JP7420260B2 - Insulated wires and electrical equipment - Google Patents

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Description

本開示は、絶縁電線、及びその製造方法、並びにその絶縁電線を用いた電気機器に関する。 The present disclosure relates to an insulated wire, a method for manufacturing the same, and an electrical device using the insulated wire.

特許文献1には、導線の外周面上に絶縁層が積層され、この絶縁層の外周面上に加熱により膨張する膨張層が積層され、この膨張層の外周面上に熱融着層が積層された絶縁電線が記載されている。この絶縁電線を用いてコイルを製造すれば、巻線間が熱融着により固着したコイルを製造することができる。また、当該熱融着のための加熱時に膨張層が膨張することにより、隣接する巻線間の融着の信頼性を高めることができる。 Patent Document 1 discloses that an insulating layer is laminated on the outer peripheral surface of a conductive wire, an expansion layer that expands when heated is laminated on the outer peripheral surface of this insulating layer, and a heat-sealing layer is laminated on the outer peripheral surface of this expansion layer. Insulated wires are described. By manufacturing a coil using this insulated wire, it is possible to manufacture a coil in which the windings are fixed together by heat fusion. Further, by expanding the expansion layer during heating for the thermal fusion, the reliability of fusion between adjacent windings can be improved.

特開2016-35836号公報JP2016-35836A

しかしながら、このような従来の絶縁電線は、コイルの製造後における、巻線の位置ずれや巻線のよれは、熱融着による固着で抑制できるが、熱融着前の絶縁電線を巻回する作業中における巻線の位置ずれや、巻線のよれを抑制することはできない。 However, with such conventional insulated wires, misalignment of the windings and twisting of the windings after the coil is manufactured can be suppressed by fixation by heat fusion, but it is difficult to wind the insulated wire before heat fusion. It is not possible to suppress positional displacement of the winding wire or twisting of the winding wire during work.

本開示は、このような課題を解決するためになされたもので、絶縁電線を巻回してコイルを製造する際の、巻回時における巻線の位置ずれや、巻線のよれを抑制することができる絶縁電線、及びその製造方法、並びに電気機器を提供することを目的とする。 The present disclosure has been made in order to solve such problems, and is aimed at suppressing positional shift of the winding wire and twisting of the winding wire during winding when manufacturing a coil by winding an insulated wire. The purpose of the present invention is to provide an insulated wire, a method for manufacturing the same, and electrical equipment that can be used.

本開示に係る絶縁電線は、導線と、導線の外周側に積層される最も外側の1層である最外周層とを有し、当該最外周層は絶縁性を有する半硬化型接着剤により構成されるとともに、その外周面に当該半硬化型接着剤を成形した段差を有し、半硬化型接着剤は、光硬化性接着剤である。
また、本開示に係る絶縁電線は、導線と、導線の外周側に積層される最も外側の1層である最外周層とを有し、当該最外周層は絶縁性を有する半硬化型接着剤により構成されるとともに、その外周面に当該半硬化型接着剤を成形した段差を有し、最外周層は、導線の外周面上に直接積層される。
An insulated wire according to the present disclosure includes a conductor wire and an outermost layer that is the outermost layer laminated on the outer circumference side of the conductor wire, and the outermost layer is made of a semi-cured adhesive having insulating properties. and has a step formed by molding the semi-cured adhesive on its outer peripheral surface, and the semi-cured adhesive is a photo-curable adhesive.
Further, the insulated wire according to the present disclosure includes a conductor wire and an outermost layer that is the outermost layer laminated on the outer circumference side of the conductor wire, and the outermost layer is made of a semi-cured adhesive having insulating properties. It has a step formed by molding the semi-cured adhesive on its outer circumferential surface, and the outermost layer is laminated directly on the outer circumferential surface of the conductive wire.

本開示に係る絶縁電線は、この絶縁電線を多層に巻回してコイルを製造するときに、段差が当該絶縁電線の他の部分と接触し、その接触した部分の移動を制限する。このため、この絶縁電線を巻回してコイルを製造したときに、隣接する巻線間の位置づれや、巻線のよれを抑制できる。 In the insulated wire according to the present disclosure, when the insulated wire is wound in multiple layers to manufacture a coil, the step comes into contact with another portion of the insulated wire, and the movement of the contacted portion is restricted. Therefore, when a coil is manufactured by winding this insulated wire, misalignment between adjacent windings and twisting of the windings can be suppressed.

実施の形態1にかかる絶縁電線の断面図である。1 is a cross-sectional view of an insulated wire according to Embodiment 1. FIG. 図1に示す絶縁電線を多層に巻回したときの断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view when the insulated wire shown in FIG. 1 is wound in multiple layers. 実施の形態1にかかる絶縁電線の変形例を示す断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view showing a modification of the insulated wire according to the first embodiment. 実施の形態1にかかる絶縁電線の変形例を示す断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view showing a modification of the insulated wire according to the first embodiment. 図4に示す絶縁電線を多層に巻回したときの断面図である。FIG. 5 is a cross-sectional view when the insulated wire shown in FIG. 4 is wound in multiple layers. 実施の形態1にかかる絶縁電線の変形例を示す断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view showing a modification of the insulated wire according to the first embodiment. 図6に示す絶縁電線を多層に巻回したときの断面図である。FIG. 7 is a cross-sectional view when the insulated wire shown in FIG. 6 is wound in multiple layers. 実施の形態1にかかる絶縁電線の変形例を示す断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view showing a modification of the insulated wire according to the first embodiment. 図8に示す絶縁電線を多層に巻回したときの断面図である。FIG. 9 is a cross-sectional view when the insulated wire shown in FIG. 8 is wound in multiple layers. 図8の絶縁電線の変形例を示す断面図である。9 is a sectional view showing a modification of the insulated wire of FIG. 8. FIG. 実施の形態1にかかる絶縁電線の変形例を示す断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view showing a modification of the insulated wire according to the first embodiment. 図11に示す絶縁電線を多層に巻回したときの断面図である。FIG. 12 is a cross-sectional view when the insulated wire shown in FIG. 11 is wound in multiple layers. 図4に示す絶縁電線を多層に巻回したときの別の断面図である。FIG. 5 is another cross-sectional view when the insulated wire shown in FIG. 4 is wound in multiple layers. 実施の形態1にかかる絶縁電線の変形例を示す断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view showing a modification of the insulated wire according to the first embodiment. 実施の形態1にかかる絶縁電線の変形例を示す断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view showing a modification of the insulated wire according to the first embodiment. 図15に示す絶縁電線を多層に巻回したときの断面図である。FIG. 16 is a cross-sectional view of the insulated wire shown in FIG. 15 when wound in multiple layers. 実施の形態1にかかる絶縁電線の変形例を示す断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view showing a modification of the insulated wire according to the first embodiment. 実施の形態2にかかる絶縁電線の断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view of an insulated wire according to a second embodiment. 実施の形態2にかかる絶縁電線の変形例を示す断面図である。FIG. 7 is a cross-sectional view showing a modification of the insulated wire according to the second embodiment. 実施の形態2にかかる絶縁電線の変形例を示す断面図である。FIG. 7 is a cross-sectional view showing a modification of the insulated wire according to the second embodiment. 実施の形態1の絶縁電線の製造工程の概略を示すフロー図である。FIG. 2 is a flow diagram showing an outline of the manufacturing process of the insulated wire according to the first embodiment. 図21の製造工程で用いる製造装置の概略図である。22 is a schematic diagram of a manufacturing apparatus used in the manufacturing process of FIG. 21. FIG. 図22の押出成形機105の構成を示す概略図である。23 is a schematic diagram showing the configuration of an extrusion molding machine 105 in FIG. 22. FIG. 図5の絶縁電線を巻回してなるコイルを例示する概略図である。6 is a schematic diagram illustrating a coil formed by winding the insulated wire of FIG. 5. FIG. 図5の絶縁電線を巻回してなるコイルの別の例を示す概略図である。6 is a schematic diagram showing another example of a coil formed by winding the insulated wire of FIG. 5. FIG.

実施の形態1.
以下、本開示の絶縁電線の構造およびその製造方法について説明する。本開示の絶縁電線は、各種電気機器のモータ、発電機、変圧器、ソレノイド、リアクトル等のコイルの巻線として使用される。
Embodiment 1.
Hereinafter, the structure of the insulated wire of the present disclosure and the manufacturing method thereof will be described. The insulated wire of the present disclosure is used as a coil winding of a motor, a generator, a transformer, a solenoid, a reactor, etc. of various electrical devices.

図1は、本開示の実施の形態1にかかる絶縁電線10の断面図である。図1は、絶縁電線10の延伸方向に対し垂直な方向における断面を示している。絶縁電線10は、その延伸方向の全体にわたって同一の断面、即ち、図1に示す断面を有している。絶縁電線10は、導線1と、導線1の外周面上に積層される絶縁層2と、絶縁層2の外周面上に積層される半硬化接着層3とを有する。半硬化接着層3は、絶縁電線10の最も外側の層(最外周層)である。 FIG. 1 is a cross-sectional view of an insulated wire 10 according to Embodiment 1 of the present disclosure. FIG. 1 shows a cross section of the insulated wire 10 in a direction perpendicular to the stretching direction. The insulated wire 10 has the same cross section throughout its extending direction, that is, the cross section shown in FIG. 1. The insulated wire 10 includes a conductive wire 1 , an insulating layer 2 laminated on the outer circumferential surface of the conductive wire 1 , and a semi-cured adhesive layer 3 laminated on the outer circumferential surface of the insulating layer 2 . The semi-cured adhesive layer 3 is the outermost layer (outermost layer) of the insulated wire 10.

半硬化接着層3は、半硬化状態の半硬化型接着剤からなる層である。半硬化型接着剤は、半硬化状態を保持できる接着剤である。たとえば、半硬化型接着剤として、Bステージの状態になり得うるBステージ型接着剤が知られている。Bステージは、熱硬化性樹脂の硬化中間状態であって、この状態での樹脂は加熱すると軟化し,ある種の溶剤に触れると膨潤するが,完全に溶融・溶解することはない。このような半硬化型接着剤は、半硬化状態から一定時間以上加熱するなどの所定の処理を施すことにより、完全に硬化した本硬化状態にすることができる。ここで用いる半硬化接着剤は、常温で半硬化状態を一定期間保持できるものであれば、Bステージ型接着剤のような熱硬化性樹脂に限らず、UV硬化性樹脂(紫外線硬化性樹脂)などの光硬化性樹脂であってもよい。ここでいう半硬化状態とは、硬化中間状態をいう。 The semi-cured adhesive layer 3 is a layer made of a semi-cured adhesive in a semi-cured state. A semi-cured adhesive is an adhesive that can maintain a semi-cured state. For example, as a semi-cured adhesive, a B-stage adhesive that can be in a B-stage state is known. The B stage is an intermediate state of hardening of the thermosetting resin, and the resin in this state softens when heated and swells when it comes into contact with a certain type of solvent, but does not completely melt or dissolve. Such a semi-cured adhesive can be brought into a fully cured state by subjecting it to a predetermined treatment such as heating for a certain period of time or more from a semi-cured state. The semi-cured adhesive used here is not limited to thermosetting resins such as B-stage adhesives, as long as it can maintain a semi-cured state at room temperature for a certain period of time, as well as UV curable resins. It may also be a photocurable resin such as. The semi-hardened state here refers to an intermediate hardened state.

本実施の形態1において、最外周層である半硬化接着層3は以下の特徴を有する。半硬化接着層3は絶縁性を有し、導線1の絶縁に寄与する。また、半硬化接着層3は半硬化状態であり、絶縁電線10を多層に巻回して本硬化することにより、巻線間が固着されたコイルを製造できる。 In the first embodiment, the semi-cured adhesive layer 3, which is the outermost layer, has the following characteristics. The semi-cured adhesive layer 3 has insulating properties and contributes to the insulation of the conductive wire 1. Further, the semi-cured adhesive layer 3 is in a semi-cured state, and by winding the insulated wire 10 in multiple layers and fully curing it, a coil in which the windings are fixed can be manufactured.

また、半硬化接着層3の外周面には、段差4が形成されている。このため、この絶縁電線10を多層に巻回するときに、段差4が絶縁電線10の他の部分と接触し、その部分の移動を制限する。よって、この絶縁電線10を用いてコイルを製造すれば、巻回時における巻線の位置ずれや、巻線のよれを抑制できる。図1では、段差4は、半硬化接着層3の外周面に凹部5を設けることにより、凹部5の一部として形成されている。図1での段差4は凹部5内の側面4a,4bのそれぞれである。この絶縁電線10を多層に巻回すると、たとえば図2に示すように、凹部5内に、隣接する巻線の非凹部である右下角部9を嵌入できる。 Furthermore, a step 4 is formed on the outer peripheral surface of the semi-cured adhesive layer 3. Therefore, when the insulated wire 10 is wound in multiple layers, the step 4 comes into contact with other parts of the insulated wire 10 and restricts the movement of that part. Therefore, if a coil is manufactured using this insulated wire 10, displacement of the winding wire and twisting of the winding wire during winding can be suppressed. In FIG. 1, the step 4 is formed as a part of the recess 5 by providing the recess 5 on the outer peripheral surface of the semi-cured adhesive layer 3. The steps 4 in FIG. 1 are the side surfaces 4a and 4b within the recess 5, respectively. When this insulated wire 10 is wound in multiple layers, the lower right corner portion 9 of the adjacent winding wire, which is a non-recessed portion, can be fitted into the recessed portion 5, as shown in FIG. 2, for example.

また、段差4は、半硬化接着層3を形成する半硬化型接着剤を成形することにより形成されている。このため、絶縁電線10の製造工程において、後述する押出成形等を用いれば、半硬化接着層3をその段差4も含めて一括して成形できる。 Further, the step 4 is formed by molding a semi-cured adhesive forming the semi-cured adhesive layer 3. Therefore, in the manufacturing process of the insulated wire 10, if extrusion molding or the like, which will be described later, is used, the semi-cured adhesive layer 3, including the steps 4 thereof, can be molded all at once.

以下、図1の絶縁電線10の構造について、さらに詳しく説明する。導線1は、例えば、銅線、アルミニウム線、またはこれらの合金線である。銅線の材質としては、たとえばタフピッチ銅、無酸素銅などを用いることができる。アルミニウム線の材質としては、たとえば硬アルミニウムを用いることができる。合金線の材質としては、たとえば、銅と錫の合金、銅と銀の合金、銅と亜鉛の合金、銅とクロムの合金、銅とジルコニウムの合金、アルミニウムと銅の合金、アルミニウムと銀の合金、アルミニウムと亜鉛の合金、アルミニウムと鉄の合金などを用いることができる。導線1は、1本の導体で形成される単線でも、複数本の導体が撚り合わされた撚り線でもよい。図1では、導線1が、断面形状が矩形の平角線である場合を示したが、断面形状が円形の丸線や、断面形状がその他の多角形である導体であってもよい。 Hereinafter, the structure of the insulated wire 10 shown in FIG. 1 will be explained in more detail. The conducting wire 1 is, for example, a copper wire, an aluminum wire, or an alloy wire thereof. As the material of the copper wire, for example, tough pitch copper, oxygen-free copper, etc. can be used. As the material of the aluminum wire, for example, hard aluminum can be used. Examples of materials for alloy wires include copper and tin alloys, copper and silver alloys, copper and zinc alloys, copper and chromium alloys, copper and zirconium alloys, aluminum and copper alloys, and aluminum and silver alloys. , an alloy of aluminum and zinc, an alloy of aluminum and iron, etc. can be used. The conducting wire 1 may be a single wire made of one conductor, or a twisted wire made of a plurality of conductors twisted together. Although FIG. 1 shows the case where the conductive wire 1 is a flat wire with a rectangular cross-sectional shape, it may be a round wire with a circular cross-sectional shape or a conductor with a polygonal cross-sectional shape.

絶縁層2の材質は、たとえば、ポリエーテルエーテルケトン(PEEK)、ポリフェニレンサルファイド(PPS)、ポリエーテルイミド(PEI)、ポリアミドイミド(PAI)、ポリイミド(PI)、ポリベンゾイミダゾール(PBI)、ポリエーテルサルフォン(PES)、ポリプロピレン(PP)などである。 The material of the insulating layer 2 is, for example, polyetheretherketone (PEEK), polyphenylene sulfide (PPS), polyetherimide (PEI), polyamideimide (PAI), polyimide (PI), polybenzimidazole (PBI), polyether. These include sulfone (PES) and polypropylene (PP).

絶縁層2は、導線1の表面上に、たとえば押出塗布法により形成することができる。絶縁層2を押出塗布法により形成する場合、塗布される絶縁層2の厚さを均一にする観点から、絶縁層2の厚みは30μm以上とすることが好ましい。また、絶縁層2の厚みが薄すぎると、絶縁層2の絶縁性が大きく低下し、厚すぎると小型化に不向きであり、巻回しも難しくなる。このような観点等から、絶縁層2の厚みは、30μm以上かつ150μm以下が好ましく、50μm以上かつ70μm以下が更に好ましい。 The insulating layer 2 can be formed on the surface of the conductive wire 1 by, for example, an extrusion coating method. When the insulating layer 2 is formed by an extrusion coating method, the thickness of the insulating layer 2 is preferably 30 μm or more from the viewpoint of making the thickness of the insulating layer 2 uniform. Moreover, if the thickness of the insulating layer 2 is too thin, the insulation properties of the insulating layer 2 will be greatly reduced, and if it is too thick, it will be unsuitable for miniaturization and winding will be difficult. From such a viewpoint, the thickness of the insulating layer 2 is preferably 30 μm or more and 150 μm or less, and more preferably 50 μm or more and 70 μm or less.

絶縁層2に用いる上述のような材質は、高い体積低効率を有するとともに、安定し劣化し難い性質があるが、導線1との接着性が劣る場合がある。その場合には、導線1の表面上に絶縁層2を塗布する前に、導線1の表面に物理的処理や化学的処理を行うことで、導線1と絶縁層2の密着性や接着強度を向上できる。このような物理的処理として、大気プラズマ処理、深紫外光処理、コロナ放電処理、疎化処理(レーザー疎化、研磨、サンドブラスト処理)などを用いることができる。 The above-mentioned materials used for the insulating layer 2 have high volumetric efficiency and are stable and resistant to deterioration, but may have poor adhesion to the conductive wire 1. In that case, before applying the insulating layer 2 on the surface of the conducting wire 1, the surface of the conducting wire 1 may be subjected to physical or chemical treatment to improve the adhesion and adhesive strength between the conducting wire 1 and the insulating layer 2. You can improve. As such a physical treatment, atmospheric plasma treatment, deep ultraviolet light treatment, corona discharge treatment, thinning treatment (laser thinning, polishing, sandblasting), etc. can be used.

また、化学的処理として、導線1の表面上にシランカップリング剤を塗布し、そのシランカップリング剤の上に絶縁層2を塗布してもよい。導線1と絶縁層2の間に、エポキシ系接着剤を塗布する場合は、導線1の表面上にシランカップリング剤をプライマーとして塗布し、そのプライマーの上にエポキシ系接着剤を塗布し、そのエポキシ系接着剤を被接着面として絶縁層2を塗布してもよい。このようなプライマーとして、2-(3,4-エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、3-グリシドキシプロピルメチルジトキシシラン、3-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3-グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、N-2-(アミノエチル)-3-アミノプロピルメチルジメトキシシラン、3アミノプロピルトリメトキシシラン、3-トリエトキシシリル-N-(1,3-ジメチル-ブチリデン)プロピルアミン、N-フェニル-3-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-(ベニルベンジル)-2-アミノエチル-3-アミノプロピルトリメトキシシラン塩酸塩などを用いることができる。導線1の表面上にシランカップリング剤を含んだエポキシ系接着剤を塗布し、そのエポキシ系接着剤を被接着面として絶縁層2を塗布してもよい。導線1の表面に、上述の物理的処理と化学的処理の双方を施してもよい。 Alternatively, as a chemical treatment, a silane coupling agent may be applied onto the surface of the conductive wire 1, and the insulating layer 2 may be applied on the silane coupling agent. When applying an epoxy adhesive between the conductor 1 and the insulating layer 2, apply a silane coupling agent as a primer on the surface of the conductor 1, apply the epoxy adhesive on top of the primer, and then The insulating layer 2 may be applied to the surface to be adhered using an epoxy adhesive. Such primers include 2-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethylditoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, and 3-glycidoxypropylmethylditoxysilane. Ethoxysilane, N-2-(aminoethyl)-3-aminopropylmethyldimethoxysilane, 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-triethoxysilyl-N-(1,3-dimethyl-butylidene)propylamine, N-phenyl -3-aminopropyltrimethoxysilane, N-(benylbenzyl)-2-aminoethyl-3-aminopropyltrimethoxysilane hydrochloride, and the like can be used. An epoxy adhesive containing a silane coupling agent may be applied to the surface of the conductive wire 1, and the insulating layer 2 may be applied using the epoxy adhesive as the surface to be adhered. The surface of the conducting wire 1 may be subjected to both the above-mentioned physical treatment and chemical treatment.

半硬化接着層3は、半硬化状態の半硬化型接着剤からなる層である。この半硬化接着層3として、たとえば、Bステージ型接着剤や、UV硬化型接着剤を用いることができる。半硬化接着層3として好適なBステージ型接着剤として、たとえば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂が60~75wt%、およびクレゾールノボラック型エポキシ樹脂が25~35wt%で混合したものに、アミン系硬化剤1~5wt%を加えて混錬したものを用いることができる。半硬化接着層3として好適なUV硬化型接着剤としては、たとえば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂30~40wt%、およびビスフェノールF型エポキシ樹脂20~30wt%で混合したものに、フッ化アンチモンスルホニウムなどの光硬化剤1~5wt%を加えて混錬したものを用いることができる。 The semi-cured adhesive layer 3 is a layer made of a semi-cured adhesive in a semi-cured state. As this semi-cured adhesive layer 3, for example, a B-stage adhesive or a UV-curable adhesive can be used. A suitable B-stage adhesive for the semi-cured adhesive layer 3 is, for example, a mixture of 60 to 75 wt% of bisphenol A epoxy resin and 25 to 35 wt% of cresol novolak epoxy resin, and an amine curing agent 1. It is possible to use a product that has been kneaded with ~5 wt% added. A suitable UV curable adhesive for the semi-cured adhesive layer 3 is, for example, a mixture of 30 to 40 wt% of bisphenol A epoxy resin and 20 to 30 wt% of bisphenol F epoxy resin, and a mixture of antimony sulfonium fluoride and the like. A material kneaded with 1 to 5 wt% of a photocuring agent can be used.

半硬化接着層3は、このような半硬化型接着剤が本硬化しておらず、半硬化状態になっている。Bステージ型接着剤のBステージは、ここでいう半硬化状態である。UV硬化型接着剤は、当該接着剤に対し紫外線を照射することで、半硬化状態にすることができる。半硬化接着層3としてBステージ型接着剤を用いる場合、Bステージ化が紫外線で行えるタイプのBステージ型接着剤を用いてもよい。 In the semi-cured adhesive layer 3, such a semi-cured adhesive has not been fully cured, and is in a semi-cured state. The B stage of the B stage adhesive is in a semi-cured state. A UV curable adhesive can be brought into a semi-cured state by irradiating the adhesive with ultraviolet rays. When a B-stage adhesive is used as the semi-cured adhesive layer 3, a B-stage adhesive that can be turned into a B-stage by ultraviolet rays may be used.

絶縁層2と半硬化接着層3の密着性や接着強度を向上するために、絶縁層2の表面上に半硬化接着層3を塗布する前に、物理的処理や化学的処理を行ってもよい。このような物理的処理としては、大気プラズマ処理、深紫外光処理、コロナ放電処理、疎化処理(レーザー疎化、研磨、サンドブラスト処理)などを用いることができる。 In order to improve the adhesion and adhesive strength between the insulating layer 2 and the semi-cured adhesive layer 3, physical treatment or chemical treatment may be performed before applying the semi-cured adhesive layer 3 on the surface of the insulating layer 2. good. As such a physical treatment, atmospheric plasma treatment, deep ultraviolet light treatment, corona discharge treatment, and thinning treatment (laser thinning, polishing, sandblasting), etc. can be used.

また、化学的処理として、絶縁層2の表面上にシランカップリング剤をプライマーとして塗布し、そのプライマーを被接着面として半硬化接着層3を塗布してもよい。半硬化接着層3を形成する半硬化型接着剤として、エポキシ系接着剤を用いる場合は、当該プライマーとして、2-(3,4-エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、3-グリシドキシプロピルメチルジトキシシラン、3-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3-グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、N-2-(アミノエチル)-3-アミノプロピルメチルジメトキシシラン、3アミノプロピルトリメトキシシラン、3-トリエトキシシリル-N-(1,3-ジメチル-ブチリデン)プロピルアミン、N-フェニル-3-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-(ベニルベンジル)-2-アミノエチル-3-アミノプロピルトリメトキシシラン塩酸塩などを用いることができる。絶縁層2の表面に、上述の物理的処理と化学的処理の双方を施してもよい。 Alternatively, as a chemical treatment, a silane coupling agent may be applied as a primer on the surface of the insulating layer 2, and the semi-cured adhesive layer 3 may be applied using the primer as the surface to be adhered. When using an epoxy adhesive as the semi-cured adhesive forming the semi-cured adhesive layer 3, the primer may be 2-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyl. Dithoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, N-2-(aminoethyl)-3-aminopropylmethyldimethoxysilane, 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3 -Triethoxysilyl-N-(1,3-dimethyl-butylidene)propylamine, N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane, N-(benylbenzyl)-2-aminoethyl-3-aminopropyltrimethoxysilane hydrochloride Salt etc. can be used. The surface of the insulating layer 2 may be subjected to both the above-mentioned physical treatment and chemical treatment.

以下、説明の便宜上、各図の紙面上の上下左右の方向に対応して上、下、左、右との表現を用いて説明する。また、絶縁電線10を多層に巻回してコイルを生成する場合、絶縁電線10の下側を内側にして巻回する場合を説明するが、これは例示にすぎず、絶縁電線10の巻回の仕方をこれに限定するものではない。 Hereinafter, for convenience of explanation, the expressions ``top'', ``bottom'', ``left'', and ``right'' will be used to correspond to the up, down, left, and right directions on the paper surface of each figure. In addition, when the insulated wire 10 is wound in multiple layers to generate a coil, a case will be described where the insulated wire 10 is wound with the lower side inside, but this is only an example, and the winding of the insulated wire 10 is The method is not limited to this.

図1では、最外周層である半硬化接着層3の上面に凹部5を設けることにより、段差4を形成している。図1において、段差4は凹部5の側面4a,4bのそれぞれである。4aは、凹部5内の左側の側面、4bは凹部5内の右側の側面である。また、半硬化接着層3の下面には凹部6が形成されている。7aは凹部6内の左側の側面、7bは凹部6内の右側の側面である。 In FIG. 1, a step 4 is formed by providing a recess 5 on the upper surface of the semi-cured adhesive layer 3, which is the outermost layer. In FIG. 1, the steps 4 are the side surfaces 4a and 4b of the recess 5, respectively. 4a is the left side surface within the recess 5, and 4b is the right side surface within the recess 5. Furthermore, a recess 6 is formed on the lower surface of the semi-cured adhesive layer 3. 7a is the left side surface within the recess 6, and 7b is the right side surface within the recess 6.

図1の8は半硬化接着層3の左上角部であり、詳しくは、半硬化接着層3の左側端部81から凹部5の左側の側面4aまでの部分である。9は半硬化接着層3の右下角部であり、詳しくは、半硬化接着層3の右側端部91から凹部6の右側の側面7bまでの部分である。凹部5は、右下角部9をその凹部5内に嵌入可能な大きさに形成されている。凹部6は、左上角部8をその凹部6内に嵌入可能な大きさに形成されている。 Reference numeral 8 in FIG. 1 is the upper left corner of the semi-cured adhesive layer 3, and specifically, the portion from the left end 81 of the semi-cured adhesive layer 3 to the left side surface 4a of the recess 5. 9 is the lower right corner of the semi-cured adhesive layer 3; specifically, it is a portion from the right end 91 of the semi-cured adhesive layer 3 to the right side surface 7b of the recess 6. The recess 5 is formed in a size that allows the lower right corner 9 to be inserted into the recess 5. The recess 6 is formed in a size such that the upper left corner 8 can be inserted into the recess 6.

図1において、半硬化接着層3の厚さは、絶縁層2の上下左右のいずれの方向に位置する部分も同一にしているが、後述するように、絶縁層2の上下左右のいずれかの方向に位置する部分の厚さを異ならせてもよい。また、絶縁層2の厚みは、導線1の外周の全体に渡って同一であってもよいし、厚みが異なる部分があってもよい。たとえば、半硬化接着層3は、絶縁層2の上下方向に位置する凹部5および凹部6の存在により絶縁性が低下することから、絶縁層2は、導線1の上下方向に位置する部分の厚みを、導線1の左右方向に位置する部分の厚みよりも厚くしてもよい。 In FIG. 1, the thickness of the semi-cured adhesive layer 3 is the same for the portions located in any of the upper, lower, left, and right directions of the insulating layer 2; The thickness of the portions located in the directions may be made different. Further, the thickness of the insulating layer 2 may be the same over the entire outer periphery of the conductive wire 1, or there may be portions with different thicknesses. For example, since the semi-cured adhesive layer 3 has reduced insulation properties due to the presence of the recesses 5 and 6 located in the vertical direction of the insulating layer 2, the thickness of the insulating layer 2 is may be made thicker than the thickness of the portions of the conducting wire 1 located in the left-right direction.

図2は、図1に示す絶縁電線10を、その下面を内側にして、多層に巻回したときの断面図である。図2はその巻回方向に垂直な方向における断面を示している。このように、半硬化接着層3の凹部5内に、半硬化接着層3の非凹部である右下角部9を嵌入できる。また、半硬化接着層3の凹部6内に、半硬化接着層3の左上角部8を嵌入できる。 FIG. 2 is a cross-sectional view of the insulated wire 10 shown in FIG. 1, which is wound in multiple layers with its lower surface facing inside. FIG. 2 shows a cross section in a direction perpendicular to the winding direction. In this manner, the lower right corner portion 9 of the semi-cured adhesive layer 3, which is a non-recessed portion, can be fitted into the recessed portion 5 of the semi-cured adhesive layer 3. Furthermore, the upper left corner portion 8 of the semi-cured adhesive layer 3 can be fitted into the recess 6 of the semi-cured adhesive layer 3.

このように、半硬化接着層3の凹部5内に、半硬化接着層3の非凹部である右下角部9を嵌入させれば、絶縁電線10を巻回してコイルを製造したときに、隣接する巻線間の位置づれや、巻線のよれを抑制できる。また、このように、半硬化接着層3の凹部6内に、半硬化接着層3の左上角部8を嵌入できるようにすることで、隣接する巻線間で左上角部8が干渉せず、凹部5内に右下角部9を嵌入しやすくなる。 In this way, by fitting the lower right corner 9 of the semi-cured adhesive layer 3, which is a non-concave part, into the recess 5 of the semi-cured adhesive layer 3, when a coil is manufactured by winding the insulated wire 10, the adjacent It is possible to suppress misalignment between the windings and twisting of the windings. Furthermore, by allowing the upper left corner 8 of the semi-cured adhesive layer 3 to fit into the recess 6 of the semi-cured adhesive layer 3, the upper left corner 8 does not interfere between adjacent windings. , it becomes easier to fit the lower right corner 9 into the recess 5.

なお、このような凹部5内への非凹部の嵌入は、巻回する絶縁電線10の全体にわたって行う必要は必ずしもなく、絶縁電線10を多層に巻回するときに、絶縁電線10の少なくとも一部において、凹部の側面4aまたは側面4bに絶縁電線10の他の部分が接触すれば、巻線の位置づれや、巻線のよれを抑制できる。 Note that it is not necessary to fit the non-recessed portion into the recess 5 over the entire insulated wire 10 to be wound, and when winding the insulated wire 10 in multiple layers, at least a portion of the insulated wire 10 In this case, if another portion of the insulated wire 10 comes into contact with the side surface 4a or the side surface 4b of the recessed portion, misalignment of the winding wire and twisting of the winding wire can be suppressed.

また、絶縁電線10の巻き方として、巻線機などを用いて、内側の巻線の層から外側の巻線の層へと、順次に規則的に巻回してもよいが、手作業などにより、不規則に多層に巻回してもよい。 Furthermore, the insulated wire 10 may be wound in a regular manner sequentially from the inner winding layer to the outer winding layer using a winding machine or the like; however, it may be wound by hand or the like. , it may be irregularly wound in multiple layers.

図1および図2では、側面4aと側面4bの間の間隔を、凹部5の底面から凹部5の開口に向かって大きくすることにより、凹部5内に右下角部9を嵌入しやすいように、テーパを設けている。また、側面7aと側面7bの間の間隔を、凹部6の底面から凹部6の開口に向かって大きくすることにより、凹部6内に左上角部8を嵌入しやすいように、テーパを設けている。 1 and 2, by increasing the distance between the side surfaces 4a and 4b from the bottom of the recess 5 toward the opening of the recess 5, the lower right corner 9 can be easily fitted into the recess 5. It has a taper. Further, by increasing the distance between the side surfaces 7a and 7b from the bottom of the recess 6 toward the opening of the recess 6, a taper is provided so that the upper left corner 8 can be easily fitted into the recess 6. .

図3は、図1の絶縁電線10の変形例を示す断面図である。図3において、図1と同一または相当する部分は同一符号を付して説明は省略する。図1および図2では、側面4a,4b,7a,7bのテーパを平面状に形成しているが、図3に示すように、それらの側面4a,4b,7a,7bのテーパを曲面状に形成してもよい。図3は、それ以外の部分は、図1と同様である。 FIG. 3 is a sectional view showing a modification of the insulated wire 10 of FIG. 1. In FIG. 3, parts that are the same as or correspond to those in FIG. 1 are given the same reference numerals, and explanations thereof will be omitted. In FIGS. 1 and 2, the tapers of the side surfaces 4a, 4b, 7a, and 7b are formed in a flat shape, but as shown in FIG. may be formed. 3 is the same as FIG. 1 in other parts.

図4は、実施の形態1の絶縁電線10の変形例を示す断面図である。図4において、図1と同一または相当する部分は同一符号を付して説明は省略する。図1~図3では、半硬化接着層3に、互いに対向する側面4a,4bを有する凹部5を形成することにより、段差4を形成した。図4では、絶縁層2より上方において、段差4から右側端部91までの部分において半硬化接着層3を設けないことにより、段差4を形成している。また、絶縁層2より下方において、段差7から左側端部81までの部分において半硬化接着層3を設けないことにより、段差7を形成している。図4において、左上角部8は、半硬化接着層3の段差4から左側端部81までの部分である。また、右下角部9は、半硬化接着層3の段差7から右側端部91までの部分である。 FIG. 4 is a sectional view showing a modification of the insulated wire 10 of the first embodiment. In FIG. 4, parts that are the same as or correspond to those in FIG. 1 are given the same reference numerals, and explanations thereof will be omitted. In FIGS. 1 to 3, the step 4 is formed by forming a recess 5 in the semi-cured adhesive layer 3 having side surfaces 4a and 4b facing each other. In FIG. 4, the step 4 is formed above the insulating layer 2 by not providing the semi-cured adhesive layer 3 in the portion from the step 4 to the right end portion 91. Moreover, the step 7 is formed by not providing the semi-cured adhesive layer 3 in the portion from the step 7 to the left end portion 81 below the insulating layer 2 . In FIG. 4, the upper left corner 8 is the portion of the semi-cured adhesive layer 3 from the step 4 to the left end 81. Further, the lower right corner portion 9 is the portion from the step 7 of the semi-cured adhesive layer 3 to the right end portion 91.

図5は、図4に示す絶縁電線10を、その下面を内側にして、多層に巻回したときの断面図である。図5はその巻回方向に垂直な方向における断面を示している。このように、半硬化接着層3が段差4を有するので、この絶縁電線10を多層に巻回してコイルを製造する場合に、絶縁電線10の右下角部9が段差4に接触し、右下角部9の移動を制限する。このため、絶縁電線10の巻回時における巻線の位置ずれや、巻線のよれが抑制される。 FIG. 5 is a cross-sectional view of the insulated wire 10 shown in FIG. 4, which is wound in multiple layers with its lower surface facing inside. FIG. 5 shows a cross section in a direction perpendicular to the winding direction. As described above, since the semi-cured adhesive layer 3 has the step 4, when manufacturing a coil by winding the insulated wire 10 in multiple layers, the lower right corner 9 of the insulated wire 10 comes into contact with the step 4, and the lower right corner The movement of section 9 is restricted. Therefore, positional displacement of the winding and twisting of the winding during winding of the insulated wire 10 are suppressed.

図6は、実施の形態1の絶縁電線10の他の変形例を示す断面図である。図6において、図1と同一または相当する部分は同一符号を付して説明は省略する。図1~図5では、最外周層の半硬化接着層3を部分的に設けずに、半硬化接着層3の内側にある絶縁層2を部分的に露出させることで段差4を形成した。図6では、最外周層の半硬化接着層3の厚さを部分的に薄くすることにより、段差4を形成している。 FIG. 6 is a sectional view showing another modification of the insulated wire 10 of the first embodiment. In FIG. 6, parts that are the same as or correspond to those in FIG. 1 are given the same reference numerals, and explanations thereof will be omitted. In FIGS. 1 to 5, the step 4 was formed by partially exposing the insulating layer 2 inside the semi-cured adhesive layer 3 without partially providing the outermost semi-cured adhesive layer 3. In FIG. 6, the step 4 is formed by partially reducing the thickness of the outermost circumferential semi-cured adhesive layer 3.

また、凹部6についても同様に、図1~図5では、最外周層の半硬化接着層3を部分的に設けずに、半硬化接着層3の内側にある絶縁層2を部分的に露出させることで凹部6を形成した。図6では、最外周層の半硬化接着層3の厚さを部分的に薄くすることにより、凹部6を形成している。 Similarly, regarding the recess 6, in FIGS. 1 to 5, the outermost semi-cured adhesive layer 3 is not partially provided, and the insulating layer 2 inside the semi-cured adhesive layer 3 is partially exposed. By doing so, a recess 6 was formed. In FIG. 6, the concave portion 6 is formed by partially reducing the thickness of the semi-cured adhesive layer 3 as the outermost layer.

図6では、最外周層の半硬化接着層3の厚さを部分的に薄くすることにより、段差4を形成するため、絶縁層2が露出せず保護されるとともに、半硬化接着層3も絶縁性を有することから、導線1を絶縁する効果が大きくなる。また、半硬化接着層3が導線1を絶縁する効果が増加する分、絶縁層2を薄くすることも可能である。 In FIG. 6, the step 4 is formed by partially reducing the thickness of the outermost semi-cured adhesive layer 3, so that the insulating layer 2 is not exposed and is protected, and the semi-cured adhesive layer 3 is also Since it has insulating properties, the effect of insulating the conducting wire 1 is increased. Furthermore, it is also possible to make the insulating layer 2 thinner as the effect of the semi-cured adhesive layer 3 to insulate the conducting wire 1 increases.

絶縁層2および半硬化接着層3を厚くするほど、導線1を絶縁する効果は大きくなるが、厚すぎるとコイルの小型化に不向きである。このことから、絶縁層2の厚さは30μm~150μm、半硬化接着層3の、絶縁層2の外周面全体を覆う部分の厚さ(即ち、凹部の厚さを含めない厚さ)は、10μm~50μmが好ましい。また、それら絶縁層2の厚さと半硬化接着層3の厚さの合計は50~150μmが好ましく、50~100μmがより好ましい。 The thicker the insulating layer 2 and semi-hardened adhesive layer 3, the greater the effect of insulating the conductor 1, but if they are too thick, they are unsuitable for miniaturizing the coil. From this, the thickness of the insulating layer 2 is 30 μm to 150 μm, and the thickness of the portion of the semi-cured adhesive layer 3 that covers the entire outer peripheral surface of the insulating layer 2 (that is, the thickness not including the thickness of the recess) is: The thickness is preferably 10 μm to 50 μm. Further, the total thickness of the insulating layer 2 and the semi-cured adhesive layer 3 is preferably 50 to 150 μm, more preferably 50 to 100 μm.

また、凹部5の段差4や、段差4と接触する非凹部の段差7の高さが低すぎると、段差4と段差7が接触したときの接触面積が小さく、隣接する巻線間の位置ずれ抑制の効果が小さくなる。このことから、半硬化接着層3に設ける凹部5の深さ、および段差7の高さは5μm以上が好ましく、10μm以上が更に好ましい。 Furthermore, if the height of the step 4 of the recess 5 or the step 7 of the non-recessed portion that contacts the step 4 is too low, the contact area when the step 4 and the step 7 come into contact is small, resulting in positional deviation between adjacent windings. The effect of suppression becomes smaller. From this, the depth of the recess 5 provided in the semi-cured adhesive layer 3 and the height of the step 7 are preferably 5 μm or more, more preferably 10 μm or more.

図7は、図6に示す絶縁電線10を、その下面を内側にして、多層に巻回したときの断面図である。図7はその巻回方向に垂直な方向における断面を示している。このように、半硬化接着層3の凹部5内に、半硬化接着層3の非凹部である右下角部9を嵌入できる。また、半硬化接着層3の凹部6内に、半硬化接着層3の左上角部8を嵌入できる。 FIG. 7 is a cross-sectional view of the insulated wire 10 shown in FIG. 6, which is wound in multiple layers with its lower surface facing inside. FIG. 7 shows a cross section in a direction perpendicular to the winding direction. In this manner, the lower right corner portion 9 of the semi-cured adhesive layer 3, which is a non-recessed portion, can be fitted into the recessed portion 5 of the semi-cured adhesive layer 3. Furthermore, the upper left corner portion 8 of the semi-cured adhesive layer 3 can be fitted into the recess 6 of the semi-cured adhesive layer 3.

なお、図2では、凹部5内に右下角部9がほぼ隙間なく嵌入されたが、図7に示すように右下角部9が凹部5より小さく、右下角部9と段差4との間に隙間を有して嵌入されてもよい。その場合であっても、絶縁電線10を多層に巻回する際に、凹部5の側面4a,4bが、右下角部9の位置が左右方向に大きくずれないように、右下角部9の移動を制限する。このため、絶縁電線10の巻回時における巻線の位置ずれや、巻線のよれを抑制できる。 In FIG. 2, the lower right corner 9 is fitted into the recess 5 with almost no gap, but as shown in FIG. It may be inserted with a gap. Even in that case, when winding the insulated wire 10 in multiple layers, the side surfaces 4a and 4b of the recess 5 are moved so that the lower right corner 9 does not shift significantly in the left-right direction. limit. Therefore, it is possible to suppress positional displacement of the winding wire and twisting of the winding wire when the insulated wire 10 is wound.

また、図2では、凹部6内に左上角部8がほぼ隙間なく嵌入されたが、図7に示すように左上角部8が凹部6より小さく、左上角部8と段差7との間に隙間を有して嵌入されてもよい。その場合であっても、絶縁電線10を多層に巻回する際に、隣接する巻線間で左上角部8が干渉せず、凹部5内に右下角部9を嵌入しやすくなる。 In addition, in FIG. 2, the upper left corner 8 was fitted into the recess 6 with almost no gap, but as shown in FIG. It may be inserted with a gap. Even in that case, when the insulated wire 10 is wound in multiple layers, the upper left corner 8 does not interfere between adjacent windings, and the lower right corner 9 can be easily fitted into the recess 5.

なお、凹部5および右下角部9が形成される半硬化接着層3は半硬化状態であるので、右下角部9を凹部5より大きめに形成し、半硬化接着層3が常温の状態、または半硬化接着層3を加熱し、半硬化接着層3に粘度を持たせた状態で、右下角部9を凹部5内に押圧し、凹部5と右下角部9が密着するように、右下角部9または凹部5を変形させてもよい。 Note that the semi-cured adhesive layer 3 on which the recess 5 and the lower right corner 9 are formed is in a semi-cured state, so the lower right corner 9 is formed to be larger than the recess 5, and the semi-cured adhesive layer 3 is at room temperature or While heating the semi-cured adhesive layer 3 to give it viscosity, press the lower right corner 9 into the recess 5 so that the lower right corner 9 is in close contact with the recess 5. The portion 9 or the recess 5 may be modified.

図8は、実施の形態1の絶縁電線10の他の変形例を示す断面図である。図8は、絶縁電線10の延伸方向に対し垂直な方向における断面を示している。図8において、図1と同一または相当する部分は同一符号を付して説明は省略する。図1~図7では、最外周層の半硬化接着層3に凹部5を設けることにより、段差4を形成した。図8では、最外周層の半硬化接着層3に凸部11を設けることにより、段差12を形成する。 FIG. 8 is a sectional view showing another modification of the insulated wire 10 of the first embodiment. FIG. 8 shows a cross section of the insulated wire 10 in a direction perpendicular to the stretching direction. In FIG. 8, parts that are the same as or correspond to those in FIG. In FIGS. 1 to 7, a step 4 is formed by providing a recess 5 in the outermost semi-cured adhesive layer 3. In FIG. 8, a step 12 is formed by providing a convex portion 11 on the semi-cured adhesive layer 3 as the outermost layer.

図8において、段差12は凸部11の側面12a,12bのそれぞれである。12aは、凸部11の左側の側面、12bは凸部11の右側の側面である。また、半硬化接着層3の下面には凹部6が形成されている。7aは凹部6内の左側の側面、7bは凹部6内の右側の側面である。凸部11は、凹部6内に嵌入可能な大きさに形成されている。 In FIG. 8, the steps 12 are on the side surfaces 12a and 12b of the convex portion 11, respectively. 12a is a left side surface of the convex portion 11, and 12b is a right side surface of the convex portion 11. Furthermore, a recess 6 is formed on the lower surface of the semi-cured adhesive layer 3. 7a is the left side surface within the recess 6, and 7b is the right side surface within the recess 6. The convex portion 11 is formed in a size that can be fitted into the concave portion 6.

図9は、図8に示す絶縁電線10を、その下面を内側にして、多層に巻回したときの断面図である。図9は、絶縁電線10の延伸方向に対し垂直な方向における断面を示している。このように、絶縁電線10を巻回するとき、半硬化接着層3の凹部6内に、半硬化接着層3の凸部11を嵌入させれば、絶縁電線10を巻回してコイルを製造したときに、隣接する巻線間の位置づれや、巻線のよれを抑制できる。 FIG. 9 is a cross-sectional view of the insulated wire 10 shown in FIG. 8, which is wound in multiple layers with its lower surface facing inside. FIG. 9 shows a cross section of the insulated wire 10 in a direction perpendicular to the stretching direction. In this manner, when winding the insulated wire 10, by fitting the protrusion 11 of the semi-cured adhesive layer 3 into the recess 6 of the semi-cured adhesive layer 3, the insulated wire 10 can be wound to produce a coil. In some cases, misalignment between adjacent windings and twisting of the windings can be suppressed.

図8および図9では、側面12aと側面12bの間の間隔を、凸部11の先端に向かって小さくすることにより、凸部11を凹部6内に嵌入しやすいように、テーパを設けている。また、側面7aと側面7bの間の間隔を、凹部6の底面から凹部6の開口に向かって大きくすることにより、凹部6内に凸部11を嵌入しやすいように、テーパを設けている。 In FIGS. 8 and 9, the gap between the side surfaces 12a and 12b is tapered so that the protrusion 11 can be easily inserted into the recess 6 by decreasing the distance toward the tip of the protrusion 11. . Furthermore, by increasing the distance between the side surfaces 7a and 7b from the bottom of the recess 6 toward the opening of the recess 6, a taper is provided so that the protrusion 11 can be easily fitted into the recess 6.

図10は、図8の絶縁電線10の変形例を示す断面図である。図8では、側面12aと側面12bの間の間隔を、凸部11の先端に向かって小さくするようにテーパを設けたが、図10では、当該間隔を凸部11の先端に向かって大きくするようにテーパを設けている。また、図8では、側面7aと側面7bの間の間隔を、凹部6の底面から凹部6の開口に向かって大きくするようにテーパを設けたが、図10では、当該間隔を凹部6の開口に向かって小さくするようにテーパを設けている。これにより、絶縁電線10を巻回して、凹部6内に隣接する巻線の凸部11を嵌入させた際に、凹部6から凸部11が抜け難くなる。 FIG. 10 is a sectional view showing a modification of the insulated wire 10 of FIG. 8. In FIG. 8, the gap between the side surfaces 12a and 12b is tapered so as to decrease toward the tip of the convex portion 11, but in FIG. 10, the gap is increased toward the tip of the convex portion 11. It has a taper like this. Furthermore, in FIG. 8, the gap between the side surfaces 7a and 7b is tapered so as to increase from the bottom surface of the recess 6 toward the opening of the recess 6, but in FIG. A taper is provided so that it becomes smaller towards the end. Thereby, when the insulated wire 10 is wound and the protrusion 11 of the adjacent winding wire is fitted into the recess 6, the protrusion 11 becomes difficult to come out from the recess 6.

図11は、実施の形態1の絶縁電線10の他の変形例を示す断面図である。図11において、図1と同一または相当する部分は同一符号を付して説明は省略する。図11では、絶縁層2よりも右側に半硬化接着層3を設けず、絶縁層2の上下および左側にのみ半硬化接着層3を設けている。また、絶縁層2よりも上側の半硬化接着層3の厚みaと、絶縁層2よりも下側の半硬化接着層3の厚みcと、絶縁層2よりも左側の半硬化接着層3の厚みbとは、同一もしくは略同一である。また、絶縁層2の厚みは導線1の全周に渡って同一もしくは略同一とする。 FIG. 11 is a sectional view showing another modification of the insulated wire 10 of the first embodiment. In FIG. 11, parts that are the same as or correspond to those in FIG. 1 are given the same reference numerals, and explanations thereof will be omitted. In FIG. 11, the semi-cured adhesive layer 3 is not provided on the right side of the insulating layer 2, and the semi-cured adhesive layer 3 is provided only on the upper, lower, and left sides of the insulating layer 2. Also, the thickness a of the semi-cured adhesive layer 3 above the insulating layer 2, the thickness c of the semi-cured adhesive layer 3 below the insulating layer 2, and the thickness c of the semi-cured adhesive layer 3 on the left side of the insulating layer 2. The thickness b is the same or substantially the same. Further, the thickness of the insulating layer 2 is the same or substantially the same over the entire circumference of the conductive wire 1.

図12は、図11に示す絶縁電線10を、その下面を内側にして、多層に巻回したときの断面図である。図12は、絶縁電線10の延伸方向に対し垂直な方向における断面を示している。ここでは、絶縁電線10の上下方向に隣接する巻線だけでなく、同一層の左右方向に隣接する巻線も示している。このように、図12では上下方向に隣接する巻線の絶縁層2間の間隔はa,cとなり、左右方向に隣接する巻線の絶縁層2間の間隔はbとなる。ここで、a=b=cである(もしくはそれらが略同一)。したがって、上下方向に隣接する絶縁層2間の絶縁に寄与する半硬化接着層3の厚みa,cと、左右方向に隣接する絶縁層2間の絶縁に寄与する半硬化接着層3の厚みbを同一にすることができる。 FIG. 12 is a cross-sectional view of the insulated wire 10 shown in FIG. 11, which is wound in multiple layers with its lower surface facing inside. FIG. 12 shows a cross section of the insulated wire 10 in a direction perpendicular to the stretching direction. Here, not only the vertically adjacent windings of the insulated wire 10 but also the horizontally adjacent windings of the same layer are shown. Thus, in FIG. 12, the distances between the insulating layers 2 of the windings adjacent in the vertical direction are a and c, and the distance between the insulating layers 2 of the windings adjacent in the horizontal direction is b. Here, a=b=c (or they are substantially the same). Therefore, the thicknesses a and c of the semi-cured adhesive layer 3 that contribute to the insulation between the vertically adjacent insulating layers 2, and the thickness b of the semi-cured adhesive layer 3 that contributes to the insulation between the horizontally adjacent insulating layers 2. can be made the same.

絶縁層2の厚みが導線1の全周に渡って同一である場合、左右方向に隣接する絶縁層2間に設けることが好ましい半硬化接着層3の厚みと、上下方向に隣接する絶縁層2間に設けることが好ましい半硬化接着層3の厚みは、通常同じであることが多く、どちらか一方の厚みが大きいということは、その分、過剰な厚みを設けていることが多い。これに対し、図11および図12に示すように、絶縁層2よりも右側に半硬化接着層3を設けず、左側にのみ半硬化接着層3を設ければ、左右方向に隣接する絶縁層2間に存在する半硬化接着層3の厚みと、上下方向に隣接する絶縁層2間に存在する半硬化接着層3の厚みを同一にする、または近づけることができ、コイルの小型化に有利である。 When the thickness of the insulating layer 2 is the same over the entire circumference of the conductor 1, the thickness of the semi-cured adhesive layer 3, which is preferably provided between the insulating layers 2 adjacent in the left-right direction, and the insulating layer 2 adjacent in the vertical direction The thickness of the semi-cured adhesive layer 3, which is preferably provided between them, is usually the same in many cases, and if one of them is thicker, it is often the case that an excessive thickness is provided. On the other hand, as shown in FIGS. 11 and 12, if the semi-cured adhesive layer 3 is not provided on the right side of the insulating layer 2 and the semi-cured adhesive layer 3 is provided only on the left side, the insulating layer adjacent to the left and right The thickness of the semi-cured adhesive layer 3 existing between the two insulating layers 2 and the thickness of the semi-cured adhesive layer 3 existing between the vertically adjacent insulating layers 2 can be made the same or close to each other, which is advantageous for miniaturizing the coil. It is.

たとえば、図4に示す絶縁電線10を図12と同様に多層に巻回した場合、その断面図は図13に示すようになる。この場合、上下方向に隣接する絶縁層2間の半硬化接着層3の厚みdに比べ、左右方向に隣接する絶縁層2間の半硬化接着層3の厚みeの方が大きくなり、コイルが左右方向に大きくなる。 For example, when the insulated wire 10 shown in FIG. 4 is wound in multiple layers as in FIG. 12, its cross-sectional view is as shown in FIG. 13. In this case, the thickness e of the semi-cured adhesive layer 3 between the insulating layers 2 adjacent in the horizontal direction is larger than the thickness d of the semi-cured adhesive layer 3 between the insulating layers 2 adjacent in the vertical direction, and the coil It becomes larger in the left and right direction.

なお、図11では、絶縁層2よりも右側に半硬化接着層3を設けず、左側にのみ半硬化接着層3を設けたが、図14に示すように、絶縁層2の左方向に位置する半硬化接着層3の厚さをi、絶縁層2の右方向に位置する半硬化接着層3の厚さをh、絶縁層2の上方向に位置する半硬化接着層3の厚さをf、絶縁層2の下方向に位置する半硬化接着層3の厚さをgとして、f=g=h+iとなるようにhとiを互いに同一または異ならせてもよい。 In addition, in FIG. 11, the semi-cured adhesive layer 3 is not provided on the right side of the insulating layer 2, and the semi-cured adhesive layer 3 is provided only on the left side, but as shown in FIG. The thickness of the semi-cured adhesive layer 3 located on the right side of the insulating layer 2 is h, and the thickness of the semi-cured adhesive layer 3 located on the upper side of the insulating layer 2 is h and i may be the same or different from each other so that f=g=h+i, where f is the thickness of the semi-cured adhesive layer 3 located below the insulating layer 2.

図15は、図8の絶縁電線10の変形例を示す断面図である。図15において、図8と同一または相当する部分は同一符号を付して説明は省略する。図8では、絶縁層2の上方の半硬化接着層3に凸部11を設けることにより、段差12を形成した。図15では、絶縁層2の左方の半硬化接着層3に凸部11を設けることにより、段差12を形成している。また、図8では、絶縁層2の下方の半硬化接着層3に凹部6を設けることにより、側面7a、7bを形成した。図15では、絶縁層2の右方の半硬化接着層3に凹部6を形成することにより、側面7a、7bを形成する。凸部11は、凹部6内に嵌入可能な大きさに形成されている。 FIG. 15 is a sectional view showing a modification of the insulated wire 10 of FIG. 8. In FIG. 15, parts that are the same as or correspond to those in FIG. 8 are given the same reference numerals, and explanations thereof will be omitted. In FIG. 8, a step 12 is formed by providing a convex portion 11 on the semi-cured adhesive layer 3 above the insulating layer 2. In FIG. 15, a step 12 is formed by providing a convex portion 11 on the semi-cured adhesive layer 3 on the left side of the insulating layer 2. Further, in FIG. 8, side surfaces 7a and 7b are formed by providing a recess 6 in the semi-cured adhesive layer 3 below the insulating layer 2. In FIG. 15, side surfaces 7a and 7b are formed by forming a recess 6 in the semi-cured adhesive layer 3 on the right side of the insulating layer 2. The convex portion 11 is formed in a size that can be fitted into the concave portion 6.

図16は、図15に示す絶縁電線10を、その下面を内側にして、多層に巻回するときの断面図である。このように、絶縁電線10を巻回するとき、半硬化接着層3の凹部6内に、半硬化接着層3の凸部11を嵌入させれば、絶縁電線10を巻回してコイルを製造したときに、隣接する巻線間の位置づれや、巻線のよれを抑制できる。このような巻線を多層に巻回してコイルを製造する。 FIG. 16 is a cross-sectional view when the insulated wire 10 shown in FIG. 15 is wound in multiple layers with its lower surface facing inside. In this manner, when winding the insulated wire 10, by fitting the protrusion 11 of the semi-cured adhesive layer 3 into the recess 6 of the semi-cured adhesive layer 3, the insulated wire 10 can be wound to produce a coil. In some cases, misalignment between adjacent windings and twisting of the windings can be suppressed. A coil is manufactured by winding such a winding wire in multiple layers.

なお、図17のように、絶縁層2の上方の半硬化接着層3に図8と同様の凸部11を設け、絶縁層2の下方の半硬化接着層3に図8と同様の凹部6を設けるとともに、絶縁層2の左方の半硬化接着層3に図15と同様の凸部11を設け、絶縁層2の右方の半硬化接着層3に図15と同様の凹部6を設けるようにしてもよい。 As shown in FIG. 17, a convex portion 11 similar to that shown in FIG. 8 is provided on the semi-cured adhesive layer 3 above the insulating layer 2, and a recess 6 similar to that shown in FIG. At the same time, a protrusion 11 similar to that shown in FIG. 15 is provided on the semi-cured adhesive layer 3 on the left side of the insulating layer 2, and a recess 6 similar to that shown in FIG. 15 is provided on the semi-cured adhesive layer 3 on the right side of the insulating layer 2. You can do it like this.

以上のように、本実施の形態1の絶縁電線10は、最外周層である半硬化接着層3が段差4,12を有するので、この絶縁電線10を多層に巻回してコイルを製造する場合に、段差4,12が絶縁電線10の他の部分と接触し、その接触した部分の移動を制限する。このため、この絶縁電線10を巻回してコイルを製造したときに、隣接する巻線間の位置づれや、巻線のよれを抑制できる。 As described above, in the insulated wire 10 of Embodiment 1, the semi-hardened adhesive layer 3, which is the outermost layer, has the steps 4 and 12, so when manufacturing a coil by winding the insulated wire 10 in multiple layers, In addition, the steps 4 and 12 come into contact with other parts of the insulated wire 10, and restrict the movement of the contacted parts. Therefore, when a coil is manufactured by winding the insulated wire 10, misalignment between adjacent windings and twisting of the windings can be suppressed.

また、本実施の形態1の絶縁電線10は、最外周層の半硬化接着層3が半硬化型接着剤で形成され、段差4,12もこの半硬化型接着剤で形成されるので、半硬化型接着剤を押出成形等することにより、半硬化接着層3をその段差4,12も含めて一括して成形できる。このため、半硬化接着層3の塗布後にその段差4,12を別行程で成形しなければならない場合に比べて、この絶縁電線10は、少ない工程数で製造できる。 Further, in the insulated wire 10 of the first embodiment, the outermost semi-cured adhesive layer 3 is formed of a semi-cured adhesive, and the steps 4 and 12 are also formed of this semi-cured adhesive. By extruding the curable adhesive or the like, the semi-cured adhesive layer 3 including the steps 4 and 12 can be formed all at once. Therefore, compared to the case where the steps 4 and 12 have to be formed in a separate process after applying the semi-cured adhesive layer 3, the insulated wire 10 can be manufactured with fewer steps.

また、本実施の形態1の絶縁電線10は、最外周層の半硬化接着層3が段差4,12も含めて半硬化状態であるので、段差4,12は常温または加熱下で粘度を有し、絶縁電線10の巻回時に段差4,12が絶縁電線10の他の部分に圧接された場合に、当該段差4,12がその部分の形状に合わせて変形し、その部分と嵌合/接着しやすい。このため、本実施の形態1の絶縁電線10は、巻回時における巻線の位置ずれや、巻線のよれを抑制できる。なお、半硬化接着層3の段差4,12は、常温下において当該圧接がされた場合に、その部分の形状に合わせて変形しない硬さであってもよい。 Furthermore, in the insulated wire 10 of the first embodiment, since the semi-cured adhesive layer 3 as the outermost layer is in a semi-cured state including the steps 4 and 12, the steps 4 and 12 have viscosity at room temperature or under heating. However, when the steps 4, 12 are pressed into contact with other parts of the insulated wire 10 during winding of the insulated wire 10, the steps 4, 12 deform to match the shape of that part and fit/fit with that part. Easy to adhere. Therefore, the insulated wire 10 of Embodiment 1 can suppress displacement of the winding wire and twisting of the winding wire during winding. Note that the steps 4 and 12 of the semi-cured adhesive layer 3 may have a hardness that does not deform according to the shape of the part when the pressure bonding is performed at room temperature.

また、本実施の形態1の絶縁電線10は、最外周層の半硬化接着層3が半硬化型接着剤で形成されているため、加熱等による本硬化で巻線間を固着することができる。 Further, in the insulated wire 10 of the first embodiment, since the semi-cured adhesive layer 3 of the outermost layer is formed of a semi-cured adhesive, the windings can be fixed by main curing by heating etc. .

また、本実施の形態1の絶縁電線10は、導線1と最外周層の半硬化接着層3の間に絶縁層2を有するので、絶縁層2の材料として半硬化接着層3よりも高い体積低効率のものを用いれば、半硬化接着層3だけで絶縁性を確保する場合に比べて、絶縁電線10の断面積を小さくできる。また、絶縁層2の材料は、半硬化接着層3の半硬化型接着剤よりも、導線1との密着性が高いものを用いてもよい。 Furthermore, since the insulated wire 10 of the first embodiment has the insulating layer 2 between the conductive wire 1 and the semi-cured adhesive layer 3 as the outermost layer, the material for the insulating layer 2 has a higher volume than the semi-cured adhesive layer 3. If a low-efficiency one is used, the cross-sectional area of the insulated wire 10 can be made smaller than when insulation is ensured only by the semi-cured adhesive layer 3. Furthermore, the material for the insulating layer 2 may be one that has higher adhesion to the conducting wire 1 than the semi-cured adhesive for the semi-cured adhesive layer 3.

また、本実施の形態1の絶縁電線10は、半硬化接着層3に凹部5を設けることで段差4を形成している。このため、この絶縁電線を巻回してコイルを製造する場合に、絶縁電線10の他の部分が、この凹部5内に位置決めされ、その移動が制限される。このため、この絶縁電線10を巻回してコイルを製造したときに、隣接する巻線間の位置づれや、巻線のよれを抑制できる。 Further, in the insulated wire 10 of the first embodiment, the step 4 is formed by providing the recess 5 in the semi-cured adhesive layer 3. Therefore, when manufacturing a coil by winding this insulated wire, the other portion of the insulated wire 10 is positioned within this recess 5, and its movement is restricted. Therefore, when a coil is manufactured by winding the insulated wire 10, misalignment between adjacent windings and twisting of the windings can be suppressed.

また、本実施の形態1の絶縁電線10は、段差4を形成する凹部5が、半硬化接着層3の厚さを部分的に薄くすることにより形成されている。このため、半硬化接着層3の内側の絶縁層2が露出せず、絶縁層2を保護できる。 Further, in the insulated wire 10 of the first embodiment, the recess 5 forming the step 4 is formed by partially reducing the thickness of the semi-cured adhesive layer 3. Therefore, the insulating layer 2 inside the semi-cured adhesive layer 3 is not exposed, and the insulating layer 2 can be protected.

また、本実施の形態1の絶縁電線10は、段差4を形成する凹部5が、半硬化接着層3を部分的に設けず、絶縁層2を露出させることにより形成されている。このため、半硬化接着層3を薄くして凹部5を形成する場合に比べて、半硬化接着層3を厚くすることなく、凹部5を深く形成できる。 Further, in the insulated wire 10 of the first embodiment, the recess 5 forming the step 4 is formed by partially not providing the semi-cured adhesive layer 3 and exposing the insulating layer 2. Therefore, compared to the case where the recesses 5 are formed by making the semi-cured adhesive layer 3 thinner, the recesses 5 can be formed deeper without increasing the thickness of the semi-cured adhesive layer 3.

また、本実施の形態1の絶縁電線10は、半硬化接着層3の凹部5が、導線1の延伸方向に延伸するので、凹部5内に巻線の非凹部を嵌入させながら、絶縁電線10を巻回できる。 Further, in the insulated wire 10 of the first embodiment, since the recess 5 of the semi-cured adhesive layer 3 extends in the extending direction of the conductor 1, the insulated wire 10 is can be wound.

また、本実施の形態1の絶縁電線10は、絶縁電線10の延伸方向に対して垂直な断面の形状が、当該延伸方向の全体にわたって同一であるので、絶縁電線10からその一部を切り出しながら、同一の複数のコイルを製造する場合に、その切り出し位置にかかわらず、同一の絶縁電線10を切り出すことができる。 Furthermore, since the insulated wire 10 of the first embodiment has the same cross-sectional shape perpendicular to the stretching direction of the insulated wire 10 throughout the stretching direction, it is possible to When manufacturing a plurality of identical coils, the same insulated wire 10 can be cut out regardless of the cutting position.

また、本実施の形態1の絶縁電線10は、最外周層の半硬化接着層3の外周面の断面形状が矩形であるとともに、半硬化接着層3の対向する外周面のそれぞれに凹部を有し、この絶縁電線10を巻回すると、一方の外周面側の角部を、他方の外周面の凹部5内に嵌入できるので、巻回時における巻線の位置ずれや、巻線のよれを抑制できる。 Further, in the insulated wire 10 of the first embodiment, the cross-sectional shape of the outer circumferential surface of the outermost semi-cured adhesive layer 3 is rectangular, and each of the opposing outer circumferential surfaces of the semi-cured adhesive layer 3 has a recess. However, when this insulated wire 10 is wound, the corner on one outer circumferential surface side can be fitted into the recess 5 on the other outer circumferential surface, so that positional deviation and twisting of the winding wire during winding can be prevented. It can be suppressed.

また、本実施の形態1の絶縁電線10は、段差4を形成する凹部5の開口部に、凹部5の底面に比べて凹部5の開口を大きくするテーパを設けたので、この絶縁電線10を多層に巻回してコイルを製造する場合に、凹部5内に隣接する巻線の部分を嵌入しやすい。 Further, in the insulated wire 10 of the first embodiment, the opening of the recess 5 forming the step 4 is tapered to make the opening of the recess 5 larger than the bottom surface of the recess 5. When manufacturing a coil by winding it in multiple layers, it is easy to fit the adjacent portion of the winding wire into the recess 5.

また、本実施の形態1の絶縁電線10は、段差4を形成する凹部5の開口部に、凹部5の底面に比べて凹部5の開口を小さくするテーパを設けたので、この絶縁電線10を多層に巻回してコイルを製造する場合に、凹部5内に嵌入された隣接する巻線部分が抜けにくい。 Further, in the insulated wire 10 of the first embodiment, the opening of the recess 5 forming the step 4 is tapered to make the opening of the recess 5 smaller than the bottom surface of the recess 5. When manufacturing a coil by winding in multiple layers, adjacent winding portions fitted into the recesses 5 are difficult to come off.

また、本実施の形態1の絶縁電線10は、最外周層である半硬化接着層3の外周面に凹部6と凸部11を備え、その絶縁電線10を巻回したときに、凹部6に凸部11を嵌入できるので、この絶縁電線10を多層に巻回してコイルを製造する場合に、巻回時における巻線の位置ずれや、巻線のよれを抑制できる。 In addition, the insulated wire 10 of the first embodiment has a recess 6 and a protrusion 11 on the outer peripheral surface of the semi-cured adhesive layer 3, which is the outermost layer, and when the insulated wire 10 is wound, the recess 6 Since the convex portion 11 can be fitted, when a coil is manufactured by winding the insulated wire 10 in multiple layers, it is possible to suppress positional displacement of the winding wire and twisting of the winding wire during winding.

また、本実施の形態1の絶縁電線10は、最外周層である半硬化接着層3の外周面に段差12を有する凸部11を、半硬化接着層3を部分的に厚くすることにより形成しているので、半硬化接着層3を形成する半硬化型接着剤を押出成形などすることにより、半硬化接着層3を凸部11も含めて一括して形成できる。このため、半硬化接着層3の塗布後にその凸部11を別行程で成形しなければならない場合に比べて、この絶縁電線10は、少ない工程数で製造できる。 Further, in the insulated wire 10 of the first embodiment, the convex portion 11 having a step 12 on the outer peripheral surface of the semi-cured adhesive layer 3, which is the outermost layer, is formed by partially thickening the semi-cured adhesive layer 3. Therefore, by extruding the semi-cured adhesive forming the semi-cured adhesive layer 3, the semi-cured adhesive layer 3 including the convex portions 11 can be formed all at once. Therefore, the insulated wire 10 can be manufactured with a reduced number of steps compared to the case where the convex portion 11 must be formed in a separate process after applying the semi-cured adhesive layer 3.

なお、ここでは、本実施の形態1の絶縁電線10の絶縁層2として、単層のものを示したが、この絶縁層2として材質が異なる複数の絶縁層を積層したものを形成してもよい。また、半硬化接着層3と絶縁層2の間に加熱により膨張する不図示の膨張層を設けてもよい。また、本実施の形態1の絶縁電線10を、半硬化接着層3が半硬化状態で多層に巻回した後、本硬化してコイルを製造してもよいが、本実施の形態1の絶縁電線10を本硬化した後に、多層に巻回して、コイルを製造するようにしてもよい。 Although a single layer is shown here as the insulating layer 2 of the insulated wire 10 of Embodiment 1, the insulating layer 2 may be formed by laminating a plurality of insulating layers made of different materials. good. Further, an expansion layer (not shown) that expands upon heating may be provided between the semi-cured adhesive layer 3 and the insulating layer 2. Further, the insulated wire 10 of the first embodiment may be wound in multiple layers with the semi-cured adhesive layer 3 in a semi-cured state, and then fully cured to manufacture a coil. After the electric wire 10 is fully cured, it may be wound in multiple layers to manufacture a coil.

実施の形態2.
図18は、本開示の実施の形態2にかかる絶縁電線10の断面図である。図18は、絶縁電線10の延伸方向に対し垂直な方向における断面を示している。絶縁電線10は、その延伸方向の全体にわたって同一の断面、即ち、図18に示す断面を有している。図18において、図1と同一または相当する部分は同一符号を付して説明は省略する。
Embodiment 2.
FIG. 18 is a cross-sectional view of an insulated wire 10 according to Embodiment 2 of the present disclosure. FIG. 18 shows a cross section of the insulated wire 10 in a direction perpendicular to the stretching direction. The insulated wire 10 has the same cross section throughout its extending direction, that is, the cross section shown in FIG. 18. In FIG. 18, parts that are the same as or correspond to those in FIG. 1 are given the same reference numerals, and explanations thereof will be omitted.

実施の形態1では、絶縁電線10は、導線1と半硬化接着層3の間に絶縁層2を有したが、本実施の形態2では、導線1と半硬化接着層13の間に絶縁層2を設けず、導線1上に直接、半硬化接着層13を形成する。この半硬化接着層13は、この半硬化接着層13のみで、導線1に対する絶縁性能を満たす厚さに形成される。半硬化接着層13は、絶縁電線10の最外周層である。 In the first embodiment, the insulated wire 10 had the insulating layer 2 between the conductive wire 1 and the semi-cured adhesive layer 3; however, in the second embodiment, the insulated wire 10 had the insulating layer 2 between the conductive wire 1 and the semi-cured adhesive layer 13. A semi-cured adhesive layer 13 is formed directly on the conductive wire 1 without providing the conductive wire 2. This semi-cured adhesive layer 13 is formed to have a thickness that satisfies the insulation performance for the conductive wire 1 with only this semi-cured adhesive layer 13 . The semi-cured adhesive layer 13 is the outermost layer of the insulated wire 10.

図18の導線1、半硬化接着層13の材質は、実施の形態1の導線1、半硬化接着層3と同様であるので、説明を省略する。実施の形態1と同様に、半硬化接着層13は、半硬化状態の半硬化型接着剤からなる層である。 The materials of the conductive wire 1 and the semi-cured adhesive layer 13 in FIG. 18 are the same as those of the conductive wire 1 and the semi-cured adhesive layer 3 of Embodiment 1, so the description thereof will be omitted. Similar to Embodiment 1, the semi-cured adhesive layer 13 is a layer made of a semi-cured adhesive in a semi-cured state.

本実施の形態2においても、最外周層である半硬化接着層13は以下の特徴を有する。半硬化接着層13は絶縁性を有し、導線1の絶縁に寄与する。また、半硬化接着層13は半硬化状態であり、絶縁電線10を多層に巻回して本硬化することにより、巻線間が固着されたコイルを製造できる。 Also in the second embodiment, the semi-cured adhesive layer 13, which is the outermost layer, has the following characteristics. The semi-cured adhesive layer 13 has insulating properties and contributes to the insulation of the conductive wire 1. Further, the semi-cured adhesive layer 13 is in a semi-cured state, and by winding the insulated wire 10 in multiple layers and fully curing it, a coil in which the windings are fixed can be manufactured.

また、半硬化接着層13の外周面には、段差4が形成されている。このため、この絶縁電線10を多層に巻回するときに、段差4が絶縁電線10の他の部分と接触し、その部分の移動を制限する。よって、この絶縁電線10を用いてコイルを製造すれば、巻回時における巻線の位置ずれや、巻線のよれを抑制できる。 Furthermore, a step 4 is formed on the outer peripheral surface of the semi-cured adhesive layer 13. Therefore, when the insulated wire 10 is wound in multiple layers, the step 4 comes into contact with other parts of the insulated wire 10 and restricts the movement of that part. Therefore, if a coil is manufactured using this insulated wire 10, displacement of the winding wire and twisting of the winding wire during winding can be suppressed.

また、段差4は、半硬化接着層13を形成する半硬化型接着剤を成形することにより形成されている。このため、絶縁電線10の製造工程において、後述する押出成形等を用いれば、半硬化接着層13をその段差4も含めて一括して成形できる。 Further, the step 4 is formed by molding a semi-cured adhesive forming the semi-cured adhesive layer 13. Therefore, in the manufacturing process of the insulated wire 10, if extrusion molding or the like, which will be described later, is used, the semi-cured adhesive layer 13, including the step 4, can be molded all at once.

半硬化接着層13は、要求される絶縁性能を満たす厚さに形成されるが、半硬化接着層13の、導線1の外周面全体を覆う部分の厚さ(即ち、凹部の厚さを含めない厚さ)は、10μm~500μmが好ましい。 The semi-cured adhesive layer 13 is formed to a thickness that satisfies the required insulation performance, but the thickness of the portion of the semi-cured adhesive layer 13 that covers the entire outer peripheral surface of the conductive wire 1 (i.e., including the thickness of the recess) The thickness (without thickness) is preferably 10 μm to 500 μm.

導線1と半硬化接着層13の密着性や接着強度を向上するために、導線1の表面上に半硬化接着層13を塗布する前に、導線1の表面に物理的処理や化学的処理を行ってもよい。このような物理的処理としては、大気プラズマ処理、深紫外光処理、コロナ放電処理、疎化処理(レーザー疎化、研磨、サンドブラスト処理)などを用いることができる。 In order to improve the adhesion and adhesive strength between the conductive wire 1 and the semi-cured adhesive layer 13, the surface of the conductive wire 1 is subjected to physical treatment or chemical treatment before applying the semi-cured adhesive layer 13 on the surface of the conductive wire 1. You may go. As such a physical treatment, atmospheric plasma treatment, deep ultraviolet light treatment, corona discharge treatment, and thinning treatment (laser thinning, polishing, sandblasting), etc. can be used.

また、化学的処理として、導線1の表面上にシランカップリング剤をプライマーとして塗布し、そのプライマーを被接着面として半硬化接着層13を塗布してもよい。半硬化接着層13を形成する半硬化型接着剤として、エポキシ系接着剤を用いる場合は、当該プライマーとして、2-(3,4-エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、3-グリシドキシプロピルメチルジトキシシラン、3-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3-グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、N-2-(アミノエチル)-3-アミノプロピルメチルジメトキシシラン、3アミノプロピルトリメトキシシラン、3-トリエトキシシリル-N-(1,3-ジメチル-ブチリデン)プロピルアミン、N-フェニル-3-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-(ベニルベンジル)-2-アミノエチル-3-アミノプロピルトリメトキシシラン塩酸塩などを用いることができる。導線1の表面に、上述の物理的処理と化学的処理の双方を施してもよい。 Alternatively, as a chemical treatment, a silane coupling agent may be applied as a primer on the surface of the conductive wire 1, and the semi-cured adhesive layer 13 may be applied using the primer as the surface to be adhered. When using an epoxy adhesive as the semi-cured adhesive forming the semi-cured adhesive layer 13, the primer may be 2-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyl. Dithoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, N-2-(aminoethyl)-3-aminopropylmethyldimethoxysilane, 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3 -Triethoxysilyl-N-(1,3-dimethyl-butylidene)propylamine, N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane, N-(benylbenzyl)-2-aminoethyl-3-aminopropyltrimethoxysilane hydrochloride Salt etc. can be used. The surface of the conducting wire 1 may be subjected to both the above-mentioned physical treatment and chemical treatment.

図18では、最外周層である半硬化接着層13の上面に凹部5を設けることにより、段差4を形成している。図18において、段差4は凹部5の側面4a,4bのそれぞれである。4aは、凹部5内の左側の側面、4bは凹部5内の右側の側面である。また、半硬化接着層13の下面には凹部6が形成されている。7aは凹部6内の左側の側面、7bは凹部6内の右側の側面である。 In FIG. 18, a step 4 is formed by providing a recess 5 on the upper surface of the semi-cured adhesive layer 13, which is the outermost layer. In FIG. 18, the steps 4 are the side surfaces 4a and 4b of the recess 5, respectively. 4a is the left side surface within the recess 5, and 4b is the right side surface within the recess 5. Furthermore, a recess 6 is formed on the lower surface of the semi-cured adhesive layer 13. 7a is the left side surface within the recess 6, and 7b is the right side surface within the recess 6.

図18の8は半硬化接着層13の左上角部であり、9は半硬化接着層13の右下角部である。凹部5は、右下角部9をその凹部5内に嵌入可能な大きさに形成されている。凹部6は、左上角部8をその凹部6内に嵌入可能な大きさに形成されている。図2と同様に凹部5内に、隣接する巻線の非凹部である右下角部9を嵌入できる。 18 is the upper left corner of the semi-cured adhesive layer 13, and 9 is the lower right corner of the semi-cured adhesive layer 13. The recess 5 is formed in a size that allows the lower right corner 9 to be inserted into the recess 5. The recess 6 is formed in a size such that the upper left corner 8 can be inserted into the recess 6. As in FIG. 2, the lower right corner portion 9 of the adjacent winding, which is a non-recessed portion, can be fitted into the recessed portion 5.

図18でも図1と同様に、側面4aと側面4bの間の間隔を、凹部5の底面から凹部5の開口に向かって大きくすることにより、凹部5内に右下角部9を嵌入しやすいように、テーパを設けている。また、側面7aと側面7bの間の間隔を、凹部6の底面から凹部6の開口に向かって大きくすることにより、凹部6内に左上角部8を嵌入しやすいように、テーパを設けている。 In FIG. 18, similarly to FIG. 1, by increasing the distance between the side surfaces 4a and 4b from the bottom of the recess 5 toward the opening of the recess 5, the lower right corner 9 can be easily fitted into the recess 5. A taper is provided. Further, by increasing the distance between the side surfaces 7a and 7b from the bottom of the recess 6 toward the opening of the recess 6, a taper is provided so that the upper left corner 8 can be easily fitted into the recess 6. .

図19は、図18の絶縁電線10の変形例を示す断面図である。図18では、最外周層の半硬化接着層13に凸部11を設けることにより、段差12を形成する。図18において、段差12は凸部11の側面12a,12bのそれぞれである。12aは、凸部11の左側の側面、12bは凸部11の右側の側面である。また、半硬化接着層13の下面には凹部6が形成されている。12aは凹部6内の左側の側面、12bは凹部6内の右側の側面である。凸部11は、凹部6内に嵌入可能な大きさに形成されている。 FIG. 19 is a sectional view showing a modification of the insulated wire 10 of FIG. 18. In FIG. 18, a step 12 is formed by providing a protrusion 11 on the semi-cured adhesive layer 13 as the outermost layer. In FIG. 18, the steps 12 are on the side surfaces 12a and 12b of the convex portion 11, respectively. 12a is a left side surface of the convex portion 11, and 12b is a right side surface of the convex portion 11. Furthermore, a recess 6 is formed on the lower surface of the semi-cured adhesive layer 13. 12a is a left side surface inside the recess 6, and 12b is a right side surface inside the recess 6. The convex portion 11 is formed in a size that can be fitted into the concave portion 6.

この図19の絶縁電線10を多層に巻回すると、図9と同様に凹部6内に、隣接する巻線の半硬化接着層13の凸部11を嵌入できる。このように、絶縁電線10を巻回するとき、半硬化接着層13の凹部6内に、半硬化接着層13の凸部11を嵌入させれば、絶縁電線10を巻回してコイルを製造するときに、隣接する巻線間の位置づれや、巻線のよれを抑制できる。 When the insulated wire 10 of FIG. 19 is wound in multiple layers, the protrusion 11 of the semi-cured adhesive layer 13 of the adjacent winding can be fitted into the recess 6 as in FIG. In this way, when winding the insulated wire 10, by fitting the convex portion 11 of the semi-cured adhesive layer 13 into the recess 6 of the semi-cured adhesive layer 13, the insulated wire 10 is wound to produce a coil. In some cases, misalignment between adjacent windings and twisting of the windings can be suppressed.

図20は、図19の絶縁電線10の変形例を示す断面図である。図20において、図19と同一または相当する部分は同一符号を付して説明は省略する。図20では、導線1の左方の半硬化接着層13に凸部11を設けることにより、段差12を形成している。また、導線1の右方の半硬化接着層13に凹部6を形成することにより、側面7a、7bを形成する。凸部11は、凹部6内に嵌入可能な大きさに形成されている。図16と同様に、絶縁電線10を巻回するとき、半硬化接着層13の凹部6内に、半硬化接着層13の凸部11を嵌入させれば、絶縁電線10を巻回してコイルを製造したときに、隣接する巻線間の位置づれや、巻線のよれを抑制できる。 FIG. 20 is a sectional view showing a modification of the insulated wire 10 of FIG. 19. In FIG. 20, parts that are the same as or correspond to those in FIG. 19 are designated by the same reference numerals, and description thereof will be omitted. In FIG. 20, a step 12 is formed by providing a convex portion 11 on the semi-cured adhesive layer 13 on the left side of the conductive wire 1. Further, by forming a recess 6 in the semi-cured adhesive layer 13 on the right side of the conductive wire 1, side surfaces 7a and 7b are formed. The convex portion 11 is formed in a size that can be fitted into the concave portion 6. Similarly to FIG. 16, when winding the insulated wire 10, if the convex portion 11 of the semi-cured adhesive layer 13 is fitted into the recess 6 of the semi-cured adhesive layer 13, the insulated wire 10 is wound and a coil is formed. When manufactured, it is possible to suppress misalignment between adjacent windings and twisting of the windings.

以上のように、本実施の形態2の絶縁電線10は、最外周層である半硬化接着層13が導線1の外周面上に直接積層されるので、導線1と半硬化接着層13の間に別途の絶縁層を設ける場合に比べて、少ない工程数で製造することができる。 As described above, in the insulated wire 10 of the second embodiment, since the semi-cured adhesive layer 13, which is the outermost layer, is directly laminated on the outer circumferential surface of the conductive wire 1, there is a gap between the conductive wire 1 and the semi-cured adhesive layer 13. Compared to the case where a separate insulating layer is provided, manufacturing can be performed with fewer steps.

実施の形態3.
実施の形態3として、実施の形態1の絶縁電線10の製造方法について説明する。図21は、本実施の形態3にかかる絶縁電線10の製造工程の概略を示すフロー図である。図22は、図21の製造工程で用いる製造装置の概略図である。ここでは、たとえば、図1に示す絶縁電線10の製造方法を説明するが、図2~図17に示す絶縁電線10も同様に製造できる。
Embodiment 3.
As a third embodiment, a method for manufacturing the insulated wire 10 of the first embodiment will be described. FIG. 21 is a flow diagram schematically showing the manufacturing process of the insulated wire 10 according to the third embodiment. FIG. 22 is a schematic diagram of a manufacturing apparatus used in the manufacturing process of FIG. 21. Here, for example, a method for manufacturing the insulated wire 10 shown in FIG. 1 will be described, but the insulated wire 10 shown in FIGS. 2 to 17 can also be manufactured in the same manner.

まず、導線1が図22に示す表面処理機101に送られ、この表面処理機101において、図21に示す表面処理SC1が行われる。具体的には、表面処理機101は、導線1をアセトンなどの溶剤で洗浄するか、導線1の外周面上に上述の物理的処理及び/又は化学的処理を行う。たとえば、物理的処理として、導線1の外周面上に、大気プラズマ処理、深紫外光処理、コロナ放電処理、または疎化処理(レーザー疎化、研磨、サンドブラスト処理)を行う。また、化学的処理として、導線1の外周面上にシランカップリング剤を塗布する。 First, the conducting wire 1 is sent to the surface treatment machine 101 shown in FIG. 22, and in this surface treatment machine 101, the surface treatment SC1 shown in FIG. 21 is performed. Specifically, the surface treatment machine 101 cleans the conductive wire 1 with a solvent such as acetone, or performs the above-mentioned physical treatment and/or chemical treatment on the outer peripheral surface of the conductive wire 1. For example, as a physical treatment, an atmospheric plasma treatment, a deep ultraviolet light treatment, a corona discharge treatment, or a thinning treatment (laser roughening, polishing, sandblasting) is performed on the outer peripheral surface of the conducting wire 1. Further, as a chemical treatment, a silane coupling agent is applied onto the outer circumferential surface of the conducting wire 1.

次に、導線1は図22に示す加熱炉102に送られ、この加熱炉102において図21に示す加熱工程HCが行われる。この加熱工程HCでは、表面処理機101から送られてきた導線1を後述する押出成形のために予備加熱する。たとえば、加熱炉102は表面処理機101から送られてきた導線1を300℃程度に予備加熱する。 Next, the conducting wire 1 is sent to a heating furnace 102 shown in FIG. 22, and a heating process HC shown in FIG. 21 is performed in this heating furnace 102. In this heating step HC, the conducting wire 1 sent from the surface treatment machine 101 is preheated for extrusion molding, which will be described later. For example, the heating furnace 102 preheats the conducting wire 1 sent from the surface treatment machine 101 to about 300°C.

次に、導線1は図22に示す押出成形機103に送られ、この押出成形機103において図21に示す第1成形工程P1が行われる。この第1成形工程P1では、加熱炉102から送られてきた導線1の外周面上に絶縁層2を押出成形する。たとえば、押出成形機103は、加熱炉102から送られてきた、予備加熱された導線1の外周面上に、ポリエーテルエーテルケトン(PEEK)、ポリフェニレンサルファイド(PPS)といった熱可塑性絶縁樹脂を押出成形することによって、導線1の外周面上に絶縁層2を形成する。これらPEEKやPPSといった絶縁樹脂は、ペレット状の状態で、押出成形機103に投入され、その絶縁樹脂の融点以上かつ分解温度以下の温度で、導線1の外周面上に押出成形される。 Next, the conducting wire 1 is sent to an extrusion molding machine 103 shown in FIG. 22, and a first molding process P1 shown in FIG. 21 is performed in this extrusion molding machine 103. In this first forming step P1, the insulating layer 2 is extruded onto the outer peripheral surface of the conducting wire 1 sent from the heating furnace 102. For example, the extrusion molding machine 103 extrudes a thermoplastic insulating resin such as polyetheretherketone (PEEK) or polyphenylene sulfide (PPS) onto the outer peripheral surface of the preheated conducting wire 1 sent from the heating furnace 102. By doing so, an insulating layer 2 is formed on the outer peripheral surface of the conducting wire 1. These insulating resins such as PEEK and PPS are put into an extrusion molding machine 103 in the form of pellets, and are extruded onto the outer circumferential surface of the conducting wire 1 at a temperature above the melting point of the insulating resin and below the decomposition temperature.

押出成形機103により絶縁層2が形成された導線1は、表面処理機104に送られ、この表面処理機104において、図21に示す表面処理SC2が行われる。具体的には、表面処理機104は、絶縁層2の外周面上に上述の物理的処理及び/又は化学的処理を行う。たとえば、物理的処理として、絶縁層2の外周面上に、大気プラズマ処理、深紫外光処理、コロナ放電処理、または疎化処理(レーザー疎化、研磨、サンドブラスト処理)を行う。また、化学的処理として、絶縁層2の外周面上にシランカップリング剤を塗布する。 The conductive wire 1 on which the insulating layer 2 has been formed by the extrusion molding machine 103 is sent to the surface treatment machine 104, and the surface treatment SC2 shown in FIG. 21 is performed in this surface treatment machine 104. Specifically, the surface treatment machine 104 performs the above-mentioned physical treatment and/or chemical treatment on the outer peripheral surface of the insulating layer 2. For example, as a physical treatment, an atmospheric plasma treatment, a deep ultraviolet light treatment, a corona discharge treatment, or a densification treatment (laser densification, polishing, sandblasting) is performed on the outer peripheral surface of the insulating layer 2. Further, as a chemical treatment, a silane coupling agent is applied onto the outer peripheral surface of the insulating layer 2.

表面処理機104により表面処理が行われた絶縁層2付きの導線1は、図22に示す押出成形機105に送られ、この押出成形機105において、図21に示す第2成形工程P2が行われる。この第2成形工程P2では、表面処理機104から送られてきた導線1の絶縁層2の外周面上に、半硬化接着層3をその段差4及び段差7とともに押出成形する。 The conductive wire 1 with the insulating layer 2 subjected to the surface treatment by the surface treatment machine 104 is sent to the extrusion molding machine 105 shown in FIG. 22, and in this extrusion molding machine 105, the second molding step P2 shown in FIG. be exposed. In this second molding step P2, the semi-cured adhesive layer 3 is extruded onto the outer circumferential surface of the insulating layer 2 of the conductive wire 1 sent from the surface treatment machine 104, together with its steps 4 and 7.

たとえば、この押出成形機105に、常温で固体かつペレット状のBステージ型接着剤を投入すると、このBステージ型接着剤が融点以上(たとえば60℃以上かつ140℃以下)に加熱され、Bステージの状態で絶縁層2上に塗布かつ押出成形される。ここで用いるBステージ型接着剤は、常温においてペレット状であるものを用いると、保管、取り扱いが容易である。常温とはたとえば5℃~35℃である。Bステージ型接着剤を絶縁層2上に塗布および押出成形する際のBステージ型接着剤の粘度は、たとえば3Pa以上150Pa以下が好ましい。 For example, when a B-stage adhesive that is solid at room temperature and in the form of pellets is put into the extrusion molding machine 105, the B-stage adhesive is heated to a temperature higher than its melting point (for example, 60°C or higher and 140°C or lower), and the B-stage adhesive It is coated on the insulating layer 2 and extruded in this state. The B-stage adhesive used here is easy to store and handle if it is in the form of pellets at room temperature. The normal temperature is, for example, 5°C to 35°C. The viscosity of the B-stage adhesive when applying and extruding the B-stage adhesive onto the insulating layer 2 is preferably, for example, 3 Pa or more and 150 Pa or less.

図23は、押出成形機105の構成を示す概略図である。200は固体でペレット状のBステージ型接着剤、201はBステージ型接着剤200の投入口、202はペレット状のBステージ型接着剤200を粉砕する粉砕部、203は粉砕されたBステージ型接着剤200を溶融し、溶融したBステージ型接着剤200をBステージの状態で導線1の絶縁層2上に塗布する塗布部、204は絶縁層2上に溶融塗布されたBステージ型接着剤をBステージの状態で押出成形し、半硬化接着層3をその段差4及び段差7とともに形成する絞り治具である。ここでは、常温で固体のBステージ型接着剤を用いたが、常温で液状であり、加熱やUV照射によりBステージ化できるBステージ型接着剤を用いてもよい。 FIG. 23 is a schematic diagram showing the configuration of the extrusion molding machine 105. 200 is a solid pellet-like B-stage adhesive, 201 is an inlet for the B-stage adhesive 200, 202 is a crushing section for crushing the pellet-like B-stage adhesive 200, and 203 is a crushed B-stage adhesive. A coating section melts the adhesive 200 and applies the melted B-stage adhesive 200 on the insulating layer 2 of the conductor 1 in a B-stage state; 204 is the B-stage adhesive melted and applied on the insulating layer 2; This is a drawing jig for extrusion-molding the semi-cured adhesive layer 3 together with the steps 4 and 7 in the B-stage state. Although a B-stage adhesive that is solid at room temperature is used here, a B-stage adhesive that is liquid at room temperature and can be turned into a B-stage by heating or UV irradiation may also be used.

なお、半硬化接着層3をBステージ型接着剤で形成せず、光硬化型接着剤で形成する場合には、押出成形機に常温で液状の光硬化型接着剤を投入し、押出成形機105の押出口に硬化波長の光源を設け、その光を当該光硬化型接着剤に照射しながら半硬化状態で押出成形するようにすればよい。 Note that if the semi-cured adhesive layer 3 is not formed with a B-stage adhesive but with a photocurable adhesive, the extrusion molding machine is charged with a liquid photocurable adhesive at room temperature, and then the extrusion molding machine is heated. A light source with a curing wavelength may be provided at the extrusion port 105, and the photocurable adhesive may be extruded in a semi-cured state while being irradiated with the light.

また、半硬化接着層3の厚みをコントロールしやすくするために、厚み調整材料として半硬化型接着剤にガラス、溶融シリカなどの絶縁材料を混合して押出成形してもよい。 Further, in order to easily control the thickness of the semi-cured adhesive layer 3, an insulating material such as glass or fused silica may be mixed with a semi-cured adhesive as a thickness adjusting material and then extruded.

ここでは、押出成形機103による第1成形工程P1より前の工程で、表面処理機101による表面処理SC1を行ったが、この表面処理SC1は省略してもよい。また、押出成形機105による第2成形工程P2より前の工程で、表面処理機104による表面処理SC2を行ったが、この表面処理SC2は省略してもよい。 Here, the surface treatment SC1 was performed by the surface treatment machine 101 in a step before the first molding step P1 by the extrusion molding machine 103, but this surface treatment SC1 may be omitted. Furthermore, although the surface treatment SC2 was performed by the surface treatment machine 104 in a step before the second molding step P2 by the extrusion molding machine 105, this surface treatment SC2 may be omitted.

また、ここでは、実施の形態1の絶縁電線10の製造方法について説明したが、実施の形態2の絶縁電線10、すなわち、導線1の外周面上に半硬化接着層3を直接形成した絶縁電線10も、第1成形工程P1、および表面処理SC1をなくして、同様に製造することができる。 Although the method for manufacturing the insulated wire 10 of the first embodiment has been described here, the insulated wire 10 of the second embodiment, that is, the insulated wire in which the semi-cured adhesive layer 3 is directly formed on the outer peripheral surface of the conductive wire 1. No. 10 can also be manufactured in the same manner by omitting the first molding step P1 and the surface treatment SC1.

また、実施の形態1および実施の形態2のそれぞれに示した絶縁電線10は、本実施の形態3の製造方法以外で製造してもよい。 Further, the insulated wire 10 shown in each of the first embodiment and the second embodiment may be manufactured by a manufacturing method other than the manufacturing method of the third embodiment.

実施の形態4.
実施の形態4として、実施の形態1や実施の形態2に例示した本開示の絶縁電線10を用いた電機機器について説明する。図24は、図5の絶縁電線10を巻回してなるコイルの概略図である。図24において、30はティースなどのコイルのインシュレータであり、31はコイルの鉄心である。このように絶縁電線10は、最外周層である半硬化接着層3が段差4を有するので、この絶縁電線10を多層に巻回してコイルを製造する場合に、段差4が絶縁電線10の他の部分と接触し、その接触した部分の移動を制限する。このため、この絶縁電線10を巻回してコイルを製造したときに、巻線の位置づれや、巻線のよれを抑制できる。このため、コイルの信頼性が向上するともに、コイルの巻回密度が向上し、コイルを小型化することができる。
Embodiment 4.
As Embodiment 4, an electric device using the insulated wire 10 of the present disclosure illustrated in Embodiment 1 and Embodiment 2 will be described. FIG. 24 is a schematic diagram of a coil formed by winding the insulated wire 10 of FIG. In FIG. 24, 30 is a coil insulator such as teeth, and 31 is an iron core of the coil. In this way, in the insulated wire 10, the semi-hardened adhesive layer 3, which is the outermost layer, has the step 4. Therefore, when manufacturing a coil by winding the insulated wire 10 in multiple layers, the step 4 is different from the insulated wire 10. and restricts the movement of the contacted part. Therefore, when a coil is manufactured by winding the insulated wire 10, misalignment of the winding wire and twisting of the winding wire can be suppressed. Therefore, the reliability of the coil is improved, the winding density of the coil is improved, and the size of the coil can be reduced.

また、絶縁電線10は、最外周層の半硬化接着層3が半硬化型接着剤で形成されているため、このようにインシュレータ30に絶縁電線10を多層に巻回した後、コイルを加熱等で本硬化することで巻線間を固着することができる。このため、コイルの耐久性、信頼性がさらに向上する。 In addition, since the semi-cured adhesive layer 3 of the outermost layer of the insulated wire 10 is formed of a semi-cured adhesive, after the insulated wire 10 is wound in multiple layers around the insulator 30, the coil is heated, etc. By fully curing it, the windings can be fixed together. Therefore, the durability and reliability of the coil are further improved.

なお、インシュレータ30の絶縁電線10が巻回される面は、平面であってもよいが、図24に示すように、絶縁電線10の右下角部9が嵌入される溝部30aを有してもよい。 Note that the surface of the insulator 30 around which the insulated wire 10 is wound may be a flat surface, but as shown in FIG. good.

また、図24では、コイルに絶縁電線10を複数層巻回する際に、各層の巻回し数を同一としているが、図25に示すように、外側に巻回する層ほど巻線数を少なくするようにしてもよい。このような巻き方は、各ティースに巻回できる巻線密度を向上するために有効である。通常、このような巻き方では、巻線がほどけやすい場合が多いが、本実施の形態1、2の絶縁電線を巻回してコイルを形成するようにすれば、その段差により巻線がほどけにくくすることができる。 In addition, in FIG. 24, when multiple layers of insulated wire 10 are wound around a coil, the number of turns in each layer is the same, but as shown in FIG. 25, the outer layer is wound with a smaller number of turns. You may also do so. Such a winding method is effective for improving the winding density that can be wound around each tooth. Normally, with this winding method, the winding tends to unravel in many cases, but if the insulated wire of Embodiments 1 and 2 is wound to form a coil, the winding will be difficult to unravel due to the step difference. can do.

図25のコイルにおいても、絶縁電線10は、最外周層の半硬化接着層3が半硬化型接着剤で形成されているため、インシュレータ30に絶縁電線10を多層に巻回した後、コイルを加熱等で本硬化することで巻線間を固着することができる。図24及び図25における丸付き数字は、絶縁電線10を巻回する順番を例示するものである。 In the coil of FIG. 25 as well, since the semi-cured adhesive layer 3 of the outermost peripheral layer of the insulated wire 10 is formed of a semi-cured adhesive, the coil is wound after winding the insulated wire 10 around the insulator 30 in multiple layers. By fully curing by heating etc., the windings can be fixed together. The circled numbers in FIGS. 24 and 25 illustrate the order in which the insulated wire 10 is wound.

図24や図25のように製造されたコイルを組み込んで、モータ、発電機、変圧器、ソレノイド、リアクトルなどの電機機器を製造すれば、小型で信頼性の高い電気機器を得ることができる。 By incorporating coils manufactured as shown in FIGS. 24 and 25 into electrical equipment such as motors, generators, transformers, solenoids, and reactors, small and highly reliable electrical equipment can be obtained.

1 導線、2 絶縁層、3 半硬化接着層、4 段差、5 凹部、6 凹部、7 段差、8 左上角部、9 右下角部、81 左側端部、91 右側端部。 1 conductive wire, 2 insulating layer, 3 semi-cured adhesive layer, 4 step, 5 recess, 6 recess, 7 step, 8 upper left corner, 9 lower right corner, 81 left end, 91 right end.

Claims (17)

導線と、
前記導線の外周側に積層される最も外側の層である最外周層とを有し、
前記最外周層は絶縁性を有する半硬化型接着剤により構成されるとともに、その外周面に前記半硬化型接着剤を成形した段差を有し、
前記半硬化型接着剤は、光硬化性接着剤であることを特徴とする絶縁電線。
conductor and
and an outermost layer that is the outermost layer laminated on the outer circumferential side of the conductive wire,
The outermost peripheral layer is made of an insulating semi-cured adhesive, and has a step formed by molding the semi-cured adhesive on its outer peripheral surface,
The insulated wire is characterized in that the semi-curable adhesive is a photocurable adhesive .
導線と、
前記導線の外周側に積層される最も外側の層である最外周層とを有し、
前記最外周層は絶縁性を有する半硬化型接着剤により構成されるとともに、その外周面に前記半硬化型接着剤を成形した段差を有し、
前記最外周層は、前記導線の外周面上に直接積層されることを特徴とする絶縁電線。
conductor and
and an outermost layer that is the outermost layer laminated on the outer circumferential side of the conductive wire,
The outermost peripheral layer is made of an insulating semi-cured adhesive, and has a step formed by molding the semi-cured adhesive on its outer peripheral surface,
The insulated wire is characterized in that the outermost peripheral layer is directly laminated on the outer peripheral surface of the conductive wire .
前記最外周層は半硬化状態である請求項1又は2に記載の絶縁電線。 The insulated wire according to claim 1 or 2, wherein the outermost peripheral layer is in a semi-cured state. 前記半硬化型接着剤は、Bステージ型接着剤である請求項に記載の絶縁電線。 The insulated wire according to claim 2 , wherein the semi-cured adhesive is a B-stage adhesive. 前記Bステージ型接着剤は、本硬化前に常温において固体であり、加熱により溶融する請求項に記載の絶縁電線。 The insulated wire according to claim 4 , wherein the B-stage adhesive is solid at room temperature before main curing, and melts when heated. 前記導線と前記最外周層の間に絶縁層を有する請求項1~5のいずれか1項に記載の絶縁電線。 The insulated wire according to any one of claims 1 to 5, further comprising an insulating layer between the conductive wire and the outermost layer. 前記段差は、前記最外周層の外周面に凹部を設けることで形成される請求項1~6のいずれか1項に記載の絶縁電線。 The insulated wire according to any one of claims 1 to 6, wherein the step is formed by providing a recess on the outer peripheral surface of the outermost peripheral layer. 前記最外周層は、前記絶縁電線を巻回したときに、前記最外周層の前記凹部以外の部分である非凹部を、前記凹部に嵌入可能である請求項に記載の絶縁電線。 The insulated wire according to claim 7 , wherein the outermost layer allows a non-recessed portion of the outermost layer other than the recessed portion to fit into the recessed portion when the insulated wire is wound. 前記非凹部は、前記最外周層の角部である請求項に記載の絶縁電線。 The insulated wire according to claim 8 , wherein the non-recessed portion is a corner of the outermost layer. 前記凹部に嵌入可能である前記角部は、その側面が前記凹部とは異なる凹部の側面により形成される請求項に記載の絶縁電線。 The insulated wire according to claim 9 , wherein the corner that can be fitted into the recess has a side surface formed by a side surface of a recess different from the recess. 前記段差は、前記最外周層の外周面に凸部を設けることで形成される請求項1~6のいずれか1項に記載の絶縁電線。 The insulated wire according to any one of claims 1 to 6, wherein the step is formed by providing a convex portion on the outer peripheral surface of the outermost peripheral layer. 前記段差は、前記最外周層の外周面に凸部および凹部を設けることで形成され、前記絶縁電線を巻回したときに、前記凸部を前記凹部に嵌入可能である請求項1~6のいずれか1項に記載の絶縁電線。 7. The stepped portion is formed by providing a convex portion and a concave portion on the outer peripheral surface of the outermost layer, and the convex portion can be fitted into the concave portion when the insulated wire is wound. The insulated wire according to any one of items 1 to 1 . 前記最外周層は、前記導線の延伸方向に対して垂直な断面の形状が、前記延伸方向の全体にわたって同一である請求項1~12のいずれか1項に記載の絶縁電線。 The insulated wire according to any one of claims 1 to 12 , wherein the outermost peripheral layer has a cross-sectional shape perpendicular to the stretching direction of the conductor wire that is the same throughout the stretching direction. 導線、および前記導線の外周側に積層される最も外側の層である最外周層を有し、
前記最外周層は絶縁性を有する半硬化型接着剤により構成されるとともに、その外周面に前記半硬化型接着剤を成形した段差を有する絶縁電線を、複数層巻回して形成したコイルを有し、
前記半硬化型接着剤は、光硬化性接着剤であることを特徴とする電機機器。
a conductive wire, and an outermost layer that is the outermost layer laminated on the outer peripheral side of the conductive wire,
The outermost layer is made of an insulating semi-cured adhesive, and has a coil formed by winding a plurality of layers of insulated wires having steps formed with the semi-cured adhesive on the outer circumferential surface thereof. death,
An electrical device characterized in that the semi-curable adhesive is a photocurable adhesive .
導線、および前記導線の外周側に積層される最も外側の層である最外周層を有し、
前記最外周層は絶縁性を有する半硬化型接着剤により構成されるとともに、その外周面に前記半硬化型接着剤を成形した段差を有する絶縁電線を、複数層巻回して形成したコイルを有し、
前記最外周層は、前記導線の外周面上に直接積層されることを特徴とする電機機器。
a conductive wire, and an outermost layer that is the outermost layer laminated on the outer peripheral side of the conductive wire,
The outermost layer is made of an insulating semi-cured adhesive, and has a coil formed by winding a plurality of layers of insulated wires having steps formed with the semi-cured adhesive on the outer circumferential surface thereof. death,
The electrical equipment , wherein the outermost layer is directly laminated on the outer circumferential surface of the conductive wire .
前記コイルは、前記複数層のうちの少なくとも1層の巻線数は、その内側に巻回される層の巻線数よりも少ない請求項14又は15に記載の電機機器。 16. The electrical equipment according to claim 14 , wherein the number of turns in at least one of the plurality of layers of the coil is smaller than the number of turns in a layer wound inside the coil. 前記コイルは、前記複数層を巻回する面に、前記最外周層の角部が嵌入される溝部が形成される請求項14~16のいずれか1項に記載の電機機器。 17. The electrical equipment according to claim 14, wherein the coil has a groove formed in a surface around which the plurality of layers are wound, into which a corner of the outermost layer is fitted.
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