JP7451751B2 - Analysis system, management system, analysis method, and analysis program - Google Patents

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Description

本開示は、分析システム及び管理システム、並びに分析方法、並びに分析プログラムに関するものである。 The present disclosure relates to an analysis system, a management system, an analysis method, and an analysis program.

例えば航空機部品の生産では、処理液を用いたエッチングや皮膜処理などといった表面処理が行われる。所望の表面処理が行われるように処理液の液性は管理されている。例えば、作業員等により定期的(1回/週など)に処理液を採取して手分析により液性検査が行われている。 For example, in the production of aircraft parts, surface treatments such as etching and film treatment using treatment liquids are performed. The properties of the treatment liquid are controlled so that the desired surface treatment is performed. For example, a liquid quality test is performed by manually analyzing a sample of the processing liquid periodically (once a week, etc.) by a worker or the like.

特許文献1には、エッチング処理液(HF溶液)をパイプを介して処理槽から濃度測定器へ供給し、濃度値を検出することが開示されている。 Patent Document 1 discloses that an etching solution (HF solution) is supplied from a processing tank to a concentration measuring device via a pipe, and the concentration value is detected.

特開平7-306146号公報Japanese Patent Application Publication No. 7-306146

処理液は、処理を行う部品数や製品の材質などに応じて、液性(例えば濃度)の急激な変化が起こる場合がある。例えばpHや電気伝導率は、不純物や大気の溶解成分の影響によって変化し易い。処理液の液性が適切に保たれないと、処理した製品が不適合製品(不良品)となる場合もあるため、処理液の液性をより正確に管理することの重要性が高まっている。 The properties (for example, concentration) of the processing liquid may change rapidly depending on the number of parts to be processed, the material of the product, etc. For example, pH and electrical conductivity tend to change due to the effects of impurities and dissolved components in the atmosphere. If the liquid properties of the processing liquid are not maintained appropriately, the treated product may become non-conforming (defective), so it is becoming increasingly important to control the liquid properties of the processing liquid more accurately.

pH計は定期的に校正を行う必要がある機器であるため、作業員等によって手動で校正が実施されている。このため処理液の液性を管理するためにpH計を定期的に校正する手間がかかっていた。 Since a pH meter is a device that needs to be calibrated regularly, the calibration is performed manually by a worker or the like. For this reason, it took time and effort to periodically calibrate the pH meter in order to manage the liquid properties of the processing liquid.

本開示は、このような事情に鑑みてなされたものであって、pH計の校正の手間を軽減することのできる分析システム及び管理システム、並びに分析方法、並びに分析プログラムを提供することを目的とする。 The present disclosure has been made in view of these circumstances, and aims to provide an analysis system, a management system, an analysis method, and an analysis program that can reduce the labor of calibrating a pH meter. do.

本開示の第1態様は、試料のpHを計測するpH計と、所定のpH値の校正液が溜められたタンクと、前記タンクから前記校正液を所定のタイミングで前記pH計へ供給し、前記校正液が前記pH計へ供給されている状態において前記pH計を校正する制御装置と、前記試料の電気伝導率を計測する電気伝導率計と、前記試料の流通経路における前記電気伝導率計と前記pH計の間に設けられており、前記試料を溜める中間タンクとを備え、前記pH計は、前記試料の流通経路において前記電気伝導率計の下流側に設けられており、前記制御装置は、前記試料に対する計測を行う場合に、前記試料を前記流通経路へ流通させる分析システムである。 A first aspect of the present disclosure includes a pH meter that measures the pH of a sample, a tank storing a calibration solution having a predetermined pH value, and supplying the calibration solution from the tank to the pH meter at a predetermined timing, A control device that calibrates the pH meter while the calibration solution is being supplied to the pH meter, an electrical conductivity meter that measures the electrical conductivity of the sample, and the electrical conductivity meter in the sample distribution path. and an intermediate tank for storing the sample, the pH meter being provided downstream of the electrical conductivity meter in the sample flow path, and the control device is an analysis system that distributes the sample to the distribution channel when performing measurement on the sample .

本開示の第2態様は、試料の電気伝導率を計測する電気伝導率計と、前記試料の流通経路において前記電気伝導率計の下流側に設けられ、前記試料のpHを計測するpH計と、前記試料の流通経路における前記電気伝導率計と前記pH計の間に設けられており、前記試料を溜める中間タンクとを備える分析システムの分析方法であって、前記試料に対する計測を行う場合に、前記試料を前記流通経路へ流通させる工程を有する分析方法である。 A second aspect of the present disclosure includes an electrical conductivity meter that measures the electrical conductivity of a sample, and a pH meter that is provided downstream of the electrical conductivity meter in the distribution path of the sample and that measures the pH of the sample. , an analysis method for an analysis system comprising an intermediate tank provided between the electrical conductivity meter and the pH meter in the distribution path of the sample and storing the sample , when measuring the sample; , an analysis method comprising the step of distributing the sample to the distribution channel .

本開示の第3態様は、試料の電気伝導率を計測する電気伝導率計と、前記試料の流通経路において前記電気伝導率計の下流側に設けられ、前記試料のpHを計測するpH計と、前記試料の流通経路における前記電気伝導率計と前記pH計の間に設けられており、前記試料を溜める中間タンクとを備える分析システムの分析プログラムであって、前記試料に対する計測を行う場合に、前記試料を前記流通経路へ流通させる処理をコンピュータに実行させるための分析プログラムである。 A third aspect of the present disclosure includes an electrical conductivity meter that measures the electrical conductivity of a sample, and a pH meter that is provided downstream of the electrical conductivity meter in the distribution path of the sample and that measures the pH of the sample. , an analysis program for an analysis system including an intermediate tank provided between the electrical conductivity meter and the pH meter in the sample distribution path and storing the sample , when performing measurement on the sample. , an analysis program for causing a computer to execute a process of distributing the sample to the distribution channel .

本開示によれば、pH計の校正の手間を軽減することができるという効果を奏する。 According to the present disclosure, it is possible to reduce the effort required to calibrate a pH meter.

本開示の第1実施形態に係る表面処理ラインの構成例を示す図である。FIG. 1 is a diagram illustrating a configuration example of a surface treatment line according to a first embodiment of the present disclosure. 本開示の第1実施形態に係る処理槽に分析システムを適用した場合の構成例を示す図である。1 is a diagram illustrating a configuration example when an analysis system is applied to a processing tank according to a first embodiment of the present disclosure. 本開示の第1実施形態に係る分析システムの概略構成を示す図である。1 is a diagram showing a schematic configuration of an analysis system according to a first embodiment of the present disclosure. ガラス電極法を説明するための図である。FIG. 2 is a diagram for explaining the glass electrode method. 本開示の第1実施形態に係る制御装置のハードウェア構成の一例を示した図である。FIG. 1 is a diagram showing an example of the hardware configuration of a control device according to a first embodiment of the present disclosure. 本開示の第1実施形態に係る制御装置が備える機能を示した機能ブロック図である。FIG. 2 is a functional block diagram showing functions included in a control device according to a first embodiment of the present disclosure. 本開示の第1実施形態に係る分析を行う場合の分析システムの試料の流れを示す図である。FIG. 2 is a diagram showing the flow of a sample in the analysis system when performing analysis according to the first embodiment of the present disclosure. 本開示の第1実施形態に係る校正を行う場合の分析システムの校正液の流れを示す図である。FIG. 3 is a diagram showing the flow of a calibration solution in the analysis system when performing calibration according to the first embodiment of the present disclosure. 本開示の第1実施形態に係る洗浄を行う場合の分析システムの純水の流れを示す図である。FIG. 2 is a diagram showing the flow of pure water in the analysis system when performing cleaning according to the first embodiment of the present disclosure. 本開示の第1実施形態に係る校正処理の手順の一例を示すフローチャートである。3 is a flowchart illustrating an example of a procedure of a calibration process according to the first embodiment of the present disclosure. 本開示の第1実施形態に係る洗浄処理の手順の一例を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows an example of the procedure of cleaning processing concerning a 1st embodiment of this indication. 本開示の第2実施形態に係る管理システムの構成例を示す図である。FIG. 2 is a diagram illustrating a configuration example of a management system according to a second embodiment of the present disclosure. 本開示の第2実施形態に係る管理システムを生産ラインに適用した場合の構成例を示す図である。FIG. 7 is a diagram illustrating a configuration example when a management system according to a second embodiment of the present disclosure is applied to a production line.

〔第1実施形態〕
以下に、本開示に係る分析システム及び管理システム、並びに分析方法、並びに分析プログラムの第1実施形態について、図面を参照して説明する。
[First embodiment]
Below, a first embodiment of an analysis system, a management system, an analysis method, and an analysis program according to the present disclosure will be described with reference to the drawings.

図1は、表面処理ライン120の構成例を示す図である。表面処理ライン120では、複数の処理液が溜められた処理槽122が設けられている。例えば図1に示すように、表面処理ライン120には、硼酸硫酸処理槽122aや、1次水洗処理槽122b、2次水洗処理槽122cといった処理槽122が設けられている。そして、処理槽122の上部にはクレーン121が設けられており、クレーン121によって対象部品123を吊るして、上下動作により対象部品123を処理槽122の処理液に浸漬する。ラインの上流側から順番に対象部品123を各処理液に浸漬することによって、各表面処理が行われる。 FIG. 1 is a diagram showing an example of the configuration of the surface treatment line 120. The surface treatment line 120 is provided with a treatment tank 122 in which a plurality of treatment liquids are stored. For example, as shown in FIG. 1, the surface treatment line 120 is provided with treatment tanks 122 such as a boric acid/sulfuric acid treatment tank 122a, a primary water washing treatment tank 122b, and a secondary water washing processing tank 122c. A crane 121 is provided above the processing tank 122, and the crane 121 suspends the target part 123, and immerses the target part 123 in the processing liquid in the processing tank 122 by vertical movement. Each surface treatment is performed by immersing the target part 123 in each treatment liquid in order from the upstream side of the line.

硼酸硫酸処理槽122aでは、皮膜処理が行われる。そして、1次水洗処理槽122b及び2次水洗処理槽122cでは、皮膜処理後の対象部品123に対して、1次水洗及び2次水洗が行われる。1次水洗処理槽122b及び2次水洗処理槽122cには純水が溜められている。純水は蒸発等により貯留量が減少するため、純水ライン(不図示)から純水の補給がされる。 A film treatment is performed in the boric acid/sulfuric acid treatment tank 122a. In the primary water washing treatment tank 122b and the secondary water washing treatment tank 122c, the target component 123 after the film treatment is subjected to primary water washing and secondary water washing. Pure water is stored in the primary washing tank 122b and the secondary washing tank 122c. Since the amount of pure water stored decreases due to evaporation or the like, pure water is replenished from a pure water line (not shown).

本実施形態では、1次水洗処理槽122b(または2次水洗処理槽122c)に貯められた純水を、液性の分析対象(以下、「試料」という)とする場合を例として説明する。試料としては、純水ラインから補給される純水とすることとしてもよい。また、純水以外であっても、硼酸硫酸処理槽122aの処理液など様々な溶液を試料とすることが可能である。 In this embodiment, a case will be described in which pure water stored in the primary water washing tank 122b (or the secondary washing tank 122c) is used as a liquid analysis target (hereinafter referred to as a "sample"). The sample may be pure water supplied from a pure water line. Moreover, even if it is not pure water, it is possible to use various solutions as a sample, such as the processing liquid in the boric acid/sulfuric acid processing tank 122a.

図2は、処理槽122に分析システム40を適用した場合の構成例を示す図である。図2の処理槽122とは、例えば1次水洗処理槽122bである。処理槽122には循環システム130と分析システム40とが接続されている。 FIG. 2 is a diagram showing a configuration example when the analysis system 40 is applied to the processing tank 122. The processing tank 122 in FIG. 2 is, for example, a primary water washing processing tank 122b. A circulation system 130 and an analysis system 40 are connected to the processing tank 122 .

循環システム130は、処理槽122の処理液をポンプ131によって一部抜き取り、循環ライン133を介して処理液を処理槽122に戻す。循環ライン133におけるポンプ131の下流側では、循環ライン133の処理液の一部が迂回ライン134を流通し、ストレーナー132で固形成分が取り除かれ、循環ライン133へ戻る。迂回ライン134におけるストレーナー132の下流側には採取ライン135が接続されている。 The circulation system 130 extracts a portion of the processing liquid from the processing tank 122 using a pump 131 and returns the processing liquid to the processing tank 122 via a circulation line 133 . On the downstream side of the pump 131 in the circulation line 133 , a part of the processing liquid in the circulation line 133 flows through a detour line 134 , solid components are removed by a strainer 132 , and the liquid returns to the circulation line 133 . A sampling line 135 is connected to the detour line 134 on the downstream side of the strainer 132 .

分析システム40は、採取ライン135より処理液を試料として採取して分析を行う。本実施形態では、処理液のpHと電気伝導率とを計測(分析)する場合について説明するが、pH及び電気伝導率のいずれか一方を計測することとしてもよい。 The analysis system 40 collects the treated liquid as a sample from the collection line 135 and performs analysis. In this embodiment, a case will be described in which the pH and electrical conductivity of the treatment liquid are measured (analyzed), but either one of the pH and electrical conductivity may be measured.

図3は、分析システム40の概略構成を示す図である。図3に示すように、分析システム40は、電気伝導率計M1と、中間タンクC2と、pH計M2と、純水タンクT2と、校正液用タンク(T3~T5)と、制御装置50とを主な構成として備えている。 FIG. 3 is a diagram showing a schematic configuration of the analysis system 40. As shown in FIG. 3, the analysis system 40 includes an electrical conductivity meter M1, an intermediate tank C2, a pH meter M2, a pure water tank T2, calibration liquid tanks (T3 to T5), and a control device 50. The main components are:

電気伝導率計M1は、試料の電気伝導率を計測する。具体的には、採取ライン135が分析システム試料入口へ接続されており、試料入口からラインL1を介してEC用タンクC1へ試料が供給される。ラインL1には入口バルブV1とバルブSV1が設けられており、後述する制御装置50によって制御される。そして、EC用タンクC1に試料が一時貯留される。EC用タンクC1において所定量以上の試料が貯留されると余剰分はラインL2へ流れ出る。 The electrical conductivity meter M1 measures the electrical conductivity of the sample. Specifically, the collection line 135 is connected to the analysis system sample inlet, and the sample is supplied from the sample inlet to the EC tank C1 via the line L1. The line L1 is provided with an inlet valve V1 and a valve SV1, which are controlled by a control device 50, which will be described later. Then, the sample is temporarily stored in the EC tank C1. When a predetermined amount or more of the sample is stored in the EC tank C1, the surplus flows out to the line L2.

EC用タンクC1に貯留した試料には電気伝導率計M1の電極が浸るようになっており、試料に対して電気伝導率が計測される。電気伝導率計M1の電極は例えば白金電極である。後述する制御装置50によって試料が自動的に電気伝導率計M1へ供給されるため、電気伝導率のオンライン計測を行うことが可能となる。なお、電気伝導率の計測方法は、ガラス電極(白金電極セル)法に限らず様々な方法を用いることができる。 The electrode of the electrical conductivity meter M1 is immersed in the sample stored in the EC tank C1, and the electrical conductivity of the sample is measured. The electrode of the electrical conductivity meter M1 is, for example, a platinum electrode. Since the sample is automatically supplied to the electrical conductivity meter M1 by the control device 50 described later, it becomes possible to perform online measurement of electrical conductivity. Note that the method for measuring electrical conductivity is not limited to the glass electrode (platinum electrode cell) method, and various methods can be used.

EC用タンクC1には、タンク下部にバルブSV2を有するラインL7が接続されており貯留された試料等を廃水ピットE1へ排出可能となっている。 A line L7 having a valve SV2 at the bottom of the tank is connected to the EC tank C1, and the stored sample etc. can be discharged to the wastewater pit E1.

中間タンクC2は、ラインL2から供給された試料を溜める。中間タンクC2では、所定量の試料が貯留され、余剰分はラインL5を介して廃水ピットE1へ排出される。中間タンクC2へ貯留された試料は、ラインL3を介してpH用タンクC3へ供給される。ラインL3にはバルブSV4が設けられている。また、ラインL3にはpH用タンクC3とバルブSV4の間にバルブSV9を有するラインL8が設けられており、ラインL3の試料を廃液タンクT1へ供給可能となっている。 Intermediate tank C2 stores the sample supplied from line L2. A predetermined amount of sample is stored in the intermediate tank C2, and the surplus is discharged to the wastewater pit E1 via the line L5. The sample stored in the intermediate tank C2 is supplied to the pH tank C3 via the line L3. A valve SV4 is provided in the line L3. Further, a line L8 having a valve SV9 is provided between the pH tank C3 and the valve SV4 in the line L3, and the sample in the line L3 can be supplied to the waste liquid tank T1.

すなわち、中間タンクC2は、試料が流通する流通経路における電気伝導率計M1とpH計M2の間に設けられている。換言すると、中間タンクC2は、試料の流れに対して電気伝導率計M1の下流側であってpH計M2の上流側に設けられている。電気伝導率計M1とpH計M2の間に試料を溜める中間タンクC2が設けられることによって、電気伝導率の計測で試料が帯電した場合でもpH計M2測を行う前に放電することができる。このため、より正確にpH計M2測を行うことが可能となる。 That is, the intermediate tank C2 is provided between the electrical conductivity meter M1 and the pH meter M2 in the distribution path through which the sample flows. In other words, the intermediate tank C2 is provided downstream of the electrical conductivity meter M1 and upstream of the pH meter M2 with respect to the flow of the sample. By providing an intermediate tank C2 for storing a sample between the electrical conductivity meter M1 and the pH meter M2, even if the sample is charged during electrical conductivity measurement, it can be discharged before measuring the pH meter M2. Therefore, it becomes possible to perform pH meter M2 measurement more accurately.

中間タンクC2では、試料が所定時間以上滞留されることが好ましい。所定時間は、例えば電気伝導率の計測で帯電した電荷が放電されるのに要する時間に基づいて設定される。すなわち、試料が所定時間以上滞留がれることによってより確実に試料の放電を行うことができる。中間タンクC2の滞留時間は、タンクの構造(容量等)によって調整されてもよいし、ポンプP1の制御によってpH計M2へ供給される試料を制御して調整されることとしてもよい。 It is preferable that the sample is retained in the intermediate tank C2 for a predetermined period of time or more. The predetermined time is set, for example, based on the time required for electrical charges accumulated in measurement of electrical conductivity to be discharged. That is, by allowing the sample to stay for a predetermined period of time or longer, the sample can be more reliably discharged. The residence time in the intermediate tank C2 may be adjusted by the structure (capacity, etc.) of the tank, or may be adjusted by controlling the sample supplied to the pH meter M2 by controlling the pump P1.

中間タンクC2には、タンク下部にバルブSV3を有するラインL6が接続されており貯留された試料等を廃水ピットE1へ排出可能となっている。 A line L6 having a valve SV3 at the bottom of the tank is connected to the intermediate tank C2, so that the stored sample etc. can be discharged to the wastewater pit E1.

pH計M2は、試料のpHを計測する。具体的には、ラインL3を介して中間タンクC2からpH用タンクC3へ試料が供給される。そしてpH用タンクC3に試料が溜められ、ラインL4を介して廃液タンクT1へ試料が排出される。ラインL4にはポンプP1が設けられており、ポンプP1が制御されることによって中間タンクC2からpH用タンクC3、そして廃液タンクT1へ試料が流通される。 The pH meter M2 measures the pH of the sample. Specifically, the sample is supplied from the intermediate tank C2 to the pH tank C3 via the line L3. Then, the sample is stored in the pH tank C3, and is discharged to the waste liquid tank T1 via the line L4. A pump P1 is provided in the line L4, and by controlling the pump P1, the sample is distributed from the intermediate tank C2 to the pH tank C3 and then to the waste liquid tank T1.

pH計M2は、内部比較液を用いたガラス電極法によりpH計M2測を行う。図4はガラス電極法を説明するための図である。ガラス電極Z1と比較電極Z2の2つの電極が用いられる。ガラス電極Z1及び比較電極Z2は試料に浸されている。ガラス電極Z1は下部がガラス薄膜Z3で構成されており、ガラス電極Z1にはpHが既知であるガラス電極内部液が満たされている。ガラス電極内部液と、ガラス電極Z1が浸された試料とにpHの差があると該差に比例した電位差がガラス薄膜Z3に発生する。すなわち、ガラス薄膜Z3におけるガラス電極内部液側と、試料側とにそれぞれ電位が発生する。ガラス電極内部液側に発生した電位はガラス電極Z1の内部電極Z4で計り、試料側に発生した電位は比較電極Z2の内部電極Z6で計り、電位差が取得される。電位差はpHが既知であるガラス電極内部液と試料のpHの差に比例しているため、電位差によって試料のpHがわかることとなる。なお、ガラス電極Z1と比較電極Z2とは複合電極として構成されていてもよく、具体的なガラス電極法を用いた電極構成は図4に限定されない。 The pH meter M2 measures pH using a glass electrode method using an internal comparison liquid. FIG. 4 is a diagram for explaining the glass electrode method. Two electrodes are used: a glass electrode Z1 and a comparison electrode Z2. Glass electrode Z1 and reference electrode Z2 are immersed in the sample. The lower part of the glass electrode Z1 is composed of a glass thin film Z3, and the glass electrode Z1 is filled with a glass electrode internal liquid whose pH is known. If there is a difference in pH between the glass electrode internal solution and the sample in which the glass electrode Z1 is immersed, a potential difference proportional to the difference is generated in the glass thin film Z3. That is, potentials are generated on the glass electrode internal liquid side and the sample side in the glass thin film Z3, respectively. The potential generated on the internal liquid side of the glass electrode is measured by the internal electrode Z4 of the glass electrode Z1, and the potential generated on the sample side is measured by the internal electrode Z6 of the comparison electrode Z2 to obtain a potential difference. Since the potential difference is proportional to the difference in pH between the glass electrode internal solution, which has a known pH, and the sample, the pH of the sample can be determined from the potential difference. Note that the glass electrode Z1 and the comparison electrode Z2 may be configured as a composite electrode, and the specific electrode configuration using the glass electrode method is not limited to that shown in FIG. 4.

比較電極Z2では、下部が液絡部Z5となっており、内部の比較液(内部比較液)が試料側にわずかに流出して電気的接続を保っている。このため比較電極Z2における内部比較液は減少する。内部比較液は、後述する制御装置50において自動補充される。内部比較液としてはKCl(塩化カリウム飽和水溶液)が用いられる。内部比較液は、電解質溶液である。 The lower part of the comparison electrode Z2 is a liquid junction Z5, and the internal comparison liquid (internal comparison liquid) slightly flows out to the sample side to maintain electrical connection. Therefore, the internal comparison liquid in the comparison electrode Z2 decreases. The internal comparison liquid is automatically replenished by a control device 50, which will be described later. KCl (saturated aqueous potassium chloride solution) is used as the internal comparison liquid. The internal comparison liquid is an electrolyte solution.

pH計M2は、試料の流通経路において電気伝導率計M1の下流側に設けられている。そして、試料に対する計測を行う場合に、制御装置50により試料が流通経路へ流通させられる。電気伝導率の計測では試料に不純物が混入しにくいが、pHの計測では例えば比較液(KCl等)といった不純物が試料に混入する場合がある。このため、電気伝導率の後にpHを計測する順番とすることで、より正確に、電気伝導率とpHの連続計測が可能となる。 The pH meter M2 is provided downstream of the electrical conductivity meter M1 in the sample flow path. When measuring the sample, the control device 50 causes the sample to flow through the distribution channel. When measuring electrical conductivity, it is difficult for impurities to get mixed into the sample, but when measuring pH, impurities such as a comparison liquid (KCl, etc.) may get mixed into the sample. Therefore, by measuring the pH after the electrical conductivity, continuous measurement of the electrical conductivity and pH becomes possible more accurately.

純水タンクT2は、純水が溜められているタンクである。純水タンクT2は、バルブSV5を有するラインL9を介してラインL8と接続されている。また、純水タンクT2は、バルブSV5との間にポンプP2を有するラインL13が接続されており、純水がEC用タンクC1へ供給可能となっている。分析システム40では純水を用いて例えば洗浄が行われる。例えば、pH計M2や、pH用タンクC3、電気伝導率計M1、EC用タンクC1、中間タンクC2、各種配管等の洗浄が可能となっている。 The pure water tank T2 is a tank that stores pure water. Pure water tank T2 is connected to line L8 via line L9 having valve SV5. Further, a line L13 having a pump P2 is connected between the pure water tank T2 and the valve SV5, so that pure water can be supplied to the EC tank C1. In the analysis system 40, for example, cleaning is performed using pure water. For example, it is possible to clean the pH meter M2, the pH tank C3, the electrical conductivity meter M1, the EC tank C1, the intermediate tank C2, and various piping.

校正液用タンク(T3~T5)は、pH計M2を構成するための校正液が溜められている。校正液は、所定のpH値となっている。本実施形態では、校正液用タンク(T3~T5)として、pH値の異なる複数の校正液に対応してそれぞれタンクT3、タンクT4、及びタンクT5が設けられている場合について説明する。校正液については1種類用いることとしてもよい。しかしながら、pH値の異なる校正液が複数設けられることによって、複数のpH値に対応して校正を行うことができ、pH計M2を精度よく校正することができる。 The calibration liquid tanks (T3 to T5) store calibration liquid for configuring the pH meter M2. The calibration solution has a predetermined pH value. In this embodiment, a case will be described in which a tank T3, a tank T4, and a tank T5 are provided as calibration liquid tanks (T3 to T5) corresponding to a plurality of calibration liquids having different pH values, respectively. One type of calibration solution may be used. However, by providing a plurality of calibration solutions with different pH values, calibration can be performed corresponding to a plurality of pH values, and the pH meter M2 can be calibrated with high accuracy.

タンクT3は、pHが4の校正液が貯留されている。そして、タンクT3は、バルブSV6を有するラインL10を介してラインL8と接続されている。タンクT4は、pHが7の校正液が貯留されている。そして、タンクT4は、バルブSV7を有するラインL11を介してラインL8と接続されている。タンクT5は、pHが9の校正液が貯留されている。そして、タンクT5は、バルブSV8を有するラインL12を介してラインL8と接続されている。 A calibration solution having a pH of 4 is stored in the tank T3. The tank T3 is connected to the line L8 via a line L10 having a valve SV6. A calibration solution with a pH of 7 is stored in the tank T4. The tank T4 is connected to the line L8 via a line L11 having a valve SV7. A calibration solution with a pH of 9 is stored in the tank T5. The tank T5 is connected to the line L8 via a line L12 having a valve SV8.

例えば、タンクT3の校正液がラインL10を介してpH用タンクC3へ供給されることによってpH計M2の校正が可能となる。なお、校正を行う前にはpH用タンクC3に試料がなく、また、洗浄がされていることが好ましい。 For example, the pH meter M2 can be calibrated by supplying the calibration liquid from the tank T3 to the pH tank C3 via the line L10. Note that it is preferable that there is no sample in the pH tank C3 and that the pH tank C3 has been cleaned before calibration.

制御装置50は、分析システム40における各種機器を制御する。具体的には、各種のバルブやポンプを制御して試料の流通を制御する。 The control device 50 controls various devices in the analysis system 40. Specifically, various valves and pumps are controlled to control the flow of the sample.

図5は、本実施形態に係る制御装置50のハードウェア構成の一例を示した図である。
図5に示すように、制御装置50は、コンピュータシステム(計算機システム)であり、例えば、CPU11と、CPU11が実行するプログラム等を記憶するためのROM(Read Only Memory)12と、各プログラム実行時のワーク領域として機能するRAM(Random Access Memory)13と、大容量記憶装置としてのハードディスクドライブ(HDD)14と、ネットワーク等に接続するための通信部15とを備えている。なお、大容量記憶装置としては、ソリッドステートドライブ(SSD)を用いることとしてもよい。これら各部は、バス18を介して接続されている。
FIG. 5 is a diagram showing an example of the hardware configuration of the control device 50 according to the present embodiment.
As shown in FIG. 5, the control device 50 is a computer system, and includes, for example, a CPU 11, a ROM (Read Only Memory) 12 for storing programs executed by the CPU 11, and a ROM (Read Only Memory) 12 for storing programs executed by the CPU 11. A RAM (Random Access Memory) 13 that functions as a work area, a hard disk drive (HDD) 14 as a mass storage device, and a communication section 15 for connecting to a network or the like. Note that a solid state drive (SSD) may be used as the mass storage device. These parts are connected via a bus 18.

また、制御装置50は、キーボードやマウス等からなる入力部や、データを表示する液晶表示装置等からなる表示部などを備えていてもよい。 Further, the control device 50 may include an input unit such as a keyboard and a mouse, and a display unit such as a liquid crystal display device that displays data.

なお、CPU11が実行するプログラム等を記憶するための記憶媒体は、ROM12に限られない。例えば、磁気ディスク、光磁気ディスク、半導体メモリ等の他の補助記憶装置であってもよい。 Note that the storage medium for storing programs and the like executed by the CPU 11 is not limited to the ROM 12. For example, other auxiliary storage devices such as a magnetic disk, a magneto-optical disk, and a semiconductor memory may be used.

後述の各種機能を実現するための一連の処理の過程は、プログラムの形式でハードディスクドライブ14等に記録されており、このプログラムをCPU11がRAM13等に読み出して、情報の加工・演算処理を実行することにより、後述の各種機能が実現される。なお、プログラムは、ROM12やその他の記憶媒体に予めインストールしておく形態や、コンピュータ読み取り可能な記憶媒体に記憶された状態で提供される形態、有線又は無線による通信手段を介して配信される形態等が適用されてもよい。コンピュータ読み取り可能な記憶媒体とは、磁気ディスク、光磁気ディスク、CD-ROM、DVD-ROM、半導体メモリ等である。 A series of processing steps for realizing various functions described below are recorded in the form of a program in the hard disk drive 14, etc., and the CPU 11 reads this program into the RAM 13 etc. to process information and perform arithmetic processing. As a result, various functions described below are realized. Note that the program may be pre-installed in the ROM 12 or other storage medium, provided as being stored in a computer-readable storage medium, or distributed via wired or wireless communication means. etc. may also be applied. Computer-readable storage media include magnetic disks, magneto-optical disks, CD-ROMs, DVD-ROMs, semiconductor memories, and the like.

図6は、制御装置50が備える機能を示した機能ブロック図である。図6に示されるように、制御装置50は、分析処理部51と、校正処理部52と、補充処理部53と、洗浄処理部54と、分析結果取得部55とを備えている。 FIG. 6 is a functional block diagram showing the functions included in the control device 50. As shown in FIG. 6, the control device 50 includes an analysis processing section 51, a calibration processing section 52, a replenishment processing section 53, a cleaning processing section 54, and an analysis result acquisition section 55.

分析処理部51は、試料の分析のために制御を行う。具体的には、分析処理部51は、試料に対する計測を行う場合に、試料を流通経路へ流通させる。すなわち、試料入口から電気伝導率計M1、pH計M2へ試料が流通するように制御を行う。 The analysis processing unit 51 performs control for sample analysis. Specifically, the analysis processing unit 51 distributes the sample to the distribution channel when performing measurement on the sample. That is, control is performed so that the sample flows from the sample inlet to the electrical conductivity meter M1 and the pH meter M2.

図7は分析を行う場合の分析システム40の試料の流れを示す図である。すなわち、入口バルブV1と、バルブSV1と、バルブSV4とを開として、図7の太線として示すように試料を電気伝導率計M1、中間タンクC2、及びpH計M2へ流通させる。pH計M2への試料は、ポンプP2が制御されることにより中間タンクC2から供給される。なお、その他のバルブ及びポンプは閉(または停止)となっていることが好ましい。 FIG. 7 is a diagram showing the flow of a sample in the analysis system 40 when performing an analysis. That is, the inlet valve V1, valve SV1, and valve SV4 are opened to allow the sample to flow to the electrical conductivity meter M1, the intermediate tank C2, and the pH meter M2 as shown by the thick line in FIG. The sample to the pH meter M2 is supplied from the intermediate tank C2 by controlling the pump P2. Note that other valves and pumps are preferably closed (or stopped).

このように分析処理部51の制御によって試料が自動的に電気伝導率計M1及びpH計M2へ供給されるため、自動計測を行うことができる。また、各配管を通じて電気伝導率計M1及びpH計M2へ試料が供給されるため、外気との接触も抑制することができる。 In this way, the sample is automatically supplied to the electrical conductivity meter M1 and the pH meter M2 under the control of the analysis processing section 51, so that automatic measurement can be performed. Furthermore, since the sample is supplied to the electrical conductivity meter M1 and the pH meter M2 through each pipe, contact with the outside air can also be suppressed.

校正処理部52は、pH計M2の校正のために制御を行う。具体的には、校正処理部52は、pH計M2の校正を行う場合に、校正液用タンク(T3~T5)から校正液を所定のタイミングでpH計M2へ供給する。所定のタイミングとは構成を開始するために予め設定されたタイミングであり、周期的に行う場合には予め校正周期を設定しておくこととしてもよい。 The calibration processing unit 52 performs control for calibration of the pH meter M2. Specifically, when calibrating the pH meter M2, the calibration processing unit 52 supplies the calibration liquid from the calibration liquid tank (T3 to T5) to the pH meter M2 at a predetermined timing. The predetermined timing is a timing set in advance to start the configuration, and if it is performed periodically, a calibration cycle may be set in advance.

図8は校正を行う場合の分析システム40の校正液の流れを示す図である。なお図8ではタンクT3の校正液を用いる場合を例とする。校正処理部52は、バルブSV6とを開として、図8の太線として示すようにタンクT3の校正液をpH計M2(pH用タンクC3)へ流通させる。pH計M2への校正液は、ポンプP1が制御されることによりタンクT3から供給される。校正液はpH計M2を介して廃液タンクT1へ排出される。なお、その他のバルブ及びポンプは閉(または停止)となっていることが好ましい。 FIG. 8 is a diagram showing the flow of the calibration solution in the analysis system 40 when performing calibration. In addition, in FIG. 8, the case where the calibration liquid of tank T3 is used is taken as an example. The calibration processing unit 52 opens the valve SV6 and allows the calibration solution in the tank T3 to flow to the pH meter M2 (pH tank C3) as shown by the bold line in FIG. The calibration liquid to the pH meter M2 is supplied from the tank T3 by controlling the pump P1. The calibration liquid is discharged to the waste liquid tank T1 via the pH meter M2. Note that other valves and pumps are preferably closed (or stopped).

そして、校正処理部52は、校正液がpH計M2へ供給されている状態においてpH計M2を校正する。具体的には、校正処理部52は、供給された校正液を計測中のpH計M2の計測結果が、該校正液の既知pH値となるようにpH計M2を校正する。pH計M2の具体的な校正方法については限定されない。 Then, the calibration processing unit 52 calibrates the pH meter M2 while the calibration solution is being supplied to the pH meter M2. Specifically, the calibration processing unit 52 calibrates the pH meter M2 so that the measurement result of the pH meter M2 that is measuring the supplied calibration solution becomes the known pH value of the calibration solution. There is no limitation on the specific method of calibrating the pH meter M2.

所定のタイミングで校正液がpH計M2へ供給されてpH計M2が校正されるため、pH計M2の自動校正が行われる。このため、定期的に校正が必要なpH計M2を手動で校正する手間が抑えられる。校正が終了すると、校正液はラインL4を介して排出される。 Since the calibration solution is supplied to the pH meter M2 at a predetermined timing and the pH meter M2 is calibrated, automatic calibration of the pH meter M2 is performed. Therefore, the effort of manually calibrating the pH meter M2, which requires periodic calibration, can be reduced. When the calibration is completed, the calibration liquid is discharged via line L4.

補充処理部53は、pH計M2における内部比較液の補充を行う。前述のようにpH計M2では比較電極を用いる必要があるが比較電極の内部比較液は減少していく。このため、補充処理部53は、内部比較液が所定量(必要量)を維持するように、内部比較液をpH計M2の比較電極へ供給する。具体的には、比較液タンクT6から内部比較液(KCl)を比較電極へ供給する。なお、内部比較液の量がしきい値を下回った場合に所定量の内部比較液を補充することとしてもよい。 The replenishment processing unit 53 replenishes the internal comparison liquid in the pH meter M2. As mentioned above, it is necessary to use a comparison electrode in the pH meter M2, but the internal comparison liquid in the comparison electrode decreases. Therefore, the replenishment processing unit 53 supplies the internal comparison liquid to the reference electrode of the pH meter M2 so that the internal comparison liquid maintains a predetermined amount (required amount). Specifically, the internal comparison liquid (KCl) is supplied to the comparison electrode from the comparison liquid tank T6. Note that a predetermined amount of internal comparison liquid may be replenished when the amount of internal comparison liquid is less than a threshold value.

洗浄処理部54は、洗浄のために制御を行う。具体的には、洗浄処理部54は、洗浄を行う場合に、洗浄対象の機器へ純水を供給する。図9では、pH計M2(及びpH用タンクC3)を洗浄する場合を一例として説明する。すなわち、洗浄処理部54は、バルブSV5とを開として、図9の太線として示すように純水タンクT2の純水をpH計M2(pH用タンクC3)へ流通させる。pH計M2への純水は、ポンプP1が制御されることにより純水タンクT2から供給される。純水はpH計M2を介して廃液タンクT1へ排出される。なお、その他のバルブ及びポンプは閉(または停止)となっていることが好ましい。 The cleaning processing section 54 performs control for cleaning. Specifically, when performing cleaning, the cleaning processing unit 54 supplies pure water to the equipment to be cleaned. In FIG. 9, a case where the pH meter M2 (and pH tank C3) is cleaned will be explained as an example. That is, the cleaning processing unit 54 opens the valve SV5 and allows the pure water in the pure water tank T2 to flow to the pH meter M2 (pH tank C3) as shown by the thick line in FIG. Pure water to the pH meter M2 is supplied from the pure water tank T2 by controlling the pump P1. The pure water is discharged to the waste liquid tank T1 via the pH meter M2. Note that other valves and pumps are preferably closed (or stopped).

なお、洗浄対象はpH計M2に限定されず、他の機器を対象としてもよい。他の機器を洗浄対象とする場合であっても、上記と同様に純水が供給される。 Note that the object to be cleaned is not limited to the pH meter M2, and other equipment may be the object. Even when other equipment is to be cleaned, pure water is supplied in the same way as above.

洗浄処理部54によって純水の供給制御がされるため、洗浄を自動的に行うことができる。純水はラインL4を介して排出される。 Since the supply of pure water is controlled by the cleaning processing section 54, cleaning can be performed automatically. Pure water is discharged via line L4.

分析処理、校正処理、及び洗浄処理についてはそれぞれ異なるタイミングで実行されることが好ましいが、並列して処理が可能な場合には並列して処理が実行されてもよい。 Although it is preferable that the analysis process, the calibration process, and the cleaning process be executed at different timings, the processes may be executed in parallel if they can be executed in parallel.

分析結果取得部55は、pH計M2及び電気伝導率計M1から計測結果を取得する。取得した計測結果は表示等により通知が行われることとしてもよいし、例えば遠隔のデバイスで自動送信されることとしてもよい。本実施形態では、計測結果は後述する通知システムへ送られる。 The analysis result acquisition unit 55 acquires measurement results from the pH meter M2 and the electrical conductivity meter M1. The acquired measurement results may be notified by display or the like, or may be automatically transmitted by a remote device, for example. In this embodiment, the measurement results are sent to a notification system that will be described later.

次に、上述の制御装置50による校正処理の一例について図10を参照して説明する。図10は、本実施形態に係る校正処理の手順の一例を示すフローチャートである。図10に示すフローは、例えば、校正を実施する所定のタイミングで実行される。図10に示すフローは、校正を実施するために予め設定された周期で実行されてもよい。 Next, an example of the calibration process by the above-mentioned control device 50 will be described with reference to FIG. 10. FIG. 10 is a flowchart illustrating an example of the procedure of the calibration process according to this embodiment. The flow shown in FIG. 10 is executed, for example, at a predetermined timing for performing calibration. The flow shown in FIG. 10 may be executed at preset intervals to perform calibration.

まず、分析処理を実行している場合には、分析処理を停止する(S101)。すなわち、試料がpH計M2へ流通している場合にはバルブ等を制御して試料の流通を停止させる。 First, if the analysis process is being executed, the analysis process is stopped (S101). That is, when the sample is flowing to the pH meter M2, the valve or the like is controlled to stop the sample from flowing.

次に、pH計M2に対して洗浄処理を実行する(S102)。すなわち、純水をpH計M2へ流通させて、試料を洗い流す。 Next, a cleaning process is performed on the pH meter M2 (S102). That is, pure water is passed through the pH meter M2 to wash away the sample.

次に、校正液をpH計M2へ供給する(S103)。例えば図8のように各バルブ等を制御して、タンクT3の校正液をpH計M2へ供給する。 Next, the calibration solution is supplied to the pH meter M2 (S103). For example, as shown in FIG. 8, by controlling each valve, etc., the calibration solution in the tank T3 is supplied to the pH meter M2.

次に、校正液がpH計M2へ供給されている状態において、pH計M2の校正を実行する(S104)。 Next, while the calibration solution is being supplied to the pH meter M2, the pH meter M2 is calibrated (S104).

このようにして、pH計M2へ校正液が供給されて校正が実行される。校正液が複数ある場合には、S102からS104の処理を校正液の種類を変えて実行することとしてもよい。 In this way, the calibration solution is supplied to the pH meter M2 and calibration is executed. If there are multiple calibration liquids, the processes from S102 to S104 may be performed by changing the type of calibration liquid.

図10ではS102において洗浄処理を行っているが、洗浄が不要な場合にはS102の処理を省略することとしてもよい。 In FIG. 10, the cleaning process is performed in S102, but if cleaning is not necessary, the process in S102 may be omitted.

次に、上述の制御装置50による洗浄処理の一例について図11を参照して説明する。図11は、本実施形態に係る洗浄処理の手順の一例を示すフローチャートである。図11に示すフローは、例えば、洗浄を実施する所定のタイミングで実行される。図11に示すフローは、洗浄を実施するために予め設定された周期で実行されてもよい。図11ではpH計M2を洗浄する場合について説明するが、他の機器を洗浄対象とする場合も同様に適用される。 Next, an example of the cleaning process by the above-mentioned control device 50 will be described with reference to FIG. 11. FIG. 11 is a flowchart illustrating an example of the procedure of the cleaning process according to the present embodiment. The flow shown in FIG. 11 is executed, for example, at a predetermined timing when cleaning is performed. The flow shown in FIG. 11 may be executed at preset intervals to perform cleaning. Although the case of cleaning the pH meter M2 will be described in FIG. 11, the same applies to cases where other equipment is to be cleaned.

まず、分析処理を実行している場合には、分析処理を停止する(S201)。すなわち、試料がpH計M2へ流通している場合にはバルブ等を制御して試料の流通を停止させる。 First, if the analysis process is being executed, the analysis process is stopped (S201). That is, when the sample is flowing to the pH meter M2, the valve or the like is controlled to stop the sample from flowing.

次に、校正処理を実行している場合には、校正処理を停止する(S202)。すなわち、校正液がpH計M2へ流通している場合にはバルブ等を制御して校正液の流通を停止させる。 Next, if the calibration process is being executed, the calibration process is stopped (S202). That is, when the calibration solution is flowing to the pH meter M2, the valve or the like is controlled to stop the flow of the calibration solution.

次に、洗浄液をpH計M2へ供給する(S203)。例えば図9のように各バルブ等を制御して、純水タンクT2の純水をpH計M2へ供給する。すなわち、純水をpH計M2へ流通させて、試料を洗い流す。 Next, the cleaning liquid is supplied to the pH meter M2 (S203). For example, as shown in FIG. 9, each valve etc. are controlled to supply pure water from the pure water tank T2 to the pH meter M2. That is, pure water is passed through the pH meter M2 to wash away the sample.

以上説明したように、本実施形態に係る分析システム及び管理システム、並びに分析方法、並びに分析プログラムによれば、pH計M2と、pH値が既知の校正液が溜められたタンクが設けられており、所定周期で校正液がpH計M2へ供給されてpH計M2が校正されるため、pH計M2の自動校正が行われる。このため、定期的に校正が必要なpH計M2を手動で校正する手間が抑えられる。 As explained above, according to the analysis system, management system, analysis method, and analysis program according to the present embodiment, a pH meter M2 and a tank containing a calibration solution with a known pH value are provided. , the calibration solution is supplied to the pH meter M2 at a predetermined period to calibrate the pH meter M2, so that automatic calibration of the pH meter M2 is performed. Therefore, the effort of manually calibrating the pH meter M2, which requires periodic calibration, can be reduced.

pH値の異なる校正液が複数設けられることによって、複数のpH値に対応して校正を行うことができ、pH計M2を精度よく校正することができる。 By providing a plurality of calibration solutions with different pH values, calibration can be performed corresponding to a plurality of pH values, and the pH meter M2 can be calibrated with high accuracy.

電気伝導率の計測では試料に不純物が混入しにくいが、pHの計測では例えば比較液(KCl等)といった不純物が試料に混入する場合がある。このため、電気伝導率の後にpHを計測する順番とすることで、より正確に、電気伝導率とpHの連続計測が可能となる。 When measuring electrical conductivity, it is difficult for impurities to get mixed into the sample, but when measuring pH, impurities such as a comparison liquid (KCl, etc.) may get mixed into the sample. Therefore, by measuring the pH after the electrical conductivity, continuous measurement of the electrical conductivity and pH becomes possible more accurately.

電気伝導率計M1とpH計M2の間に試料を溜める中間タンクC2が設けられることによって、電気伝導率の計測で試料が帯電した場合でもpH計M2測を行う前に放電することができる。このため、より正確にpH計M2測を行うことが可能となる。 By providing an intermediate tank C2 for storing a sample between the electrical conductivity meter M1 and the pH meter M2, even if the sample is charged during electrical conductivity measurement, it can be discharged before measuring the pH meter M2. Therefore, it becomes possible to perform pH meter M2 measurement more accurately.

〔第2実施形態〕
次に、本開示の第2実施形態に係る分析システム及び管理システム、並びに分析方法、並びに分析プログラムについて説明する。
本実施形態では、試料の液性を自動調整する場合について説明する。以下、本実施形態に係る分析システム及び管理システム、並びに分析方法、並びに分析プログラムについて、第1実施形態と異なる点について主に説明する。
[Second embodiment]
Next, an analysis system, a management system, an analysis method, and an analysis program according to a second embodiment of the present disclosure will be described.
In this embodiment, a case will be described in which the liquid properties of a sample are automatically adjusted. Hereinafter, the analysis system, management system, analysis method, and analysis program according to this embodiment will be mainly described with respect to the differences from the first embodiment.

本実施形態に係る管理システムは、図12に示すように処理槽122に適用される。図2と同様に、処理槽122に対して循環システム130と分析システム40とが接続されている。そして、処理槽122には調整システム160が接続されている。すなわち、分析システム40と調整システム160とで管理システムが構成される。 The management system according to this embodiment is applied to the processing tank 122 as shown in FIG. 12. Similar to FIG. 2, a circulation system 130 and an analysis system 40 are connected to the processing tank 122. An adjustment system 160 is connected to the processing tank 122. That is, the analysis system 40 and the adjustment system 160 constitute a management system.

調整システム160は、分析システム40における計測結果を取得し、計測結果に基づいて試料に対してpH及び電気伝導率の少なくともいずれか1方を調整する。調整システム160は、図12に示すように、薬品タンク163と、純水タンク162と、添加制御装置161とが設けられている。 The adjustment system 160 acquires the measurement results from the analysis system 40, and adjusts at least one of pH and electrical conductivity of the sample based on the measurement results. As shown in FIG. 12, the adjustment system 160 includes a chemical tank 163, a pure water tank 162, and an addition control device 161.

薬品タンク163は、pH調整薬液が貯留されている。そして、薬品タンク163は、供給ラインW1によって処理槽122と接続されている。すなわち、pH調整薬液は処理槽122の処理液に対して添加される。供給ラインW1には、電磁弁(不図示)と、流量計(不図示)と、ポンプ(不図示)とが設けられている。電磁弁とポンプは後述する添加制御装置161によって制御される。流量計の計測結果は添加制御装置161へ送信される。 The chemical tank 163 stores a pH adjusting chemical solution. The chemical tank 163 is connected to the processing tank 122 by a supply line W1. That is, the pH adjusting chemical solution is added to the processing liquid in the processing tank 122. The supply line W1 is provided with a solenoid valve (not shown), a flow meter (not shown), and a pump (not shown). The solenoid valve and pump are controlled by an addition control device 161, which will be described later. The measurement results of the flowmeter are transmitted to the addition control device 161.

純水タンク162は、純水が貯留されている。そして、純水タンク162は、供給ラインW2によって処理槽122と接続されている。すなわち、純水は処理槽122の処理液に対して添加される。供給ラインW2には、電磁弁(不図示)と、流量計(不図示)と、ポンプ(不図示)とが設けられている。電磁弁とポンプは後述する添加制御装置161によって制御される。流量計の計測結果は添加制御装置161へ送信される。 The pure water tank 162 stores pure water. The pure water tank 162 is connected to the processing tank 122 by a supply line W2. That is, pure water is added to the processing liquid in the processing tank 122. The supply line W2 is provided with a solenoid valve (not shown), a flow meter (not shown), and a pump (not shown). The solenoid valve and pump are controlled by an addition control device 161, which will be described later. The measurement results of the flowmeter are transmitted to the addition control device 161.

添加制御装置161は、分析システム40の計測結果に基づいて添加量を制御する。例えば制御装置50と同様に図5に示すようなコンピュータシステム(計算機システム)で構成される。制御装置50と添加制御装置161とは、異なるコンピュータシステムにより構成されることとしてもよいし、1つのコンピュータシステムに集約することとしてもよい。 The addition control device 161 controls the amount of addition based on the measurement results of the analysis system 40. For example, like the control device 50, it is constituted by a computer system (computer system) as shown in FIG. The control device 50 and the addition control device 161 may be configured by different computer systems, or may be integrated into one computer system.

添加制御装置161は、pH調整薬液の投入量を調整することによってpHを調整する。pH調整薬液を投入することによって処理液のpHを所定の基準範囲内に収まるように制御する。例えば、pHが基準範囲の上限を上回った場合には、pHを所定値分下げるようにpH調整薬液が投入される。pHが基準範囲の下限を下回った場合には、pHを所定値分上げるようにpH調整薬液が投入される。例えば電磁弁を開として流量計で投入量をみながらポンプで投入を行う。pHの調整方法については、上記に限定されない。例えば、検出されたpHの値に応じて投入量を決定することとしてもよい。 The addition control device 161 adjusts the pH by adjusting the input amount of the pH adjusting chemical solution. The pH of the treatment liquid is controlled to fall within a predetermined reference range by introducing a pH adjusting chemical solution. For example, when the pH exceeds the upper limit of the reference range, a pH adjusting chemical solution is introduced to lower the pH by a predetermined value. When the pH is below the lower limit of the reference range, a pH adjusting chemical solution is injected to raise the pH by a predetermined value. For example, open the solenoid valve and use a pump to charge the fluid while monitoring the flow rate using a flow meter. The method for adjusting pH is not limited to the above. For example, the amount to be added may be determined depending on the detected pH value.

添加制御装置161は、純水の投入量を調整することによって電気伝導率を調整する。電気伝導率は高い場合に異常となるため、純水を添加して希釈することによって電気伝導率を下げる。例えば、電気伝導率が基準範囲の上限を上回った場合には、電気伝導率を所定値分下げるように純水が投入される。例えば電磁弁を開として流量計で投入量をみながらポンプで投入を行う。電気伝導率の調整方法については、上記に限定されない。例えば、検出された電気伝導率の値に応じて投入量を決定することとしてもよい。 The addition control device 161 adjusts the electrical conductivity by adjusting the amount of pure water added. If the electrical conductivity is high, it becomes abnormal, so the electrical conductivity is lowered by adding pure water to dilute it. For example, when the electrical conductivity exceeds the upper limit of the reference range, pure water is added to lower the electrical conductivity by a predetermined value. For example, open the solenoid valve and use a pump to charge the fluid while monitoring the flow rate using a flow meter. The method of adjusting electrical conductivity is not limited to the above. For example, the input amount may be determined according to the detected value of electrical conductivity.

管理システムには、通知システム(不図示)を設けることとしてもよい。通知システムは、分析システム40から計測結果を取得して、計測結果が予め設定した管理基準範囲内でない場合に、異常を通知する。通知は、表面処理ライン120が設けられた設備内に行うこととしてもよいし、遠隔の設備に情報を送信して行うこととしてもよい。管理基準範囲から外れた場合には異常を通知することで、異常状態が放置されてしまうことを抑制することができる。 The management system may include a notification system (not shown). The notification system acquires measurement results from the analysis system 40 and notifies an abnormality when the measurement results are not within a preset management reference range. The notification may be made within the facility where the surface treatment line 120 is installed, or may be made by transmitting information to a remote facility. By notifying an abnormality when it deviates from the management standard range, it is possible to prevent the abnormal state from being left unaddressed.

図13は、本実施形態に係る管理システムを生産ラインに適用した場合の全体構成例である。図13のように、生産ラインにおける管理対象処理槽から試料を採取し、分析システム40で分析を行う。そして、調整システム160において薬液等の自動投入を行う。このようにして、各管理対象処理槽における処理液の管理を行う。 FIG. 13 is an example of the overall configuration when the management system according to this embodiment is applied to a production line. As shown in FIG. 13, a sample is taken from a managed processing tank in a production line and analyzed by an analysis system 40. Then, the adjustment system 160 performs automatic injection of chemical solutions and the like. In this way, the processing liquid in each managed processing tank is managed.

以上説明したように、本実施形態に係る分析システム及び管理システム、並びに分析方法、並びに分析プログラムによれば、計測結果に基づいてpH及び電気伝導率の少なくともいずれか1方が調整されることで、試料の液性を自動調整することができる。これによって作業員等による人的ミスや作業時間の短縮が可能となる。 As explained above, according to the analysis system, management system, analysis method, and analysis program according to the present embodiment, at least one of pH and electrical conductivity is adjusted based on the measurement results. , the liquid properties of the sample can be automatically adjusted. This makes it possible to reduce human errors by workers and reduce work time.

本開示は、上述の実施形態のみに限定されるものではなく、発明の要旨を逸脱しない範囲において、種々変形実施が可能である。なお、各実施形態を組み合わせることも可能である。 The present disclosure is not limited to the above-described embodiments, and various modifications can be made without departing from the gist of the invention. Note that it is also possible to combine each embodiment.

以上説明した各実施形態に記載の分析システム及び管理システム、並びに分析方法、並びに分析プログラムは例えば以下のように把握される。
本開示に係る分析システム(40)は、試料のpHを計測するpH計(M2)と、所定のpH値の校正液が溜められたタンク(T3、T4、T5)と、前記タンク(T3、T4、T5)から前記校正液を所定のタイミングで前記pH計(M2)へ供給し、前記校正液が前記pH計(M2)へ供給されている状態において前記pH計(M2)を校正する制御装置(50)と、を備える。
The analysis system, management system, analysis method, and analysis program described in each of the embodiments described above can be understood, for example, as follows.
The analysis system (40) according to the present disclosure includes a pH meter (M2) that measures the pH of a sample, tanks (T3, T4, T5) in which a calibration solution with a predetermined pH value is stored, and the tanks (T3, T5). control to supply the calibration solution from T4, T5) to the pH meter (M2) at a predetermined timing, and calibrate the pH meter (M2) while the calibration solution is being supplied to the pH meter (M2); A device (50).

本開示に係る分析システム(40)によれば、pH計(M2)と、pH値が既知の校正液が溜められたタンク(T3、T4、T5)が設けられており、所定のタイミングで校正液がpH計(M2)へ供給されてpH計(M2)が校正されるため、pH計(M2)の自動校正が行われる。このため、定期的に校正が必要なpH計(M2)を手動で校正する手間が抑えられる。 According to the analysis system (40) according to the present disclosure, a pH meter (M2) and tanks (T3, T4, T5) in which a calibration solution with a known pH value is stored are provided, and calibration is performed at a predetermined timing. Since the liquid is supplied to the pH meter (M2) and the pH meter (M2) is calibrated, automatic calibration of the pH meter (M2) is performed. Therefore, the effort of manually calibrating the pH meter (M2), which requires periodic calibration, can be reduced.

本開示に係る分析システム(40)は、前記タンク(T3、T4、T5)はpH値の異なる複数の校正液に対応してそれぞれ設けられていることとしてもよい。 In the analysis system (40) according to the present disclosure, the tanks (T3, T4, T5) may be provided respectively corresponding to a plurality of calibration solutions having different pH values.

本開示に係る分析システム(40)によれば、pH値の異なる校正液が複数設けられることによって、複数のpH値に対応して校正を行うことができ、pH計(M2)を精度よく校正することができる。 According to the analysis system (40) according to the present disclosure, by providing a plurality of calibration solutions with different pH values, calibration can be performed corresponding to a plurality of pH values, and the pH meter (M2) can be calibrated with high accuracy. can do.

本開示に係る分析システム(40)は、前記試料の電気伝導率を計測する電気伝導率計(M1)を備え、前記pH計(M2)は、前記試料の流通経路において前記電気伝導率計(M1)の下流側に設けられており、前記制御装置(50)は、前記試料に対する計測を行う場合に、前記試料を前記流通経路へ流通させることとしてもよい。 The analysis system (40) according to the present disclosure includes an electrical conductivity meter (M1) that measures the electrical conductivity of the sample, and the pH meter (M2) is connected to the electrical conductivity meter (M1) in the distribution route of the sample. M1), and the control device (50) may cause the sample to flow through the distribution path when measuring the sample.

電気伝導率の計測では試料に不純物が混入しにくいが、pHの計測では例えば比較液(KCl等)といった不純物が試料に混入する場合がある。このため、電気伝導率の後にpHを計測する順番とすることで、より正確に、電気伝導率とpHの連続計測が可能となる。 When measuring electrical conductivity, it is difficult for impurities to get mixed into the sample, but when measuring pH, impurities such as a comparison liquid (KCl, etc.) may get mixed into the sample. Therefore, by measuring the pH after the electrical conductivity, continuous measurement of the electrical conductivity and pH becomes possible more accurately.

本開示に係る分析システム(40)は、前記試料の流通経路における前記電気伝導率計(M1)と前記pH計(M2)の間に設けられており、前記試料を溜める中間タンク(C2)を備えることとしてもよい。 The analysis system (40) according to the present disclosure is provided between the electrical conductivity meter (M1) and the pH meter (M2) in the sample distribution path, and includes an intermediate tank (C2) for storing the sample. It is also a good idea to prepare.

本開示に係る分析システム(40)によれば、電気伝導率計(M1)とpH計(M2)の間に試料を溜める中間タンク(C2)が設けられることによって、電気伝導率の計測で試料が帯電した場合でもpH計(M2)測を行う前に放電することができる。このため、より正確にpH計(M2)測を行うことが可能となる。 According to the analysis system (40) according to the present disclosure, the intermediate tank (C2) for storing a sample is provided between the electrical conductivity meter (M1) and the pH meter (M2), so that the sample can be measured in the measurement of electrical conductivity. Even if it is charged, it can be discharged before measuring with the pH meter (M2). For this reason, it becomes possible to perform pH meter (M2) measurement more accurately.

本開示に係る分析システム(40)は、前記中間タンク(C2)において、前記試料は所定時間以上滞留されることとしてもよい。 In the analysis system (40) according to the present disclosure, the sample may be retained in the intermediate tank (C2) for a predetermined period of time or more.

本開示に係る分析システム(40)によれば、電気伝導率の計測で試料が帯電している場合であっても、pH計(M2)測を行う前に効果的に放電を行うことが可能となる。 According to the analysis system (40) according to the present disclosure, even if the sample is charged during electrical conductivity measurement, it is possible to effectively discharge the sample before performing pH meter (M2) measurement. becomes.

本開示に係る分析システム(40)は、前記pH計(M2)は、内部比較液を用いたガラス電極法によりpH計(M2)測を行い、前記制御装置(50)は、前記pH計(M2)における前記内部比較液が所定量を維持するように、前記内部比較液を前記pH計(M2)へ供給することとしてもよい。 In the analysis system (40) according to the present disclosure, the pH meter (M2) performs pH measurement by a glass electrode method using an internal comparison liquid, and the control device (50) The internal comparison liquid may be supplied to the pH meter (M2) so that the internal comparison liquid in M2) maintains a predetermined amount.

本開示に係る分析システム(40)によれば、pH計(M2)が内部比較液を用いたガラス電極法を用いる場合には測定を行うために所定量の内部比較液が必要であるが、制御装置(50)によって所定量を維持するように内部比較液がpH計(M2)へ供給されるため、pH計(M2)を用いて安定的に計測を行うことができる。そして、手動で内部比較液を補充する手間が抑えられる。 According to the analysis system (40) according to the present disclosure, when the pH meter (M2) uses a glass electrode method using an internal comparison liquid, a predetermined amount of internal comparison liquid is required to perform measurement; Since the internal comparison liquid is supplied to the pH meter (M2) so as to maintain a predetermined amount by the control device (50), stable measurement can be performed using the pH meter (M2). In addition, the effort of manually replenishing the internal comparison liquid can be reduced.

本開示に係る管理システムは、上記の分析システム(40)と、前記分析システム(40)における計測結果を取得し、前記計測結果に基づいて前記試料に対してpH及び電気伝導率の少なくともいずれか1方を調整する調整システム(160)と、を備える。 A management system according to the present disclosure acquires the above analysis system (40) and measurement results in the analysis system (40), and determines at least one of pH and electrical conductivity for the sample based on the measurement results. and an adjustment system (160) for adjusting one side.

本開示に係る管理システムによれば、計測結果に基づいてpH及び電気伝導率の少なくともいずれか1方が調整されることで、試料の液性を自動調整することができる。 According to the management system according to the present disclosure, the liquid properties of the sample can be automatically adjusted by adjusting at least one of the pH and the electrical conductivity based on the measurement results.

本開示に係る管理システムは、前記調整システム(160)は、pH調整薬液の投入量を調整することによってpHを調整することとしてもよい。 In the management system according to the present disclosure, the adjustment system (160) may adjust the pH by adjusting the input amount of the pH adjustment chemical solution.

本開示に係る管理システムによれば、pH調整薬液によってpHを調整することができる。 According to the management system according to the present disclosure, pH can be adjusted using a pH adjusting chemical solution.

本開示に係る管理システムは、前記調整システム(160)は、純水の投入量を調整することによって電気伝導率を調整することとしてもよい。 In the management system according to the present disclosure, the adjustment system (160) may adjust the electric conductivity by adjusting the input amount of pure water.

本開示に係る管理システムによれば、純水によって電気伝導率を調整することができる。 According to the management system according to the present disclosure, electrical conductivity can be adjusted using pure water.

本開示に係る管理システムは、前記計測結果が予め設定した管理基準範囲内でない場合に、異常を通知する通知システムを備えることとしてもよい。 The management system according to the present disclosure may include a notification system that notifies an abnormality when the measurement result is not within a preset management reference range.

本開示に係る管理システムによれば、管理基準範囲から外れた場合には異常を通知することで、異常状態が放置されてしまうことを抑制することができる。 According to the management system according to the present disclosure, by notifying an abnormality when it deviates from the management reference range, it is possible to prevent an abnormal state from being left untreated.

本開示に係る分析システム(40)は、試料の電気伝導率を計測する電気伝導率計(M1)と、前記試料の流通経路において前記電気伝導率計(M1)の下流側に設けられ、前記試料のpHを計測するpH計(M2)と、前記試料に対する計測を行う場合に、前記試料を前記流通経路へ流通させる制御装置(50)と、を備える。 An analysis system (40) according to the present disclosure includes an electrical conductivity meter (M1) that measures the electrical conductivity of a sample, and is provided downstream of the electrical conductivity meter (M1) in a distribution path of the sample; It includes a pH meter (M2) that measures the pH of a sample, and a control device (50) that causes the sample to flow through the distribution channel when measuring the sample.

電気伝導率の計測では試料に不純物が混入しにくいが、pHの計測では例えば比較液(KCl等)といった不純物が試料に混入する場合がある。このため、電気伝導率の後にpHを計測する順番とすることで、より正確に、電気伝導率とpHの連続計測が可能となる。 When measuring electrical conductivity, it is difficult for impurities to get mixed into the sample, but when measuring pH, impurities such as a comparison liquid (KCl, etc.) may get mixed into the sample. Therefore, by measuring the pH after the electrical conductivity, continuous measurement of the electrical conductivity and pH becomes possible more accurately.

本開示に係る分析システム(40)は、内部比較液を用いたガラス電極法により試料のpHを計測するpH計(M2)と、前記pH計(M2)における前記内部比較液が所定量を維持するように、前記内部比較液を前記pH計(M2)へ供給する制御装置(50)と、を備える。 The analysis system (40) according to the present disclosure includes a pH meter (M2) that measures the pH of a sample by a glass electrode method using an internal comparison liquid, and a pH meter (M2) in which the internal comparison liquid maintains a predetermined amount. and a control device (50) for supplying the internal comparison liquid to the pH meter (M2).

本開示に係る分析システム(40)によれば、pH計(M2)が内部比較液を用いたガラス電極法を用いる場合には測定を行うために所定量の内部比較液が必要であるが、制御装置(50)によって所定量を維持するように内部比較液がpH計(M2)へ供給されるため、pH計(M2)を用いて安定的に計測を行うことができる。そして、手動で内部比較液を補充する手間が抑えられる。 According to the analysis system (40) according to the present disclosure, when the pH meter (M2) uses a glass electrode method using an internal comparison liquid, a predetermined amount of internal comparison liquid is required to perform measurement; Since the internal comparison liquid is supplied to the pH meter (M2) so as to maintain a predetermined amount by the control device (50), stable measurement can be performed using the pH meter (M2). In addition, the effort of manually replenishing the internal comparison liquid can be reduced.

本開示に係る分析方法は、試料のpHを計測するpH計(M2)と、所定のpH値の校正液が溜められたタンク(T3、T4、T5)とを備える分析システム(40)の分析方法であって、前記タンク(T3、T4、T5)から前記校正液を所定のタイミングで前記pH計(M2)へ供給する工程と、前記校正液が前記pH計(M2)へ供給されている状態において前記pH計(M2)を校正する工程と、を有する。 The analysis method according to the present disclosure includes an analysis system (40) that includes a pH meter (M2) that measures the pH of a sample, and tanks (T3, T4, T5) in which a calibration solution with a predetermined pH value is stored. A method comprising: supplying the calibration solution from the tank (T3, T4, T5) to the pH meter (M2) at a predetermined timing; and supplying the calibration solution to the pH meter (M2). calibrating the pH meter (M2) in the state.

本開示に係る分析プログラムは、試料のpHを計測するpH計(M2)と、所定のpH値の校正液が溜められたタンク(T3、T4、T5)とを備える分析システム(40)の分析プログラムであって、前記タンク(T3、T4、T5)から前記校正液を所定のタイミングで前記pH計(M2)へ供給する処理と、前記校正液が前記pH計(M2)へ供給されている状態において前記pH計(M2)を校正する処理と、をコンピュータに実行させる。 The analysis program according to the present disclosure is an analysis system (40) that includes a pH meter (M2) that measures the pH of a sample, and tanks (T3, T4, T5) in which a calibration solution with a predetermined pH value is stored. The program includes a process of supplying the calibration solution from the tanks (T3, T4, T5) to the pH meter (M2) at a predetermined timing, and supplying the calibration solution to the pH meter (M2). The computer is caused to perform a process of calibrating the pH meter (M2) in the state.

11 :CPU
12 :ROM
13 :RAM
14 :ハードディスクドライブ
15 :通信部
18 :バス
40 :分析システム
50 :制御装置
51 :分析処理部
52 :校正処理部
53 :補充処理部
54 :洗浄処理部
55 :分析結果取得部
120 :表面処理ライン
121 :クレーン
122 :処理槽
122a :硼酸硫酸処理槽
122b :1次水洗処理槽
122c :2次水洗処理槽
123 :対象部品
130 :循環システム
131 :ポンプ
132 :ストレーナー
133 :循環ライン
134 :迂回ライン
135 :採取ライン
160 :調整システム
161 :添加制御装置
162 :純水タンク
163 :薬品タンク
C1 :EC用タンク
C2 :中間タンク
C3 :pH用タンク
E1 :廃水ピット
L1~L13:ライン
M1 :電気伝導率計
M2 :pH計
P1~P2:ポンプ
SV1~SV9:バルブ
T1 :廃液タンク
T2 :純水タンク
T3~T5:タンク
T6 :比較液タンク
V1 :入口バルブ
W1 :供給ライン
W2 :供給ライン
Z1 :ガラス電極
Z2 :比較電極
Z3 :ガラス薄膜
Z4 :内部電極
Z5 :液絡部
Z6 :内部電極
11: CPU
12:ROM
13: RAM
14: Hard disk drive 15: Communication section 18: Bus 40: Analysis system 50: Control device 51: Analysis processing section 52: Calibration processing section 53: Replenishment processing section 54: Cleaning processing section 55: Analysis result acquisition section 120: Surface treatment line 121: Crane 122: Processing tank 122a: Boric acid/sulfuric acid processing tank 122b: Primary washing processing tank 122c: Secondary washing processing tank 123: Target parts 130: Circulation system 131: Pump 132: Strainer 133: Circulation line 134: Detour line 135 : Collection line 160 : Adjustment system 161 : Addition control device 162 : Pure water tank 163 : Chemical tank C1 : EC tank C2 : Intermediate tank C3 : pH tank E1 : Waste water pit L1 to L13 : Line M1 : Electrical conductivity meter M2: pH meter P1-P2: Pump SV1-SV9: Valve T1: Waste liquid tank T2: Pure water tank T3-T5: Tank T6: Comparison liquid tank V1: Inlet valve W1: Supply line W2: Supply line Z1: Glass electrode Z2 : Reference electrode Z3 : Glass thin film Z4 : Internal electrode Z5 : Liquid junction Z6 : Internal electrode

Claims (11)

試料のpHを計測するpH計と、
所定のpH値の校正液が溜められたタンクと、
前記タンクから前記校正液を所定のタイミングで前記pH計へ供給し、前記校正液が前記pH計へ供給されている状態において前記pH計を校正する制御装置と、
前記試料の電気伝導率を計測する電気伝導率計と、
前記試料の流通経路における前記電気伝導率計と前記pH計の間に設けられており、前記試料を溜める中間タンクと
を備え、
前記pH計は、前記試料の流通経路において前記電気伝導率計の下流側に設けられており、
前記制御装置は、前記試料に対する計測を行う場合に、前記試料を前記流通経路へ流通させる分析システム。
A pH meter that measures the pH of the sample;
A tank containing a calibration solution with a predetermined pH value;
a control device that supplies the calibration solution from the tank to the pH meter at a predetermined timing and calibrates the pH meter while the calibration solution is being supplied to the pH meter;
an electrical conductivity meter that measures the electrical conductivity of the sample;
an intermediate tank provided between the electrical conductivity meter and the pH meter in the sample distribution path, and for storing the sample;
Equipped with
The pH meter is provided downstream of the electrical conductivity meter in the sample distribution path,
The control device is an analysis system that distributes the sample to the distribution channel when performing measurement on the sample .
前記タンクは、pH値の異なる複数の校正液に対応してそれぞれ設けられている請求項1に記載の分析システム。 The analysis system according to claim 1, wherein the tanks are provided respectively corresponding to a plurality of calibration solutions having different pH values. 前記中間タンクにおいて、前記試料は所定時間以上滞留される請求項に記載の分析システム。 The analysis system according to claim 1 , wherein the sample is retained in the intermediate tank for a predetermined time or longer. 前記pH計は、内部比較液を用いたガラス電極法によりpH計測を行い、
前記制御装置は、前記pH計における前記内部比較液が所定量を維持するように、前記内部比較液を前記pH計へ供給する請求項1からのいずれか1項に記載の分析システム。
The pH meter measures pH using a glass electrode method using an internal comparison liquid,
The analysis system according to any one of claims 1 to 3 , wherein the control device supplies the internal comparison liquid to the pH meter so that the internal comparison liquid in the pH meter maintains a predetermined amount.
請求項1からのいずれか1項に記載の分析システムと、
前記分析システムにおける計測結果を取得し、前記計測結果に基づいて前記試料に対してpH及び電気伝導率の少なくともいずれか1方を調整する調整システムと、
を備える管理システム。
The analysis system according to any one of claims 1 to 4 ,
an adjustment system that acquires measurement results in the analysis system and adjusts at least one of pH and electrical conductivity of the sample based on the measurement results;
Management system with.
前記調整システムは、pH調整薬液の投入量を調整することによってpHを調整する請求項に記載の管理システム。 The management system according to claim 5 , wherein the adjustment system adjusts the pH by adjusting the input amount of the pH adjustment chemical solution. 前記調整システムは、純水の投入量を調整することによって電気伝導率を調整する請求項またはに記載の管理システム。 The management system according to claim 5 or 6 , wherein the adjustment system adjusts the electrical conductivity by adjusting the amount of pure water input. 前記計測結果が予め設定した管理基準範囲内でない場合に、異常を通知する通知システムを備える請求項からのいずれか1項に記載の管理システム。 The management system according to any one of claims 5 to 7 , further comprising a notification system that notifies an abnormality when the measurement result is not within a preset management reference range. 試料の電気伝導率を計測する電気伝導率計と、
前記試料の流通経路において前記電気伝導率計の下流側に設けられ、前記試料のpHを計測するpH計と、
前記試料に対する計測を行う場合に、前記試料を前記流通経路へ流通させる制御装置と、
前記試料の流通経路における前記電気伝導率計と前記pH計の間に設けられており、前記試料を溜める中間タンクと
を備える分析システム。
an electrical conductivity meter that measures the electrical conductivity of a sample;
a pH meter that is installed downstream of the electrical conductivity meter in the sample distribution path and measures the pH of the sample;
a control device that distributes the sample to the distribution channel when performing measurement on the sample;
an intermediate tank provided between the electrical conductivity meter and the pH meter in the sample distribution path, and for storing the sample;
An analysis system equipped with
試料の電気伝導率を計測する電気伝導率計と、前記試料の流通経路において前記電気伝導率計の下流側に設けられ、前記試料のpHを計測するpH計と、前記試料の流通経路における前記電気伝導率計と前記pH計の間に設けられており、前記試料を溜める中間タンクとを備える分析システムの分析方法であって、
前記試料に対する計測を行う場合に、前記試料を前記流通経路へ流通させる工程を有する分析方法。
an electrical conductivity meter that measures the electrical conductivity of the sample, a pH meter that is provided downstream of the electrical conductivity meter in the sample distribution route and measures the pH of the sample, and a pH meter that measures the pH of the sample; An analysis method for an analysis system comprising an intermediate tank provided between an electrical conductivity meter and the pH meter and storing the sample ,
An analysis method comprising the step of distributing the sample to the distribution channel when performing measurement on the sample .
試料の電気伝導率を計測する電気伝導率計と、前記試料の流通経路において前記電気伝導率計の下流側に設けられ、前記試料のpHを計測するpH計と、前記試料の流通経路における前記電気伝導率計と前記pH計の間に設けられており、前記試料を溜める中間タンクとを備える分析システムの分析プログラムであって、
前記試料に対する計測を行う場合に、前記試料を前記流通経路へ流通させる処理をコンピュータに実行させるための分析プログラム。
an electrical conductivity meter that measures the electrical conductivity of the sample, a pH meter that is provided downstream of the electrical conductivity meter in the sample distribution route and measures the pH of the sample, and a pH meter that measures the pH of the sample; An analysis program for an analysis system comprising an intermediate tank provided between an electrical conductivity meter and the pH meter and storing the sample ,
An analysis program for causing a computer to execute a process of distributing the sample to the distribution channel when measuring the sample .
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Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012178424A (en) 2011-02-25 2012-09-13 Dainippon Screen Mfg Co Ltd Etchant concentration management apparatus
CN205691527U (en) 2016-02-03 2016-11-16 浙江恒达仪器仪表股份有限公司 A kind of precipitation on-line monitoring system
JP2017111135A (en) 2015-12-14 2017-06-22 株式会社堀場製作所 Measurement device
CN206583484U (en) 2017-03-07 2017-10-24 中国科学院寒区旱区环境与工程研究所 One kind is used for river sample collection and field assay device

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5594559U (en) * 1978-09-20 1980-06-30
JPS6131952A (en) * 1984-07-25 1986-02-14 Horiba Ltd Concentration meter with automatic calibrating function
JPH05215708A (en) * 1992-02-06 1993-08-24 Kubota Corp Method for automatically calibrating ph meter
JP2599994Y2 (en) * 1992-07-30 1999-09-27 株式会社堀場製作所 Automatic calibration system for laboratory ion concentration meter
JPH0720118A (en) * 1993-06-23 1995-01-24 Toyota Motor Corp Method and equipment for measuring acid rain

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012178424A (en) 2011-02-25 2012-09-13 Dainippon Screen Mfg Co Ltd Etchant concentration management apparatus
JP2017111135A (en) 2015-12-14 2017-06-22 株式会社堀場製作所 Measurement device
CN205691527U (en) 2016-02-03 2016-11-16 浙江恒达仪器仪表股份有限公司 A kind of precipitation on-line monitoring system
CN206583484U (en) 2017-03-07 2017-10-24 中国科学院寒区旱区环境与工程研究所 One kind is used for river sample collection and field assay device

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