェッティング回数を評価し、その結果を下記表10~13に示した。
(3) Number of consecutive jettings After filling Unijet's inkjet printing equipment with the above ink composition, fixing the temperature of the jetting head at 40°C, ejecting ink for 1 minute, and leaving the jetting head for 30 minutes. The number of continuous jetting operations was evaluated by repeating the jetting until the nozzle became clogged and could no longer be ejected. The results are shown in Tables 10 to 13 below.
連続ジェッティング回数が増加するほど、連続工程に優れた特性を得ることができる。
(4)コーティング層の密着性の測定
前記インク組成物で製造されたコーティング層で国際標準(ASTM D3359)によるクロスカット試験(Cross-Cut Adhesion Test)を進行させた。
As the number of times of continuous jetting increases, better characteristics can be obtained in the continuous process.
(4) Measurement of Adhesion of Coating Layer The coating layer prepared using the ink composition was subjected to a Cross-Cut Adhesion Test according to the international standard (ASTM D3359).
ナイフ(Knife)によって、製造されたコーティング層に均一に力を与えながら格子状に切り込みを入れた後、切り込み面にテープを貼って完全に付着するまで擦り、30秒後にテープの端を取って180度の角度に近く引っ張ってテープを除去して、下記表9のような基準によりコーティング層の密着性を評価し、その結果を下記表10~13に示した。 Using a knife, make incisions in a lattice pattern while applying uniform force to the manufactured coating layer. Apply tape to the incision surface and rub until it is completely adhered. After 30 seconds, remove the edge of the tape. The tape was removed by pulling it at an angle of approximately 180 degrees, and the adhesion of the coating layer was evaluated according to the criteria shown in Table 9 below, and the results are shown in Tables 10 to 13 below.
(5)粘度安定性評価
上記の実施例および比較例のインク組成物をR型粘度計(VISCOMETER MODEL RE120L SYSTEM、東機産業株式会社製品)を用いて、回転数20rpm、温度30℃の条件下、初期粘度および常温で1ヶ月保管、40℃で2週間後に粘度を測定した。これにより計算された粘度変化率から、以下の評価基準により粘度安定性を評価し、その結果を下記表10~13に示した。
(5) Viscosity stability evaluation The ink compositions of the above Examples and Comparative Examples were evaluated using an R-type viscometer (VISCOMETER MODEL RE120L SYSTEM, manufactured by Toki Sangyo Co., Ltd.) at a rotation speed of 20 rpm and a temperature of 30°C. The initial viscosity and viscosity were measured after one month of storage at room temperature and two weeks at 40°C. The viscosity stability was evaluated based on the viscosity change rate calculated based on the following evaluation criteria, and the results are shown in Tables 10 to 13 below.
<粘度安定性評価基準>
◎:粘度変化率103%以下
○:粘度変化率103%超過105%以下
△:粘度変化率105%超過110%以下
×:粘度変化率110%超過
(6)ジェッティング誤着弾評価
上記の実施例1~70および比較例1~25のインク組成物をユニジェット社のインクジェットプリンティング設備に充填後、ジェッティングヘッドの温度を40℃に固定した後、基板上に1列に30dropletのインクを吐出して、吐出が指定された位置に行われないdropletを確認して、以下の評価基準によりジェッティング誤着弾を評価して、その結果を表10~13に示した。
<Viscosity stability evaluation criteria>
: Viscosity change rate is 103% or less. ◯: Viscosity change rate is more than 103% and less than 105%. △: Viscosity change rate is more than 105% and less than 110%. ×: Viscosity change rate is more than 110%. (6) Evaluation of Misdirected Jetting The ink compositions of Examples 1 to 70 and Comparative Examples 1 to 25 were filled into an inkjet printing device manufactured by Unijet Co., Ltd., and the temperature of the jetting head was fixed at 40° C., after which 30 droplets of ink were ejected onto a substrate in a line. Any droplets that were not ejected at the designated positions were confirmed, and misdirected jetting was evaluated according to the following evaluation criteria. The results are shown in Tables 10 to 13.
<ジェッティング誤着弾評価基準>
◎:誤着弾なし
○:誤着弾1droplet超過3droplet以下
△:誤着弾3droplet超過5droplet以下
×:誤着弾5droplet超過
<Evaluation criteria for jetting misfire>
◎: No mishit bullets ○: Mishit bullets exceed 1 droplet and 3 droplets or less △: Mishit bullets exceed 3 droplets and 5 droplets or less ×: Mishit bullets exceed 5 droplets
上記の実験結果から確認できるように、特定の化学構造式を有する硬化性モノマーを含む実施例1~90の場合、ジェッティング性、密着性能、粘度安定性およびジェッティング誤着弾特性に優れていることを確認することができた。 As can be seen from the above experimental results, in the case of Examples 1 to 90, which contain a curable monomer having a specific chemical structure, it was confirmed that the jetting properties, adhesion performance, viscosity stability, and jetting mis-landing properties were excellent.
具体的には、散乱粒子としてTiO2と表面処理成分を92:8~99:1の重量比範囲で表面処理したTiO2を用いた実施例1~70の場合、粘度安定性および/またはジェッティング誤着弾特性がさらに向上することを確認することができ、さらに、硬化性モノマーの固形分を基準として、本発明の化学式1および/または2の硬化性モノマーの含有量が5~40%の含有量比率を満たす実施例57~70の場合、より優れた粘度安定性およびジェッティング誤着弾特性を確保することができた。 Specifically, in Examples 1 to 70, in which TiO 2 was surface-treated as scattering particles with a weight ratio of TiO 2 and a surface treatment component in the range of 92:8 to 99:1, viscosity stability and/or jet It can be confirmed that the mis-landing property is further improved, and further, when the content of the curable monomer of the chemical formula 1 and/or 2 of the present invention is 5 to 40% based on the solid content of the curable monomer. In the cases of Examples 57 to 70 that satisfied the content ratio, better viscosity stability and jetting erroneous impact properties were ensured.
また、実施例31~33および35~38の場合、化学式3または水酸化基を含む(メタ)アクリレートをさらに含むことによって、より優れた密着力を確保可能であることを確認した。 In addition, in the case of Examples 31 to 33 and 35 to 38, it was confirmed that better adhesion could be ensured by further containing chemical formula 3 or a (meth)acrylate containing a hydroxyl group.
一方、比較例1~8の場合、溶剤を含まずにモノマーのみを含むことでジェッティング効果および低い粘度を有することができたが、本発明の化学式1および/または化学式2の硬化性モノマーを含まないことにより密着力が著しく低下することを確認することができた。 On the other hand, in the case of Comparative Examples 1 to 8, the jetting effect and low viscosity were achieved by containing only the monomer without containing a solvent, but the curable monomer of Chemical Formula 1 and/or Chemical Formula 2 of the present invention was used. It was confirmed that the adhesion force was significantly reduced by not including it.
また、前記表10~13の実験結果により表面処理された散乱粒子を用いるか、本発明に係る硬化性モノマーを用いる場合、ジェッティング誤着弾特性が改善されることを確認した。 In addition, the experimental results in Tables 10 to 13 confirmed that the jetting mislanding characteristics were improved when surface-treated scattering particles or the curable monomer according to the present invention were used.
Claims (12)
前記インク組成物全100重量%に対して、前記散乱粒子を0.5~20重量%、および前記硬化性モノマーを40~98重量%含み、
前記散乱粒子がTiO 2 であり、
前記TiO 2 は、Al、Si、Zr、Zn、および有機物から選択される1種以上の成分で表面処理したものであり、
前記硬化性モノマーは、2個の官能基を有する化学式1および化学式2で表される化合物からなる群より選択される1種以上の化合物を含むものであり、
前記量子ドットは、ポリエチレングリコール系リガンド層を含むものであり、
前記ポリエチレングリコール系リガンド層は、化学式4a~4cおよび化学式5aで表される化合物の中から選択される1種以上を含むものである、インク組成物。
(前記化学式1において、R1は、それぞれ独立して、水素またはメチル基であり、mは、1~15の整数である。)
(前記化学式2において、R2は、それぞれ独立して、水素またはメチル基であり、mは、1~15の整数である。)
(前記化学式4a~4cにおいて、
R’およびR’’は、それぞれ独立して、水素原子、カルボキシル基、フェニル基、またはチオール基で置換されているか置換されていないC1-C20のアルキル基であり、前記R’とR’’は、同時に、水素原子、フェニル基、または置換されていないC1-C20のアルキル基ではなく、
R a は、置換もしくは非置換のC1-C22のアルキル基、または置換もしくは非置換のC4-C22のアルケニル基であり、
nは、1~20の整数であり、
p、qは、それぞれ独立して、1~100の整数であり、
rは、1~10の整数である。)
(前記化学式5aにおいて、
R c は、置換もしくは非置換のC1-C22のアルキル基、または置換もしくは非置換のC4-C22のアルケニル基であり、
R d は、置換もしくは非置換のC1-C22のアルキレン基、置換もしくは非置換のC3-C8のシクロアルキレン基、または置換もしくは非置換のC6-C14のアリーレン基であり、
AおよびBは、それぞれ独立して、単結合、置換もしくは非置換のC1-C22のアルキレン基、-O-、-NR e -、または-S-であり、
Xは、カルボキシル基、リン酸基、チオール基、アミン基、テトラゾール基、イミダゾール基、ピリジン基、またはリポアミド基であり、
R e は、置換もしくは非置換のC1-C22のアルキル基、または置換もしくは非置換のC4-C22のアルケニル基であり、
uは、1~100の整数である。) 1. An ink composition comprising scattering particles , a curable monomer and quantum dots ,
The ink composition contains 0.5 to 20% by weight of the scattering particles and 40 to 98% by weight of the curable monomer, based on a total weight of 100% by weight of the ink composition;
the scattering particles are TiO2 ,
The TiO2 is surface-treated with one or more components selected from Al, Si, Zr, Zn, and organic substances;
The curable monomer includes one or more compounds selected from the group consisting of compounds represented by Chemical Formula 1 and Chemical Formula 2 having two functional groups,
the quantum dots include a polyethylene glycol-based ligand layer;
The ink composition, wherein the polyethylene glycol-based ligand layer contains one or more compounds selected from the group consisting of compounds represented by Chemical Formulae 4a to 4c and 5a .
(In the above Chemical Formula 1, R 1 is independently a hydrogen atom or a methyl group, and m is an integer of 1 to 15.)
(In the above Chemical Formula 2, R2 is independently hydrogen or a methyl group, and m is an integer of 1 to 15.)
(In the above chemical formulas 4a to 4c,
R' and R'' are each independently a hydrogen atom, a carboxyl group, a phenyl group, or a C1-C20 alkyl group which is unsubstituted or substituted with a thiol group, and R' and R'' are not simultaneously a hydrogen atom, a phenyl group, or an unsubstituted C1-C20 alkyl group;
R a is a substituted or unsubstituted C1-C22 alkyl group or a substituted or unsubstituted C4-C22 alkenyl group;
n is an integer from 1 to 20,
p and q each independently represent an integer from 1 to 100;
r is an integer from 1 to 10.
(In the above Chemical Formula 5a,
R c is a substituted or unsubstituted C1-C22 alkyl group or a substituted or unsubstituted C4-C22 alkenyl group;
R d is a substituted or unsubstituted C1-C22 alkylene group, a substituted or unsubstituted C3-C8 cycloalkylene group, or a substituted or unsubstituted C6-C14 arylene group;
A and B are each independently a single bond, a substituted or unsubstituted C1-C22 alkylene group, -O-, -NR e -, or -S-;
X is a carboxyl group, a phosphate group, a thiol group, an amine group, a tetrazole group, an imidazole group, a pyridine group, or a lipoamide group;
R e is a substituted or unsubstituted C1-C22 alkyl group or a substituted or unsubstituted C4-C22 alkenyl group;
u is an integer from 1 to 100.
(前記化学式3において、R3は、水素またはメチル基であり、Aは、-CH2-CH2-O-または-CH2-CH(CH3)-O-である。) The ink composition according to claim 1 , wherein the curable monomer further comprises a compound represented by the following Chemical Formula 3:
(In the above Chemical Formula 3, R 3 is hydrogen or a methyl group, and A is —CH 2 —CH 2 —O— or —CH 2 —CH(CH 3 )—O—.)
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