JP7418484B2

JP7418484B2 - Packages for optical devices and optical devices

Info

Publication number: JP7418484B2
Application number: JP2022036563A
Authority: JP
Inventors: 和樹紺屋
Original assignee: Kyocera Corp
Current assignee: Kyocera Corp
Priority date: 2018-12-25
Filing date: 2022-03-09
Publication date: 2024-01-19
Anticipated expiration: 2038-12-25
Also published as: JP2020102583A; JP7039450B2; JP2022082581A

Description

本開示は、例えば、発光素子、撮像素子のような光学素子を搭載する光学装置に用いられる光学装置用パッケージおよび光学装置に関するものである。 The present disclosure relates to, for example, an optical device package and an optical device used in an optical device mounting an optical element such as a light emitting element or an image sensor.

ＣＣＤ（Charged-Coupled Device）およびＣＭＯＳ（Complementary Metal-Oxide Semiconductor）等の撮像素子、光スイッチおよびミラーデバイス等のＭＥＭＳ（Micro Electro Mechanical Systems）素子、レーザーダイオード（ＬＤ；Laser Diode）およびＬＥＤ（Light Emitting Diode）等の発光素子のような光学素子を搭載する光学装置用パッケージとして、光学素子が搭載されるセラミック配線基板上に接合されたシールリングを介してカバー部材が接合されたものがある（例えば、特許文献１を参照。）。このカバー部材は、シールリングに接合される金属枠と、金属枠に接合されたセラミックからなる枠体と、枠体の開口を塞いで接合されたとを備えている。枠体および透光性部材が光学素子を気密に封止する蓋体として機能し、この蓋体を金属枠およびシールリングを介して配線基板に接合している。蓋体は属枠の内周部に枠体が接合され、金属枠の外周部がシールリングに接合されている。 Image sensors such as CCD (Charged-Coupled Device) and CMOS (Complementary Metal-Oxide Semiconductor), MEMS (Micro Electro Mechanical Systems) elements such as optical switches and mirror devices, laser diodes (LDs), and LEDs (Light Emitting) As a package for an optical device mounting an optical element such as a light emitting element such as a diode, there is a package in which a cover member is bonded to a ceramic wiring board on which the optical element is mounted via a seal ring bonded to the ceramic wiring board on which the optical element is mounted (e.g. , see Patent Document 1). This cover member includes a metal frame joined to the seal ring, a frame made of ceramic joined to the metal frame, and a frame joined to cover the opening of the frame. The frame and the translucent member function as a lid that hermetically seals the optical element, and this lid is joined to the wiring board via the metal frame and seal ring. The lid body has a frame joined to the inner circumference of the metal frame, and an outer circumference of the metal frame joined to the seal ring.

特開２０１５－１９５３３０号公報Japanese Patent Application Publication No. 2015-195330

近年、光学装置を用いた光学機器の小型化に対応するために光学装置も小型化の要求が高まっている。しかしながら、従来の光学装置用パッケージにおいては、金属枠の蓋体より外側に大きくはみ出した部分が配線基板上のシールリングに接合されるので、小型化が困難なものであった。 In recent years, in response to the miniaturization of optical instruments using optical devices, there has been an increasing demand for miniaturization of optical devices. However, in conventional optical device packages, a portion of the metal frame that protrudes outward from the lid body is bonded to a seal ring on the wiring board, making it difficult to miniaturize the package.

本開示の一つの態様による光学装置用パッケージは、上面に光学素子の搭載領域を有する配線基板と、枠体および該枠体の上面を塞いで第１融点を有するガラスからなる第１接合材で接合された透光性部材を有している蓋体と、前記第１融点よりも低い第２融点を有するガラスからなる第２接合材が、枠部材本体の上面および下面のそれぞれに配置されており、前記配線基板の上面と前記蓋体の下面との間に配置されている、枠部材と、を備えており、平面視において、前記蓋体の第１の側面と、前記枠部材の第１の側面とが一致するとともに、前記枠部材の、前記第１の側面とは反対の側に位置する第２の側面が前記蓋体の前記第１の側面とは反対の側に位置する第２の側面よりも、前記枠部材本体の外形の中心から遠ざかる側に位置していることにより、前記枠部材の開口が前記第１の側面側に偏っており、前記配線基板と前記枠部材本体とはセラミックを含む。 An optical device package according to one aspect of the present disclosure includes a wiring board having an optical element mounting area on its upper surface, a frame body, and a first bonding material that covers the upper surface of the frame body and is made of glass having a first melting point. A lid having a bonded translucent member and a second bonding material made of glass having a second melting point lower than the first melting point are arranged on each of the upper and lower surfaces of the frame member main body. and a frame member disposed between the upper surface of the wiring board and the lower surface of the lid, and in a plan view, the first side surface of the lid and the first side surface of the frame member. 1 side surface coincides with the first side surface, and a second side surface of the frame member opposite to the first side surface corresponds to a second side surface of the lid body opposite to the first side surface. Since the opening of the frame member is biased toward the first side surface, the wiring board and the frame member main body includes ceramics.

本開示の一つの態様による光学装置用パッケージは、前記枠部材の内寸が前記搭載領域より大きい。 In the optical device package according to one aspect of the present disclosure, the inner dimension of the frame member is larger than the mounting area.

本開示の一つの態様による光学装置用パッケージは、前記枠部材の内寸が前記枠体の内寸と同じか小さい。 In the optical device package according to one aspect of the present disclosure, the inner dimension of the frame member is the same as or smaller than the inner dimension of the frame body.

本開示の一つの態様による光学装置は、上記の光学装置用パッケージと、該光学装置用パッケージの前記配線基板の前記搭載領域に第３接合材で固定されて搭載された光学素子とを備えており、前記蓋体と前記配線基板とが前記枠部材の前記第２接合材および前記枠部材本体を介して接合されて、前記光学素子が気密封止されている。 An optical device according to one aspect of the present disclosure includes the above-described optical device package and an optical element fixed and mounted on the mounting area of the wiring board of the optical device package with a third bonding material. The lid body and the wiring board are bonded via the second bonding material of the frame member and the frame member body, and the optical element is hermetically sealed.

本開示の光学装置用パッケージによれば、蓋体と配線基板とはその間に配置された枠部材の第２接合材で接合されており、第２接合材は枠部材本体の上面および下面のそれぞれに平面透視で重なるように配置されていることから、平面透視で蓋体と枠部材との接合位置と枠部材と配線基板の接合位置は同じ位置であり、平面方向に大きくずれていないので、小型の光学装置を得ることができる。 According to the optical device package of the present disclosure, the lid and the wiring board are bonded to each other by the second bonding material of the frame member disposed between them, and the second bonding material is attached to each of the upper and lower surfaces of the frame member body. Since they are arranged so that they overlap when seen in plan view, the bonding position of the lid and frame member and the bonding position of the frame member and wiring board are the same in plan view, and there is no significant deviation in the planar direction. A compact optical device can be obtained.

本開示の光学装置によれば、上記光学装置用パッケージを用いていることから、小型で気密封止性に優れたものとなる。 According to the optical device of the present disclosure, since the optical device package described above is used, the optical device is small and has excellent airtight sealability.

本開示の光学装置の製造方法によれば、第２接合材を有する枠部材を用いて配線基板と蓋体とを接合することから、封止空間内が汚染されて光学特性が低下する可能性が低減され、光学素子の固定より後の工程における、第２接合材により蓋体、枠部材および蓋体を接合する第２温度の方が、第３接合材により光学素子を固定する第１温度よりも低く、蓋体の枠体と透光性部材とを接合している第１接合材の第１融点よりも低いことから、光学素子が位置ずれすることなく搭載されるので、気密封止性および光学特性に優れた光学装置を製造することができる。 According to the method for manufacturing an optical device of the present disclosure, since the wiring board and the lid are bonded using the frame member having the second bonding material, there is a possibility that the inside of the sealed space will be contaminated and the optical characteristics will deteriorate. is reduced, and the second temperature at which the lid, frame member, and lid are bonded using the second bonding material in the step after fixing the optical element is higher than the first temperature at which the optical element is fixed using the third bonding material. Since it is lower than the first melting point of the first bonding material that bonds the frame of the lid and the translucent member, the optical element can be mounted without shifting, resulting in an airtight seal. Optical devices with excellent properties and optical properties can be manufactured.

光学装置用パッケージの一例を示す斜視図である。FIG. 2 is a perspective view showing an example of an optical device package. 光学装置の一例を示す斜視図である。It is a perspective view showing an example of an optical device. （ａ）は図２に示す光学装置の上面図であり、（ｂ）は（ａ）のＢ－Ｂ線における断面図である。(a) is a top view of the optical device shown in FIG. 2, and (b) is a sectional view taken along line BB in (a). 光学装置の製造方法の一例における一つの工程を示す斜視図である。FIG. 2 is a perspective view showing one step in an example of a method for manufacturing an optical device. 光学装置の製造方法の一例における一つの工程を示す斜視図である。FIG. 2 is a perspective view showing one step in an example of a method for manufacturing an optical device. 光学装置の製造方法の一例における一つの工程を示す斜視図である。FIG. 2 is a perspective view showing one step in an example of a method for manufacturing an optical device.

以下、本開示の光学装置用パッケージ、光学装置および光学装置の製造方法について、図面を参照しながら説明する。なお、以下の説明における上下の区別は便宜的なものであり、実際に光学装置等が使用されるときの上下を限定するものではない。図１は光学装置用パッケージの一例を示す斜視図である。図２は図1に示す光学装置用パッケージを用いた光学装置の一例を示す斜視図である。図３（ａ）は図２に示す光学装置の上面図であり、図３（ｂ）は図３（ａ）のＢ－Ｂ線における断面図である。図４～図６は光学装置の製造方法の一例における各工程を示す斜視図であり、図４、図５、図６は工程順に沿った順序である。また、各斜視図においては、区別しやすいように第１接合材２３、第２接合材３２、および第３接合材２１０にドット状の網掛けを施している。 Hereinafter, an optical device package, an optical device, and a method for manufacturing an optical device according to the present disclosure will be described with reference to the drawings. Note that the distinction between upper and lower in the following description is for convenience, and does not limit the upper and lower when the optical device or the like is actually used. FIG. 1 is a perspective view showing an example of an optical device package. FIG. 2 is a perspective view showing an example of an optical device using the optical device package shown in FIG. 1. 3(a) is a top view of the optical device shown in FIG. 2, and FIG. 3(b) is a sectional view taken along line BB in FIG. 3(a). 4 to 6 are perspective views showing each step in an example of a method for manufacturing an optical device, and FIGS. 4, 5, and 6 are in the order of steps. Further, in each perspective view, the first bonding material 23, the second bonding material 32, and the third bonding material 210 are shaded with dots for easy distinction.

本開示の一つの態様による光学装置用パッケージ１００は、図１～図３に示す例のように、上面に光学素子２００の搭載領域１５を有する配線基板１０と、内寸が搭載領域１５より大きい枠体２１および枠体２１の上面を塞いで第１融点を有するガラスからなる第１接合材２３で接合された透光性部材２２を有している蓋体２０と、第１融点よりも低い第２融点を有するガラスからなる第２接合材３２が、平面透視で重なるように枠部材本体３１上面および下面のそれぞれに配置されており、配線基板１０の上面と前記蓋体２０の下面との間に配置されている、内寸が搭載領域１５より大きい板状の枠部材３０と、を備えている。 An optical device package 100 according to one embodiment of the present disclosure includes a wiring board 10 having a mounting area 15 for an optical element 200 on the upper surface, and an inner dimension larger than the mounting area 15, as shown in the examples shown in FIGS. 1 to 3. a lid 20 having a frame 21 and a translucent member 22 that covers the upper surface of the frame 21 and is bonded with a first bonding material 23 made of glass having a first melting point; A second bonding material 32 made of glass having a second melting point is disposed on each of the upper and lower surfaces of the frame member main body 31 so as to overlap when viewed from above, and connects the upper surface of the wiring board 10 and the lower surface of the lid 20. A plate-shaped frame member 30 having an inner dimension larger than the mounting area 15 is provided between the two.

本開示の光学装置用パッケージ１００によれば、蓋体２０と配線基板１０とはその間に配置された枠部材３０の第２接合材３２で接合されており、第２接合材３２は枠部材本体３１の上面および下面のそれぞれに平面透視で重なるように配置されていることから、平面透視で蓋体２０と枠部材３０との接合位置と枠部材３０と配線基板１０の接合位置は同じ位置にあって、平面方向に大きくずれていないので、小型の光学装置３００を得ることができる。また、第１接合材２３および第２接合材３２はガラスからなるものであることから樹脂接合材を用いたものに比較して気密封止性に優れた光学装置３００を得ることができる。 According to the optical device package 100 of the present disclosure, the lid 20 and the wiring board 10 are bonded by the second bonding material 32 of the frame member 30 disposed therebetween, and the second bonding material 32 is the frame member main body. Since they are arranged so as to overlap each of the upper and lower surfaces of 31 when seen in plan view, the bonding position between the lid body 20 and the frame member 30 and the bonding position between the frame member 30 and the wiring board 10 are at the same position in plan view. Since there is no large deviation in the plane direction, a compact optical device 300 can be obtained. Further, since the first bonding material 23 and the second bonding material 32 are made of glass, it is possible to obtain an optical device 300 with excellent airtight sealability compared to an optical device using a resin bonding material.

配線基板１０は、絶縁基板１１に配線が設けられたものである。配線は上面の光学素子２００の搭載領域１５に設けられた接続電極１２、上面の搭載領域１５および枠部材３０が接合される領域より外側に設けられた外部電極１３および絶縁基板１１の内部に配置され、これらを接続する接続配線１４を含んでいる。接続電極１２は、光学素子２００の電極２０１と接続部材２２０で電気的に接続されるものである。絶縁基板１１は、配線基板１０の基本的な部分であり、複数の接続電極１２等の配線を互いに電気的に絶縁させて配置するための電気絶縁体として機能する。また、絶縁基板１１は、例えば、光学素子２００を搭載して固定するための基体として機能する部分である。絶縁基板１１は例えばセラミックからなるものを用いることができる。 The wiring board 10 has wiring provided on an insulating substrate 11. The wiring is arranged inside the connection electrode 12 provided in the mounting area 15 of the optical element 200 on the top surface, the external electrode 13 provided outside the area where the mounting area 15 on the top surface and the frame member 30 are bonded, and the insulating substrate 11. and includes connection wiring 14 that connects them. The connection electrode 12 is electrically connected to the electrode 201 of the optical element 200 by a connection member 220. The insulating substrate 11 is a basic part of the wiring board 10, and functions as an electrical insulator for arranging wiring such as a plurality of connection electrodes 12 so as to be electrically insulated from each other. Further, the insulating substrate 11 is a portion that functions as a base on which the optical element 200 is mounted and fixed, for example. The insulating substrate 11 may be made of ceramic, for example.

蓋体２０は、枠部材３０および第２接合材３２によって配線基板１０の上面に接合されるものである。配線基板１０の搭載領域１５に搭載される光学素子２００を覆い、配線基板１０、枠部材３０とともに光学素子２００を収容する空間を形成し、この空間を気密封止する機能を有するものである。蓋体２０は、光学素子２００から放射される光または光学素子２００が受光する光を透過させる必要があるので、枠体２１と枠体２１の上面を塞いで接合された透光性部材２２を有している。枠体２１の上面と透光性部材２２とは第１融点を有するガラスからなる第１接合材２３で接合されている。枠体２１は、光学素子２００を収容する空間を形成するために、板状の枠部材３０に対して筒状になっている。図１～図３に示す例の枠体２１は上面が下面および側面に対して傾斜しているが、上面が下面と平行であってもよい。 The lid body 20 is bonded to the upper surface of the wiring board 10 by a frame member 30 and a second bonding material 32. It has the function of covering the optical element 200 mounted in the mounting area 15 of the wiring board 10, forming a space in which the optical element 200 is accommodated together with the wiring board 10 and the frame member 30, and hermetically sealing this space. Since the lid body 20 needs to transmit the light emitted from the optical element 200 or the light received by the optical element 200, the lid body 20 covers the frame body 21 and the light-transmitting member 22 joined by covering the upper surface of the frame body 21. have. The upper surface of the frame 21 and the translucent member 22 are bonded with a first bonding material 23 made of glass having a first melting point. The frame body 21 has a cylindrical shape relative to the plate-shaped frame member 30 in order to form a space in which the optical element 200 is accommodated. Although the upper surface of the frame body 21 shown in FIGS. 1 to 3 is inclined with respect to the lower surface and the side surfaces, the upper surface may be parallel to the lower surface.

透光性部材２２は、透光性材料すなわち光を透過する材料からなる板状体である。ここでいう光は、光学装置用パッケージ１００に搭載される光学素子２００が発光または受光する光であり、主には可視光である。 The translucent member 22 is a plate-shaped body made of a translucent material, that is, a material that transmits light. The light referred to here is light emitted or received by the optical element 200 mounted on the optical device package 100, and is mainly visible light.

枠部材３０は、配線基板１０の上面と蓋体２０の下面との間に配置され、これらを接合するためのものである。枠部材３０は、第１融点よりも低い第２融点を有するガラスからなる第２接合材３２を有している。第２接合材３２は、枠部材本体３１の上面および下面のそれぞれに融着している。第２接合材３２によって、枠部材本体３１の下面と配線基板１０の上面とが接合され、枠部材本体３１の上面と蓋体２０の下面とが接合される。枠部材３０（枠部材本体３１）の上面の第２接合材３２と下面の第２接合材３２は平面透視で重なるように配置されている。枠部材３０の内寸は配線基板１０の搭載領域１５より一回り大きいので、搭載領域１５に搭載された光学素子２００、接続部材２２０および接続電極１２を取り囲むことができる。また、枠部材３０の内寸は蓋体２０の枠体２１の内寸と同じか一回り小さい。これにより、第２接合材３２で蓋体２０の枠体２１の下面を枠部材３０の上面に接合しやすい。 The frame member 30 is arranged between the upper surface of the wiring board 10 and the lower surface of the lid body 20, and serves to join them together. The frame member 30 includes a second bonding material 32 made of glass having a second melting point lower than the first melting point. The second bonding material 32 is fused to the upper and lower surfaces of the frame member main body 31, respectively. The second bonding material 32 bonds the lower surface of the frame member main body 31 and the upper surface of the wiring board 10, and the upper surface of the frame member main body 31 and the lower surface of the lid body 20. The second bonding material 32 on the top surface of the frame member 30 (frame member main body 31) and the second bonding material 32 on the bottom surface are arranged so as to overlap in plan view. Since the inner dimensions of the frame member 30 are one size larger than the mounting area 15 of the wiring board 10, the optical element 200, the connection member 220, and the connection electrode 12 mounted in the mounting area 15 can be surrounded. Further, the inner dimensions of the frame member 30 are the same as or slightly smaller than the inner dimensions of the frame 21 of the lid body 20. This makes it easy to bond the lower surface of the frame 21 of the lid 20 to the upper surface of the frame member 30 using the second bonding material 32.

光学装置３００は、上記のような光学装置用パッケージ１００と、光学装置用パッケージ１００の配線基板１０の搭載領域１５に第３接合材２１０で固定されて搭載された光学素子２００とを備えており、蓋体２０と配線基板１０とが枠部材３０の第２接合材３２および枠部材本体３１を介して接合されて、光学素子２００が気密封止されている。このような光学装置３００によれば、上記光学装置用パッケージ１００を用いていることから、小型で気密封止性に優れたものとなる。 The optical device 300 includes the optical device package 100 as described above, and an optical element 200 fixed and mounted on the mounting area 15 of the wiring board 10 of the optical device package 100 with a third bonding material 210. , the lid 20 and the wiring board 10 are bonded via the second bonding material 32 of the frame member 30 and the frame member main body 31, and the optical element 200 is hermetically sealed. According to such an optical device 300, since the optical device package 100 described above is used, the optical device 300 is small in size and has excellent airtight sealability.

光学装置用パッケージ１００は、上述したように、配線基板１０と、蓋体２０と、配線基板１０の上面と蓋体２０の下面との間に配置される、枠部材３０とを備えているものである。そして、光学装置３００に用いられる際、つまり光学装置３００を製造する際に、枠部材３０の枠部材本体３１の下面の第２接合材３２で配線基板１０の上面と枠部材本体３１の下面とが接合されるとともに、枠部材本体３１の上面の第２接合材３２で蓋体２０の枠体２１の下面と枠部材本体３１の上面とが接合されることで、光学装置用パッケージ１００として機能するものである。 As described above, the optical device package 100 includes the wiring board 10, the lid 20, and the frame member 30 disposed between the upper surface of the wiring board 10 and the lower surface of the lid 20. It is. When used in the optical device 300, that is, when manufacturing the optical device 300, the second bonding material 32 on the bottom surface of the frame member main body 31 of the frame member 30 connects the top surface of the wiring board 10 and the bottom surface of the frame member main body 31. At the same time, the lower surface of the frame 21 of the lid 20 and the upper surface of the frame member main body 31 are joined with the second bonding material 32 on the upper surface of the frame member main body 31, thereby functioning as the optical device package 100. It is something to do.

このような光学装置の製造方法は、第２融点よりも高い第１温度での加熱処理によって、配線基板１０の搭載領域１５に光学素子２００を第３接合材２１０で固定して搭載する工程と、配線基板１０の搭載領域１５を囲むようにして第２接合材３２を有する枠部材３０を配線基板１０の上面に載置する工程と、配線基板１０上の枠部材３０の上に蓋体２０を載置する工程と、第１温度および第１融点よりも低い第２温度での加熱処理によって第２接合材３２で配線基板１０と枠部材本体３１および枠部材本体３１と前記蓋体とを接合して、光学素子２００を気密封止する工程と、を備えている。 The method for manufacturing such an optical device includes the steps of fixing and mounting the optical element 200 on the mounting area 15 of the wiring board 10 with a third bonding material 210 by heat treatment at a first temperature higher than the second melting point. , placing the frame member 30 having the second bonding material 32 on the upper surface of the wiring board 10 so as to surround the mounting area 15 of the wiring board 10; and placing the lid 20 on the frame member 30 on the wiring board 10. The wiring board 10 and the frame member main body 31 and the frame member main body 31 and the lid are bonded with the second bonding material 32 by a step of placing the wiring board 10 and the frame member main body 31 and a heat treatment at a second temperature lower than the first temperature and the first melting point. and a step of hermetically sealing the optical element 200.

以下、各工程について詳細に説明する。まず、図４に示す例のように、配線基板１０の搭載領域１５に光学素子２００を第３接合材２１０で固定して搭載する。また、光学素子２００の電極２０１と配線基板１０の接続電極１２とを接続部材２２０で電気的に接続する。 Each step will be explained in detail below. First, as in the example shown in FIG. 4, the optical element 200 is fixed and mounted on the mounting area 15 of the wiring board 10 with the third bonding material 210. Further, the electrode 201 of the optical element 200 and the connection electrode 12 of the wiring board 10 are electrically connected by a connection member 220.

配線基板１０の絶縁基板１１は、平面視（上面視）で方形状（正方形状または長方形状）の平板である。例えば、一辺の長さが１５ｍｍ～３５ｍｍの方形状で、厚みが０．７ｍｍ～２．５ｍｍの板状である。ここで、方形状とは厳密な方形だけでなく、角が丸められた、あるいは面取りされたものも含むことを意味している。絶縁基板１１は、例えば、複数の絶縁層が積層されてなるものである。図１～図６に示す例では配線基板１０の絶縁基板１１の上面に凹部が設けられているが、これは必ずしも必要ではない。光学素子２００を搭載する面を研磨加工等によって平坦化することで光学素子の光軸の精度を高めることができる。凹部の底面を研磨加工等によって平坦化すると、接続電極１２を損傷することなく平坦化しやすい。光学素子２００を搭載する面を平坦化するための凹部であれば、光学素子２００全体が収容される深さの凹部でなくてもよく、配線基板１０（絶縁基板１１）をより薄いものとすることができる。 The insulating substrate 11 of the wiring board 10 is a flat plate having a rectangular shape (square or rectangular shape) in plan view (top view). For example, it is a rectangular plate with a side length of 15 mm to 35 mm and a thickness of 0.7 mm to 2.5 mm. Here, the term "rectangular shape" means not only a strictly rectangular shape but also one with rounded or chamfered corners. The insulating substrate 11 is, for example, formed by laminating a plurality of insulating layers. In the examples shown in FIGS. 1 to 6, a recess is provided on the upper surface of the insulating substrate 11 of the wiring board 10, but this is not necessarily necessary. By flattening the surface on which the optical element 200 is mounted by polishing or the like, the accuracy of the optical axis of the optical element can be improved. When the bottom surface of the recess is flattened by polishing or the like, it is easy to flatten the connection electrode 12 without damaging it. As long as the recess is for flattening the surface on which the optical element 200 is mounted, the recess need not be deep enough to accommodate the entire optical element 200, and the wiring board 10 (insulating substrate 11) can be made thinner. be able to.

絶縁基板１１は、例えば、酸化アルミニウム質焼結体、ガラスセラミック焼結体、窒化アルミニウム質焼結体またはムライト質焼結体等のセラミック焼結体によって形成されている。絶縁基板１１は、例えば酸化アルミニウム質焼結体からなる場合であれば、次のようにして製作することができる。まず、酸化アルミニウムおよび酸化ケイ素等の原料粉末を適当な有機バインダーおよび有機溶剤とともにシート状に成形して四角シート状のセラミックグリーンシートを作製する。その後、このセラミックグリーンシートを適当な寸法に切断、成形したセラミックグリーンシートを複数枚積層し、この積層した積層体を１３００℃～１６００℃の温度で焼成することによって絶縁基板１１を製作することができる。焼成された複数のセラミックグリーンシートのそれぞれが、絶縁基板１１を形成する絶縁層になる。絶縁基板１１が上面に凹部１５ａを有する場合は、セラミックグリーンシートに凹部１５ａ形状に対応する貫通孔等を設けておけばよい。あるいは、平板状の絶縁基板１１を研削および研磨加工して凹部を形成することもできる。 The insulating substrate 11 is formed of a ceramic sintered body such as an aluminum oxide sintered body, a glass ceramic sintered body, an aluminum nitride sintered body, or a mullite sintered body, for example. If the insulating substrate 11 is made of, for example, an aluminum oxide sintered body, it can be manufactured as follows. First, raw material powders such as aluminum oxide and silicon oxide are formed into a sheet together with a suitable organic binder and an organic solvent to produce a rectangular ceramic green sheet. Thereafter, the insulating substrate 11 can be manufactured by laminating a plurality of ceramic green sheets obtained by cutting and molding this ceramic green sheet into appropriate dimensions and firing the laminated body at a temperature of 1300° C. to 1600° C. can. Each of the plurality of fired ceramic green sheets becomes an insulating layer forming the insulating substrate 11. When the insulating substrate 11 has a recess 15a on the upper surface, a through hole or the like corresponding to the shape of the recess 15a may be provided in the ceramic green sheet. Alternatively, the recesses can be formed by grinding and polishing the flat insulating substrate 11.

絶縁基板１１には配線が設けられている。上述したように、図３等に示す例では、配線は上面の光学素子２００の搭載領域１５に設けられた接続電極１２、上面の搭載領域１５および枠部材３０が接合される領域より外側に設けられた外部電極１３および絶縁基板１１の内部に配置され、これらを接続する接続配線１４を含んでいる。図３に示す例では、接続配線１４は絶縁層間の導体層と絶縁層を貫通する貫通導体とを有している。 Wiring is provided on the insulating substrate 11. As described above, in the example shown in FIG. 3 etc., the wiring is provided outside the area where the connection electrode 12 provided in the mounting area 15 of the optical element 200 on the top surface, the mounting area 15 on the top surface, and the frame member 30 are joined. The external electrode 13 and the insulating substrate 11 each include a connection wiring 14 arranged inside the external electrode 13 and the insulating substrate 11 to connect them. In the example shown in FIG. 3, the connection wiring 14 has a conductor layer between insulating layers and a through conductor penetrating the insulating layer.

外部電極１３は、絶縁基板１１の下面に設けることもできる。これにより、配線基板１０を小型化することができる。図３等に示す例のように、外部電極１３を上面に設けると、実装面である絶縁基板１１の下面を研磨加工等でより平坦にすることができる。例えば、光学素子２００としてレーザーダイオードを用いた場合には、レーザーダイオードから放出される光の光軸の精度が要求される。この光軸の精度には光学素子２００の実装時の傾きばらつきが影響する。絶縁基板１１の下面に外部電極１３を設けてはんだ等で外部回路基板に実装すると外部回路基板の表面に対して配線基板１０の下面が傾斜して実装される場合がある。配線基板１０（絶縁基板１１）の下面を平坦にして、接合材による固定の際に押圧するなどすることで、外部回路基板の表面に対して下面の傾斜を極めて小さくすることができる。絶縁基板１１の下面に外部電極１３を設ける場合には、配線基板１０を小型化することができるので、光学装置用パッケージ１００および光学装置３００を小型化することができる。 The external electrode 13 can also be provided on the lower surface of the insulating substrate 11. Thereby, the wiring board 10 can be downsized. When the external electrode 13 is provided on the upper surface as in the example shown in FIG. 3, the lower surface of the insulating substrate 11, which is the mounting surface, can be made more flat by polishing or the like. For example, when a laser diode is used as the optical element 200, precision of the optical axis of light emitted from the laser diode is required. The accuracy of this optical axis is affected by variations in the inclination when the optical element 200 is mounted. When external electrodes 13 are provided on the lower surface of insulating substrate 11 and mounted on an external circuit board using solder or the like, the lower surface of wiring board 10 may be mounted with an inclination with respect to the surface of the external circuit board. By making the lower surface of the wiring board 10 (insulating substrate 11) flat and pressing it when fixing with a bonding material, the slope of the lower surface with respect to the surface of the external circuit board can be made extremely small. When the external electrode 13 is provided on the lower surface of the insulating substrate 11, the wiring board 10 can be downsized, so the optical device package 100 and the optical device 300 can be downsized.

配線基板１０の配線は、例えば、タングステン、モリブデン、マンガン、銅、銀、パラジウム、金、白金、ニッケルまたはコバルト等の金属材料、またはこれらの金属材料を含む合金材料等によって形成されている。このような金属材料等は、メタライズ層またはめっき膜あるいは薄膜等の金属層として、絶縁基板１１に設けられている。 The wiring of the wiring board 10 is formed of, for example, a metal material such as tungsten, molybdenum, manganese, copper, silver, palladium, gold, platinum, nickel, or cobalt, or an alloy material containing these metal materials. Such a metal material or the like is provided on the insulating substrate 11 as a metal layer such as a metallized layer, a plating film, or a thin film.

接続電極１２、外部電極１３および接続配線１４の導体層は、例えば、タングステンのメタライズ層である場合には、タングステンの粉末を有機溶剤および有機バインダーと混合して作製した金属ペーストを絶縁層となる上記セラミックグリーンシートの表面にスクリーン印刷法等の方法で印刷して、その後セラミックグリーンシートと同時焼成する方法で形成することができる。また、接続配線１４の貫通導体の部分は、絶縁層となるセラミックグリーンシートに貫通孔をあらかじめ形成しておき、このセラミックグリーンシートの貫通孔内に上記の金属ペーストをスクリーン印刷法等の方法で充填し、同時焼成することによって形成することができる。セラミックグリーンシートの貫通孔は、機械的な孔あけ加工またはレーザー加工等の方法で形成することができる。絶縁基板１１が凹部を有さない場合は、例えば、メタライズで接続配線１４が形成された絶縁基板１１の上面を研磨加工等で平坦化した後に、研磨された上面に薄膜で接続電極１２および外部電極１３を形成することができる。 For example, when the conductive layer of the connection electrode 12, external electrode 13, and connection wiring 14 is a tungsten metallized layer, the insulating layer is made of a metal paste prepared by mixing tungsten powder with an organic solvent and an organic binder. It can be formed by printing on the surface of the ceramic green sheet using a method such as a screen printing method, and then co-firing with the ceramic green sheet. In addition, for the through conductor portion of the connection wiring 14, a through hole is formed in advance in a ceramic green sheet serving as an insulating layer, and the above metal paste is applied into the through hole of the ceramic green sheet by a method such as screen printing. It can be formed by filling and co-firing. The through holes in the ceramic green sheet can be formed by mechanical drilling, laser processing, or the like. If the insulating substrate 11 does not have a concave portion, for example, after flattening the upper surface of the insulating substrate 11 on which the connection wiring 14 is formed by metallization by polishing or the like, a thin film is formed on the polished upper surface to form the connection electrode 12 and the external Electrodes 13 can be formed.

接続電極１２および外部電極１３の外表面に露出する部分は、上記のメタライズ層に、電解めっき法または無電解めっき法等の方法でニッケルおよび金等のめっき層がさらに被着されたものであってもよい。配線等の腐食防止および接続部材２２０または外部回路との接続部材の接合性向上のためである。 The exposed outer surfaces of the connecting electrodes 12 and external electrodes 13 are formed by further depositing a plating layer of nickel, gold, etc. on the metallized layer by electrolytic plating or electroless plating. You can. This is to prevent corrosion of wiring and the like and to improve bondability of the connecting member 220 or the connecting member with an external circuit.

光学素子２００は、例えばレーザーダイオードもしくはＬＥＤ等の発光素子であり、プロジェクターや自動車のヘッドライト等の光源となる。図２および図３に示す例では、１つの光学素子２００が搭載されているが、複数の光学素子２００を搭載することができる。例えば、発光色がＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）のように異なる光学素子２００である。発光素子以外の光学素子２００としては、ＣＣＤおよびＣＭＯＳ等の撮像素子、光スイッチおよびミラーデバイス等のＭＥＭＳ素子等も用いることができる。搭載する光学素子２００の数、および光の色や種類は、光学装置に応じたものとすればよい。 The optical element 200 is a light emitting element such as a laser diode or an LED, and serves as a light source for a projector, a car headlight, or the like. In the example shown in FIGS. 2 and 3, one optical element 200 is mounted, but a plurality of optical elements 200 can be mounted. For example, the optical elements 200 emit different colors such as R (red), G (green), and B (blue). As the optical element 200 other than the light emitting element, an imaging element such as a CCD and a CMOS, a MEMS element such as an optical switch and a mirror device, etc. can also be used. The number of optical elements 200 to be mounted and the color and type of light may be determined depending on the optical device.

光学素子２００を配線基板１０の上面に固定する第３接合材２１０は、例えば、錫を１８ｗｔ％含む金錫合金（ＡｕＳｎ１８）ろう材である。例えば、このＡｕＳｎ１８ろう材のプリフォームを３５０℃の温度で加熱処理する。このとき、光学素子２００が傾かないように押圧しながら固定することができる。この加熱処理の温度が第１温度であり、第１温度は、第２接合材の第２融点よりも高い温度である。 The third bonding material 210 that fixes the optical element 200 to the upper surface of the wiring board 10 is, for example, a gold-tin alloy (AuSn18) brazing material containing 18 wt% of tin. For example, this AuSn18 brazing material preform is heat treated at a temperature of 350°C. At this time, the optical element 200 can be fixed while being pressed so that it does not tilt. The temperature of this heat treatment is a first temperature, and the first temperature is higher than the second melting point of the second bonding material.

接続部材２２０は、例えばボンディングワイヤであり、金やアルミのワイヤーを用いることができる。上述した光軸の精度には光学素子２００の配線基板１０への搭載時の傾きばらつきも影響する。はんだを用いたフリップチップ実装では、はんだ量のばらつき等に起因して、配線基板１０の表面に対して光学素子２００が傾斜して実装される場合がある。配線基板１０（絶縁基板１１）の搭載領域１５における光学素子２００が固定される面を平坦にして、接合材による固定の際に押圧するなどすることで、配線基板１０の表面に対する光学素子２００の傾斜を極めて小さくすることができる。光学素子２００を配線基板１０にフリップチップ実装する場合でも、上記と同様の理由で光学素子２００を押圧しながら固定することができる。しかしながら、光学素子２００の実装信頼性のためにエポキシ等の樹脂を含むアンダーフィル材を用いると、後工程の枠部材３０の加熱温度の自由度が小さくなる。 The connection member 220 is, for example, a bonding wire, and a gold or aluminum wire can be used. The above-mentioned accuracy of the optical axis is also affected by variations in the inclination when the optical element 200 is mounted on the wiring board 10. In flip-chip mounting using solder, the optical element 200 may be mounted at an angle with respect to the surface of the wiring board 10 due to variations in the amount of solder. The surface of the mounting area 15 of the wiring board 10 (insulating substrate 11) on which the optical element 200 is fixed is made flat, and the optical element 200 is pressed against the surface of the wiring board 10 by, for example, pressing it when fixing with a bonding material. The slope can be made extremely small. Even when the optical element 200 is flip-chip mounted on the wiring board 10, the optical element 200 can be fixed while being pressed for the same reason as above. However, if an underfill material containing a resin such as epoxy is used for mounting reliability of the optical element 200, the degree of freedom in heating the frame member 30 in a subsequent process becomes smaller.

次に、図５に示す例のように、配線基板１０の搭載領域１５を囲むようにして第２接合材３２を有する枠部材３０を配線基板１０の上面に載置する。 Next, as in the example shown in FIG. 5, the frame member 30 having the second bonding material 32 is placed on the upper surface of the wiring board 10 so as to surround the mounting area 15 of the wiring board 10.

枠部材３０は、上述したように枠部材本体３１の上面および下面のそれぞれに第２接合材３２が融着しているものである。 As described above, the frame member 30 has the second bonding material 32 fused to each of the upper and lower surfaces of the frame member main body 31.

枠部材本体３１は、平面視（上面視）で方形状（正方形状または長方形状）の平板である。例えば、外寸が一辺の長さが１５ｍｍ～３０ｍｍの方形状で、内寸が１０ｍｍ～２５ｍｍの方形状で、厚みが例えば０．４ｍｍ～１．５ｍｍの板状である。 The frame member main body 31 is a flat plate having a rectangular shape (square or rectangular shape) in plan view (top view). For example, it is a rectangular shape with an outer dimension of 15 mm to 30 mm on a side, a rectangular shape with an inner dimension of 10 mm to 25 mm, and a plate shape with a thickness of, for example, 0.4 mm to 1.5 mm.

枠部材本体３１は、配線基板１０の絶縁基板１１と同程度の熱膨張係数を有するものであると、熱応力により第２接合材３２にクラック等が発生して気密性が低下する可能性が低減される。そのため、枠部材本体３１は、配線基板１０の絶縁基板１１と同様のセラミック材料からなるものとすることができる。上記のセラミック材料であれば、熱膨張係数の違いは大きくないので、配線基板１０の絶縁基板１１と同じ材料でなくてもよい。例えば、酸化アルミニウム質焼結体から成る場合であれば、以下のようにして作製することができる。まず、アルミナ（Ａｌ_２Ｏ_３）またはシリカ（ＳｉＯ_２）、カルシア（ＣａＯ）、マグネシア（ＭｇＯ）等の原料粉末に適当な有機溶剤、溶媒等を添加混合して泥漿状とし、これを周知のスプレードライ法等を用いて顆粒を作製する。次に、この顆粒を周知の乾式プレス法を用いて所定形状の成形体を得る。その後、この成形体を、例えば、約１６００（℃）の温度で焼成することにより枠部材本体３１が製作される。あるいは、配線基板１０の絶縁基板１１と同様に、セラミックグリーンシートを所定形状にして焼成することができる。 If the frame member main body 31 has a coefficient of thermal expansion comparable to that of the insulating substrate 11 of the wiring board 10, there is a possibility that cracks or the like will occur in the second bonding material 32 due to thermal stress and the airtightness will deteriorate. Reduced. Therefore, the frame member main body 31 can be made of the same ceramic material as the insulating substrate 11 of the wiring board 10. If the above-mentioned ceramic material is used, the difference in coefficient of thermal expansion is not large, so it is not necessary to use the same material as the insulating substrate 11 of the wiring board 10. For example, if it is made of an aluminum oxide sintered body, it can be manufactured as follows. First, a suitable organic solvent, solvent, etc. is added to raw material powder such as alumina (Al ₂ O ₃ ), silica (SiO ₂ ), calcia (CaO), magnesia (MgO), etc., and mixed to form a slurry, which is then mixed using a well-known method. Granules are produced using a spray drying method or the like. Next, the granules are subjected to a well-known dry pressing method to obtain a molded body of a predetermined shape. Thereafter, the frame member main body 31 is manufactured by firing this molded body at a temperature of about 1600 (° C.), for example. Alternatively, similarly to the insulating substrate 11 of the wiring board 10, a ceramic green sheet can be formed into a predetermined shape and fired.

第２接合材３２は、蓋体２０の枠体２１と透光性部材２２とを接合する第１接合材２３の融点（第１融点）よりも低い融点を有するものである。このような第２接合材３２を用いるので、あらかじめ第１接合材２３で枠体２１と透光性部材２２とが接合された蓋体２０を第２接合材３２で接合することができる。このような、第２接合材３２としては、例えば融点が３２０℃の鉛系ガラスを用いることができる。また、枠部材本体３１等との熱膨張係数を近似させるために、セラミック粉末等をフィラーとして含むものを用いることもできる。 The second bonding material 32 has a melting point lower than the melting point (first melting point) of the first bonding material 23 that bonds the frame 21 of the lid 20 and the translucent member 22. Since such a second bonding material 32 is used, it is possible to bond the lid body 20 to which the frame 21 and the light-transmitting member 22 have been bonded in advance using the first bonding material 23 using the second bonding material 32 . As such second bonding material 32, for example, lead-based glass having a melting point of 320° C. can be used. Moreover, in order to approximate the coefficient of thermal expansion with the frame member main body 31 etc., it is also possible to use a material containing ceramic powder or the like as a filler.

枠部材本体３１への第２接合材３２の融着は、上記ガラスの粉末およびバインダーや溶媒等の有機成分を含むガラスペーストを枠部材本体３１の上下面に塗布して、加熱することで行なうことができる。このときの加熱温度が高すぎ、加熱時間が長すぎると融着した第２接合材３２が結晶化して後の工程での第２接合材３２による接合が困難となる場合がある。そのため、例えば、第２接合材３２のガラスの融点（第２融点）＋１０℃で５分以下の加熱とするなど、第２接合材３２に応じて適宜、加熱条件を調整することができる。 The second bonding material 32 is fused to the frame member main body 31 by applying a glass paste containing the glass powder and organic components such as a binder and a solvent to the upper and lower surfaces of the frame member main body 31 and heating the paste. be able to. If the heating temperature at this time is too high and the heating time is too long, the fused second bonding material 32 may crystallize, making it difficult to bond with the second bonding material 32 in a later step. Therefore, the heating conditions can be adjusted as appropriate depending on the second bonding material 32, such as heating at the melting point (second melting point) of the glass of the second bonding material 32 +10° C. for 5 minutes or less.

図５に示す例のように、枠部材３０（枠部材本体３１）の一つの端面と配線基板１０の一つの端面とで位置合わせして、枠部材３０を配線基板１０上に載置することができる。このように位置合わせしたときに、枠部材本体３１が配線基板１０の搭載領域１５を囲むように載置される。そのため、枠部材本体３１の開口は必ずしも枠部材本体３１の外形に対して中心に位置していなくてもよい。 As in the example shown in FIG. 5, one end surface of the frame member 30 (frame member main body 31) and one end surface of the wiring board 10 are aligned, and the frame member 30 is placed on the wiring board 10. Can be done. When aligned in this manner, the frame member main body 31 is placed so as to surround the mounting area 15 of the wiring board 10. Therefore, the opening of the frame member main body 31 does not necessarily have to be located at the center with respect to the outer shape of the frame member main body 31.

次に、図６に示す例のように、配線基板１０上に載置された枠部材３０の上に蓋体２０を載置する。 Next, as in the example shown in FIG. 6, the lid 20 is placed on the frame member 30 placed on the wiring board 10.

蓋体２０は、上述したように、枠体２１と枠体２１の上面を塞いで第１接合材２３で接合された透光性部材２２を有している。 As described above, the lid 20 includes the frame 21 and the translucent member 22 that covers the upper surface of the frame 21 and is bonded with the first bonding material 23 .

枠体２１は、枠部材３０の枠部材本体３１と同程度の熱膨張係数を有するものであると、熱応力により第２接合材３２にクラック等が発生して気密性が低下する可能性が低減される。そのため、枠体２１は、枠部材本体３１と同様に、配線基板１０の絶縁基板１１と同様のセラミック材料からなるものとすることができる。上記のセラミック材料であれば、熱膨張係数の違いは大きくないので、配線基板１０の絶縁基板１１と同じ材料でなくてもよい。 If the frame body 21 has a coefficient of thermal expansion comparable to that of the frame member main body 31 of the frame member 30, there is a possibility that cracks or the like will occur in the second bonding material 32 due to thermal stress and the airtightness will deteriorate. Reduced. Therefore, the frame body 21, like the frame member main body 31, can be made of the same ceramic material as the insulating substrate 11 of the wiring board 10. If the above ceramic material is used, the difference in coefficient of thermal expansion is not large, so it does not need to be the same material as the insulating substrate 11 of the wiring board 10.

枠体２１は、例えば、酸化アルミニウム質焼結体から成る場合であれば、枠部材本体３１と同様に、以下のようにして作製することができる。まず、アルミナ（Ａｌ_２Ｏ_３）またはシリカ（ＳｉＯ_２）、カルシア（ＣａＯ）、マグネシア（ＭｇＯ）等の原料粉末に適当な有機溶剤、溶媒等を添加混合して泥漿状とし、これを周知のスプレードライ法等を用いて顆粒を作製する。次に、この顆粒を周知の乾式プレス法を用いて所定形状の成形体を得る。その後、この成形体を、例えば、約１６００（℃）の温度で焼成することにより枠体２１が製作される。あるいは、配線基板１０の絶縁基板１１と同様に、セラミックグリーンシートを所定形状にして焼成することができる。図１等に示す例のように上面が下面に対して傾斜している枠体２１の場合は、粉体プレスによる方法の方が作製が容易である。 For example, if the frame body 21 is made of an aluminum oxide sintered body, it can be manufactured in the following manner in the same way as the frame member main body 31. First, a suitable organic solvent, solvent, etc. are added and mixed to raw material powder such as alumina (Al ₂ O ₃ ), silica (SiO ₂ ), calcia (CaO), magnesia (MgO), etc. to form a slurry, and this is mixed using a well-known method. Granules are produced using a spray drying method or the like. Next, the granules are subjected to a well-known dry pressing method to obtain a molded body of a predetermined shape. Thereafter, the frame 21 is manufactured by firing this molded body at a temperature of about 1600 (° C.), for example. Alternatively, similarly to the insulating substrate 11 of the wiring board 10, a ceramic green sheet can be formed into a predetermined shape and fired. In the case of a frame 21 whose upper surface is inclined with respect to the lower surface, as in the example shown in FIG. 1, etc., it is easier to manufacture the frame 21 by a powder press method.

透光性部材２２は、例えば、ソーダガラスまたはホウケイ酸ガラス等の透明なガラス材料からなる板材であり、光の透過率の高いガラス材料が好ましい。なお、透光性部材２２と枠体２１との接合部に加わる熱応力で透光性部材２２が破壊することがないように、互いの熱膨張係数を、近似した値にすることができる。例えば、枠体２１がアルミナ質焼結体（熱膨張係数約７．２×１０^－６／℃）の場合であれば、透光性部材２２は例えば、ＢＫ７（ＨＯＹＡ社製、熱膨張係数が約７．５×１０^－６／℃）またはＤ２６３（ショット社製、熱膨張係数が約７．２×１０^－６／℃）等のガラス材料のような、互いの熱膨張係数の差が０．５×１０^－６／℃以下となるようなものを用いることができる。 The translucent member 22 is, for example, a plate made of a transparent glass material such as soda glass or borosilicate glass, and preferably a glass material with high light transmittance. Note that the thermal expansion coefficients of the translucent member 22 and the frame body 21 can be set to approximate values so that the translucent member 22 is not destroyed by thermal stress applied to the joint portion of the translucent member 22 and the frame body 21. For example, if the frame 21 is an alumina sintered body (thermal expansion coefficient of approximately 7.2×10 ⁻⁶ /°C), the light-transmitting member 22 is, for example, BK7 (manufactured by HOYA, with a thermal expansion coefficient of approximately 7.2×10 −6 /°C). 7.5×10 ^-6 /℃) or D263 (manufactured by Schott, with a thermal expansion coefficient of about 7.2×10 ^-6 /℃), where the difference in coefficient of thermal expansion is 0. .5×10 ⁻⁶ /°C or less can be used.

透光性部材２２は、例えば、上記のような透光性材料からなる大型の板材を切断して所定の大きさの矩形状の板材（以下、矩形板体とも呼ぶ。）に加工することで作製される。例えば、大型の板材の主面に、レーザーやダイシング等で溝を形成し、溝に機械応力や熱応力を加えることで切断することができる。この切断により得た矩形板体の側面は、ほぼ平面で形成されたものとなる。このまま透光性部材２２として使用してもよいが、矩形板体の両主面と側面のなす直角の角部、側面同士のなす直角に対して４５°の角度で角部を研磨によってＣ面を形成した場合には、角部に欠けが発生し難くなり、透光性部材２２に応力が加わった場合にも割れ難くなる。 The translucent member 22 can be made, for example, by cutting a large plate made of a translucent material such as that described above and processing it into a rectangular plate of a predetermined size (hereinafter also referred to as a rectangular plate). Created. For example, a large plate can be cut by forming grooves on its main surface using a laser or dicing, and then applying mechanical stress or thermal stress to the grooves. The side surfaces of the rectangular plate obtained by this cutting are substantially flat. Although it may be used as the translucent member 22 as it is, the C-face is polished by polishing the right-angled corners between both main surfaces and side surfaces of the rectangular plate, and the corners at an angle of 45° to the right angle between the side surfaces. In this case, the corner portions are less likely to be chipped, and even when stress is applied to the translucent member 22, it is less likely to crack.

また、透光性部材２２の上面および下面の少なくとも一方に光学膜を備えているものとすることができる。光学装置用パッケージ１００の光学特性をさらに向上させることができる。光学フィルタ膜は、例えば、反射防止膜（ＡＲコーディング：Anti-Reflection Coating）、ＵＶ（Ultra Violet：紫外線）カットフィルタやＩＲ（infrared rays：赤外線）カットフィルタ等の光学フィルタ膜、あるいは遮光膜である。反射防止膜や光学フィルタ膜は、用途に応じて、例えばフッ化マグネシウム（ＭｇＦ_２）、二酸化珪素（ＳｉＯ_２）、フッ化ランタン（ＬａＯ_３）、酸化ランタン（Ｌａ_２Ｏ_３）、五酸化タンタル（Ｔａ_２Ｏ_５）、五酸化チタン（Ｔｉ_３Ｏ_５）、五酸化ニオブ（Ｎｂ_２Ｏ_５）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ_２）、酸化チタン（ＴｉＯ_２）、またはＺｒＯ_２＋ＴｉＯ_２等の混合物等の誘電体単層膜あるいは多層膜で形成することができる。遮光膜は、例えばクロム（Ｃｒ）、酸化クロム（ＣｒＯ_ｘ）等の金属膜やカーボンを添加して黒色に着色したエポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂等で形成することができる。 Further, at least one of the upper surface and the lower surface of the transparent member 22 may be provided with an optical film. The optical characteristics of the optical device package 100 can be further improved. The optical filter film is, for example, an optical filter film such as an anti-reflection coating (AR coding), a UV (ultra violet) cut filter, an IR (infrared rays) cut filter, or a light shielding film. . Anti-reflection films and optical filter films may be made of, for example, magnesium fluoride (MgF ₂ ), silicon dioxide (SiO ₂ ), lanthanum fluoride (LaO ₃ ), lanthanum oxide (La ₂ O ₃ ), or tantalum pentoxide, depending on the application. (Ta ₂ O ₅ ), titanium pentoxide (Ti ₃ O ₅ ), niobium pentoxide (Nb ₂ O ₅ ), zirconium oxide (ZrO ₂ ), titanium oxide (TiO ₂ ), or a mixture of ZrO ₂ +TiO ₂ , etc. It can be formed from a dielectric single layer film or multilayer film. The light shielding film can be formed of, for example, a metal film such as chromium (Cr) or chromium oxide (CrO _x ), or a thermosetting resin such as an epoxy resin colored black by adding carbon.

第１接合材２３は、第２接合材３２の融点（第２融点）よりも高い第１融点を有するガラスからなるものである。例えば第１融点が４６０℃のビスマス系鉛フリーガラスを用いることができる。 The first bonding material 23 is made of glass having a first melting point higher than the melting point (second melting point) of the second bonding material 32. For example, bismuth-based lead-free glass having a first melting point of 460° C. can be used.

図２、３、６に示す例のように、蓋体２０（の枠体２１）一つの側面と枠部材３０（枠部材本体３１）の一つの端面とで位置合わせして、蓋体２０を枠部材３０上に載置することができる。図２、３、６に示す例では、枠部材本体３１の開口が、枠部材本体３１の外形の中心に対して蓋体２０との位置合わせをした端面側に位置しているので、枠部材本体３１は蓋体２０からはみ出ている。この例に限られるものではなく、例えば、枠部材本体３１と枠体２１とは同じ寸法であってもよい。 As in the examples shown in FIGS. 2, 3, and 6, the lid 20 is aligned with one side surface of the lid 20 (frame body 21) and one end surface of the frame member 30 (frame member main body 31). It can be placed on the frame member 30. In the examples shown in FIGS. 2, 3, and 6, the opening of the frame member main body 31 is located on the end face side that is aligned with the lid body 20 with respect to the center of the outer shape of the frame member main body 31, so that the frame member main body 31 The main body 31 protrudes from the lid body 20. The present invention is not limited to this example, and for example, the frame member main body 31 and the frame body 21 may have the same dimensions.

そして、第１温度および第１融点よりも低い第２温度での加熱処理によって第２接合材３２で配線基板１０と枠部材本体３１および枠部材本体３１と蓋体２０（の枠体２１の下面）とを接合して、光学素子２００を気密封止する。光学素子２００を実装してから、第２接合材３２となるガラスペーストを塗布して接合すると、加熱時のガラス粉末の飛散、ペースト中の有機成分によるガスで封止空間内が汚染される可能性がある。この汚染によって、光学装置３００の光学特性に悪影響をおよぼす可能性がある。あらかじめ枠部材本体３１に融着させた、有機成分を含まない第２接合材３２による接合のため、このような汚染が発生する可能性が十分に低減されて、光学特性に優れた光学装置３００を得ることができる。また、第２接合材３２を溶融させて接合するための第２温度は、光学素子２００を接合する際の加熱処理の第１温度（第３接合材２１０の融点程度）よりも低いことから、光学素子２００が位置ずれすることがなく、光学特性に優れた光学装置３００を得ることができる。さらに、第２温度は蓋体２０の枠体２１と透光性部材２２とを接合している第１接合材２３の融点より低いので、第１接合材２３が溶融して気密性が損なわれることもない。 Then, by heat treatment at a first temperature and a second temperature lower than the first melting point, the second bonding material 32 is bonded to the wiring board 10, the frame member body 31, the frame member body 31, and the lower surface of the frame body 20 (of the lid body 20). ) to hermetically seal the optical element 200. If the optical element 200 is mounted and then bonded by applying a glass paste as the second bonding material 32, the inside of the sealed space may be contaminated by scattering of glass powder during heating and gas from organic components in the paste. There is sex. This contamination can adversely affect the optical properties of optical device 300. Since the bonding is performed using the second bonding material 32 that does not contain organic components and is fused to the frame member main body 31 in advance, the possibility of such contamination occurring is sufficiently reduced, and the optical device 300 has excellent optical properties. can be obtained. Furthermore, since the second temperature for melting and bonding the second bonding material 32 is lower than the first temperature (approximately the melting point of the third bonding material 210) of the heat treatment when bonding the optical element 200, It is possible to obtain an optical device 300 with excellent optical characteristics without the optical element 200 being displaced. Furthermore, since the second temperature is lower than the melting point of the first bonding material 23 that bonds the frame 21 of the lid 20 and the translucent member 22, the first bonding material 23 melts and the airtightness is impaired. Not at all.

枠部材３０を用いずに、蓋体２０の枠体２１の下面にあらかじめ第２接合材３２を直接融着させておいたとしても、透光性部材２２の表面が汚染される可能性がある。蓋体２０の枠体２１の下面にあらかじめ第２接合材３２を融着させてから透光性部材２２を枠体２１上面に接合すると、透光性部材２２を接合する際の加熱によって第２接合材３２が結晶化してしまい、その後に蓋体２０を配線基板１０上に接合することが困難になる可能性がある。また、光学素子２００を配線基板１０に搭載する前に第２接合材３２を配線基板１０上に融着させた場合もまた、光学素子２００を搭載する際の加熱によって第２接合材３２が結晶化してしまい、その後に蓋体２０を接合することが困難になる可能性がある。 Even if the second bonding material 32 is directly fused to the lower surface of the frame 21 of the lid 20 without using the frame member 30, the surface of the translucent member 22 may be contaminated. . If the second bonding material 32 is fused to the lower surface of the frame 21 of the lid body 20 in advance and then the translucent member 22 is bonded to the upper surface of the frame 21, the second The bonding material 32 may crystallize, making it difficult to bond the lid 20 onto the wiring board 10 thereafter. Furthermore, in the case where the second bonding material 32 is fused onto the wiring board 10 before mounting the optical element 200 on the wiring board 10, the second bonding material 32 may crystallize due to heating during mounting the optical element 200. This may make it difficult to join the lid body 20 afterwards.

このように、本開示の光学装置の製造方法によれば、第２接合材３２を有する枠部材３０を用いて配線基板１０と蓋体２０とを接合することから、封止空間内が汚染されて光学特性が低下する可能性が低減され、光学素子２００の固定より後の工程における、第２接合材３２により蓋体２０、枠部材３０および蓋体２０を接合する第２温度の方が、第３接合材２１０により光学素子２００を固定する第１温度よりも低く、蓋体２０の枠体２１と透光性部材２２とを接合している第１接合材の第１融点よりも低いことから、光学素子２００が位置ずれすることなく搭載される。そのため、気密封止性および光学特性に優れた光学装置３００を製造することができる。 As described above, according to the method for manufacturing an optical device of the present disclosure, since the wiring board 10 and the lid body 20 are bonded using the frame member 30 having the second bonding material 32, the inside of the sealed space is not contaminated. The second temperature at which the lid body 20, the frame member 30, and the lid body 20 are bonded by the second bonding material 32 in a step after fixing the optical element 200 is lower. Lower than the first temperature at which the optical element 200 is fixed by the third bonding material 210 and lower than the first melting point of the first bonding material bonding the frame 21 of the lid 20 and the translucent member 22. Therefore, the optical element 200 is mounted without being displaced. Therefore, it is possible to manufacture the optical device 300 with excellent hermetic sealability and optical properties.

１０・・・配線基板
１１・・・絶縁基板
１２・・・接続電極
１３・・・外部電極
１４・・・接続配線
１５・・・搭載領域
２０・・・蓋体
２１・・・枠体
２２・・・透光性部材
２３・・・第１接合材
３０・・・枠部材
３１・・・枠部材本体
３２・・・第２接合材
１００・・・光学装置用パッケージ
２００・・・光学素子
２０１・・・（光学素子の）電極
２１０・・・第３接合材
２２０・・・接続部材（ボンディングワイヤ）
３００・・・光学装置 10... Wiring board 11... Insulating substrate 12... Connection electrode 13... External electrode 14... Connection wiring 15... Mounting area 20... Lid body 21... Frame body 22... ...Translucent member 23...First bonding material 30...Frame member 31...Frame member main body 32...Second bonding material 100...Optical device package 200...Optical element 201 ... Electrode 210 (of the optical element) ... Third bonding material 220 ... Connection member (bonding wire)
300...Optical device

Claims

a wiring board having an optical element mounting area on the top surface;
a lid having a frame and a translucent member that covers the upper surface of the frame and is bonded with a first bonding material made of glass having a first melting point;
A second bonding material made of glass having a second melting point lower than the first melting point is disposed on each of the upper and lower surfaces of the frame member body, and between the upper surface of the wiring board and the lower surface of the lid body. A frame member placed in the
It is equipped with
In a plan view, a first side surface of the lid body and a first side surface of the frame member coincide with each other, and a second side surface of the frame member is located on a side opposite to the first side surface. is located on a side farther away from the center of the outer shape of the frame member main body than a second side surface of the lid body located on the opposite side to the first side surface, so that the opening of the frame member is biased toward the first side surface,
the wiring board and the frame member include ceramic;
Package for optical equipment.

The package for an optical device according to claim 1, wherein the inner dimension of the frame member is larger than the mounting area.

The package for an optical device according to claim 1 or 2, wherein the inner dimension of the frame member is the same as or smaller than the inner dimension of the frame body.

The optical device package according to any one of claims 1 to 3, and an optical element fixed and mounted on the mounting area of the wiring board of the optical device package with a third bonding material. The optical device further comprises: the lid and the wiring board being joined via the second joining material of the frame member and the frame member main body, and the optical element being hermetically sealed.