JP7451202B2 - 搬送システム - Google Patents

搬送システム Download PDF

Info

Publication number
JP7451202B2
JP7451202B2 JP2020018350A JP2020018350A JP7451202B2 JP 7451202 B2 JP7451202 B2 JP 7451202B2 JP 2020018350 A JP2020018350 A JP 2020018350A JP 2020018350 A JP2020018350 A JP 2020018350A JP 7451202 B2 JP7451202 B2 JP 7451202B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
conveyance
carrier
magnet
core
conveyance member
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2020018350A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2021125979A (ja
JP2021125979A5 (ja
Inventor
仁 鈴木
武 山本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Canon Inc filed Critical Canon Inc
Priority to JP2020018350A priority Critical patent/JP7451202B2/ja
Priority to KR1020210011128A priority patent/KR20210100013A/ko
Priority to US17/161,981 priority patent/US20210242765A1/en
Priority to CN202110154604.1A priority patent/CN113224928A/zh
Publication of JP2021125979A publication Critical patent/JP2021125979A/ja
Publication of JP2021125979A5 publication Critical patent/JP2021125979A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP7451202B2 publication Critical patent/JP7451202B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H02GENERATION; CONVERSION OR DISTRIBUTION OF ELECTRIC POWER
    • H02KDYNAMO-ELECTRIC MACHINES
    • H02K41/00Propulsion systems in which a rigid body is moved along a path due to dynamo-electric interaction between the body and a magnetic field travelling along the path
    • H02K41/02Linear motors; Sectional motors
    • H02K41/03Synchronous motors; Motors moving step by step; Reluctance motors
    • H02K41/031Synchronous motors; Motors moving step by step; Reluctance motors of the permanent magnet type
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B65CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
    • B65GTRANSPORT OR STORAGE DEVICES, e.g. CONVEYORS FOR LOADING OR TIPPING, SHOP CONVEYOR SYSTEMS OR PNEUMATIC TUBE CONVEYORS
    • B65G54/00Non-mechanical conveyors not otherwise provided for
    • B65G54/02Non-mechanical conveyors not otherwise provided for electrostatic, electric, or magnetic
    • HELECTRICITY
    • H02GENERATION; CONVERSION OR DISTRIBUTION OF ELECTRIC POWER
    • H02KDYNAMO-ELECTRIC MACHINES
    • H02K11/00Structural association of dynamo-electric machines with electric components or with devices for shielding, monitoring or protection
    • H02K11/20Structural association of dynamo-electric machines with electric components or with devices for shielding, monitoring or protection for measuring, monitoring, testing, protecting or switching
    • H02K11/21Devices for sensing speed or position, or actuated thereby
    • HELECTRICITY
    • H02GENERATION; CONVERSION OR DISTRIBUTION OF ELECTRIC POWER
    • H02KDYNAMO-ELECTRIC MACHINES
    • H02K41/00Propulsion systems in which a rigid body is moved along a path due to dynamo-electric interaction between the body and a magnetic field travelling along the path
    • H02K41/02Linear motors; Sectional motors
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B65CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
    • B65GTRANSPORT OR STORAGE DEVICES, e.g. CONVEYORS FOR LOADING OR TIPPING, SHOP CONVEYOR SYSTEMS OR PNEUMATIC TUBE CONVEYORS
    • B65G43/00Control devices, e.g. for safety, warning or fault-correcting
    • B65G43/08Control devices operated by article or material being fed, conveyed or discharged
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/50Substrate holders
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/56Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/54Apparatus specially adapted for continuous coating
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/677Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
    • H01L21/67703Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations between different workstations
    • H01L21/67709Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations between different workstations using magnetic elements
    • HELECTRICITY
    • H02GENERATION; CONVERSION OR DISTRIBUTION OF ELECTRIC POWER
    • H02PCONTROL OR REGULATION OF ELECTRIC MOTORS, ELECTRIC GENERATORS OR DYNAMO-ELECTRIC CONVERTERS; CONTROLLING TRANSFORMERS, REACTORS OR CHOKE COILS
    • H02P25/00Arrangements or methods for the control of AC motors characterised by the kind of AC motor or by structural details
    • H02P25/02Arrangements or methods for the control of AC motors characterised by the kind of AC motor or by structural details characterised by the kind of motor
    • H02P25/06Linear motors
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B65CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
    • B65GTRANSPORT OR STORAGE DEVICES, e.g. CONVEYORS FOR LOADING OR TIPPING, SHOP CONVEYOR SYSTEMS OR PNEUMATIC TUBE CONVEYORS
    • B65G2201/00Indexing codes relating to handling devices, e.g. conveyors, characterised by the type of product or load being conveyed or handled
    • B65G2201/02Articles

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Combustion & Propulsion (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Linear Motors (AREA)
  • Non-Mechanical Conveyors (AREA)
  • Automatic Assembly (AREA)

Description

本発明は、搬送システムに関する。
一般に、工業製品を組み立てるための生産ラインや半導体露光装置などでは、搬送システムが用いられている。特に、生産ラインにおける搬送システムは、ファクトリーオートメーション化された生産ライン内又は生産ラインの間の複数のステーションの間で、部品等のワークを搬送する。また、プロセス装置中の搬送装置として使われる場合もある。搬送システムとしては、可動磁石型リニアモータによる搬送システムが既に提案されている。
可動磁石型リニアモータによる搬送システムでは、リニアガイド等の機械的な接触を伴う案内装置を使って搬送システムを構成する。しかしながら、リニアガイド等の案内装置を使った搬送システムでは、リニアガイドの摺動部から発生する汚染物質、例えば、レールやベアリングの摩耗片や潤滑油、あるいはそれが揮発したもの等が生産性を悪化させるという問題があった。また、高速搬送時には摺動部の摩擦が大きくなってリニアガイドの寿命を短くするという問題があった。
そこで、特許文献1及び2には、可動部又は移動部材にかかる自重をキャンセルする装置が記載されている。特許文献1に記載の装置は、可動部を支持し可動部の移動をガイドするガイド機構とともに、そのガイド機構に作用する可動部の自重を打ち消す方向に可動部に磁力を印加する補助機構を具備している。また、特許文献2に記載の装置は、直進案内に沿って上下に移動する移動部材と、移動部材と同重量の重りとを両端に連結して吊すベルトを案内する案内手段を備えている。
特許第5439762号公報 特開2000-24816号公報
しかしながら、特許文献1に記載の装置は、自重をキャンセルするためにリニア駆動部とは別に可動部に対して磁力を印加する補助機構を具備している。別途補助機構を具備するため、特許文献1に記載の装置では、装置の大型化を回避することが困難であった。
また、特許文献2に記載の装置では、摺動するベルトを介して重りと連結された移動部材が、その自重と同重量の重りによるベルトからの引っ張り力とがバランスした状態で静止し、わずかな外力で垂直方向に移動する。特許文献2に記載の装置では、摺動するベルトが気体を介して案内されるため小さな摩擦で移動部材を移動させることはできるが、ベルトによる制約により垂直方向以外の方向への移動部材の移動は困難であった。
本発明は、装置の大型化や複雑化を伴うことなく、可動子や固定子の摺動部から発生する汚染物質を低減することができる搬送システムを提供することを目的としている。
本発明の一観点によれば、搬送方向に沿って配置された複数のコイルを有し、前記複数のコイルのそれぞれが巻線とコアとを含む固定子と、前記複数のコイルに対向可能に配置されたマグネットを有し、前記複数のコイルから前記マグネットが受ける電磁力により前記搬送方向に沿って移動可能な可動子とを有し、前記固定子は、移動する前記可動子を前記搬送方向に案内するための第1の搬送用部材及び第2の搬送用部材のうちの一方を有し、前記第1の搬送用部材は、前記第2の搬送用部材の上下にそれぞれ位置するように設置された上側搬送用部材及び下側搬送用部材を含み、前記可動子は、前記第1の搬送用部材及び前記第2の搬送用部材のうちの他方を有し、前記コアと前記マグネットとの間に生じる磁気吸引力と前記可動子に働く重力とが釣り合う平衡位置よりも下又は上に前記マグネットの上面が位置するように前記可動子の搬送位置が調整され、前記可動子は、前記搬送位置に応じて、前記第2の搬送用部材が前記下側搬送用部材又は前記上側搬送用部材に接触した状態で搬送されることを特徴とする搬送システムが提供される。
本発明の他の観点によれば、搬送方向に沿って配置された複数のコイルを有し、前記複数のコイルのそれぞれが巻線とコアとを含む固定子と、前記複数のコイルに対向可能に配置されたマグネットを有し、前記複数のコイルから前記マグネットが受ける電磁力により前記搬送方向に沿って移動可能な可動子とを有し、前記固定子は、移動する前記可動子を前記搬送方向に案内するための第1の搬送用部材及び第2の搬送用部材のうちの一方を有し、前記第1の搬送用部材は、前記第2の搬送用部材の上下にそれぞれ位置するように設置された上側搬送用部材及び下側搬送用部材を含み、前記可動子は、前記第1の搬送用部材及び前記第2の搬送用部材のうちの他方を有し、前記コイルにより前記マグネットが受ける電磁力により前記第2の搬送用部材が前記下側搬送用部材又は前記上側搬送用部材に押し付けられるように、前記コイルに流れる電流を制御する制御装置をさらに有することを特徴とする搬送システムが提供される。
本発明によれば、装置の大型化や複雑化を伴うことなく、可動子や固定子の摺動部から発生する汚染物質を低減することが可能になる。
本発明の第1実施形態によるキャリア及び固定子を含む搬送システムの全体構成を示すZ方向から見た概略図である。 本発明の第1実施形態によるキャリア及び固定子を含む搬送システムの全体構成を示すY方向から見た概略図である。 本発明の第1実施形態による搬送システムにおける制御システムを示す概略図である。 本発明の第1実施形態による搬送システムにおける制御システムを示す概略図である。 本発明の第1の実施形態による搬送システムにおけるキャリア及び固定子を含む構成を示すX方向から見た概略図である。 本発明の第1実施形態による搬送システムにおけるキャリア及び固定子を含む構成を示すX方向から見た概略図である。 本発明の第1実施形態による搬送システムにおけるキャリアと固定子との位置関係を示すX方向から見た概略図である。 本発明の第1実施形態による搬送システムにおけるキャリアと固定子との位置関係を示すX方向から見た概略図である。 本発明の第1実施形態による搬送システムにおけるキャリアと固定子との位置関係を示すX方向から見た概略図である。 本発明の第2実施形態による搬送システムにおけるキャリア及び固定子を含む構成を示すX方向から見た概略図である。 本発明の第2実施形態による搬送システムにおけるキャリア及び固定子を含む構成を示すX方向から見た概略図である。 本発明の第4実施形態による搬送システムにおけるキャリア及び固定子を含む構成を示すX方向から見た概略図である。
[第1実施形態]
以下、図面を参照して本発明の第1実施形態について説明する。
まず、本実施形態による搬送システムの全体構成について図1乃至図3Bを用いて説明する。図1は、本実施形態によるキャリア及び固定子を含む搬送システムの全体構成を示す後述のZ方向から見た概略図である。図2は、本実施形態によるキャリア及び固定子を含む搬送システムの全体構成を示す後述のY方向から見た概略図である。図3A及び図3Bは、本実施形態による搬送システムにおける制御システムを示す概略図である。なお、図1はキャリア101及び固定子201をZ方向の下側から見た透視図、図2はキャリア101及び固定子201をY方向から見た断面図になっている。
図1及び図2に示すように、本実施形態による搬送システム1は、可動子であるキャリア101と、搬送路を構成する固定子201とを有している。搬送システム1は、可動磁石型リニアモータ(ムービング永久磁石型リニアモータ、可動界磁型リニアモータ)による搬送システムである。搬送システム1は、キャリア101により搬送されたワーク102に対して加工を施す工程装置をも有する加工システムの一部を構成している。
搬送システム1は、例えば、固定子201によりキャリア101を搬送することにより、キャリア101に保持されたワーク102を、ワーク102に対して加工作業を施す工程装置に搬送する。工程装置は、特に限定されるものではないが、例えば、ワーク102であるガラス基板上に成膜を行う蒸着装置、スパッタ装置等の成膜装置である。なお、図1及び図2では、固定子201に対して1台のキャリア101を示しているが、これに限定されるものではない。搬送システム1においては、複数台のキャリア101が固定子201上を搬送されうる。
ここで、以下の説明において用いる座標軸及び方向を定義する。図1及び図2において、キャリア101の搬送方向である水平方向に沿ってX軸をとり、キャリア101の搬送方向をX方向とする。また、X方向と直交する方向である鉛直方向に沿ってZ軸をとり、鉛直方向をZ方向とする。また、X方向及びZ方向に直交する方向に沿ってY軸をとり、X方向及びZ方向に直交する方向をY方向とする。なお、キャリア101の搬送方向は必ずしも水平方向である必要はないが、その場合も搬送方向をX方向として同様にY方向及びZ方向を定めることができる。また、図4乃至図7についても同様の座標軸及び方向を用いて説明する。
X方向に沿って移動可能な可動子であるキャリア101は、永久磁石であるマグネット103と、スケール104と、ヨーク107と、搬送用部材である回転部材108とを有している。一方、固定子201は、コイル202と、エンコーダ204と、搬送用部材である補助部材205とを有している。
マグネット103は、ヨーク107を介してキャリア101の上部に複数取り付けられて設置されている。ヨーク107は、透磁率の大きな物質、例えば鉄で構成されている。複数のマグネット103は、キャリア101の上部においてX方向に沿って両側に2列に並ぶように設置されている。各列のマグネット103は、それぞれ、固定子201側を向く外側の磁極の極性が交互に異なるようにX方向に並べられている。こうして、複数のマグネット103は、固定子201の複数のコイル202に対向可能に配置されている。
回転部材108は、キャリア101を搬送するためのキャリア101側の搬送用部材であり、具体的には、キャリア101が固定子201上をX方向に沿って走行するための車輪である。回転部材108は、キャリア101のX方向に沿った両側部に複数取り付けられて設置されている。回転部材108は、キャリア101がX方向に沿って走行する際、固定子201側の搬送用部材である補助部材205に接触しつつ回転する。
スケール104は、固定子201のエンコーダ204により読み取り可能な位置にX方向に沿って固定されて設置されている。
上述のようにマグネット103及び回転部材108が設置されたキャリア101は、固定子201のコイル202によりマグネット103が受ける電磁力によりX方向に沿って移動して搬送されるように構成されている。キャリア101は、例えば、その上又は下にワーク102が取り付けられ又は保持されて搬送されるようになっている。なお、図1、図4及び図5では、ワーク102がキャリア101の下に取り付けられた状態を示している。なお、ワーク102をキャリア101に取り付け又は保持するための機構は、特に限定されるものではないが、機械的なフック、静電チャック等の一般的な取り付け機構、保持機構等を用いることができる。
固定子201において、エンコーダ204は、キャリア101のスケール104を読み取り可能なように取り付けられて設置されている。エンコーダ204は、キャリア101のスケール104を読み取ることにより、キャリア101のエンコーダ204に対する相対的な位置を検出することができる。エンコーダ204は、X方向に沿って複数設置されている。複数のエンコーダ204は、キャリア101が搬送中であってもそのうちの1つが必ず1台のキャリア101の位置を検出可能な間隔で設置されている。各エンコーダ204は、キャリア101のエンコーダ204に対する相対的な位置を示す位置情報を出力する。
コイル202は、キャリア101のマグネット103に対向可能なように固定子201に複数取り付けられて設置されている。複数のコイル202は、キャリア101のマグネット103に上方から対向可能に配置されている。複数のコイル202は、それぞれ、巻線202aと、巻線202aが巻かれたコア202bとを有している。複数のコイル202は、キャリア101の2列のマグネット103にそれぞれ上方から対向可能なようにX方向に沿って両側に2列に並ぶように設置されている。コイル202の各列において、複数のコイル202は、U相、V相及びW相の3個のコイル202がX方向に順次並んだコイルユニット210がX方向に並ぶように設置されている。複数のコイル202は、コイルユニット210を1単位として単位ごとに制御される。コイル202は、電流が印加されることにより、キャリア101のマグネット103との間で電磁力による吸引力又は反発力を発生させてキャリア101に対して力を印加することができる。こうして、固定子201において、キャリア101に力の印加が可能なコイルユニット210がキャリア101の搬送方向であるX方向に沿って並んだ搬送路が形成されている。
補助部材205は、キャリア101を搬送するための固定子201側の搬送用部材であり、具体的には、キャリア101の回転部材108が接触して走行するレール状部材である。補助部材205は、キャリア101の両側部の回転部材108が走行可能なように、X方向に沿ってキャリア101の両側に位置するように固定子201に取り付けられて設置されている。補助部材205及び回転部材108は、移動するキャリア101をX方向に案内するための部材である。
補助部材205は、上側搬送用部材である上側補助部材205aと、下側搬送用部材である下側補助部材205bとを有している(図4A及び図4B参照)。上側補助部材205a及び下側補助部材205bは、互いに設置位置が上下に異なるレール状の部材である。上側補助部材205a及び下側補助部材205bは、キャリア101の回転部材108の上下にそれぞれ位置するように設置されている。キャリア101の複数の回転部材108の全部又は一部は、後述するように、上側補助部材205aと下側補助部材205bとの間において、上側補助部材205a及び下側補助部材205bのうちの一方である下側補助部材205bに接触しつつ走行する。
なお、本実施形態及び後述の第2乃至第4実施形態では、搬送方向に対して両側2列にコイルユニット210、マグネット103、ヨーク107、回転部材108及び補助部材205を対称に配置した構成で説明しているが、これに限定されるものではない。コイルユニット210、マグネット103、ヨーク107、回転部材108及び補助部材205の各部の列数は、1列であってもよいし複数列であってもよい。例えば、キャリア101、ワーク102等のサイズ、質量等に応じて各部の列数を設定することができる。
本実施形態による搬送システム1は、図3Aに示すように制御システム2を有している。制御システム2は、統合コントローラ301と、コイルコントローラ302とを有している。コイルコントローラ302は、コイルユニット210ごとに設けられている。統合コントローラ301には、コイルコントローラ302が通信可能に接続されている。なお、統合コントローラ301とコイルコントローラ302との間の通信規格は、特に限定されるものではなく、一般的なものを用いることができる。例えば、通信規格は、CAN(Controller Area Network)、Ethernet(登録商標)、EtherCAT(Ethernet for Control Automation Technology)等である。
各コイルコントローラ302には、対応するコイルユニット210が接続されている。なお、図3Aには、U相、V相及びW相の3個のコイル202を1組として構成されたコイルユニット210の各相のコイル202が1個ずつコイルコントローラ302に接続されている場合が例示されている。また、コイルコントローラ302には、エンコーダ204が接続されている。
統合コントローラ301には、エンコーダ204から出力されたキャリア101に関する位置情報がコイルコントローラ302を介して送信される。統合コントローラ301は、エンコーダ204からの位置情報に基づき、固定子201における搬送路上のキャリア101の位置を計算してキャリア101の搬送の制御を行う。統合コントローラ301は、計算したキャリア101の位置を示す位置情報をコイルコントローラ302に送信する。
各コイルコントローラ302は、接続されたコイルユニット210の各コイル202に流れる各電流の大きさを検出して各電流を制御する。コイルコントローラ302は、キャリア101の位置を示す位置情報に応じて、目標となる電流値を示す電流値指令を計算して、接続されたコイルユニット210の各コイル202に流れる電流の電流値を制御する。
コイルコントローラ302は、図3Bに示すように、コイル202の電流を検出する電流検出部303と、コイル202の電流を制御する電流制御部304と、コイル202の電流を計算する電流計算部305とを有している。電流検出部303は、電流制御部304とコイル202との間に設けられている。電流制御部304は、電流計算部305に接続されている。
電流検出部303は、電流制御部304とコイル202との間に流れる電流を検出する。電流検出部303は、電流制御部304からコイル202に向かう方向に流れる電流量を正として電流を検出することができる。電流検出部303は、検出した電流に関する情報を電流計算部305に入力する。
電流計算部305は、統合コントローラ301から送信される位置情報と、電流検出部303から入力される電流に関する情報に基づき、コイルユニット210の各コイル202に流す電流値を計算する。電流計算部305は、計算した電流値を電流制御部304に入力する。
電流制御部304は、電流計算部305から入力される電流値に基づき、各コイル202に流れる電流を制御する。ここで、U相、V相及びW相の各コイル202に流れる電流を、それぞれIu、Iv及びIwとすれば、電流Iu、Iv及びIwは、次式(1)の関係が成立するように電流制御部304により制御される。
Iu+Iv+Iw=0 ……(1)
なお、図3Bでは、個別にコイル202がコイルコントローラ302に接続された場合が示されているが、一般的な三相モータで使用されるスター結線等を用いてコイルコントローラ302にコイル202が接続されていてもよい。
次に、本実施形態による搬送システム1において搬送されるキャリア101のZ方向における位置についてさらに図4A乃至図5Cを用いて説明する。図4A及び図4Bは、本実施形態による搬送システム1におけるキャリア101及び固定子201を含む構成を示すX方向から見た概略図である。図5A乃至図5Cは、本実施形態による搬送システム1におけるキャリア101と固定子201との位置関係を示すX方向から見た概略図である。
図4Aは、キャリア101の搬送に先立って調整されるキャリア101のZ方向における位置である調整位置を示す断面図である。一方、図4Bは、キャリア101がX方向に沿って搬送される際のキャリア101のZ方向における位置である搬送位置を示す断面図である。
図4A及び図4Bに示すように、固定子201の補助部材205は、キャリア101の両側に位置するようにそれぞれ設置されている。各補助部材205は、上側に位置する上側搬送用部材である上側補助部材205aと、上側補助部材205aよりも下側に位置する下側搬送用部材である下側補助部材205bとを有している。
キャリア101の両側部に設置された回転部材108は、それぞれ同じ側の補助部材205における上側補助部材205aと下側補助部材205bとの間に位置する。キャリア101は、後述するようにZ方向における位置が調整された状態で搬送される。
なお、図4A及び図4Bには、ワーク102に対して加工作業を施す工程装置の例である蒸着装置401のチャンバ内にキャリア101及び固定子201が組み込まれている場合を示している。蒸着装置401のチャンバ内の下部には、蒸着源402が設置されている。蒸着源402の設置場所に搬送されたキャリア101の下部に取り付けられたワーク102である基板には、蒸着源402による蒸着により金属、酸化物等の薄膜が成膜される。このように、キャリア101とともにワーク102が搬送され、搬送されたワーク102に対して工程装置により加工が施されて物品が製造される。
キャリア101のZ方向における位置は、マグネット103とコア202bとの間に生じる磁気吸引力とキャリア101に働く重力との大小関係に応じて異なる。図5A乃至図5Cは、キャリア101と固定子201とのZ方向の位置関係を示すX方向から見た断面図である。図5A乃至図5Cに示すように、コイル202のコア202bとマグネット103との間、すなわちコイル202のコア202bとマグネット103との間には、鉛直方向に磁気吸引力Fmが生じる。また、キャリア101には、鉛直方向に重力Fgが働く。
図5Aは、磁気吸引力Fmと重力Fgが釣り合う位置にキャリア101が配置された状態を示している。図5Aにおいて、コイルの202のキャリア101側の表面、具体的にはコア202bのキャリア101側の表面のZ方向における位置P2を基準として破線で示す。また、磁気吸引力Fmと重力Fgとが釣り合うときのマグネット103上面のZ方向における位置を平衡位置P1として一点鎖線で示す。なお、図4A及び図4Bにおいても同様に平衡位置P1及び位置P2を示す。
図5Bは、マグネット103上面のZ方向における位置P3が平衡位置P1より鉛直方向で下にあり、磁気吸引力Fmより重力Fgが大きい状態を示している。この場合、Z方向において、平衡位置P1とマグネット103上面の位置P3との間のギャップG3は、平衡位置P1に対してコイル202とは逆側に形成される。なお、図5B及び図5C中、位置P3を二点鎖線で示す。図4A及び図4Bにおいても同様に位置P3を示す。
図5Cは、マグネット103上面のZ方向における位置P3が平衡位置P1より鉛直方向で上にあり、磁気吸引力Fmより重力Fgが小さい状態を示している。この場合、Z方向において、平衡位置P1とマグネット103上面の位置P3との間のギャップG3は、平衡位置P1に対してコイル202側に形成される。
一般的に、コイル202とマグネット103との間に生じる磁気吸引力及び反発力を大きくできれば、キャリア101を搬送するためのリニアモータの推力を大きくすることができる。磁気吸引力及び反発力は、コイル202とマグネット103との間のギャップ内の磁束密度の大きさにより変化するため、磁束密度を大きくすれば磁気吸引力も大きくなる。ギャップ内の磁束密度を大きくするためには、マグネット103としてネオジム磁石、サマリウムコバルト磁石等の強力な磁石を選択することが考えられる。また、マグネット103の体積を大きくすれば、ギャップ内の磁束密度を大きくすることができる。また、コイル202において巻線202aの中心に高透磁率のコア202bを配置することにより、磁束密度を大きくすることができる。高透磁率のコア202bは、磁気抵抗が小さく磁束を通しやすい。巻線内にコア202bを配置することでマグネット103から生じた磁束がコイル202内を通りやすくなるため、ギャップ内における磁束密度を大きくすることができる。さらに、マグネット103及びコア202bをZ方向において各々の中心位置が略揃うように配置することにより磁束が通りやすくなり、その結果、コイル202とマグネット103との間に効率よく力を発生させることができる。
一方で、マグネット103の周辺に高透磁率の部材があると、マグネット103と高透磁率の部材との間に吸引力が発生する。すなわち、マグネット103の吸引力は、近傍に配置されるコイル202のコア202bにも大きく作用する。例えば、コア202bとマグネット103とが近接した構成の場合、吸引力が作用して回転部材108や補助部材205に大きな力がかかる。両者が近接した構成では、回転部材108や補助部材205には、吸引力による変形や破損が生じない強度を持たせることが必要となる。コア202bとマグネット103とが離間した構成では、特にキャリア101の重量が大きい場合、キャリア101を支える回転部材108や補助部材205には、重力による変形や破損が生じない強度を持たせることが必要となる。
一例として、マグネット103の材料をネオジム磁石、大きさを50×40×10mmとしてヨーク107に取り付けた場合の吸引力は、コア202bとマグネット103との間のギャップが1mmでは数百ニュートンとなる。さらに、キャリア101上に複数のマグネット103を配置すれば、これにマグネット103の数を乗じた吸引力がキャリア101にかかることになる。
回転部材108や補助部材205の強度が不足すると、吸引力や重力が原因となってキャリア101や固定子201が変形し、変形後にはキャリア101と周辺部材との接触や擦れが発生する。また、回転部材108や補助部材205の強度を確保しようとすると、各々の構成物が大きくなり搬送システム1全体が大きくなってしまう。仮に強度が確保されたとしても、キャリア101を搬送する際には、キャリア101を支える回転部材108や補助部材205には大きな力が加わる結果、これらの摺動部で汚染物質であるゴミの量が増加する問題が発生する。
本実施形態では、図5Aに示すように、コイル202内のコア202bとマグネット103との間に発生する磁気吸引力Fmがキャリア101に働く重力Fgと釣り合う平衡位置P1を求め、平衡位置P1を基準としてキャリア101の搬送位置を決定する。
平衡位置P1は、コア202bとマグネット103とが互いに対向することにより発生した磁気吸引力Fmが重力Fgと釣り合う状態におけるマグネット103上面の位置である。平衡位置P1は、コア202bとマグネット103とが互いに対向するそれぞれの面と面との鉛直方向(Z方向)の相対的な位置関係を反映している。なお、磁気吸引力Fmは、それぞれ複数存在するコア202b及びマグネット103との間に発生する磁気吸引力の総和である。平衡位置P1は、コア202bの下面の位置P2を基準として磁気吸引力Fmとキャリア101に働く重力Fgが釣り合うときのマグネット103の上面までの位置である。
キャリア10の搬送位置を決定するための基準となる平衡位置P1を求める手順の一例について説明する。
まず、図4Aに示す状態において、適度に膨らましたエアジャッキをマグネット103とコア202bとの間に配置しておく。また、上側補助部材205aを固定子201から取り外しておく。このときのキャリア101の位置は、磁気吸引力Fmよりも重力Fgが大きくなる位置、すなわち、マグネット103上面の位置P3が平衡位置P1よりも下になる位置になっている。
次いで、Z方向に沿ってコア202b側にキャリア101を持ち上げていく。マグネット103上面が平衡位置P1より上になるようにキャリア101が持ち上げられると、コア202bとマグネット103との間に磁気吸引力が働き、この磁気吸引力によりキャリア101がコア202b側に吸引される。
キャリア101がコア202b側に吸引された際、エアジャッキによりコア202bとマグネット103との間には空間ができるため、この空間にスペーサを配置する。スペーサは、樹脂等の磁性を持たないものであればよい。ここで、スペーサ上には、フォースゲージ、ロードセル等の力センサを事前に設置しておく。力センサは、鉛直方向(Z方向)の力を測定することができるように配置する。力センサは、キャリア101に働く重力Fgとコア202bとマグネット103との間に発生した磁気吸引力との和を測定する。
このように力センサを含むスペーサを配置した状態でエアジャッキを萎ませる。すると、スペーサ及び力センサを挟み込んでキャリア101がコア202b側に吸引されるため、力センサにより重力Fgと磁気吸引力Fmとの和を測定することができる。こうしてキャリア101のZ方向における位置を仮決めして、重力Fgと磁気吸引力Fmとの和を測定する。
コア202bに近い位置から遠い位置にキャリア101の位置を順次変えて各位置で力センサによる測定を行い、平衡位置P1を探っていく。コア202bに近い位置では、コア202bとマグネット103との間の距離が近いため、磁気吸引力Fmが大きく測定される。少しずつスペーサの厚さを増加させていきながら上記手順を繰り返して各位置で力センサによる測定を行えば、徐々に力センサの測定値が0ニュートンに近づいていく。力センサの測定値が0ニュートンになったときのマグネット103上面の位置を平衡位置P1とする。こうして、平衡位置P1を求めることができる。
なお、コア202bとマグネット103との間に他の部材が介在する場合であっても、平衡位置P1を求めることは可能である。例えば、作業性を向上するためにいつくかのコイル202を1つの箱に入れてまとめて配置することが考えられる。この場合、コア202bとマグネット103との間には、コイル202が収納された箱の一部が介在する。また、例えば、マグネット103がキャリア101内部に配置される場合が考えられる。この場合、コア202bとマグネット103との間には、キャリア101の筐体の一部が存在する。これらのような場合であっても、コア202bを含む部材とマグネット103を含むキャリア101との間にて上記の手順により平衡位置P1を探り、他の部材からコア202bやマグネット103までの距離を差し引けば同様に考えることができる。
また、上記では、平衡位置P1を求める手順として、エアジャッキ、スペーサ及び力センサを用いた例を示したが、これに限定されるものではない。Z方向において磁気吸引力Fmと重力Fgとの和が0ニュートンになる平衡位置P1を求めることができる手順であれば、種々の手順を用いることができる。
上述した平衡位置P1に対して、キャリア101が搬送される搬送位置としては次の位置が考えられる。すなわち、キャリア101の搬送位置として、マグネット103上面のZ方向における位置P3が平衡位置P1よりもコア202bに近い位置、位置P3が平衡位置P1に一致する位置、又は位置P3が平衡位置P1よりもコア202bから遠い位置が考えられる。
位置P3が平衡位置P1よりもコア202bに近い位置でキャリア101を搬送させると、例えば、段差を乗り越えるためにキャリア101が傾き、キャリア101の一部がコア202bに近づきすぎて磁気吸引力により張り付いてしまうことがある。この場合、キャリア101の搬送中であれば、張り付き時の衝撃力でマグネット103が破損することがありうる。また、強い磁気吸引力によりキャリア101が張り付いて動かせないコイル202に大電流を流し続けることでコイル202が破損することがありうる。
また、先に述べたように、マグネット103とコア202bとの間で発生する磁気吸引力は非常に大きい。特に、大型のキャリア101を搬送する場合では、搬送方向において必要な推力を得るためにマグネット103が多くなる。マグネット103が多くなればなるほど、コア202bに張り付いた状態からキャリア101を剥がすことが困難となる。
また、位置P3が平衡位置P1に一致する位置でキャリア101を搬送させると、部品のばらつき、部品の組み立てのばらつき等によりZ方向でキャリア101にかかる力の方向が変動する。この結果、キャリア101の位置が安定しない。位置が安定しないため、キャリア101の搬送中にがたつきを生じる。
一方で、平衡位置P1からマグネット103上面の位置P3を下に離してしまうと、磁気吸引力Fmによりキャリア101の自重を低減する効果が小さくなる。これだけではなく、コイル202からの磁束がマグネット103へ作用しづらくなり、その結果、搬送方向の推力も低下してしまう。
そこで、本実施形態による搬送システム1は、キャリア101に設置された回転部材108と、回転部材108を固定子201側で受ける補助部材205とを有する構成を採用している。また、本実施形態では、図4Aに示すように、Z方向において、回転部材108の下部108bと下側補助部材205bとの間に形成される最大のギャップG2が、コア202bとマグネット103との間に形成されるギャップG1より小さく設定されている。すなわち、最大のギャップG2がギャップG1よりも小さくなるように、コア202bに対して、回転部材108を含むキャリア101及び補助部材205の位置が調整されている。最大のギャップG2は、コイル202側への移動が上側補助部材205aにより規制される回転部材108の上部108aが上側補助部材205aに接触したときの回転部材108の下部108bと下側補助部材205bとの間のギャップである。最大のギャップG2がギャップG1よりも小さいため、搬送されるキャリア101のマグネット103がコイル202のコア202bに吸い付くことはない。
また、本実施形態では、キャリア101がコア202bに最も接近した位置でもマグネット103上面の位置P3が平衡位置P1より下となるように、コア202bに対して、回転部材108を含むキャリア101及び補助部材205の位置が調整されている。キャリア101がコア202bに最も接近した位置は、回転部材108の上部108aが上側補助部材205aに接触した位置である。
本実施形態では、磁気吸引力Fmよりも重力Fgが大きいため、キャリア101の搬送時において、キャリア101の回転部材108の下部108bが下側補助部材205bに接触する。キャリア101は、コイル202とマグネット103との間に働く電磁力により、回転部材108の下部108bが下側補助部材205bに接触しながらX方向に沿って走行するように搬送される。
こうして、本実施形態では、平衡位置P1よりも下にマグネット103の上面が位置するようにキャリア101の搬送位置が調整されていている。
上記構成を有する本実施形態による搬送システム1では、キャリア101に働く重力Fgに対して、同じくキャリア101に働く磁気吸引力Fmが逆方向に常に働くこととなるため、キャリア101の自重を低減することができる。コア202bとマグネット103との間に生じる磁気吸引力Fmを利用するため、装置の大型化や複雑化を伴うことなく、キャリア101の自重を低減することができる。キャリア101の自重が低減されるため、回転部材108及び補助部材205にかかる力を低減することができるため、回転部材108と補助部材205との摺動部から発生する汚染物質等のゴミを低減することができる。
本実施形態では、キャリア101の自重を低減するためにキャリア101の搬送に用いるのと同じコイル202を利用するため、キャリア101の自重を低減ために装置大型化や複雑化を伴うことがない。また、本実施形態では、キャリア101の搬送方向に対して垂直な方向その他の交差する方向において、キャリア101を吊すベルト等の接触が必要な部材が存在しない。このため、本実施形態では、搬送方向であるX方向へのキャリア101の移動は容易に行うことができる。
また、回転部材108が走行する補助部材205には、継ぎ目等により段差が存在する場合がある。本実施形態では、キャリア101の自重が低減されているため、補助部材205に段差が存在する場合であっても、回転部材108が段差を通過する際にキャリア101が受ける衝撃を低減することができる。
また、本実施形態では、上側補助部材205aにより回転部材108のコイル202側への移動が制約されるため、キャリア101がいかなる状況でもコア202bとマグネット103との間に一定の距離が空いた状態が確保されている。例えば、マグネット103が多く設置される大型のキャリア101がコア202b側に近づいたとしても、一定の距離が空いた状態が確保されているため、極端に磁気吸引力が大きくなることがない。このように、本実施形態では、コア202bとマグネット103との間に一定の距離が空いた状態が確保されていることにより両者の間に生じる磁気吸引力が極端に大きくなることがない。このため、本実施形態によれば、キャリア101及び固定子201を含む搬送システム1のメンテナンスを容易に行うことができる。
また、キャリア101の走行性をあげるため、キャリア101に複数の回転部材108が設置される場合がある。本実施形態では、搬送時に回転部材108の全部又は一部が補助部材205に接触する。すなわち、キャリア101の複数の回転部材108の全部又は一部は、上側補助部材205aと下側補助部材205bとの間において、上側補助部材205a及び下側補助部材205bのうちの一方である下側補助部材205bに接触しつつ走行する。このため、本実施形態では、制御上発振しづらくなり、その結果、ゲインを大きくすることにより応答性を向上することができる。
このように、本実施形態によれば、装置の大型化や複雑化を伴うことなく、キャリア101や固定子201の摺動部から発生する汚染物質を低減することができる。
[第2実施形態]
本発明の第2実施形態について図6A及び図6Bを用いて説明する。図6A及び図6Bは、本実施形態による搬送システム1におけるキャリア101及び固定子201を含む構成を示すX方向から見た概略図である。なお、上記第1実施形態と同様の構成要素については同一の符号を付し説明を省略し又は簡略にする。
本実施形態による搬送システム1の基本的構成は、図1乃至図4Bに示す第1実施形態による搬送システム1の構成と同様である。本実施形態による搬送システム1は、搬送されるキャリア101のZ方向における位置の点で第1実施形態による搬送システム1とは異なっている。
図6Aは、本実施形態において、キャリア101の搬送に先立って調整されるキャリア101のZ方向における位置である調整位置を示す断面図である。一方、図6Bは、本実施形態において、キャリア101がX方向に沿って搬送される際のキャリア101のZ方向における位置である搬送位置を示す断面図である。
まず、本実施形態における平衡位置P1を求める手順の一例について説明する。
まず、図6Aに示す状態において、適度に膨らましたエアジャッキをマグネット103とコア202bとの間に配置しておく。このときのキャリア101の位置は、重力Fgよりも磁気吸引力Fmが大きくなる位置、すなわち、マグネット103上面の位置P3が平衡位置P1よりも上になる位置になっている。
次いで、Z方向に沿ってコア202b側にキャリア101を持ち上げて吸引させた後、下側補助部材205bを取り外す。ここで、下側補助部材205bに鉛直方向(Z方向)の位置調整機構を設けて、マグネット103上面の位置P3が平衡位置P1より下にくるようにキャリア101を移動できるようにしておいてもよい。このような位置調整機構によれば、調整中にマグネット103上面の位置が平衡位置P1より下の位置となってキャリア101が落下することを防止することができる。
次いで、第1実施形態と同様、エアジャッキ及びスペーサを用いて位置を仮決めしながら、フォースゲージ等の力センサにより鉛直方向のキャリア101に働く重力Fgとコア202bとマグネット103との間に生じる磁気吸引力Fmとの和を測定していく。少しずつスペーサの厚さを増加させていきながら、上記手順を繰り返して各位置で力センサによる測定を行えば、徐々に力センサの測定値が0ニュートンに近づいていく。力センサの測定値が0ニュートンになったときのマグネット103上面の位置を平衡位置P1とする。こうして、本実施形態においても平衡位置P1を求めることができる。
なお、本実施形態においても、コア202bとマグネット103との間に他の部材が介在する場合には、第1実施形態と同様に考えることができる。
また、本実施形態においても、平衡位置P1を求める手順として、エアジャッキ、スペーサ及び力センサを用いた例を示したが、第1実施形態と同様に種々の手順を用いることができる。
コア202bに対して遠い位置でキャリア101を搬送させると、例えば推力が不足して小さな段差を乗り越えられないことがある。搬送中であれば、キャリア101に段差を乗り越えさせるためにコイル202に大電流を流し続けることでコイル202が破損してしまうことがある。
そこで、本実施形態による搬送システム1は、第1実施形態と同様、キャリア101に設置された回転部材108と、回転部材108を固定子201側で受ける補助部材205とを有する構成を採用している。また、本実施形態では、図6Aに示すように、Z方向において、回転部材の上部108aと上側補助部材205aとの間に形成される最大のギャップG4が、コア202bとマグネット103との間に形成されるギャップG1より小さく設定されている。すなわち、最大のギャップG4がギャップG1よりも小さくなるように、コア202bに対して、回転部材108を含むキャリア101及び補助部材205の位置が調整されている。最大のギャップG4は、コイル202とは反対の側への移動が下側補助部材205bにより規制される回転部材108の下部108bが下側補助部材205bに接触したときの回転部材108の上部108aと上側補助部材205aとの間のギャップである。最大のギャップG4がギャップG1よりも小さいため、搬送されるキャリア101のマグネット103がコイル202のコア202bに吸い付くことはない。
また、本実施形態では、キャリア101がコア202bから最も離間した位置でもマグネット103上面の位置P3が平衡位置P1より上となるように、コア202bに対して、回転部材108を含むキャリア101及び補助部材205の位置が調整されている。キャリア101がコア202bから最も離間した位置は、回転部材108の下部108bが下側補助部材205bに接触した位置である。
本実施形態では、重力Fgよりも磁気吸引力Fmが大きいため、キャリア101の搬送時において、キャリア101の回転部材108の上部108aが上側補助部材205aに接触する。キャリア101は、コイル202とマグネット103との間に働く電磁力により、回転部材108の上部108aが上側補助部材205aに接触しながらX方向に沿って走行するように搬送される。
こうして、本実施形態では、平衡位置P1よりも上にマグネット103の上面が位置するようにキャリア101の搬送位置が調整されていている。
上記構成を有する本実施形態による搬送システム1では、キャリア101に働く重力Fgに対して、同じくキャリア101に働く磁気吸引力Fmが逆方向に常に働く。しかも、本実施形態では、重力Fgよりも磁気吸引力Fmが大きい。このため、本実施形態では、キャリア101の自重をキャンセルすることができる。本実施形態でも、第1実施形態と同様にコア202bとマグネット103との間に生じる磁気吸引力Fmを利用するため、装置の大型化や複雑化を伴うことなく、キャリア101の自重をキャンセルすることができる。キャリア101の自重がキャンセルされるため、回転部材108及び補助部材205にかかる力を低減することができるため、回転部材108と補助部材205との摺動部から発生する汚染物質であるゴミを低減することができる。
また、本実施形態では、キャリア101の自重がキャンセルされているため、補助部材205に段差が存在する場合であっても、第1実施形態と同様に、回転部材108が段差を通過する際にキャリア101が受ける衝撃を低減することができる。
また、本実施形態でも、第1実施形態と同様に、上側補助部材205aによりコア202bとマグネット103との間に一定の距離が空いた状態が確保されている。これにより、両者の間に生じる磁気吸引力が極端に大きくなることがないため、キャリア101及び固定子201を含む搬送システム1のメンテナンスを容易に行うことができる。
また、本実施形態では、下側補助部材205bにより回転部材108のコイル202とは反対の側への移動が制約されるため、キャリア101がコア202bから離れてしまっても、キャリア101の位置はコイル202から一定の距離の範囲内に収まる。したがって、本実施形態では、キャリア101の搬送方向において推力不足となることがない。
また、本実施形態でも、第1実施形態と同様に、キャリア101に複数の回転部材108が設置される場合において、搬送時に回転部材108の全部又は一部が補助部材205に接触する。すなわち、キャリア101の複数の回転部材108の全部又は一部は、上側補助部材205aと下側補助部材205bとの間において、上側補助部材205a及び下側補助部材205bのうちの他方である上側補助部材205aに接触しつつ走行する。このため、本実施形態によれば、ゲインを大きくすることにより応答性を向上することができる。
このように、本実施形態によれば、装置の大型化や複雑化を伴うことなく、キャリア101や固定子201の摺動部から発生する汚染物質を低減することができる。
[第3実施形態]
本発明の第3実施形態について説明する。なお、上記第1及び第2実施形態と同様の構成要素については同一の符号を付し説明を省略し又は簡略にする。
本実施形態による搬送システム1の基本的構成は、図1乃至図6Bに示す第1又は第2実施形態による搬送システム1の構成と同様である。
本実施形態では、第1又は第2実施形態の構成において、コイルユニット210の複数のコイル202により、キャリア101上のマグネット103に対して、X方向及びZ方向に力を印加してキャリア101の搬送を行う場合について説明する。コイルユニット210の複数のコイル202によりマグネット103に対して印加されるX方向及びZ方向の力は、それぞれコイル202を流れる電流とマグネット103で生じた磁界との相互作用で発生する電磁力である。
ここで、以下の説明において用いる記号を定義する。Iuは、コイルユニット210を流れるU相電流を表す。Ivは、コイルユニット210を流れるV相電流を表す。Iwは、コイルユニット210を流れるW相電流を表す。Qは、キャリア101のX方向の位置を表す。(Iu,Iv,Iw)は、Iu、Iv、Iwを要素とする電流ベクトルを表す。「・」は、乗算記号を表す。
図2に示すように、キャリア101のX軸方向の中心Osを原点とする。また、X方向に順に並んだ3つのマグネット103を、必要に応じて「マグネット103c」、「マグネット103a」及び「マグネット103b」と表記して区別する。マグネット103aの中心は、原点(中心)Osに位置している。マグネット103bとマグネット103cとのX方向における中心間の距離をλとする。マグネット103bのX方向の中心は、X方向において原点Osを基準に+λ/2の位置にある。マグネット103cのX方向の中心は、X方向において原点Osを基準に-λ/2の位置にある。
また、固定子201による搬送路の原点をOとすると、原点Oは、コイル202の中心に位置している。図2では、搬送路の原点Oにキャリア101の中心Osが合致した状態を模式的に示している。
ここで、さらに以下の説明で用いる記号を定義する。Iqは、コイル202に流れる電流のうち、キャリア101がX方向に受ける力の発生に寄与する電流であるq軸電流を表す。Idは、コイル202に流れる電流のうち、キャリア101がZ軸方向に受ける力の発生に寄与する電流であるd軸電流を表す。Fqは、キャリア101及びマグネット103がX方向に受ける力の大きさを表す。Fdは、キャリア101及びマグネット103がZ方向に受ける力の大きさを表す。Cqは、単位q軸電流当たりに発生するX方向の力の大きさを表す。Cdは、単位d軸電流当たりに発生するZ方向の力の大きさを表す。Cqは、X方向の推力定数である。Cdは、Z方向の推力定数である。さらに、位相をθとして次式(2)で定義する。
θ=360・Q/λ ……(2)
とすれば、Iq、Idは、それぞれ次式(3)、(4)で表される。
Iq=Iu・sin(θ)+Iv・sin(θ+120°)+Iw・sin(θ+240°) ……(3)
Id=Iu・cos(θ)+Iv・cos(θ+120°)+Iw・cos(θ+240°) ……(4)
また、Fq、Fdは、それぞれ次式(5)、(6)で表される。Fq、Fdは、コイルユニット210のコイル202によりマグネット103が受ける電磁力である。
Cq・Iq=Fq ……(5)
Cd・Id=Fd ……(6)
例えば図2に示すように、搬送路の原点Oとキャリア101の中心Osとが一致するとき、Q、θは、それぞれ次式(7)に示すように0である。
Q=θ=0 ……(7)
原点Oと中心Osとが一致する場合を例にとると、この場合、式(3)、(4)は、それぞれ次式(3-1)、(4-1)のように変形することができる。
Iq=Iu・0+Iv・√3/2+Iw・(-√3/2) ……(3-1)
Id=Iu・1+Iv・(-1/2) +Iw・(-1/2) ……(4-1)
上記の例において、電流ベクトル(Iu,Iv,Iw)として次式(8)で表される電流ベクトルをコイルユニット210に印加する場合を考える。
(Iu,Iv,Iw)=(-1.0[A],0.5[A],0.5[A]) ……(8)
この場合、Iq、Idは、それぞれ次式(3-2)、(4-2)のように計算される。
Iq=-1.0・0+0.5・√3/2+0.5・(-√3/2)=0[A] ……(3-2)
Id=-1.0・1+0.5・(-1/2)+0.5・(-1/2)=-3/2[A] ……(4-2)
ここで、Cqが20√3[N/A]であり、Cdが20[N/A]である場合、(Fq、Fd)は、次式(9)のようになる。
(Fq,Fd)=(0[N],-30[N]) ……(9)
Z方向を基準とすれば、重力と同じ方向にFdが生じる。
次に、次式(10)で表される90°位相をずらした電流ベクトルをコイルユニット210に印加する場合を考える。
(Iu,Iv,Iw)=(0[A],√3/2[A],-√3/2[A]) ……(10)
とすれば、Iq、Idは、それぞれ次式(3-3)、(4-3)のように計算される。
Iq=0・1+(√3/2)・(√3/2)+(-√3/2)・(-√3/2)=3/2[A] ……(3-3)
Id=0・1+(√3/2)・(-1/2)+(-√3/2)・(-1/2)=0[A] ……(4-3)
ここで、Cqが20√3[N/A]であり、Cdが20[N/A]である場合、(Fq、Fd)は、次式(11)のようになる。
(Fq,Fd)=(30√3[N],0[N]) ……(11)
X方向を基準とすれば、搬送方向にFqが生じる。すなわち、キャリア101の位置が同じ位置であっても、加える電流の位相を変えることにより、X方向の力Fq及びZ方向の力Fdを制御することができる。制御装置であるコイルコントローラ302は、コイルユニット210に印加する電流の値及び位相を変更することにより、キャリア101に働くX方向の力Fq及びZ方向の力Fdを制御することができる。
図1乃至図4Bに示すリニアモータによる搬送システム1では、q軸電流Iqを流すことで搬送方向(X方向)の力Fqが大きくなり、d軸電流Idを流すことでコイル202と垂直な方向であるZ方向の力Fdが大きくなる。
本実施形態では、キャリア101を搬送する態様に応じて、キャリア101に対して印加するZ方向の力Fdの向きを制御することができる。すなわち、第1実施形態のようにキャリア101を搬送する場合と、第2実施形態のようにキャリア101を搬送する場合とでZ方向の力Fdの向きを変更することができる。
まず、第1実施形態のようにマグネット103上面が平衡位置P1より下の位置になるようにしてキャリア101を搬送する場合、d軸電流を流して重力と同じ向きに力Fdをキャリア101にかけて搬送を行う。このような制御による搬送を行うことにより、キャリア101の回転部材108の下部108bが下側補助部材205bに押し付けられるため、キャリア101の位置が安定する。位置が安定すれば、最初の調整時に回転部材108と補助部材205との間のギャップG2を小さくすることができるため、平衡位置P1の近傍にてキャリア101を搬送することができる。磁気吸引力Fmと重力Fgとが釣り合う平衡位置P1近傍でキャリア101の搬送を行うことにより、回転部材108や補助部材205にかかる力を小さくすることができ、これらの摺動部における汚染物質であるゴミの発生を低減することができる。さらに、Z方向において力Fdをかけ続けるため、キャリア101の位置が安定する結果、ワーク102への加工を高い精度で行うことができる。
一方、第2実施形態のようにマグネット103上面が平衡位置P1より上の位置になるようにしてキャリア101を搬送する場合、d軸電流Idの符号を第1実施形態のように搬送する場合とは逆にする。これにより、力Fdが常にキャリア101にかかる方向を重力と反対向きにする。このような制御による搬送を行うことにより、キャリア101の回転部材108の上部108aが上側補助部材205aに押し付けられるため、上記と同様の効果を得ることができる。
なお、d軸電流Id及びq軸電流Iqは、通常、それぞれコイルコントローラ302により最大で流せる電流は決まっている。このため、コイルコントローラ302は、電流の位相を変更することにより、発生する力の方向を制御することができる。すなわち、コイルコントローラ302は、電流の位相を変更することにより、Z方向及びX方向で制御する力に応じて電流の振り分け量を変更することができる。
例えば、搬送方向において必要な推力が小さい場合では、q軸電流が少なくてよいため、d軸電流Idへの振り分け量を多くして、回転部材108を補助部材205に押し付けながら搬送を行うことができる。一方向に押し付けながら搬送することができるのであれば、キャリア101が平衡位置P1をまたがってもよい。
また、本実施形態では、キャリア101の重量が変わった場合に、d軸電流を制御することにより安定したキャリア101の搬送を行うことができる。例えば、ワーク102が無い空運転動作を行う場合や、複数のキャリア101の搬送において一部のキャリア101のみ改良を行い、重量の異なるキャリア101が混在することがある。
例えば、複数のキャリア101の搬送を行う中で重量を軽くしたキャリア101が混在する場合を考える。軽くしたキャリア101は重力が小さくなるため、磁気吸引力Fmと重力Fgとが釣り合う平衡位置P1は、軽くしたキャリア101では、軽くしていないキャリア101と比較してより下の位置に移動する。図4Aにおいては、平衡位置P1に対してマグネット103上面の位置P3が下になるように調整した。しかしながら、軽くしたキャリア101では、平衡位置P1がより下の位置に移動するため、マグネット103上面の位置P3が上となる場合が生じてしまう。平衡位置P1よりマグネット103上面の位置P3が上となることに起因して、極端な場合では、重量が重いキャリア101は図4Bの位置で搬送、重量が軽いキャリア101は図4Aの位置で搬送されることとなる。このように、搬送されるキャリア101によって搬送される際の高さが異なることが起こりうる。キャリア101により異なる高さで搬送を行えば、外部装置からワーク102に与えるプロセスに要する時間が異なってしまい、一定の品質が保てない等の不具合を生じうる。また、重量が少しだけ軽いキャリア101の場合、キャリア101は、ギャップG2の間でZ方向の位置が安定しなくなり、ふらついてしまうことがある。
これらの場合、先に述べたようにd軸電流を流して重力の方向又は磁気吸引力の方向にキャリア101を押し付ける制御を行うことにより、キャリア101を安定して搬送することができる。すなわち、本実施形態によれば、互いに重量が異なる複数のキャリア101が混在する場合であっても、一定の高さで各キャリア101をより安定して搬送することができる。
このように、本実施形態によれば、装置の大型化や複雑化を伴うことなく、キャリア101や固定子201の摺動部から発生する汚染物質を低減することができるとともに、安定してキャリア101を搬送することができる。
[第4実施形態]
本発明の第4実施形態について図7を用いて説明する。図7は、本実施形態による搬送システム1におけるキャリア101及び固定子201を含む構成を示すX方向から見た概略図である。なお、上記第1乃至第3実施形態と同様の構成要素については同一の符号を付し説明を省略し又は簡略にする。
本実施形態による搬送システム1の基本的構成は、図1乃至図6Bに示す第1又は第2実施形態による搬送システム1の構成と同様である。本実施形態による搬送システム1は、第3実施形態によりキャリア101に対してZ方向に力Fdを印加する際に、キャリア101のZ方向の位置をセンサにより検出した結果を利用して、Z方向の力Fdを印加するためのd軸電流Idの制御を行うものである。本実施形態による搬送システム1は、第1又は第2実施形態による搬送システム1の構成に加えて、キャリア101のZ方向の位置を検出するセンサ206をさらに有している。
図7に示すように、本実施形態による搬送システム1では、センサ206が固定子201に取り付けられて設置されている。センサ206は、キャリア101のZ方向における位置、すなわちキャリア101の高さを検出する検出部として機能する。具体的には、例えば、センサ206は、例えば、キャリア101のZ方向における位置、すなわちキャリア101の高さが所定の閾値以下か当該閾値を超えたかを検出するフォトスイッチ、磁気スイッチ等のスイッチである。また、例えば、センサ206は、例えば、キャリア101のZ方向における位置を連続的に検出するフォトセンサ、磁気センサ、渦電流センサ等の位置センサであってもよい。
センサ206は、キャリア101のZ方向における位置に関する検出結果を示す検出信号をコイルコントローラ302に送信する。コイルコントローラ302は、センサ206による検出結果であるセンサ206から受信した検出信号に基づき、キャリア101に対してZ方向に力を印加するためのd軸電流Idを制御する。なお、検出信号に基づくd軸電流Idを制御は、コイルコントローラ302に代えて、統合コントローラ301、専用のコントローラ等の他の制御装置が行うこともできる。
本実施形態では、キャリア101を搬送する態様に応じて、キャリア101に対してZ方向の力Fdを印加するためのd軸電流Idを制御することができる。すなわち、第1実施形態のようにキャリア101を搬送する場合と、第2実施形態のようにキャリア101を搬送する場合とでd軸電流の制御を変更することができる。
まず、第1実施形態では、マグネット103上面が平衡位置P1より下になるようにしてキャリア101を搬送する。ここで、センサ206として上記スイッチが設置されているとする。この場合、コイルコントローラ302は、センサ206からの検出信号がキャリア101の高さが閾値を超えたことを示すと、d軸電流Idを流してZ方向の力Fdを制御し、重力Fgの方向にキャリア101を押し付ける制御を行う。すなわち、コイルコントローラ302は、回転部材108の下部108bを下側補助部材205bに押し付けるようにd軸電流Idを制御する。
一方、第2実施形態では、マグネット103上面が平衡位置P1より上になるようにしてキャリア101を搬送する。ここで、センサ206として上記スイッチが設置されているとする。この場合、コイルコントローラ302は、センサ206からの検出信号がキャリア101の高さがある閾値以下であることを示すと、d軸電流Idを流してZ方向の力を制御し、磁気吸引力Fmの方向にキャリア101を押し付ける制御を行う。すなわち、コイルコントローラ302は、回転部材108の上部108aを上側補助部材205aに押し付けるようにd軸電流Idを制御する。
こうして、コイルコントローラ302は、センサ206により検出されたキャリア101の高さに基づき、キャリア101の回転部材108を下側補助部材205b又は上側補助部材205aに押し付けるようにd軸電流Idを制御する。本実施形態では、上記いずれの搬送態様においても、キャリア101のZ方向における位置に応じてキャリア101を押し付けながら搬送することにより、Z方向にてふらつきの少ない安定した搬送を実現することができる。
また、センサ206として上記フォトセンサ、渦電流センサ等の位置センサが設置されている場合、コイルコントローラ302は、キャリア101のZ方向における位置の連続的な検出値に基づきd軸電流Idを制御することができる。このため、コイルコントローラ302は、高精度にd軸電流Idを制御することができるため、キャリア101の搬送時において必要に応じてd軸電流Idを流すことができる。この場合、d軸電流を常時流し続ける必要がなくなるため、エネルギー効率を向上することができる。したがって、コイル202やコイルコントローラ302の発熱を低減することができる。
このように、本実施形態によれば、装置の大型化や複雑化を伴うことなく、キャリア101や固定子201の摺動部から発生する汚染物質を低減することができるとともに、安定してキャリア101を搬送することができる。
[変形実施形態]
本発明は、上記実施形態に限らず種々の変形が可能である。
例えば、上記実施形態ではキャリア101側に回転部材108、固定子201側に補助部材205が設置された構成を例に説明したが、これに限定されるものではない。上記実施形態の構成とは逆に、キャリア101側に補助部材205、固定子201側に回転部材108が設置された場合であっても上記と同様の効果を得ることができる。この場合、固定子201側には、搬送路にそって複数の回転部材108を並ぶように設置することができる。このように、キャリア101は回転部材108及び補助部材205のうちの一方を、固定子201は回転部材108及び補助部材205のうちの他方を有すればよい。
また、上記実施形態では、キャリア101が一方向に搬送される搬送路が固定子201により構成された場合を例に説明したが、これに限定されるものではない。キャリア101が搬送される搬送路として、例えば、キャリア101が往復する搬送路、キャリア101が循環する搬送路等の他の搬送路を固定子201により構成することができる。
また、上記実施形態では、コイルユニット210ごとにコイルコントローラ302が接続されている場合を例に説明したが、これに限定されるものではない。1つのコイルコントローラ302が複数のコイルユニット210を制御することができるようにコイルコントローラ302とコイルユニット210との接続を適宜変更することができる。
また、上記実施形態では、コイル202を3個1組としてコイルユニット210が構成された場合を例に説明したが、これに限定されるものではない。コイルユニット210を構成するコイル202の数は、適宜変更することができる。
また、上記実施形態では、統合コントローラ301がコイルコントローラ302とは別に設けられている場合を例に説明したが、これに限定されるものではない。コイルコントローラ302は、統合コントローラ301の機能の全部又は一部を有することもでき、搬送システム1全体を制御する機能を有することもできる。統合コントローラ301及びコイルコントローラ302の機能は、一又は複数の制御装置が担うことができる。
また、上記実施形態では、エンコーダ204がコイルコントローラ302に接続された場合を例に説明したが、これに限定されるものではない。エンコーダ204は、別途設けられたエンコーダ204に専用のコントローラに接続されて制御されてもよい。
101 キャリア
102 ワーク
103 マグネット
104 スケール
107 ヨーク
108 回転部材
201 固定子
202 コイル
202a 巻線
202b コア
204 エンコーダ
205a 上側補助部材
205b 下側補助部材
206 センサ
210 コイルユニット
301 統合コントローラ
302 コイルコントローラ
303 検出部
304 制御部
305 計算部
401 蒸着装置
402 蒸着源

Claims (13)

  1. 搬送方向に沿って配置された複数のコイルを有し、前記複数のコイルのそれぞれが巻線とコアとを含む固定子と、
    前記複数のコイルに対向可能に配置された複数のマグネットを有し、前記複数のコイルから前記マグネットが受ける電磁力により前記搬送方向に沿って移動可能な可動子とを有し、
    前記固定子は、移動する前記可動子を前記搬送方向に案内するための第1の搬送用部材及び第2の搬送用部材のうちの一方を有し、
    前記第1の搬送用部材は、前記第2の搬送用部材を重力方向で挟み込むように設置された上側搬送用部材及び下側搬送用部材を含み、
    前記可動子は、前記第1の搬送用部材及び前記第2の搬送用部材のうちの他方を有し、
    前記コアと前記マグネットとの間に生じる磁気吸引力と前記可動子に働く重力とが釣り合う平衡位置における前記コアと少なくとも1つの前記マグネットの上面の位置よりも、前記重力方向において前記コアと前記上面との距離が大きい又は小さい位置となるように前記可動子の搬送位置が調整され、
    前記可動子は、前記第2の搬送用部材が前記下側搬送用部材又は前記上側搬送用部材に接触した状態で搬送される
    ことを特徴とする搬送システム。
  2. 前記固定子は、前記第1の搬送用部材を有し、
    前記可動子は、前記第2の搬送用部材を有し、
    前記可動子の搬送位置は、前記重力方向において前記平衡位置よりも前記コアと前記上面の距離が大きくなるように調整され、
    前記可動子は、前記第2の搬送用部材が前記下側搬送用部材に接触した状態で搬送される
    ことを特徴とする請求項1記載の搬送システム。
  3. 前記第2の搬送用部材の下部と前記下側搬送用部材との間に形成される第1のギャップは、前記コアと前記マグネットとの間に形成される第2のギャップよりも小さい
    ことを特徴とする請求項2記載の搬送システム。
  4. 前記固定子は、前記第1の搬送用部材を有し、
    前記可動子は、前記第2の搬送用部材を有し、
    前記可動子の搬送位置は、前記重力方向において前記平衡位置よりも前記コアと前記上面の距離が小さくなるように調整され、
    前記可動子は、前記第2の搬送用部材が前記上側搬送用部材に接触した状態で搬送される
    ことを特徴とする請求項1記載の搬送システム。
  5. 前記第2の搬送用部材の上部と前記上側搬送用部材との間に形成される第1のギャップは、前記コアと前記マグネットとの間に形成される第2のギャップよりも小さい
    ことを特徴とする請求項4記載の搬送システム。
  6. 前記複数のコイルは、前記マグネットの上方、かつ、前記マグネットと対向可能に配置されている
    ことを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載の搬送システム。
  7. 前記第1の搬送用部材は、レール状の部材であり、
    前記第2の搬送用部材は、前記第1の搬送用部材に接触しつつ回転する回転部材である
    ことを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項に記載の搬送システム。
  8. 前記第2の搬送用部材は、複数であり、
    複数の前記第2の搬送用部材の全部又は一部は、前記下側搬送用部材又は前記上側搬送用部材に接触する
    ことを特徴とする請求項1乃至7のいずれか1項に記載の搬送システム。
  9. 前記コイルに電流を流し、前記重力方向に生じる前記可動子の重力を打ち消す方向に力を発生させ、前記第2の搬送用部材を前記下側搬送用部材又は前記上側搬送用部材に押し付け、かつ、前記可動子を前記搬送方向に移動させる制御装置をさらに有する
    ことを特徴とする請求項1乃至8のいずれか1項に記載の搬送システム。
  10. 搬送方向に沿って配置された複数のコイルを有する固定子と、
    前記複数のコイルに対向可能に配置された複数のマグネットを有する可動子とを有し、
    前記固定子は、移動する前記可動子を前記搬送方向に案内するための第1の搬送用部材及び第2の搬送用部材のうちの一方を有し、
    前記第1の搬送用部材は、前記第2の搬送用部材を重力方向で挟み込むように設置された上側搬送用部材及び下側搬送用部材を含み、
    前記可動子は、前記第1の搬送用部材及び前記第2の搬送用部材のうちの他方を有し、
    前記コイルに電流を流し、前記重力方向に生じる前記可動子の重力を打ち消す方向に力を発生させ、前記第2の搬送用部材が前記下側搬送用部材又は前記上側搬送用部材に押し付け、かつ、前記可動子を前記搬送方向に移動させる制御装置をさらに有する
    ことを特徴とする搬送システム。
  11. 前記可動子の高さを検出する検出部を有し、
    前記制御装置は、前記検出部の検出結果に基づき前記電流を制御する
    ことを特徴とする請求項9又は10に記載の搬送システム。
  12. 請求項1乃至11のいずれか1項に記載された搬送システムと、
    前記可動子により搬送されるワークに対して加工を施す工程装置と
    を有することを特徴とする加工システム。
  13. 請求項12に記載の加工システムを用いて物品を製造する物品の製造方法であって、
    前記可動子により前記ワークを搬送する工程と、
    前記可動子により搬送された前記ワークに対して、前記工程装置により前記加工を施す工程と
    を有することを特徴とする物品の製造方法。
JP2020018350A 2020-02-05 2020-02-05 搬送システム Active JP7451202B2 (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2020018350A JP7451202B2 (ja) 2020-02-05 2020-02-05 搬送システム
KR1020210011128A KR20210100013A (ko) 2020-02-05 2021-01-27 반송 시스템, 가공 시스템 및 물품의 제조방법
US17/161,981 US20210242765A1 (en) 2020-02-05 2021-01-29 Transport system, processing system, and article manufacturing method
CN202110154604.1A CN113224928A (zh) 2020-02-05 2021-02-04 运送系统、处理系统以及物品制造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2020018350A JP7451202B2 (ja) 2020-02-05 2020-02-05 搬送システム

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2021125979A JP2021125979A (ja) 2021-08-30
JP2021125979A5 JP2021125979A5 (ja) 2023-02-09
JP7451202B2 true JP7451202B2 (ja) 2024-03-18

Family

ID=77062401

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2020018350A Active JP7451202B2 (ja) 2020-02-05 2020-02-05 搬送システム

Country Status (4)

Country Link
US (1) US20210242765A1 (ja)
JP (1) JP7451202B2 (ja)
KR (1) KR20210100013A (ja)
CN (1) CN113224928A (ja)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN115009857B (zh) * 2022-04-22 2023-07-25 江苏匠准数控机床有限公司 一种工件运载输送方法及装置

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003219628A (ja) 2002-01-22 2003-07-31 Bunka Shutter Co Ltd リニアモータ式開閉装置
JP2010154683A (ja) 2008-12-25 2010-07-08 Thk Co Ltd リニアモータ

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2717174B2 (ja) * 1987-08-10 1998-02-18 俊郎 樋口 非接触型リニアアクチュエータ
JP3462819B2 (ja) * 1999-12-07 2003-11-05 株式会社日立ハイテクインスツルメンツ 電子部品供給装置及び電子部品供給方法
KR102192244B1 (ko) * 2013-12-30 2020-12-17 삼성디스플레이 주식회사 기판 이송장치
JP7066333B2 (ja) * 2017-05-17 2022-05-13 キヤノン株式会社 搬送システム、加工システム、物品の製造方法、搬送システムの制御方法及び可動機構
CN108336885B (zh) * 2017-07-06 2020-04-17 上海果栗自动化科技有限公司 线性马达及其动子运动定位控制装置
US11336165B2 (en) * 2018-03-28 2022-05-17 Rockwell Automation Technologies, Inc. Curvilinear motor
WO2020126040A1 (en) * 2018-12-21 2020-06-25 Applied Materials, Inc. Magnetic levitation system, carrier for a magnetic levitation system, vacuum system, and method of transporting a carrier

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003219628A (ja) 2002-01-22 2003-07-31 Bunka Shutter Co Ltd リニアモータ式開閉装置
JP2010154683A (ja) 2008-12-25 2010-07-08 Thk Co Ltd リニアモータ

Also Published As

Publication number Publication date
JP2021125979A (ja) 2021-08-30
US20210242765A1 (en) 2021-08-05
CN113224928A (zh) 2021-08-06
KR20210100013A (ko) 2021-08-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN109720789B (zh) 运输系统、加工系统和物品制造方法
US11374479B2 (en) Transport system, mover, control apparatus, and control method
JP2018193177A (ja) 搬送システム、加工システム及び搬送システムの制御方法
KR101146915B1 (ko) 수평형 비접촉식 증착장치
US12015319B2 (en) Transport system
US11670998B2 (en) Conveyance apparatus and method of manufacturing article
US11777388B2 (en) Transport system, mover, control apparatus, and control method
KR102035210B1 (ko) 객체의 파지, 위치 결정 및/또는 이동 장치
JP7451202B2 (ja) 搬送システム
JPH0993723A (ja) リニアモータ利用の搬送設備
US20230382662A1 (en) Transport system, film forming apparatus, and method of manufacturing article
EP2058851A2 (en) Elevator linear motor drive
WO2020203921A1 (ja) 搬送システム、可動子、制御装置及び制御方法
US20220224255A1 (en) Transport system, processing system, and article manufacturing method
WO2020126040A1 (en) Magnetic levitation system, carrier for a magnetic levitation system, vacuum system, and method of transporting a carrier
US20240283345A1 (en) Double-sided linear motor
CN115447978A (zh) 输送系统和输送系统的控制方法
CN112928886B (zh) 输送系统、可移动元件、控制装置、控制方法以及物品的制造方法
JP2020167929A (ja) 搬送システム、可動子、制御装置及び制御方法
JPH054717A (ja) 磁気浮上搬送装置
CN113247592B (zh) 输送设备、生产系统以及用于制造物品的方法
JP2022108256A (ja) 搬送システム、加工システム及び物品の製造方法
JP2023035181A (ja) 搬送装置、加工システム、制御方法及び物品の製造方法
JP2021126003A (ja) 搬送装置、可動子、および物品の製造方法
KR20220058429A (ko) 반송 시스템 및 반송 시스템의 제어 방법

Legal Events

Date Code Title Description
RD01 Notification of change of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421

Effective date: 20220630

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20230201

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20230201

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20230920

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20231003

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20231201

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20240206

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20240306

R151 Written notification of patent or utility model registration

Ref document number: 7451202

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151