JP7403003B2 - 多重反射液浸シリコン基盤の微細流路測定装置及び測定方法 - Google Patents
多重反射液浸シリコン基盤の微細流路測定装置及び測定方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP7403003B2 JP7403003B2 JP2022565873A JP2022565873A JP7403003B2 JP 7403003 B2 JP7403003 B2 JP 7403003B2 JP 2022565873 A JP2022565873 A JP 2022565873A JP 2022565873 A JP2022565873 A JP 2022565873A JP 7403003 B2 JP7403003 B2 JP 7403003B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- prism
- reflected
- buffer solution
- reflection
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
- G01N21/21—Polarisation-affecting properties
- G01N21/211—Ellipsometry
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J1/00—Photometry, e.g. photographic exposure meter
- G01J1/02—Details
- G01J1/04—Optical or mechanical part supplementary adjustable parts
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J1/00—Photometry, e.g. photographic exposure meter
- G01J1/02—Details
- G01J1/04—Optical or mechanical part supplementary adjustable parts
- G01J1/0407—Optical elements not provided otherwise, e.g. manifolds, windows, holograms, gratings
- G01J1/0477—Prisms, wedges
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/01—Arrangements or apparatus for facilitating the optical investigation
- G01N21/03—Cuvette constructions
- G01N21/05—Flow-through cuvettes
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/01—Arrangements or apparatus for facilitating the optical investigation
- G01N21/11—Filling or emptying of cuvettes
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
- G01N21/55—Specular reflectivity
- G01N21/552—Attenuated total reflection
- G01N21/553—Attenuated total reflection and using surface plasmons
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/75—Systems in which material is subjected to a chemical reaction, the progress or the result of the reaction being investigated
- G01N21/77—Systems in which material is subjected to a chemical reaction, the progress or the result of the reaction being investigated by observing the effect on a chemical indicator
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/01—Arrangements or apparatus for facilitating the optical investigation
- G01N21/03—Cuvette constructions
- G01N21/05—Flow-through cuvettes
- G01N2021/052—Tubular type; cavity type; multireflective
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
- G01N21/21—Polarisation-affecting properties
- G01N21/211—Ellipsometry
- G01N2021/212—Arrangement with total internal reflection
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
- G01N21/55—Specular reflectivity
- G01N2021/558—Measuring reflectivity and transmission
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/75—Systems in which material is subjected to a chemical reaction, the progress or the result of the reaction being investigated
- G01N2021/752—Devices comprising reaction zones
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/75—Systems in which material is subjected to a chemical reaction, the progress or the result of the reaction being investigated
- G01N2021/757—Systems in which material is subjected to a chemical reaction, the progress or the result of the reaction being investigated using immobilised reagents
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/75—Systems in which material is subjected to a chemical reaction, the progress or the result of the reaction being investigated
- G01N21/77—Systems in which material is subjected to a chemical reaction, the progress or the result of the reaction being investigated by observing the effect on a chemical indicator
- G01N2021/7756—Sensor type
- G01N2021/7763—Sample through flow
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/01—Arrangements or apparatus for facilitating the optical investigation
- G01N21/03—Cuvette constructions
- G01N21/031—Multipass arrangements
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N2201/00—Features of devices classified in G01N21/00
- G01N2201/06—Illumination; Optics
- G01N2201/063—Illuminating optical parts
- G01N2201/0638—Refractive parts
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
Description
第1実施例の構成
以下、添付の図面を参考して本発明について詳しく説明する。
以下、微細流路構造体(200)についてさらに詳しく説明する。
図8及び図9で見られるように、本発明の微細流路構造体(200)は、第1構造体(200a)及び第2構造体(200b)を備えてもよい。
以下、添付の図面を参照して好ましい実施例の動作を詳しく説明する。
以下、本発明の微細流路測定装置を用いた微細流路測定方法について説明する。
2:リガンド
10:入射光
20:透過光
30:第1反射光
40:第2反射光
50:緩衝溶液
100:プリズムユニット
110:プリズム
111:プリズム-緩衝溶液の界面
120:反射体
200:微細流路構造体
200a:第1構造体
200b:第2構造体
200c:微細流路チャンネル層
210:微細流路
210a:流入路
210b:排出路
210c:微細流路チャンネル
212:第1流入口
214:第2流入口
216:第1排出口
218:第2排出口
220:支持台
300:偏光発生部
310:光源
320:偏光子
330:コリメートレンズ
340:集束レンズ
350:第1補償器
400:偏光検出部
410:検光子
420:光検出器
430:演算処理器
440:第2補償器
450:分光器
500:試料検出層
510:基板
520:誘電体薄膜
530:吸着層
600:試料注入部
Claims (11)
- 支持台と、前記支持台上に形成され、試料を検出するための生体結合物質が固定化された試料検出層とが形成された少なくとも1つ以上の微細流路を含む微細流路構造体;
前記試料を含む緩衝溶液を前記微細流路に注入する試料注入部;
プリズム、及び前記プリズムの底面に鏡面反射コーティングされて形成される反射体を備えるプリズムユニット;
偏光(polairzed light)を発生させる偏光発生部;及び、
反射光の偏光変化を検出する偏光検出部;を含み、
前記偏光は、前記プリズムを透過して、前記プリズムと前記緩衝溶液とが接するプリズム-緩衝溶液の界面に入射する入射光を形成し、
前記入射光の一部が前記プリズム-緩衝溶液の界面で反射された後、前記プリズムを透過して第1反射光が形成され、前記入射光の他の一部が前記プリズム-緩衝溶液の界面を透過した後、前記試料検出層と前記反射体によって複数回の反射及び入射を繰り返す多重反射を行った後に、前記プリズムを透過して第2反射光が形成され、
前記第1反射光と前記第2反射光とが前記多重反射によって空間的に完全に分離される
ことを特徴とする多重反射液浸シリコン基盤の微細流路測定装置。 - 前記入射光の他の一部は、前記緩衝溶液を透過してp-偏光波無反射条件を満たす入射角で前記試料検出層に入射する透過光を形成し、前記透過光は、前記試料検出層で反射され、前記プリズム-緩衝溶液の界面で前記反射体によって鏡面反射されることで、前記多重反射を行った後に前記プリズムを透過して第2反射光を形成する
請求項1に記載の多重反射液浸シリコン基盤の微細流路測定装置。 - 前記試料検出層は、
基板、
前記基板の上部に形成された誘電体薄膜、及び、
前記誘電体薄膜の上部に形成された吸着層を含み、
前記吸着層には、前記試料を検出するための前記生体結合物質が固定化された
請求項2に記載の多重反射液浸シリコン基盤の微細流路測定装置。 - 前記多重反射により前記試料で光が複数回反射して、前記p-偏光波無反射反射率が低くなる場合、前記誘電体薄膜の厚さを増加させることで、前記透過光の信号強度低下を防止する
請求項3に記載の多重反射液浸シリコン基盤の微細流路測定装置。 - 前記多重反射により前記試料で光が複数回反射して、前記p-偏光波無反射反射率が低くなる場合、s-偏光波無反射条件を満たす入射角で前記試料検出層に入射する前記透過光を形成することで、前記透過光の信号強度低下が防止される
請求項3に記載の多重反射液浸シリコン基盤の微細流路測定装置。 - 前記基板は、シリコン、誘電体又は半導体のうちから選択されるいずれか1つ以上の物質で形成された
請求項3に記載の多重反射液浸シリコン基盤の微細流路測定装置。 - 前記偏光検出部は、前記第2反射光の偏光変化に基づいて、前記吸着層に吸着された前記試料の厚さ又は濃度を算出する
請求項3に記載の多重反射液浸シリコン基盤の微細流路測定装置。 - 前記偏光発生部は、前記プリズムを介して入射する前記入射光の光量を調節し、前記プリズム-緩衝溶液の界面上に形成される前記入射光のビームスポット(beam spot)の形態を制御する
請求項1に記載の多重反射液浸シリコン基盤の微細流路測定装置。 - 前記試料注入部は、空気や気体に含まれたバイオマーカーを測定するために、前記緩衝溶液の代わりに気体を前記微細流路に注入する
請求項1に記載の多重反射液浸シリコン基盤の微細流路測定装置。 - 前記気体が前記微細流路に注入される場合、前記偏光が前記プリズムを透過して、前記プリズムと前記気体とが接するプリズム-気体の界面に入射する入射光が形成され、
前記入射光の一部が前記プリズム-気体の界面で反射された後、前記プリズムを透過して前記第1反射光が形成される
請求項9に記載の多重反射液浸シリコン基盤の微細流路測定装置。 - 請求項1に記載の多重反射液浸シリコン基盤の微細流路測定装置を用いた測定方法であって、
試料注入部が前記試料を検出するための前記生体結合物質が固定化された前記試料検出層が形成された少なくとも1つの微細流路を含む前記微細流路構造体に緩衝溶液を注入する第1段階;
前記緩衝溶液に含まれた前記試料が前記試料検出層の抗体に吸着する第2段階;
前記偏光発生部が偏光を発生させる第3段階;
前記偏光が前記プリズムを透過して、前記プリズムと前記緩衝溶液とが接する前記プリズム-緩衝溶液の界面に入射する入射光を形成する第4段階;
前記入射光の一部は、前記プリズム-緩衝溶液の界面で反射されて前記プリズムを透過する前記第1反射光を形成し、前記入射光の他の一部は、前記緩衝溶液を透過して偏光波無反射条件を満たす入射角で前記試料検出層に入射する透過光を形成する第5段階;
前記透過光は、前記試料検出層で反射され、前記プリズム-緩衝溶液の界面で前記反射体によって鏡面反射されることで複数回の反射及び入射を繰り返す多重反射を行った後に、前記プリズムを透過して第2反射光を形成する第6段階;
前記偏光検出部が前記第2反射光の偏光変化を検出する第7段階;及び、
前記第2反射光の偏光変化に基づいて前記試料検出層に吸着された試料の濃度を検出する第8段階;を含み、
前記プリズムユニットの外部に放出された前記第1反射光と前記第2反射光とが前記多重反射によって空間的に完全に分離される
ことを特徴とする多重反射液浸シリコン基盤の微細流路測定方法。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020200121427A KR102418637B1 (ko) | 2020-09-21 | 2020-09-21 | 다중반사 액침 실리콘 기반 미세유로 측정장치 및 측정방법 |
| PCT/KR2020/012705 WO2022059824A1 (ko) | 2020-09-21 | 2020-09-21 | 다중반사 액침 실리콘 기반 미세유로 측정장치 및 측정방법 |
| KR10-2020-0121427 | 2020-09-21 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2023523990A JP2023523990A (ja) | 2023-06-08 |
| JP7403003B2 true JP7403003B2 (ja) | 2023-12-21 |
Family
ID=80776853
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2022565873A Active JP7403003B2 (ja) | 2020-09-21 | 2020-09-21 | 多重反射液浸シリコン基盤の微細流路測定装置及び測定方法 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US12152982B2 (ja) |
| JP (1) | JP7403003B2 (ja) |
| KR (1) | KR102418637B1 (ja) |
| CN (1) | CN115461608B (ja) |
| WO (1) | WO2022059824A1 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR102881774B1 (ko) * | 2023-01-05 | 2025-11-04 | 한국표준과학연구원 | 반도체 산화막 타원 진폭센서 장치 및 측정방법 |
| CN121231386A (zh) * | 2025-11-27 | 2025-12-30 | 复旦大学 | 基于s偏振光的高灵敏高通量生物分子互作检测系统 |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006133744A (ja) | 2004-09-27 | 2006-05-25 | Idc Llc | フォトニックmems及びその構造 |
| JP2018025528A (ja) | 2016-04-06 | 2018-02-15 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 検知装置、検知方法及び検知プログラム |
| WO2019197308A1 (en) | 2018-04-12 | 2019-10-17 | Radiometer Medical Aps | Porous membrane sensor element |
| KR102056971B1 (ko) | 2017-12-28 | 2019-12-19 | 한국표준과학연구원 | 이중 프리즘 실리콘 기반 액침 미세유로 측정장치 및 측정방법 |
Family Cites Families (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3398163B2 (ja) * | 1992-05-22 | 2003-04-21 | 日東光器株式会社 | 画像読取装置 |
| JP3266041B2 (ja) * | 1996-05-22 | 2002-03-18 | 株式会社島津製作所 | 部材接合法及びこの方法により製造した光学測定装置 |
| JP3380744B2 (ja) * | 1998-05-19 | 2003-02-24 | 株式会社日立製作所 | センサおよびこれを利用した測定装置 |
| FR2809491B1 (fr) * | 2000-05-26 | 2008-07-04 | Production Rech S Appliquees | Procede et appareil de metrologie ellipsometrique pour echantillon contenu dans une chambre ou analogue |
| JP2003287493A (ja) * | 2002-03-27 | 2003-10-10 | Fuji Photo Film Co Ltd | 測定装置 |
| JP4076962B2 (ja) * | 2003-04-23 | 2008-04-16 | 独立行政法人科学技術振興機構 | 差動式表面プラズモン共鳴現象測定装置及びその測定方法 |
| US7271914B2 (en) * | 2005-02-02 | 2007-09-18 | National Taiwan University | Biomolecular sensor system utilizing a transverse propagation wave of surface plasmon resonance (SPR) |
| US7365855B2 (en) * | 2005-07-08 | 2008-04-29 | The Chinese University Of Hong Kong | Optical sensing devices with SPR sensors based on differential phase interrogation and measuring method using the same |
| KR101105328B1 (ko) | 2009-11-23 | 2012-01-16 | 한국표준과학연구원 | 분자 흡착 및 해리 동특성 측정장치 및 측정방법 |
| KR101383652B1 (ko) | 2012-10-15 | 2014-04-09 | 한국표준과학연구원 | 분자접합특성 및 완충용액 굴절률 동시 측정장치 및 측정방법 |
| KR101684138B1 (ko) | 2015-06-30 | 2016-12-21 | 한국표준과학연구원 | 경사 입사구조 프리즘 입사형 실리콘 기반 액침 미세유로 측정장치 및 측정방법 |
| US10301667B2 (en) * | 2015-11-18 | 2019-05-28 | University Of Florida Research Foundation, Inc. | Devices for detecting target biological molecules from cells and viruses |
| KR101884091B1 (ko) | 2016-11-30 | 2018-08-02 | 한국표준과학연구원 | 사다리꼴 입사구조 프리즘 입사형 실리콘 기반 액침 미세유로 측정장치 및 측정방법 |
-
2020
- 2020-09-21 JP JP2022565873A patent/JP7403003B2/ja active Active
- 2020-09-21 WO PCT/KR2020/012705 patent/WO2022059824A1/ko not_active Ceased
- 2020-09-21 KR KR1020200121427A patent/KR102418637B1/ko active Active
- 2020-09-21 CN CN202080100193.1A patent/CN115461608B/zh active Active
- 2020-09-21 US US17/921,706 patent/US12152982B2/en active Active
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006133744A (ja) | 2004-09-27 | 2006-05-25 | Idc Llc | フォトニックmems及びその構造 |
| JP2018025528A (ja) | 2016-04-06 | 2018-02-15 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 検知装置、検知方法及び検知プログラム |
| KR102056971B1 (ko) | 2017-12-28 | 2019-12-19 | 한국표준과학연구원 | 이중 프리즘 실리콘 기반 액침 미세유로 측정장치 및 측정방법 |
| WO2019197308A1 (en) | 2018-04-12 | 2019-10-17 | Radiometer Medical Aps | Porous membrane sensor element |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| WO2022059824A1 (ko) | 2022-03-24 |
| US12152982B2 (en) | 2024-11-26 |
| JP2023523990A (ja) | 2023-06-08 |
| KR20220038962A (ko) | 2022-03-29 |
| US20230168185A1 (en) | 2023-06-01 |
| CN115461608A (zh) | 2022-12-09 |
| CN115461608B (zh) | 2025-09-19 |
| KR102418637B1 (ko) | 2022-07-08 |
| KR102418637B9 (ko) | 2022-12-05 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR101383652B1 (ko) | 분자접합특성 및 완충용액 굴절률 동시 측정장치 및 측정방법 | |
| KR101884091B1 (ko) | 사다리꼴 입사구조 프리즘 입사형 실리콘 기반 액침 미세유로 측정장치 및 측정방법 | |
| KR101105328B1 (ko) | 분자 흡착 및 해리 동특성 측정장치 및 측정방법 | |
| KR101012056B1 (ko) | 다채널 타원계측 표면 플라즈몬 공명 측정장치 | |
| US8705039B2 (en) | Surface plasmon resonance sensor using vertical illuminating focused-beam ellipsometer | |
| US10921241B2 (en) | Oblique incidence, prism-incident, silicon-based, immersion microchannel-based measurement device and measurement method | |
| EP2499479A2 (en) | Analytical system with photonic crystal sensor | |
| JP7403003B2 (ja) | 多重反射液浸シリコン基盤の微細流路測定装置及び測定方法 | |
| KR102056971B1 (ko) | 이중 프리즘 실리콘 기반 액침 미세유로 측정장치 및 측정방법 | |
| KR102881774B1 (ko) | 반도체 산화막 타원 진폭센서 장치 및 측정방법 | |
| JP2004061419A (ja) | 測定装置 | |
| US20240337591A1 (en) | Split prism silicon-based liquid immersion microchannel measuring device and method | |
| US20130110467A1 (en) | Ultrasensitive biological and chemical detection using surface plasmon resonance |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20221027 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20230808 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20231031 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20231114 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20231211 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7403003 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |