JP7450323B2 - ゴム組成物及びその製造方法 - Google Patents
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Description
本発明は、ゴム組成物及びその製造方法、並びにゴム組成物の耐摩耗性を評価する方法に関する。
一般的に、タイヤトレッド部のゴム組成物には、要求性能に応じて数種類のポリマーがブレンドされている。また、種類の異なるポリマーが存在する場合、ポリマー毎にフィラーとの相溶性が異なるため、フィラーが偏在することが知られている（例えば、特許文献１参照）。
フィラーが偏在するということは、フィラーの分散性が低いということである。そして、フィラーの分散性が低いと、耐破壊性能や耐摩耗性が悪化すると考えられている。これは、フィラーの分散性が低いと、フィラーが凝集し、凝集したフィラーが破壊の起点となることが原因であると推測される。
しかしながら、必ずしもゴム組成物中のフィラーの分散性が高くなると耐破壊性能や耐摩耗性が向上するというわけではなく、例外も見られる。これまで、このような例外が生じるメカニズム解明のために様々な手法でゴムの破壊現象や摩耗現象が観察されているが、完全に解明されたわけではない。
本発明は、前記課題を解決し、耐摩耗性に優れたゴム組成物及びその製造方法、並びに、ゴム組成物の耐摩耗性を高精度に評価できる方法を提供することを目的とする。
本発明者らが検討したところ、特定の領域でＸ線散乱測定又は中性子散乱測定を実施することにより得られた散乱強度曲線を、特定の式でカーブフィッティングして得られる１０ｎｍ～１００μｍの相関長Ξiの最大値Ξｃの標準偏差σｃが、ゴム組成物の耐摩耗性と高い相関性を示し、標準偏差σｃが小さくなるほど耐摩耗性が良好となる傾向があることを見出した。これは、相関長Ξiが表すポリマーの不均一な網目構造が亀裂進展を抑える役割を担っており、その網目構造のサイズが均一であるほど応力が集中する箇所が低減され、亀裂進展の抑制効果が高くなり、耐摩耗性が向上するためと推察される。
そして、本発明者らが更に検討したところ、最大値Ξｃと標準偏差σｃとがσｃ≦Ξｃ／２の関係を満たし、且つ特定の式で算出されるフィラー分配性指標Ｄが２以下であるゴム組成物では、破壊の起点となるフィラーの凝集塊が少なく、特に良好な耐摩耗性が得られることを見出し、本発明に想到した。
すなわち、本発明は、下記（式１）で表されるｑの領域において、Ｘ線散乱測定又は中性子散乱測定を実施することにより得られた散乱強度曲線Ｉ（ｑ）に対し、下記（式１－２）～（式１－７）でカーブフィッティングして得られる１０ｎｍ～１００μｍの相関長Ξｉの最大値Ξｃと、該最大値Ξｃの標準偏差σｃとの関係がσｃ≦Ξｃ／２であり、下記（式１－８）で得られるフィラー分配性指標Ｄが２以下であるゴム組成物に関する。
すなわち、本発明は、下記（式１）で表されるｑの領域において、Ｘ線散乱測定又は中性子散乱測定を実施することにより得られた散乱強度曲線Ｉ（ｑ）に対し、下記（式１－２）～（式１－７）でカーブフィッティングして得られる１０ｎｍ～１００μｍの相関長Ξｉの最大値Ξｃと、該最大値Ξｃの標準偏差σｃとの関係がσｃ≦Ξｃ／２であり、下記（式１－８）で得られるフィラー分配性指標Ｄが２以下であるゴム組成物に関する。
ゴム成分が２種類の共役ジエン系化合物の重合体であることが好ましい。
上記ゴム組成物は、タイヤ部材に使用されることが好ましい。
Ｘ線散乱測定が小角Ｘ線散乱測定、中性子散乱測定が小角中性子散乱測定であることが好ましい。
ｑが１０ｎｍ－１以下の領域において、Ｘ線散乱測定又は中性子散乱測定を実施することが好ましい。
本発明はまた、上記ゴム組成物の製造方法であって、ゴム成分とフィラーとを混練する前に、ゴム成分と硫黄供与体と硫黄原子含有加硫促進剤とを混練し、その後、得られた混練物にフィラーを加え、１２０℃以上の混練温度で混練する工程を含むゴム組成物の製造方法に関する。
本発明はまた、Ｘ線散乱測定又は中性子散乱測定によってゴム組成物の耐摩耗性を評価する方法であって、上記（式１）で表されるｑの領域において、Ｘ線散乱測定又は中性子散乱測定を実施することにより得られた散乱強度曲線Ｉ（ｑ）に対し、上記（式１－２）～（式１－７）でカーブフィッティングして得られる１０ｎｍ～１００μｍの相関長Ξｉの最大値Ξｃの標準偏差σｃに基いてゴム組成物の耐摩耗性を評価する方法に関する。
本発明によれば、上記（式１）で表されるｑの領域において、Ｘ線散乱測定又は中性子散乱測定を実施することにより得られた散乱強度曲線Ｉ（ｑ）に対し、上記（式１－２）～（式１－７）でカーブフィッティングして得られる１０ｎｍ～１００μｍの相関長Ξｉの最大値Ξｃと、該最大値Ξｃの標準偏差σｃとの関係がσｃ≦Ξｃ／２であり、上記（式１－８）で得られるフィラー分配性指標Ｄが２以下であるゴム組成物であるため、優れた耐摩耗性が得られる。
また、σｃを耐摩耗性の指標として用いることで、ゴム組成物の耐摩耗性を高精度に評価することが可能となる。
また、σｃを耐摩耗性の指標として用いることで、ゴム組成物の耐摩耗性を高精度に評価することが可能となる。
本発明は、上記（式１）で表されるｑの領域において、Ｘ線散乱測定又は中性子散乱測定を実施することにより得られた散乱強度曲線Ｉ（ｑ）に対し、上記（式１－２）～（式１－７）でカーブフィッティングして得られる１０ｎｍ～１００μｍの相関長Ξｉの最大値Ξｃと、該最大値Ξｃの標準偏差σｃとの関係がσｃ≦Ξｃ／２であり、上記（式１－８）で得られるフィラー分配性指標Ｄが２以下であるゴム組成物である。
Ｘ線散乱測定としては、ゴム組成物にＸ線を照射し散乱強度を測定するＳＡＸＳ（Ｓｍａｌｌ－ａｎｇｌｅ Ｘ－ｒａｙ Ｓｃａｔｔｅｒｉｎｇ 小角Ｘ線散乱（散乱角：通常１０度以下））測定を好適に採用できる。なお、小角Ｘ線散乱では、Ｘ線を物質に照射して散乱するＸ線のうち、散乱角が小さいものを測定することで物質の構造情報が得られ、高分子材料のミクロ相分離構造など、数ナノメートルレベルでの規則構造を分析できる。
ＳＡＸＳ測定から詳細な分子構造情報を得るためには、高いＳ／Ｎ比のＸ線散乱プロファイルを測定できることが望ましい。そのため、シンクロトロンから放射されるＸ線は、少なくとも１０１０（ｐｈｏｔｏｎｓ／ｓ／ｍｒａｄ２／ｍｍ２／０．１％ｂｗ）以上の輝度を有することが好ましい。なお、ｂｗはシンクロトロンから放射されるＸ線のｂａｎｄ ｗｉｄｔｈを示す。このようなシンクロトロンの例として、財団法人高輝度光科学研究センター所有の大型放射光施設ＳＰｒｉｎｇ－８のビームラインＢＬ０３ＸＵ、ＢＬ２０ＸＵが挙げられる。
上記Ｘ線の輝度（ｐｈｏｔｏｎｓ／ｓ／ｍｒａｄ２／ｍｍ２／０．１％ｂｗ）は、好ましくは１０１０以上、より好ましくは１０１２以上である。上限は特に限定されないが、放射線ダメージがない程度以下のＸ線強度を用いることが好ましい。
また、上記Ｘ線の光子数（ｐｈｏｔｏｎｓ／ｓ）は、好ましくは１０７以上、より好ましくは１０９以上である。上限は特に限定されないが、放射線ダメージがない程度以下のＸ線強度を用いることが好ましい。
中性子散乱測定としては、ゴム組成物に中性子線を照射し散乱強度を測定するＳＡＮＳ（Ｓｍａｌｌ－Ａｎｇｌｅ Ｎｅｕｔｒｏｎ Ｓｃａｔｔｅｒｉｎｇ 小角中性子散乱（散乱角：通常１０度以下））測定を好適に採用できる。なお、小角中性子散乱では、中性子線を物質に照射して散乱する中性子線のうち散乱角が小さいものを測定して物質の構造情報が得られ、高分子材料のミクロ相分離構造など、数ナノメートルレベルでの規則構造を分析できる。
ＳＡＮＳ測定では、公知の磁気構造や重水素化法を利用した方法を用いることができる。重水素化法を採用する場合、例えば、高分子材料を重水素化溶媒により膨潤化し、重水素溶媒中で平衡状態にある高分子材料に中性子線を照射し、散乱強度を測定することができる。ここで、高分子材料を膨潤させる重水素化溶媒としては、重水、重水素化ヘキサン、重水素化トルエン、重水素化クロロホルム、重水素化メタノール、重ＤＭＳＯ（（Ｄ３Ｃ）２Ｓ＝Ｏ）、重水素化テトラヒドロフラン、重水素化アセトニトリル、重水素化ジクロロメタン、重水素化ベンゼン、重水素化Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミドなどが挙げられる。
ＳＡＮＳなどの中性子散乱測定に使用される中性子線は、独立行政法人日本原子力研究開発機構所有のＪＲＲ－３研究炉のビームラインＳＡＮＳ－Ｊなどを使用して得られる。
ＳＡＸＳ測定と同様に、高いＳ／Ｎ比の中性子散乱プロファイルが得られるという点から、上記中性子線の中性子束強度（ｎｅｕｔｒｏｎｓ／ｃｍ２／ｓ）は、好ましくは１０３以上、より好ましくは１０４以上である。上限は特に限定されないが、放射線ダメージがない程度以下の中性子束強度を用いることが好ましい。
Ｘ線、中性子散乱測定は、下記（式１）で表されるｑの領域で実施される。ｑ（ｎｍ－１）の領域は、数値が大きくなるほどより微細な分子構造の情報が得られるため、Ｘ線、中性子散乱測定を実施するのは、ｑが１０ｎｍ－１以下の領域が好ましく、２０ｎｍ－１以下の領域がより好ましい。
ＳＡＸＳ測定において散乱するＸ線は、Ｘ線検出装置によって検出され、該Ｘ線検出装置からのＸ線検出データを用いて画像処理装置などによって画像が生成される。
Ｘ線検出装置としては、例えば、２次元検出器（Ｘ線フィルム、原子核乾板、Ｘ線撮像管、Ｘ線蛍光増倍管、Ｘ線イメージインテンシファイア、Ｘ線用イメージングプレート、Ｘ線用ＣＣＤ、Ｘ線用非晶質体など）、ラインセンサー１次元検出器を使用できる。分析対象となる高分子材料の種類や状態などにより、適宜Ｘ線検出装置を選択すればよい。
画像処理装置としては、Ｘ線検出装置によるＸ線検出データに基づき、通常のＸ線散乱画像を生成できるものを適宜使用できる。
ＳＡＮＳ測定でもＳＡＸＳ測定と同様の原理により測定可能であり、散乱する中性子線を中性子線検出装置により検出し、該中性子線検出装置からの中性子線検出データを用いて画像処理装置などによって画像が生成される。ここで、前記と同様、中性子線検出装置としては、公知の２次元検出器や１次元検出器、画像処理装置としては、公知の中性子線散乱画像を生成できるものを使用でき、適宜選択すればよい。
そして、ゴム組成物について、ＳＡＸＳ測定やＳＡＮＳ測定などの測定を実施し、得られた散乱強度曲線を以下の方法で解析することにより、１０ｎｍ～１００μｍの相関長Ξi及びその最大値Ξｃと、該最大値Ξｃの標準偏差σｃとを算出できる。
まず、図１に示したようなＳＡＸＳ測定、ＳＡＮＳ測定により得られた散乱強度曲線Ｉ（ｑ）に対して、下記（式１－２）～（式１－７）を用いてカーブフィッティングを行い、フィッティングパラメーターを最小２乗法で求める。
求められたフィッティングパラメーターのうち、相関長ξがポリマーの架橋点距離に相当し、相関長Ξｉがポリマーの不均一網目構造サイズに相当すると推定される。そして、前記のとおり、１０ｎｍ～１００μｍの相関長Ξｉの最大値Ξｃの標準偏差σｃは、耐摩耗性との相関性が高く、σｃが小さいほど耐摩耗性が良好であることから、σｃを耐摩耗性の指標として用いることで、耐摩耗性を高精度に評価することが可能となる。
なお、相関長Ξｉの分布を表す上記（式１－７）に関し、Ξｉが正規分布するとしてガウス関数を用いているが、他の分布関数として、ガンマ関数、ワイブル関数などを用いてもよい。
そして、σｃ≦Ξｃ／２の関係を満たすように調整することで、耐摩耗性に優れたゴム組成物が得られる。より良好な耐摩耗性が得られるという理由から、σｃ、Ξｃは、σｃ≦Ξｃ／３の関係を満たすことが好ましく、σｃ≦Ξｃ／４の関係を満たすことがより好ましい。
また、Ξｃ、σｃは、上記関係を満たしていればよいが、より良好な耐摩耗性が得られるという理由から、Ξｃは、好ましくは５００～１８００ｎｍ、より好ましくは６００～１５００ｎｍであり、σｃは、好ましくは５０～５００ｎｍ、より好ましくは１００～３００ｎｍである。
また、Ξｃ、σｃは、上記関係を満たしていればよいが、より良好な耐摩耗性が得られるという理由から、Ξｃは、好ましくは５００～１８００ｎｍ、より好ましくは６００～１５００ｎｍであり、σｃは、好ましくは５０～５００ｎｍ、より好ましくは１００～３００ｎｍである。
Ξｉ、Ξｃ、σｃは、ゴム組成物に配合するゴム成分、フィラー（充填剤）などの薬品の種類や配合量によって調整することができる。
また、Ξｉ、Ξｃ、σｃは、混練方法によって調整することも可能であり、例えば、ゴム成分とフィラーとを混練する前に、ゴム成分と硫黄供与体と硫黄原子含有加硫促進剤とを混練し、その後、得られた混練物にフィラーを加え、１２０℃以上の混練温度で混練する工程を含む製造方法により、σｃ≦Ξｃ／２の関係を満たすゴム組成物を容易に調製できる。
ゴム成分とフィラーとを混練する前に、ゴム成分と硫黄供与体と硫黄原子含有加硫促進剤とを混練することにより、フィラーによる硫黄供与体及び硫黄原子含有加硫促進剤の吸着を防止して、ゴム成分中に硫黄供与体及び硫黄原子含有加硫促進剤を効率的に分散させることができる。そして、ゴム成分と硫黄供与体と硫黄原子含有加硫促進剤との混練により得られた混練物にフィラーを加え、１２０℃以上の混練温度で混線することで、硫黄供与体から活性硫黄が放出される。この活性硫黄と硫黄原子含有加硫促進剤とゴム成分とが反応し、ゴム成分に硫黄原子含有加硫促進剤の全部又は一部（以下、「加硫促進剤残基」）が結合した状態、すなわち、ゴム成分に「－Ｓ－加硫促進剤残基」が結合したペンダント型構造が形成された状態となる。この反応のメカニズムは、放出された活性硫黄が硫黄原子含有加硫促進剤の硫黄原子と反応し、硫黄原子が２個以上結合した構造が形成され、その構造部分とゴム成分の二重結合部とが反応していると推測される。ペンダント型構造が形成された状態で混練を行うことにより、ゴム成分と共に加硫促進剤残基が移動するため、ゴム組成物全体における加硫促進剤残基の分散状態の均一性が向上し、加硫時の架橋密度の均一化を図ることができる。
なお、ここでいう混練温度とは、混練機中の混練物の実測温度であり、非接触式の温度センサなどで測定することができる。
なお、ここでいう混練温度とは、混練機中の混練物の実測温度であり、非接触式の温度センサなどで測定することができる。
該製造方法の特徴は、前述のとおり、ゴム成分とフィラーを混練する前にゴム成分と硫黄供与体と硫黄原子含有加硫促進剤との混練を開始する点、及びフィラーを加えた後に１２０℃以上の混練温度で混練する点である。以上の要件を満たすのであれば、いずれの工程でいずれの材料を加えても構わない。例えば、混練工程が工程Ｘと工程Ｆとからなる２工程の場合、工程Ｘの初期にゴム成分と硫黄供与体と硫黄原子含有加硫促進剤との混練を開始し、工程Ｘの途中でフィラーを加えて１２０℃以上の混練温度で混練し、その後の工程Ｆを行ってもよい。また、混練工程が工程Ｘと工程Ｙと工程Ｆとからなる３工程の場合、工程Ｘでゴム成分と硫黄供与体と硫黄原子含有加硫促進剤との混練を開始し、その後の工程Ｙでフィラーを加えて１２０℃以上の混練温度で混練し、その後の工程Ｆを行ってもよい。また、３工程の場合の他の例としては、工程Ｘの初期にゴム成分と硫黄供与体と硫黄原子含有加硫促進剤との混練を開始し、工程Ｘの途中でフィラーを加えて１２０℃以上の混練温度で混練し、その後の工程Ｙ及び工程Ｆを行っても良いし、工程Ｘの初期にゴム成分と硫黄供与体と硫黄原子含有加硫促進剤との混練を開始し、工程Ｘの途中でフィラーを加え、その後の工程Ｙでさらにフィラーを加えて１２０℃以上の混練温度で混練し、その後の工程Ｆを行ってもよい。なお、各工程の間にリミルを行ってもよい。
ゴム成分と硫黄供与体と硫黄原子含有加硫促進剤との混練温度は、特に限定されるものではないが、硫黄供与体及び硫黄原子含有加硫促進剤による架橋反応が進行してしまうことを抑制するという観点から１６０℃未満が好ましく、１５０℃以下がより好ましい。下限は特に限定されないが、好ましくは６０℃以上である。
また、ゴム成分にフィラーを加える前における、ゴム成分と硫黄供与体と硫黄原子含有加硫促進剤との混練時間は、特に限定されるものではないが、硫黄供与体及び硫黄原子含有加硫促進剤の分散性向上の観点から、例えば１０秒以上である。上限は特に限定されないが、好ましくは８分以下である。
フィラーを加えた後の混練温度は、１２０℃以上であればよいが、架橋反応が進行し過ぎることを抑制するという観点から、１７０℃以下が好ましい。
また、ゴム成分にフィラーを加えて混練温度が１２０℃に達した後の混練時間は、特に限定されるものではないが、硫黄供与体及び硫黄原子含有加硫促進剤の分散性向上の観点から、２分以上が好ましい。上限は特に限定されないが、１０分以下が好ましい。なお、ここでいう混練時間は、ゴム成分にフィラーを加えて混練温度が１２０℃に達した時点から、混練工程の全工程が終了する時点までの時間であり、例えば、工程Ｘにおいてゴム成分にフィラーを加えて混練温度が１２０℃に達した場合、その時点から工程Ｆ（最後の混練工程）が終了する時点までの時間である。
ゴム成分としては、イソプレン、ブタジエンなどの共役ジエン系化合物を１種類以上用いた重合体を使用することができ、より具体的には、天然ゴム（ＮＲ）、イソプレンゴム（ＩＲ）、ブタジエンゴム（ＢＲ）、スチレンブタジエンゴム（ＳＢＲ）、アクリロニトリルブタジエンゴム（ＮＢＲ）、クロロプレンゴム（ＣＲ）、ブチルゴム（ＩＩＲ）、ハロゲン化ブチルゴム（Ｘ－ＩＩＲ）、スチレンイソプレンブタジエンゴム（ＳＩＢＲ）などを使用することができる。これらは、２種類を併用することが好ましく、ＳＢＲ、ＢＲの併用がより好ましい。
また、ＳＢＲは、窒素含有化合物によって主鎖が、末端変性剤によって少なくとも一方の末端が変性された変性ＳＢＲであることが好ましい。窒素含有化合物としては、例えば、３－又は４－（２－アゼチジノエチル）スチレン、３－又は４－（２－ピロリジノエチル）スチレン、３－又は４－（２－ピペリジノエチル）スチレン、３－又は４－（２－ヘキサメチレンイミノエチル）スチレンなどが挙げられ、３－又は４－（２－ピロリジノエチル）スチレンが好ましい。また、末端変性剤としては、ケイ素含有化合物が好ましく、例えば、３－（Ｎ，Ｎ－ジメチルアミノ）プロピルトリメトキシシラン、３－（Ｎ，Ｎ－ジエチルアミノプロピル）トリメトキシシラン、３－（Ｎ，Ｎ－ジメチルアミノ）プロピルトリエトキシシラン、３－（Ｎ，Ｎ－ジエチルアミノプロピル）トリエトキシシラン、３－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、２－（４－ピリジルエチル）トリエトキシシラン、Ｎ－（３－トリエトキシシリルプロピル）－４，５－ジヒドロイミダゾール、四塩化ケイ素などが挙げられ、好ましくは３－（Ｎ，Ｎ－ジメチルアミノ）プロピルトリメトキシシランである。
本発明のゴム組成物において、ＳＢＲの含有量は、ゴム成分１００質量％中、好ましくは４０質量％以上、より好ましくは６０質量％以上であり、また、好ましくは９５質量％以下、より好ましくは８５質量％以下である。
本発明のゴム組成物において、ＢＲの含有量は、ゴム成分１００質量％中、好ましくは５質量％以上、より好ましくは１５質量％以上であり、また、好ましくは６０質量％以下、より好ましくは４０質量％以下である。
フィラーとしては、タイヤ分野において汎用されているシリカ、カーボンブラックなどの補強性フィラーを使用することができる。
本発明のゴム組成物において、シリカの含有量は、ゴム成分１００質量部に対して、好ましくは３０質量部以上、より好ましくは６０質量部以上であり、また、好ましくは１２０質量部以下、より好ましくは９０質量部以下である。
本発明のゴム組成物において、カーボンブラックの含有量は、ゴム成分１００質量部に対して、好ましくは１質量部以上、より好ましくは３質量部以上であり、また、好ましくは２０質量部以下、より好ましくは１０質量部以下である。
硫黄供与体は、元素硫黄や、加硫条件（例えば１５０℃、１．５Ｍｐａ）又はそれ以下の温度及び圧力下で活性硫黄を放出する硫黄化合物であり、換言すれば、加硫条件（例えば１５０℃、１．５Ｍｐａ）又はそれ以下の温度及び圧力下において、一般的に加硫剤としての機能を発揮する化合物である。この放出された活性硫黄が、上述のペンダント型構造の一部を形成する。
硫黄供与体としては、元素硫黄及び／又は前述した活性硫黄を放出する硫黄化合物を用いることができる。元素硫黄としては、例えば、粉末硫黄、沈降硫黄、コロイド硫黄、表面処理硫黄、不溶性硫黄などが挙げられる。
硫黄供与体として元素硫黄を配合し過ぎると、混練工程で加硫反応が過剰に進行するおそれがある。よって、本発明のゴム組成物において、硫黄供与体として元素硫黄を用いる場合、ゴム成分とフィラーとを混練する前に投入する元素硫黄の含有量は、ゴム成分（全工程で使用するゴム成分の合計量）１００質量部に対して、０．１質量部以下が好ましい。また、上記含有量は、破壊強度の観点から、０．０５質量部以上が好ましい。
硫黄供与体として機能する硫黄化合物としては、－（－Ｍ－Ｓ－Ｃ－）ｎ－で表される高分子多硫化物や、硫黄原子が２個以上単結合した構造－Ｓｎ－（ｎ≧２）を有し、活性硫黄を放出する化合物が挙げられる。この化合物としては、アルキルフェノール・ジスルフィド、モルホリン・ジスルフィド、－Ｓｎ－（ｎ≧２）を有するチウラム系加硫促進剤（テトラメチルチウラムジスルフィド（ＴＭＴＤ）、テトラエチルチウラムジスルフィド（ＴＥＴＤ）、テトラプチルチウラムジスルフィド（ＴＢＴＤ）、ジペンタメチレンチウラムテトラスルフィド（ＤＰＴＴ）など）、２－（４’－モルホリノジチオ）ベンゾチアゾール（ＭＤＢ）や、ポリスルフィド型シランカップリング剤（例えばデグサ社製のＳｉ６９（ビス（３－トリエトキシシリルプロピル）テトラスルフィド））が挙げられる。これらは、１種を単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。なかでも、－Ｓｎ－（ｎ≧２）を有するチウラム系加硫促進剤が好ましく、ジペンタメチレンチウラムテトラスルフィド（ＤＰＴＴ）がより好ましい。
本発明のゴム組成物において、硫黄供与体として硫黄化合物を用いる場合、ゴム成分とフィラーとを混練する前に投入する硫黄化合物の含有量は、ペンダント型構造の形成を促すという理由から、ゴム成分（全工程で使用するゴム成分の合計量）１００質量部に対して、０．１質量部以上が好ましく、０．２質量部以上がより好ましい。また、上記含有量は、混練中のゲル化抑制の観点から、５質量部以下が好ましく、３質量部以下がより好ましく、２質量部以下がさらに好ましい。
硫黄原子含有加硫促進剤とは、他の分子と単結合で結合している硫黄原子を含む加硫促進剤を指す。硫黄原子含有加硫促進剤には、活性硫黄を放出するものと放出しないものとが存在するが、混練中の架橋反応の進行を抑制するという観点から、活性硫黄を放出しないもの（硫黄非放出性の硫黄原子含有加硫促進剤）が好ましい。
硫黄原子含有加硫促進剤の中には、硫黄供与体として機能するもの（例えば、他の分子と単結合で結合している硫黄原子を含む加硫促進剤）が存在する。したがって、硫黄供与体として機能する硫黄原子含有加硫促進剤を単独で多く配合したり２種以上を併用したりすることでもペンダント型構造の形成は可能である。しかしながら、硫黄供与体として機能する硫黄原子含有加硫促進剤を多く配合すると混練中に架橋反応が過度に進行するおそれがあり、少なく配合すると架橋密度の均一化の効果が得られ難くなるおそれがあるため、フィラーを加える前に混練する硫黄供与体及び硫黄原子含有加硫促進剤は、硫黄供与体（硫黄供与体として機能する硫黄原子含有加硫促進剤及び／又はそれ以外の硫黄供与体）と硫黄非放出性の硫黄原子含有加硫促進剤（硫黄供与体として機能しない硫黄原子含有加硫促進剤）との組み合わせであることが好ましい。
硫黄非放出性の硫黄原子含有加硫促進剤とは、例えば、加硫条件（例えば１５０℃、１．５Ｍｐａ）又はそれ以下の温度及び圧力下で活性硫黄を放出しない硫黄原子含有加硫促進剤を指す。この硫黄非放出性の硫黄原子含有加硫促進剤は、換言すれば、加硫条件（例えば１５０℃、１．５Ｍｐａ）又はそれ以下の温度及び圧力下において加硫剤としての機能を発揮しない硫黄原子含有加硫促進剤である。
硫黄非放出性の硫黄原子含有加硫促進剤としては、－Ｓｎ－（ｎ≧２）を有しない、チアゾール系加硫促進剤（２－メルカプトベンゾチアゾール（ＭＢＴ）、２－メルカプトベンゾチアゾールの亜鉛塩（ＺｎＭＢＴ）、２ーメルカプトベンゾチアゾールのシクロヘキシルアミン塩（ＣＭＢＴ）など）や、スルフェンアミド系加硫促進剤（Ｎ－シクロヘキシル－２－ベンゾチアゾリルスルフェンアミド（ＣＢＳ）、Ｎ－（ｔｅｒｔ－プチル）－２－ベンゾチアゾールスルフェンアミド（ＴＢＢＳ）、Ｎ，Ｎ－ジシクロヘキシルー２－ベンゾチアゾリルスルフェンアミドなど）、テトラメチルチウラムモノスルフイド（ＴＭＴＭ）、ジチオカルバミン酸塩系加硫促進剤（ピペリジニウムペンタメチレンジチオカルバメート（ＰＰＤＣ）、ジメチルジチオカルバミン酸亜鉛（ＺｎＭＤＣ）、ジエチルジチオカルバミン酸亜鉛（ＺｎＥＤＣ）、ジブチルジチオカルバミン酸亜鉛（ＺｎＢＤＣ）、Ｎ－エチル－Ｎ－フェニルジチオカルバミン酸亜鉛（ＺｎＥＰＤＣ）、Ｎ－ペンタメチレンジチオカルバミン酸亜鉛（ＺｎＰＤＣ）、ジブチルジチオカルバミン酸ナトリウム（ＮａＢＤＣ）、ジメチルジチオカルバミン酸銅（ＣｕＭＤＣ）、ジメチルジチオカルバミン酸鉄（ＦｅＭＤＣ）、ジエチルジチオカルパミン酸テルル（ＴｅＥＤＣ）など）などが挙げられる。これらは、１種を単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。なかでも、－Ｓｎ－（ｎ≧２）を有しないスルフェンアミド系加硫促進剤が好ましく、Ｎ－（ｔｅｒｔ－プチル）－２－ベンゾチアゾールスルフェンアミド（ＴＢＢＳ）がより好ましい。なお、チアゾール系加硫促進剤であるジ－２－ベンゾチアゾリルジスルフィド（ＭＢＴＳ）は、－Ｓｎ－（ｎ≧２）を有しており、硫黄を放出する加硫促進剤であるが、一般的な配合量では天然ゴムやブタジエンゴムに対して加硫剤としての機能を発揮しないため、硫黄非放出性の硫黄原子含有加硫促進剤と同等に用いることができる。
本発明のゴム組成物において、ゴム成分とフィラーとを混練する前に投入する硫黄原子含有加硫促進剤の含有量は、加硫工程において加硫反応が効率的に進むという理由から、ゴム成分（全工程で使用するゴム成分の合計量）１００質量部に対して、１．０質量部以上が好ましく、１．５質量部以上がより好ましい。また、上記含有量は、スコーチ性、表面への析出抑制の観点から、５質量部以下が好ましく、３質量部以下がより好ましい。
上記製造方法は、ゴム成分とフィラーとを混練する前以外の工程で、さらに追加の硫黄供与体を混練してもよい。追加の硫黄供与体を加えることで混練中に架橋反応の進行が過度に進むことを抑制しつつ、加硫中に十分に架橋反応を進行させることができる。
追加の硫黄供与体は、例えば、ゴム成分にフィラーを加えて１２０℃以上の混練温度で混練する工程Ｘの後半や工程Ｙ、あるいは、ゴム成分にフィラーを加えて１２０℃以上の混練温度で混練した後の工程Ｆで投入される。追加の硫黄供与体は、ゴム成分にフィラーを加える前に混練したものと同種のものであってもよいし、別種のものであってもよく、例えば、粉末硫黄、沈降硫黄、コロイド硫黄、表面処理硫黄、不溶性硫黄などの元素硫黄が挙げられる。
本発明のゴム組成物において、追加の硫黄供与体の含有量は特に限定されないが、加硫工程において加硫反応が効率的に進むという理由から、ゴム成分（全工程で使用するゴム成分の合計量）１００質量部に対して、０．５質量部以上が好ましく、０．８質量部以上がより好ましい。また、追加の硫黄供与体の含有量は、耐摩耗性に優れるという理由から、３．０質量部以下が好ましく、２．５質量部以下がより好ましい。
追加の硫黄供与体を加える際には、追加の加硫促進剤を加えてもよい。追加の加硫促進剤としては、例えば、硫黄原子含有加硫促進剤であるチウラム系ジスルフィドやポリスルフィドなどや、硫黄原子を有しない加硫促進剤であるグアニジン系、アルデヒド－アミン系、アルデビド－アンモニア系、イミダゾリン系加硫促進剤などが挙げられる。
本発明のゴム組成物において、追加の加硫促進剤の含有量は特に限定されないが、ゴム成分（全工程で使用するゴム成分の合計量）１００質量部に対して、０．１質量部以上が好ましく、１質量部以上がより好ましい。また、上記含有量は、５質量部以下が好ましく、３質量部以下がより好ましい。
工程Ｆを経て得られた未加硫ゴム組成物を、通常の方法で加硫することで、本発明のゴム組成物（加硫ゴム組成物）が得られる。
本発明のゴム組成物は、下記（式１－８）で得られるフィラー分配性指標Ｄが２以下である。より良好な耐摩耗性が得られるという理由から、Ｄは、１．８以下が好ましく、１．７以下がより好ましい。値が１に近いほどフィラーの偏在が少なく、良好である。
上記のとおり、Ｄは、耐摩耗性と相関するものであるから、σｃとともに、Ｄを耐摩耗性の指標として用いることも可能である。
なお、ポリマーＡ、Ｂは、ゴム組成物中に含まれるポリマー（ゴム成分）を示しており、例えば、ＳＢＲ、ＢＲを併用する場合であって、ＳＢＲの方が混練投入時の体積分率が高ければ、ＳＢＲをポリマーＡに、ＢＲをポリマーＢとすればよい。また、上記の例で、ポリマーＡをＳＢＲとした場合に、複数種のＳＢＲを併用しているのであれば、その全てをポリマーＡとする。
また、ｆＡ、ｆＢは、特許第５５９６９５６号に記載の方法で未加硫ゴム組成物中のゲル分率を測定してから、トルエン不溶分（フィラーゲル成分）中のポリマーＡ、Ｂの比率を調査することで算出される。ポリマーＡ、Ｂの比率の調査方法としてはガスクロマトグラフィー等が挙げられるが、特に限定されない。
Ｄは、Ξｉ、Ξｃ、σｃと同様、ゴム組成物に配合するゴム成分、フィラーなどの薬品の種類や配合量によって調整することができる。また、Ｄは、混練方法によっても調整することができ、例えば、ＳＢＲ、ＢＲを併用する場合、シリカはＳＢＲに偏在しやすいため、ＢＲとシリカを予めマスターバッチ化しておくことで、シリカのＳＢＲへの偏在を抑制し、Ｄを低減させることができる。
なお、マスターバッチ化の手法としては、ポリマーとフィラーを溶媒中で混合する手法や、ポリマーとフィラーとを混練機中で混合させる方法等があるが、特に限定されない。
なお、マスターバッチ化の手法としては、ポリマーとフィラーを溶媒中で混合する手法や、ポリマーとフィラーとを混練機中で混合させる方法等があるが、特に限定されない。
本発明のゴム組成物は、耐摩耗性に優れることから、トレッドなどのタイヤ部材に好適に使用できる。本発明のゴム組成物を用いて空気入りタイヤを製造する場合、本発明のゴム組成物を、未加硫の段階でトレッドなどの形状に合わせて押出し加工し、タイヤ成型機上にて通常の方法にて成形し、他のタイヤ部材とともに貼り合わせ、未加硫タイヤ（生タイヤ）を形成した後、加硫機中で加熱加圧すればよい。
実施例に基づいて、本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらのみに限定されるものではない。
以下、モノマー（１）、ＳＢＲ（１）の合成で使用した各種薬品について、まとめて説明する。
シクロへキサン：関東化学（株）製
ピロリジン：関東化学（株）製
ジビニルベンゼン：シグマアルドリッチ社製
１．６Ｍ ｎ－ブチルリチウムへキサン溶液：関東化学（株）製
イソプロパノール：関東化学（株）製
スチレン：関東化学（株）製
ブタジエン：高千穂化学工業（株）製
テトラメチルエチレンジアミン：関東化学（株）製
変性剤：アヅマックス社製の３－（Ｎ，Ｎ－ジメチルアミノプロピル）トリメトキシシラン
２，６－ｔｅｒｔ－ブチル－ｐ－クレゾール：大内新興化学工業（株）製
メタノール：関東化学（株）製
シクロへキサン：関東化学（株）製
ピロリジン：関東化学（株）製
ジビニルベンゼン：シグマアルドリッチ社製
１．６Ｍ ｎ－ブチルリチウムへキサン溶液：関東化学（株）製
イソプロパノール：関東化学（株）製
スチレン：関東化学（株）製
ブタジエン：高千穂化学工業（株）製
テトラメチルエチレンジアミン：関東化学（株）製
変性剤：アヅマックス社製の３－（Ｎ，Ｎ－ジメチルアミノプロピル）トリメトキシシラン
２，６－ｔｅｒｔ－ブチル－ｐ－クレゾール：大内新興化学工業（株）製
メタノール：関東化学（株）製
（モノマー（１）の合成）
十分に窒素置換した１００ｍｌ容器に、シクロヘキサン５０ｍｌ、ピロリジン４．１ｍｌ、ジビニルベンゼン８．９ｍｌを加え、０℃にて１．６Ｍ ｎ－ブチルリチウムヘキサン溶液０．７ｍｌを加えて攪拌した。１時間後、イソプロパノールを加えて反応を停止させ、抽出・精製を行うことでモノマー（１）を得た。
十分に窒素置換した１００ｍｌ容器に、シクロヘキサン５０ｍｌ、ピロリジン４．１ｍｌ、ジビニルベンゼン８．９ｍｌを加え、０℃にて１．６Ｍ ｎ－ブチルリチウムヘキサン溶液０．７ｍｌを加えて攪拌した。１時間後、イソプロパノールを加えて反応を停止させ、抽出・精製を行うことでモノマー（１）を得た。
（ＳＢＲ（１）の合成）
十分に窒素置換した１０００ｍｌ耐圧製容器に、シクロヘキサン６００ｍｌ、スチレン１２．６ｍｌ、ブタジエン７１．０ｍｌ、モノマー（１）０．０６ｇ、テトラメチルエチレンジアミン０．１１ｍｌを加え、４０℃で１．６Ｍ ｎ－ブチルリチウムヘキサン溶液０．２ｍｌを加えて撹拌した。３時間後、変性剤を０．５ｍｌ加えて攪拌した。１時間後、イソプロパノール３ｍｌを加えて重合を停止させた。反応溶液に２，６－ｔｅｒｔ－ブチル－ｐ－クレゾール１ｇを添加後、メタノールで再沈殿処理を行い、加熱乾燥させてＳＢＲ（１）を得た。
十分に窒素置換した１０００ｍｌ耐圧製容器に、シクロヘキサン６００ｍｌ、スチレン１２．６ｍｌ、ブタジエン７１．０ｍｌ、モノマー（１）０．０６ｇ、テトラメチルエチレンジアミン０．１１ｍｌを加え、４０℃で１．６Ｍ ｎ－ブチルリチウムヘキサン溶液０．２ｍｌを加えて撹拌した。３時間後、変性剤を０．５ｍｌ加えて攪拌した。１時間後、イソプロパノール３ｍｌを加えて重合を停止させた。反応溶液に２，６－ｔｅｒｔ－ブチル－ｐ－クレゾール１ｇを添加後、メタノールで再沈殿処理を行い、加熱乾燥させてＳＢＲ（１）を得た。
以下、実施例及び比較例で使用した各種薬品について、まとめて説明する。
ＳＢＲ（１）：上記方法で合成
ＳＢＲ（２）：日本ゼオン（株）製のＮｉｐｏｌ １５０２（Ｅ－ＳＢＲ、結合スチレン量：２３．５質量％、ビニル量：２０質量％未満）
ＢＲ：宇部興産（株）製のＢＲ１５０Ｂ
マスターバッチＢＲ：ＢＲ（宇部興産（株）製のＢＲ１５０Ｂ）とシリカ（ＥＶＯＮＩＫ社製のウルトラジルＶＮ３－Ｇ）との混合物（ＢＲ１００質量部に対してシリカ７０質量部含有）
加硫促進剤：大内新興化学工業（株）製のノクセラーＮＳ（Ｎ－（ｔｅｒｔ－ブチル）－２－ベンゾチアゾ－ルスルフェンアミド（ＴＢＢＳ））
硫黄供与体：大内新興化学工業（株）製のノクセラーＴＲＡ（ジペンタメチレンチウラムテトラスルフィド（ＤＰＴＴ））
シリカ：ＥＶＯＮＩＫ社製のウルトラジルＶＮ３－Ｇ（Ｎ２ＳＡ：１７５ｍ２／ｇ）
シランカップリング剤：ＥＶＯＮＩＫ社製のＳｉ２６６（ビス－（３－トリエトキシシリルプロピル）ジスルフィド）
カーボンブラック：三菱化学（株）製のダイヤブラックＩ（Ｎ２ＳＡ：９８ｍ２／ｇ、ＤＢＰ：１２４ｍｌ／１００ｇ）
オイル：出光興産（株）製のダイアナプロセスＡＨ－２４
酸化亜鉛：三井金属工業（株）製の酸化亜鉛
ステアリン酸：日油（株）製のステアリン酸「椿」
老化防止剤：精工化学（株）製のオゾノン６Ｃ（Ｎ－（１，３－ジメチルブチル）－Ｎ’－フェニル－ｐ－フェニレンジアミン）
硫黄：鶴見化学工業（株）製の粉末硫黄
ＳＢＲ（１）：上記方法で合成
ＳＢＲ（２）：日本ゼオン（株）製のＮｉｐｏｌ １５０２（Ｅ－ＳＢＲ、結合スチレン量：２３．５質量％、ビニル量：２０質量％未満）
ＢＲ：宇部興産（株）製のＢＲ１５０Ｂ
マスターバッチＢＲ：ＢＲ（宇部興産（株）製のＢＲ１５０Ｂ）とシリカ（ＥＶＯＮＩＫ社製のウルトラジルＶＮ３－Ｇ）との混合物（ＢＲ１００質量部に対してシリカ７０質量部含有）
加硫促進剤：大内新興化学工業（株）製のノクセラーＮＳ（Ｎ－（ｔｅｒｔ－ブチル）－２－ベンゾチアゾ－ルスルフェンアミド（ＴＢＢＳ））
硫黄供与体：大内新興化学工業（株）製のノクセラーＴＲＡ（ジペンタメチレンチウラムテトラスルフィド（ＤＰＴＴ））
シリカ：ＥＶＯＮＩＫ社製のウルトラジルＶＮ３－Ｇ（Ｎ２ＳＡ：１７５ｍ２／ｇ）
シランカップリング剤：ＥＶＯＮＩＫ社製のＳｉ２６６（ビス－（３－トリエトキシシリルプロピル）ジスルフィド）
カーボンブラック：三菱化学（株）製のダイヤブラックＩ（Ｎ２ＳＡ：９８ｍ２／ｇ、ＤＢＰ：１２４ｍｌ／１００ｇ）
オイル：出光興産（株）製のダイアナプロセスＡＨ－２４
酸化亜鉛：三井金属工業（株）製の酸化亜鉛
ステアリン酸：日油（株）製のステアリン酸「椿」
老化防止剤：精工化学（株）製のオゾノン６Ｃ（Ｎ－（１，３－ジメチルブチル）－Ｎ’－フェニル－ｐ－フェニレンジアミン）
硫黄：鶴見化学工業（株）製の粉末硫黄
（実施例及び比較例）
表１に示す配合内容に従い、工程Ｘに示す各種薬品を、１．７Ｌバンバリーミキサーにて、排出温度１００℃で５．０分間混練した（工程Ｘ）。次に、工程Ｘの混練物及び工程Ｙに示す各種薬品を、１．７Ｌバンバリーミキサーにて、１４０℃以上で３０秒混練し、さらに排出温度１５０℃で３分間混練した（工程Ｙ）。そして、工程Ｙの混練物及び工程Ｆに示す各種薬品を、オープンロールを用いて約８０℃で３分間混練りし（工程Ｆ）、未加硫ゴム組成物を得た。得られた未加硫ゴム組成物を所定の形状のロ金を備えた押し出し機でトレッドの形状に押し出し成形し、他のタイヤ部材とともに貼り合わせて未加硫タイヤを形成し、１７０℃の条件下で１２分間プレス加硫することにより、試験用タイヤ（タイヤサイズ：１９５／６５Ｒ１５）を製造した。
表１に示す配合内容に従い、工程Ｘに示す各種薬品を、１．７Ｌバンバリーミキサーにて、排出温度１００℃で５．０分間混練した（工程Ｘ）。次に、工程Ｘの混練物及び工程Ｙに示す各種薬品を、１．７Ｌバンバリーミキサーにて、１４０℃以上で３０秒混練し、さらに排出温度１５０℃で３分間混練した（工程Ｙ）。そして、工程Ｙの混練物及び工程Ｆに示す各種薬品を、オープンロールを用いて約８０℃で３分間混練りし（工程Ｆ）、未加硫ゴム組成物を得た。得られた未加硫ゴム組成物を所定の形状のロ金を備えた押し出し機でトレッドの形状に押し出し成形し、他のタイヤ部材とともに貼り合わせて未加硫タイヤを形成し、１７０℃の条件下で１２分間プレス加硫することにより、試験用タイヤ（タイヤサイズ：１９５／６５Ｒ１５）を製造した。
上記で得られた未加硫ゴム組成物、試験用タイヤについて下記の評価を行った。結果を表１に示す。
１．ＳＡＮＳ測定法
厚み約１ｍｍのプレート状試料（成型品）を重水素化トルエンで平衡膨潤させた状態でサンプルホルダーに取り付け、室温にて試料に中性子線を照射した。試料から検出器までの距離が２．５ｍ、１０ｍ、及びフォーカシングレンズ測定から得られた絶対散乱強度曲線を最小２乗法にて結合させた。３つの曲線の結合は、試料から検出器までの距離が２.５ｍの測定から得られる散乱強度曲線を固定し、１０ｍ、フォーカシングレンズ測定から得られる散乱強度曲線をシフトさせた。得られた散乱強度曲線Ｉ（ｑ）に対して、（式１－２）～（式１－７）を用いてカーブフィッティングを行い、フィッティングパラメーターΞｉ（１０ｎｍ～１００μｍの相関長（ポリマーの不均一網目構造サイズ））を最小２乗法で求め、該相関長Ξｉの最大値Ξｃと、その標準偏差σｃを算出した。
（ＳＡＮＳ装置）
ＳＡＮＳ：独立行政法人日本原子力研究開発機構所有のＪＲＲ－３研究炉のビームラインＳＡＮＳ－Ｊ付属のＳＡＮＳ測定装置
（測定条件）
中性子線の波長：６．５Å
中性子線の中性子束強度：９．９×１０７ｎｅｕｔｒｏｎｓ／ｃｍ２／ｓ
試料から検出器までの距離：２．５ｍ、１０ｍ（なお、更に小角側の情報を得るために試料から検出器までの距離１０ｍの条件下、フォーカシングレンズを用いた測定を行った。）
（検出器）
２次元検出器（３Ｈｅ ２次元検出器及び２次元フォトマル＋ＺｎＳ／６ＬｉＦ検出器）
厚み約１ｍｍのプレート状試料（成型品）を重水素化トルエンで平衡膨潤させた状態でサンプルホルダーに取り付け、室温にて試料に中性子線を照射した。試料から検出器までの距離が２．５ｍ、１０ｍ、及びフォーカシングレンズ測定から得られた絶対散乱強度曲線を最小２乗法にて結合させた。３つの曲線の結合は、試料から検出器までの距離が２.５ｍの測定から得られる散乱強度曲線を固定し、１０ｍ、フォーカシングレンズ測定から得られる散乱強度曲線をシフトさせた。得られた散乱強度曲線Ｉ（ｑ）に対して、（式１－２）～（式１－７）を用いてカーブフィッティングを行い、フィッティングパラメーターΞｉ（１０ｎｍ～１００μｍの相関長（ポリマーの不均一網目構造サイズ））を最小２乗法で求め、該相関長Ξｉの最大値Ξｃと、その標準偏差σｃを算出した。
（ＳＡＮＳ装置）
ＳＡＮＳ：独立行政法人日本原子力研究開発機構所有のＪＲＲ－３研究炉のビームラインＳＡＮＳ－Ｊ付属のＳＡＮＳ測定装置
（測定条件）
中性子線の波長：６．５Å
中性子線の中性子束強度：９．９×１０７ｎｅｕｔｒｏｎｓ／ｃｍ２／ｓ
試料から検出器までの距離：２．５ｍ、１０ｍ（なお、更に小角側の情報を得るために試料から検出器までの距離１０ｍの条件下、フォーカシングレンズを用いた測定を行った。）
（検出器）
２次元検出器（３Ｈｅ ２次元検出器及び２次元フォトマル＋ＺｎＳ／６ＬｉＦ検出器）
２．フィラー分配性指標Ｄ
特許第５５９６９５６号に記載の方法に基づいて未加硫ゴム組成物中のゲル分率を測定してから、ガスクロマトグラフィーにより、トルエン不溶分（フィラーゲル成分）中のポリマーＡ、Ｂの比率を調査した。そして、下記式（１－８）により、未加硫ゴム組成物のフィラー分配性指標Ｄを算出した。なお、今回の試験では、ＳＢＲをポリマーＡ、ＢＲをポリマーＢとした。値が１に近いほどフィラーの偏在が少なく、フィラーが良好に分散していることを示す。
特許第５５９６９５６号に記載の方法に基づいて未加硫ゴム組成物中のゲル分率を測定してから、ガスクロマトグラフィーにより、トルエン不溶分（フィラーゲル成分）中のポリマーＡ、Ｂの比率を調査した。そして、下記式（１－８）により、未加硫ゴム組成物のフィラー分配性指標Ｄを算出した。なお、今回の試験では、ＳＢＲをポリマーＡ、ＢＲをポリマーＢとした。値が１に近いほどフィラーの偏在が少なく、フィラーが良好に分散していることを示す。
３．実車耐摩耗性
上記試験用タイヤを国産ＦＦ車に装着し、８０００ｋｍ走行後のタイヤトレッド部の溝深さを測定し、タイヤ溝深さが１ｍｍ減るときの走行距離を算出し、下記の式により指数化した。指数が大きいほど、耐摩耗性が良好である。
（各配合のタイヤ溝が１ｍｍ減るときの走行距離）／（比較例１のタイヤ溝が１ｍｍ減るときの走行距離）×１００
上記試験用タイヤを国産ＦＦ車に装着し、８０００ｋｍ走行後のタイヤトレッド部の溝深さを測定し、タイヤ溝深さが１ｍｍ減るときの走行距離を算出し、下記の式により指数化した。指数が大きいほど、耐摩耗性が良好である。
（各配合のタイヤ溝が１ｍｍ減るときの走行距離）／（比較例１のタイヤ溝が１ｍｍ減るときの走行距離）×１００
表１より、σｃと耐摩耗性とに高い相関性があり、σｃが小さいほど、耐摩耗性が良好であることが分かる。また、σｃ≦Ξｃ／２の関係を満たし、且つＤが２以下である実施例では、特に良好な耐摩耗性が得られることが分かる。
Claims (5)
- ゴム成分、フィラー、硫黄供与体及び硫黄原子含有加硫促進剤を含有し、
ゴム成分が、天然ゴム、イソプレンゴム、ブタジエンゴム、スチレンブタジエンゴム、アクリロニトリルブタジエンゴム、クロロプレンゴム、ブチルゴム、ハロゲン化ブチルゴム及びスチレンイソプレンブタジエンゴムからなる群より選択される２種であり、
フィラーが、シリカ及びカーボンブラックからなる群より選択される少なくとも１種であり、
硫黄供与体が、－Ｓｎ－（ｎ≧２）を有するチウラム系加硫促進剤であり、
下記（式１）で表されるｑの領域において、Ｘ線散乱測定又は中性子散乱測定を実施することにより得られた散乱強度曲線Ｉ（ｑ）に対し、下記（式１－２）～（式１－７）でカーブフィッティングして得られる１０ｎｍ～１００μｍの相関長Ξｉのうち最大となるものをΞｃとした場合、該Ξｃの標準偏差σｃとの関係がσｃ≦Ξｃ／２であり、
下記（式１－８）で得られるフィラー分配性指標Ｄが２以下であるゴム組成物。
- タイヤ部材に使用される請求項１記載のゴム組成物。
- Ｘ線散乱測定が小角Ｘ線散乱測定、中性子散乱測定が小角中性子散乱測定である請求項１又は２記載のゴム組成物。
- ｑが１０ｎｍ－１以下の領域において、Ｘ線散乱測定又は中性子散乱測定を実施する請求項１～３のいずれかに記載のゴム組成物。
- 請求項１～４のいずれかに記載のゴム組成物の製造方法であって、
フィラーの非存在下でゴム成分と硫黄供与体と硫黄原子含有加硫促進剤とを混練し、その後、得られた混練物にフィラーを加え、１２０℃以上の混練温度で混練する工程を含むゴム組成物の製造方法。
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