JP7454504B2 - 基板処理中の基板温度の決定および制御 - Google Patents
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Description
本願は、2018年4月12日出願の米国仮出願第62/656,647号の利益を主張する。本開示は、2016年12月15日出願の米国仮出願第62/434,665号の利益を主張する2017年11月28日出願の米国特許出願第15/824,447号に関連する。上記の出願の開示全体が、参照によって本明細書に組み込まれる。
[適用例1]基板処理システムための温度コントローラであって、
熱伝達ガス圧力および基板支持体の第1温度を、前記基板支持体上に配置されている基板の第2温度に相関させる温度制御モデルを格納するメモリと、
前記熱伝達ガス圧力、前記基板支持体の前記第1温度、および、前記温度制御モデルを用いて、前記基板の前記第2温度を算出するよう構成されている温度算出モジュールと、
前記温度算出モジュールによって算出された前記基板の前記第2温度と、前記基板の所望の第3温度とに基づいて、前記熱伝達ガス圧力を調整するよう構成されている熱伝達ガス制御モジュールと、
を備える、温度コントローラ。
[適用例2]適用例1に記載の温度コントローラであって、前記基板支持体は、複数の区画を備え、前記基板支持体の前記第1温度は、前記複数の区画の各々におけるそれぞれの温度に対応する、温度コントローラ。
[適用例3]適用例2に記載の温度コントローラであって、前記基板の前記第2温度は、複数の基板温度に対応し、前記複数の基板温度は、前記基板支持体の前記複数の区画に対応する、温度コントローラ。
[適用例4]適用例3に記載の温度コントローラであって、前記熱伝達ガス圧力を調整するために、前記熱伝達ガス制御モジュールは、複数の圧力コントローラを調整するよう構成され、前記複数の圧力コントローラの各々は、前記基板支持体の前記複数の区画の1つに対応する、温度コントローラ。
[適用例5]適用例1に記載の温度コントローラであって、前記基板の前記所望の第3温度は、レシピ設定点に対応する、温度コントローラ。
[適用例6]適用例1に記載の温度コントローラであって、前記温度算出モジュールは、前記所望の第3温度をユーザインターフェースから受信するよう構成されている、温度コントローラ。
[適用例7]適用例1に記載の温度コントローラであって、前記温度算出モジュールは、前記基板の前記第2温度をディスプレイに提供するよう構成されている、温度コントローラ。
[適用例8]適用例1に記載の温度コントローラであって、前記温度制御モデルは、前記基板と前記基板支持体との間での制御熱伝達ガス圧力と実際の熱伝達ガス圧力との間の関係性に基づいて、前記熱伝達ガス圧力を算出するよう構成されている、温度コントローラ。
[適用例9]適用例8に記載の温度コントローラであって、前記基板の前記第2温度を算出するために、前記温度算出モジュールは、(i)熱伝達ガス圧力モデルを用いて、前記制御熱伝達ガス圧力に基づいて前記実際の熱伝達ガス圧力を算出し、(ii)前記実際の熱伝達ガス圧力および前記基板支持体の前記第1温度に基づいて前記基板の前記第2温度を算出するよう構成されている、温度コントローラ。
[適用例10]適用例1に記載の温度コントローラであって、前記基板の前記第2温度を算出するために、前記温度算出モジュールは、(i)前記基板支持体内に配置された圧力センサから前記熱伝達ガス圧力を受信し、(ii)前記圧力センサから受信した前記熱伝達ガス圧力に基づいて前記基板の前記第2温度を算出するよう構成されている、温度コントローラ。
[適用例11]基板処理システム内で基板支持体の温度を制御するための方法であって、
熱伝達ガス圧力および基板支持体の第1温度を、前記基板支持体上に配置されている基板の第2温度に相関させる温度制御モデルをメモリ内に格納し、
前記熱伝達ガス圧力、前記基板支持体の前記第1温度、および、前記温度制御モデルを用いて、前記基板の前記第2温度を算出し、
算出された前記基板の前記第2温度と、前記基板の所望の第3温度とに基づいて、前記熱伝達ガス圧力を調整すること、
を備える、方法。
[適用例12]適用例11に記載の方法であって、前記基板支持体は、複数の区画を備え、前記基板支持体の前記第1温度は、前記複数の区画の各々におけるそれぞれの温度に対応する、方法。
[適用例13]適用例12に記載の方法であって、前記基板の前記第2温度は、複数の基板温度に対応し、前記複数の基板温度は、前記基板支持体の前記複数の区画に対応する、方法。
[適用例14]適用例13に記載の方法であって、前記熱伝達ガス圧力を調整することは、複数の圧力コントローラを調整することを含み、前記複数の圧力コントローラの各々は、前記基板支持体の前記複数の区画の1つに対応する、方法。
[適用例15]適用例11に記載の方法であって、前記基板の前記所望の第3温度は、レシピ設定点に対応する、方法。
[適用例16]適用例11に記載の方法であって、さらに、前記所望の第3温度をユーザインターフェースから受信することを備える、方法。
[適用例17]適用例11に記載の方法であって、さらに、前記基板の前記第2温度をディスプレイに提供することを備える、方法。
[適用例18]適用例11に記載の方法であって、さらに、前記基板と前記基板支持体との間での制御熱伝達ガス圧力と実際の熱伝達ガス圧力との間の関係性に基づいて、前記熱伝達ガス圧力を算出することを備える、方法。
[適用例19]適用例18に記載の方法であって、前記基板の前記第2温度を算出することは、(i)熱伝達ガス圧力モデルを用いて、前記制御熱伝達ガス圧力に基づいて前記実際の熱伝達ガス圧力を算出し、(ii)前記実際の熱伝達ガス圧力および前記基板支持体の前記第1温度に基づいて前記基板の前記第2温度を算出すること、を含む、方法。
[適用例20]適用例11に記載の方法であって、前記基板の前記第2温度を算出することは、(i)前記基板支持体内に配置された圧力センサから前記熱伝達ガス圧力を受信し、(ii)前記圧力センサから受信した前記熱伝達ガス圧力に基づいて前記基板の前記第2温度を算出すること、を含む、方法。
Claims (20)
- 基板処理システムための温度コントローラであって、
熱伝達ガス圧力および基板支持体の第1温度を、前記基板支持体上に配置されている基板の第2温度に相関させる温度制御モデルおよび前記基板支持体内における熱伝達ガス流量に基づいて入力圧力と前記熱伝達ガス圧力とを関連付ける熱伝達ガス圧力モデルを格納するメモリと、
前記熱伝達ガス圧力モデルを用いて前記熱伝達ガス圧力を算出し、前記熱伝達ガス圧力、前記基板支持体の前記第1温度、および、前記温度制御モデルを用いて、前記基板の前記第2温度を算出するよう構成されている温度算出モジュールと、
前記温度算出モジュールによって算出された前記基板の前記第2温度と、前記基板の所望の第3温度とに基づいて、前記熱伝達ガス圧力を調整するよう構成されている熱伝達ガス制御モジュールと、
を備える、温度コントローラ。 - 請求項1に記載の温度コントローラであって、前記基板支持体は、複数の区画を備え、前記基板支持体の前記第1温度は、前記複数の区画の各々におけるそれぞれの温度に対応する、温度コントローラ。
- 請求項2に記載の温度コントローラであって、前記基板の前記第2温度は、複数の基板温度に対応し、前記複数の基板温度は、前記基板支持体の前記複数の区画に対応する、温度コントローラ。
- 請求項3に記載の温度コントローラであって、前記熱伝達ガス圧力を調整するために、前記熱伝達ガス制御モジュールは、複数の圧力コントローラを調整するよう構成され、前記複数の圧力コントローラの各々は、前記基板支持体の前記複数の区画の1つに対応する、温度コントローラ。
- 請求項1に記載の温度コントローラであって、前記基板の前記所望の第3温度は、レシピ設定点に対応する、温度コントローラ。
- 請求項1に記載の温度コントローラであって、前記温度算出モジュールは、前記所望の第3温度をユーザインターフェースから受信するよう構成されている、温度コントローラ。
- 請求項1に記載の温度コントローラであって、前記温度算出モジュールは、前記基板の前記第2温度をディスプレイに提供するよう構成されている、温度コントローラ。
- 請求項1に記載の温度コントローラであって、前記温度制御モデルは、前記基板と前記基板支持体との間での制御熱伝達ガス圧力と実際の熱伝達ガス圧力との間の関係性に基づいて、前記熱伝達ガス圧力を算出するよう構成されている、温度コントローラ。
- 請求項8に記載の温度コントローラであって、前記基板の前記第2温度を算出するために、前記温度算出モジュールは、(i)前記熱伝達ガス圧力モデルを用いて、前記制御熱伝達ガス圧力に基づいて前記実際の熱伝達ガス圧力を算出し、(ii)前記実際の熱伝達ガス圧力および前記基板支持体の前記第1温度に基づいて前記基板の前記第2温度を算出するよう構成されている、温度コントローラ。
- 請求項1に記載の温度コントローラであって、前記基板の前記第2温度を算出するために、前記温度算出モジュールは、(i)前記基板支持体内に配置された圧力センサから前記熱伝達ガス圧力を受信し、(ii)前記圧力センサから受信した前記熱伝達ガス圧力に基づいて前記基板の前記第2温度を算出するよう構成されている、温度コントローラ。
- 基板処理システム内で基板支持体の温度を制御するための方法であって、
熱伝達ガス圧力および基板支持体の第1温度を、前記基板支持体上に配置されている基板の第2温度に相関させる温度制御モデルをメモリ内に格納し、
前記基板支持体内における熱伝達ガス流量に基づいて入力圧力と前記熱伝達ガス圧力とを関連付ける熱伝達ガス圧力モデルを前記メモリ内に格納し、
前記熱伝達ガス圧力モデルを用いて前記熱伝達ガス圧力を算出し、
前記熱伝達ガス圧力、前記基板支持体の前記第1温度、および、前記温度制御モデルを用いて、前記基板の前記第2温度を算出し、
算出された前記基板の前記第2温度と、前記基板の所望の第3温度とに基づいて、前記熱伝達ガス圧力を調整すること、
を備える、方法。 - 請求項11に記載の方法であって、前記基板支持体は、複数の区画を備え、前記基板支持体の前記第1温度は、前記複数の区画の各々におけるそれぞれの温度に対応する、方法。
- 請求項12に記載の方法であって、前記基板の前記第2温度は、複数の基板温度に対応し、前記複数の基板温度は、前記基板支持体の前記複数の区画に対応する、方法。
- 請求項13に記載の方法であって、前記熱伝達ガス圧力を調整することは、複数の圧力コントローラを調整することを含み、前記複数の圧力コントローラの各々は、前記基板支持体の前記複数の区画の1つに対応する、方法。
- 請求項11に記載の方法であって、前記基板の前記所望の第3温度は、レシピ設定点に対応する、方法。
- 請求項11に記載の方法であって、さらに、前記所望の第3温度をユーザインターフェースから受信することを備える、方法。
- 請求項11に記載の方法であって、さらに、前記基板の前記第2温度をディスプレイに提供することを備える、方法。
- 請求項11に記載の方法であって、さらに、前記基板と前記基板支持体との間での制御熱伝達ガス圧力と実際の熱伝達ガス圧力との間の関係性に基づいて、前記熱伝達ガス圧力を算出することを備える、方法。
- 請求項18に記載の方法であって、前記基板の前記第2温度を算出することは、(i)前記熱伝達ガス圧力モデルを用いて、前記制御熱伝達ガス圧力に基づいて前記実際の熱伝達ガス圧力を算出し、(ii)前記実際の熱伝達ガス圧力および前記基板支持体の前記第1温度に基づいて前記基板の前記第2温度を算出すること、を含む、方法。
- 請求項11に記載の方法であって、前記基板の前記第2温度を算出することは、(i)前記基板支持体内に配置された圧力センサから前記熱伝達ガス圧力を受信し、(ii)前記圧力センサから受信した前記熱伝達ガス圧力に基づいて前記基板の前記第2温度を算出すること、を含む、方法。
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