JP7399452B2 - 洗浄装置 - Google Patents
洗浄装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP7399452B2 JP7399452B2 JP2019183762A JP2019183762A JP7399452B2 JP 7399452 B2 JP7399452 B2 JP 7399452B2 JP 2019183762 A JP2019183762 A JP 2019183762A JP 2019183762 A JP2019183762 A JP 2019183762A JP 7399452 B2 JP7399452 B2 JP 7399452B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cup
- cleaned
- jig
- cleaning device
- protrusions
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 title claims description 68
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 76
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 40
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 27
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 5
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 4
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 4
- 238000005422 blasting Methods 0.000 description 3
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 3
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 3
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 3
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 3
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 3
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002033 PVDF binder Substances 0.000 description 2
- 239000004813 Perfluoroalkoxy alkane Substances 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 229920011301 perfluoro alkoxyl alkane Polymers 0.000 description 2
- 229920002981 polyvinylidene fluoride Polymers 0.000 description 2
- 238000012935 Averaging Methods 0.000 description 1
- 230000002301 combined effect Effects 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- -1 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 238000004506 ultrasonic cleaning Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Description
図3は、実施形態に係るカップの一例を概略的に示す断面図である。図4は、図3に示すカップのA部の拡大図である。図3は、実施形態に係る洗浄装置を、治具の回転軸方向から観察した場合を示している。
複数の突起5は、それら全てが錐体形状を有していることが好ましい。
以下に実施例を説明するが、実施形態は、以下に記載される実施例に限定されるものではない。
枚葉式洗浄装置用のカップを、PTFEからなる樹脂塊から切削加工により製造した。製造されたカップは、図1~図7を参照しながら説明したカップ20と略同一の形状を有していた。
(1)複数の突起間の距離(ピッチ):15°
(2)溝を構成する2つの面のなす角度:17°
(3)突起の長辺の長さ:50mm
(4)突起の短辺の長さ:35mm
(5)突起の長辺の角度:50°
(6)突起の短辺の角度:70°
(7)突起の高さ:30mm
(8)カップの直径:220mm
図8を参照しながら説明した、カップの内壁がブラスト処理されたカップを用意した。即ち、このカップの内壁には実施形態で説明した複数の突起は存在していない。
以下、本願の出願当初の特許請求の範囲に記載した発明を付記する。
[1] 回転軸に沿って伸びた支持部、及び、被洗浄物を固定することが可能であり且つ前記支持部と共に回転可能な固定面を備えた治具と、
前記治具から離間した位置で、前記治具を取り囲む円環状の壁面を有したカップとを具備し、
前記壁面の内壁は、前記固定面に平行な方向と交差する方向に設けられた複数の溝を有しており、前記複数の溝は前記被洗浄物を囲むように設けられている洗浄装置。
[2] 前記内壁は、前記複数の溝を隔てる複数の突起を更に有し、前記複数の溝と前記複数の突起とは交互に設けられており、
前記複数の突起の少なくとも1つは、前記突起が有する複数の面のうち、前記溝に面した最も広い面が、前記治具に面するように傾斜している[1]に記載の洗浄装置。
[3] 前記溝を挟んで隣接した2つの前記突起は、互いに向き合った2つの面を有しており、前記2つの面がなす角度は、1°~90°の範囲内にある[2]に記載の洗浄装置。
[4] 前記壁面は、前記回転軸と同心円状に設けられており、
前記突起を挟んで隣接した2つの前記溝間の距離は、前記回転軸の同心円上において、1°~30°の範囲内の円周角に相当する[2]又は[3]に記載の洗浄装置。
[5] 前記カップの内径に占める前記複数の突起の高さの割合は、0.6%~25%の範囲内にある[2]~[4]の何れか1項に記載の洗浄装置。
[6] 前記複数の突起の少なくとも1つは錐体形状である[2]~[5]の何れか1項に記載の洗浄装置。
Claims (3)
- 回転軸に沿って伸びた支持部、及び、被洗浄物を固定することが可能であり且つ前記支持部と共に回転可能な固定面を備えた治具と、
前記治具から離間した位置で、前記治具を取り囲む円環状の壁面を有したカップとを具備し、
前記壁面の内壁は、前記固定面に平行な方向と交差する方向に設けられた複数の溝と前記複数の溝を隔てる複数の突起を有し、前記複数の溝と前記複数の突起とは交互に且つ前記被洗浄物を囲むように設けられており、
前記複数の突起は、前記突起が有する複数の面のうち、前記溝に面した最も広い面が、前記治具に面するように傾斜しており、
前記溝を挟んで隣接した2つの前記突起は、互いに向き合った2つの面を有しており、前記2つの面がなす角度は、5°~30°の範囲内にある洗浄装置。 - 前記壁面は、前記回転軸と同心円状に設けられており、
前記突起を挟んで隣接した2つの前記溝間の距離は、前記回転軸の同心円上において、1°~30°の範囲内の円周角に相当する請求項1に記載の洗浄装置。 - 前記カップの内径に占める前記複数の突起の高さの割合は、0.6%~25%の範囲内にある請求項1又は2に記載の洗浄装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019183762A JP7399452B2 (ja) | 2019-10-04 | 2019-10-04 | 洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019183762A JP7399452B2 (ja) | 2019-10-04 | 2019-10-04 | 洗浄装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2021061294A JP2021061294A (ja) | 2021-04-15 |
JP7399452B2 true JP7399452B2 (ja) | 2023-12-18 |
Family
ID=75380465
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019183762A Active JP7399452B2 (ja) | 2019-10-04 | 2019-10-04 | 洗浄装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7399452B2 (ja) |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014207320A (ja) | 2013-04-12 | 2014-10-30 | 東京エレクトロン株式会社 | 液処理装置 |
JP2015050263A (ja) | 2013-08-30 | 2015-03-16 | 芝浦メカトロニクス株式会社 | スピン処理装置 |
JP2017204517A (ja) | 2016-05-10 | 2017-11-16 | トヨタ自動車株式会社 | 基板洗浄装置 |
JP2018056151A (ja) | 2016-09-26 | 2018-04-05 | 株式会社Screenホールディングス | 基板処理装置 |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH1057876A (ja) * | 1996-08-21 | 1998-03-03 | Miyazaki Oki Electric Co Ltd | スピンコート装置 |
-
2019
- 2019-10-04 JP JP2019183762A patent/JP7399452B2/ja active Active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014207320A (ja) | 2013-04-12 | 2014-10-30 | 東京エレクトロン株式会社 | 液処理装置 |
JP2015050263A (ja) | 2013-08-30 | 2015-03-16 | 芝浦メカトロニクス株式会社 | スピン処理装置 |
JP2017204517A (ja) | 2016-05-10 | 2017-11-16 | トヨタ自動車株式会社 | 基板洗浄装置 |
JP2018056151A (ja) | 2016-09-26 | 2018-04-05 | 株式会社Screenホールディングス | 基板処理装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2021061294A (ja) | 2021-04-15 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US10304705B2 (en) | Cleaning device for atomizing and spraying liquid in two-phase flow | |
US10453708B2 (en) | Cleaning device and roll cleaning member | |
TWI305939B (ja) | ||
JP5544642B2 (ja) | ウェット処理装置及びウェット処理方法 | |
US7648410B2 (en) | Polishing pad and chemical mechanical polishing apparatus | |
JP7248465B2 (ja) | 基板処理装置のスピンチャック | |
JP2009066527A (ja) | 洗浄用ローラおよび洗浄装置 | |
US20050284362A1 (en) | Apparatus for processing surface of substrate | |
TWI801515B (zh) | 晶圓的處理裝置及處理方法 | |
US20190321869A1 (en) | Methods, apparatus, and assembly for cleaning glass sheets | |
JP7399452B2 (ja) | 洗浄装置 | |
JP5287491B2 (ja) | 基板吸着装置 | |
US20200388511A1 (en) | Substrate processing apparatus | |
US10625308B2 (en) | Cleaning device, method of manufacturing the same and substrate cleaning apparatus | |
JP6699335B2 (ja) | 基板洗浄装置 | |
CN111403323A (zh) | 一种用于晶圆与环形玻璃载板的蚀刻装置 | |
JP2009272604A (ja) | 基板洗浄装置及びその方法 | |
JP2007305644A (ja) | ウェーハの枚葉式エッチング装置 | |
EP4020528B1 (en) | Substrate cleaning method and substrate cleaning apparatus | |
TW202126396A (zh) | 半導體晶圓的洗淨裝置及半導體晶圓的洗淨方法 | |
CN208288551U (zh) | 兆声清洗装置的喷管及用于晶圆清洗的兆声清洗装置 | |
CN104425323A (zh) | 处理基板的装置和清洁该装置的方法 | |
JP7454989B2 (ja) | 基板処理装置 | |
US20240116092A1 (en) | Wafer adsorption device | |
CN218215207U (zh) | 一种晶圆清洗装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20220817 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20230113 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20230615 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20230627 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20230808 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20231031 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20231129 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7399452 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |