JP7404634B2 - Wiring board and wiring board with element - Google Patents
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Description
本開示は、配線基板および素子付配線基板に関する。 The present disclosure relates to a wiring board and a wiring board with an element.
半導体素子等の素子を実装するための配線基板が知られている。配線基板に、製造時の情報が記載された識別情報部が形成される場合があり、識別情報部は、例えば配線基板の不具合の原因を究明するために用いられる。 2. Description of the Related Art Wiring boards for mounting elements such as semiconductor elements are known. An identification information section in which manufacturing information is written is sometimes formed on a wiring board, and the identification information section is used, for example, to investigate the cause of a defect in the wiring board.
特許文献1には、基板の一側面に電子部品を実装して電子部品モジュールを構成する配線基板であって、基板の他側面に配される導電性パターンに除去部を設け、導電性パターンの除去部を、識別情報を表示する二次元コードの形成部位とした配線基板が開示されている。
配線基板において、識別情報部が外部に露出するように配置されていると、薬液等の化学的作用や、擦れ等の物理的作用により、識別情報部が破損する場合がある。本開示は、上記実情に鑑みてなされたものであり、識別情報部の破損を防止した配線基板を提供することを主目的とする。 In a wiring board, if the identification information part is arranged so as to be exposed to the outside, the identification information part may be damaged by chemical action such as a chemical solution or physical action such as rubbing. The present disclosure has been made in view of the above circumstances, and its main purpose is to provide a wiring board in which the identification information section is prevented from being damaged.
本開示においては、支持基板と、上記支持基板の第一面側および第二面側の少なくとも一方に形成された配線層と、上記支持基板の上記第一面側に形成された識別情報部と、を有する配線基板であって、上記識別情報部は、上記配線基板の内部に存在し、上記配線基板は、平面視上、上記識別情報部と重複する位置に透明部材を有し、上記配線基板の外部から、上記透明部材を介して、上記識別情報部を確認可能である、配線基板を提供する。 In the present disclosure, a support substrate, a wiring layer formed on at least one of a first surface side and a second surface side of the support substrate, and an identification information section formed on the first surface side of the support substrate; , the above-mentioned identification information section is present inside the above-mentioned wiring board, the above-mentioned wiring board has a transparent member at a position overlapping with the above-mentioned identification information section in plan view, and the above-mentioned wiring board has a A wiring board is provided in which the identification information section can be confirmed from the outside of the board through the transparent member.
本開示によれば、識別情報部が配線基板の内部に存在することから、識別情報部の破損を防止できる。さらに、内部に存在する識別情報部を、透明部材を介して確認可能であることから、最終製品である配線基板から、製造時の情報を確認することができる。そのため、追跡可能性(トレイサビリティ)が良好な配線基板とすることができる。 According to the present disclosure, since the identification information section is present inside the wiring board, damage to the identification information section can be prevented. Furthermore, since the identification information section present inside can be confirmed through the transparent member, information at the time of manufacture can be confirmed from the wiring board, which is the final product. Therefore, a wiring board with good traceability can be obtained.
上記開示においては、上記配線基板が、上記透明部材として、絶縁性樹脂を含有する透明絶縁層を有していてもよい。 In the above disclosure, the wiring board may have a transparent insulating layer containing an insulating resin as the transparent member.
上記開示においては、上記配線基板が、上記透明絶縁層として、上記支持基板の上記第一面側に形成された第一透明絶縁層を有し、上記支持基板、上記識別情報部および上記第一透明絶縁層が、この順に形成されていてもよい。 In the above disclosure, the wiring board has a first transparent insulating layer formed on the first surface side of the supporting substrate as the transparent insulating layer, and the wiring board includes the supporting substrate, the identification information section, and the first transparent insulating layer. The transparent insulating layers may be formed in this order.
上記開示においては、上記配線基板が、上記透明部材として、透明性を有する上記支持基板を有していてもよい。 In the above disclosure, the wiring board may include the support substrate having transparency as the transparent member.
上記開示においては、上記支持基板、上記識別情報部および上記配線層が、この順に形成されていてもよい。 In the above disclosure, the support substrate, the identification information section, and the wiring layer may be formed in this order.
上記開示においては、平面視上、上記配線層が、上記識別情報部の全体を包含していてもよい。 In the above disclosure, the wiring layer may include the entire identification information section in plan view.
上記開示においては、上記配線基板が、上記透明部材として、透明性を有する上記支持基板、および、絶縁性樹脂を含有する透明絶縁層を有していてもよい。 In the above disclosure, the wiring board may include, as the transparent member, the supporting substrate having transparency and a transparent insulating layer containing an insulating resin.
上記開示においては、上記配線基板が、上記透明絶縁層として、上記支持基板の上記第二面側に形成された第二透明絶縁層を有し、上記第二透明絶縁層、上記支持基板、上記識別情報部および上記配線層が、この順に形成されていてもよい。 In the above disclosure, the wiring board has a second transparent insulating layer formed on the second surface side of the supporting substrate as the transparent insulating layer, and the second transparent insulating layer, the supporting substrate, and the The identification information section and the wiring layer may be formed in this order.
上記開示においては、上記配線基板が、上記透明絶縁層として、上記支持基板の上記第一面側に形成された第一透明絶縁層と、上記支持基板の上記第二面側に形成された第二透明絶縁層とを有し、上記第二透明絶縁層、上記支持基板、上記識別情報部および上記第一透明絶縁層が、この順に形成されていてもよい。 In the above disclosure, the wiring board includes, as the transparent insulating layer, a first transparent insulating layer formed on the first surface side of the support substrate, and a second transparent insulating layer formed on the second surface side of the support substrate. The second transparent insulating layer, the supporting substrate, the identification information section, and the first transparent insulating layer may be formed in this order.
上記開示においては、上記識別情報部が、上記支持基板と直接接触していてもよい。 In the above disclosure, the identification information section may be in direct contact with the support substrate.
上記開示においては、上記支持基板および上記識別情報部の間に、非透明絶縁層が形成されていてもよい。 In the above disclosure, a non-transparent insulating layer may be formed between the support substrate and the identification information section.
また、本開示においては、上述した配線基板と、上記配線基板に実装された素子と、を有する素子付配線基板を提供する。 Further, the present disclosure provides a wiring board with an element, which includes the wiring board described above and an element mounted on the wiring board.
本開示によれば、上述した配線基板を用いることにより、識別情報部の破損を防止した素子付配線基板とすることができる。 According to the present disclosure, by using the wiring board described above, it is possible to provide a wiring board with an element that prevents damage to the identification information section.
本開示における配線基板は、識別情報部の破損を防止できるという効果を奏する。 The wiring board according to the present disclosure is effective in preventing damage to the identification information section.
下記に、図面等を参照しながら本開示における実施の形態を説明する。ただし、本開示は多くの異なる態様で実施することが可能であり、下記に例示する実施の形態の記載内容に限定して解釈されるものではない。また、図面は説明をより明確にするため、実際の形態に比べ、各部の幅、厚さ、形状等について模式的に表わされる場合があるが、あくまで一例であって、本開示における解釈を限定するものではない。また、本明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同様の要素には、同一の符号を付して、詳細な説明を適宜省略することがある。 Embodiments of the present disclosure will be described below with reference to the drawings and the like. However, the present disclosure can be implemented in many different ways, and should not be construed as being limited to the description of the embodiments exemplified below. In addition, in order to make the explanation clearer, the drawings may schematically represent the width, thickness, shape, etc. of each part compared to the actual form, but this is just an example, and the interpretation in this disclosure is limited. It's not something you do. In addition, in this specification and each figure, the same elements as those described above with respect to the previously shown figures are denoted by the same reference numerals, and detailed explanations may be omitted as appropriate.
本明細書において、ある部材の上に他の部材を配置する態様を表現するにあたり、単に「上に」、あるいは「下に」と表記する場合、特に断りの無い限りは、ある部材に接するように、直上、あるいは直下に他の部材を配置する場合と、ある部材の上方、あるいは下方に、さらに別の部材を介して他の部材を配置する場合との両方を含むものとする。同様に、本明細書において、「ある部材の面側に」と表記する場合、特段の断りのない限りは、ある部材の面に接するように直接、他の部材を配置する場合と、ある部材の面に別の部材の介して他の部材を配置する場合との両方を含むものとする。 In this specification, when expressing a mode in which another member is placed on top of a certain member, when it is simply expressed as “above” or “below”, unless otherwise specified, the term This includes both cases in which another member is placed directly above or below a certain member, and cases in which another member is placed above or below a certain member via another member. Similarly, in this specification, when the phrase "on the side of a certain member" is used, unless otherwise specified, there are cases in which another member is placed directly in contact with the surface of a certain member, and cases in which another member is placed directly in contact with the surface of a certain member. This includes both the case where another member is placed on the surface of the object via another member.
A.配線基板
図1は、本開示における、多面付された配線基板を例示する概略平面図である。図1においては、4個の配線基板10が面付されており、面付された配線基板の全体の識別情報部16と、各々の配線基板10の識別情報部6とが形成されている。カットラインCに沿って切断することにより、各々の配線基板10が得られる。
A. Wiring Board FIG. 1 is a schematic plan view illustrating a multi-sided wiring board according to the present disclosure. In FIG. 1, four
図2は、図1のA-A線断面図である。図2に示される配線基板10は、支持基板1と、支持基板1の第一面S1側および第二面S2側に形成された複数の配線層3と、支持基板1の第一面S1側に形成された識別情報部6と、を有する。また、配線基板10は、外側に位置する配線層3および内側に位置する配線層3の間に層間絶縁層2を有し、外側に位置する配線層3を覆うカバー絶縁層4を有する。外側に位置する配線層3には、素子と接続するための接続部5が形成されている。
FIG. 2 is a cross-sectional view taken along line AA in FIG. The
また、図2に示すように、識別情報部6は配線基板10の内部に存在する。また、配線基板10は、平面視上、識別情報部6と重複する位置に透明部材を有する。図2においては、支持基板1の第一面S1側に形成された第一透明絶縁層T1が、透明部材に該当する。図2では、層間絶縁層2およびカバー絶縁層4の両方が、第一透明絶縁層T1である。本開示においては、配線基板10の外部から、透明部材を介して、識別情報部6を確認可能である。図2においては、支持基板1の第一面S1から支持基板1の第二面S2側に向かう方向D12から観察することで、第一透明絶縁層T1を介して識別情報部6を確認可能である。なお、図2において、支持基板1の第二面S2側に形成された層間絶縁層2およびカバー絶縁層4は、非透明絶縁層Nである。
Further, as shown in FIG. 2, the
本開示によれば、識別情報部が配線基板の内部に存在することから、識別情報部の破損を防止できる。さらに、内部に存在する識別情報部を、透明部材を介して確認可能であることから、最終製品である配線基板から、製造時の情報を確認することができる。そのため、追跡可能性(トレイサビリティ)が良好な配線基板とすることができる。 According to the present disclosure, since the identification information section is present inside the wiring board, damage to the identification information section can be prevented. Furthermore, since the identification information section present inside can be confirmed through the transparent member, information at the time of manufacture can be confirmed from the wiring board, which is the final product. Therefore, a wiring board with good traceability can be obtained.
また、従来、製品設計の関係で、製造時の情報を、配線基板に残すことが困難な場合がある。さらに、配線基板の最表面に識別情報部を形成する場合、製造時の情報を事後的に記録することになり、タイムラグによる記録ミスが生じる可能性がある。これに対して、本開示においては、例えば、製造初期段階で識別情報部を形成することで、製造時の情報を、比較的自由度が高い状況で、タイムラグなく記録することができる。 Furthermore, conventionally, due to product design, it has sometimes been difficult to leave information at the time of manufacture on the wiring board. Furthermore, when forming an identification information section on the outermost surface of a wiring board, information at the time of manufacturing must be recorded after the fact, and there is a possibility that a recording error may occur due to a time lag. In contrast, in the present disclosure, for example, by forming the identification information section at the initial stage of manufacturing, information at the time of manufacturing can be recorded with a relatively high degree of freedom and without time lag.
1.配線基板の構成
本開示における配線基板は、支持基板、配線層、識別情報部を少なくとも有する。また、識別情報部は、配線基板の内部に存在する。内部とは、外部に露出しない位置をいう。さらに、配線基板は、平面視上、識別情報部と重複する位置に透明部材を有する。「透明部材」とは、配線基板の外部から、透明部材を介して、識別情報部を確認可能な程度に透明性を有する部材である。透明部材の全線透過率は、高いことが好ましく、例えば15%以上であり、20%以上であってもよく、30%以上であってもよい。全線透過率は、JIS K 7361-1(プラスチック-透明材料の全光線透過率の試験方法)に基づいて測定される。測定には、例えば、紫外・可視・近赤外分光光度計(島津製作所UV-3600)および積分球付属装置(ISR-3100)を用いることができる。また、標準板として、例えば、米国ラブスフェア社製スペクトラロン(テフロン(登録商標)製)を用いることができる。
1. Configuration of Wiring Board The wiring board in the present disclosure includes at least a support substrate, a wiring layer, and an identification information section. Further, the identification information section exists inside the wiring board. Inside refers to a location that is not exposed to the outside. Further, the wiring board has a transparent member at a position overlapping the identification information section in plan view. The "transparent member" is a member that is transparent enough to allow the identification information section to be confirmed from the outside of the wiring board through the transparent member. The total light transmittance of the transparent member is preferably high, for example, 15% or more, may be 20% or more, or may be 30% or more. The total light transmittance is measured based on JIS K 7361-1 (Test method for total light transmittance of plastic transparent materials). For the measurement, for example, an ultraviolet/visible/near-infrared spectrophotometer (Shimadzu UV-3600) and an integrating sphere attachment device (ISR-3100) can be used. Further, as the standard plate, for example, Spectralon (manufactured by Teflon (registered trademark)) manufactured by Labsphere, Inc., USA can be used.
なお、後述するように、支持基板、カバー絶縁層および層間絶縁層は、透明性を有しなくてもよい。これらの部材は、非透明部材と称することができる。非透明部材の全線透過率は、例えば1%以下であり、0.5%以下であってもよく、0.1%以下であってもよい。 Note that, as described later, the supporting substrate, the cover insulating layer, and the interlayer insulating layer do not need to have transparency. These members can be referred to as non-transparent members. The total light transmittance of the non-transparent member is, for example, 1% or less, may be 0.5% or less, or may be 0.1% or less.
配線基板は、透明部材として、(i)絶縁性樹脂を含有する透明絶縁層を有していてもよく(第一実施態様)、(ii)透明性を有する支持基板を有していてもよく(第二実施態様)、(iii)絶縁性樹脂を含有する透明絶縁層、および、透明性を有する支持基板を有していてもよい(第三実施態様)。また、透明絶縁層は、一層であってもよく、二層以上であってもよい。 The wiring board may have, as a transparent member, (i) a transparent insulating layer containing an insulating resin (first embodiment), or (ii) a support substrate having transparency. (Second embodiment), (iii) may have a transparent insulating layer containing an insulating resin and a support substrate having transparency (Third embodiment). Moreover, the transparent insulating layer may be one layer, or may be two or more layers.
(1)第一実施態様
配線基板は、透明部材として、絶縁性樹脂を含有する透明絶縁層を有していてもよい。例えば、図3に示される配線基板10は、透明部材として、支持基板1の第一面S1側に形成された第一透明絶縁層T1を有する。なお、図3における第一透明絶縁層T1はカバー絶縁層4であるが、第一透明絶縁層T1が層間絶縁層であってもよい。
(1) First Embodiment The wiring board may have a transparent insulating layer containing an insulating resin as a transparent member. For example, the
また、図3に示すように、支持基板1、識別情報部6および第一透明絶縁層T1が、この順に形成されていてもよい。この場合、支持基板1の第一面S1から支持基板1の第二面S2側に向かう方向D12から観察することで、第一透明絶縁層T1を介して識別情報部6を確認可能である。なお、図3では、支持基板1の第二面S2側に、他の層が形成されていないが、任意の他の層を設けることもできる。この点は、後述する図4~図6、図9等においても同様である。
Further, as shown in FIG. 3, the
また、図4に示すように、支持基板1および識別情報部6の間に、非透明絶縁層Nが形成されていてもよい。具体的には、支持基板1、非透明絶縁層N、識別情報部6および第一透明絶縁層T1が、この順に形成されていてもよい。このような場合であっても、方向D12から観察することで、第一透明絶縁層T1を介して識別情報部6を確認可能である。また、通常は、非透明絶縁層に用いられる材料の種類が、透明絶縁層に用いられる材料の種類よりも多い。そのため、例えば図2に示すように、二層の透明絶縁層を形成する場合に比べて、図4では、材料選択の幅が広がる。
Further, as shown in FIG. 4, a non-transparent insulating layer N may be formed between the
(2)第二実施態様
配線基板は、透明部材として、透明性を有する支持基板を有していてもよい。すなわち、支持基板を透明部材として用いてもよい。例えば、図5に示される配線基板10は、透明部材として、透明性を有する支持基板1を有する。この場合、支持基板1の第二面S2側から支持基板1の第一面S1に向かう方向D21から観察することで、支持基板1を介して識別情報部6を確認可能である。
(2) Second Embodiment The wiring board may have a transparent support substrate as a transparent member. That is, the support substrate may be used as a transparent member. For example, the
また、図5に示すように、支持基板1、識別情報部6および配線層3が、この順に形成されていてもよい。配線層3が存在することで、識別情報部6のコントラストを明確にでき、識別情報部6の識別性が向上する。また、平面視上、配線層3は、識別情報部6の全体を包含していることが好ましい。すなわち、識別情報部6上に位置する配線層3はベタパターンであることが好ましい。コントラストが不均一になることを防止でき、識別情報部6の識別性が向上するからである。
Further, as shown in FIG. 5, the
また、図6に示すように、支持基板1、識別情報部6および非透明絶縁層Nが、この順に形成されていてもよい。非透明絶縁層Nが存在することで、識別情報部6のコントラストを明確にでき、識別情報部6の識別性が向上する。なお、図6における非透明絶縁層Nはカバー絶縁層4であるが、非透明絶縁層Nが層間絶縁層であってもよい。
Further, as shown in FIG. 6, the
(3)第三実施態様
配線基板は、透明部材として、絶縁性樹脂を含有する透明絶縁層、および、透明性を有する支持基板を有していてもよい。また、透明絶縁層は、支持基板の第一面側に形成された第一透明絶縁層であってもよく、支持基板の第二面側に形成された第二透明絶縁層であってもよく、第一透明絶縁層および第二透明絶縁層の両方であってもよい。
(3) Third Embodiment The wiring board may have a transparent insulating layer containing an insulating resin and a support substrate having transparency as transparent members. Further, the transparent insulating layer may be a first transparent insulating layer formed on the first surface side of the support substrate, or may be a second transparent insulating layer formed on the second surface side of the support substrate. , may be both the first transparent insulating layer and the second transparent insulating layer.
例えば、図7に示される配線基板10は、透明部材として、第二透明絶縁層T2、および、透明性を有する支持基板1を有する。この場合、支持基板1の第二面S2側から支持基板1の第一面S1に向かう方向D21から観察することで、第二透明絶縁層T2および支持基板1を介して識別情報部6を確認可能である。
For example, the
また、図7に示すように、第二透明絶縁層T2、支持基板1、識別情報部6および配線層3が、この順に形成されていてもよい。配線層3が存在することで、識別情報部6のコントラストを明確にでき、識別情報部6の識別性が向上する。また、平面視上、配線層3は、識別情報部6の全体を包含していることが好ましい。すなわち、識別情報部6上に位置する配線層3はベタパターンであることが好ましい。コントラストが不均一になることを防止でき、識別情報部6の識別性が向上するからである。なお、図7における第二透明絶縁層T2はカバー絶縁層4であるが、第二透明絶縁層T2が層間絶縁層であってもよい。
Further, as shown in FIG. 7, the second transparent insulating layer T2 , the
例えば、図8に示される配線基板10は、透明部材として、第二透明絶縁層T2、透明性を有する支持基板1、および、第一透明絶縁層T1を有する。図8では、第二透明絶縁層T2、支持基板1、識別情報部6および第一透明絶縁層T1が、この順に形成されている。この場合、方向D12および方向D21の双方から、第二透明絶縁層T2および支持基板1を介して識別情報部6を確認可能である。また、図8に示すように、光源50からの透過光を利用すると、識別情報部6の識別性が向上する。なお、図8における第一透明絶縁層T1および第二透明絶縁層T2はカバー絶縁層4であるが、それぞれ層間絶縁層であってもよい。なお、本開示における配線基板は、透過光により識別情報部の確認可能であってもよく、反射光により識別情報部の確認可能であってもよい。
For example, the
2.配線基板の部材
本開示における配線基板は、支持基板、配線層、識別情報部を少なくとも有する。さらに、層間絶縁層、カバー絶縁層、端子部等の他の層を有していてもよい。
2. Components of Wiring Board The wiring board according to the present disclosure includes at least a support substrate, a wiring layer, and an identification information section. Furthermore, it may have other layers such as an interlayer insulating layer, a cover insulating layer, and a terminal portion.
(1)識別情報部
本開示における識別情報部は、配線基板の内部に存在する。識別情報部には、製造時の情報が記録されている。製造時の情報としては、例えば、製造工程における管理情報(例えば、配線形成時の生産情報)が挙げられる。図3に示すように、識別情報部6は、支持基板1と直接接触していてもよい。一方、図4に示すように、識別情報部6は、支持基板1と直接接触していなくてもよい。また、配線基板は、識別情報部を一つ有していてもよく、二つ以上有していてもよい。
(1) Identification Information Section The identification information section in the present disclosure exists inside the wiring board. The identification information section records information at the time of manufacture. Information at the time of manufacturing includes, for example, management information in the manufacturing process (for example, production information at the time of wiring formation). As shown in FIG. 3, the
本開示においては、平面視上、識別情報部と重複する位置に透明絶縁層が存在し、断面視上、厚さ方向と直交する方向において、透明絶縁層と隣り合うように、非透明樹脂層が存在していてもよい。例えば図9に示すように、平面視上、識別情報部6と重複する位置に透明絶縁層Tが存在し、断面視上、厚さ方向DAと直交する方向DBにおいて、透明絶縁層Tと隣り合うように、非透明樹脂層Nが存在していてもよい。通常は、非透明絶縁層に用いられる材料の種類が、透明絶縁層に用いられる材料の種類よりも多い。そのため、識別情報部の近傍領域に透明絶縁層を用い、その周辺領域に非透明絶縁層を用いることで、材料選択の幅が広がるという利点がある。なお、図9における透明絶縁層Tおよび非透明絶縁層Nはカバー絶縁層4であるが、それぞれ層間絶縁層であってもよい。
In the present disclosure, the transparent insulating layer is present at a position overlapping with the identification information section in a plan view, and the non-transparent resin layer is located adjacent to the transparent insulating layer in a direction orthogonal to the thickness direction in a cross-sectional view. may exist. For example, as shown in FIG. 9, the transparent insulating layer T exists at a position overlapping the
本開示においては、識別情報部と、支持基板の端部との間に、配線層が形成されていることが好ましい。図10(a)は、本開示における配線基板の一例を示す概略平面図であり、図10(b)は図10(a)のA-A線断面図である。図10(a)、(b)に示すように、識別情報部6と、支持基板1の端部Xとの間に、配線層3が形成されていることが好ましい。配線層3が存在することで、例えば、透明絶縁層Tおよび支持基板1の間から薬液が侵入することを抑制できるからである。
In the present disclosure, it is preferable that a wiring layer is formed between the identification information section and the end of the support substrate. FIG. 10(a) is a schematic plan view showing an example of a wiring board according to the present disclosure, and FIG. 10(b) is a cross-sectional view taken along the line AA in FIG. 10(a). As shown in FIGS. 10A and 10B, it is preferable that a
本開示においては、配線基板の外部から、透明部材を介して、識別情報部を確認可能である。識別情報部は、目視または検査機により、確認可能であることが好ましい。識別情報部の一例としては、インクパターンが挙げられる。インクパターンは、薬液等の化学的作用や、擦れ等の物理的作用により特に破損しやすい。これに対して、インクパターンを配線基板の内部に形成することで、インクパターンの破損を効果的に防止することができる。 In the present disclosure, the identification information section can be confirmed from outside the wiring board through the transparent member. It is preferable that the identification information part can be confirmed visually or with an inspection machine. An example of the identification information section is an ink pattern. Ink patterns are particularly susceptible to damage due to chemical effects such as chemicals and physical effects such as rubbing. On the other hand, by forming the ink pattern inside the wiring board, damage to the ink pattern can be effectively prevented.
また、識別情報部として、支持基板の一部を用いてもよい。支持基板に対して、例えばレーザー照射を行うことで、識別情報部を形成することができる。また、識別情報部として、配線層の一部を用いてもよい。配線層の形成時に、所望のパターニングを行うことで、識別情報部を形成することができる。 Further, a part of the support substrate may be used as the identification information section. The identification information portion can be formed by, for example, irradiating the support substrate with a laser. Further, a part of the wiring layer may be used as the identification information section. The identification information section can be formed by performing desired patterning when forming the wiring layer.
識別情報部の種類としては、例えば、バーコード等の一次コード、マトリックスコード、スタックコード等の二次コードが挙げられる。マトリックスコードの具体的としては、QRコード(登録商標)、ベリコードが挙げられる。また、識別情報部として、数字情報または文字情報を用いてもよい。 Examples of the types of identification information portions include primary codes such as bar codes, secondary codes such as matrix codes, and stack codes. Specific examples of the matrix code include QR code (registered trademark) and Vericode. Further, numerical information or character information may be used as the identification information section.
(2)支持基板
支持基板は、後述する配線層等を支持する層である。支持基板は、透明性を有する支持基板であってもよく、透明性を有しない支持基板であってもよい。また、支持基板は、柔軟性を有していてもよく、有していなくてもよい。支持基板としては、例えば、ガラス基板、シリコン基板、セラミックス基板等の無機基板、樹脂基板、紙基板、金属基板が挙げられる。ガラス基板としては、例えば、ソーダライムガラス、無アルカリガラス、石英ガラスが挙げられる。樹脂基板としては、例えば、ポリイミド、ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリフェニレンスルフィド、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルスルホン、ポリカーボネート、ポリエーテルイミド、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリフェニレンエーテル、アクリル樹脂、ポリオレフィン(例えばポリエチレン、ポリプロピレ)、ポリシクロオレフィン(例えばポリノルボルネン)、液晶性高分子化合物が挙げられる。また、支持基板として、ガラス-エポキシ樹脂、紙エポキシ、紙フェノール等の複合材を用いてもよい。さらに、支持基板として、TFT(Thin Film Transistor)基板を用いることもできる。
(2) Support substrate The support substrate is a layer that supports a wiring layer, etc., which will be described later. The supporting substrate may be a transparent supporting substrate or a non-transparent supporting substrate. Furthermore, the support substrate may or may not have flexibility. Examples of the support substrate include inorganic substrates such as glass substrates, silicon substrates, and ceramic substrates, resin substrates, paper substrates, and metal substrates. Examples of the glass substrate include soda lime glass, alkali-free glass, and quartz glass. Examples of resin substrates include polyimide, polyamide, polyamideimide, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polyphenylene sulfide, polyetheretherketone, polyethersulfone, polycarbonate, polyetherimide, epoxy resin, phenol resin, polyphenylene ether, and acrylic resin. , polyolefins (eg, polyethylene, polypropylene), polycycloolefins (eg, polynorbornene), and liquid crystalline polymer compounds. Furthermore, a composite material such as glass-epoxy resin, paper epoxy, paper phenol, etc. may be used as the supporting substrate. Furthermore, a TFT (Thin Film Transistor) substrate can also be used as the support substrate.
支持基板の平面視形状は、特に限定されないが、例えば、長方形、正方形等の矩形が挙げられる。支持基板が矩形である場合、一辺の長さは、例えば10mm以上であり、100mm以上であってもよい。一方、一辺の長さは、例えば2000mm以下である。一辺の長さは、例えば、10mm以上2000mm以下であり、100mm以上2000mm以下であってもよい。また、支持基板の厚さは、例えば10μm以上であり、100μm以上であってもよく、300μm以上であってもよい。一方、支持基板の厚さは、例えば、1000μm以下である。支持基板の厚さは、例えば10μm以上1000μm以下であり、100μm以上1000μm以下であってもよく、300μm以上1000μm以下であってもよい。 The shape of the support substrate in plan view is not particularly limited, and examples thereof include rectangles such as rectangles and squares. When the support substrate is rectangular, the length of one side is, for example, 10 mm or more, and may be 100 mm or more. On the other hand, the length of one side is, for example, 2000 mm or less. The length of one side is, for example, 10 mm or more and 2000 mm or less, and may be 100 mm or more and 2000 mm or less. Further, the thickness of the support substrate is, for example, 10 μm or more, may be 100 μm or more, or may be 300 μm or more. On the other hand, the thickness of the support substrate is, for example, 1000 μm or less. The thickness of the support substrate may be, for example, 10 μm or more and 1000 μm or less, 100 μm or more and 1000 μm or less, or 300 μm or more and 1000 μm or less.
(3)配線層
配線層は、支持基板の第一面側および第二面側の少なくとも一方に形成される。配線層は、支持基板の第一面側のみに形成されていてもよく、支持基板の第二面側のみに形成されていてもよく、支持基板の両面側に形成されていてもよい。また、配線層は、接続部を形成するためのパッド部を有することが好ましい。また、上述したように、平面視上、配線層が、識別情報部の全体を包含していてもよい。
(3) Wiring layer The wiring layer is formed on at least one of the first surface side and the second surface side of the support substrate. The wiring layer may be formed only on the first surface side of the support substrate, may be formed only on the second surface side of the support substrate, or may be formed on both sides of the support substrate. Moreover, it is preferable that the wiring layer has a pad part for forming a connection part. Further, as described above, the wiring layer may include the entire identification information section in plan view.
また、配線基板は、配線層を一層のみ有していてもよく、二層以上有していてもよい。後者の場合、支持基板および層間絶縁層の少なくとも一方を介して、二層の配線層が厚さ方向に積層されていることが好ましい。厚さ方向に積層された配線層は、ビアを介して、電気的に接続されていてもよい。 Further, the wiring board may have only one wiring layer, or may have two or more wiring layers. In the latter case, it is preferable that two wiring layers are laminated in the thickness direction via at least one of the support substrate and the interlayer insulating layer. The wiring layers stacked in the thickness direction may be electrically connected via vias.
配線層の材料としては、例えば、金属単体、合金、金属化合物の金属材料が挙げられる。金属材料に含まれる金属元素としては、例えは、クロム、マンガン、鉄、コバルト、ニッケル、銅、亜鉛、ガリウム、ゲルマニウム、ヒ素、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、銀、カドミウム、インジウム、スズ、アンチモン、オスミウム、イリジウム、白金、金、水銀、タリウム、鉛、ビスマス、モリブデン、チタン、タングステン、タンタル、アルミニウムが挙げられる。中でも、配線層の材料は、銅、金、銀、白金、ロジウム、スズ、アルミニウム、ニッケル、クロム等の金属単体、または、これらの金属元素の少なくとも一種を含む合金が好ましい。また、配線層として、酸化インジウム錫(ITO)、酸化インジウム亜鉛(IZO)等の金属酸化物を用いることもできる。 Examples of the material for the wiring layer include metal materials such as simple metals, alloys, and metal compounds. Examples of metallic elements contained in metallic materials include chromium, manganese, iron, cobalt, nickel, copper, zinc, gallium, germanium, arsenic, ruthenium, rhodium, palladium, silver, cadmium, indium, tin, antimony, and osmium. , iridium, platinum, gold, mercury, thallium, lead, bismuth, molybdenum, titanium, tungsten, tantalum, and aluminum. Among these, the material for the wiring layer is preferably an elemental metal such as copper, gold, silver, platinum, rhodium, tin, aluminum, nickel, or chromium, or an alloy containing at least one of these metal elements. Furthermore, metal oxides such as indium tin oxide (ITO) and indium zinc oxide (IZO) can also be used as the wiring layer.
配線層の用途としては、例えば、グランド用配線、電源用配線、共通(コモン)配線、信号配線、ゲート配線、ドレイン配線、ソース配線、走査配線が挙げられる。 Examples of uses of the wiring layer include ground wiring, power supply wiring, common wiring, signal wiring, gate wiring, drain wiring, source wiring, and scanning wiring.
配線層の形成方法は、アディティブ法であってもよく、サブトラクティブ法であってもよい。アディティブ法では、例えばフォトリソグラフィー法によりレジストパターンを作製し、レジストパターンから露出した部分に、めっき法を行うことにより、パターン状の配線層が得られる。電解めっき法を用いる場合は、レジストパターンを作製する前に、配線層を形成する基材(例えば支持基板、層間絶縁層)上に導電層を形成してもよい。サブトラクティブ法では、例えば、全面形成した配線層上にレジストパターンを作製し、レジストパターンから露出した部分をエッチングすることにより、パターン状の配線層が得られる。 The method for forming the wiring layer may be an additive method or a subtractive method. In the additive method, a patterned wiring layer is obtained by producing a resist pattern by, for example, photolithography, and performing plating on the portions exposed from the resist pattern. When using an electrolytic plating method, a conductive layer may be formed on a base material (for example, a supporting substrate, an interlayer insulating layer) on which a wiring layer is to be formed, before producing a resist pattern. In the subtractive method, for example, a patterned wiring layer is obtained by forming a resist pattern on a wiring layer formed on the entire surface and etching the portion exposed from the resist pattern.
配線層の厚さは、例えば0.1μm以上であり、0.5μm以上であってもよく、1μm以上であってもよく、3μm以上であってもよく、5μm以上であってもよい。一方、配線層の厚さは、例えば20μm以下であり、15μm以下であってもよい。配線層の厚さは、例えば0.1μm以上20μm以下であり、0.5μm以上15μm以下であってもよく、1μm以上15μm以下であってもよく、3μm以上15μm以下であってもよく、5μm以上15μm以下であってもよい。例えばスパッタリング法により配線層を形成する場合、比較的薄い配線層を得ることができる。また、例えばめっき法により配線層を形成する場合には、比較的厚い配線層を得ることができる。 The thickness of the wiring layer may be, for example, 0.1 μm or more, 0.5 μm or more, 1 μm or more, 3 μm or more, or 5 μm or more. On the other hand, the thickness of the wiring layer is, for example, 20 μm or less, and may be 15 μm or less. The thickness of the wiring layer may be, for example, 0.1 μm or more and 20 μm or less, 0.5 μm or more and 15 μm or less, 1 μm or more and 15 μm or less, 3 μm or more and 15 μm or less, and 5 μm or more. The thickness may be greater than or equal to 15 μm. For example, when forming a wiring layer by sputtering, a relatively thin wiring layer can be obtained. Further, when forming the wiring layer by, for example, a plating method, a relatively thick wiring layer can be obtained.
(4)カバー絶縁層
カバー絶縁層は、配線層を覆い、パッド部に対応する位置に開口部を有することが好ましい。カバー絶縁層は、配線層の劣化および短絡を防止する機能を有する。カバー絶縁層は、支持基板の第一面側のみに形成されていてもよく、支持基板の第二面側のみに形成されていてもよく、支持基板の両面側に形成されていてもよい。また、カバー絶縁層は、透明性を有する絶縁層(透明絶縁層)であってもよく、透明性を有しない絶縁層(非透明絶縁層)であってもよい。
(4) Cover insulating layer It is preferable that the cover insulating layer covers the wiring layer and has an opening at a position corresponding to the pad portion. The cover insulating layer has a function of preventing deterioration and short circuit of the wiring layer. The cover insulating layer may be formed only on the first surface side of the support substrate, may be formed only on the second surface side of the support substrate, or may be formed on both sides of the support substrate. Further, the cover insulating layer may be an insulating layer that has transparency (transparent insulating layer) or may be an insulating layer that does not have transparency (non-transparent insulating layer).
カバー絶縁層の材料は、感光性材料であってもよく、非感光性材料であってもよい。また、カバー絶縁層の材料は、絶縁性樹脂であることが好ましい。絶縁性樹脂としては、例えば、ポリイミド、ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリフェニレンスルフィド、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルスルホン、ポリカーボネート、ポリエーテルイミド、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリフェニレンエーテル、アクリル樹脂、ポリオレフィン(例えばポリエチレン、ポリプロピレ)、ポリシクロオレフィン(例えばポリノルボルネン)、液晶性高分子化合物が挙げられる。特に、透明絶縁層に用いられる絶縁性樹脂としては、例えば、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、イミド樹脂が挙げられる。カバー絶縁層の厚さは、例えば、1μm以上8μm以下である。 The material of the cover insulating layer may be a photosensitive material or a non-photosensitive material. Further, the material of the cover insulating layer is preferably an insulating resin. Examples of insulating resins include polyimide, polyamide, polyamideimide, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polyphenylene sulfide, polyetheretherketone, polyethersulfone, polycarbonate, polyetherimide, epoxy resin, phenol resin, polyphenylene ether, and acrylic. Examples include resins, polyolefins (eg, polyethylene, polypropylene), polycycloolefins (eg, polynorbornene), and liquid crystalline polymer compounds. In particular, examples of the insulating resin used for the transparent insulating layer include acrylic resin, methacrylic resin, epoxy resin, polyimide resin, and imide resin. The thickness of the cover insulating layer is, for example, 1 μm or more and 8 μm or less.
カバー絶縁層の形成方法は、カバー絶縁層の材料に応じて適宜選択することが好ましい。例えば、カバー絶縁層の材料が感光性材料である場合、全面形成したカバー絶縁層に対して、露光現像を行うことにより、パターン状のカバー絶縁層が得られる。一方、カバー絶縁層の材料が非感光性材料である場合、全面形成したカバー絶縁層上にレジストパターンを作製し、レジストパターンから露出した部分をエッチングすることにより、パターン状のカバー絶縁層が得られる。また、例えば、カバー絶縁層に対して、レーザー加工を行うことにより、パターン状のカバー絶縁層を形成してもよい。 The method for forming the insulating cover layer is preferably selected as appropriate depending on the material of the insulating cover layer. For example, when the material of the insulating cover layer is a photosensitive material, a patterned insulating cover layer can be obtained by exposing and developing the insulating cover layer formed on the entire surface. On the other hand, when the material of the cover insulating layer is a non-photosensitive material, a patterned cover insulating layer can be obtained by creating a resist pattern on the cover insulating layer formed on the entire surface and etching the exposed part from the resist pattern. It will be done. Further, for example, a patterned cover insulating layer may be formed by performing laser processing on the cover insulating layer.
(5)層間絶縁層
配線基板は、層間絶縁層を有していてもよく、有していなくてもよい。層間絶縁層は、支持基板の第一面側のみに形成されていてもよく、支持基板の第二面側のみに形成されていてもよく、支持基板の両面側に形成されていてもよい。また、層間絶縁層は、透明性を有する絶縁層(透明絶縁層)であってもよく、透明性を有しない絶縁層(非透明絶縁層)であってもよい。
(5) Interlayer insulation layer The wiring board may or may not have an interlayer insulation layer. The interlayer insulating layer may be formed only on the first surface side of the support substrate, may be formed only on the second surface side of the support substrate, or may be formed on both surfaces of the support substrate. Further, the interlayer insulating layer may be an insulating layer having transparency (transparent insulating layer) or may be an insulating layer not having transparency (non-transparent insulating layer).
また、配線基板は、層間絶縁層を一層のみ有していてもよく、二層以上有していてもよい。層間絶縁層は、支持基板および配線層の間に形成されていてもよく、二層の配線層の間に形成されていてもよい。 Further, the wiring board may have only one interlayer insulating layer, or may have two or more interlayer insulating layers. The interlayer insulating layer may be formed between the support substrate and the wiring layer, or may be formed between two wiring layers.
層間絶縁層の材料は、絶縁性樹脂であることが好ましい。絶縁性樹脂については、上述したカバー絶縁層に用いられる絶縁性樹脂と同様である。層間絶縁層の厚さは、例えば1.5μm以上であり、2.5μm以上であってもよい。一方、層間絶縁層の厚さは、例えば6μm以下である。層間絶縁層の厚さは、例えば1.5μm以上6μm以下であり、2.5μm以上6μm以下であってもよい。層間絶縁層の形成方法については、上述したカバー絶縁層の形成方法と同様である。 The material of the interlayer insulating layer is preferably an insulating resin. The insulating resin is the same as the insulating resin used for the cover insulating layer described above. The thickness of the interlayer insulating layer is, for example, 1.5 μm or more, and may be 2.5 μm or more. On the other hand, the thickness of the interlayer insulating layer is, for example, 6 μm or less. The thickness of the interlayer insulating layer is, for example, 1.5 μm or more and 6 μm or less, and may be 2.5 μm or more and 6 μm or less. The method for forming the interlayer insulating layer is the same as the method for forming the cover insulating layer described above.
(6)接続部
配線基板は、配線層のパッド部上に、接続部を有していてもよい。接続部は、平面視上、カバー絶縁層の開口部により露出したパッド部と重複する位置において、カバー絶縁層から突出していることが好ましい。また、接続部は、凸部形状を有することが好ましい。
(6) Connection portion The wiring board may have a connection portion on the pad portion of the wiring layer. It is preferable that the connecting portion protrudes from the cover insulating layer at a position overlapping the pad portion exposed through the opening of the cover insulating layer in plan view. Further, it is preferable that the connecting portion has a convex shape.
接続部は、無電解めっき部であることが好ましい。さらに、無電解めっき部は、カバー絶縁層から突出していることが好ましい。無電解めっき部は、例えば、PdおよびNiを含有することが好ましい。具体的には、パッド部から順に、Pd部およびNi部が形成されていることが好ましい。無電解めっき法では、最初にPdがパッド部の表面に吸着し、その後、Pdが触媒として機能してNiが析出する。そのため、パッド部から順に、Pd部およびNi部が形成される。また、無電解めっき法では、通常、次亜リン酸等の還元剤を用いるため、無電解めっき部は、Pをさらに含有していてもよい。 Preferably, the connecting portion is an electroless plated portion. Furthermore, it is preferable that the electroless plated portion protrudes from the cover insulating layer. The electroless plated portion preferably contains, for example, Pd and Ni. Specifically, it is preferable that a Pd part and a Ni part are formed in order from the pad part. In the electroless plating method, Pd is first adsorbed on the surface of the pad portion, and then Pd functions as a catalyst and Ni is deposited. Therefore, a Pd part and a Ni part are formed in order from the pad part. Furthermore, since a reducing agent such as hypophosphorous acid is usually used in the electroless plating method, the electroless plating portion may further contain P.
また、接続部上に、保護めっき部が形成されていてもよい。保護めっき部としては、例えば、金めっき部が挙げられる。金めっき部を設けることで、接続信頼性が向上する。金めっき部は、例えば、無電解金めっき法により形成することができる。 Further, a protective plating portion may be formed on the connection portion. Examples of the protective plating portion include a gold plating portion. Providing a gold-plated part improves connection reliability. The gold-plated portion can be formed, for example, by electroless gold plating.
また、接続部上に、はんだ部が形成されていてもよい。はんだ部は、例えば、Sn、Cu、Pbの少なくとも一種を含有することが好ましい。はんだ部は、例えば、印刷法または無電解めっき法により形成することができる。 Further, a solder portion may be formed on the connection portion. It is preferable that the solder part contains at least one of Sn, Cu, and Pb, for example. The solder portion can be formed by, for example, a printing method or an electroless plating method.
B.素子付配線基板
図11は、本開示における素子付配線基板の一例を示す概略断面図である。図11に示される素子付配線基板30は、配線基板10と、配線基板10に実装された素子20と、を有する。図11では、接続部5により、配線基板10および素子20が電気的に接続されている。
B. Wiring Board with Elements FIG. 11 is a schematic cross-sectional view showing an example of the wiring board with elements according to the present disclosure. A
本開示によれば、上述した配線基板を用いることにより、識別情報部の破損を防止した素子付配線基板とすることができる。 According to the present disclosure, by using the wiring board described above, it is possible to provide a wiring board with an element that prevents damage to the identification information section.
1.配線基板
本開示における配線基板については、上記「A.配線基板」に記載した内容と同様であるので、ここでの記載は省略する。
1. Wiring Board The wiring board in the present disclosure is the same as that described in "A. Wiring Board" above, so a description thereof will be omitted here.
2.素子
本開示における素子は、配線基板の素子実装領域に実装される部材である。素子は、能動素子であってもよく、受動素子であってもよく、機構素子であってもよい。また、素子は、半導体素子であることが好ましい。素子としては、例えば、トランジスタ、集積回路(例えばLSI)、MEMS(Micro Electro Mechanical Systems)、リレー、発光素子(例えばLED、OLED)、センサ、抵抗器、キャパシタ、インダクタ、圧電素子、バッテリーが挙げられる。
2. Element The element in the present disclosure is a member mounted in an element mounting area of a wiring board. The element may be an active element, a passive element, or a mechanical element. Moreover, it is preferable that the element is a semiconductor element. Examples of elements include transistors, integrated circuits (for example, LSI), MEMS (Micro Electro Mechanical Systems), relays, light emitting elements (for example, LEDs, OLEDs), sensors, resistors, capacitors, inductors, piezoelectric elements, and batteries. .
3.素子付配線基板
本開示における素子付配線基板の用途は、特に限定されないが、例えば、表示装置、情報処理端末(例えばパソコン、タブレット、スマートフォン)、車用品(例えば車用内装品、車用外装品)、プリント配線基板、電磁波シールド材、アンテナ、パワー半導体、ノイズフィルタが挙げられる。
3. Wiring board with elements Applications of the wiring board with elements in the present disclosure are not particularly limited, but include, for example, display devices, information processing terminals (e.g. personal computers, tablets, smartphones), car accessories (e.g. car interior parts, car exterior parts) ), printed wiring boards, electromagnetic shielding materials, antennas, power semiconductors, and noise filters.
本開示における素子付配線基板は、例えば、配線基板に素子を実装することにより得ることができる。素子を実装する方法は、特に限定されず、一般的な方法を用いることができる。素子を実装する方法としては、例えば、転写法を用いて複数の素子を一括して実装する方法が挙げられる。転写法の一例としては、転写用基板に複数の素子を仮固定した転写用積層体を準備し、転写用積層体における複数の素子を、配線基板に転写する方法が挙げられる。 The wiring board with an element in the present disclosure can be obtained, for example, by mounting an element on a wiring board. The method for mounting the element is not particularly limited, and a general method can be used. Examples of methods for mounting elements include a method of mounting a plurality of elements at once using a transfer method. An example of a transfer method includes a method in which a transfer laminate in which a plurality of elements are temporarily fixed to a transfer substrate is prepared, and the plurality of elements in the transfer laminate are transferred to a wiring board.
なお、本開示は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は、例示であり、本開示における特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本開示における技術的範囲に包含される。 Note that the present disclosure is not limited to the above embodiments. The above-mentioned embodiments are illustrative, and any configuration that has substantially the same technical idea as the claims of the present disclosure and provides similar effects is the present invention. within the technical scope of the disclosure.
[実施例1]
図5に示す配線基板を作製した。まず、ガラス基板(AGC社製、A100、370mm×470mm)に紫外線を照射し、洗浄した。洗浄後、インクジェットプリンタ(キーエンス社製、MK-U6000)にて、識別情報部である2次元コード(DataMatrix)を、基材の第一面に形成した。次に、第一面にクロムスパッタ処理および銅スパッタ処理を行い、その上に、ドライフィルムレジスト(旭化成エレクトロニスク社製、サンフォート AQ4038)を用いてレジストパターンを形成した。このとき、2次元コードを形成した箇所がレジストパターンの開口部に含まれるように、レジストパターンを形成した。
[Example 1]
A wiring board shown in FIG. 5 was manufactured. First, a glass substrate (manufactured by AGC, A100, 370 mm x 470 mm) was irradiated with ultraviolet rays and cleaned. After washing, a two-dimensional code (DataMatrix), which is an identification information section, was formed on the first surface of the substrate using an inkjet printer (manufactured by Keyence Corporation, MK-U6000). Next, the first surface was subjected to chromium sputtering treatment and copper sputtering treatment, and a resist pattern was formed thereon using a dry film resist (Sunfort AQ4038, manufactured by Asahi Kasei Electronics Co., Ltd.). At this time, a resist pattern was formed such that the location where the two-dimensional code was formed was included in the opening of the resist pattern.
その後、レジストパターンの開口部に、硫酸銅電解めっき(奥野製薬社製、トップルチナSF)を行い、配線層(厚さ3μm)を形成した。次に、ドライフィルムレジストを、50℃の水酸化ナトリウム水溶液にて剥離し、露出したクロム層および銅層を、それぞれ、クロム用エッチング液(佐々木化学薬品工業社製、エスクリーンS-24)および銅用エッチング液(メルテック社製、AD-331)にて除去した。その後、感光性レジスト(東レ社製、フォトニースPW-1000)を用いて、配線層を覆うようにカバー絶縁層(厚さ3μm)を形成した。これにより、図5に示す配線基板を作製した。図5に示すように、2次元コード(識別情報部6)は、方向D21から、ガラス基板を介して確認可能であった。 Thereafter, copper sulfate electrolytic plating (Top Lucina SF, manufactured by Okuno Pharmaceutical Co., Ltd.) was performed on the openings of the resist pattern to form a wiring layer (thickness: 3 μm). Next, the dry film resist was peeled off with an aqueous sodium hydroxide solution at 50°C, and the exposed chromium layer and copper layer were removed using an etching solution for chromium (S-clean S-24, manufactured by Sasaki Chemical Industry Co., Ltd.), respectively. It was removed using a copper etching solution (AD-331, manufactured by Meltech). Thereafter, a cover insulating layer (thickness: 3 μm) was formed using a photosensitive resist (Photonice PW-1000, manufactured by Toray Industries, Inc.) to cover the wiring layer. In this way, the wiring board shown in FIG. 5 was manufactured. As shown in FIG. 5, the two-dimensional code (identification information section 6) could be confirmed from the direction D21 through the glass substrate.
1…支持基板
2…層間絶縁層
3…配線層
4…カバー絶縁層
5…接続部
10…配線基板
20…素子
30…素子付配線基板
DESCRIPTION OF
Claims (4)
前記支持基板の第一面側および第二面側の少なくとも一方に形成された配線層と、
前記支持基板の前記第一面側に形成された識別情報部と、
を有する配線基板であって、
前記識別情報部は、前記配線基板の内部に存在し、
前記配線基板は、平面視上、前記識別情報部と重複する位置に透明部材を有し、
前記配線基板の外部から、前記透明部材を介して、前記識別情報部を確認可能であり、
前記配線基板が、前記透明部材として、透明性を有する前記支持基板を有し、
前記支持基板、前記識別情報部および前記配線層が、この順に形成されており、
平面視上、前記配線層が、前記識別情報部の全体を包含するように重複している、配線基板。 a support substrate;
a wiring layer formed on at least one of the first surface side and the second surface side of the support substrate;
an identification information section formed on the first surface side of the support substrate;
A wiring board having
The identification information section exists inside the wiring board,
The wiring board has a transparent member at a position overlapping with the identification information section in plan view,
The identification information section can be confirmed from outside the wiring board through the transparent member ,
The wiring board has the support substrate having transparency as the transparent member ,
The support substrate, the identification information section, and the wiring layer are formed in this order,
A wiring board , wherein the wiring layer overlaps to include the entire identification information section in a plan view .
前記支持基板の第一面側および第二面側の少なくとも一方に形成された配線層と、
前記支持基板の前記第一面側に形成された識別情報部と、
を有する配線基板であって、
前記識別情報部は、前記配線基板の内部に存在し、
前記配線基板は、平面視上、前記識別情報部と重複する位置に透明部材を有し、
前記配線基板の外部から、前記透明部材を介して、前記識別情報部を確認可能であり、
前記配線基板が、前記透明部材として、絶縁性樹脂を含有する透明絶縁層を有し、
前記配線基板が、前記透明絶縁層として、前記支持基板の前記第一面側に形成された第一透明絶縁層を有し、
前記支持基板、前記識別情報部および前記第一透明絶縁層が、この順に形成されており
前記支持基板および前記識別情報部の間に、非透明絶縁層が形成されている、配線基板。 a support substrate;
a wiring layer formed on at least one of the first surface side and the second surface side of the support substrate;
an identification information section formed on the first surface side of the support substrate;
A wiring board having
The identification information section exists inside the wiring board,
The wiring board has a transparent member at a position overlapping with the identification information section in plan view,
The identification information section can be confirmed from outside the wiring board through the transparent member,
The wiring board has a transparent insulating layer containing an insulating resin as the transparent member,
The wiring board has a first transparent insulating layer formed on the first surface side of the support substrate as the transparent insulating layer,
The support substrate, the identification information section, and the first transparent insulating layer are formed in this order.
A wiring board , wherein a non-transparent insulating layer is formed between the support substrate and the identification information section .
前記配線基板に実装された素子と、
を有する素子付配線基板。 A wiring board according to any one of claims 1 to 3 ;
an element mounted on the wiring board;
A wiring board with an element.
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