JP7449097B2 - laser processing equipment - Google Patents

laser processing equipment Download PDF

Info

Publication number
JP7449097B2
JP7449097B2 JP2020006409A JP2020006409A JP7449097B2 JP 7449097 B2 JP7449097 B2 JP 7449097B2 JP 2020006409 A JP2020006409 A JP 2020006409A JP 2020006409 A JP2020006409 A JP 2020006409A JP 7449097 B2 JP7449097 B2 JP 7449097B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
chuck table
workpiece
laser beam
unit
laser processing
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2020006409A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2020171961A (en
Inventor
一馬 関家
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Disco Corp
Original Assignee
Disco Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Disco Corp filed Critical Disco Corp
Priority to US16/830,407 priority Critical patent/US11534862B2/en
Priority to CN202010257972.4A priority patent/CN111805076A/en
Publication of JP2020171961A publication Critical patent/JP2020171961A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP7449097B2 publication Critical patent/JP7449097B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K26/00Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
    • B23K26/36Removing material
    • B23K26/38Removing material by boring or cutting
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K26/00Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
    • B23K26/02Positioning or observing the workpiece, e.g. with respect to the point of impact; Aligning, aiming or focusing the laser beam
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K26/00Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
    • B23K26/02Positioning or observing the workpiece, e.g. with respect to the point of impact; Aligning, aiming or focusing the laser beam
    • B23K26/04Automatically aligning, aiming or focusing the laser beam, e.g. using the back-scattered light
    • B23K26/046Automatically focusing the laser beam
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K26/00Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
    • B23K26/70Auxiliary operations or equipment
    • B23K26/702Auxiliary equipment

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Laser Beam Processing (AREA)
  • Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)
  • Dicing (AREA)

Description

本発明は、レーザー加工装置に関する。 The present invention relates to a laser processing device.

半導体ウェーハやサファイア基板、SiC基板、ガラス基板、樹脂パッケージ基板など各種板状の被加工物を切削ブレードで切削して加工する切削装置が従来使用されてきた。そこにレーザー光線を照射し、分割予定ラインに沿って基板を除去したり、内部に改質層を形成したりするレーザー加工も用いられるようになってきた(特許文献1参照)。切削装置は、スピンドルに固定されたブレードに対し、被加工物を保持したチャックテーブルをX軸方向に加工送りすることで被加工物が切削される。さらに、スピンドルをY軸方向に割り出し送りすることで、全てのストリートを加工可能に構成される。 2. Description of the Related Art Cutting apparatuses have been conventionally used to process various plate-shaped workpieces such as semiconductor wafers, sapphire substrates, SiC substrates, glass substrates, and resin package substrates by cutting them with a cutting blade. Laser processing has also come into use, in which a laser beam is irradiated onto the substrate to remove the substrate along the planned dividing line or to form a modified layer inside (see Patent Document 1). The cutting device cuts the workpiece by processing and feeding a chuck table holding the workpiece in the X-axis direction with respect to a blade fixed to a spindle. Furthermore, by indexing and feeding the spindle in the Y-axis direction, all streets can be processed.

特開2013-179237号公報Japanese Patent Application Publication No. 2013-179237

特許文献1に示すようなレーザー加工装置は、レーザー光線照射ユニット側で、レーザー光線の走査が可能であるところに、上述の切削装置とは大きな違いがある。チャックテーブルを移動させなくても、集光点(加工点)を移動させることが出来るため、チャックテーブルの移動速度では実現出来ない高速な走査により、加工の高速化を実現している。 A laser processing apparatus as shown in Patent Document 1 has a major difference from the above-mentioned cutting apparatus in that a laser beam can be scanned on the laser beam irradiation unit side. Since the focal point (processing point) can be moved without moving the chuck table, high-speed scanning that cannot be achieved with the moving speed of the chuck table realizes high-speed processing.

しかしながら、特許文献1に示すようなレーザー加工装置は、上述の切削装置の思想をベースに設定されているため、レーザー光線照射ユニットの特性を活用した効率的な装置構成を実現仕切れていなかったという問題があった。 However, since the laser processing device shown in Patent Document 1 is set up based on the concept of the above-mentioned cutting device, there is a problem in that it is not possible to realize an efficient device configuration that takes advantage of the characteristics of the laser beam irradiation unit. was there.

本発明は、かかる問題点に鑑みてなされたものであり、その目的は、レーザー光線照射ユニットの特性を活用した効率的なレーザー加工ができるレーザー加工装置を提供することである。 The present invention has been made in view of these problems, and an object thereof is to provide a laser processing device that can perform efficient laser processing by utilizing the characteristics of a laser beam irradiation unit.

上述した課題を解決し、目的を達成するために、本発明のレーザー加工装置は、被加工物を保持面で保持する第1チャックテーブルと、被加工物を保持面で保持する第2チャックテーブルと、該第1チャックテーブルと該第2チャックテーブルをX軸方向に並べた状態で移動させるX軸送りユニットと、該チャックテーブルに保持された被加工物にレーザー光線を照射して加工するレーザー光線照射ユニットと、該レーザー光線照射ユニットの両脇で該X軸方向に並んで配置され、該チャックテーブルに被加工物を搬入または搬出する一対の搬送領域と、を備え、該レーザー光線照射ユニットは、レーザー光線を発振する発振器と、該発振器からの光を集光する集光器と、該発振器と該集光器との間に配置され該チャックテーブルの保持面でのレーザー光線の照射位置を変位させるレーザー光線走査ユニットと、を備え、該第1チャックテーブルと該第2チャックテーブルとのうち一方を該一対の搬送領域のうちいずれかの搬送領域に位置付けて該被加工物を搬入または搬出し、該第1チャックテーブルと該第2チャックテーブルとのうち他方を該レーザー光線照射ユニットの下方に位置付けて他方が保持した被加工物を加工することを特徴とする。
該X軸送りユニットは、該第1チャックテーブル、該第2チャックテーブルを、それぞれが駆動源を有しそれぞれが独立してX軸送り制御が可能な直動機構でも良い。
In order to solve the above problems and achieve the objectives, the laser processing apparatus of the present invention includes a first chuck table that holds the workpiece on a holding surface, and a second chuck table that holds the workpiece on the holding surface. an X-axis feed unit that moves the first chuck table and the second chuck table in a state where they are lined up in the X-axis direction; and a laser beam irradiation unit that processes the workpiece held by the chuck table by irradiating the workpiece with a laser beam. unit, and a pair of conveyance areas arranged in parallel in the X-axis direction on both sides of the laser beam irradiation unit and for carrying the workpiece into or out of the chuck table, the laser beam irradiation unit emitting the laser beam. An oscillator that oscillates, a condenser that condenses light from the oscillator, and a laser beam scanning unit that is disposed between the oscillator and the condenser and displaces the irradiation position of the laser beam on the holding surface of the chuck table. , one of the first chuck table and the second chuck table is positioned in one of the pair of transport areas to carry in or carry out the workpiece, and the first chuck The present invention is characterized in that the other of the table and the second chuck table is positioned below the laser beam irradiation unit to process the workpiece held by the other .
The X-axis feed unit may be a linear motion mechanism in which the first chuck table and the second chuck table each have a drive source and can independently control the X-axis feed.

該レーザー光線走査ユニットは、ガルバノスキャナー、レゾナントスキャナー、音響光学偏向素子又はポリゴンミラーを備えてもよい。 The laser beam scanning unit may include a galvano scanner, a resonant scanner, an acousto-optic deflection element or a polygon mirror.

該第1チャックテーブル及び該第2チャックテーブルは、該保持面と直交する回転軸で該保持面を回転させる回転ユニットを備えてもよい。 The first chuck table and the second chuck table may include a rotation unit that rotates the holding surface about a rotation axis perpendicular to the holding surface.

該搬送領域には、該チャックテーブルに被加工物を搬入及び搬出する搬出入ユニットを備えてもよい。 The transfer area may include a carry-in/out unit for carrying workpieces into and out of the chuck table.

本願発明のレーザー加工装置は、レーザー光線照射ユニットの特性を活用した効率的なレーザー加工ができる。 The laser processing apparatus of the present invention can perform efficient laser processing by utilizing the characteristics of the laser beam irradiation unit.

図1は、実施形態1に係るレーザー加工装置の構成例を示す斜視図である。FIG. 1 is a perspective view showing a configuration example of a laser processing apparatus according to a first embodiment. 図2は、実施形態1に係るレーザー光線照射ユニットの構成例を示す図である。FIG. 2 is a diagram showing a configuration example of a laser beam irradiation unit according to the first embodiment. 図3は、実施形態1に係るレーザー加工装置の動作を説明する上面図である。FIG. 3 is a top view illustrating the operation of the laser processing apparatus according to the first embodiment. 図4は、実施形態1に係るレーザー加工装置の動作を説明する上面図である。FIG. 4 is a top view illustrating the operation of the laser processing apparatus according to the first embodiment. 図5は、実施形態2に係るレーザー加工装置の構成例を示す斜視図である。FIG. 5 is a perspective view showing a configuration example of a laser processing apparatus according to the second embodiment. 図6は、実施形態2に係るレーザー加工装置の動作を説明する上面図である。FIG. 6 is a top view illustrating the operation of the laser processing apparatus according to the second embodiment.

本発明を実施するための形態(実施形態)につき、図面を参照しつつ詳細に説明する。以下の実施形態に記載した内容により本発明が限定されるものではない。また、以下に記載した構成要素には、当業者が容易に想定できるもの、実質的に同一のものが含まれる。さらに、以下に記載した構成は適宜組み合わせることが可能である。また、本発明の要旨を逸脱しない範囲で構成の種々の省略、置換又は変更を行うことができる。 DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Modes (embodiments) for carrying out the present invention will be described in detail with reference to the drawings. The present invention is not limited to the contents described in the following embodiments. Further, the constituent elements described below include those that can be easily assumed by those skilled in the art and those that are substantially the same. Furthermore, the configurations described below can be combined as appropriate. Further, various omissions, substitutions, or changes in the configuration can be made without departing from the gist of the present invention.

〔実施形態1〕
本発明の実施形態1に係るレーザー加工装置を図面に基づいて説明する。図1は、実施形態1に係るレーザー加工装置の構成例を示す斜視図である。図1に示された実施形態1に係るレーザー加工装置1は、被加工物100にレーザー光線を照射して加工する装置である。なお、以下の説明に用いられるX軸方向、Y軸方向、及びZ軸方向は、互いに垂直であるものとする。また、以下の説明では、X軸方向を水平方向における一方向とし、Y軸方向を水平方向における別の一方向、すなわち他方向としているが、Y軸方向を水平方向における一方向とし、X軸方向を水平方向における別の一方向、すなわち他方向としてもよい。また、以下の説明では、XY平面が水平面と一致し、Z軸方向が鉛直方向と一致しているが、XY平面が水平面からずれ、Z軸方向が鉛直方向からずれてもよい。
[Embodiment 1]
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A laser processing apparatus according to a first embodiment of the present invention will be described based on the drawings. FIG. 1 is a perspective view showing a configuration example of a laser processing apparatus according to a first embodiment. A laser processing apparatus 1 according to the first embodiment shown in FIG. 1 is an apparatus that processes a workpiece 100 by irradiating it with a laser beam. Note that the X-axis direction, Y-axis direction, and Z-axis direction used in the following description are assumed to be perpendicular to each other. In addition, in the following explanation, the X-axis direction is one direction in the horizontal direction, and the Y-axis direction is another direction in the horizontal direction, that is, the other direction. The direction may be another direction in the horizontal direction, that is, the other direction. Furthermore, in the following description, the XY plane coincides with the horizontal plane and the Z-axis direction coincides with the vertical direction, but the XY plane may deviate from the horizontal plane and the Z-axis direction may deviate from the vertical direction.

実施形態1に係るレーザー加工装置1によりレーザー加工が施される被加工物100は、半導体ウェーハや光デバイスウェーハ等を含み、例えば、シリコン基板、サファイア基板、ガリウム基板、SiC基板、ガラス基板、樹脂パッケージ基板など各種板状の基板である。実施形態1の被加工物100は、厚みが一定の半導体ウェーハや光デバイスウェーハであるが、本発明の被加工物100は、中央部が薄化され、外周部に厚肉部が形成された所謂TAIKOウェーハでも良い。 The workpiece 100 subjected to laser processing by the laser processing apparatus 1 according to the first embodiment includes a semiconductor wafer, an optical device wafer, etc., and includes, for example, a silicon substrate, a sapphire substrate, a gallium substrate, a SiC substrate, a glass substrate, and a resin substrate. These are various plate-shaped substrates such as package substrates. The workpiece 100 of Embodiment 1 is a semiconductor wafer or an optical device wafer with a constant thickness, but the workpiece 100 of the present invention has a thinner central part and a thicker part formed on the outer periphery. A so-called TAIKO wafer may also be used.

被加工物100は、実施形態1では、例えば、表面に形成された複数のデバイス(不図示)が複数の分割予定ライン(不図示)によって格子状に区画されたものであり、この分割予定ラインに沿ってレーザー加工装置1によりレーザー加工が施されて、複数のデバイスに分割される。 In the first embodiment, the workpiece 100 is, for example, one in which a plurality of devices (not shown) formed on the surface are partitioned into a lattice shape by a plurality of planned dividing lines (not shown), and the planned dividing lines Laser processing is performed by the laser processing device 1 along the lines, and the device is divided into a plurality of devices.

被加工物100は、実施形態1では、裏面に基板より径の大きい粘着テープであるダイシングテープ107が貼着され、ダイシングテープ107の外周に環状のフレーム108が貼着される。すなわち、被加工物100は、環状のフレーム108の開口にダイシングテープ107を介して支持されている。なお、被加工物100は、本発明ではこの形態に限定されず、ダイシングテープ107及び環状のフレーム108が貼着されない形態であっても良い。 In the first embodiment of the workpiece 100, a dicing tape 107, which is an adhesive tape having a diameter larger than that of the substrate, is attached to the back surface of the workpiece 100, and an annular frame 108 is attached to the outer periphery of the dicing tape 107. That is, the workpiece 100 is supported in the opening of the annular frame 108 via the dicing tape 107. Note that the workpiece 100 is not limited to this form in the present invention, and may have a form to which the dicing tape 107 and the annular frame 108 are not attached.

また、被加工物100は、上記の複数の分割予定ラインを有する形態に限定されず、本発明では、エピタキシー基板(不図示)と、エピタキシー基板の表面側にバッファ層(不図示)を介して積層された光デバイス層(不図示)と、光デバイス層の表面に接合層(不図示)を介して接合された移設基板(不図示)とを含んで構成されたものでもよく、このバッファ層に対してレーザー加工装置1によりレーザー加工が施されて、光デバイス層が剥離可能に加工される。 Further, the workpiece 100 is not limited to the above-mentioned form having a plurality of planned dividing lines, and in the present invention, an epitaxial substrate (not shown) and a buffer layer (not shown) on the surface side of the epitaxial substrate are used. The buffer layer may include a stacked optical device layer (not shown) and a transfer substrate (not shown) bonded to the surface of the optical device layer via a bonding layer (not shown). A laser processing device 1 performs laser processing on the optical device layer so that the optical device layer can be peeled off.

実施形態1に係るレーザー加工装置1は、図1に示すように、2つ(一対)のチャックテーブル10,10と、X軸送りユニット20と、レーザー加工ユニット30と、一対の搬送領域40,40と、制御ユニット50と、を備える。 As shown in FIG. 1, the laser processing apparatus 1 according to the first embodiment includes two (pair) chuck tables 10, 10, an X-axis feeding unit 20, a laser processing unit 30, a pair of transport areas 40, 40 and a control unit 50.

2つのチャックテーブル10,10は、一方が他方に対して+X方向側に設けられていること、すなわち、他方が一方に対して-X方向側に設けられていることを除いて、同じ構成を備える。2つのチャックテーブル10,10は、実施形態1では、一方が本発明に係る第1チャックテーブルに対応し、他方が本発明に係る第2チャックテーブルに対応している。なお、2つのチャックテーブル10,10は、他方が本発明に係る第1チャックテーブルに対応し、一方が本発明に係る第2チャックテーブルに対応していてもよい。 The two chuck tables 10, 10 have the same configuration except that one is provided in the +X direction with respect to the other, that is, the other is provided in the −X direction with respect to the other. Be prepared. In the first embodiment, one of the two chuck tables 10 corresponds to the first chuck table according to the present invention, and the other corresponds to the second chuck table according to the present invention. Note that the other of the two chuck tables 10, 10 may correspond to the first chuck table according to the present invention, and one may correspond to the second chuck table according to the present invention.

チャックテーブル10は、図1に示すように、被加工物100を保持する保持面11が設けられかつポーラスセラミック等から形成された保持部12と、保持部12を囲繞しかつ導通性の金属で構成されたリング状の枠部13とを備えた円盤形状である。チャックテーブル10は、X軸送りユニット20によりX軸方向に移動自在に設けられている。 As shown in FIG. 1, the chuck table 10 includes a holding surface 11 for holding a workpiece 100 and a holding part 12 made of porous ceramic or the like, and a holding part 12 made of a conductive metal surrounding the holding part 12. It has a disk shape including a ring-shaped frame portion 13. The chuck table 10 is provided movably in the X-axis direction by an X-axis feed unit 20.

チャックテーブル10は、図示しない真空吸引源と接続され、真空吸引源により吸引されることで、チャックテーブル10が被加工物100を吸引、保持する。チャックテーブル10は、図示しない気体供給源と接続され、気体供給源により加圧された気体が供給されることで、被加工物100の吸引、保持を解除する。 The chuck table 10 is connected to a vacuum suction source (not shown), and the chuck table 10 suctions and holds the workpiece 100 by suction from the vacuum suction source. The chuck table 10 is connected to a gas supply source (not shown), and pressurized gas is supplied from the gas supply source to release suction and holding of the workpiece 100.

チャックテーブル10は、保持面11の外周に配置されて、ダイシングテープ107を介して被加工物100を支持するフレーム108を保持して固定する4つのクランプ15を備える。 The chuck table 10 includes four clamps 15 that are arranged around the outer periphery of the holding surface 11 and hold and fix a frame 108 that supports the workpiece 100 via a dicing tape 107.

X軸送りユニット20は、L字状の基台2の水平部分の上面にX軸方向に沿って配されており、2つのチャックテーブル10,10をX軸方向に並べた状態で同時にX軸方向に移動させる。X軸送りユニット20は、図1に示すように、X軸方向に概ね平行な一対のX軸ガイドレール21と、X軸方向にスライド可能にX軸ガイドレール21に取り付けられた2つ(一対)のX軸移動テーブル22,22と、2つのX軸移動テーブル22,22の下面側に螺合して共通に設けられたX軸ガイドレール21に平行なX軸ボールねじ23と、X軸ボールねじ23の一端部に連結されたX軸パルスモータ24と、を備える。 The X-axis feed unit 20 is arranged along the X-axis direction on the upper surface of the horizontal part of the L-shaped base 2, and simultaneously moves the X-axis when the two chuck tables 10, 10 are arranged in the X-axis direction. move in the direction. As shown in FIG. 1, the X-axis feed unit 20 includes a pair of X-axis guide rails 21 that are generally parallel to the X-axis direction, and two (a pair of ), an X-axis ball screw 23 parallel to the X-axis guide rail 21 screwed onto the lower surface of the two X-axis movement tables 22, 22, An X-axis pulse motor 24 connected to one end of a ball screw 23 is provided.

2つのX軸移動テーブル22,22は、一方が他方に対して+X方向側に設けられていること、すなわち、他方が一方に対して-X方向側に設けられていることを除いて、同じ構成を備える。実施形態1では、一方のX軸移動テーブル22は、一方のチャックテーブル10をZ軸周りに回転可能に支持しており、他方のX軸移動テーブル22は、他方のチャックテーブル10をZ軸周りに回転可能に支持している。 The two X-axis moving tables 22, 22 are the same except that one is provided in the +X direction with respect to the other, that is, the other is provided in the −X direction with respect to the other. Equipped with a configuration. In the first embodiment, one X-axis moving table 22 supports one chuck table 10 rotatably around the Z-axis, and the other X-axis moving table 22 supports the other chuck table 10 around the Z-axis. It is rotatably supported.

X軸パルスモータ24でX軸ボールねじ23を回転させることで、2つのX軸移動テーブル22,22は、X軸方向に配列した状態で同時にX軸ガイドレール21に沿ってX軸方向に移動する。これにより、一方のX軸移動テーブル22によって支持された一方のチャックテーブル10と、他方のX軸移動テーブル22によって支持された他方のチャックテーブル10とは、X軸方向に配列した状態で同時にX軸ガイドレール21に沿ってX軸方向に移動する。このX軸送りユニット20には、2つのX軸移動テーブル22,22のそれぞれのX軸方向の位置を測定する不図示のX軸測定ユニットが設けられており、2つのX軸移動テーブル22,22のそれぞれのX軸方向の位置の測定に基づいて、2つのチャックテーブル10,10のそれぞれのX軸方向の位置を測定することができる。 By rotating the X-axis ball screw 23 with the X-axis pulse motor 24, the two X-axis moving tables 22, 22 are simultaneously moved in the X-axis direction along the X-axis guide rail 21 while being arranged in the X-axis direction. do. As a result, one chuck table 10 supported by one X-axis moving table 22 and the other chuck table 10 supported by the other X-axis moving table 22 are arranged in the X-axis direction and simultaneously It moves along the axis guide rail 21 in the X-axis direction. This X-axis feeding unit 20 is provided with an X-axis measuring unit (not shown) that measures the position of each of the two X-axis moving tables 22, 22 in the X-axis direction. Based on the measurement of the position of each of the chuck tables 22 in the X-axis direction, the position of each of the two chuck tables 10, 10 in the X-axis direction can be measured.

レーザー加工ユニット30は、図1に示すように、L字状の基台2の水平部分から立設した立設部分に、X軸送りユニット20の一対のX軸ガイドレール21の上方に向けて-Y方向に突出して設けられている。レーザー加工ユニット30は、レーザー光線照射ユニット31と、レーザー光線照射ユニット31に対してX軸方向に離間して-Z方向に向けて配設された撮像手段32と、を備える。 As shown in FIG. 1, the laser processing unit 30 is mounted on an upright portion of the L-shaped base 2 that is erected from a horizontal portion, and is mounted upwardly on the pair of X-axis guide rails 21 of the X-axis feed unit 20. - Provided to protrude in the Y direction. The laser processing unit 30 includes a laser beam irradiation unit 31 and an imaging means 32 that is spaced from the laser beam irradiation unit 31 in the X-axis direction and is disposed facing in the −Z direction.

図2は、実施形態1に係るレーザー光線照射ユニット31の構成例を示す図である。レーザー光線照射ユニット31は、チャックテーブル10に保持された被加工物100にレーザー光線301を照射して加工するものであり、図2に示すように、レーザー光線発振手段34と、光学系35と、波長変換素子36と、レーザー光線走査ユニット37と、集光器38と、を備える。 FIG. 2 is a diagram showing a configuration example of the laser beam irradiation unit 31 according to the first embodiment. The laser beam irradiation unit 31 processes the workpiece 100 held on the chuck table 10 by irradiating the workpiece 100 with a laser beam 301, and as shown in FIG. It includes an element 36, a laser beam scanning unit 37, and a condenser 38.

レーザー光線発振手段34は、発振器341と、繰り返し周波数設定手段342と、を備える。発振器341は、所定の波長のレーザー光線300を発振する機器であり、実施形態1では、ネオジウム(Nd)イオン等がドープされたYAG等の結晶をレーザーダイオード (LASER Diode、LD)により励起して波長約1μmのレーザー光線を発振するものが好適なものとして用いられる。 The laser beam oscillation means 34 includes an oscillator 341 and a repetition frequency setting means 342. The oscillator 341 is a device that oscillates a laser beam 300 with a predetermined wavelength. In the first embodiment, a laser diode (LASER diode, LD) excites a crystal such as YAG doped with neodymium (Nd) ions, etc. A device that emits a laser beam of about 1 μm is preferably used.

繰り返し周波数設定手段342は、発振器341が発振したレーザー光線の繰り返し周波数を設定する手段であり、実施形態1では、繰り返し周波数を2倍に設定して上記した波長約1μmのレーザー光線に基づいて、その2倍波である波長約514nmのレーザー光線300を発振するものが好適なものとして用いられる。 The repetition frequency setting means 342 is a means for setting the repetition frequency of the laser beam oscillated by the oscillator 341, and in the first embodiment, the repetition frequency is set to double and the second repetition frequency is set based on the above-mentioned laser beam with a wavelength of about 1 μm. A device that emits a laser beam 300 having a wavelength of about 514 nm, which is a harmonic wave, is preferably used.

レーザー光線発振手段34は、実施形態1では、制御ユニット50によって制御されて、繰り返し周波数が50kHz以上200kHz以下であり、平均出力が0.1W以上2.0W以下であり、パルス幅が20ps以下のパルスレーザービームであるレーザー光線300を発振する。 In Embodiment 1, the laser beam oscillation means 34 is controlled by the control unit 50 to generate pulses with a repetition frequency of 50 kHz or more and 200 kHz or less, an average output of 0.1 W or more and 2.0 W or less, and a pulse width of 20 ps or less. A laser beam 300, which is a laser beam, is oscillated.

光学系35は、ビーム径調整器及び出力調整器等の所定の光学機器の少なくともいずれかを含み、レーザー光線発振手段34から発振されたレーザー光線300を伝送する。波長変換素子36は、光学系35によって伝送されたレーザー光線300の波長を変換する素子であり、実施形態1では、レーザー光線発振手段34が発振した波長約514nmのレーザー光線300を、その2倍波、すなわち元の波長約1μmのレーザー光線の4倍波である波長約257nmのレーザー光線301に変換する。 The optical system 35 includes at least one of predetermined optical equipment such as a beam diameter adjuster and an output adjuster, and transmits the laser beam 300 oscillated from the laser beam oscillation means 34. The wavelength conversion element 36 is an element that converts the wavelength of the laser beam 300 transmitted by the optical system 35. In the first embodiment, the wavelength conversion element 36 converts the laser beam 300 having a wavelength of about 514 nm oscillated by the laser beam oscillation means 34 into its double wave, i.e. It is converted into a laser beam 301 with a wavelength of approximately 257 nm, which is the fourth harmonic of the original laser beam with a wavelength of approximately 1 μm.

レーザー光線照射ユニット31は、実施形態1では、レーザー光線300,301の進行方向において波長変換素子36が光学系35の下流側に設けられるので、光学系35を通過するレーザー光線の波長を、最終的に照射するレーザー光線の波長よりも長くすることができるため、光学系35の損傷を抑制することができる。 In the first embodiment, the laser beam irradiation unit 31 is provided with the wavelength conversion element 36 downstream of the optical system 35 in the traveling direction of the laser beams 300 and 301, so that the wavelength of the laser beam passing through the optical system 35 is finally irradiated. Since the wavelength of the laser beam can be made longer than that of the laser beam, damage to the optical system 35 can be suppressed.

レーザー光線走査ユニット37は、図2に示すように、発振器341と後述する集光器38との間に配置される。レーザー光線走査ユニット37は、より具体的には、発振器341を備えるレーザー光線発振手段34よりも下流に設けられた光学系35及び波長変換素子36よりもさらに下流に配置される。レーザー光線走査ユニット37は、チャックテーブル10の保持面11でのレーザー光線301のXY平面における照射位置を変位させる。 As shown in FIG. 2, the laser beam scanning unit 37 is arranged between the oscillator 341 and a condenser 38, which will be described later. More specifically, the laser beam scanning unit 37 is arranged further downstream than the optical system 35 and the wavelength conversion element 36, which are provided downstream of the laser beam oscillation means 34 including the oscillator 341. The laser beam scanning unit 37 displaces the irradiation position of the laser beam 301 on the holding surface 11 of the chuck table 10 in the XY plane.

レーザー光線走査ユニット37は、実施形態1では、ガルバノスキャナー、レゾナントスキャナー、音響光学偏向素子又はポリゴンミラーを備える。レーザー光線走査ユニット37は、制御ユニット50によって制御されて、レーザー光線301をX軸方向及びY軸方向に揺動して、集光器85に導く。 In the first embodiment, the laser beam scanning unit 37 includes a galvano scanner, a resonant scanner, an acousto-optic deflection element, or a polygon mirror. The laser beam scanning unit 37 is controlled by the control unit 50 to swing the laser beam 301 in the X-axis direction and the Y-axis direction and guide it to the condenser 85 .

集光器38は、XY平面においてチャックテーブル10の保持面11と同等もしくは保持面11よりも大きい直径を有した円形状であり、レーザー光線照射ユニット31の下方に位置する際のチャックテーブル10の保持面11の上方を覆うように設けられている。集光器38は、発振器341から発振され、レーザー光線走査ユニット37によって走査されたレーザー光線301を集光する。 The condenser 38 has a circular shape with a diameter equal to or larger than the holding surface 11 of the chuck table 10 in the XY plane, and is used to hold the chuck table 10 when located below the laser beam irradiation unit 31. It is provided so as to cover the upper side of the surface 11. The condenser 38 condenses the laser beam 301 oscillated by the oscillator 341 and scanned by the laser beam scanning unit 37 .

集光器38は、上述の直径を有する大きなFθレンズ、もしくは、上述の直径を有する大きな像側テレセントリック対物レンズが例示され、いずれの場合でも光軸がZ軸方向に沿って設けられる。集光器38は、レーザー光線走査ユニット37から導かれたレーザー光線301の入射角に依存せず、光軸方向であるZ軸方向に対して平行に、すなわちチャックテーブル10の保持面11に対して直交する方向に、レーザー光線301を照射する。 The condenser 38 is exemplified by a large Fθ lens having the above-mentioned diameter or a large image-side telecentric objective lens having the above-mentioned diameter, and in either case, the optical axis is provided along the Z-axis direction. The condenser 38 does not depend on the incident angle of the laser beam 301 guided from the laser beam scanning unit 37, and is arranged parallel to the Z-axis direction, which is the optical axis direction, that is, orthogonal to the holding surface 11 of the chuck table 10. A laser beam 301 is irradiated in the direction.

撮像手段32は、図1に示すように、レーザー光線照射ユニット31の集光器38よりもXY平面において外側の位置に、-Z方向に向いて設けられている。このため、撮像手段32は、集光器38によって妨げられることなく、レーザー光線照射ユニット31の下方に位置するチャックテーブル10を支持するX軸移動テーブル22を撮像することができる。撮像手段32は、撮像手段32の下方に位置するチャックテーブル10の保持面11に保持された被加工物100を撮像して、チャックテーブル10の保持面11に保持された被加工物100とレーザー光線照射ユニット31によるレーザー光線301の照射位置との位置合わせを行なうアライメントを遂行するための画像を得、得た画像を制御ユニット50に出力する。実施形態1では、例えば、レーザー光線照射ユニット31によるレーザー加工の前に撮像手段32の下方にチャックテーブル10を位置付けてアライメントを実施後、集光器38の下方にチャックテーブル10を移動させてから、レーザー光線照射ユニット31によるレーザー加工を実施しても良い。 As shown in FIG. 1, the imaging means 32 is provided at a position outside the condenser 38 of the laser beam irradiation unit 31 in the XY plane, facing in the −Z direction. Therefore, the imaging means 32 can image the X-axis moving table 22 that supports the chuck table 10 located below the laser beam irradiation unit 31 without being obstructed by the condenser 38. The imaging means 32 images the workpiece 100 held on the holding surface 11 of the chuck table 10 located below the imaging means 32, and combines the workpiece 100 held on the holding surface 11 of the chuck table 10 with the laser beam. An image for performing alignment with the irradiation position of the laser beam 301 by the irradiation unit 31 is obtained, and the obtained image is output to the control unit 50. In the first embodiment, for example, before laser processing by the laser beam irradiation unit 31, the chuck table 10 is positioned below the imaging means 32 to perform alignment, and then the chuck table 10 is moved below the condenser 38, and then, Laser processing may be performed using the laser beam irradiation unit 31.

一対の搬送領域40,40は、図1に示すように、レーザー加工ユニット30のレーザー光線照射ユニット31の両脇でX軸方向に並んで配置されている。一対の搬送領域40,40は、具体的には、レーザー光線照射ユニット31が設けられている領域のX軸方向の両側に設けられている。すなわち、一方の搬送領域40が、レーザー光線照射ユニット31が設けられている領域の+X方向側に設けられ、他方の搬送領域40が、レーザー光線照射ユニット31が設けられている領域の-X方向側に設けられている。一対の搬送領域40,40は、一方が他方に対して+X方向側に設けられていること、すなわち、他方が一方に対して-X方向側に設けられていることを除いて、同じ構成を備える。 As shown in FIG. 1, the pair of transport areas 40, 40 are arranged side by side in the X-axis direction on both sides of the laser beam irradiation unit 31 of the laser processing unit 30. Specifically, the pair of transport areas 40, 40 are provided on both sides in the X-axis direction of the area where the laser beam irradiation unit 31 is provided. That is, one conveyance area 40 is provided on the +X direction side of the area where the laser beam irradiation unit 31 is provided, and the other conveyance area 40 is provided on the −X direction side of the area where the laser beam irradiation unit 31 is provided. It is provided. The pair of transport areas 40, 40 have the same configuration except that one is provided in the +X direction with respect to the other, that is, the other is provided in the −X direction with respect to the other. Be prepared.

一方の搬送領域40とレーザー光線照射ユニット31が設けられている領域とのX軸方向の間隔と、レーザー光線照射ユニット31が設けられている領域と他方の搬送領域40との間隔とは、図1に示すように、いずれも、X軸送りユニット20における2つのX軸移動テーブル22,22のX軸方向の間隔と等しく、すなわち、2つのチャックテーブル10,10のX軸方向の間隔と等しくなるように設けられている。このため、実施形態1に係るレーザー加工装置1では、一方のチャックテーブル10がレーザー光線照射ユニット31が設けられている領域に位置する際には、他方のチャックテーブル10は他方の搬送領域40に位置することとなり、他方のチャックテーブル10がレーザー光線照射ユニット31が設けられている領域に位置する際には、一方のチャックテーブル10は一方の搬送領域40に位置することとなっている。 The distance in the X-axis direction between one transport region 40 and the region where the laser beam irradiation unit 31 is provided, and the distance between the region where the laser beam irradiation unit 31 is provided and the other transport region 40 are shown in FIG. As shown, both are set to be equal to the distance in the X-axis direction between the two X-axis moving tables 22, 22 in the X-axis feed unit 20, that is, to be equal to the distance in the X-axis direction between the two chuck tables 10, 10. It is set in. Therefore, in the laser processing apparatus 1 according to the first embodiment, when one chuck table 10 is located in the area where the laser beam irradiation unit 31 is provided, the other chuck table 10 is located in the other transport area 40. Therefore, when the other chuck table 10 is located in the region where the laser beam irradiation unit 31 is provided, one chuck table 10 is located in one of the transport regions 40.

搬送領域40には、図1に示すように、搬出入ユニット41と、Y軸方向に概ね平行な一対のY軸ガイドレール43と、カセットエレベータ44と、カセット45と、が備えられている。搬出入ユニット41は、搬送領域40に位置しているチャックテーブル10に被加工物100を搬入及び搬出する。搬出入ユニット41は、ダイシングテープ107を介して被加工物100を支持するフレーム108を把持する把持部42を備える。搬出入ユニット41は、制御ユニット50により制御されて、不図示の駆動機構により、Y軸方向に沿って移動する。 As shown in FIG. 1, the transport area 40 includes a carry-in/out unit 41, a pair of Y-axis guide rails 43 that are generally parallel to the Y-axis direction, a cassette elevator 44, and a cassette 45. The carry-in/out unit 41 carries the workpiece 100 into and out of the chuck table 10 located in the transfer area 40 . The carry-in/out unit 41 includes a grip portion 42 that grips a frame 108 that supports the workpiece 100 via a dicing tape 107 . The carry-in/out unit 41 is controlled by the control unit 50 and moves along the Y-axis direction by a drive mechanism (not shown).

一対のY軸ガイドレール43は、図1に示すように、カセットエレベータ44の上面の+Y方向の端部に支持され、X軸送りユニット20の一対のX軸ガイドレール21の上方に向けて+Y方向に突出して設けられている。一対のY軸ガイドレール43は、制御ユニット50により制御されて、互いにX軸方向に離間移動したり、互いにX軸方向に近接移動したりすることで、互いの離間幅を変更する動作をすることができる。 As shown in FIG. 1, the pair of Y-axis guide rails 43 are supported by the ends of the upper surface of the cassette elevator 44 in the +Y direction, and are directed upwardly in the +Y direction of the pair of X-axis guide rails 21 of the X-axis feed unit 20. It is provided so as to protrude in the direction. The pair of Y-axis guide rails 43 are controlled by the control unit 50 and operate to change the width of separation between them by moving away from each other in the X-axis direction or moving closer to each other in the X-axis direction. be able to.

カセットエレベータ44は、図1に示すように、L字状の基台2の水平部分における-Y方向側の端面に隣接して設けられている。カセットエレベータ44は、レーザー加工前後の被加工物100を収容するカセット45が上面に載置され、かつ、制御ユニット50により制御されて、カセット45をZ軸方向に昇降移動させるカセット載置領域である。 As shown in FIG. 1, the cassette elevator 44 is provided adjacent to the -Y direction side end surface of the horizontal portion of the L-shaped base 2. The cassette elevator 44 is a cassette loading area in which a cassette 45 that accommodates the workpieces 100 before and after laser processing is placed on the top surface, and is controlled by the control unit 50 to move the cassette 45 up and down in the Z-axis direction. be.

カセット45は、レーザー加工前の被加工物100と、レーザー加工後の被加工物100とをそれぞれ分離して収容する。カセット45は、カセットエレベータ44の上面に載置され、カセットエレベータ44によって昇降移動することで、搬出入ユニット41が搬出する被加工物100を変更することができる。 The cassette 45 separately accommodates the workpiece 100 before laser processing and the workpiece 100 after laser processing. The cassette 45 is placed on the upper surface of the cassette elevator 44, and is moved up and down by the cassette elevator 44 to change the workpiece 100 carried out by the carry-in/out unit 41.

搬出入ユニット41による被加工物100の搬出動作について説明する。搬出入ユニット41は、-Y方向に移動して、カセットエレベータ44内に載置されたカセット45内のレーザー加工前の被加工物100におけるフレーム108を把持部42で把持する。そして、搬出入ユニット41は、把持部42で被加工物100におけるフレーム108を把持した状態で+Y方向に移動することで、カセット45からレーザー加工前の被加工物100を搬出する。被加工物100は、フレーム108が把持部42に把持されて搬出される際、フレーム108のX軸方向の両端部が一対のY軸ガイドレール43で支持されてガイドされて、+Y方向に沿って搬出される。その後、搬出入ユニット41は、把持部42による被加工物100におけるフレーム108を把持した状態を解除する。これにより、把持部42によって把持されていた被加工物100におけるフレーム108は、一対のY軸ガイドレール43により支持された状態となる。 The operation of carrying out the workpiece 100 by the carry-in/out unit 41 will be explained. The loading/unloading unit 41 moves in the −Y direction and grips the frame 108 of the workpiece 100 before laser processing in the cassette 45 placed in the cassette elevator 44 with the gripping portion 42 . Then, the carrying-in/out unit 41 carries out the workpiece 100 before laser processing from the cassette 45 by moving in the +Y direction while holding the frame 108 of the workpiece 100 with the gripping part 42 . When the frame 108 is gripped by the gripper 42 and carried out, the workpiece 100 is guided along the +Y direction with both ends of the frame 108 in the X-axis direction supported and guided by a pair of Y-axis guide rails 43. It will be transported out. Thereafter, the carry-in/out unit 41 releases the state in which the frame 108 of the workpiece 100 is held by the grip part 42 . As a result, the frame 108 of the workpiece 100 held by the gripping section 42 is now supported by the pair of Y-axis guide rails 43.

そして、一対のY軸ガイドレール43は、互いの間隔を狭めることで、フレーム108をX軸方向における所定の位置に位置付けるセンタリング動作を実施する。その後、搬出入ユニット41は、搬出入ユニット41の下方に設けられた不図示のバキュームパッドで、所定の位置に位置付けられたフレーム108を吸引保持して上方に移動させることで、一対のY軸ガイドレール43から被加工物100を上昇させる。そして、一対のY軸ガイドレール43が互いの間隔を拡げて、フレーム108を吸引保持した搬出入ユニット41が下降することで、被加工物100及びフレーム108を一対のY軸ガイドレール43の間を通過させて、チャックテーブル10に載置する。 The pair of Y-axis guide rails 43 perform a centering operation to position the frame 108 at a predetermined position in the X-axis direction by narrowing the distance between them. Thereafter, the loading/unloading unit 41 suctions and holds the frame 108 positioned at a predetermined position using a vacuum pad (not shown) provided below the loading/unloading unit 41 and moves it upward, thereby moving the frame 108 along the pair of Y-axes. The workpiece 100 is raised from the guide rail 43. Then, the distance between the pair of Y-axis guide rails 43 is increased, and the carry-in/out unit 41 that holds the frame 108 under suction is lowered, so that the workpiece 100 and the frame 108 are moved between the pair of Y-axis guide rails 43. is passed through and placed on the chuck table 10.

搬出入ユニット41による被加工物100の搬入動作について説明する。搬出入ユニット41は、+Y方向に移動した後、下方へ移動して一対のY軸ガイドレール43の間を通過して、搬出入ユニット41の下方に設けられた不図示のバキュームパッドで、チャックテーブル10の保持面11上のレーザー加工後の被加工物100におけるフレーム108を吸引保持して、一対のY軸ガイドレール43よりも上方に移動させる。そして、一対のY軸ガイドレール43が互いの間隔を狭めて、フレーム108を吸引保持した搬出入ユニット41が下降することで、被加工物100及びフレーム108を一対のY軸ガイドレール43の間に載置する。これにより、レーザー加工後の被加工物100におけるフレーム108は、一対のY軸ガイドレール43により支持された状態となる。 The loading/unloading operation of the workpiece 100 by the loading/unloading unit 41 will be described. After moving in the +Y direction, the loading/unloading unit 41 moves downward, passes between a pair of Y-axis guide rails 43, and is chucked by a vacuum pad (not shown) provided below the loading/unloading unit 41. The frame 108 of the laser-processed workpiece 100 on the holding surface 11 of the table 10 is held under suction and moved above the pair of Y-axis guide rails 43. Then, the pair of Y-axis guide rails 43 narrow the distance between them, and the carry-in/out unit 41 that holds the frame 108 under suction descends, thereby moving the workpiece 100 and the frame 108 between the pair of Y-axis guide rails 43. Place it on. As a result, the frame 108 of the workpiece 100 after laser processing is supported by the pair of Y-axis guide rails 43.

そして、搬出入ユニット41は、さらに+Y方向に移動した後、一対のY軸ガイドレール43に支持されたレーザー加工後の被加工物100におけるフレーム108を把持部42で把持する。その後、搬出入ユニット41は、把持部42で被加工物100におけるフレーム108を把持した状態で-Y方向に移動することで、レーザー加工後の被加工物100をカセット45に搬入する。被加工物100は、フレーム108が把持部42に把持されて搬入される際、フレーム108のX軸方向の両端部が一対のY軸ガイドレール43で支持されてガイドされて、-Y方向に沿って搬入される。そして、搬出入ユニット41は、把持部42による被加工物100におけるフレーム108を把持した状態を解除することにより、レーザー加工後の被加工物100をカセット45内に収容した状態とすることができる。 Then, after moving further in the +Y direction, the carry-in/out unit 41 grips the frame 108 of the laser-processed workpiece 100 supported by the pair of Y-axis guide rails 43 with the grip part 42 . Thereafter, the carry-in/out unit 41 carries the laser-processed workpiece 100 into the cassette 45 by moving in the −Y direction while holding the frame 108 of the workpiece 100 with the gripping portion 42. When the workpiece 100 is carried in with the frame 108 being held by the gripping part 42, both ends of the frame 108 in the X-axis direction are supported and guided by a pair of Y-axis guide rails 43, and the workpiece 100 is moved in the -Y direction. It will be transported along the line. Then, the carry-in/out unit 41 can store the workpiece 100 after laser processing in the cassette 45 by releasing the gripping part 42 from holding the frame 108 of the workpiece 100. .

なお、本実施形態では、搬出入ユニット41が自動で被加工物100の搬出動作及び搬入動作を実施しているが、本発明はこれに限定されず、オペレータが手動で被加工物100の搬出動作及び搬入動作を実施してもよい。 In this embodiment, the carry-in/out unit 41 automatically carries out the carrying-out operation and carrying-in operation of the workpiece 100, but the present invention is not limited to this, and the operator manually carries out the carrying-out operation of the workpiece 100. An operation and loading operation may be performed.

制御ユニット50は、レーザー加工装置1の各ユニットをそれぞれ制御して、X軸送りユニット20によってチャックテーブル10をX軸方向に移動させる動作、レーザー加工ユニット30によってチャックテーブル10の保持面11に保持された被加工物100にレーザー加工を施す動作、搬送領域40においてチャックテーブル10の保持面11にレーザー加工前の被加工物100をカセット45から搬出する動作、チャックテーブル10の保持面11からレーザー加工後の被加工物100をカセット45に搬入する動作を、レーザー加工装置1に実施させるものである。制御ユニット50は、CPU(central processing unit)のようなマイクロプロセッサを有する演算処理装置と、ROM(read only memory)又はRAM(random access memory)のようなメモリを有する記憶装置と、入出力インターフェース装置とを有するコンピュータである。制御ユニット50の演算処理装置は、記憶装置に記憶されているコンピュータプログラムに従って演算処理を実施して、レーザー加工装置1を制御するための制御信号を、入出力インターフェース装置を介してレーザー加工装置1の各ユニットに出力する。 The control unit 50 controls each unit of the laser processing apparatus 1 to move the chuck table 10 in the X-axis direction using the X-axis feed unit 20 and to hold it on the holding surface 11 of the chuck table 10 using the laser processing unit 30. The operation of performing laser processing on the workpiece 100 that has been processed, the operation of carrying out the workpiece 100 before laser processing from the cassette 45 to the holding surface 11 of the chuck table 10 in the transport area 40, and the operation of carrying out the laser processing from the holding surface 11 of the chuck table 10 This causes the laser processing apparatus 1 to carry out the operation of transporting the processed workpiece 100 into the cassette 45. The control unit 50 includes an arithmetic processing device having a microprocessor such as a CPU (central processing unit), a storage device having a memory such as a ROM (read only memory) or a RAM (random access memory), and an input/output interface device. It is a computer having The arithmetic processing device of the control unit 50 performs arithmetic processing according to a computer program stored in a storage device, and transmits a control signal for controlling the laser processing device 1 to the laser processing device 1 via an input/output interface device. output to each unit.

制御ユニット50は、図1に示すように、X軸送り制御部51と、加工及び搬送制御部52とを備える。X軸送り制御部51は、X軸パルスモータ24でX軸ボールねじ23を回転させることで、2つのチャックテーブル10,10をそれぞれ支持する2つのX軸移動テーブル22,22を、X軸方向に配列した状態で同時にX軸ガイドレール21に沿ってX軸方向に移動させる。加工及び搬送制御部52は、レーザー加工ユニット30により、レーザー加工ユニット30の下方に位置づけられた一方のチャックテーブル10に保持された被加工物100にレーザー光線301を照射させてレーザー加工処理を実行させると同時に、搬出入ユニット41により、搬送領域40に位置づけられた他方のチャックテーブル10に保持されたレーザー加工後の被加工物100をカセット45に搬入させるとともに、カセット45からレーザー加工前の被加工物100を他方のチャックテーブル10の保持面11に載置させる。 As shown in FIG. 1, the control unit 50 includes an X-axis feed control section 51 and a processing and conveyance control section 52. The X-axis feed control unit 51 rotates the X-axis ball screw 23 with the X-axis pulse motor 24, thereby moving the two X-axis moving tables 22, 22 supporting the two chuck tables 10, 10, respectively, in the X-axis direction. , and are simultaneously moved along the X-axis guide rail 21 in the X-axis direction. The processing and transport control unit 52 causes the laser processing unit 30 to irradiate the workpiece 100 held on one of the chuck tables 10 positioned below the laser processing unit 30 with a laser beam 301 to perform laser processing. At the same time, the carry-in/out unit 41 carries the laser-processed workpiece 100 held on the other chuck table 10 positioned in the transport area 40 into the cassette 45, and also transports the workpiece 100 before laser processing from the cassette 45. The object 100 is placed on the holding surface 11 of the other chuck table 10.

次に、実施形態1に係るレーザー加工装置1の動作を、図面に基づいて説明する。図3及び図4は、いずれも、実施形態1に係るレーザー加工装置1の動作を説明する上面図である。 Next, the operation of the laser processing apparatus 1 according to the first embodiment will be explained based on the drawings. 3 and 4 are top views illustrating the operation of the laser processing apparatus 1 according to the first embodiment.

加工及び搬送制御部52は、図3に示すように、一方のチャックテーブル10がレーザー加工ユニット30の下方に位置づけられ、なおかつ、他方のチャックテーブル10が他方の搬送領域40に位置づけられている場合(後述の第2移動ステップの直後の場合)、レーザー加工ユニット30により、一方のチャックテーブル10に保持された被加工物100にレーザー光線301を照射させてレーザー加工処理を実行させると同時に、搬出入ユニット41により、他方のチャックテーブル10に保持されたレーザー加工後の被加工物100をカセット45に搬入させるとともに、カセット45からレーザー加工前の被加工物100を他方のチャックテーブル10の保持面11に載置させる(第1加工搬送ステップ)。 As shown in FIG. 3, the processing and transport control unit 52 operates when one chuck table 10 is positioned below the laser processing unit 30 and the other chuck table 10 is positioned in the other transport area 40. (In the case immediately after the second movement step described below), the laser processing unit 30 irradiates the workpiece 100 held on one of the chuck tables 10 with a laser beam 301 to perform laser processing, and at the same time The unit 41 transports the workpiece 100 after laser processing held on the other chuck table 10 into the cassette 45, and transfers the workpiece 100 before laser processing from the cassette 45 to the holding surface 11 of the other chuck table 10. (first processing and conveyance step).

X軸送り制御部51は、図3に示すように、一方のチャックテーブル10がレーザー加工ユニット30の下方に位置づけられ、なおかつ、他方のチャックテーブル10が他方の搬送領域40に位置づけられており、上記の第1加工搬送ステップが終了している場合(上記の第1加工搬送ステップの直後の場合)、2つのチャックテーブル10,10をそれぞれ支持する2つのX軸移動テーブル22,22を、X軸方向に配列した状態で互いのX軸方向の間隔を維持しながら同時にX軸ガイドレール21に沿って+X方向に移動させることで、図4に示すように、一方のチャックテーブル10を一方の搬送領域40に位置づけて、他方のチャックテーブル10をレーザー加工ユニット30の下方に位置づける(第1移動ステップ)。 As shown in FIG. 3, in the X-axis feed control unit 51, one chuck table 10 is positioned below the laser processing unit 30, and the other chuck table 10 is positioned in the other conveyance area 40, When the above-mentioned first processing and transporting step has been completed (immediately after the above-mentioned first processing and transporting step), the two X-axis moving tables 22, 22 supporting the two chuck tables 10, 10, respectively, are By simultaneously moving the chuck table 10 in the +X direction along the X-axis guide rail 21 while maintaining the distance in the X-axis direction from each other while arranging them in the axial direction, one chuck table 10 can be moved to the other side as shown in FIG. The other chuck table 10 is positioned in the transport area 40 and positioned below the laser processing unit 30 (first movement step).

加工及び搬送制御部52は、図4に示すように、一方のチャックテーブル10が一方の搬送領域40に位置づけられ、なおかつ、他方のチャックテーブル10がレーザー加工ユニット30の下方に位置づけられている場合(上記の第1移動ステップの直後の場合)、レーザー加工ユニット30により、他方のチャックテーブル10に保持された被加工物100にレーザー光線301を照射させてレーザー加工処理を実行させると同時に、搬出入ユニット41により、一方のチャックテーブル10に保持されたレーザー加工後の被加工物100をカセット45に搬入させるとともに、カセット45からレーザー加工前の被加工物100を一方のチャックテーブル10の保持面11に載置させる(第2加工搬送ステップ)。 As shown in FIG. 4, the processing and conveyance control unit 52 is configured when one chuck table 10 is positioned in one conveyance area 40 and the other chuck table 10 is positioned below the laser processing unit 30. (In the case immediately after the first movement step described above), the laser processing unit 30 irradiates the workpiece 100 held on the other chuck table 10 with a laser beam 301 to perform laser processing, and at the same time The unit 41 transports the workpiece 100 after laser processing held on one chuck table 10 into the cassette 45, and transfers the workpiece 100 before laser processing from the cassette 45 to the holding surface 11 of the one chuck table 10. (second processing and conveyance step).

X軸送り制御部51は、図4に示すように、一方のチャックテーブル10が一方の搬送領域40に位置づけられ、なおかつ、他方のチャックテーブル10がレーザー加工ユニット30の下方に位置づけられており、上記の第2加工搬送ステップが終了している場合(上記の第2加工搬送ステップの直後の場合)、2つのチャックテーブル10,10をそれぞれ支持する2つのX軸移動テーブル22,22を、X軸方向に配列した状態で互いのX軸方向の間隔を維持しながら同時にX軸ガイドレール21に沿って-X方向に移動させることで、図3に示すように、一方のチャックテーブル10をレーザー加工ユニット30の下方に位置づけて、他方のチャックテーブル10を他方の搬送領域40に位置づける(第2移動ステップ)。 As shown in FIG. 4, the X-axis feed control unit 51 has one chuck table 10 positioned in one transport area 40, and the other chuck table 10 positioned below the laser processing unit 30, When the second processing and transportation step described above has been completed (immediately after the second processing and transportation step described above), the two X-axis moving tables 22, 22 supporting the two chuck tables 10, 10, respectively, are By simultaneously moving the chuck table 10 in the -X direction along the X-axis guide rail 21 while maintaining the distance in the X-axis direction from each other while arranging them in the axial direction, one of the chuck tables 10 is moved by the laser as shown in FIG. The other chuck table 10 is positioned below the processing unit 30 and positioned in the other transport area 40 (second movement step).

加工及び搬送制御部52は、実施形態1では、第1加工搬送ステップ及び第2加工搬送ステップにおいて、レーザー光線走査ユニット37により、集光器38が覆うチャックテーブル10の保持面11に保持された被加工物100のXY平面方向の全面に渡ってレーザー光線301を走査することができるので、チャックテーブル10をX軸方向またはY軸方向に移動させることなく、レーザー加工ユニット30により被加工物100のXY平面方向の全面に渡って所望のレーザー加工処理を実行することができる。 In the first embodiment, the processing and transport control unit 52 uses the laser beam scanning unit 37 to scan the workpiece held on the holding surface 11 of the chuck table 10 covered by the condenser 38 in the first processing and transport step and the second processing and transport step. Since the laser beam 301 can scan the entire surface of the workpiece 100 in the XY plane direction, the laser processing unit 30 can scan the workpiece 100 in the XY direction without moving the chuck table 10 in the X-axis direction or the Y-axis direction. Desired laser processing can be performed over the entire surface in the plane direction.

実施形態1に係るレーザー加工装置1は、チャックテーブル10をX軸方向またはY軸方向に移動させることなく、レーザー加工ユニット30により被加工物100のXY平面方向の全面に渡って所望のレーザー加工処理を実行することができるので、チャックテーブル10の移動を、被加工物100のレーザー加工ユニット30の下方への搬入及び搬出に活用することができる。また、実施形態1に係るレーザー加工装置1は、レーザー光線照射ユニット31の両脇でX軸方向に並んで一対の搬送領域40が配されているので、X軸送りユニット20で2つのチャックテーブル10,10をX軸方向に並べた状態で同時に移動させることで、被加工物100のレーザー加工ユニット30の下方への搬入及び搬出を一度に実行することができる。さらに、実施形態1に係るレーザー加工装置1は、レーザー加工ユニット30の下方にあるチャックテーブル10に対してレーザー加工処理を実行すると同時に、レーザー加工ユニット30の下方から退避した搬送領域40にあるチャックテーブル10に対してレーザー加工後の被加工物100のカセット45への搬入及びレーザー加工前の被加工物100のカセット45からの搬出処理を実行することができる。このため、実施形態1に係るレーザー加工装置1は、レーザー光線照射ユニット31のレーザー光線301の照射領域が広いという特性を活用した効率的なレーザー加工ができる。 The laser processing apparatus 1 according to the first embodiment performs desired laser processing over the entire surface of the workpiece 100 in the XY plane direction using the laser processing unit 30 without moving the chuck table 10 in the X-axis direction or the Y-axis direction. Since the processing can be executed, the movement of the chuck table 10 can be utilized for carrying the workpiece 100 into and out of the laser processing unit 30 below. Further, in the laser processing apparatus 1 according to the first embodiment, since the pair of conveyance areas 40 are arranged in the X-axis direction on both sides of the laser beam irradiation unit 31, the two chuck tables 10 are arranged in the X-axis feed unit 20. , 10 are arranged in the X-axis direction and moved simultaneously, the workpiece 100 can be carried in and out of the laser processing unit 30 at the same time. Further, the laser processing apparatus 1 according to the first embodiment performs laser processing on the chuck table 10 located below the laser processing unit 30, and at the same time performs the laser processing on the chuck table 10 located below the laser processing unit 30. The workpiece 100 after laser processing can be carried into the cassette 45 on the table 10, and the workpiece 100 before laser processing can be carried out from the cassette 45. Therefore, the laser processing apparatus 1 according to the first embodiment can perform efficient laser processing by utilizing the characteristic that the laser beam 301 of the laser beam irradiation unit 31 has a wide irradiation area.

また、実施形態1に係るレーザー加工装置1は、レーザー光線走査ユニット37が、ガルバノスキャナー、レゾナントスキャナー、音響光学偏向素子又はポリゴンミラーを備える。このため、実施形態1に係るレーザー加工装置1は、被加工物100のXY平面方向の全面に渡ってレーザー光線301を好適に走査して、所望のレーザー加工処理を実行することができる。 Further, in the laser processing apparatus 1 according to the first embodiment, the laser beam scanning unit 37 includes a galvano scanner, a resonant scanner, an acousto-optic deflection element, or a polygon mirror. Therefore, the laser processing apparatus 1 according to the first embodiment can suitably scan the laser beam 301 over the entire surface of the workpiece 100 in the XY plane direction and perform desired laser processing.

また、実施形態1に係るレーザー加工装置1は、搬送領域40には、チャックテーブル10に被加工物100を搬入及び搬出する搬出入ユニット41を備える。このため、実施形態1に係るレーザー加工装置1は、搬送領域40にあるチャックテーブル10に対してレーザー加工後の被加工物100のカセット45への搬入及びレーザー加工前の被加工物100のカセット45からの搬出処理を、搬出入ユニット41により自動で実行することができるので、より効率的な被加工物100のレーザー加工を可能にする。 Further, the laser processing apparatus 1 according to the first embodiment includes a carry-in/out unit 41 in the transfer area 40 that carries the workpiece 100 into and out of the chuck table 10 . For this reason, the laser processing apparatus 1 according to the first embodiment transports the workpiece 100 after laser processing to the cassette 45 on the chuck table 10 in the transport area 40, and transports the workpiece 100 before laser processing into the cassette 45. Since the process of carrying out the workpiece 100 from the workpiece 45 can be automatically executed by the carry-in/out unit 41, more efficient laser processing of the workpiece 100 is enabled.

〔実施形態2〕
本発明の実施形態2に係るレーザー加工装置1-2を図面に基づいて説明する。図5は、実施形態2に係るレーザー加工装置1-2の構成例を示す斜視図である。図6は、実施形態2に係るレーザー加工装置1-2の動作を説明する上面図である。なお、図5及び図6は、実施形態1と同一部分に同一符号を付して説明を省略する。
[Embodiment 2]
A laser processing apparatus 1-2 according to a second embodiment of the present invention will be explained based on the drawings. FIG. 5 is a perspective view showing a configuration example of a laser processing apparatus 1-2 according to the second embodiment. FIG. 6 is a top view illustrating the operation of the laser processing apparatus 1-2 according to the second embodiment. In addition, in FIGS. 5 and 6, the same parts as in Embodiment 1 are denoted by the same reference numerals, and the description thereof will be omitted.

実施形態2に係るレーザー加工装置1-2は、図5及び図6に示すように、前述した実施形態1に加えて、チャックテーブル10が回転ユニット14を備え、レーザー加工ユニット30に代えてレーザー加工ユニット30-2を備えること以外、実施形態1と同じである。チャックテーブル10は、実施形態2では、保持面11が回転ユニット14によりZ軸方向に沿った軸心周りに回転自在に設けられている。 As shown in FIGS. 5 and 6, a laser processing apparatus 1-2 according to a second embodiment has a chuck table 10 equipped with a rotation unit 14 in addition to the above-described first embodiment, and a laser processing apparatus 1-2 in place of the laser processing unit 30. This embodiment is the same as the first embodiment except that it includes a processing unit 30-2. In the second embodiment, the chuck table 10 is provided with a holding surface 11 rotatable about an axis along the Z-axis direction by a rotation unit 14.

レーザー加工ユニット30-2は、図5及び図6に示すように、レーザー光線照射ユニット31-2と、レーザー光線照射ユニット31-2に対してX軸方向に離間して-Z方向に向けて配設された撮像手段32-2と、を備える。 As shown in FIGS. 5 and 6, the laser processing unit 30-2 is spaced from the laser beam irradiation unit 31-2 in the X-axis direction and is disposed toward the −Z direction. and an imaging means 32-2.

レーザー光線照射ユニット31-2は、前述したレーザー光線照射ユニット31において、集光器38に代えて集光器38-2を備えること以外、同じである。集光器38-2は、集光器38の形状及サイズを変更したものであり、XY平面において長方形状であり、レーザー光線照射ユニット31-2の下方に位置する際のチャックテーブル10の保持面11の半分程度の領域の上方を覆うように設けられている。 The laser beam irradiation unit 31-2 is the same as the laser beam irradiation unit 31 described above except that the laser beam irradiation unit 38-2 is provided in place of the condenser 38. The condenser 38-2 is a modified condenser 38 in shape and size, and has a rectangular shape in the XY plane, and is a holding surface of the chuck table 10 when located below the laser beam irradiation unit 31-2. It is provided so as to cover the upper half of the area of 11.

撮像手段32-2は、図5及び図6に示すように、撮像に係る光軸が、レーザー光線照射ユニット31の下方に位置するチャックテーブル10の保持面11のうち、集光器38-2に覆われていない残りの半分程度の領域を通過するように設けられている。このため、撮像手段32-2は、集光器38-2によって妨げられることなく、レーザー光線照射ユニット31の下方に位置するチャックテーブル10の保持面11のうち、集光器38-2に覆われていない残りの半分程度の領域を撮像することができる。撮像手段32-2は、レーザー光線照射ユニット31の下方に位置するチャックテーブル10の保持面11に保持された被加工物100を撮像して、チャックテーブル10の保持面11に保持された被加工物100とレーザー光線照射ユニット31によるレーザー光線301の照射位置との位置合わせを行なうアライメントを遂行するための画像を得、得た画像を制御ユニット50に出力する。 As shown in FIGS. 5 and 6, the imaging means 32-2 is configured so that the optical axis for imaging is located on the condenser 38-2 of the holding surface 11 of the chuck table 10 located below the laser beam irradiation unit 31. It is provided so as to pass through the remaining half area that is not covered. For this reason, the imaging means 32-2 is not obstructed by the condenser 38-2, and is covered by the condenser 38-2 on the holding surface 11 of the chuck table 10 located below the laser beam irradiation unit 31. It is possible to image the remaining half of the area that is not covered. The imaging means 32-2 images the workpiece 100 held on the holding surface 11 of the chuck table 10 located below the laser beam irradiation unit 31, and images the workpiece 100 held on the holding surface 11 of the chuck table 10. 100 and the irradiation position of the laser beam 301 by the laser beam irradiation unit 31, an image for performing alignment is obtained, and the obtained image is output to the control unit 50.

次に、実施形態2に係るレーザー加工装置1-2の動作を、図面に基づいて説明する。加工及び搬送制御部52は、実施形態2では、レーザー光線走査ユニット37により、集光器38-2が覆うチャックテーブル10の保持面11に保持された被加工物100のXY平面方向の-X方向側の半面に渡ってレーザー光線301を走査することができる。このため、加工及び搬送制御部52は、まず、図6(A)に示すように、集光器38-2が覆う領域に被加工物100の一方の半面100-1を配置して、被加工物100の一方の半面100-1の全面に渡って所望のレーザー加工処理を実行する。そして、加工及び搬送制御部52は、回転ユニット14によりチャックテーブル10をZ軸周りに180度(半周)回転させることで、図6(B)に示すように、集光器38-2が覆う領域に被加工物100の他方の半面100-2を配置する。その後、加工及び搬送制御部52は、被加工物100の他方の半面100-2の全面に渡って所望のレーザー加工処理を実行する。このようにして、加工及び搬送制御部52は、実施形態2では、回転ユニット14を駆使しながら、被加工物100の半面100-1,100-2ずつ、レーザー加工処理を実行する。 Next, the operation of the laser processing apparatus 1-2 according to the second embodiment will be explained based on the drawings. In the second embodiment, the processing and transport control unit 52 uses the laser beam scanning unit 37 to move the workpiece 100 held on the holding surface 11 of the chuck table 10 covered by the condenser 38-2 in the −X direction of the XY plane direction. The laser beam 301 can be scanned over one half of the side. For this reason, the processing and transport control unit 52 first places one half surface 100-1 of the workpiece 100 in the area covered by the condenser 38-2, as shown in FIG. A desired laser processing is performed over the entire surface of one half surface 100-1 of the workpiece 100. Then, the processing and transport control unit 52 causes the rotation unit 14 to rotate the chuck table 10 by 180 degrees (half a turn) around the Z axis, so that the condenser 38-2 is covered, as shown in FIG. 6(B). The other half surface 100-2 of the workpiece 100 is placed in the area. Thereafter, the processing and transport control section 52 performs desired laser processing over the entire surface of the other half surface 100-2 of the workpiece 100. In this way, in the second embodiment, the processing and transport control unit 52 executes laser processing on each of the half surfaces 100-1 and 100-2 of the workpiece 100, making full use of the rotation unit 14.

実施形態2に係るレーザー加工装置1-2は、回転ユニット14によりチャックテーブル10を180度の回転移動を1度させることで、チャックテーブル10をX軸方向またはY軸方向に移動させることなく、レーザー加工ユニット30により被加工物100のXY平面方向の全面に渡って所望のレーザー加工処理を実行することができるので、チャックテーブル10の移動を、被加工物100のレーザー加工ユニット30の下方への搬入及び搬出に活用することができる。実施形態2に係るレーザー加工装置1-2は、その他の構成及び動作については、実施形態1に係るレーザー加工装置1と同様であるので、実施形態1に係るレーザー加工装置1と同様に、レーザー光線照射ユニット31のレーザー光線301の照射領域が広いという特性を活用した効率的なレーザー加工ができるという作用効果を奏する。 The laser processing apparatus 1-2 according to the second embodiment rotates the chuck table 10 once by 180 degrees using the rotation unit 14, thereby eliminating the need to move the chuck table 10 in the X-axis direction or the Y-axis direction. Since the laser processing unit 30 can perform desired laser processing over the entire surface of the workpiece 100 in the XY plane direction, the chuck table 10 can be moved below the laser processing unit 30 of the workpiece 100. It can be used for loading and unloading. The laser processing apparatus 1-2 according to the second embodiment has the same structure and operation as the laser processing apparatus 1 according to the first embodiment. The effect is that efficient laser processing can be performed by utilizing the characteristic that the irradiation area of the laser beam 301 of the irradiation unit 31 is wide.

また、実施形態2に係るレーザー加工装置1-2は、撮像手段32-2が、集光器38-2によって妨げられることなく、レーザー光線照射ユニット31の下方に位置するチャックテーブル10の保持面11の一部分を撮像することができるので、実施形態1に係るレーザー加工装置1よりも、さらにアライメントの精度を向上させることができる。 Further, in the laser processing apparatus 1-2 according to the second embodiment, the imaging means 32-2 can be mounted on the holding surface 11 of the chuck table 10 located below the laser beam irradiation unit 31 without being obstructed by the condenser 38-2. Since a portion of the image can be imaged, alignment accuracy can be further improved than in the laser processing apparatus 1 according to the first embodiment.

なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。即ち、本発明の骨子を逸脱しない範囲で種々変形して実施することができる。 Note that the present invention is not limited to the above embodiments. That is, various modifications can be made without departing from the gist of the invention.

なお、本発明のX軸送りユニット20は、X軸パルスモータ24とX軸ボールねじ23を用いた構成に限定されない。例えば、X軸送りユニット20を、第1チャックテーブル、第2チャックテーブルをそれぞれが駆動源を有し、それぞれが独立してX軸送り制御が可能なリニアサーボモータを用いた直動機構の構成としても良い。これにより、一方のチャックテーブルが停止している間に他方のチャックテーブルを動かす制御が可能となり、搬送及び加工への制限が各段に少なくなる。 Note that the X-axis feed unit 20 of the present invention is not limited to the configuration using the X-axis pulse motor 24 and the X-axis ball screw 23. For example, the X-axis feed unit 20, the first chuck table, and the second chuck table each have a drive source, and each has a linear servo motor that can control the X-axis feed independently. It's good as well. As a result, while one chuck table is stopped, it is possible to control the movement of the other chuck table, and restrictions on conveyance and processing are significantly reduced.

1,1-2 レーザー加工装置
10 チャックテーブル
11 保持面
14 回転ユニット
20 X軸送りユニット
30 レーザー加工ユニット
31,31-2 レーザー光線照射ユニット
341 発振器
37 レーザー光線走査ユニット
38,38-2 集光器
40 搬送領域
41 搬出入ユニット
100 被加工物
1, 1-2 Laser processing device 10 Chuck table 11 Holding surface 14 Rotation unit 20 X-axis feed unit 30 Laser processing unit 31, 31-2 Laser beam irradiation unit 341 Oscillator 37 Laser beam scanning unit 38, 38-2 Concentrator 40 Conveyance Area 41 Loading/unloading unit 100 Workpiece

Claims (5)

被加工物を保持面で保持する第1チャックテーブルと、
被加工物を保持面で保持する第2チャックテーブルと、
該第1チャックテーブルと該第2チャックテーブルをX軸方向に並べた状態で移動させるX軸送りユニットと、
該チャックテーブルに保持された被加工物にレーザー光線を照射して加工するレーザー光線照射ユニットと、
該レーザー光線照射ユニットの両脇で該X軸方向に並んで配置され、該チャックテーブルに被加工物を搬入または搬出する一対の搬送領域と、を備え、
該レーザー光線照射ユニットは、
レーザー光線を発振する発振器と、
該発振器からの光を集光する集光器と、
該発振器と該集光器との間に配置され該チャックテーブルの保持面でのレーザー光線の照射位置を変位させるレーザー光線走査ユニットと、を備え
該第1チャックテーブルと該第2チャックテーブルとのうち一方を該一対の搬送領域のうちいずれかの搬送領域に位置付けて該被加工物を搬入または搬出し、該第1チャックテーブルと該第2チャックテーブルとのうち他方を該レーザー光線照射ユニットの下方に位置付けて他方が保持した被加工物を加工するレーザー加工装置。
a first chuck table that holds the workpiece on a holding surface;
a second chuck table that holds the workpiece on a holding surface;
an X-axis feeding unit that moves the first chuck table and the second chuck table in a state where they are aligned in the X-axis direction;
a laser beam irradiation unit that processes the workpiece held by the chuck table by irradiating the workpiece with a laser beam;
a pair of transport areas arranged side by side in the X-axis direction on both sides of the laser beam irradiation unit and for transporting the workpiece into or out of the chuck table;
The laser beam irradiation unit is
an oscillator that emits a laser beam;
a concentrator that condenses light from the oscillator;
a laser beam scanning unit disposed between the oscillator and the condenser and displacing the irradiation position of the laser beam on the holding surface of the chuck table ;
One of the first chuck table and the second chuck table is positioned in one of the pair of transport areas to carry in or carry out the workpiece, and the first chuck table and the second chuck table A laser processing device that positions the other of the chuck table below the laser beam irradiation unit and processes a workpiece held by the other .
該X軸送りユニットは、該第1チャックテーブル、該第2チャックテーブルを、それぞれが駆動源を有しそれぞれが独立してX軸送り制御が可能な直動機構である請求項1に記載のレーザー加工装置。 2. The X-axis feeding unit is a linear motion mechanism in which each of the first chuck table and the second chuck table has a drive source and can independently control the X-axis feeding. Laser processing equipment. 該レーザー光線走査ユニットは、ガルバノスキャナー、レゾナントスキャナー、音響光学偏向素子又はポリゴンミラーを備える請求項1又は請求項2に記載のレーザー加工装置。 3. The laser processing apparatus according to claim 1, wherein the laser beam scanning unit includes a galvano scanner, a resonant scanner, an acousto-optic deflection element, or a polygon mirror. 該第1チャックテーブル及び該第2チャックテーブルは、該保持面と直交する回転軸で該保持面を回転させる回転ユニットを備える請求項1から請求項3のいずれか一項に記載のレーザー加工装置。 The laser processing apparatus according to any one of claims 1 to 3 , wherein the first chuck table and the second chuck table include a rotation unit that rotates the holding surface about a rotation axis perpendicular to the holding surface. . 該搬送領域には、該チャックテーブルに被加工物を搬入及び搬出する搬出入ユニットを備える請求項1から請求項のいずれか1項に記載のレーザー加工装置。 The laser processing apparatus according to any one of claims 1 to 4 , wherein the transfer area includes a carry-in/out unit that carries the workpiece into and out of the chuck table.
JP2020006409A 2019-04-09 2020-01-17 laser processing equipment Active JP7449097B2 (en)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US16/830,407 US11534862B2 (en) 2019-04-09 2020-03-26 Laser processing apparatus
CN202010257972.4A CN111805076A (en) 2019-04-09 2020-04-03 Laser processing apparatus

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2019074276 2019-04-09
JP2019074276 2019-04-09

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2020171961A JP2020171961A (en) 2020-10-22
JP7449097B2 true JP7449097B2 (en) 2024-03-13

Family

ID=72830344

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2020006409A Active JP7449097B2 (en) 2019-04-09 2020-01-17 laser processing equipment

Country Status (2)

Country Link
JP (1) JP7449097B2 (en)
CN (1) CN111805076A (en)

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005297007A (en) 2003-08-25 2005-10-27 Hitachi Via Mechanics Ltd Laser beam machine
US20110233178A1 (en) 2010-03-29 2011-09-29 Chi Wah Cheng Laser processing apparatus
JP2017064744A (en) 2015-09-29 2017-04-06 株式会社ディスコ Laser processing device
JP2017073442A (en) 2015-10-06 2017-04-13 株式会社ディスコ Processing device
JP2017108089A (en) 2015-12-04 2017-06-15 株式会社東京精密 Laser processing apparatus and laser processing method

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN201931205U (en) * 2011-01-05 2011-08-17 武汉吉事达激光技术有限公司 Double-station laser etching machine for touch screen ITO (indium tin oxide) thin films
JP6189178B2 (en) * 2013-10-29 2017-08-30 株式会社ディスコ Laser processing equipment
CN205888358U (en) * 2016-05-30 2017-01-18 大族激光科技产业集团股份有限公司 Duplex position laser welding equipment
CN206509568U (en) * 2017-01-11 2017-09-22 无锡通亚数控装备有限公司 Double camshaft milling machine
JP2018120913A (en) * 2017-01-24 2018-08-02 株式会社ディスコ Laser processing device

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005297007A (en) 2003-08-25 2005-10-27 Hitachi Via Mechanics Ltd Laser beam machine
US20110233178A1 (en) 2010-03-29 2011-09-29 Chi Wah Cheng Laser processing apparatus
JP2017064744A (en) 2015-09-29 2017-04-06 株式会社ディスコ Laser processing device
JP2017073442A (en) 2015-10-06 2017-04-13 株式会社ディスコ Processing device
JP2017108089A (en) 2015-12-04 2017-06-15 株式会社東京精密 Laser processing apparatus and laser processing method

Also Published As

Publication number Publication date
CN111805076A (en) 2020-10-23
JP2020171961A (en) 2020-10-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4843212B2 (en) Laser processing apparatus and laser processing method
KR102351840B1 (en) Laser processing apparatus
KR102662458B1 (en) Laser machining apparatus
TWI793322B (en) Workpiece separation device and workpiece separation method
KR20140118757A (en) Wafer machining method
KR20160088808A (en) Wafer processing method
KR102535905B1 (en) Laser machining apparatus
JP2014067843A (en) Laser processing device and protective film coating method
JP7449097B2 (en) laser processing equipment
JP6152013B2 (en) Wafer processing method
JP2004179625A (en) Laser system and chip scale marker usable for two wavelengths
JP2009253225A (en) Processing apparatus
TWI584900B (en) Laser processing method
US11534862B2 (en) Laser processing apparatus
KR102293784B1 (en) Conveying apparatus, processing apparatus and conveying method
JP2013000777A (en) Laser beam machining apparatus
TW202125604A (en) Device chip manufacturing method
WO2022190924A1 (en) Substrate processing device, substrate processing system, and substrate processing method
JP7184455B2 (en) Wafer processing method
JP5519426B2 (en) Laser processing equipment
JP2022183748A (en) Laser processing device
JP2018129372A (en) Dicing device and dicing method
KR20240035335A (en) Laser processing apparatus
KR20240008252A (en) Method for processing wafer, and apparatus for processing wafer
TW202133982A (en) Workpiece separating device, and workpiece separating method

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20221125

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20230831

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20230905

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20231101

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20240213

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20240301

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 7449097

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150