JP7410781B2 - ジメチルシクロブタノン化合物、ジメチルシクロブタン化合物及びそれらの製造方法 - Google Patents
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で表されるホスホン酸エステル化合物との反応(特に、オレフィン化反応、好ましくはホーナー・ワズワース・エモンズ反応)により、下記一般式(4)
上述のジメチルシクロブタン環を有する不飽和エステル化合物(4)を還元応に付すことにより、下記一般式(1A)
を少なくとも含む、ジメチルシクロブタン化合物(1A)の製造方法が提供される。
上述のジメチルシクロブタン化合物(1A)の水酸基、及び任意的にX3、を変換することにより、下記一般式(1B)
を少なくとも含む、ジメチルシクロブタン化合物(1B)の製造方法が提供される。
を少なくとも含む、イソプロペニルジメチルシクロブタン化合物(5)及び/又はイソプロピリデンジメチルシクロブタン化合物(6)の製造方法が提供される。
前記イソプロペニルジメチルシクロブタン化合物(5)及び/又はイソプロピリデンジメチルシクロブタン化合物(6)におけるX6を上記で定義された特定の基X6の選択肢中の別の基X6に置換して、イソプロペニルジメチルシクロブタン化合物(5’)及び/又はイソプロピリデンジメチルシクロブタン化合物(6’)を得る工程と
を少なくとも含む、イソプロペニルジメチルシクロブタン化合物(5’)及び/又はイソプロピリデンジメチルシクロブタン化合物(6’)の製造方法が提供される。
で表されるジメチルシクロブタン化合物(1)が提供される。
本発明の他の態様では、ジメチルシクロブタン化合物(1)において特には、X1が水酸基であり、且つX2が、水酸基、炭素数1~10のアルカンスルホニルオキシ基、炭素数6~20のアレーンスルホニルオキシ基、炭素数1~12のアルコキシ基、炭素数6~12のアリールオキシ基、炭素数3~20のシリルオキシ基又はハロゲン原子を表す。
本発明の他の態様では、ジメチルシクロブタン化合物(1)において特には、X1は、カルボニル基の炭素を含めた炭素数1~10のアシルオキシ基、カルボニル基の炭素を含めた炭素数2~10のアルコキシカルボニルオキシ基、炭素数1~10のアルカンスルホニルオキシ基、炭素数6~20のアレーンスルホニルオキシ基、炭素数1~12のアルコキシ基、炭素数6~12のアリールオキシ基、炭素数3~20のシリルオキシ基、炭素数3~30のトリアルキルホスホニオ基、炭素数12~30のトリアリールホスホニオ基又はハロゲン原子を表す。
を少なくとも含む、ジメチルシクロブタノン化合物(2A)の製造方法が提供される。
で表されるジメチルシクロブタノン化合物(2B)が提供される。
[I]ジメチルシクロブタン化合物(1)
まず、ジメチルシクロブタン化合物(1)について説明する。ジメチルシクロブタン化合物(1)は、下記一般式(1)で表される。
X2としては、水酸基、カルボニル基の炭素を含めた炭素数1~10のアシルオキシ基、カルボニル基の炭素を含めた炭素数2~10のアルコキシカルボニルオキシ基、炭素数1~10のアルカンスルホニルオキシ基、炭素数6~20のアレーンスルホニルオキシ基、炭素数1~12のアルコキシ基、炭素数6~12のアリールオキシ基、炭素数3~20のシリルオキシ基又はハロゲン原子等が挙げられる。
X1及びX2はそれぞれ独立して、上記記載した基から選択される。
カルボニル基の炭素を含めた炭素数1~10のアシルオキシ基としては、ホルミルオキシ基、アセトキシ(AcO)基、プロパノイルオキシ基、ブタノイルオキシ基、ペンタノイルオキシ基、ヘキサノイルオキシ基、ヘプタノイルオキシ基、オクタノイルオキシ基、ノナノイルオキシ基、デカノイルオキシ基、クロトニルオキシ基等の直鎖状の脂肪族アシルオキシ基、2-メチルプロパノイルオキシ基、ピバロイルオキシ基、2-メチルブタノイルオキシ基、3-メチル-2-ブテノイルオキシ基、3-メチル-3-ブテノイルオキシ基等の分岐状の脂肪族アシルオキシ基、トリクロロアセトキシ基、トリフルオロアセトキシ基等のハロゲン化アシルオキシ基、ベンゾイルオキシ基等の芳香族アシルオキシ基等が挙げられ、これらと異性体の関係にあるアシルオキシ基でもよい。
また、これらのアシルオキシ基の水素原子の一部がメチル基、エチル基、ハロゲン原子等で置換されていてもよい。カルボニル基の炭素を含めた炭素数1~10のアシルオキシ基としては、入手の容易さの観点から特に好ましい例としてホルミルオキシ基、アセトキシ基、プロパノイルオキシ基、ピバロイルオキシ基、2-メチルブタノイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基等が挙げられる。
また、これらのアルカンスルホニルオキシ基の水素原子の一部がメチル基、エチル基、ハロゲン原子等で置換されていてもよい。炭素数1~10のアルカンスルホニルオキシ基としては、入手の容易さの観点から特に好ましい例として、メタンスルホニルオキシ基、エタンスルホニルオキシ基等が挙げられる。
水酸基とアルコキシ基を有するジメチルシクロブタン化合物としては、2-(3-ベンジルオキシメチル-2,2-ジメチルシクロブチリデン)プロパン-1-オール、2-(3-メトキシメトキシメチル-2,2-ジメチルシクロブチリデン)プロパン-1-オール、2-[2,2-ジメチル-3-(テトラヒドロピラン-2-イルオキシメチル)シクロブチリデン]プロパン-1-オール等の2-(3-アルコキシメチル-2,2-ジメチルシクロブチリデン)プロパン-1-オール化合物、2-[3-(1-エトキシエトキシ)メチル-2,2-ジメチルシクロブチリデン]プロパン-1-オール化合物等が挙げられる(下記の実施例11、12、13及び16を参照)。
アシルオキシ基とアルコキシ基を有するジメチルシクロブタン化合物としては、2-(3-メトキシメトキシメチル-2,2-ジメチルシクロブチリデン)プロピル=アセテート、2-[2,2-ジメチル-3-(テトラヒドロピラン-2-イルオキシメチル)シクロブチリデン]プロピル=アセテート等の2-(3-アルコキシメチル-2,2-ジメチルシクロブチリデン)プロピル=アシレート化合物等が挙げられる(下記の実施例20及び21を参照)。
ハロゲン原子とアルコキシ基を有するジメチルシクロブタン化合物としては、[3-(2-クロロ-1-メチルエチリデン)-2,2-ジメチルシクロブチル]メトキシメチルベンゼン、[3-(2-ブロモ-1-メチルエチリデン)-2,2-ジメチルシクロブチル]メトキシメチルベンゼン等の1-アルコキシメチル-3-(2-ハロ-1-メチルエチリデン)-2,2-ジメチルシクロブタン化合物等が挙げられる(下記の実施例17及び18を参照)。
ホスホニオ基とアルコキシ基を有するジメチルシクロブタン化合物としては、2-(3-ベンジルオキシメチル-2,2-ジメチルシクロブチリデン)プロピルトリフェニルホスホニウム等の[2-(3-アルコキシメチル-2,2-ジメチルシクロブチリデン)プロピル]トリアリールホスホニウム化合物等が挙げられる(下記の実施例19を参照)。
2つの水酸基を有するジメチルシクロブタン化合物としては、2-(3-ヒドロキシキシメチル-2,2-ジメチルシクロブチリデン)プロパン-1-オールが挙げられる(下記の実施例14、15、22及び23参照)。
2つのアシルオキシ基を有するジメチルシクロブタン化合物としては、[3-(2-アセトキシ-1-メチルエチリデン)-2,2-ジメチルシクロブチル]メチル=アセテート、(3-[2-(2-メチルブタノイルオキシ)-1-メチルエチリデン]-2,2-ジメチルシクロブチル)メチル=2-メチルブタノエート等の[3-(2-アシルオキシ-1-メチルエチリデン)-2,2-ジメチルシクロブチル]メチル=アシレート化合物等が挙げられる(下記の実施例24及び25を参照)。
2つのハロゲン原子を有するジメチルシクロブタン化合物としては、1-クロロメチル-3-(2-クロロ-1-メチルエチリデン)-2,2-ジメチルシクロブタン等の1-ハロメチル-3-(2-ハロ-1-メチルエチリデン)-2,2-ジメチルシクロブタン化合物等が挙げられる(下記の実施例26を参照)。
ホスホニオ基と水酸基を有するジメチルシクロブタン化合物としては、トリフェニル[2-(3-ヒドロキシメチル-2,2-ジメチルシクロブチリデン)プロピル]ホスホニウム等の[2-(3-ヒドロキシメチル-2,2-ジメチルシクロブチリデン)プロピル]トリアリールホスホニウム化合物等が挙げられる(下記の実施例27を参照)。
ハロゲン原子とアシルオキシ基を有するジメチルシクロブタン化合物としては、[2,2-ジメチル-3-(2-ブロモ-1-メチルエチリデン)シクロブチル]メチル=アセテート等の[2,2-ジメチル-3-(2-ハロ-1-メチルエチリデン)シクロブチル]メチル=アシレート化合物等が挙げられる(下記の実施例28を参照)。
次に、下記に示す2つの化学反応式で示される、ジメチルシクロブタン化合物(1A)の製造方法について説明する。当該製造方法は、下記一般式(2)で表されるジメチルシクロブタノン化合物と、下記一般式(3)で表されるホスホン酸エステル化合物との反応、特にオレフィン化反応、好ましくはホーナー・ワズワース・エモンズ反応により、下記一般式(4)で表される、ジメチルシクロブタン環を有する不飽和エステル化合物を得る工程と、
を少なくとも含む。
ジメチルシクロブタノン化合物(2)におけるX2は、上記で定義された通りである。ジメチルシクロブタノン化合物(2)の中でも、化合物の安定性及び/又は後に、特定の基X2を上記で定義されたX2の選択中の別の基X2に変換する容易さの観点から、一般式(2B)で示されるジメチルシクロブタノン化合物(2B)が好ましい。
ジメチルシクロブタノン化合物(2)は、1種類又は2種類以上を使用してもよい。また、ジメチルシクロブタノン化合物(2)は、例えば以下のように製造できる。以下、ジメチルシクロブタノン(2)におけるX2の定義から水酸基を除いた、ジメチルシクロブタノン化合物(2A)と、ジメチルシクロブタノン化合物(2)におけるX2が水酸基である3-ヒドロキシメチル-2,2-ジメチルシクロブタノンに分けて、説明する。
ジメチルシクロブタン化合物(2A)については、上記で説明した通りである。
次に、下記化学反応式で示される、ジメチルシクロブタノン化合物(2A)の製造方法について説明する。当該製造方法は、下記一般式(7)で表される酸ハロゲン化物と、下記一般式(8)で表されるアリル化合物と、塩基との反応により、下記一般式(2A)で表される、ジメチルシクロブタノン化合物を得る工程を少なくとも含む。
アリル化合物(8)におけるX12は上記で定義された通りである。
カルボニル基の炭素を含めた炭素数1~10のアシルオキシ基としては、ホルミルオキシ基、アセトキシ(AcO)基、プロパノイルオキシ基、ブタノイルオキシ基、ペンタノイルオキシ基、ヘキサノイルオキシ基、ヘプタノイルオキシ基、オクタノイルオキシ基、ノナノイルオキシ基、デカノイルオキシ基、クロトニルオキシ基等の直鎖状の脂肪族アシルオキシ基、2-メチルプロパノイルオキシ基、ピバロイルオキシ基、2-メチルブタノイルオキシ基、3-メチル-2-ブテノイルオキシ基、3-メチル-3-ブテノイルオキシ基等の分岐状の脂肪族アシルオキシ基、トリクロロアセトキシ基、トリフルオロアセトキシ基等のハロゲン化アシルオキシ基、ベンゾイルオキシ基等の芳香族アシルオキシ基等が挙げられ、これらと異性体の関係にあるアシルオキシ基でもよい。
また、これらのアシルオキシ基の水素原子の一部がメチル基、エチル基、ハロゲン原子等で置換されていてもよい。カルボニル基の炭素を含めた炭素数1~10のアシルオキシ基としては、入手の容易さの観点から特に好ましい例としてホルミルオキシ基、アセトキシ基、プロパノイルオキシ基、ピバロイルオキシ基、2-メチルブタノイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基等が挙げられる。
また、これらのアルカンスルホニルオキシ基の水素原子の一部がメチル基、エチル基、ハロゲン原子等で置換されていてもよい。炭素数1~10のアルカンスルホニルオキシ基としては、入手の容易さの観点から特に好ましい例として、メタンスルホニルオキシ基、エタンスルホニルオキシ基等が挙げられる。
アリル化合物(8)は、1種類又は2種類以上を使用してもよい。また、アリル化合物(8)は、市販されているものであってもよく、また独自に合成したものを用いてもよい。
アリル化合物(8)の使用量は、酸ハロゲン化物(7)1molに対して、好ましくは0.2~100.0mol、より好ましくは0.4~50.0mol、更に好ましくは0.6~25.0molである。
該塩基は、1種類又は2種類以上を使用してもよい。また、該塩基は、市販されているものを用いることができる。
該塩基の使用量は、酸ハロゲン化物(7)1molに対して、好ましくは0.7~5.0mol、より好ましくは0.8~4.0mol、更に好ましくは0.9~3.0molである。
上記の反応は無溶媒もしくは溶媒の存在下で行うことができる。
上記の反応における溶媒としては、ジエチル=エーテル、ジブチル=エーテル、テトラヒドロフラン、1,4-ジオキサン等のエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、ベンゼン、トルエン、キシレン、クメン等の炭化水素類、塩化メチレン、クロロホルム、トリクロロエチレン等の塩素系溶剤類、N,N-ジメチルホルムアミド、1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノン、ジメチル=スルホキシド、ヘキサメチルホスホリック=トリアミド等の非プロトン性極性溶媒類、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル類、酢酸エチル、酢酸n-ブチル等のエステル類等が挙げられる。
該溶媒は、1種類又は2種類以上を使用してもよい。また、該溶媒は、市販されているものを用いることができる。
該溶媒の使用量は、酸ハロゲン化物(7)1molに対し、好ましくは0~10,000gである。
上記の反応における反応時間は、任意に設定できるが、ガスクロマトグラフィー(GC)又はシリカゲル薄層クロマトグラフィー(TLC)で反応を追跡して反応を完結させることが収率の点で望ましく、通常0.5~72時間程度である。
該一価の炭化水素基としては、メチル(Me)基、エチル(Et)基、n-プロピル(Pr)基、n-ブチル(Bu)基、n-ペンチル(Pen)基、n-ヘキシル(Hex)基、n-ヘプチル(Hep)基、n-オクチル(Oct)基、n-ノニル(Non)基、n-デシル(Dec)基等の直鎖状の飽和炭化水素基、イソプロピル(i-Pr)基、sec-ブチル基、イソブチル(i-Bu)基、t-ブチル(t-Bu)基等の分岐状の飽和炭化水素基、2-プロペニル基、2-プロピニル基等の直鎖状の不飽和炭化水素基、2-メチル-2-プロペニル基等の分岐状の不飽和炭化水素基、シクロプロピル基、2-メチルシクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル(c-Hex)基等の環状炭化水素基、フェニル(Ph)基、2-メチルフェニル基、4-メチルフェニル基等の芳香族炭化水素基等が挙げられ、これらと異性体の関係にある炭化水素基でもよい。
また、これらの一価の炭化水素基の水素原子の一部がメチル基、エチル基、ハロゲン原子等で置換されていてもよい。ハロゲン原子としては、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子等が挙げられる。
ホスホン酸エステル化合物(3)の入手の容易さを考慮するとR1及びR2の特に好ましい例としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、sec-ブチル基、イソブチル基及びt-ブチル基等、より特に好ましい例としてはメチル基、エチル基、n-プロピル基等が挙げられる。
ホスホン酸エステル化合物(3)としては、特に、2-ホスホノプロピオン酸トリエチル等が挙げられる。
ホスホン酸エステル化合物(3)の使用量は、ジメチルシクロブタノン化合物(2)1molに対して、好ましくは0.7~5.0mol、より好ましくは0.8~4.0mol、更に好ましくは0.9~3.0molである。
該塩基は、1種類又は2種類以上を使用してもよい。また、該塩基は、市販されているものを用いることができる。
該塩基の使用量は、ホスホン酸エステル化合物(3)1molに対して、好ましくは0.7~5.0mol、より好ましくは0.8~4.0mol、更に好ましくは0.9~3.0molである。
該ルイス酸としては、塩化リチウム、臭化リチウム、ヨウ化リチウム等のハロゲン化リチウム等が挙げられる。
該ルイス酸は、1種類又は2種類以上を使用してもよい。また、該ルイス酸は、市販されているものを用いることができる。
該ルイス酸の使用量は、ホスホン酸エステル化合物(3)1molに対して、好ましくは0.7~5.0mol、より好ましくは0.8~4.0mol、更に好ましくは0.9~3.0molである。
該溶媒は、1種類又は2種類以上を使用してもよい。また、該溶媒は、市販されているものを用いることができる。
該溶媒の使用量は、ジメチルシクロブタノン化合物(2)1molに対し、好ましくは10~10,000gである。
上記の反応における反応時間は、任意に設定できるが、ガスクロマトグラフィー(GC)又はシリカゲル薄層クロマトグラフィー(TLC)で反応を追跡して反応を完結させることが収率の点で望ましく、通常0.5~24時間程度である。
ジメチルシクロブタン化合物(1A)におけるX3は、水酸基、炭素数1~10のアルカンスルホニルオキシ基、炭素数6~20のアレーンスルホニルオキシ基、炭素数1~12のアルコキシ基、炭素数6~12のアリールオキシ基、炭素数3~20のシリルオキシ基又はハロゲン原子を表す。これらの基及びハロゲン原子としては、上記のX1及びX2が炭素数1~10のアルカンスルホニルオキシ基、炭素数6~20のアレーンスルホニルオキシ基、炭素数1~12のアルコキシ基、炭素数6~12のアリールオキシ基、炭素数3~20のシリルオキシ基及びハロゲン原子である場合に例示した上記基が挙げられる。
上記還元反応において、ジメチルシクロブタン環を有する不飽和エステル化合物(4)のX2が維持される場合にはX2と該反応後のX3は同一となり、一方、X2が維持されない場合にはX2と該反応後のX3は異なる。
還元反応に用いる還元剤としては、水素、ボラン、ビス(3-メチル-2-ブチル)ボラン等のアルキルボラン化合物、トリエチルシラン等のアルキルシラン化合物、水素化アルミニウム等の金属水素化物類、水素化ジイソブチルアルミニウム等のアルキル金属水素化物類、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素リチウム、水素化ホウ素カリウム、水素化ホウ素カルシウム、水素化トリメトキシホウ素ナトリウム、水素化トリエチルホウ素リチウム、水素化アルミニウムナトリウム、水素化アルミニウムリチウム、水素化トリメトキシアルミニウムリチウム、水素化ジエトキシアルミニウムリチウム、水素化トリtert-ブトキシアルミニウムリチウム、水素化ビス(2-メトキシエトキシ)アルミニウムナトリウム等の錯体水素化物類及びそれらのアルコキシあるいはアルキル誘導体等が挙げられる。
該還元剤は、1種類又は2種類以上を使用してもよい。また、該還元剤は、市販されているものを用いることができる。
該還元剤の使用量は、ジメチルシクロブタン環を有する不飽和エステル化合物(4)1molに対して、ヒドリド換算で、好ましくは3.5~100.0mol、より好ましくは3.6~20.0mol、更に好ましくは3.7~15.0molである。
該溶媒は、1種類又は2種類以上を使用してもよい。また、該溶媒は、市販されているものを用いることができる。
該溶媒の使用量は、ジメチルシクロブタン環を有する不飽和エステル化合物(4)1molに対して、好ましくは10~20,000gである。
還元反応における反応時間は、任意に設定できるが、ガスクロマトグラフィー(GC)又はシリカゲル薄層クロマトグラフィー(TLC)で反応を追跡して反応を完結させることが収率の点で望ましく、通常0.5~24時間程度である。
次に、下記の化学反応式で示される、上述のジメチルシクロブタン化合物(1B)の製造方法について説明する。当該製造方法は、上述のジメチルシクロブタン化合物(1A)の水酸基、及び任意的にX3、を変換することにより、ジメチルシクロブタン化合物(1B)を得る工程を少なくとも含む。
X4は、カルボニル基の炭素を含めた炭素数1~10のアシルオキシ基、カルボニル基の炭素を含めた炭素数2~10のアルコキシカルボニルオキシ基、炭素数1~10のアルカンスルホニルオキシ基、炭素数6~20のアレーンスルホニルオキシ基、炭素数1~12のアルコキシ基、炭素数6~12のアリールオキシ基、炭素数3~20のシリルオキシ基、炭素数3~30のトリアルキルホスホニオ基、炭素数12~30のトリアリールホスホニオ基又はハロゲン原子を表す。これらの基及びハロゲン原子としては、上記のX1及びX2がカルボニル基の炭素を含めた炭素数1~10のアシルオキシ基、カルボニル基の炭素を含めた炭素数2~10のアルコキシカルボニルオキシ基、炭素数1~10のアルカンスルホニルオキシ基、炭素数6~20のアレーンスルホニルオキシ基、炭素数1~12のアルコキシ基、炭素数6~12のアリールオキシ基、炭素数3~20のシリルオキシ基、炭素数3~30のトリアルキルホスホニオ基、炭素数12~30のトリアリールホスホニオ基及びハロゲン原子である場合に例示した上記基が挙げられる。
X5は、上記X2と同じである。
上記の変換反応において、ジメチルシクロブタン化合物(1A)のX3が維持される場合にはX3と該反応後のX5は同一となり、一方、X3が維持されない場合はX3と該反応後のX5は異なる。
X8は、カルボニル基の炭素を含めた炭素数1~10のアシルオキシ基を表す。カルボニル基の炭素を含めた炭素数1~10のアシルオキシ基としては、上記のX1及びX2がカルボニル基の炭素を含めた炭素数1~10のアシルオキシ基である場合に例示した上記基が挙げられる。
アシル化剤としては、無水酢酸、無水プロピオン酸、無水ブタン酸、無水2-メチルブタン酸等の酸無水物、塩化アセチル、塩化プロピオニル、塩化ブタノイル、塩化2-メチルブタノイル等の酸塩化物等が挙げられる。
該アシル化剤は、1種類又は2種類以上を使用してもよい。また、該アシル化剤は、市販されているものを用いることができる。
該アシル化剤の使用量は、水酸基とアルコキシ基を有するジメチルシクロブタン化合物(1C)の水酸基1molに対して、好ましくは0.7~100mol、より好ましくは0.8~50mol、更に好ましくは0.9~20molである。
アシル反応に用いる塩基としては、ナトリウム=メトキシド、ナトリウム=エトキシド、ナトリウム=t-ブトキシド、ナトリウム=t-アミロキシド、リチウム=メトキシド、リチウム=エトキシド、リチウム=t-ブトキシド、リチウム=t-アミロキシド、カリウム=メトキシド、カリウム=エトキシド、カリウム=t-ブトキシド、カリウム=t-アミロキシド等のアルコキシド類、メチルリチウム、エチルリチウム、n-ブチルリチウム、塩化メチルマグネシウム、ジムシルナトリウム等の有機金属化合物、ナトリウム=アミド、リチウム=アミド、リチウム=ジイソプロピルアミド、リチウム=ヘキサメチルジシラジド、ナトリウム=ヘキサメチルジシラジド、カリウム=ヘキサメチルジシラジド、リチウム=ジシクロヘキシルアミド等の金属アミド類、水素化ナトリウム、水素化カリウム、水素化カルシウム等の水素化金属類、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、トリブチルアミン、N,N-ジメチルアニリン、N,N-ジエチルアニリン、ピリジン、4-ジメチルアミノピリジン、イミダゾール、キノリン、ピロリジン、ピペリジン、コリジン、ルチジン、モルホリン、1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]-7-ウンデセン等の有機塩基化合物等を挙げることができる。
該塩基は、1種類又は2種類以上を使用してもよい。また、該塩基は、市販されているものを用いることができる。
該塩基の使用量は、水酸基とアルコキシ基を有するジメチルシクロブタン化合物(1C)の水酸基1molに対して、好ましくは0.8~110mol、より好ましくは0.9~60mol、更に好ましくは1~30molである。
該溶媒は、1種類又は2種類以上を使用してもよい。また、該溶媒は、市販されているものを用いることができる。
該溶媒の使用量は、水酸基とアルコキシ基を有するジメチルシクロブタン化合物(1C)1molに対し、好ましくは10~10,000gである。
アシル化反応における反応時間は、任意に設定できるが、ガスクロマトグラフィー(GC)又はシリカゲル薄層クロマトグラフィー(TLC)で反応を追跡して反応を完結させることが収率の点で望ましく、通常0.5~24時間程度である。
アシル化反応は、上述のアシルオキシ基とアルコキシ基を有するジメチルシクロブタン化合物(1D)を得る工程と同じようにして行うことができる。
X9は、ハロゲン原子を表す。ハロゲン原子としては、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子等が挙げられる。
はじめに、ハロゲン源とホスフィン化合物を用いたハロゲン化反応について説明する(下記の実施例18を参照)。
ハロゲン源としては、四塩化炭素、四臭化炭素等の四ハロゲン化炭素化合物、臭素、ヨウ素等のハロゲン単体等が挙げられる。
該ハロゲン源は、1種類又は2種類以上を使用してもよい。また、該ハロゲン源は、市販されているものを用いることができる。
該ハロゲン源の使用量は、水酸基とアルコキシ基を有するジメチルシクロブタン化合物(1C)の水酸基1molに対して、好ましくは0.7~1000mol、より好ましくは0.8~500mol、更に好ましくは0.9~200molである。
ホスフィン化合物としては、トリフェニルホスフィン等のトリアリールホスフィン化合物、トリオクチルホスフィン等のトリアルキルホスフィン化合物等が挙げられる。
該ホスフィン化合物の使用量は、水酸基とアルコキシ基を有するジメチルシクロブタン化合物(1C)1molに対して、好ましくは1.4~20.0mol、より好ましくは1.4~16mol、更に好ましくは1.5~14molである。
該ホスフィン化合物は、1種類又は2種類以上を使用してもよい。また、該ホスフィン化合物は、市販されているものを用いることができる。
上記のハロゲン化反応は塩基の存在下で行ってもよい。
該塩基としては、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、トリブチルアミン、N,N-ジメチルアニリン、N,N-ジエチルアニリン、ピリジン、4-ジメチルアミノピリジン、イミダゾール、キノリン、ピロリジン、ピペリジン、コリジン、ルチジン、モルホリン、1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]-7-ウンデセン等の有機塩基化合物等を挙げることができる。
該塩基は、1種類又は2種類以上を使用してもよい。また、該塩基は、市販されているものを用いることができる。
該塩基の使用量は、水酸基とアルコキシ基を有するジメチルシクロブタン化合物(1C)の水酸基1molに対して、好ましくは0~1000mol、より好ましくは0~500mol、更に好ましくは0~200molである。
上記のハロゲン化反応における溶媒としては、ジエチル=エーテル、ジブチル=エーテル、テトラヒドロフラン、1,4-ジオキサン等のエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、ベンゼン、トルエン、キシレン、クメン等の炭化水素類、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、トリクロロエチレン等の塩素系溶剤類、N,N-ジメチルホルムアミド、1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノン、ジメチル=スルホキシド、ヘキサメチルホスホリック=トリアミド等の非プロトン性極性溶媒類、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル類、酢酸エチル、酢酸n-ブチル等のエステル類等が挙げられる。
該溶媒は、1種類又は2種類以上を使用してもよい。また、該溶媒は、市販されているものを用いることができる。
該溶媒の使用量は、水酸基とアルコキシ基を有するジメチルシクロブタン化合物(1C)1molに対し、好ましくは0~20,000gである。
ハロゲン化反応における反応時間は、任意に設定できるが、ガスクロマトグラフィー(GC)又はシリカゲル薄層クロマトグラフィー(TLC)で反応を追跡して反応を完結させることが収率の点で望ましく、通常0.5~24時間程度である。
スルホニルハライド化合物としては、塩化パラトルエンスルホニル、塩化ベンゼンスルホニル等のアレーンスルホニル=ハライド化合物、塩化メタンスルホニル等のアルカンスルホニル=ハライド化合物、塩化チオニル等が挙げられる。
該スルホニルハライド化合物は、1種類又は2種類以上を使用してもよい。また、該スルホニルハライド化合物は、市販されているものを用いることができる。
該スルホニルハライド化合物の使用量は、水酸基とアルコキシ基を有するジメチルシクロブタン化合物(1C)の水酸基1molに対して、好ましくは0.7~1000mol、より好ましくは0.8~500mol、更に好ましくは0.9~200molである。
上記のハロゲン化反応は塩基の存在下で行ってもよい。
該塩基としては、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、トリブチルアミン、N,N-ジメチルアニリン、N,N-ジエチルアニリン、ピリジン、4-ジメチルアミノピリジン、イミダゾール、キノリン、ピロリジン、ピペリジン、コリジン、ルチジン、モルホリン、1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]-7-ウンデセン等の有機塩基化合物等を挙げることができる。
該塩基は、1種類又は2種類以上を使用してもよい。また、該塩基は、市販されているものを用いることができる。
該塩基の使用量は、水酸基とアルコキシ基を有するジメチルシクロブタン化合物(1C)の水酸基1molに対して、好ましくは0~1000mol、より好ましくは0~500mol、更に好ましくは0~200molである。
該溶媒は、1種類又は2種類以上を使用してもよい。また、該溶媒は、市販されているものを用いることができる。
該溶媒の使用量は、水酸基とアルコキシ基を有するジメチルシクロブタン化合物(1C)1molに対し、好ましくは10~10,000gである。
ハロゲン化反応における反応時間は、任意に設定できるが、ガスクロマトグラフィー(GC)又はシリカゲル薄層クロマトグラフィー(TLC)で反応を追跡して反応を完結させることが収率の点で望ましく、通常0.5~24時間程度である。
ハロゲン化反応は、上述のハロゲン原子とアルコキシ基を有するジメチルシクロブタン化合物(1G)を得る工程と同じようにして行うことができる。
ホスフィンハロゲン化水素塩としては、トリフェニルホスフィン塩化水素塩、トリフェニルホスフィン臭化水素塩、トリフェニルホスフィンヨウ化水素塩等が挙げられる。
該ホスフィンハロゲン化水素塩の使用量は、2つの水酸基を有するジメチルシクロブタン化合物(1E)1molに対して、好ましくは0.7~10.0mol、より好ましくは0.8~8.0mol、更に好ましくは0.9~6.0molである。
該ホスフィンハロゲン化水素塩は、1種類又は2種類以上を使用してもよい。また、該ホスフィンハロゲン化水素塩は、市販されているものを用いることができる。
ホスホニオ化反応における溶媒としては、ジエチル=エーテル、ジブチル=エーテル、テトラヒドロフラン、1,4-ジオキサン等のエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、ベンゼン、トルエン、キシレン、クメン等の炭化水素類、塩化メチレン、クロロホルム、トリクロロエチレン等の塩素系溶剤類、N,N-ジメチルホルムアミド、1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノン、ジメチル=スルホキシド、ヘキサメチルホスホリック=トリアミド等の非プロトン性極性溶媒類、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル類、酢酸エチル、酢酸n-ブチル等のエステル類、メタノール、エタノール、t-ブチルアルコール等のアルコール類、及び水等が挙げられる。
該溶媒は、1種類又は2種類以上を使用してもよい。また、該溶媒は、市販されているものを用いることができる。
該溶媒の使用量は、2つの水酸基を有するジメチルシクロブタン化合物(1E)1molに対し、好ましくは10~10,000gである。
ホスホニオ化反応における反応時間は、任意に設定できるが、ガスクロマトグラフィー(GC)又はシリカゲル薄層クロマトグラフィー(TLC)で反応を追跡して反応を完結させることが収率の点で望ましく、通常0.5~24時間程度である。
該酸は、1種類又は2種類以上を使用してもよい。また、該酸は、市販されているものを用いることができる。
該酸の使用量は、水酸基とアルコキシ基を有するジメチルシクロブタン化合物(1C)1molに対して、好ましくは0.00001~10,000mol、より好ましくは0.0001~1,000mol、更に好ましくは0.001~100molである。
脱保護反応における溶媒としては、ジエチル=エーテル、ジブチル=エーテル、テトラヒドロフラン、1,4-ジオキサン等のエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、ベンゼン、トルエン、キシレン、クメン等の炭化水素類、塩化メチレン、クロロホルム、トリクロロエチレン等の塩素系溶剤類、N,N-ジメチルホルムアミド、1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノン、ジメチル=スルホキシド、ヘキサメチルホスホリック=トリアミド等の非プロトン性極性溶媒類、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル類、酢酸エチル、酢酸n-ブチル等のエステル類、メタノール、エタノール、t-ブチルアルコール等のアルコール類、及び水等が挙げられる。
該溶媒は、1種類又は2種類以上を使用してもよい。また、該溶媒は、市販されているものを用いることができる。
該溶媒の使用量は、水酸基とアルコキシ基を有するジメチルシクロブタン化合物(1C)1molに対し、好ましくは10~10,000gである。
脱保護反応における反応温度は、好ましくは-78~180℃、より好ましくは-60~160℃、更に好ましくは-40~140℃である。
脱保護反応における反応時間は、任意に設定できるが、ガスクロマトグラフィー(GC)又はシリカゲル薄層クロマトグラフィー(TLC)で反応を追跡して反応を完結させることが収率の点で望ましく、通常0.5~24時間程度である。
ハロゲン化水素化合物としては、塩化水素、臭化水素、ヨウ化水素等が挙げられる。
該ハロゲン化水素化合物は、1種類又は2種類以上を使用してもよい。また、該ハロゲン化水素化合物は、市販されているものを用いることができる。
該ハロゲン化水素化合物の使用量は、2つのアシルオキシ基を有するジメチルシクロブタン化合物(1F)1molに対して、好ましくは0.7~10mol、より好ましくは0.8~8mol、更に好ましくは0.9~6molである。
ハロゲン化反応における溶媒としては、ジエチル=エーテル、ジブチル=エーテル、テトラヒドロフラン、1,4-ジオキサン等のエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、ベンゼン、トルエン、キシレン、クメン等の炭化水素類、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、トリクロロエチレン等の塩素系溶剤類、N,N-ジメチルホルムアミド、1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノン、ジメチル=スルホキシド、ヘキサメチルホスホリック=トリアミド等の非プロトン性極性溶媒類、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル類、酢酸エチル、酢酸n-ブチル等のエステル類、ギ酸、酢酸、プロピオン酸等のカルボン酸類、及び水等が挙げられる。
該溶媒は、1種類又は2種類以上を使用してもよい。また、該溶媒は、市販されているものを用いることができる。
該溶媒の使用量は、2つのアシルオキシ基を有するジメチルシクロブタン化合物(1F)1molに対し、好ましくは10~10,000gである。
ハロゲン化反応における反応時間は、任意に設定できるが、ガスクロマトグラフィー(GC)又はシリカゲル薄層クロマトグラフィー(TLC)で反応を追跡して反応を完結させることが収率の点で望ましく、通常0.5~24時間程度である。
ホスフィン化合物としてはトリフェニルホスフィン等のトリアリールホスフィン化合物、トリオクチルホスフィン等のトリアルキルホスフィン化合物等が挙げられる。
該ホスフィン化合物の使用量は、ハロゲン原子とアルコキシ基を有するジメチルシクロブタン化合物(1G)1molに対して、好ましくは0.7~10.0mol、より好ましくは0.8~8.0mol、更に好ましくは0.9~6.0molである。
ホスホニオ化反応における溶媒としては、ジエチル=エーテル、ジブチル=エーテル、テトラヒドロフラン、1,4-ジオキサン等のエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、ベンゼン、トルエン、キシレン、クメン等の炭化水素類、塩化メチレン、クロロホルム、トリクロロエチレン等の塩素系溶剤類、N,N-ジメチルホルムアミド、1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノン、ジメチル=スルホキシド、ヘキサメチルホスホリック=トリアミド等の非プロトン性極性溶媒類、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル類、酢酸エチル、酢酸n-ブチル等のエステル類、メタノール、エタノール、t-ブチルアルコール等のアルコール類、及び水等が挙げられる。
該溶媒は、1種類又は2種類以上を使用してもよい。また、該溶媒は、市販されているものを用いることができる。
該溶媒の使用量は、ハロゲン原子とアルコキシ基を有するジメチルシクロブタン化合物(1G)1molに対し、好ましくは10~10,000gである。
ホスホニオ化反応における反応温度は、好ましくは-78~180℃、より好ましくは-60~160℃、更に好ましくは-40~140℃である。
ホスホニオ化反応における反応時間は、任意に設定できるが、ガスクロマトグラフィー(GC)又はシリカゲル薄層クロマトグラフィー(TLC)で反応を追跡して反応を完結させることが収率の点で望ましく、通常0.5~24時間程度である。
次に、下記の化学反応式で示される、下記一般式(5)で表されるイソプロペニルジメチルシクロブタン化合物及び/又は下記一般式(6)で表されるイソプロピリデンジメチルシクロブタン化合物の製造方法について説明する。当該製造方法は、上述のジメチルシクロブタン化合物(1)を還元反応に付すことにより、イソプロペニルジメチルシクロブタン化合物(5)及び/又はイソプロピリデンジメチルシクロブタン化合物(6)を得る工程を少なくとも含む(下記の実施例29~42を参照)。
還元反応において、イソプロペニルジメチルシクロブタン化合物(5)のX2が維持される場合にはX2と該反応後のX6は同一となり、一方、X2が維持されない場合にはX2と該反応後のX6は異なる。
還元剤としては、水素、ギ酸、ギ酸ナトリウム、ギ酸アンモニウム、ギ酸トリエチルアンモニウム等のギ酸塩、ボラン、ビス(3-メチル-2-ブチル)ボラン等のアルキルボラン化合物、トリエチルシラン等のアルキルシラン化合物、水素化アルミニウム等の金属水素化物類、水素化ジイソブチルアルミニウム等のアルキル金属水素化物類、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素リチウム、水素化ホウ素カリウム、水素化ホウ素カルシウム、水素化トリメトキシホウ素ナトリウム、水素化トリエチルホウ素リチウム、水素化アルミニウムナトリウム、水素化アルミニウムリチウム、水素化トリメトキシアルミニウムリチウム、水素化ジエトキシアルミニウムリチウム、水素化トリtert-ブトキシアルミニウムリチウム、水素化ビス(2-メトキシエトキシ)アルミニウムナトリウム等の錯体水素化物類及びそれらのアルコキシあるいはアルキル誘導体、2-ニトロベンゼンスルホノヒドラジド、N’-イソプロピリデン-2-ニトロベンゼンスルホノヒドラジド等のジアゼニル化剤等が挙げられる。
該還元剤は、1種類又は2種類以上を使用してもよい。また、該還元剤は、市販されているものを用いることができる。
該還元剤の使用量は、ジメチルシクロブタン化合物(1)1molに対して、ヒドリド換算で、好ましくは0.7~100.0mol、より好ましくは0.8~80.0mol、更に好ましくは0.9~60.0molである。
該金属触媒としては、パラジウム触媒、ニッケル触媒、鉄触媒、コバルト触媒、モリブデン触媒、タングステン触媒、ロジウム触媒、イリジウム触媒等が挙げられ、収率及び選択性の観点から、好ましくはパラジウム触媒である。
パラジウム触媒としては、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム、ビス(ジベンジリデンアセトン)パラジウム等の0価のパラジウム触媒、酢酸パラジウム、ビス(アセタト)ビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム、トリフルオロ酢酸パラジウム、塩化パラジウム、ジクロロビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム、アリルパラジウム=クロリド、アセチルアセトンパラジウム等の2価のパラジウム触媒等が挙げられる。
該金属触媒は、1種類又は2種類以上を使用してもよい。また、該金属触媒は、市販されているものを用いることができる。
該金属触媒の使用量は、ジメチルシクロブタン化合物(1)1molに対して、好ましくは0.0001~1mol、より好ましくは0.0002~0.9mol、更に好ましくは0.0003~0.8molである。
該配位子としては、亜リン酸トリエチル、亜リン酸トリフェニル等の亜リン酸エステル化合物、トリブチルホスフィン、トリシクロへキシルホスフィン、トリオクチルホスフィン、トリフェニルホスフィン、2,2’-ビス(ジフェニルホスフィノ)-1,1’-ビナフチル、2-(ジ-tert-ブチルホスフィノ)ビフェニル等のホスフィン化合物、アセチルアセトン、ジベンジリデンアセトン等のアセトン誘導体、アセトニトリル、ベンゾニトリル等のニトリル化合物、ジメチルイミダゾリジノン、エチレンジアミン、ヘキサメチルホスホリックトリアミド等の窒素含有化合物、1,5-シクロオクタジエン、2,5-ノルボルナジエン等のジエン化合物等が挙げられる。
該配位子は、1種類又は2種類以上を使用してもよい。また、該配位子は、市販されているものを用いることができる。
該配位子の使用量は、金属触媒1molに対して、好ましくは0.001~10,000mol、より好ましくは0.01~1,000mol、更に好ましくは0.1~100molである。
還元剤としてジアゼニル化剤を使用する場合においては、アゾジカルボン酸ジエチル(DEAD)等のアゾジカルボン酸エステル化合物、トリフェニルホスフィン等のホスフィン化合物との光延反応を経て還元反応を行うことができる。
光延反応におけるアゾジカルボン酸エステル化合物の使用量は、ジメチルシクロブタン化合物(1)1molに対して、好ましくは0.7~100.0mol、より好ましくは0.8~80.0mol、更に好ましくは0.9~60.0molである。
光延反応におけるホスフィン化合物の使用量は、ジメチルシクロブタン化合物(1)1molに対して、好ましくは0.7~100.0mol、より好ましくは0.8~80.0mol、更に好ましくは0.9~60.0molである。
該溶媒は、1種類又は2種類以上を使用してもよい。また、該溶媒は、市販されているものを用いることができる。
該溶媒の使用量は、ジメチルシクロブタン化合物(1)1molに対し、好ましくは10~150,000gである。
還元反応の反応時間は、任意に設定できるが、ガスクロマトグラフィー(GC)又はシリカゲル薄層クロマトグラフィー(TLC)で反応を追跡して反応を完結させることが収率の点で望ましく、通常0.5~30時間程度である。
アシルオキシメチル基を有するイソプロペニルジメチルシクロブタン化合物としては、(3-イソプロペニル-2,2-ジメチルシクロブチル)メチル=アセテート、(3-イソプロペニル-2,2-ジメチルシクロブチル)メチル=2-メチルブタノエート、(3-イソプロペニル-2,2-ジメチルシクロブチル)メチル=3-メチル-3-ブテノエート等の(3-イソプロペニル-2,2-ジメチルシクロブチル)メチル=アシレート化合物等が挙げられる。
ハロメチル基を有するイソプロペニルジメチルシクロブタン化合物としては、1-クロロメチル-3-イソプロペニル-2,2-ジメチルシクロブタン等の1-ハロメチル-3-イソプロペニル-2,2-ジメチルシクロブタン化合物が挙げられる。
ヒドロキシメチル基を有するイソプロペニルジメチルシクロブタン化合物としては、(3-イソプロペニル-2,2-ジメチルシクロブチル)メタノール等が挙げられる。
アルカンスルホニルオキシメチル基を有するイソプロペニルジメチルシクロブタン化合物としては(3-イソプロペニル-2,2-ジメチルシクロブチル)メチル=メタンスルホネート等の(3-イソプロペニル-2,2-ジメチルシクロブチル)メチル=アルカンスルホネート化合物が挙げられる。
アルコキシメチル基を有するイソプロペニルジメチルシクロブタン化合物としては、2-[(3-イソプロペニル-2,2-ジメチルシクロブチル)メトキシ]テトラヒドロピラン、(3-イソプロペニル-2,2-ジメチルシクロブチル)メトキシメチルベンゼン等の1-アルコキシメチル-3-イソプロペニル-2,2-ジメチルシクロブタン化合物が挙げられる。
アシルオキシメチル基を有するイソプロピリデンジメチルシクロブタン化合物としては、(3-イソプロピリデン-2,2-ジメチルシクロブチル)メチル=アセテート、(3-イソプロピリデン-2,2-ジメチルシクロブチル)メチル=2-メチルブタノエート、(3-イソプロピリデン-2,2-ジメチルシクロブチル)メチル=3-メチル-2-ブテノエート、(3-イソプロピリデン-2,2-ジメチルシクロブチル)メチル=3-メチル-3-ブテノエート等の(3-イソプロピリデン-2,2-ジメチルシクロブチル)メチル=アシレート化合物等が挙げられる。
ハロメチル基を有するイソプロピリデンジメチルシクロブタン化合物としては、1-クロロメチル-3-イソプロピリデン-2,2-ジメチルシクロブタン等の1-ハロメチル-3-イソプロピリデン-2,2-ジメチルシクロブタン化合物等が挙げられる。
ヒドロキシメチル基を有するイソプロピリデンジメチルシクロブタン化合物としては、(3-イソプロピリデン-2,2-ジメチルシクロブチル)メタノール等が挙げられる。
アルカンスルホニルオキシメチル基を有するイソプロピリデンジメチルシクロブタン化合物としては、アルカンスルホニルオキシメチル基を有するイソプロペニルジメチルシクロブタン化合物としては(3-イソプロピリデン-2,2-ジメチルシクロブチル)メチル=メタンスルホネート等の(3-イソプロピリデン-2,2-ジメチルシクロブチル)メチル=アルカンスルホネート化合物等が挙げられる。
アルコキシメチル基を有するイソプロピリデンジメチルシクロブタン化合物としては、2-[(3-イソプロピリデン-2,2-ジメチルシクロブチル)メトキシ]テトラヒドロピラン、(3-イソプロピリデン-2,2-ジメチルシクロブチル)メトキシメチルベンゼン等の1-アルコキシメチル-3-イソプロピリデン-2,2-ジメチルシクロブタン化合物等が挙げられる。
官能基の変換は、公知の方法により、行うことができる。
カルボン酸塩としては酢酸リチウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、酢酸セシウム、酢酸マグネシウム、酢酸カルシウム等の金属カルボン酸塩、酢酸アンモニウム、テトラブチルアンモニウム=アセテート等のアンモニウム=カルボキシラート等が挙げられる。
該カルボン酸塩は、1種類又は2種類以上を使用してもよい。また、該カルボン酸塩は、市販されているものを用いることができる。
該カルボン酸塩は、カルボン酸と水酸化ナトリウム、炭酸カリウム、水酸化テトラブチルアンモニウム等の塩基とを反応させることにより反応系内で調製してもよい。
該カルボン酸塩の使用量は、ハロメチル基を有するイソプロペニルジメチルシクロブタン化合物(5D)及びイソプロピリデンジメチルシクロブタン化合物(6D)の合計1molに対して、好ましくは0.7~10mol、より好ましくは0.8~8mol、更に好ましくは0.9~6molである。
また、アシルオキシ化反応は、ハロゲン化物の共存下で行われてもよい。
該ハロゲン化物としては、ヨウ化リチウム、ヨウ化ナトリウム、ヨウ化カリウム、ヨウ化セシウム、ヨウ化マグネシウム、ヨウ化カルシウム、臭化リチウム、臭化ナトリウム、臭化カリウム、臭化セシウム、臭化マグネシウム、臭化カルシウム等の金属ハロゲン化物、ヨウ化アンモニウム、臭化アンモニウム、テトラブチルアンモニウム=ヨージド、テトラブチルアンモニウム=ブロミド、テトラブチルアンモニウム=クロリド等のアンモニウム=ハライド化合物等が挙げられる。
該ハロゲン化物は、1種類又は2種類以上を使用してもよい。また、該ハロゲン化物は、市販されているものを用いることができる。
該ハロゲン化物の使用量は、ハロメチル基を有するイソプロペニルジメチルシクロブタン化合物(5D)及びイソプロピリデンジメチルシクロブタン化合物(6D)の合計1molに対して、好ましくは0.0001~10mol、より好ましくは0.0002~8mol、更に好ましくは0.0003~6molである。
アシルオキシ化反応における溶媒としては、ジエチル=エーテル、ジブチル=エーテル、テトラヒドロフラン、1,4-ジオキサン等のエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、ベンゼン、トルエン、キシレン、クメン等の炭化水素類、塩化メチレン、クロロホルム、トリクロロエチレン等の塩素系溶剤類、N,N-ジメチルアセトアミド、N,N-ジメチルホルムアミド、1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノン、ジメチル=スルホキシド、ヘキサメチルホスホリック=トリアミド等の非プロトン性極性溶媒類、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル類、酢酸エチル、酢酸n-ブチル等のエステル類、メタノール、エタノール、t-ブチルアルコール等のアルコール類、及び水等が挙げられる。
該溶媒は、1種類又は2種類以上を使用してもよい。また、該溶媒は、市販されているものを用いることができる。
該溶媒の使用量は、ハロメチル基を有するイソプロペニルジメチルシクロブタン化合物(5D)及びイソプロピリデンジメチルシクロブタン化合物(6D)の合計1molに対し、好ましくは10~10,000gである。
アシルオキシ化反応における反応時間は、任意に設定できるが、ガスクロマトグラフィー(GC)又はシリカゲル薄層クロマトグラフィー(TLC)で反応を追跡して反応を完結させることが収率の点で望ましく、通常0.5~24時間程度である。
アシル化剤としては、無水酢酸等の酸無水物、塩化アセチル等の酸塩化物等が挙げられる。
該アシル化剤は、1種類又は2種類以上を使用してもよい。また、該アシル化剤は、市販されているものを用いることができる。
該アシル化剤の使用量は、ヒドロキシメチル基を有するイソプロペニルジメチルシクロブタン化合物(5B)及びイソプロピリデンジメチルシクロブタン化合物(6B)の合計1molに対して、好ましくは0.7~100mol、より好ましくは0.8~50mol、更に好ましくは0.9~20molである。
アシル化反応に用いる塩基としては、ナトリウム=メトキシド、ナトリウム=エトキシド、ナトリウム=t-ブトキシド、ナトリウム=t-アミロキシド、リチウム=メトキシド、リチウム=エトキシド、リチウム=t-ブトキシド、リチウム=t-アミロキシド、カリウム=メトキシド、カリウム=エトキシド、カリウム=t-ブトキシド、カリウム=t-アミロキシド等のアルコキシド類、メチルリチウム、エチルリチウム、n-ブチルリチウム、塩化メチルマグネシウム、ジムシルナトリウム等の有機金属化合物、ナトリウム=アミド、リチウム=アミド、リチウム=ジイソプロピルアミド、リチウム=ヘキサメチルジシラジド、ナトリウム=ヘキサメチルジシラジド、カリウム=ヘキサメチルジシラジド、リチウム=ジシクロヘキシルアミド等の金属アミド類、水素化ナトリウム、水素化カリウム、水素化カルシウム等の水素化金属類、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、トリブチルアミン、N,N-ジメチルアニリン、N,N-ジエチルアニリン、ピリジン、4-ジメチルアミノピリジン、イミダゾール、キノリン、ピロリジン、ピペリジン、コリジン、ルチジン、モルホリン、1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]-7-ウンデセン等の有機塩基化合物等を挙げることができる。
該塩基は、1種類又は2種類以上を使用してもよい。また、該塩基は、市販されているものを用いることができる。
該塩基の使用量は、ヒドロキシメチル基を有するイソプロペニルジメチルシクロブタン化合物(5B)及びイソプロピリデンジメチルシクロブタン化合物(6B)の合計1molに対して、好ましくは0.7~100mol、より好ましくは0.8~50mol、更に好ましくは0.9~20molである。
アシル化反応における溶媒としては、ジエチル=エーテル、ジブチル=エーテル、テトラヒドロフラン、1,4-ジオキサン等のエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、ベンゼン、トルエン、キシレン、クメン等の炭化水素類、塩化メチレン、クロロホルム、トリクロロエチレン等の塩素系溶剤類、N,N-ジメチルホルムアミド、1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノン、ジメチル=スルホキシド、ヘキサメチルホスホリック=トリアミド等の非プロトン性極性溶媒類、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル類、酢酸エチル、酢酸n-ブチル等のエステル類、及び水等が挙げられる。
該溶媒は、1種類又は2種類以上を使用してもよい。また、該溶媒は、市販されているものを用いることができる。
該溶媒の使用量は、ヒドロキシメチル基を有するイソプロペニルジメチルシクロブタン化合物(5B)及びイソプロピリデンジメチルシクロブタン化合物(6B)の合計1molに対し、好ましくは10~15,000gである。
アシル化反応における反応温度は、好ましくは-78~180℃、より好ましくは-60~160℃、更に好ましくは-40~140℃である。
アシル化反応における反応時間は、任意に設定できるが、ガスクロマトグラフィー(GC)又はシリカゲル薄層クロマトグラフィー(TLC)で反応を追跡して反応を完結させることが収率の点で望ましく、通常0.5~24時間程度である。
X11は、炭素数1~10のアルカンスルホニルオキシ基を表す。炭素数1~10のアルカンスルホニルオキシ基としては、上記のX1及びX2が炭素数1~10のアルカンスルホニルオキシ基である場合に例示した上記基が挙げられる。
アルカンスルホニル化剤としては、メタンスルホン酸無水物等のアルカンスルホン酸無水物、塩化メタンスルホニル等のアルカンスルホン酸塩化物等が挙げられる。
該アルカンスルホニル化剤は、1種類又は2種類以上を使用してもよい。また、該アルカンスルホニル化剤は、市販されているものを用いることができる。
該アルカンスルホニル化剤の使用量は、ヒドロキシメチル基を有するイソプロペニルジメチルシクロブタン化合物(5B)及びイソプロピリデンジメチルシクロブタン化合物(6B)の合計1molに対して、好ましくは0.7~100mol、より好ましくは0.8~50mol、更に好ましくは0.9~20molである。
アルカンスルホニル化反応に用いる塩基としては、ナトリウム=メトキシド、ナトリウム=エトキシド、ナトリウム=t-ブトキシド、ナトリウム=t-アミロキシド、リチウム=メトキシド、リチウム=エトキシド、リチウム=t-ブトキシド、リチウム=t-アミロキシド、カリウム=メトキシド、カリウム=エトキシド、カリウム=t-ブトキシド、カリウム=t-アミロキシド等のアルコキシド類、メチルリチウム、エチルリチウム、n-ブチルリチウム、塩化メチルマグネシウム、ジムシルナトリウム等の有機金属化合物、ナトリウム=アミド、リチウム=アミド、リチウム=ジイソプロピルアミド、リチウム=ヘキサメチルジシラジド、ナトリウム=ヘキサメチルジシラジド、カリウム=ヘキサメチルジシラジド、リチウム=ジシクロヘキシルアミド等の金属アミド類、水素化ナトリウム、水素化カリウム、水素化カルシウム等の水素化金属類、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、トリブチルアミン、N,N-ジメチルアニリン、N,N-ジエチルアニリン、ピリジン、4-ジメチルアミノピリジン、イミダゾール、キノリン、ピロリジン、ピペリジン、コリジン、ルチジン、モルホリン、1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]-7-ウンデセン等の有機塩基化合物等を挙げることができる。
該塩基は、1種類又は2種類以上を使用してもよい。また、該塩基は、市販されているものを用いることができる。
該塩基の使用量は、ヒドロキシメチル基を有するイソプロペニルジメチルシクロブタン化合物(5B)及びイソプロピリデンジメチルシクロブタン化合物(6B)の合計1molに対して、好ましくは0.7~100mol、より好ましくは0.8~50mol、更に好ましくは0.9~20molである。
アルカンスルホニル化反応における溶媒としては、ジエチル=エーテル、ジブチル=エーテル、テトラヒドロフラン、1,4-ジオキサン等のエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、ベンゼン、トルエン、キシレン、クメン等の炭化水素類、塩化メチレン、クロロホルム、トリクロロエチレン等の塩素系溶剤類、N,N-ジメチルホルムアミド、1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノン、ジメチル=スルホキシド、ヘキサメチルホスホリック=トリアミド等の非プロトン性極性溶媒類、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル類、酢酸エチル、酢酸n-ブチル等のエステル類、及び水等が挙げられる。
該溶媒は、1種類又は2種類以上を使用してもよい。また、該溶媒は、市販されているものを用いることができる。
該溶媒の使用量は、ヒドロキシメチル基を有するイソプロペニルジメチルシクロブタン化合物(5B)及びはイソプロピリデンジメチルシクロブタン化合物(6B)の合計1molに対し、好ましくは10~10,000gである。
アルカンスルホニル化反応における反応温度は、好ましくは-78~180℃、より好ましくは-60~160℃、更に好ましくは-40~140℃である。
アルカンスルホニル化反応における反応時間は、任意に設定できるが、ガスクロマトグラフィー(GC)又はシリカゲル薄層クロマトグラフィー(TLC)で反応を追跡して反応を完結させることが収率の点で望ましく、通常0.5~24時間程度である。
カルボン酸塩としてはとしては3-メチル-2-ブテン酸リチウム、3-メチル-2-ブテン酸ナトリウム、3-メチル-2-ブテン酸カリウム、3-メチル-2-ブテン酸セシウム等の3-メチル-2-ブテン酸アルカリ金属塩、3-メチル-2-ブテン酸マグネシウム、3-メチル-2-ブテン酸カルシウム等の3-メチル-2-ブテン酸アルカリ土類金属塩、3-メチル-2-ブテン酸アンモニウム、テトラブチルアンモニウム=3-メチル-2-ブテノエート等のアンモニウム=カルボキシラート等が挙げられる。
該カルボン酸塩は、1種類又は2種類以上を使用してもよい。また、該カルボン酸塩は、市販されているものを用いることができる。
該カルボン酸塩はカルボン酸と水酸化ナトリウム、炭酸カリウム、水酸化テトラブチルアンモニウム等の塩基と系内で調製してもよい。
該カルボン酸塩の使用量は、アルカンスルホニルオキシメチル基を有するイソプロペニルジメチルシクロブタン化合物(5G)及びイソプロピリデンジメチルシクロブタン化合物(6G)の合計1molに対して、好ましくは0.7~10mol、より好ましくは0.8~8mol、更に好ましくは0.9~6molである。
また、アシルオキシ化反応は、ハロゲン化物の共存下で行われてもよい。
該ハロゲン化物としては、ヨウ化リチウム、ヨウ化ナトリウム、ヨウ化カリウム、ヨウ化セシウム、ヨウ化マグネシウム、ヨウ化カルシウム、臭化リチウム、臭化ナトリウム、臭化カリウム、臭化セシウム、臭化マグネシウム、臭化カルシウム等の金属ハロゲン化物、ヨウ化アンモニウム、臭化アンモニウム、テトラブチルアンモニウム=ヨージド、テトラブチルアンモニウム=ブロミド、テトラブチルアンモニウム=クロリド等のアンモニウム=ハライド化合物等が挙げられる。
該ハロゲン化物は、1種類又は2種類以上を使用してもよい。また、該ハロゲン化物は、市販されているものを用いることができる。
該ハロゲン化物の使用量は、アルカンスルホニルオキシメチル基を有するイソプロペニルジメチルシクロブタン化合物(5G)及びイソプロピリデンジメチルシクロブタン化合物(6G)の合計1molに対して、好ましくは0.0001~10mol、より好ましくは0.0002~8mol、更に好ましくは0.0003~6molである。
アシルオキシ化反応における溶媒としては、ジエチル=エーテル、ジブチル=エーテル、テトラヒドロフラン、1,4-ジオキサン等のエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、ベンゼン、トルエン、キシレン、クメン等の炭化水素類、塩化メチレン、クロロホルム、トリクロロエチレン等の塩素系溶剤類、N,N-ジメチルホルムアミド、1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノン、ジメチル=スルホキシド、ヘキサメチルホスホリック=トリアミド等の非プロトン性極性溶媒類、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル類、酢酸エチル、酢酸n-ブチル等のエステル類、メタノール、エタノール、t-ブチルアルコール等のアルコール類、及び水等が挙げられる。
該溶媒は、1種類又は2種類以上を使用してもよい。また、該溶媒は、市販されているものを用いることができる。
該溶媒の使用量は、アルカンスルホニルオキシメチル基を有するイソプロペニルジメチルシクロブタン化合物(5G)及び/又はイソプロピリデンジメチルシクロブタン化合物(6G)1molに対し、好ましくは10~10,000gである。
アシルオキシ化反応における反応温度は、好ましくは-78~180℃、より好ましくは-60~160℃、更に好ましくは-40~140℃である。
アシルオキシ化反応における反応時間は、任意に設定できるが、ガスクロマトグラフィー(GC)又はシリカゲル薄層クロマトグラフィー(TLC)で反応を追跡して反応を完結させることが収率の点で望ましく、通常0.5~24時間程度である。
酸としては、塩酸、臭化水素酸、ヨウ化水素酸、硫酸、硝酸、リン酸等の無機酸類またはこれらの塩類、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、シュウ酸、トリフルオロ酢酸、メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、p-トルエンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸等の有機酸類またはこれらの塩類、テトラフルオロホウ酸リチウム、三フッ化ホウ素、三塩化ホウ素、三臭化ホウ素、三塩化アルミニウム、塩化亜鉛、臭化亜鉛、ヨウ化亜鉛、四塩化錫、四臭化錫、二塩化錫、四塩化チタン、四臭化チタン、トリメチルヨードシラン等のルイス酸類、アルミナ、シリカゲル、チタニア等の酸化物、モンモリロナイト等の鉱物等が挙げられる。
該酸は、1種類又は2種類以上を使用してもよい。また、該酸は、市販されているものを用いることができる。
該酸の使用量は、アルコキシメチル基を有するイソプロペニルジメチルシクロブタン化合物(5A)及びイソプロピリデンジメチルシクロブタン化合物(6A)の合計1molに対して、好ましくは0.00001~10,000mol、より好ましくは0.0001~1,000mol、更に好ましくは0.001~100molである。
脱保護反応における溶媒としては、ジエチル=エーテル、ジブチル=エーテル、テトラヒドロフラン、1,4-ジオキサン等のエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、ベンゼン、トルエン、キシレン、クメン等の炭化水素類、塩化メチレン、クロロホルム、トリクロロエチレン等の塩素系溶剤類、N,N-ジメチルホルムアミド、1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノン、ジメチル=スルホキシド、ヘキサメチルホスホリック=トリアミド等の非プロトン性極性溶媒類、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル類、酢酸エチル、酢酸n-ブチル等のエステル類、メタノール、エタノール、t-ブチルアルコール等のアルコール類、及び水等が挙げられる。
該溶媒は、1種類又は2種類以上を使用してもよい。また、該溶媒は、市販されているものを用いることができる。
該溶媒の使用量は、アルコキシメチル基を有するイソプロペニルジメチルシクロブタン化合物(5A)及びイソプロピリデンジメチルシクロブタン化合物(6A)の合計1molに対し、好ましくは10~10,000gである。
脱保護反応における反応温度は、好ましくは-78~180℃、より好ましくは-60~160℃、更に好ましくは-40~140℃である。
脱保護反応における反応時間は、任意に設定できるが、ガスクロマトグラフィー(GC)又はシリカゲル薄層クロマトグラフィー(TLC)で反応を追跡して反応を完結させることが収率の点で望ましく、通常0.5~24時間程度である。
脱保護反応に用いる塩基としては、アンモニア、ヒドラジン等の窒素化合物、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の金属炭酸塩、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の金属水酸化物、ナトリウム=メトキシド、ナトリウム=エトキシド、ナトリウム=t-ブトキシド、ナトリウム=t-アミロキシド、リチウム=メトキシド、リチウム=エトキシド、リチウム=t-ブトキシド、リチウム=t-アミロキシド、カリウム=メトキシド、カリウム=エトキシド、カリウム=t-ブトキシド、カリウム=t-アミロキシド等のアルコキシド類、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、トリブチルアミン、N,N-ジメチルアニリン、N,N-ジエチルアニリン、ピリジン、4-ジメチルアミノピリジン、イミダゾール、キノリン、ピロリジン、ピペリジン、コリジン、ルチジン、モルホリン、1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]-7-ウンデセン等の有機塩基化合物等を挙げることができる。
該塩基は、1種類又は2種類以上を使用してもよい。また、該塩基は、市販されているものを用いることができる。
該塩基の使用量は、アシルオキシメチル基を有するイソプロペニルジメチルシクロブタン化合物(5C)及びイソプロピリデンジメチルシクロブタン化合物(6C)の合計1molに対して、好ましくは0.00001~10,000mol、より好ましくは0.0001~1,000mol、更に好ましくは0.001~100molである。
脱保護反応における溶媒としては、ジエチル=エーテル、ジブチル=エーテル、テトラヒドロフラン、1,4-ジオキサン等のエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、ベンゼン、トルエン、キシレン、クメン等の炭化水素類、塩化メチレン、クロロホルム、トリクロロエチレン等の塩素系溶剤類、N,N-ジメチルホルムアミド、1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノン、ジメチル=スルホキシド、ヘキサメチルホスホリック=トリアミド等の非プロトン性極性溶媒類、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル類、メタノール、エタノール、t-ブチルアルコール等のアルコール類、及び水等が挙げられる。
該溶媒は、1種類又は2種類以上を使用してもよい。また、該溶媒は、市販されているものを用いることができる。
該溶媒の使用量は、アシルオキシメチル基を有するイソプロペニルジメチルシクロブタン化合物(5C)及びイソプロピリデンジメチルシクロブタン化合物(6C)の合計1molに対し、好ましくは10~10,000gである。
脱保護反応における反応温度は、好ましくは-78~180℃、より好ましくは-60~160℃、更に好ましくは-40~140℃である。
脱保護反応における反応時間は、任意に設定できるが、ガスクロマトグラフィー(GC)又はシリカゲル薄層クロマトグラフィー(TLC)で反応を追跡して反応を完結させることが収率の点で望ましく、通常0.5~24時間程度である。
当該性フェロモン組成物は、Planococcus citriの性フェロモン物質である(1R,3R)-(3-イソプロペニル-2,2-ジメチルシクロブチル)メチル=アセテートを少なくとも含む。同じくcis-体である鏡像体(1S,3S)-(3-イソプロペニル-2,2-ジメチルシクロブチル)メチル=アセテートについては、性フェロモン物質ではないものの、誘引を阻害しないことが報告されている(J. Econ. Entomol.97,361(2004))。そのため、上記cis-体は、当該性フェロモン組成物に含まれてもよく、例えば、cis-(3-イソプロペニル-2,2-ジメチルシクロブチル)メチル=アセテートのラセミ体及びスカレミック混合物を利用することができる。
また、当該フェロモン組成物は、trans-体である(1S,3R)-(3-イソプロペニル-2,2-ジメチルシクロブチル)メチル=アセテート、及び/又は(1R,3S)-(3-イソプロペニル-2,2-ジメチルシクロブチル)メチル=アセテート、を含んでいてもよく、さらに必要に応じて、(3-イソプロピリデン-2,2-ジメチルシクロブチル)メチル=アセテート(6;X6は、アセトキシ基)の立体異性体である、(R)-(3-イソプロピリデン-2,2-ジメチルシクロブチル)メチル=アセテート、及び/又は(S)-(3-イソプロピリデン-2,2-ジメチルシクロブチル)メチル=アセテートを含んでいてもよい。
フェロモン組成物における(1S,3R)-(3-イソプロペニル-2,2-ジメチルシクロブチル)メチル=アセテートの含有量としては、(1R,3R)-(3-イソプロペニル-2,2-ジメチルシクロブチル)メチル=アセテート100重量部に対して、4~97重量部である。
フェロモン組成物における(1R,3S)-(3-イソプロペニル-2,2-ジメチルシクロブチル)メチル=アセテートの含有量としては、(1R,3R)-(3-イソプロペニル-2,2-ジメチルシクロブチル)メチル=アセテート100重量部に対して、4~97重量部である。
フェロモン組成物における(R)-(3-イソプロピリデン-2,2-ジメチルシクロブチル)メチル=アセテートの含有量としては、(1R,3R)-(3-イソプロペニル-2,2-ジメチルシクロブチル)メチル=アセテート100重量部に対して、0.1~97部である。
フェロモン組成物における(S)-(3-イソプロピリデン-2,2-ジメチルシクロブチル)メチル=アセテートの含有量としては、(1R,3R)-(3-イソプロペニル-2,2-ジメチルシクロブチル)メチル=アセテート100重量部に対して、0.1~97重量部である。
性フェロモン組成物中におけるそれぞれの添加剤の添加量は、例えば、(1R,3R)-(3-イソプロペニル-2,2-ジメチルシクロブチル)メチル=アセテート100重量部に対して、安定剤は好ましくは1~15重量部であり、酸化防止剤は好ましくは1~15重量部であり、紫外線吸収剤は好ましくは1~15重量部である。
担持体としては、性フェロモン組成物を安定に保持可能で、少なくとも性フェロモン物質を一定期間放出できるものであれば特に限定されないが、セプタム、キャップ及び鉱物等が挙げられる。
高分子としては、性フェロモン物質等が透過し、適度な速度で高分子膜の外に放出させることが出来れば特に限定されないが、例えば、cis-ポリイソプレンに例示される天然ゴム、イソプレンゴムやブタジエンゴムに例示される合成ゴム、ポリエチレンやポリプロピレンに例示されるポリオレフィン、エチレン-酢酸ビニル共重合体やエチレン-アクリル酸エステル共重合体に例示されるエチレンを80重量%以上含む共重合体、生分解性のポリエステル及び塩化ビニル等が挙げられる。
担持体を少なくとも備える誘引剤は、例えば担持体への練り込みや含浸等、周知の技術で製造することができる。
誘引剤の圃場への設置は、特に限定されないが、例えば誘引剤の設置密度としては、誘引を行う圃場内に均一に好ましくは0.1~100箇所/ha、より好ましくは1~50箇所/haである。
Planococcus citriの性フェロモン組成物の性フェロモン物質の圃場への放出期間は、該害虫の誘引ができれば特に限定されない。
一つの放出箇所からの放出量は、圃場環境や気象条件等によって一概には言えないが、好ましくは0.01~100μg/日/haである。
以下、実施例を示して、本発明を更に具体的に説明するが、本発明は下記の実施例に限定されるものではない。
化合物のスペクトル測定のためのサンプルは、場合により粗生成物を精製して得たものである。
なお、粗収率とは、精製を行わずに算出した収率をいう。
3-(1-エトキシエトキシ)メチル-2,2-ジメチルシクロブタノンの製造
IR(D-ATR):νmax=2973,2932,2871,1779,1463,1446,1380,1341,1268,1133,1087,1062,986,946,869cm-1。
1H-NMR(500MHz,CDCl3):δ=1.11(1.5H,s),1.12(1.5H,s),1.19(3H,t,J=7.1Hz),1.210(1.5H,s),1.211(1.5H,s),1.29(3H,d,J=5.4Hz),2.27-2.34(1H,m),2.74(0.5H,dd,J=1.4,17.6Hz),2.75(0.5H,dd,J=1.3,17.6Hz),3.10(0.5H,dd,J=2.9,17.6Hz),3.12(0.5H,dd,J=3.0,17.6Hz),3.42-3.76(4H,m),4.66-4.70(1H,m)ppm。
13C-NMR(150MHz,CDCl3):δ=15.23,15.25,16.69,16.72,19.64,19.70,23.99,24.03,35.62,35.65,45.77,60.67,60.74,60.93,65.08,65.55,99.58,99.75,214.27,214.29ppm。
3-(1-アリルオキシエトキシ)メチル-2,2-ジメチルシクロブタノンの製造
IR(D-ATR):νmax=3081,2963,2930,2869,1779,1647,1463,1383,1344,1267,1132,1098,1066,1040,993,923cm-1。
1H-NMR(500MHz,CDCl3):δ=1.11(1.5H,s),1.12(1.5H,s),1.212(1.5H,s),1.214(1.5H,s),1.31(3H,d,J=5.4Hz),2.28-2.34(1H,m),2.75(0.5H,dd,J=1.5,17.6Hz),2.76(0.5H,dd,J=1.5,17.6Hz),3.10(0.5H,dd,J=3.0,17.6Hz),3.12(0.5H,dd,J=3.3,17.6Hz),3.51(0.5H,dd,J=6.7,9.8Hz),3.56(0.5H,dd,J=7.5,9.8Hz),3.69(0.5H,dd,J=6.8,9.8Hz),3.74(0.5H,dd,J=7.6,9.8Hz),3.96-4.00(1H,m),4.06-4.11(1H,m),4.72-4.76(1H,m),5.13-5.17(1H,m),5.24-5.29(1H,m),5.85-5.93(1H,m)ppm。
13C-NMR(150MHz,CDCl3):δ=16.72,16.74,19.53,19.60,23.98,24.01,35.60,35.62,45.76,60.68,65.04,65.49,66.09,66.26,99.21,99.40,116.65,134.53,134.55,214.20,214.22ppm。
2,2-ジメチル-3-(テトラヒドロピラン-2-イルオキシメチル)シクロブタノンの製造
1H-NMR(500MHz,CDCl3):δ=1.12(1.5H,s),1.14(1.5H,s),1.212(1.5H,s),1.214(1.5H,s),1.46-1.64(4H,m),1.65-1.72(1H,m),1.72-1.84(1H,m),2.30-2.38(1H,m),2.77(0.5H,dd,J=6.9,17.6Hz),2.80(0.5H,dd,J=6.9,17.6Hz),3.10(0.5H,dd,J=1.6,17.6Hz),3.12(0.5H,dd,J=1.6,17.6Hz),3.44-3.54(2H,m),3.79-3.85(1H,m),3.87(0.5H,dd,J=6.7,10.3Hz),3.93(0.5H,dd,J=7.2,10.3Hz),4.57-4.62(1H,m)ppm。
3-アリルオキシメチル-2,2-ジメチルシクロブタノンの製造
IR(D-ATR):νmax=3534,3081,2963,2929,2866,1779,1647,1463,1400,1381,1363,1328,1264,1090,1066,994,926,561cm-1。
1H-NMR(500MHz,CDCl3):δ=1.12(3H,s),1.21(3H,s),2.30-2.37(1H,m),2.75(1H,dd,J=6.8,17.6Hz),3.10(1H,dd,J=9.2,17.6Hz),3.52(1H,dd,J=6.5,9.6Hz),3.58(1H,dd,J=7.6,9.6Hz),3.93-4.01(2H,m),5.15-5.19(1H,m),5.23-5.28(1H,m),5.84-5.93(1H,m)ppm。
13C-NMR(150MHz,CDCl3):16.65,23.99,35.60,45.60,60.78,70.43,72.01,116.98,134.56,214.27ppm。
エチル=2-(3-ベンジルオキシメチル-2,2-ジメチルシクロブチリデン)プロパノエートの製造
1H-NMR(500MHz,CDCl3):δ=1.22-1.35(9H,m),1.67-1.69,1.77-1.80(3H,m),2.27-3.16(3H,m),3.45-3.50(1H,m),3.57-3.65(1H,m),4.10-4.25(2H,m),4.47-4.44(2H,m),7.26-7.38(5H,m)ppm。
エチル=2-(3-メトキシメトキシメチル-2,2-ジメチルシクロブチリデン)プロパノエートの製造
1H-NMR(500MHz,CDCl3):δ=1.20-1.33(9H,m),1.67,1.78(3H,t,J=1.1Hz,t,J=2.1Hz),2.21-2.38(2H,m),2.58-2.65,2.73-2.80(1H,m),3.36(3H,s),3.47-3.58(1H,m),3.63-3.76(1H,m),4.11-4.23(2H,m),4.60,4.68(2H,m)ppm。
エチル=2-[2,2-ジメチル-3-(テトラヒドロピラン-2-イルオキシメチル)シクロブチリデン]プロパノエートの製造
1H-NMR(500MHz,CDCl3):δ=1.20-1.35(9H,m),1.45-1.92(9H,m),2.22-2.38,2.59-2.66,2.72-2.80,3.06-3.14,3.34-3.40,3.44-3.54,3.74-3.80,3.82-3.91,4.10-4.20,4.55-4.59,4.93-4.96(10H,m)ppm。
エチル=2-(3-ヒドロキシメチル-2,2-ジメチルシクロブチリデン)プロパノエートの製造
IR(D-ATR):νmax=3433,2958,2928,2869,1702,1448,1417,1366,1304,1281,1254,1148,1096,1065,1039,905,864,772cm-1。
1H-NMR(500MHz,CDCl3):δ=1.23-1.31(9H,m),1.32(3H,s),1.33(3H,s),1.67,1.77(3H,t,J=1.5Hz,t,J=2.1Hz),1.72(1H,brs),2.13-2.22(1H,m),2.28-2.34,2.56-2.63(1H,m),2.71-2.78,3.04-3.12(1H,m),3.61-3.68(1H,m),3.75-3.82(1H,m),4.07-4.21(2H,m)ppm。
エチル=2-(3-アセトキシメチル-2,2-ジメチルシクロブチリデン)プロパノエートの製造
1H-NMR(500MHz,CDCl3):δ=1.10(3H,s),1.25(3H,s),1.28(3H,t,J=7.1Hz),1.84-1.86(3H,m),1.92-1.94(3H,m),2.19-2.23(2H,m),2.32-2.40(1H,m),3.86(1H,t,J=9.4Hz),4.17(2H,q,J=7.1Hz),4.26(1H,dd,J=7.3,9.2
Hz)ppm。
13C-NMR(150MHz,CDCl3):δ=14.17,15.62,18.22,20.91,23.31,32.72,41.46,44.52,60.29,69.28,125.29,140.83,169.34,181.76ppm。
1H-NMR(500MHz,CDCl3):δ=1.07(3H,s),1.23(3H,s),1.27(3H,t,J=7.1Hz),1.76-1.78(3H,m),1.84(3H,brs),2.27-2.31(1H,m),2.33-2.40(1H,m),2.69(1H,dd,J=10.9,12.8Hz),4.03(1H,t,J=9.8Hz),4.13-4.19(3H,m)ppm。
13C-NMR(150MHz,CDCl3):δ=14.23,15.97,18.11,20.18,23.20,32.65,41.44,44.81,60.29,69.43,125.54,141.95,168.99,182.26ppm。
エチル=2-[3-(1-エトキシエトキシ)メチル-2,2-ジメチルシクロブチリデン]プロパノエートの製造
IR(D-ATR):νmax=2977,2930,2870,1780,1704,1669,1460,1381,1366,1304,1281,1254,1137,1097,1059,1043,982,947,930,874,766cm-1。
1H-NMR(500MHz,CDCl3):δ=1.17-1.34(15H,m),1.67(0.9H,t,J=1.5Hz),1.77(2.1H,t,J=1.9Hz),2.11-2.34(1.3H,m),2.54-2.70(0.7H,m),2.72-2.79(0.3H,m),3.00-3.13(0.7H,m),3.37-3.70(4H,m),4.00-4.22(2H,m),4.63-4.69(1H,m)ppm。
2-(3-ベンジルオキシメチル-2,2-ジメチルシクロブチリデン)プロパン-1-オールの製造
1H-NMR(500MHz,CDCl3):δ=1.17(3H,s),1.29,1.30(3H,s),1.48(1H,brs),1.56-1.58,1.67-1.69(3H,m),2.15-2.38(2H,m),2.60-2.75(1H,m),3.40-3.50(1H,m),3.58(1H,dd,J=8.0,9.6Hz),3.90,4.01(1H,d,J=11.4Hz,d,J=11.5Hz),3.92,4.05(1H,d,J=11.4Hz,d,J=11.5Hz),4.43-4.53(2H,m),7.26-7.38(5H,m)ppm。
2-(3-メトキシメトキシメチル-2,2-ジメチルシクロブチリデン)プロパン-1-オールの製造
1H-NMR(500MHz,CDCl3):δ=1.16(3H,s),1.27(3H,s),1.51(1H,brs),1.55-1.56,1.65-1.67(3H,m),2.14-2.25(2H,m),2.59-2.72(1H,m),3.35(3H,s),3.45-3.57(1H,m),3.61-3.68(1H,m),3.90,4.00(1H,d,J=3.8Hz,d,J=8.0Hz),4.59,4.67(2H,s)ppm。
2-[2,2-ジメチル-3-(テトラヒドロピラン-2-イルオキシメチル)シクロブチリデン]プロパン-1-オールの製造
1H-NMR(500MHz,CDCl3):δ=1.15,1.18,1.19(3H,s,s,s),1.27(3H,s),1.40-1.85(10H,m),2.09-2.28(2H,m),2.58-2.73(1H,m),3.32-3.37(2H,m),3.71-3.78,3.82-3.93,3.98-4.60(4H,m),4.53-4.59(4H,m)ppm。
2-(3-ヒドロキシメチル-2,2-ジメチルシクロブチリデン)プロパン-1-オールの製造
IR(D-ATR):νmax=3322,2955,2922,2864,1703,1459,1382,1361,1311,1276,1224,1167,1101,1053,1031,1005,942,886cm-1。
1H-NMR(500MHz,CDCl3):δ=1.18(3H,s),1.28(3H,s),1.66(3H,t,J=1.9Hz),1.76(2H,brs),2.06-2.13(1H,m),2.19-2.26(1H,m),2.66-2.72(1H,m),3.61(1H,dd,J=7.2,10.7Hz),3.75(1H,dd,J=7.6,10.7Hz),3.89(2H,brs)ppm。
13C-NMR(150MHz,CDCl3):δ=14.19,20.51,27.54,28.24,42.71,44.40,63.78,63.88,125.64,142.47ppm。
IR(D-ATR):νmax=3329,2954,2925,2865,1702,1445,1374,1362,1312,1272,1249,1166,1121,1066,1026,1003,888cm-1。
1H-NMR(500MHz,CDCl3):δ=1.18(3H,s),1.28(3H,s),1.56(3H,t,J=1.3Hz),1.57(2H,brs),2.07-2.23(2H,m),2.59-2.65(1H,m),3.62(1H,dd,J=6.8,10.7Hz),3.76(1H,dd,J=7.6,10.7Hz),3.98-4.05(2H,m)ppm。
13C-NMR(150MHz,CDCl3):δ=15.07,21.90,27.63,29.56,42.49,44.58,62.51,63.97,126.32,143.79ppm。
2-(3-ヒドロキシメチル-2,2-ジメチルシクロブチリデン)プロパン-1-オールの製造
2-[3-(1-エトキシエトキシ)メチル-2,2-ジメチルシクロブチリデン]プロパン-1-オールの製造
IR(D-ATR):νmax=3404,2956,2923,2866,1459,1445,1380,1361,1342,1275,1223,1133,1087,1058,1001,945,930,875cm-1。
1H-NMR(500MHz,CDCl3):δ=1.14-1.24(6H,m),1.24-1.35(6H,m),1.60(1H,s),1.62-1.67(3H,m),2.07-2.26(2H,m),2.66-2.71(1H,m),3.34-3.92(6H,m),4.61-4.69(1H,m)ppm。
IR(D-ATR):νmax=3416,2957,2926,2866,1458,1445,1379,1362,1342,1223,1133,1087,1058,1038,1002,930,875cm-1。
1H-NMR(500MHz,CDCl3):δ=1.14-1.24(6H,m),1.24-1.34(6H,m),1.50(1H,s),1.52-1.56(3H,m),2.07-2.28(2H,m),2.59-2.67(1H,m),3.35-4.05(6H,m),4.60-4.78(1H,m)ppm。
[3-(2-クロロ-1-メチルエチリデン)-2,2-ジメチルシクロブチル]メトキシメチルベンゼンの製造
1H-NMR(500MHz,CDCl3):δ=1.21(3H,s),1.33(3H,s),1.59-1.61(3H,m),2.17-2.33(2H,m),2.63-2.69(1H,m),3.47(1H,dd,J=6.5,9.5Hz),3.58(1H,dd,J=8.0,9.5Hz),4.00-4.08(2H,m),4.51(2H,s),7.26-7.38(5H,m)ppm。
[3-(2-ブロモ-1-メチルエチリデン)-2,2-ジメチルシクロブチル]メトキシメチルベンゼンの製造
1H-NMR(500MHz,CDCl3):δ=1.17,1.22(3H,s,s),1.28,1.34(3H,s,s),1.61,1.72(3H,t,J=1.5Hz,t,J=1.9Hz),2.16-2.33(2H,m),2.64,2.67-2.73(1H,dd,J=8.8,16.0Hz,m),3.47(1H,dd,J=6.9,9.6Hz),3.59(1H,dd,J=8.2,9.4Hz),3.86,3.99(2H,s,s),4.51(2H,s)ppm。
2-(3-ベンジルオキシメチル-2,2-ジメチルシクロブチリデン)プロピル(トリフェニル)ホスホニウム=ブロミド
1H-NMR(500MHz,CD3CN):δ=0.69,1.06(3H,s,s),0.86,1.17(3H,s,s),1.28-1.31,1.43-1.46(3H,m),2.00-2.25(2H,m),2.58-2.67(1H,m),3.16,3.30(1H,dd,J=6.5,9.6Hz,dd,J=6.5,9.5Hz),3.34,3.38(1H,dd,J=7.6,9.6Hz,dd,J=8.0,9.6Hz),4.36,4.39(2H,s,s),7.20-7.80(20H,m)ppm。
2-(3-メトキシメトキシメチル-2,2-ジメチルシクロブチリデン)プロピル=アセテートの製造
1H-NMR(500MHz,CDCl3):δ=1.16(3H,s),1.27(3H,s),1.52,1.60-1.62(3H,brs,m),2.04,2.05(3H,s,s),2.16-2.25(2H,m),2.62-2.73(1H,m),3.35(3H,s),3.46-3.59(1H,m),3.61-3.68(1H,m),4.35,4.48(2H,brs,brs),4.59,4.67(2H,s,s)ppm。
2-[2,2-ジメチル-3-(テトラヒドロピラン-2-イルオキシメチル)シクロブチリデン]プロピル=アセテートの製造
1H-NMR(500MHz,CDCl3):δ=1.14-1.19(3H,m),1.24-1.29(3H,m),1.44-1.59(6H,m),1.60-1.62(1H,m),1.63-1.71(1H,m),1.74-1.83(1H,m),2.00-2.06(3H,m),2.15-2.29(2H,m),2.60-2.73(1H,m),3.31-3.37,3.42-3.51(2H,m),3.71-3.77,3.81-3.87(2H,m),4.32-4.38,4.47-4.48(2H,m),4.52-4.58(1H,m),ppm。
2-(3-ヒドロキシメチル-2,2-ジメチルシクロブチリデン)プロパン-1-オールの製造
2-(3-ヒドロキシメチル-2,2-ジメチルシクロブチリデン)プロパン-1-オールの製造
[3-(2-アセトキシ-1-メチルエチリデン)-2,2-ジメチルシクロブチル]メチル=アセテートの製造
IR(D-ATR):νmax=2958,1740,1459,1380,1365,1235,1171,1023,974,893,830,605cm-1。
1H-NMR(500MHz,CDCl3):δ=1.16(3H,s),1.27(3H,s),1.61(3H,t,J=1.9Hz),2.02(3H,s),2.04(3H,s),2.20-2.29(2H,m),2.68-2.75(1H,m),4.06-4.14(2H,m),4.32(1H,d,J=11.8Hz),4.35(1H,d,J=11.8Hz)ppm。
13C-NMR(150MHz,CDCl3):δ=14.51,20.54,20.92,20.95,27.72,27.85,39.05,44.62,65.25,65.31,121.57,144.58,171.06,171.11ppm。
IR(D-ATR):νmax=2957,1741,1462,1366,1236,1024,975,891,631,606cm-1。
1H-NMR(500MHz,CDCl3):δ=1.15(3H,s),1.26(3H,s),1.51-1.52(3H,m),2.02(3H,s),2.04(3H,s),2.17-2.27(2H,m),2.61-2.69(1H,m),4.09(1H,d,J=5.4Hz),4.12(1H,d,J=5.4Hz),4.47(2H,brs)ppm。
13C-NMR(150MHz,CDCl3):δ=15.46,20.91,20.94,21.65,27.80,28.82,38.88,44.79,64.06,65.23,121.91,145.70,171.05,171.14ppm。
(3-[2-(2-メチルブタノイルオキシ)-1-メチルエチリデン]-2,2-ジメチルシクロブチル)メチル=2-メチルブタノエートの製造
1H-NMR(500MHz,CDCl3):δ=0.87-0.91(6H,m),1.12(3H,d,J=4.2Hz),1.13(3H,d,J=4.6Hz),1.14,1.16(3H,s,s),1.26,1.27(3H,s,s),1.40-1.52,1.61-1.72(7H,m),2.19-2.41(4H,m),2.62-2.76(1H,m),4.08-4.27(2H,m),4.32-4.40,4.44-4.50(2H,m)ppm。
1-クロロメチル-3-(2-クロロ-1-メチルエチリデン)-2,2-ジメチルシクロブタンの製造
1H-NMR(500MHz,CDCl3):δ=1.20,1.23(3H,s),1.31,1.35(3H,s),1.59,1.71(3H,m),2.21-2.37(2H,m),2.70-2.85(1H,m),3.50-3.54(1H,m),3.61-3.66(1H,m),3.89,4.02(2H,m)ppm。
2-(3-ヒドロキシメチル-2,2-ジメチルシクロブチリデン)プロピル(トリフェニル)ホスホニウム=ブロミドの製造
1H-NMR(500MHz,CD3CN):δ=0.72,1.06(3H,s),0.85,1.17(3H,s),1.28-1.32,1.43-1.47(3H,m),1.47-2.70(3H,m),3.18-3.22,3.32-3.46(2H,m),3.83,3.91(2H,d,J=14.6Hz,d,J=14.6Hz),7.26-7.92(15H,m)ppm。
[2,2-ジメチル-3-(2-ブロモ-1-メチルエチリデン)シクロブチル]メチル=アセテートの製造
1H-NMR(500MHz,CDCl3):δ=1.15,1.20(3H,s,s),1.26,1.31(3H,s,s),1.59-1.60,1.70-171(3H,m),2.03(3H,s),2.15-2.29(2H,m),2.60-2.75(1H,m),3.82,3.94,3.97(2H,s,d,J=9.6Hz,d,J=9.6Hz),4.08-4.15(2H,m)ppm。
(3-イソプロペニル-2,2-ジメチルシクロブチル)メトキシメチルベンゼン及び(3-イソプロピリデン-2,2-ジメチルシクロブチル)メトキシメチルベンゼンの製造
1H-NMR(500MHz,CDCl3):δ=0.81(3H,s),1.24(3H,s),1.55-1.64(1H,m),1.65-1.69(3H,m),1.91(1H,dt,J=7.6,10.7Hz),2.18-2.28(1H,m),2.40(1H,dd,J=7.6,10.7Hz),3.37(1H,dd,J=6.5,9.6Hz),3.44(1H,dd,J=8.4,9.6Hz),4.47(1H,d,J=11.9Hz),4.51(1H,d,J=11.9Hz),4.57(1H,brs),4.79-4.82(1H,m),7.26-7.37(5H,m)ppm。
13C-NMR(150MHz,CDCl3):δ=15.68,21.69,28.41,29.06,40.17,45.04,45.78,71.59,73.22,123.32,127.65,127.72,128.47,138.67,147.37ppm。
(3-イソプロペニル-2,2-ジメチルシクロブチル)メトキシメチルベンゼンの製造
なお、二重結合の位置異性体(3-イソプリデン-2,2-ジメチルシクロブチル)メトキシメチルベンゼンは、GC上検出されなかった。
1H-NMR(500MHz,CDCl3):δ=0.81(3H,s),1.24(3H,s),1.56(1H,d,J=10.7Hz),1.60(1H,d,J=10.7Hz),1.65-1.69(3H,m),1.91(1H,dt,J=7.6,10.7Hz),2.18-2.28(1H,m),2.40(1H,dd,J=7.6,10.7Hz),3.37(1H,dd,J=6.5,9.6Hz),3.44(1H,dd,J=8.4,9.6Hz),4.47(1H,d,J=11.9Hz),4.51(1H,d,J=11.9Hz),4.57(1H,brs),4.79-4.82(1H,m),7.26-7.37(5H,m)ppm。
13C-NMR(150MHz,CDCl3):δ=15.68,21.69,28.41,29.06,40.17,45.04,45.78,71.59,73.22,123.32,127.65,127.72,128.47,138.67,147.37ppm。
(3-イソプロピリデン-2,2-ジメチルシクロブチル)メトキシメチルベンゼンの製造
なお、二重結合の位置異性体(3-イソプロぺニル-2,2-ジメチルシクロブチル)メトキシメチルベンゼンは、GC上検出されなかった。
1H-NMR(500MHz,CDCl3):δ=1.16(3H,s),1.29(3H,s),1.46-1.49,1.59-1.61(6H,m),2.10-2.17,2.21-2.28,2.58-2.65(3H,m),3.47(1H,dd,J=6.8,9.6Hz),3.60(1H,dd,J=8.2,9.3Hz),4.52(2H,s),7.26-7.40(5H,m)ppm。
(3-イソプロペニル-2,2-ジメチルシクロブチル)メタノール及び(3-イソプロピリデン-2,2-ジメチルシクロブチル)メタノールの製造
1H-NMR(500MHz,CDCl3):δ=0.82(3H,s),1.22(3H,s),1.55(1H,q,J=10.7Hz),1.65(3H,s),1.85-1.91(1H,m),2.03-2.10(1H,m),2.34-2.39(1H,m),3.52(1H,dd,J=6.5,10.7Hz),3.59(1H,dd,J=8.3,10.7Hz),4.55(1H,brs),4.78-4.81(1H,m)ppm。
1H-NMR(500MHz,CDCl3):δ=0.95(3H,s),1.12(3H,s),1.51(1H,brs),1.58-1.63(1H,m),1.65(3H,s),1.76-1.90(1H,m),2.03-2.14(1H,m),2.53-2.59(1H,m),3.69(1H,dd,J=7.6,10.7Hz),3.85(1H,dd,J=7.3,10.7Hz),4.62(1H,brs),4.81-4.84(1H,m)ppm。
2-[(3-イソプロペニル-2,2-ジメチルシクロブチル)メトキシ]テトラヒドロピラン及び2-[(3-イソプロピリデン-2,2-ジメチルシクロブチル)メトキシ]テトラヒドロピランの製造
1H-NMR(500MHz,CDCl3):δ=0.78-1.25(6H,m),1.40-1.75(10H,m),1.76-2.62(3H,m),3.24-3.97(4H,m),4.50-4.65(2H,m),4.77-4.83(1H,m)ppm。
2-[(3-イソプロペニル-2,2-ジメチルシクロブチル)メトキシ]テトラヒドロピランの製造
なお、二重結合の位置異性体2-[(3-イソプロピリデン-2,2-ジメチルシクロブチル)メトキシ]テトラヒドロピランは、GC上検出されなかった。
(3-イソプロペニル-2,2-ジメチルシクロブチル)メチル=アセテート及び(3-イソプロピリデン-2,2-ジメチルシクロブチル)メチル=アセテートの製造
IR(D-ATR):νmax=3080,2957,2870,1743,1647,1460,1385,1368,1240,1162,1031,972,886,641,607,556cm-1。
1H-NMR(500MHz,CDCl3):δ=0.81(3H,s),1.19(3H,s),1.59(1H,q,J=10.7Hz)1.64(3H,t,J=0.8Hz),1.89(1H,dt,J=7.6,10.7Hz),2.02(3H,s),2.13-2.22(1H,m),2.37-2.41(1H,m),3.94(1H,dd,J=8.6,11.3Hz),4.04(1H,dd,J=6.3,11.3Hz),4.56(1H,brs),4.79-4.82(1H,m)ppm。
13C-NMR(150MHz,CDCl3):δ=16.07,21.02,22.92,22.96,30.92,39.74,41.05,48.83,64.95,109.42,144.93,171.05ppm。
(3-イソプロペニル-2,2-ジメチルシクロブチル)メチル=アセテート及び(3-イソプロピリデン-2,2-ジメチルシクロブチル)メチル=アセテートの製造
(3-イソプロペニル-2,2-ジメチルシクロブチル)メチル=アセテート及び(3-イソプロピリデン-2,2-ジメチルシクロブチル)メチル=アセテートの製造
(3-イソプロペニル-2,2-ジメチルシクロブチル)メチル=アセテート及び(3-イソプロピリデン-2,2-ジメチルシクロブチル)メチル=アセテートの製造
(3-イソプロペニル-2,2-ジメチルシクロブチル)メチル=2-メチルブタノエート及び(3-イソプロピリデン-2,2-ジメチルシクロブチル)メチル=2-メチルブタノエートの製造
1H-NMR(500MHz,CDCl3):δ=0.81(3H,s),0.89(3H,t,J=7.5Hz),1.11(3H,q,J=7.0Hz),1.20(3H,s),1.40-1.51(1H,m),1.56-1.72(5H,m),1.87(1H,dt,J=7.6,10.7Hz),2.13-2.22(1H,m),2.29-2.41(2H,m),3.92,3.94(1H,dd,J=6.1,11.1Hz,dd,J=6.1,11.1Hz),4.04,4.05(1H,dd,J=6.1,11.1Hz,dd,J=6.1,11.1Hz),4.55(1H,brs),4.78-4.81(1H,m)ppm。
1-クロロメチル-3-イソプロペニル-2,2-ジメチルシクロブタン及び1-クロロメチル-3-イソプロピリデン-2,2-ジメチルシクロブタンの製造
1H-NMR(500MHz,CDCl3):δ=0.85,0.98(3H,s),1.14,1.26(3H,s),1.57,1.72(1H,q,J=10.7Hz,m),1.66-1.67(3H,m),1.98,2.04-2.10(1H,dt,J=7.7,10.7Hz,m),2.15-2.30(1H,m),2.35-2.39,2.52-2.57(1H,m),3.40-3.49,3.60,3.72(2H,m,dd,J=8.8,10.7Hz,dd,J=6.8,10.7Hz),4.56,4.66(1H,brs,brs),4.80-4.83,4.85-4.87(1H,m)ppm。
(3-イソプロペニル-2,2-ジメチルシクロブチル)メタノールの製造
なお、二重結合の位置異性体(3-イソプロピリデン-2,2-ジメチルシクロブチル)メタノールは、GC上検出されなかった。
(3-イソプロピリデン-2,2-ジメチルシクロブチル)メタノールの製造
なお、二重結合の位置異性体(3-イソプロペニル-2,2-ジメチルシクロブチル)メタノールは、GC上検出されなかった。
1H-NMR(500MHz,CDCl3):δ=1.15(3H,s),1.26(3H,s),1.45(3H,s),1.56-1.58(3H,m),1.63(1H,brs),2.03-2.14(2H,m),2.54-2.62(1H,m),3.61(1H,dd,J=6.9,10.7Hz),3.76(1H,dd,J=7.7,10.7Hz)ppm。
13C-NMR(150MHz,CDCl3):δ=18.48,19.53,20.90,27.70,28.67,42.65,44.05,64.30,122.42,137.39ppm。
(3-イソプロペニル-2,2-ジメチルシクロブチル)メタノール及び(3-イソプロピリデン-2,2-ジメチルシクロブチル)メタノールの製造
(3-イソプロペニル-2,2-ジメチルシクロブチル)メチル=アセテートの製造
(3-イソプロピリデン-2,2-ジメチルシクロブチル)メチル=アセテートの製造
1H-NMR(500MHz,CDCl3):δ=1.13(3H,s),1.24(3H,s),1.45(3H,s),1.57(3H,t,J=1.9Hz),2.03(3H,s),2.10-2.22(2H,m),2.56-2.63(1H,m),4.07-4.15(2H,m)ppm。
(3-イソプロペニル-2,2-ジメチルシクロブチル)メチル=アセテート及び(3-イソプロピリデン-2,2-ジメチルシクロブチル)メチル=アセテートの製造
(3-イソプロピリデン-2,2-ジメチルシクロブチル)メチル=メタンスルホネートの製造
1H-NMR(500MHz,CDCl3):δ=1.17(3H,s),1.27(3H,s),1.45(3H,brs),1.58(3H,t,J=1.9Hz),2.15-2.22(1H,m),2.25-2.33(1H,m),2.61-2.67(1H,m),3.00(3H,s),4.23(1H,dd,J=7.3,9.9Hz),4.31(1H,dd,J=8.0,10.0Hz)ppm。
(3-イソプロピリデン-2,2-ジメチルシクロブチル)メチル=3-メチル-2-ブテノエートの製造
IR(D-ATR):νmax=2956,2917,2864,1719,1659,1449,1376,1361,1349,1272,1227,1146,1076,993,851cm-1。
1H-NMR(500MHz,CDCl3):δ=1.14(3H,s),1.25(3H,s),1.45(3H,brs),1.56-1.58(3H,m),1.88(3H,d,J=1.5Hz),2.12-2.30(5H,m),2.56-2.64(1H,m),4.11(1H,dd,J=6.8,11.4Hz),4.15(1H,dd,J=8.0,11.5Hz),5.64-5.66(1H,m)ppm。
13C-NMR(150MHz,CDCl3):δ=18.50,19.54,20.15,20.99,27.34,27.78,28.39,39.14,44.21,64.75,116.15,122.53,137.18,156.25,166.82ppm。
(3-イソプロペニル-2,2-ジメチルシクロブチル)メタノール及び(3-イソプロピリデン-2,2-ジメチルシクロブチル)メタノールの製造
(3-イソプロペニル-2,2-ジメチルシクロブチル)メチル=2-メチルブタノエート及び(3-イソプロピリデン-2,2-ジメチルシクロブチル)メチル=2-メチルブタノエートの製造
(3-イソプロペニル-2,2-ジメチルシクロブチル)メチル=3-メチル-3-ブテノエート及び(3-イソプロピリデン-2,2-ジメチルシクロブチル)メチル=3-メチル-3-ブテノエートの製造
IR(D-ATR):νmax=3080,2956,2870,1738,1648,1454,1385,1370,1337,1284,1241,1153,1075,1030,994,889cm-1。
1H-NMR(500MHz,CDCl3):δ=0.80(3H,s),1.19(3H,s),1.61(1H,q,J=10.7Hz),1.64-1.65(3H,m),1.79-1.81(3H,m),1.88(1H,dt,J=10.7,7.5Hz),2.15-2.22(1H,m),2.39(1H,dd,J=10.7,7.5Hz),3.00-3.01(2H,m),3.96(1H,dd,J=8.8,11.1Hz),4.07(1H,dd,
J=6.5,11.1Hz),4.56(1H,s),4.79-4.81(1H,m),4.83-4.84(1H,m),4.89-4.91(1H,m)ppm。
13C-NMR(150MHz,CDCl3):δ=16.09,22.46,22.86,22.94,30.91,39.78,41.07,43.57,48.81,65.12,109.44,114.61,138.52,144.94,171.32,ppm。
(3-イソプロピリデン-2,2-ジメチルシクロブチル)メチル=2-メチルブタノエートの製造
IR(D-ATR):νmax=2964,2935,2878,1735,1461,1383,1361,1264,1240,1186,1152,1081,1013,973,889,755cm-1。
1H-NMR(500MHz,CDCl3):δ=0.89(3H,t,J=7.5Hz),1.13(3H,d,J=8.0Hz),1.13(3H,s),1.24(3H,s),1.42-1.50(4H,m),1.57(3H,t,J=1.7Hz),1.60-1.77(1H,m),2.09-2.23(2H,m),2.30-2.39(1H,m),2.55-2.61(1H,m),4.08-4.15(2H,m)ppm。
13C-NMR(150MHz,CDCl3):δ=11.64,16.58,16.63,18.50,19.54,21.02,21.04,26.72,26.75,27.50,27.52,28.40,39.12,39.15,41.17,44.20,65.33,122.60,136.99,176.73ppm。
実施例35の方法で得られたcis-(3-イソプロペニル-2,2-ジメチルシクロブチル)メチル=アセテートとtrans-(3-イソプロペニル-2,2-ジメチルシクロブチル)メチル=アセテートと(3-イソプロピリデン-2,2-ジメチルシクロブチル)メチル=アセテートの混合物を10%硝酸銀シリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル=100:1)により分離した後、100:43:4、100:5:1、100:96:96の重量比になるように混合し、それぞれcis-(3-イソプロペニル-2,2-ジメチルシクロブチル)メチル=アセテートの担持量が200μgとなるようにイソプレンよりなるゴムキャップに担持して、下記の表1に示すルアーA、B及びCを作製した。
Claims (8)
- 下記一般式(2)
で表されるホスホン酸エステル化合物との反応により、下記一般式(4)
前記ジメチルシクロブタン環を有する不飽和エステル化合物(4)を還元反応に付すことにより、下記一般式(1A)
を少なくとも含む、ジメチルシクロブタン化合物(1A)の製造方法。 - R1及びR2はそれぞれ独立して、炭素数1~5の直鎖状の飽和炭化水素基を表す、請求項1に記載のジメチルシクロブタン化合物(1A)の製造方法。
- R1及びR2はそれぞれ独立して、メチル基、エチル基、n-プロピル基、又はn-ブチル(Bu)基を表す、請求項1に記載のジメチルシクロブタン化合物(1A)の製造方法。
- ジメチルシクロブタン化合物(1A)の、請求項1~3のいずれか1項に記載の製造方法における各工程と、
前記ジメチルシクロブタン化合物(1A)の水酸基、及び任意的にX3、を変換することにより、下記一般式(1B)
を少なくとも含む、ジメチルシクロブタン化合物(1B)の製造方法。 - 下記一般式(1)
を少なくとも含む、イソプロペニルジメチルシクロブタン化合物(5)及び/又はイソプロピリデンジメチルシクロブタン化合物(6)の製造方法。 - イソプロペニルジメチルシクロブタン化合物(5)及び/又はイソプロピリデンジメチルシクロブタン化合物(6)の、請求項5に記載の製造方法における工程と、
前記イソプロペニルジメチルシクロブタン化合物(5)及び/又はイソプロピリデンジメチルシクロブタン化合物(6)における特定の基X6を上記で定義されたX6の選択肢中の別の基X6に変換して、イソプロペニルジメチルシクロブタン化合物(5’)及び/又はイソプロピリデンジメチルシクロブタン化合物(6’)を得る工程と
を少なくとも含む、イソプロペニルジメチルシクロブタン化合物(5’)及び/又はイソプロピリデンジメチルシクロブタン化合物(6’)の製造方法。
- 下記一般式(1)
- 下記一般式(7)
を少なくとも含む、ジメチルシクロブタノン化合物(2A)の製造方法。
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