JP7393218B2 - Thermal print head manufacturing method and thermal print head - Google Patents
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Description
本開示は、サーマルプリントヘッドの製造方法およびサーマルプリントヘッドに関する。 The present disclosure relates to a method of manufacturing a thermal print head and a thermal print head.
特許文献1には、従来のサーマルプリントヘッドの一例が開示されている。同文献に開示されたサーマルプリントヘッドは、基板、電極層、抵抗体層および保護層を備えている。基板は、絶縁材料からなる板状の部材である。電極層は、基板の上に形成されており、抵抗体層に選択的に電流を流すための電流経路を構成している。電極層は、共通電極および複数の個別電極を有している。共通電極と個別電極とは、電気的に対極となる。抵抗体層のうち共通電極の一部と個別電極とによって主走査方向に挟まれた部位が発熱部となる。保護層は、電極層を保護するためのものであり、たとえばガラスからなる。
近年、サーマルプリントヘッドの小型化や高画質化に伴い、電極層のパターンが微細化されてきている。このように高い精細度のパターニングが要求される場合であっても、電極層が断線や短絡することなく導通経路を適切に構成し、電極層と抵抗体層とが十分に導通することが好ましい。 In recent years, with the miniaturization and higher image quality of thermal print heads, the patterns of electrode layers have become finer. Even when such high-definition patterning is required, it is preferable to appropriately configure the conduction path without disconnection or short-circuiting of the electrode layer, and to ensure sufficient conduction between the electrode layer and the resistor layer. .
本開示は、上記事情に鑑みて考え出されたものであり、その目的は、導通経路を適切に構成した電極層を形成できるサーマルプリントヘッドの製造方法を提供することにある。 The present disclosure has been devised in view of the above circumstances, and its purpose is to provide a method for manufacturing a thermal print head that can form an electrode layer with appropriately configured conductive paths.
本開示の第1の側面によって提供されるサーマルプリントヘッドの製造方法は、基板を準備する基板準備工程と、主走査方向に配列された複数の発熱部を含む抵抗体層を、前記基板上に形成する抵抗体層形成工程と、前記抵抗体層に通電するための電極層を形成する電極層形成工程と、を含んでおり、前記電極層は、第1ピッチ幅で配列された複数の第1部、および、前記第1ピッチ幅よりも小さい第2ピッチ幅で配列された複数の第2部を含み、前記基板は、前記基板の厚さ方向に見て前記複数の第1部が形成される第1領域、および、前記厚さ方向に見て前記複数の第2部が形成される第2領域を含み、前記電極層形成工程は、スクリーン印刷により、前記第1領域に前記複数の第1部のパターンを形成する第1パターニング工程と、前記スクリーン印刷よりも高い精細度でパターニングが可能なパターニング手法により、前記第2領域に前記複数の第2部のパターンを形成する第2パターニング工程と、を含むことを特徴とする。 A method for manufacturing a thermal print head provided by a first aspect of the present disclosure includes a substrate preparation step of preparing a substrate, and a resistor layer including a plurality of heat generating parts arranged in a main scanning direction on the substrate. and an electrode layer forming step of forming an electrode layer for energizing the resistor layer. and a plurality of second parts arranged with a second pitch width smaller than the first pitch width, and the substrate is formed by the plurality of first parts when viewed in the thickness direction of the substrate. and a second region where the plurality of second parts are formed when viewed in the thickness direction, and the electrode layer forming step includes forming the plurality of the plurality of second parts in the first region by screen printing. A first patterning step of forming a first part pattern; and a second patterning step of forming the plurality of second part patterns in the second region by a patterning method that allows patterning with higher definition than the screen printing. It is characterized by including a process.
本開示の第2の側面によって提供されるサーマルプリントヘッドは、基板と、主走査方向に配列された複数の発熱部を含み、前記基板上に形成された抵抗体層と、前記抵抗体層に通電するための電極層と、を含んでおり、前記電極層は、複数の第1部、複数の第2部、および、複数のボンディング部を含み、前記複数の第1部は、各々が副走査方向に延びる帯状であり、かつ、第1ピッチ幅で主走査方向に配列されており、前記複数の第2部は、各々が副走査方向に延びる帯状であり、かつ、前記第1ピッチ幅よりも小さい第2ピッチ幅で主走査方向に配列されており、前記複数のボンディング部は、各々がワイヤを介して駆動ICに接続され、かつ、各々が前記複数の第2部の各々に繋がり、前記複数の第1部は、スクリーン印刷によってパターニングされており、前記複数の第2部は、前記スクリーン印刷よりも高い精細度でパターニングが可能な手法によって、パターニングされていることを特徴とする。 A thermal print head provided by a second aspect of the present disclosure includes a substrate, a plurality of heat generating parts arranged in the main scanning direction, a resistor layer formed on the substrate, and a resistor layer formed on the resistor layer. an electrode layer for supplying electricity, the electrode layer includes a plurality of first parts, a plurality of second parts, and a plurality of bonding parts, and each of the plurality of first parts has a secondary part. Each of the plurality of second parts has a strip shape extending in the scanning direction and is arranged in the main scanning direction with a first pitch width, and each of the plurality of second parts has a strip shape extending in the sub scanning direction and has a first pitch width. The plurality of bonding parts are arranged in the main scanning direction with a second pitch width smaller than , the plurality of first parts are patterned by screen printing, and the plurality of second parts are patterned by a method that allows patterning with higher definition than the screen printing. .
本開示のサーマルプリントヘッドの製造方法によれば、導通経路を適切に構成した電極層を形成できる。 According to the method for manufacturing a thermal print head of the present disclosure, it is possible to form an electrode layer in which conductive paths are appropriately configured.
本開示のサーマルプリントヘッドの製造方法およびサーマルプリントヘッドの好ましい実施の形態について、図面を参照して、以下に説明する。本開示における「第1」、「第2」、「第3」等の用語は、単にラベルとして用いたものであり、必ずしもそれらの対象物に順列を付することを意図していない。 A method for manufacturing a thermal print head and a preferred embodiment of the thermal print head according to the present disclosure will be described below with reference to the drawings. Terms such as "first", "second", "third", etc. in this disclosure are used merely as labels and are not necessarily intended to attach a permutation to those objects.
本開示において、「ある物Aがある物Bに形成されている」および「ある物Aがある物B上に形成されている」とは、特段の断りのない限り、「ある物Aがある物Bに直接形成されていること」、および、「ある物Aとある物Bとの間に他の物を介在させつつ、ある物Aがある物Bに形成されていること」を含む。同様に、「ある物Aがある物Bに配置されている」および「ある物Aがある物B上に配置されている」とは、特段の断りのない限り、「ある物Aがある物Bに直接配置されていること」、および、「ある物Aとある物Bとの間に他の物を介在させつつ、ある物Aがある物Bに配置されていること」を含む。同様に、「ある物Aがある物B上に位置している」とは、特段の断りのない限り、「ある物Aがある物Bに接して、ある物Aがある物B上に位置していること」、および、「ある物Aとある物Bとの間に他の物が介在しつつ、ある物Aがある物B上に位置していること」を含む。また、「ある物Aがある物Bにある方向に見て重なる」とは、特段の断りのない限り、「ある物Aがある物Bのすべてに重なること」、および、「ある物Aがある物Bの一部に重なること」を含む。 In this disclosure, "a thing A is formed on a thing B" and "a thing A is formed on a thing B" mean "a thing A is formed on a thing B" unless otherwise specified. "It is formed directly on object B," and "It is formed on object B, with another object interposed between object A and object B." Similarly, "something A is placed on something B" and "something A is placed on something B" mean "something A is placed on something B" unless otherwise specified. This includes ``directly placed on object B'' and ``placed on object B with another object interposed between object A and object B.'' Similarly, "a certain object A is located on a certain object B" means, unless otherwise specified, "a certain object A is in contact with a certain object B, and a certain object A is located on a certain object B." ``The fact that a certain thing A is located on a certain thing B while another thing is interposed between the certain thing A and the certain thing B.'' In addition, "a certain object A overlaps a certain object B when viewed in a certain direction" means, unless otherwise specified, "a certain object A overlaps all of a certain object B" and "a certain object A overlaps with a certain object B". This includes "overlapping a part of something B."
<第1実施形態>
図1~図4は、第1実施形態にかかるサーマルプリントヘッドA1を示している。サーマルプリントヘッドA1は、基板1、電極層3、抵抗体層4、保護層5、複数の駆動IC71、封止樹脂72、複数のコネクタ73、配線基板74および放熱部材75を備えている。サーマルプリントヘッドA1は、印刷媒体82に印刷を行うプリンタに組み込まれる。印刷媒体82は、図2に示すようにサーマルプリントヘッドA1とプラテンローラ81とに挟まれ、プラテンローラ81の回転運動によって、副走査方向に搬送される。印刷媒体82としては、たとえばバーコードシートやレシートを作成するための感熱紙が挙げられる。
<First embodiment>
1 to 4 show a thermal print head A1 according to a first embodiment. The thermal print head A1 includes a
図1は、サーマルプリントヘッドA1を示す平面図である。図2は、図1のII-II線に沿う断面図である。図3は、図1の一部を拡大した要部拡大平面図である。図4は、図3のIV-IV線に沿う要部拡大断面図である。図1においては、保護層5およびワイヤ61を省略しており、かつ、封止樹脂72を想像線(二点鎖線)で示している。図3においては、保護層5を省略している。理解の便宜上、図1~図4において、主走査方向をx方向、副走査方向をy方向、基板1の厚さ方向をz方向としている。印刷時において、印刷媒体は、副走査方向yの図中矢印が指す方向に送られる。副走査方向yにおいて、図中矢印が指す方向を下流とし、その反対方向を上流とする。また、厚さ方向zにおいて、図中矢印が指す方向を上方とし、その反対方向を下方とする。
FIG. 1 is a plan view showing the thermal print head A1. FIG. 2 is a sectional view taken along line II-II in FIG. FIG. 3 is an enlarged plan view of a main part of FIG. 1. FIG. 4 is an enlarged sectional view of a main part taken along line IV-IV in FIG. 3. In FIG. 1, the
サーマルプリントヘッドA1において、基板1および配線基板74は、図2に示すように、副走査方向yに隣接しており、各々が放熱部材75上に搭載されている。配線基板74は、たとえばガラスエポキシ樹脂からなる基材層とCu(銅)などからなる配線層とが積層された基板である。放熱部材75は、Al(アルミニウム)などの金属からなる。基板1上の駆動IC71と配線基板74の配線とは、図2に示すように、ワイヤ61によって接続されている。配線基板74には、コネクタ73が設けられている。サーマルプリントヘッドA1には、後に詳説する構成により、主走査方向xに配列される複数の発熱部41が形成されている。この発熱部41は、コネクタ73を介して外部から送信される印字信号に従い、駆動IC71によって選択的に発熱駆動される。サーマルプリントヘッドA1は、図2に示すように、プラテンローラ81によって発熱部41に印刷媒体82が押圧され、発熱部41の発熱により印刷媒体82に印字を行う。サーマルプリントヘッドA1は、配線基板74を備えず、基板1にコネクタ73が搭載されていてもよい。
In the thermal print head A1, the
基板1は、図1に示すように、主走査方向xに長く延びる板状である。基板1は、電極層3、抵抗体層4、保護層5、および、駆動IC71を支持する。基板1は、厚さ方向z視において、第1領域10Aおよび第2領域10Bを含んでいる。第2領域10Bは、第1領域10Aよりも、電極層3が相対的に高い精細度で形成される領域である。第1領域10Aに形成される電極層3は、たとえばスクリーン印刷によってパターニングされ、第2領域10Bに形成される電極層3は、スクリーン印刷よりも高い精細度でパターニングが可能なパターニング手法(本実施形態ではディスペンサー塗布)によって形成される。基板1は、基材11およびグレーズ層12を含んで構成されている。
As shown in FIG. 1, the
基材11は、たとえばAlN(窒化アルミニウム)、Al2O3(アルミナ)、ジルコニアなどのセラミックからなる。基材11は、たとえば厚さが0.6mm以上1.0mm以下である。基材11は、厚さ方向z視において、主走査方向xに長く延びる矩形状である。基材11は、主面11aを有する。主面11aは、基材11の上面である。主面11aは、厚さ方向zの上方を向く。
The
グレーズ層12は、基材11上に形成されている。グレーズ層12は、主面11aを覆う。グレーズ層12は、たとえば非晶質ガラスなどのガラス材料からなる。グレーズ層12は、部分グレーズ121およびガラス層122を含んでいる。なお、グレーズ層12は、ガラス層122を含まず、部分グレーズ121のみで構成されていてもよい。あるいは、基板1がグレーズ層12を含んでいなくてもよい。
部分グレーズ121は、主走査方向xに長く延びている。部分グレーズ121は、主走査方向x視において、厚さ方向zに膨出している。部分グレーズ121は、図4に示すように、主走査方向xに直交する平面による断面(y-z断面)が、円弧状である。部分グレーズ121は、抵抗体層4のうち発熱する部分(後述の発熱部41)を印刷媒体82に押し当て易くするために、設けられる。また、部分グレーズ121は、発熱部41からの熱を蓄積する蓄熱層として、設けられている。部分グレーズ121は、厚さ方向zの寸法(最大寸法)が、ガラス層122よりも大きい。
The
ガラス層122は、部分グレーズ121に隣接して形成されており、上面が平坦な形状である。ガラス層122は、部分グレーズ121の一部に重なっている。ガラス層122の厚さは、たとえば2.0μm程度である。
The
グレーズ層12において、部分グレーズ121は、軟化点がたとえば800℃以上850℃以下であるガラス材料からなり、ガラス層122は、軟化点がたとえば680℃程度であるガラス材料からなる。つまり、ガラス層122を形成するガラス材料は、部分グレーズ121を形成するガラス材料よりも軟化点が低い。なお、部分グレーズ121を形成するガラス材料とガラス層122を形成するガラス材料とは、軟化点が同じであってもよい。
In the
電極層3は、抵抗体層4に通電するための経路を構成するためのものであり、導電性材料によって形成されている。電極層3は、たとえば添加元素としてロジウム、バナジウム、ビスマス、シリコンなどが添加されたレジネートAu(金)からなる。電極層3は、複数のAu層を積層させた構成でもよい。また、電極層3は、Cu層とTi層とを積層させた構成であってもよいし、Cu層のみで構成されていてもよい。電極層3の厚さは、たとえば0.6μm以上1.2μm以下である。電極層3は、グレーズ層12上に形成されている。図3および図4に示すように、電極層3は、共通電極33および複数の個別電極36を含んでいる。
The
共通電極33は、図3に示すように、複数の共通電極帯状部34および連結部35を有している。連結部35は、基板1の副走査方向yの下流側端縁寄りに配置されており、主走査方向xに延びる帯状である。連結部35の抵抗値を低減させるために、連結部35上にAg層が積層されていてもよい。複数の共通電極帯状部34は、各々が連結部35から副走査方向yに延びており、主走査方向xに配列されている。複数の共通電極帯状部34はそれぞれ、基部341および延出部342を含んでいる。複数の基部341は、ピッチ幅Pt1(図3参照)で、主走査方向xに配列されている。このピッチ幅Pt1は、たとえば10μm以上100μm以下(一例では100μm)である。各基部341の幅(主走査方向xの寸法)は、たとえば10μm以上100μm以下(一例では60μm)であり、主走査方向xに隣り合う2つの基部341の離間距離は、たとえば10μm以上100μm以下(一例では40μm)である。延出部342は、基部341から抵抗体層4に向けて延びている。延出部342は、厚さ方向zにおいて、副走査方向yに長い帯状である。図3に示す例では、延出部342の幅(主走査方向xの寸法)は、基部341の幅(主走査方向xの寸法)よりも小さい。これにより、共通電極帯状部34の形成時(後述する先行塗布工程後の先行焼成工程時)に、共通電極帯状部34に断線が発生することを抑制している。なお、基部341の幅と延出部342の幅とは略同じであってもよい。複数の延出部342は、複数の基部341と同様に、ピッチ幅Pt1(図3参照)で、主走査方向xに配列されている。各複数の延出部342の幅(主走査方向xの寸法)は、たとえば10μm以上100μm以下(一例では60μm)であり、主走査方向xに隣り合う2つの延出部342の離間距離は、たとえば10μm以上100μm以下(一例では40μm)である。
The
複数の個別電極36は、抵抗体層4に対して部分的に導通するためのものであり、共通電極33に対して逆極性となる。各個別電極36は、抵抗体層4から各駆動IC71に向かって延びている。複数の個別電極36は、図3に示すように、主走査方向xに配列されている。各個別電極36は、個別電極帯状部38、連結部37およびボンディング部39を含んでいる。
The plurality of
複数の個別電極帯状部38はそれぞれ、図3に示すように、各連結部37から副走査方向yに延びている。複数の個別電極帯状部38は、ピッチ幅Pt2(図3参照)で、主走査方向xに配列されている。複数の個別電極帯状部38はそれぞれ、基部381および延出部382を含む。複数の基部381はそれぞれ、厚さ方向z視において、副走査方向yに長い帯状である。各基部381は、各連結部37に繋がる。複数の基部381は、ピッチ幅Pt2(図3参照)で、主走査方向xに配列されている。このピッチ幅Pt2は、ピッチ幅Pt1と同じであり、たとえば10μm以上100μm以下(一例では100μm)である。各基部381の幅(主走査方向xの寸法)は、たとえば10μm以上100μm以下(一例では60μm)であり、主走査方向xに隣り合う2つの基部381の離間距離は、たとえば10μm以上100μm以下(一例では40μm)である。延出部382は、基部381から抵抗体層4に向けて延びている。延出部382は、厚さ方向zにおいて、副走査方向yに長い帯状である。延出部382は、隣り合う2つの共通電極帯状部34(共通電極33)の間に位置する。延出部382の幅(主走査方向xの寸法)は、基部381の幅(主走査方向xの寸法)よりも小さい。図3に示す例では、これにより、個別電極帯状部38の形成時(後述する先行塗布工程後の先行焼成工程時)に、個別電極帯状部38に断線が発生することを抑制している。なお、基部381の幅と延出部382の幅とは略同じであってもよい。複数の延出部382は、複数の基部381と同様に、ピッチ幅Pt2(図3参照)で、主走査方向xに配列されている。各複数の延出部382の幅(主走査方向xの寸法)は、たとえば10μm以上100μm以下(一例では60μm)であり、主走査方向xに隣り合う2つの延出部382の離間距離は、たとえば10μm以上100μm以下(一例では40μm)である。
As shown in FIG. 3, each of the plurality of individual electrode strips 38 extends from each connecting
複数の連結部37はそれぞれ、図3に示すように、各個別電極帯状部38から各ボンディング部39に向かって延びる部分である。複数の連結部37はそれぞれ、平行部371および斜行部372を含む。複数の平行部371はそれぞれ、一端がボンディング部39に繋がり、かつ、副走査方向yに沿っている。複数の平行部371は、ピッチ幅Pt3(図3参照)で、主走査方向xに配列されている。このピッチ幅Pt3は、たとえば10μm以上100μm以下(一例では40μm)である。各平行部371の幅(主走査方向xの寸法)は、たとえば10μm以上100μm以下(一例では10μm)であり、主走査方向xに隣り合う2つの平行部371の離間距離は、たとえば10μm以上100μm以下(一例では30μm)である。複数の斜行部372はそれぞれ、副走査方向yに対して傾斜している。複数の斜行部372は、複数の平行部371と同様に、ピッチ幅Pt3で、配列されている。複数の斜行部372はそれぞれ、副走査方向yにおいて、各平行部371と各個別電極帯状部38との間に挟まれている。また、複数の個別電極36は、複数の駆動IC71のいずれかに集約される。このため、図3における主走査方向xにおける一端側での平行部371および斜行部372の境界と、他端側での平行部371および斜行部372の境界とは、副走査方向yにズレLが生じている。
Each of the plurality of connecting
各連結部37は、図3および図4に示すように、第1端縁部37a、第2端縁部37bおよび中間部37cを含む。第1端縁部37aは、副走査方向yの下流側の端部であり、各個別電極帯状部38に繋がる部位である。第1端縁部37aは、各個別電極帯状部38の上に形成されており、厚さ方向z視において、各個別電極帯状部38に重なる。第2端縁部37bは、副走査方向yの上流側の端部であり、各ボンディング部39に繋がる部位である。第2端縁部37bは、各ボンディング部39の上に形成されており、厚さ方向z視において、各ボンディング部39に重なる。中間部37cは、第1端縁部37aおよび第2端縁部37bを繋ぐ。中間部37cは、副走査方向y視において、第1端縁部37aおよび第2端縁部37bには重ならず、各個別電極帯状部38あるいは各ボンディング部39に重なる。
Each connecting
ボンディング部39は、図3に示すように、個別電極36のうち、副走査方向yの上流側の端部に形成されており、連結部37(平行部371)に繋がっている。各ボンディング部39には、各個別電極36と各駆動IC71とを接続するためのワイヤ61が接合されている。複数のボンディング部39は、複数の第1ボンディング部39Aと複数の第2ボンディング部39Bとを含む。第2ボンディング部39Bは、副走査方向yにおいて第1ボンディング部39Aよりも抵抗体層4から遠ざかる側に位置する。第2ボンディング部39Bは、隣り合う2つの第1ボンディング部39Aに挟まれた平行部371に繋がっている。このような構成により、複数のボンディング部39は、連結部37のほとんどの部位よりも幅が大きいにも関わらず、たがいに干渉することが回避されている。
As shown in FIG. 3, the
電極層3のうち、複数の共通電極帯状部34(共通電極33)、連結部35(共通電極33)、複数の個別電極帯状部38(複数の個別電極36)、および、複数のボンディング部39(複数の個別電極36)は、基板1の第1領域10Aに形成されている。また、電極層3のうち、複数の連結部37(複数の個別電極36)は、基板1の第2領域10Bに形成されている。本実施形態では、複数の共通電極帯状部34および複数の個別電極帯状部38がそれぞれ、特許請求の範囲に記載の「複数の第1部」に相当する。また、複数の連結部37が、特許請求の範囲に記載の「複数の第2部」に相当する。複数の第1部(複数の共通電極帯状部34、複数の個別電極帯状部38および複数のボンディング部39)と、複数の第2部(複数の連結部37)とは形成方法が異なるため、複数の第1部の端縁(たとえば各個別電極帯状部38の副走査方向yに延びる端縁)と複数の第2部の端縁(たとえば各連結部37の副走査方向yに延びる端縁)とは直線性が異なっている。なお、電極層3の各部の形状および配置は特に限定されず、様々な構成とすることができる。また、電極層3の各部の材料も限定されない。
Of the
抵抗体層4は、電極層3を構成する材料よりも抵抗率が大である。抵抗体層4は、たとえば酸化ルテニウムなどからなる。抵抗体層4は、図1に示すように、部分グレーズ121上に形成されている。抵抗体層4は、図1および図3に示すように、厚さ方向z視において、主走査方向xに延びる帯状である。抵抗体層4は、複数の共通電極帯状部34(共通電極33)の各延出部342と複数の個別電極帯状部38(複数の個別電極36)の各延出部382とに交差している。抵抗体層4は、複数の共通電極帯状部34と複数の個別電極帯状部38に対して基板1とは反対側に積層されている。抵抗体層4のうち各共通電極帯状部34と各個別電極帯状部38とに挟まれた部位が、発熱部41とされている。複数の発熱部41は、電極層3によって部分的に通電されることにより発熱する。各発熱部41の発熱によって印字ドットが形成される。複数の発熱部41は、主走査方向xに配列されている。基板1の主走査方向xの寸法が同じとき、主走査方向xに配列される複数の発熱部41の数が多いほど、サーマルプリントヘッドA1のドット密度が大きくなる。抵抗体層4の厚さは、たとえば3μm以上6μm以下である。抵抗体層4の材料および厚さは限定されない。図4に示す例では、抵抗体層4は、部分グレーズ121の頂部上に形成されているが、部分グレーズ121の頂部上に形成されている必要はなく、部分グレーズ121上に形成されていればよい。
The
保護層5は、電極層3および抵抗体層4などを保護するためのものである。ただし、保護層5は、複数の個別電極36の複数のボンディング部39を含む領域を露出させている。保護層5は、たとえば非晶質ガラスからなる。保護層5は、非結晶ガラスからなる第1層と、たとえばSiAlONからなる第2層とが積層されていてもよい。SiAlONは、窒化ケイ素(Si3N4)にアルミナ(Al2O3)とシリカ(SiO2)を合成した窒化ケイ素系のエンジニアリングセラミックスである。第2層はたとえばスパッタリングで形成される。第2層は、SiAlONの代わりにSiC(炭化ケイ素)を採用してもよい。
The
保護層5は、図4に示すように、第1被覆部51および第2被覆部52を含んでいる。第1被覆部51は、保護層5のうち、厚さ方向z視において部分グレーズ121に重なる部分である。第1被覆部51は、部分グレーズ121上に形成されている。第1被覆部51は、隆起部511を含んでいる。隆起部511は、厚さ方向z視において、抵抗体層4(各発熱部41)に重なる。抵抗体層4が電極層3あるいは部分グレーズ121の各表面に対して隆起するように配置されていることから、隆起部511は、抵抗体層4に沿って隆起した形状となっている。第2被覆部52は、保護層5のうち、厚さ方向z視において、部分グレーズ121に重ならない部分である。第2被覆部52は、厚さ方向z視において、第1被覆部51の副走査方向y両端に配置されている。副走査方向y上流側の第2被覆部52は、第1被覆部51の副走査方向yの下流側端縁から複数のボンディング部39の手前に渡る領域に形成されている。
The
駆動IC71は、複数の個別電極36を選択的に通電させることにより、抵抗体層4を部分的に発熱させる。駆動IC71には、複数のパッドが設けられている。駆動IC71のパッドと複数の個別電極36とは、それぞれに接合された複数のワイヤ61を介して接続されている。ワイヤ61は、Auからなる。図1および図2に示すように、駆動IC71およびワイヤ61は、封止樹脂72によって覆われている。封止樹脂72は、絶縁性であり、たとえば黒色の軟質樹脂からなる。また、駆動IC71とコネクタ73とは、図示しない信号線によって接続されている。
The
次に、サーマルプリントヘッドA1の製造方法の一例について、図5~図10を参照して、説明する。図5~図10において、図6および図8は、サーマルプリントヘッドA1の製造方法の一工程を示す要部平面図であって、図3に対応する。それ以外の図は、サーマルプリントヘッドA1の製造方法の一工程を示す要部断面図であって、図4に対応する。 Next, an example of a method for manufacturing the thermal print head A1 will be described with reference to FIGS. 5 to 10. 5 to 10, FIGS. 6 and 8 are principal part plan views showing one step of the method for manufacturing the thermal print head A1, and correspond to FIG. 3. The other figures are main part sectional views showing one step of the method for manufacturing the thermal print head A1, and correspond to FIG. 4.
まず、図5に示す基板1を準備する。基板1を準備する工程(基板準備工程)は、基材用意工程とグレーズ層形成工程とを含む。基材用意工程では、たとえばセラミックからなる基材11を用意する。このセラミックの素材としては、たとえばAlN、Al2O3、ジルコニアなどのいずれであってもよい。基材11は、厚さ方向zの上方を向く主面11aを有している。グレーズ層形成工程では、基材11の主面11a上にグレーズ層12を形成する。グレーズ層12を形成する工程は、部分グレーズ121を形成する部分グレーズ形成工程とガラス層122を形成するガラス層形成工程とを含む。部分グレーズ形成工程では、部分グレーズ121を構成するガラスペーストをたとえばスクリーン印刷し、これをたとえば800℃以上850℃以下の焼成温度で焼成する。これにより、部分グレーズ121が形成される。ガラス層形成工程では、ガラス層122を構成するガラスペーストをたとえばスクリーン印刷し、これをたとえば約680℃の焼成温度で焼成する。これにより、ガラス層122が形成される。部分グレーズ形成工程およびガラス層形成工程における各焼成温度は、部分グレーズ121を構成するガラスペースト、ガラス層122を構成するガラスペーストの各軟化点に基づいて適宜変更される。
First, a
次いで、基板1上に電極層3を形成する。電極層3を形成する工程(電極層形成工程)は、先行塗布工程、先行焼成工程、後行塗布工程、および、後行焼成工程を含む。
Next, an
電極層形成工程では、まず、先行塗布工程を行う。先行塗布工程では、図6に示すように、基板1の第1領域10Aに導電性ペースト30Aを塗布する。導電性ペースト30Aは、たとえばレジネートAuペーストである。先行塗布工程は、たとえばスクリーン印刷によって行われる。導電性ペースト30Aは、先行塗布工程によって、電極層3のうち、複数の共通電極帯状部34および連結部35(共通電極33)と、複数の個別電極帯状部38および複数のボンディング部39(複数の個別電極36)との各パターン形状とほぼ同形状に形成される。つまり、先行塗布工程によって、共通電極33の複数の共通電極帯状部34および連結部35と、複数の個別電極36の複数の個別電極帯状部38および複数のボンディング部39とのパターニングが行われる。先行塗布工程が、特許請求の範囲に記載の「第1パターニング工程」に相当する。
In the electrode layer forming step, first, a preliminary coating step is performed. In the preliminary coating step, as shown in FIG. 6, a
次いで、先行焼成工程を行う。先行焼成工程では、先行塗布工程によって塗布された導電性ペースト30Aを焼成する。これにより、図7に示すように、複数の共通電極帯状部34および連結部35(共通電極33)と、複数の個別電極36の複数の個別電極帯状部38および複数のボンディング部39(複数の個別電極36)とが形成される。なお、先行塗布工程と先行焼成工程との間に、導電性ペースト30Aを乾燥させる工程をさらに追加してもよい。
Next, a preliminary firing step is performed. In the preliminary firing step, the
次いで、後行塗布工程を行う。後行塗布工程では、図8に示すように、基板1の第2領域10Bに導電性ペースト30Bを塗布する。導電性ペースト30Bは、導電性ペースト30Aと同一材料であり、たとえばレジネートAuペーストである。後行塗布工程は、たとえばディスペンサーを用いて行われる。導電性ペースト30Bは、後行塗布工程によって、電極層3のうち、複数の連結部37(複数の個別電極36)のパターン形状とほぼ同形状に形成される。つまり、後行塗布工程によって、複数の連結部37のパターニングが行われる。第2塗布工程が、特許請求の範囲に記載の「第2パターニング工程」に相当する。
Next, a subsequent coating step is performed. In the subsequent coating step, as shown in FIG. 8, a
次いで、後行塗布工程を行う。後行焼成工程では、後行塗布工程によって塗布された導電性ペースト30Bを焼成する。これにより、図9に示すように、複数の連結部37が形成される。なお、後行塗布工程と後行焼成工程との間に、導電性ペースト30Bを乾燥させる工程をさらに追加してもよい。
Next, a subsequent coating step is performed. In the subsequent firing process, the
次いで、図10に示すように抵抗体層4を形成する。抵抗体層4を形成する工程(抵抗体層形成工程)では、部分グレーズ121上に、抵抗体ペーストをスクリーン印刷する。抵抗体ペーストは、たとえば酸化ルテニウムなどの抵抗体を含む。抵抗体ペーストは、部分グレーズ121上において、主走査方向xに延びる帯状に形成され、各共通電極帯状部34(延出部342)と各個別電極帯状部38(延出部382)とに交差する。そして、スクリーン印刷した抵抗体ペーストを焼成する。これにより、図10に示す抵抗体層4が形成される。
Next, as shown in FIG. 10, a
次いで、保護層5を形成する。保護層5を形成する工程(保護層形成工程)では、基材11の厚さ方向zの上方において、外部に露出するグレーズ層12、電極層3(複数のボンディング部39を除く)および抵抗体層4の上に、保護層5を構成するガラスペーストをスクリーン印刷する。そして、スクリーン印刷したガラスペーストを焼成する。これにより、保護層5が形成される。
Next, a
その後、駆動IC71の実装、ワイヤ61のボンディング、基板1および配線基板74の放熱部材75への取付などの組立工程を行うことにより、図1~図4に示すサーマルプリントヘッドA1が製造される。
Thereafter, the thermal print head A1 shown in FIGS. 1 to 4 is manufactured by performing assembly steps such as mounting the
サーマルプリントヘッドA1の製造方法の作用および効果は、次の通りである。 The functions and effects of the method for manufacturing the thermal print head A1 are as follows.
サーマルプリントヘッドA1の製造方法は、第1パターニング工程(先行塗布工程)と第2パターニング工程(後行塗布工程)とを含む電極層形成工程を含んでいる。第1パターニング工程では、スクリーン印刷により、複数の第1部のパターンが形成される。本実施形態では、複数の第1部として、たとえば、複数の共通電極帯状部34、複数の個別電極帯状部38および複数のボンディング部39のパターンが形成される。第2パターニング工程では、スクリーン印刷よりも高い精細度でパターニングが可能な手法により、複数の第2部のパターンが形成される。本実施形態では、複数の第2部として、たとえば複数の連結部37のパターンが形成される。複数の第1部は、第1ピッチ幅(ピッチ幅Pt1、Pt2)で配列されており、スクリーン印刷によるパターニングでも、短絡や断線などがない適切なパターン形成が可能である。一方、複数の第2部は、第1ピッチ幅よりも小さい第2ピッチ幅(ピッチ幅Pt3)で配列されており、スクリーン印刷によるパターニングでは、短絡や断線などが生じる虞がある。そこで、複数の第2部は、スクリーン印刷よりも高い精細度でパターニングが可能な手法により、パターニングしている。これにより、複数の第2部は、短絡や断線などがない適切なパターン形成が可能である。したがって、サーマルプリントヘッドA1の製造方法によれば、導通経路が適切に構成された電極層3を形成することができる。
The method for manufacturing the thermal print head A1 includes an electrode layer forming process including a first patterning process (preliminary coating process) and a second patterning process (subsequent coating process). In the first patterning step, a plurality of first part patterns are formed by screen printing. In this embodiment, as the plurality of first parts, for example, patterns of a plurality of common
サーマルプリントヘッドA1の製造方法では、後行塗布工程によって、複数の第2部のパターニングを行っている。後行塗布工程は、ディスペンサー塗布によって第2領域10Bに導電性ペースト30Bを塗布している。この構成によれば、スクリーン印刷よりも高い精細度で、複数の第2部のパターニングができる。よって、複数の第1部よりも微細なパターン形状である複数の第2部を、短絡や断線などさせることなく、適切に形成できる。なお、複数の第2部のパターニング手法としては、たとえば、スクリーン印刷により、導電性ペースト30Bを塗布した後、エッチングによりパターニングする手法も考えられる。しかしながら、このパターニング手法では、リソグラフィによるマスク形成、エッチング、および、マスクの除去が必要となり、製造コストの増加が懸念される。したがって、サーマルプリントヘッドA1の製造方法においては、製造コストの増加が抑制される。
In the method for manufacturing the thermal print head A1, a plurality of second portions are patterned in a subsequent coating process. In the subsequent application step, the
サーマルプリントヘッドA1の製造方法では、第1パターニング工程(先行塗布工程)では、スクリーン印刷によって、複数の第1部のパターニングを行っている。スクリーン印刷によるパターニングは、ディスペンサー塗布によるパターニングと比較して、精細度が低いが、塗布(印刷)のサイクルタイムが短いため、製造効率が高い。したがって、サーマルプリントヘッドA1の製造方法は、複数の第1部および複数の第2部のすべてをディスペンサー塗布でパターニングする場合と比較して、製造効率の低下を抑制しつつ、導通経路が適切に構成された電極層3を形成することができる。
In the method for manufacturing the thermal print head A1, in the first patterning step (preliminary coating step), a plurality of first portions are patterned by screen printing. Patterning by screen printing has lower definition than patterning by dispenser coating, but the cycle time for coating (printing) is short, so it has high manufacturing efficiency. Therefore, compared to the case where all of the plurality of first parts and the plurality of second parts are patterned by dispenser coating, the method for manufacturing the thermal print head A1 suppresses a decrease in manufacturing efficiency while ensuring that the conductive paths are properly formed. A
第1実施形態にかかる製造方法において、電極層形成工程は、上記した方法に限定されない。たとえば、先行塗布工程後に、後行塗布工程を行い、その後に、先行焼成工程と後行焼成工程とを一括して行う。これにより、電極層3を形成してもよい。この場合、先行塗布工程と後行塗布工程との間に、基板1をスクリーン印刷機からディスペンサーに搬送する必要がある。この搬送時に発生する振動によって、導電性ペースト30Aが意図せぬところに流出する虞がある。そこで、たとえば先行塗布工程後であって、後行塗布工程前に、導電性ペースト30Aを乾燥させてから、搬送すると、上記流出を抑制できる。また、たとえば、先行塗布工程と後行塗布工程との順序を変えて、複数の第2部(複数の連結部37)を形成した後に、複数の第1部(複数の個別電極帯状部38など)を形成してもよい。つまり、ディスペンサー塗布により第2領域10Bに導電性ペースト30Bを塗布した後に、当該導電性ペースト30Bを焼成する。そして、スクリーン印刷により第1領域10Aに導電性ペースト30Aを塗布した後に、当該導電性ペースト30Aを焼成する。これにより、電極層3を形成してもよい。この場合、たとえば図11に示すサーマルプリントヘッドA2が形成される。図11に示すサーマルプリントヘッドA2では、各連結部37の第1端縁部37aは、各個別電極帯状部38の上に形成されるのではなく、各個別電極帯状部38と基板1との間に介在した配置となる。また、各連結部37の第2端縁部37bは、各ボンディング部39の上に形成されるのではなく、各ボンディング部39とガラス層122(基板1)との間に介在した配置となる。
In the manufacturing method according to the first embodiment, the electrode layer forming step is not limited to the method described above. For example, after the preceding coating process, the subsequent coating process is performed, and then the preceding firing process and the subsequent firing process are performed at once. Thereby, the
<第2実施形態>
図12および図13は、第2実施形態にかかるサーマルプリントヘッドB1を示している。図12は、サーマルプリントヘッドB1を示す平面図であり、図3の要部拡大平面図に対応する。図13は、図12のXIII-XIII線に沿う断面図であり、図4の要部拡大断面図に対応する。
<Second embodiment>
12 and 13 show a thermal print head B1 according to a second embodiment. FIG. 12 is a plan view showing the thermal print head B1, and corresponds to the enlarged plan view of the main part in FIG. 3. 13 is a sectional view taken along the line XIII-XIII in FIG. 12, and corresponds to the enlarged sectional view of the main part in FIG. 4.
図12および図13に示すように、サーマルプリントヘッドB1は、電極層3の構成が、サーマルプリントヘッドA1と異なる。
As shown in FIGS. 12 and 13, the thermal print head B1 differs from the thermal print head A1 in the structure of the
サーマルプリントヘッドB1の電極層3は、図12に示すように、各連結部37(各個別電極36)の幅が、サーマルプリントヘッドA1における各連結部37の幅よりも大きい。本実施形態では、複数の連結部37において、複数の平行部371および複数の斜行部372はそれぞれ、サーマルプリントヘッドA1と同様に、ピッチ幅Pt3(図12参照)で、配列されている。ただし、各平行部371の幅(主走査方向xの寸法)は、たとえば10μm以上100μm以下(一例では30μm)であり、主走査方向xに隣り合う2つの平行部371の離間距離は、たとえば10μm以上100μm以下(一例では10μm)である。また、各斜行部372の幅も同様に、たとえば10μm以上100μm以下(一例では30μm)であり、隣り合う2つの斜行部372の離間距離は、たとえば10μm以上100μm以下(一例では10μm)である。
As shown in FIG. 12, in the
図12に示すように、複数の平行部371のうち、第2ボンディング部39Bに繋がる平行部371は、細線部371Bを含んでいる。各細線部371Bは、各第2ボンディング部39Bに繋がる平行部371のうち、副走査方向yの上流側に位置し、隣り合う2つの第1ボンディング部39Aに挟まれている。細線部371Bは、各平行部371において、その幅(主走査方向xにおける長さ)が他の部分よりも小さい。
As shown in FIG. 12, among the plurality of
図13に示すように、各個別電極36は、連結部37が、個別電極帯状部38およびボンディング部39と一体的に形成されている。各連結部37の第1端縁部37aは、厚さ方向z視において、各個別電極帯状部38に重ならず、各連結部37の第2端縁部37bは、厚さ方向z視において、各ボンディング部39に重ならない。各連結部37において、第1端縁部37a、第2端縁部37bおよび中間部37cはそれぞれ、ガラス層122(グレーズ層12)に当接している。
As shown in FIG. 13, in each
本実施形態では、電極層3のうち、複数の共通電極帯状部34(共通電極33)、および、複数の個別電極帯状部38(複数の個別電極36)は、基板1の第1領域10Aに形成されている。また、電極層3のうち、複数の連結部37(複数の個別電極36)および複数のボンディング部39(複数の個別電極36)は、基板1の第2領域10Bに形成されている。本実施形態では、複数の共通電極帯状部34および複数の個別電極帯状部38がそれぞれ、特許請求の範囲に記載の「複数の第1部」に相当する。また、複数の連結部37が、特許請求の範囲に記載の「複数の第2部」に相当する。
In this embodiment, the plurality of common electrode strips 34 (common electrodes 33) and the plurality of individual electrode strips 38 (the plurality of individual electrodes 36) of the
次に、サーマルプリントヘッドB1の製造方法の一例について、図14を参照して説明する。図14は、サーマルプリントヘッドB1の製造方法の一工程を示す平面図であって、図12に対応する。 Next, an example of a method for manufacturing the thermal print head B1 will be described with reference to FIG. 14. FIG. 14 is a plan view showing one step of the method for manufacturing the thermal print head B1, and corresponds to FIG. 12.
サーマルプリントヘッドB1の製造方法は、サーマルプリントヘッドA1の製造方法と比較して、電極層形成工程が異なる。本実施形態における電極層形成工程は、塗布工程と、焼成工程と、部分除去工程と、を含む。 The method for manufacturing the thermal print head B1 differs from the method for manufacturing the thermal print head A1 in the electrode layer forming process. The electrode layer forming process in this embodiment includes a coating process, a baking process, and a partial removal process.
本実施形態における電極層形成工程では、まず、塗布工程を行う。塗布工程では、基板準備工程によって準備した基板1に導電性ペースト30Cを塗布する。導電性ペースト30Cは、導電性ペースト30A,30Bと同一材料であり、たとえばレジネートAuペーストである。塗布工程は、スクリーン印刷によって行われる。塗布工程では、図14に示すように、第1領域10Aには、複数の共通電極帯状部34および連結部35、および、複数の個別電極帯状部38のパターン形状とほぼ同形状の導電性ペースト30Cが形成され、第2領域10Bには、全面にベタパターンが形成される。本実施形態の塗布工程は、第1領域10Aに導電性ペースト30Cを塗布する第1塗布工程と、第2領域10Bに導電性ペースト30Cを塗布する第2塗布工程とを含み、これら第1塗布工程と第2塗布工程とが一括して行われている。第1塗布工程によって、第1領域10Aに形成された導電性ペースト30Cは、複数の共通電極帯状部34および連結部35、および、複数の個別電極帯状部38のパターン形状とほぼ同形状で形成されていることから、第1塗布工程により、複数の共通電極帯状部34および連結部35、および、複数の個別電極帯状部38(複数の第1部)のパターニングが行われる。
In the electrode layer forming step in this embodiment, a coating step is first performed. In the coating process, the
次いで、焼成工程を行う。焼成工程は、塗布工程によって塗布された導電性ペースト30Cを焼成する。これにより、導電性ペースト30Cの焼成体が形成される。本実施形態の焼成工程は、第1領域10Aに塗布された導電性ペースト30Cを焼成する第1焼成工程と、第2領域10Bに塗布された導電性ペースト30C(ベタパターン)を焼成する第2焼成工程とを含み、これら第1焼成工程と第2焼成工程とが一括して行われている。なお、塗布工程と焼成工程との間において、導電性ペースト30Cを乾燥させる工程をさらに追加してもよい。
Next, a firing process is performed. In the baking process, the
次いで、部分除去工程を行う。部分除去工程では、レーザ加工によって、第2領域10Bに形成されたベタパターンを部分除去する。これにより、複数の連結部37および複数のボンディング部39が形成される。よって、部分除去工程により、複数の連結部37および複数のボンディング部39(複数の第2部)のパターン形状が形成される。
Next, a partial removal step is performed. In the partial removal step, the solid pattern formed in the
本実施形態では、第1領域10Aに導電性ペースト30Cを塗布する第1塗布工程が、特許請求の範囲に記載の「第1パターニング工程」に相当する。また、第2領域10Bに導電性ペースト30Cを塗布する第2塗布工程が、特許請求の範囲に記載の「塗布工程」に相当し、第2領域10Bに導電性ペースト30Cを塗布する第2塗布工程と、これを焼成する第2焼成工程と、部分除去工程とをあわせた工程が、特許請求の範囲に記載の「第2パターニング工程」に相当する。
In this embodiment, the first application step of applying the
その後は、第1実施形態にかかる製造方法と同様に、抵抗体層形成工程、保護層形成工程および組立工程を行うことで、サーマルプリントヘッドB1が製造される。 After that, the thermal print head B1 is manufactured by performing a resistor layer forming process, a protective layer forming process, and an assembly process in the same manner as in the manufacturing method according to the first embodiment.
サーマルプリントヘッドB1の製造方法の作用および効果は、次の通りである。 The functions and effects of the method for manufacturing the thermal print head B1 are as follows.
サーマルプリントヘッドB1の製造方法は、サーマルプリントヘッドA1の製造方法と同様に、第1パターニング工程と第2パターニング工程と含む電極層形成工程を含んでいる。第1パターニング工程では、スクリーン印刷により、複数の第1部のパターンが形成される。本実施形態では、複数の第1部として、たとえば、複数の共通電極帯状部34および複数の個別電極帯状部38が形成される。第2パターニング工程では、スクリーン印刷よりも高い精細度でパターニングが可能な手法により、複数の第2部のパターンが形成される。本実施形態では、複数の第2部として、たとえば複数の連結部37および複数のボンディング部39のパターンが形成される。したがって、サーマルプリントヘッドC1の製造方法は、サーマルプリントヘッドA1の各製造方法と同様に、スクリーン印刷ではパターニングが困難な複数の第2部を、スクリーン印刷よりも高い精細度でパターニング可能な手法によりパターニングする。これにより、導通経路が適切に構成された電極層3を形成することができる。
The method for manufacturing the thermal print head B1 includes an electrode layer forming step including a first patterning step and a second patterning step, similar to the method for manufacturing the thermal print head A1. In the first patterning step, a plurality of first part patterns are formed by screen printing. In this embodiment, for example, a plurality of common
サーマルプリントヘッドB1の製造方法では、塗布工程(第2塗布工程)、焼成工程(第2焼成工程)、および、部分除去工程を順に処理することで、複数の第2部のパターニングを行っている。塗布工程(第2塗布工程)は、スクリーン印刷によって第2領域10Bに導電性ペースト30Cを塗布し、第2領域10Bの全面にベタパターンを形成する。焼成工程(第2焼成工程)は、ベタパターン部分の導電性ペースト30Cを焼成し、導電性ペースト30Cの焼成体を形成する。そして、部分除去工程は、レーザ加工によって、ベタパターンを部分除去し、複数の第2部のパターンを形成する。この構成によれば、スクリーン印刷よりも高い精細度で、複数の第2部のパターニングができる。よって、複数の第1部よりも微細なパターン形状である複数の第2部を、短絡や断線などさせることなく、適切に形成できる。
In the method for manufacturing the thermal print head B1, patterning of a plurality of second parts is performed by sequentially performing a coating process (second coating process), a baking process (second baking process), and a partial removal process. . In the application step (second application step), the
サーマルプリントヘッドB1の製造方法は、塗布工程および焼成工程を含む。塗布工程では、第1領域10Aに導電性ペースト30Cを塗布する第1塗布工程と第2領域10Bに導電性ペースト30Cを塗布する第2塗布工程とが、スクリーン印刷によって一括して行われる。焼成工程では、第1領域10Aの導電性ペースト30Cを焼成する第1焼成工程と第2領域10Bの導電性ペースト30Cを焼成する第2焼成工程とを含んでいる。この構成によると、導電性ペースト30Cの塗布および焼成をそれぞれ1回で行うことができるため、製造効率を向上させる上で好ましい。
The method for manufacturing the thermal print head B1 includes a coating process and a baking process. In the application process, a first application process of applying the
第2実施形態にかかる製造方法において、電極層形成工程は、上記した方法に限定されない。たとえば、第1塗布工程と第2塗布工程とを一括ではなく別々に行い、かつ、第1焼成工程と第2焼成工程とを一括ではなく別々に行うようにしてもよい。たとえば、第1塗布工程、第1焼成工程、第2塗布工程、第2焼成工程、そして、部分除去工程の順に処理してもよい。この場合、たとえば図15に示すサーマルプリントヘッドB2が形成される。図15に示すサーマルプリントヘッドB2では、各連結部37の第1端縁部37aが、各個別電極帯状部38と一体的に形成されておらず、各個別電極帯状部38の上に形成されている。また、たとえば、第2塗布工程、第2焼成工程、部分除去工程、第1塗布工程、そして、第1焼成工程の順に処理してもよい。この場合、たとえば図16に示すサーマルプリントヘッドB3が形成される。図16に示すサーマルプリントヘッドB3では、各連結部37の第1端縁部37aが、各個別電極帯状部38と一体的に形成されておらず、各個別電極帯状部38の下に形成されている。つまり、各連結部37の第1端縁部37aは、各個別電極帯状部38とガラス層122(基板1)との間に介在する。
In the manufacturing method according to the second embodiment, the electrode layer forming step is not limited to the method described above. For example, the first coating step and the second coating step may be performed separately instead of all at once, and the first baking step and the second baking step may be performed separately instead of all at once. For example, the first coating step, first baking step, second coating step, second baking step, and partial removal step may be performed in this order. In this case, for example, a thermal print head B2 shown in FIG. 15 is formed. In the thermal print head B2 shown in FIG. 15, the
<第3実施形態>
図17および図18は、第3実施形態にかかるサーマルプリントヘッドC1を示している。図17は、サーマルプリントヘッドC1を示す平面図であり、図3の要部拡大平面図に対応する。図18は、図17のXVIII-XVIII線に沿う断面図であり、図4の要部拡大断面図に対応する。
<Third embodiment>
17 and 18 show a thermal print head C1 according to a third embodiment. FIG. 17 is a plan view showing the thermal print head C1, and corresponds to the enlarged plan view of the main part in FIG. FIG. 18 is a sectional view taken along the line XVIII-XVIII in FIG. 17, and corresponds to the enlarged sectional view of the main part in FIG.
図17および図18に示すように、サーマルプリントヘッドC1は、電極層3の構成が、サーマルプリントヘッドA1,B1と異なる。
As shown in FIGS. 17 and 18, the thermal print head C1 differs from the thermal print heads A1 and B1 in the structure of the
図18に示すように、サーマルプリントヘッドC1の電極層3において、各個別電極36は、連結部37が、個別電極帯状部38と別に形成され、かつ、ボンディング部39と一体的に形成されている。各連結部37の第1端縁部37aは、厚さ方向z視において、各個別電極帯状部38に重なっており、各個別電極帯状部38とガラス層122(基板1)との間に位置する。各連結部37の第2端縁部37bは、厚さ方向z視において、ボンディング部39に重ならない。
As shown in FIG. 18, in the
本実施形態では、電極層3のうち、複数の共通電極帯状部34(共通電極33)、および、複数の個別電極帯状部38(複数の個別電極36)は、基板1の第1領域10Aに形成されている。また、電極層3のうち、複数の連結部37(複数の個別電極36)および複数のボンディング部39(複数の個別電極36)は、基板1の第2領域10Bに形成されている。本実施形態では、複数の共通電極帯状部34および複数の個別電極帯状部38がそれぞれ、特許請求の範囲に記載の「複数の第1部」に相当する。また、複数の連結部37が、特許請求の範囲に記載の「複数の第2部」に相当する。
In this embodiment, the plurality of common electrode strips 34 (common electrodes 33) and the plurality of individual electrode strips 38 (the plurality of individual electrodes 36) of the
サーマルプリントヘッドC1の製造方法の一例について、図19~図25を参照して、説明する。図19、図22および図24は、サーマルプリントヘッドC1の製造方法の一工程を示す平面図であって、図17の要部拡大平面図に対応する。図20、図21、図23および図25は、サーマルプリントヘッドC1の製造方法の一工程を示す断面図であって、図4の要部拡大断面図に対応する。図20は、図19のXX-XX線に沿う断面を示し、図23は、図22のXXIII-XXIII線に沿う断面を示し、図25は、図24のXXV-XXV線に沿う断面を示す。 An example of a method for manufacturing the thermal print head C1 will be described with reference to FIGS. 19 to 25. 19, FIG. 22, and FIG. 24 are plan views showing one step of the method for manufacturing the thermal print head C1, and correspond to the enlarged plan view of the main part in FIG. 17. 20, FIG. 21, FIG. 23, and FIG. 25 are cross-sectional views showing one step of the method for manufacturing the thermal print head C1, and correspond to the enlarged cross-sectional view of the main part of FIG. 4. 20 shows a cross section along line XX-XX in FIG. 19, FIG. 23 shows a cross section along line XXIII-XXIII in FIG. 22, and FIG. 25 shows a cross section along line XXV-XXV in FIG. .
サーマルプリントヘッドC1の製造方法は、サーマルプリントヘッドA1,B1の各製造方法と比較して、電極層形成工程が異なる。本実施形態における電極層形成工程は、先行塗布工程と、スタンプ工程と、先行焼成工程と、部分除去工程と、後行塗布工程と、後行塗布工程と、を含む。 The method for manufacturing the thermal print head C1 differs from the methods for manufacturing the thermal print heads A1 and B1 in the electrode layer forming process. The electrode layer forming process in this embodiment includes a preceding coating process, a stamping process, a preceding baking process, a partial removal process, a subsequent coating process, and a subsequent coating process.
本実施形態における電極層形成工程では、まず、先行塗布工程を行う。先行塗布工程では、基板準備工程によって準備した基板1の第2領域10Bに導電性ペースト30Bを塗布する。先行塗布工程は、スクリーン印刷によって行われ、図19および図20に示すように、第2領域10Bの全面にベタパターンを形成する。
In the electrode layer forming step in this embodiment, a preliminary coating step is first performed. In the advance coating step, the
次いで、スタンプ工程を行う。スタンプ工程では、図21に示すように、凹凸パターンを有するインプリント用モールド91を、先行塗布工程で塗布した導電性ペースト30Bに接触させて加圧する。そして、インプリント用モールド91の加圧を解放することで、図22および図23に示すように、導電性ペースト30Bに厚肉部311と薄肉部312とが形成される。
Next, a stamping process is performed. In the stamping process, as shown in FIG. 21, an
次いで、先行焼成工程を行う。先行焼成工程では、厚肉部311および薄肉部312を含む導電性ペースト30Bを焼成する。これにより、導電性ペースト30Bの焼成体が形成される。スタンプ工程と先行焼成工程との間において、導電性ペースト30Bを乾燥させる工程をさらに追加してもよい。
Next, a preliminary firing step is performed. In the preliminary firing step, the
次いで、部分除去工程を行う。部分除去工程では、図24および図25に示すように、たとえばエッチングにより、厚肉部311を残して、薄肉部312を除去する。本実施形態では、当該エッチングを全面に行っており、厚肉部311も厚さ方向zの寸法が小さくなる。なお、厚肉部311上にマスクを形成し、厚肉部311が薄くならなくしてもよい。部分除去工程は、エッチングに限定されず、たとえばブラストにより、薄肉部312を除去してもよい。これにより、図24および図25に示すように、複数の連結部37および複数のボンディング部39が形成される。よって、部分除去工程によって、複数の連結部37および複数のボンディング部39(複数の第2部)のパターンが形成される。
Next, a partial removal step is performed. In the partial removal step, as shown in FIGS. 24 and 25, by etching, for example, the
次いで、後行塗布工程を行う。後行塗布工程では、基板1の第1領域10Aに導電性ペースト30Aを塗布する。後行塗布工程では、スクリーン印刷により、図24において想像線で示すパターンで導電性ペースト30Aを塗布する。図24の想像線で示すパターンは、複数の共通電極帯状部34および連結部35と、複数の個別電極帯状部38とのパターン形状とほぼ同形状である。よって、後行塗布工程により、複数の共通電極帯状部34および複数の個別電極帯状部38(複数の第1部)のパターニングが行われる。
Next, a subsequent coating step is performed. In the subsequent coating step, a
次いで、後行焼成工程を行う。後行焼成工程では、導電性ペースト30Aを焼成することで、複数の共通電極帯状部34および連結部35(共通電極33)と、複数の個別電極帯状部38と、が形成される。後行塗布工程と後行焼成工程との間に、導電性ペースト30Aを乾燥させる工程をさらに追加してもよい。
Next, a subsequent firing step is performed. In the subsequent firing step, the
本実施形態では、後行塗布工程が、特許請求の範囲に記載の「第1パターニング工程」に相当し、後行焼成工程が、特許請求の範囲に記載の「第1焼成工程」に相当する。先行塗布工程が、特許請求の範囲に記載の「塗布工程」に相当し、先行焼成工程が、特許請求の範囲に記載の「第2焼成工程」に相当する。また、先行塗布工程、スタンプ工程、先行焼成工程および部分除去工程をあわせた工程が、特許請求の範囲に記載の「第2パターニング工程」に相当する。 In this embodiment, the subsequent coating process corresponds to the "first patterning process" described in the claims, and the subsequent baking process corresponds to the "first baking process" described in the claims. . The preceding coating step corresponds to the "coating step" described in the claims, and the preceding firing step corresponds to the "second firing step" described in the claims. Further, the combined process of the preliminary coating process, stamping process, preliminary baking process, and partial removal process corresponds to the "second patterning process" described in the claims.
その後は、第1実施形態および第2実施形態にかかる各製造方法と同様に、抵抗体層形成工程、保護層形成工程および組立工程を行うことで、サーマルプリントヘッドC1が製造される。 After that, the thermal print head C1 is manufactured by performing a resistor layer forming process, a protective layer forming process, and an assembly process similarly to each manufacturing method according to the first embodiment and the second embodiment.
サーマルプリントヘッドC1の製造方法の作用および効果は、次の通りである。 The functions and effects of the method for manufacturing the thermal print head C1 are as follows.
サーマルプリントヘッドC1の製造方法は、サーマルプリントヘッドA1,B1の製造方法と同様に、第1パターニング工程と第2パターニング工程と含む電極層形成工程を含んでいる。第1パターニング工程では、スクリーン印刷により、複数の第1部のパターンが形成される。本実施形態では、複数の第1部として、たとえば、複数の共通電極帯状部34および複数の個別電極帯状部38が形成される。第2パターニング工程では、スクリーン印刷よりも高い精細度でパターニングが可能な手法により、複数の第2部のパターンが形成される。本実施形態では、複数の第2部として、たとえば複数の連結部37および複数のボンディング部39のパターンが形成される。したがって、サーマルプリントヘッドC1の製造方法は、サーマルプリントヘッドA1,B1の各製造方法と同様に、スクリーン印刷ではパターニングが困難な複数の第2部を、スクリーン印刷よりも高い精細度でパターニング可能な手法によりパターニングする。これにより、導通経路が適切に構成された電極層3を形成することができる。
The method for manufacturing the thermal print head C1 includes an electrode layer forming step including a first patterning step and a second patterning step, similar to the method for manufacturing the thermal print heads A1 and B1. In the first patterning step, a plurality of first part patterns are formed by screen printing. In this embodiment, for example, a plurality of common
サーマルプリントヘッドC1の製造方法では、先行塗布工程、スタンプ工程、先行焼成工程、および、部分除去工程を順に処理することで、複数の第2部のパターニングを行っている。先行塗布工程では、スクリーン印刷によって第2領域10Bに導電性ペースト30Bを塗布し、第2領域10Bの全面にベタパターンを形成する。スタンプ工程は、ベタパターンの導電性ペースト30Bをインプリント用モールド91で押さえることで、導電性ペースト30Bに厚肉部311と薄肉部312とを形成する。先行焼成工程は、厚肉部311および薄肉部312を含む導電性ペースト30Bを焼成し、当該導電性ペースト30Bの焼成体を形成する。部分除去工程では、たとえばエッチングにより厚肉部311を残して、薄肉部312を除去することで、複数の第2部のパターンを形成する。この構成によれば、スクリーン印刷よりも高い精細度で、複数の第2部のパターニングができる。よって、複数の第1部よりも微細なパターン形状である複数の第2部を、短絡や断線などさせることなく、適切に形成できる。
In the method for manufacturing the thermal print head C1, patterning of a plurality of second parts is performed by sequentially performing a preliminary coating process, a stamping process, a preliminary baking process, and a partial removal process. In the preliminary application step, the
第3実施形態にかかる製造方法において、電極層形成工程は、上記した方法に限定されず、次の工程により、電極層3を形成してもよい。たとえば、先行塗布工程と後行塗布工程とを一括して行う。このとき、先行塗布工程によって塗布される導電性ペースト30Aと後行塗布工程によって塗布される導電性ペースト30Bとは一体である。その後、スタンプ工程を行い、第2領域10Bに形成した導電性ペースト30Bに厚肉部311と薄肉部312とを形成する。そして、先行焼成工程と後行焼成工程とを一括して行い、導電性ペースト30A,30Bを同時に焼成し、部分除去工程により薄肉部312を除去する。これにより、電極層3を形成してもよい。この場合、各連結部37の第1端縁部37aは、各個別電極帯状部38の下に形成されるのではなく、各個別電極帯状部38と一体的に形成されている。また、たとえば、先行塗布工程と後行塗布工程との順序を変えて、複数の第1部(複数の個別電極帯状部38など)を形成した後に、複数の第2部(複数の連結部37など)を形成してもよい。つまり、スクリーン印刷により第1領域10Aに導電性ペースト30Aを塗布した後に、当該導電性ペースト30Aを焼成する。そして、スクリーン印刷により第2領域10Bにベタパターンの導電性ペースト30Bを塗布し、スタンプ工程を行う。その後、スタンプ工程後の導電性ペースト30Bを焼成し、部分除去工程を行う。これにより、電極層3を形成してもよい。この場合、各連結部37の第1端縁部37aは、各個別電極帯状部38の下に形成されるのではなく、各個別電極帯状部38の上に形成される。
In the manufacturing method according to the third embodiment, the electrode layer forming step is not limited to the method described above, and the
第1実施形態ないし第3実施形態においては、保護層5の第1被覆部51が隆起部511を含んでいる場合を示したが、これに限定されない。たとえば、図26に示すように、第1被覆部51が隆起部511を含んでいなくてもよい。図26は、このような変形例にかかるサーマルプリントヘッドを示す要部拡大断面図であり、図4に示す断面に対応する。たとえば、保護層形成工程で用いる保護層5を構成するガラスペーストの粘度およびこのガラスペーストの焼成条件などの違いにより、図26に示すサーマルプリントヘッドが製造されうる。
In the first to third embodiments, the
本開示にかかるサーマルプリントヘッドの製造方法およびサーマルプリントヘッドは、上記した実施形態に限定されるものではない。本開示のサーマルプリントヘッドの製造方法の各工程の具体的な処理、および、サーマルプリントヘッドの各部の具体的な構成は、種々に設計変更自在である。 The method for manufacturing a thermal print head and the thermal print head according to the present disclosure are not limited to the embodiments described above. The specific processing of each step of the method for manufacturing a thermal print head of the present disclosure and the specific configuration of each part of the thermal print head can be variously changed in design.
本開示にかかるサーマルプリントヘッドの製造方法およびサーマルプリントヘッドは、以下の付記に関する実施形態を含む。
[付記1]
基板を準備する基板準備工程と、
主走査方向に配列された複数の発熱部を含む抵抗体層を、前記基板上に形成する抵抗体層形成工程と、
前記抵抗体層に通電するための電極層を形成する電極層形成工程と、
を含んでおり、
前記電極層は、第1ピッチ幅で配列された複数の第1部、および、前記第1ピッチ幅よりも小さい第2ピッチ幅で配列された複数の第2部を含み、
前記基板は、前記基板の厚さ方向に見て前記複数の第1部が形成される第1領域、および、前記厚さ方向に見て前記複数の第2部が形成される第2領域を含み、
前記電極層形成工程は、
スクリーン印刷により、前記第1領域に前記複数の第1部のパターンを形成する第1パターニング工程と、
前記スクリーン印刷よりも高い精細度でパターニングが可能なパターニング手法により、前記第2領域に前記複数の第2部のパターンを形成する第2パターニング工程と、
を含む、ことを特徴とするサーマルプリントヘッドの製造方法。
[付記2]
前記電極層は、各々がワイヤを介して駆動ICに接続される複数のボンディング部をさらに含み、
前記複数の第2部は、各々が前記複数のボンディング部の各々に繋がり、かつ、前記厚さ方向に見て、前記複数のボンディング部と前記複数の第1部との間に配置されており、
前記複数の第1部の各々は、前記厚さ方向に見て、一部が前記抵抗体層に重なる、付記1に記載のサーマルプリントヘッドの製造方法。
[付記3]
前記複数の第1部および前記複数の第2部はそれぞれ、主走査方向に配列されており、かつ、各々が副走査方向に沿って延びる帯状である、付記2に記載のサーマルプリントヘッドの製造方法。
[付記4]
前記第2ピッチ幅は、10μm以上100μm以下である、付記3に記載のサーマルプリントヘッドの製造方法。
[付記5]
前記複数の第2部の主走査方向の各寸法は、10μm以上100μm以下であり、
主走査方向に隣り合う2つの第2部の離間距離は、10μm以上100μm以下である、付記4に記載のサーマルプリントヘッドの製造方法。
[付記6]
前記電極層形成工程は、第1焼成工程をさらに含み、
前記第1パターニング工程は、前記第1領域に導電性ペーストを前記複数の第1部のパターンの形状でスクリーン印刷し、
前記第1焼成工程は、前記第1パターニング工程で印刷された前記導電性ペーストを焼成することで、前記複数の第1部を形成する、付記2ないし付記5のいずれかに記載のサーマルプリントヘッドの製造方法。
[付記7]
前記電極層形成工程は、第2焼成工程をさらに含み、
前記第2パターニング工程は、導電性ペーストを前記複数の第2部のパターンの形状で前記第2領域にディスペンサー塗布し、
前記第2焼成工程は、前記第2パターニング工程で塗布された前記導電性ペーストを焼成することで、前記複数の第2部を形成する、付記6に記載のサーマルプリントヘッドの製造方法。
[付記8]
前記第1パターニング工程は、さらに、前記第1領域に前記複数のボンディング部のパターンを形成し、
前記複数の第1部の各々は、前記複数の第2部の各々に繋がっており、
前記複数の第2部の各々は、第1端縁部、第2端縁部、および、中間部を含んでおり、
前記中間部は、前記第1端縁部および前記第2端縁部を繋ぎ、
前記第1端縁部は、前記厚さ方向に見て前記複数のボンディング部の各々に重なり、
前記第2端縁部は、前記厚さ方向に見て前記複数の第1部の各々に重なる、付記7に記載のサーマルプリントヘッドの製造方法。
[付記9]
前記第2パターニング工程は、
スクリーン印刷により前記第2領域に導電性ペーストを塗布し、ベタパターンを形成する塗布工程と、
前記ベタパターンをレーザ加工により部分除去する部分除去工程と、
を含み、
前記部分除去工程によって、前記ベタパターンを前記複数の第2部のパターンの形状にする、付記6に記載のサーマルプリントヘッドの製造方法。
[付記10]
前記第2パターニング工程は、
前記塗布工程と前記部分除去工程との間に、前記ベタパターンの焼成を行う第2焼成工程をさらに含む、付記9に記載のサーマルプリントヘッドの製造方法。
[付記11]
前記第1パターニング工程のスクリーン印刷と前記塗布工程のスクリーン印刷とを一括して行い、
前記第1焼成工程の焼成と前記第2焼成工程の焼成とを一括して行う、付記10に記載のサーマルプリントヘッドの製造方法。
[付記12]
前記第2パターニング工程は、
スクリーン印刷により、前記第2領域に導電性ペーストを塗布し、ベタパターンを形成する塗布工程と、
凹凸パターンを有するインプリント用モールドを前記ベタパターンに接触させて加圧することにより、前記ベタパターンに厚肉部および薄肉部を形成するスタンプ工程と、
前記厚肉部を残して前記薄肉部を除去する部分除去工程と、
を含み、
前記スタンプ工程および前記部分除去工程によって、前記ベタパターンを前記複数の第2部のパターンの形状にする、付記6に記載のサーマルプリントヘッドの製造方法。
[付記13]
前記第2パターニング工程は、
前記スタンプ工程と前記部分除去工程との間に、前記ベタパターンの焼成を行う第2焼成工程をさらに含む、付記12に記載のサーマルプリントヘッドの製造方法。
[付記14]
前記部分除去工程では、エッチングあるいはブラストにより、前記薄肉部を除去する、付記12または付記13のいずれかに記載のサーマルプリントヘッドの製造方法。
[付記15]
前記基板準備工程は、
前記厚さ方向の一方を向く主面を有する基材を用意する基材用意工程と、
前記主面上にグレーズ層を形成するグレーズ層形成工程をさらに含み、
前記グレーズ層形成工程は、前記基材用意工程の後であり、前記抵抗体層形成工程および前記電極層形成工程の各工程の前に行われ、
前記抵抗体層形成工程では、前記グレーズ層の上に前記抵抗体層を形成する、付記1ないし付記14のいずれかに記載のサーマルプリントヘッドの製造方法。
[付記16]
前記グレーズ層は、前記主面から前記厚さ方向に隆起した部分グレーズを含み、
前記複数の発熱部は、前記部分グレーズ上に形成される、付記15に記載のサーマルプリントヘッドの製造方法。
[付記17]
前記抵抗体層および前記電極層を覆う保護層を形成する保護層形成工程をさらに含む、付記1ないし付記16のいずれかに記載のサーマルプリントヘッドの製造方法。
[付記18]
基板と、
主走査方向に配列された複数の発熱部を含み、前記基板上に形成された抵抗体層と、
前記抵抗体層に通電するための電極層と、
を含んでおり、
前記電極層は、複数の第1部、複数の第2部、および、複数のボンディング部を含み、
前記複数の第1部は、各々が副走査方向に延びる帯状であり、かつ、第1ピッチ幅で主走査方向に配列されており、
前記複数の第2部は、各々が副走査方向に延びる帯状であり、かつ、前記第1ピッチ幅よりも小さい第2ピッチ幅で主走査方向に配列されており、
前記複数のボンディング部は、各々がワイヤを介して駆動ICに接続され、かつ、各々が前記複数の第2部の各々に繋がり、
前記複数の第1部は、スクリーン印刷によってパターニングされており、
前記複数の第2部は、前記スクリーン印刷よりも高い精細度でパターニングが可能な手法によって、パターニングされている、ことを特徴とするサーマルプリントヘッド。
[付記19]
前記複数の第1部の副走査方向に延びる各端縁と、前記複数の第2部の副走査方向に延びる各端縁とは、直線性が異なる、付記18に記載のサーマルプリントヘッド。
[付記20]
前記複数の第1部の各々は、前記複数の第2部の各々に繋がっており、
前記複数の第2部の各々は、第1端縁部、第2端縁部、および、中間部を含んでおり、
前記中間部は、前記第1端縁部および前記第2端縁部を繋ぎ、
前記第1端縁部は、前記基板の厚さ方向に見て前記複数のボンディング部の各々に重なり、
前記第2端縁部は、前記厚さ方向に見て前記複数の第1部に重なる、付記18または付記19のいずれかに記載のサーマルプリントヘッド。
The thermal print head manufacturing method and thermal print head according to the present disclosure include embodiments related to the following additional notes.
[Additional note 1]
a substrate preparation step for preparing a substrate;
a resistor layer forming step of forming a resistor layer including a plurality of heat generating parts arranged in the main scanning direction on the substrate;
an electrode layer forming step of forming an electrode layer for energizing the resistor layer;
It contains
The electrode layer includes a plurality of first parts arranged with a first pitch width, and a plurality of second parts arranged with a second pitch width smaller than the first pitch width,
The substrate has a first region where the plurality of first portions are formed when viewed in the thickness direction of the substrate, and a second region where the plurality of second portions are formed when viewed in the thickness direction. including,
The electrode layer forming step includes:
a first patterning step of forming the plurality of first part patterns in the first region by screen printing;
a second patterning step of forming the plurality of second portion patterns in the second region by a patterning method that allows patterning with higher definition than the screen printing;
A method for manufacturing a thermal print head, comprising:
[Additional note 2]
The electrode layer further includes a plurality of bonding parts each connected to a driving IC via a wire,
The plurality of second parts are each connected to each of the plurality of bonding parts, and are arranged between the plurality of bonding parts and the plurality of first parts when viewed in the thickness direction. ,
The method for manufacturing a thermal print head according to
[Additional note 3]
Manufacturing the thermal print head according to
[Additional note 4]
The method for manufacturing a thermal print head according to
[Additional note 5]
Each dimension of the plurality of second parts in the main scanning direction is 10 μm or more and 100 μm or less,
The method for manufacturing a thermal print head according to
[Additional note 6]
The electrode layer forming step further includes a first firing step,
The first patterning step includes screen printing a conductive paste on the first region in the shape of the plurality of first part patterns;
The thermal print head according to any one of
[Additional note 7]
The electrode layer forming step further includes a second firing step,
In the second patterning step, a conductive paste is dispensed onto the second region in the shape of the plurality of second portion patterns;
The method for manufacturing a thermal print head according to appendix 6, wherein the second firing step forms the plurality of second parts by firing the conductive paste applied in the second patterning step.
[Additional note 8]
The first patterning step further includes forming a pattern of the plurality of bonding parts in the first region,
Each of the plurality of first parts is connected to each of the plurality of second parts,
Each of the plurality of second parts includes a first edge part, a second edge part, and an intermediate part,
The intermediate portion connects the first edge portion and the second edge portion,
The first edge portion overlaps each of the plurality of bonding portions when viewed in the thickness direction,
The method for manufacturing a thermal print head according to appendix 7, wherein the second edge portion overlaps each of the plurality of first portions when viewed in the thickness direction.
[Additional note 9]
The second patterning step includes:
a coating step of applying a conductive paste to the second region by screen printing to form a solid pattern;
a partial removal step of partially removing the solid pattern by laser processing;
including;
The method for manufacturing a thermal print head according to appendix 6, wherein the solid pattern is shaped into the shape of the plurality of second portion patterns by the partial removal step.
[Additional note 10]
The second patterning step includes:
The method for manufacturing a thermal print head according to appendix 9, further comprising a second firing step of firing the solid pattern between the coating step and the partial removal step.
[Additional note 11]
Screen printing of the first patterning step and screen printing of the coating step are performed at once,
The method for manufacturing a thermal print head according to appendix 10, wherein the firing in the first firing step and the firing in the second firing step are performed at once.
[Additional note 12]
The second patterning step includes:
a coating step of applying a conductive paste to the second region by screen printing to form a solid pattern;
a stamping step of forming a thick portion and a thin portion on the solid pattern by bringing an imprint mold having a concavo-convex pattern into contact with the solid pattern and applying pressure;
a partial removal step of removing the thin wall portion while leaving the thick wall portion;
including;
The method for manufacturing a thermal print head according to appendix 6, wherein the solid pattern is shaped into the plurality of second portion patterns by the stamping step and the partial removal step.
[Additional note 13]
The second patterning step includes:
The method for manufacturing a thermal print head according to
[Additional note 14]
The method for manufacturing a thermal print head according to any one of
[Additional note 15]
The substrate preparation step includes:
a base material preparation step of preparing a base material having a main surface facing one side in the thickness direction;
further comprising a glaze layer forming step of forming a glaze layer on the main surface,
The glaze layer forming step is performed after the base material preparation step and before each of the resistor layer forming step and the electrode layer forming step,
The method for manufacturing a thermal print head according to any one of
[Additional note 16]
The glaze layer includes a partial glaze raised from the main surface in the thickness direction,
The method for manufacturing a thermal print head according to appendix 15, wherein the plurality of heat generating parts are formed on the partial glaze.
[Additional note 17]
The method for manufacturing a thermal print head according to any one of
[Additional note 18]
A substrate and
a resistor layer formed on the substrate and including a plurality of heat generating parts arranged in the main scanning direction;
an electrode layer for energizing the resistor layer;
It contains
The electrode layer includes a plurality of first parts, a plurality of second parts, and a plurality of bonding parts,
The plurality of first parts each have a band shape extending in the sub-scanning direction, and are arranged in the main-scanning direction with a first pitch width,
The plurality of second parts each have a band shape extending in the sub-scanning direction, and are arranged in the main-scanning direction with a second pitch width smaller than the first pitch width,
Each of the plurality of bonding parts is connected to a drive IC via a wire, and each of the plurality of bonding parts is connected to each of the plurality of second parts,
The plurality of first parts are patterned by screen printing,
The thermal print head is characterized in that the plurality of second parts are patterned by a method that allows patterning with higher definition than the screen printing.
[Additional note 19]
The thermal print head according to appendix 18, wherein each edge of the plurality of first parts extending in the sub-scanning direction and each edge of the plurality of second parts extending in the sub-scanning direction have different linearity.
[Additional note 20]
Each of the plurality of first parts is connected to each of the plurality of second parts,
Each of the plurality of second parts includes a first edge part, a second edge part, and an intermediate part,
The intermediate portion connects the first edge portion and the second edge portion,
The first edge portion overlaps each of the plurality of bonding portions when viewed in the thickness direction of the substrate,
The thermal print head according to appendix 18 or 19, wherein the second edge portion overlaps the plurality of first portions when viewed in the thickness direction.
A1,A2,B1,B2,B3,C1:サーマルプリントヘッド
1 :基板
10A :第1領域
10B :第2領域
11 :基材
11a :主面
12 :グレーズ層
121 :部分グレーズ
122 :ガラス層
3 :電極層
33 :共通電極
34 :共通電極帯状部
341 :基部
342 :延出部
35 :連結部
36 :個別電極
37 :連結部
37a :第1端縁部
37b :第2端縁部
37c :中間部
371 :平行部
371B :細線部
372 :斜行部
38 :個別電極帯状部
381 :基部
382 :延出部
39 :ボンディング部
39A :第1ボンディング部
39B :第2ボンディング部
30A,30B,30C:導電性ペースト
311 :厚肉部
312 :薄肉部
4 :抵抗体層
41 :発熱部
5 :保護層
51 :第1被覆部
511 :隆起部
52 :第2被覆部
61 :ワイヤ
71 :駆動IC
72 :封止樹脂
73 :コネクタ
74 :配線基板
75 :放熱部材
81 :プラテンローラ
82 :印刷媒体
91 :インプリント用モールド
A1, A2, B1, B2, B3, C1: Thermal print head 1:
72: Sealing resin 73: Connector 74: Wiring board 75: Heat dissipation member 81: Platen roller 82: Printing medium 91: Imprint mold
Claims (16)
主走査方向に配列された複数の発熱部を含む抵抗体層を、前記基板上に形成する抵抗体層形成工程と、
前記抵抗体層に通電するための電極層を形成する電極層形成工程と、
を含んでおり、
前記電極層は、第1ピッチ幅で配列された複数の第1部、および、前記第1ピッチ幅よりも小さい第2ピッチ幅で配列された複数の第2部を含み、
前記基板は、前記基板の厚さ方向に見て前記複数の第1部が形成される第1領域、および、前記厚さ方向に見て前記複数の第2部が形成される第2領域を含み、
前記電極層形成工程は、
スクリーン印刷により、前記第1領域に前記複数の第1部のパターンを形成する第1パターニング工程と、
前記スクリーン印刷よりも高い精細度でパターニングが可能なパターニング手法により、前記第2領域に前記複数の第2部のパターンを形成する第2パターニング工程と、
を含み、
前記複数の第1部の各々は、前記複数の第2部の各々に繋がっており、
前記複数の第2部の各々の線幅は、前記複数の第1部の各々の線幅よりも小さい、
ことを特徴とするサーマルプリントヘッドの製造方法。 a substrate preparation step for preparing a substrate;
a resistor layer forming step of forming a resistor layer including a plurality of heat generating parts arranged in the main scanning direction on the substrate;
an electrode layer forming step of forming an electrode layer for energizing the resistor layer;
It contains
The electrode layer includes a plurality of first parts arranged with a first pitch width, and a plurality of second parts arranged with a second pitch width smaller than the first pitch width,
The substrate has a first region where the plurality of first portions are formed when viewed in the thickness direction of the substrate, and a second region where the plurality of second portions are formed when viewed in the thickness direction. including,
The electrode layer forming step includes:
a first patterning step of forming the plurality of first part patterns in the first region by screen printing;
a second patterning step of forming the plurality of second portion patterns in the second region by a patterning method that allows patterning with higher definition than the screen printing;
including;
Each of the plurality of first parts is connected to each of the plurality of second parts,
The line width of each of the plurality of second parts is smaller than the line width of each of the plurality of first parts.
A method for manufacturing a thermal print head, characterized in that:
前記複数の第2部は、各々が前記複数のボンディング部の各々に繋がり、かつ、前記厚さ方向に見て、前記複数のボンディング部と前記複数の第1部との間に配置されており、
前記複数の第1部の各々は、前記厚さ方向に見て、一部が前記抵抗体層に重なる、
請求項1に記載のサーマルプリントヘッドの製造方法。 The electrode layer further includes a plurality of bonding parts each connected to a driving IC via a wire,
The plurality of second parts are each connected to each of the plurality of bonding parts, and are arranged between the plurality of bonding parts and the plurality of first parts when viewed in the thickness direction. ,
Each of the plurality of first parts partially overlaps the resistor layer when viewed in the thickness direction.
A method for manufacturing a thermal print head according to claim 1.
請求項2に記載のサーマルプリントヘッドの製造方法。 The plurality of first parts and the plurality of second parts are each arranged in the main scanning direction, and each has a band shape extending along the sub-scanning direction.
A method for manufacturing a thermal print head according to claim 2.
請求項3に記載のサーマルプリントヘッドの製造方法。 The second pitch width is greater than 10 μm and less than 100 μm,
A method for manufacturing a thermal print head according to claim 3.
主走査方向に隣り合う2つの第2部の離間距離は、10μm以上100μm未満である、
請求項4に記載のサーマルプリントヘッドの製造方法。 Each dimension of the plurality of second parts in the main scanning direction is 10 μm or more and 100 μm or less,
The distance between two adjacent second parts in the main scanning direction is 10 μm or more and less than 100 μm.
A method for manufacturing a thermal print head according to claim 4.
前記第1パターニング工程は、前記第1領域に導電性ペーストを前記複数の第1部のパターンの形状でスクリーン印刷し、
前記第1焼成工程は、前記第1パターニング工程で印刷された前記導電性ペーストを焼成することで、前記複数の第1部を形成する、
請求項2ないし請求項5のいずれか一項に記載のサーマルプリントヘッドの製造方法。 The electrode layer forming step further includes a first firing step,
The first patterning step includes screen printing a conductive paste on the first region in the shape of the plurality of first part patterns;
In the first firing step, the plurality of first parts are formed by firing the conductive paste printed in the first patterning step.
A method for manufacturing a thermal print head according to any one of claims 2 to 5.
前記第2パターニング工程は、導電性ペーストを前記複数の第2部のパターンの形状で前記第2領域にディスペンサー塗布し、
前記第2焼成工程は、前記第2パターニング工程で塗布された前記導電性ペーストを焼成することで、前記複数の第2部を形成する、
請求項6に記載のサーマルプリントヘッドの製造方法。 The electrode layer forming step further includes a second firing step,
In the second patterning step, a conductive paste is dispensed onto the second region in the shape of the plurality of second portion patterns;
In the second firing step, the plurality of second parts are formed by firing the conductive paste applied in the second patterning step.
A method for manufacturing a thermal print head according to claim 6.
前記複数の第2部の各々は、第1端縁部、第2端縁部、および、中間部を含んでおり、
前記中間部は、前記第1端縁部および前記第2端縁部を繋ぎ、
前記第1端縁部は、前記厚さ方向に見て前記複数のボンディング部の各々に重なり、
前記第2端縁部は、前記厚さ方向に見て前記複数の第1部の各々に重なる、
請求項7に記載のサーマルプリントヘッドの製造方法。 The first patterning step further includes forming a pattern of the plurality of bonding parts in the first region ,
Each of the plurality of second parts includes a first edge part, a second edge part, and an intermediate part,
The intermediate portion connects the first edge portion and the second edge portion,
The first edge portion overlaps each of the plurality of bonding portions when viewed in the thickness direction,
The second edge portion overlaps each of the plurality of first portions when viewed in the thickness direction,
A method for manufacturing a thermal print head according to claim 7.
主走査方向に配列された複数の発熱部を含む抵抗体層を、前記基板上に形成する抵抗体層形成工程と、
前記抵抗体層に通電するための電極層を形成する電極層形成工程と、
を含んでおり、
前記電極層は、第1ピッチ幅で配列された複数の第1部、および、前記第1ピッチ幅よりも小さい第2ピッチ幅で配列された複数の第2部を含み、
前記基板は、前記基板の厚さ方向に見て前記複数の第1部が形成される第1領域、および、前記厚さ方向に見て前記複数の第2部が形成される第2領域を含み、
前記電極層形成工程は、
スクリーン印刷により、前記第1領域に前記複数の第1部のパターンを形成する第1パターニング工程と、
前記スクリーン印刷よりも高い精細度でパターニングが可能なパターニング手法により、前記第2領域に前記複数の第2部のパターンを形成する第2パターニング工程と、
を含み、
前記電極層は、各々がワイヤを介して駆動ICに接続される複数のボンディング部をさらに含み、
前記複数の第2部は、各々が前記複数のボンディング部の各々に繋がり、かつ、前記厚さ方向に見て、前記複数のボンディング部と前記複数の第1部との間に配置されており、
前記複数の第1部の各々は、前記厚さ方向に見て、一部が前記抵抗体層に重なり、
前記電極層形成工程は、第1焼成工程をさらに含み、
前記第1パターニング工程は、前記第1領域に導電性ペーストを前記複数の第1部のパターンの形状でスクリーン印刷し、
前記第1焼成工程は、前記第1パターニング工程で印刷された前記導電性ペーストを焼成することで、前記複数の第1部を形成しており、
前記第2パターニング工程は、
スクリーン印刷により、前記第2領域に導電性ペーストを塗布し、ベタパターンを形成する塗布工程と、
凹凸パターンを有するインプリント用モールドを前記ベタパターンに接触させて加圧することにより、前記ベタパターンに厚肉部および薄肉部を形成するスタンプ工程と、
前記厚肉部を残して前記薄肉部を除去する部分除去工程と、
を含み、
前記スタンプ工程および前記部分除去工程によって、前記ベタパターンを前記複数の第2部のパターンの形状にする、
サーマルプリントヘッドの製造方法。 a substrate preparation step for preparing a substrate;
a resistor layer forming step of forming a resistor layer including a plurality of heat generating parts arranged in the main scanning direction on the substrate;
an electrode layer forming step of forming an electrode layer for energizing the resistor layer;
It contains
The electrode layer includes a plurality of first parts arranged with a first pitch width, and a plurality of second parts arranged with a second pitch width smaller than the first pitch width,
The substrate has a first region where the plurality of first portions are formed when viewed in the thickness direction of the substrate, and a second region where the plurality of second portions are formed when viewed in the thickness direction. including,
The electrode layer forming step includes:
a first patterning step of forming the plurality of first part patterns in the first region by screen printing;
a second patterning step of forming the plurality of second portion patterns in the second region by a patterning method that allows patterning with higher definition than the screen printing;
including;
The electrode layer further includes a plurality of bonding parts each connected to a driving IC via a wire,
The plurality of second parts are each connected to each of the plurality of bonding parts, and are arranged between the plurality of bonding parts and the plurality of first parts when viewed in the thickness direction. ,
Each of the plurality of first parts partially overlaps the resistor layer when viewed in the thickness direction,
The electrode layer forming step further includes a first firing step,
The first patterning step includes screen printing a conductive paste on the first region in the shape of the plurality of first part patterns;
In the first firing step, the plurality of first parts are formed by firing the conductive paste printed in the first patterning step,
The second patterning step includes:
a coating step of applying a conductive paste to the second region by screen printing to form a solid pattern;
a stamping step of forming a thick portion and a thin portion on the solid pattern by bringing an imprint mold having a concavo-convex pattern into contact with the solid pattern and applying pressure;
a partial removal step of removing the thin wall portion while leaving the thick wall portion;
including;
forming the solid pattern into the shape of the plurality of second portion patterns by the stamping step and the partial removal step ;
A method of manufacturing a thermal print head.
前記スタンプ工程と前記部分除去工程との間に、前記ベタパターンの焼成を行う第2焼成工程をさらに含む、
請求項9に記載のサーマルプリントヘッドの製造方法。 The second patterning step includes:
Further comprising a second firing step of firing the solid pattern between the stamping step and the partial removal step.
A method for manufacturing a thermal print head according to claim 9 .
請求項9または請求項10のいずれかに記載のサーマルプリントヘッドの製造方法。 In the partial removal step, the thin portion is removed by etching or blasting.
A method for manufacturing a thermal print head according to claim 9 or 10 .
前記厚さ方向の一方を向く主面を有する基材を用意する基材用意工程と、
前記主面上にグレーズ層を形成するグレーズ層形成工程をさらに含み、
前記グレーズ層形成工程は、前記基材用意工程の後であり、前記抵抗体層形成工程および前記電極層形成工程の各工程の前に行われ、
前記抵抗体層形成工程では、前記グレーズ層の上に前記抵抗体層を形成する、
請求項1ないし請求項11のいずれか一項に記載のサーマルプリントヘッドの製造方法。 The substrate preparation step includes:
a base material preparation step of preparing a base material having a main surface facing one side in the thickness direction;
further comprising a glaze layer forming step of forming a glaze layer on the main surface,
The glaze layer forming step is performed after the base material preparation step and before each of the resistor layer forming step and the electrode layer forming step,
In the resistor layer forming step, the resistor layer is formed on the glaze layer,
A method for manufacturing a thermal print head according to any one of claims 1 to 11 .
前記複数の発熱部は、前記部分グレーズ上に形成される、
請求項12に記載のサーマルプリントヘッドの製造方法。 The glaze layer includes a partial glaze raised from the main surface in the thickness direction,
The plurality of heat generating parts are formed on the partial glaze,
A method for manufacturing a thermal print head according to claim 12 .
主走査方向に配列された複数の発熱部を含み、前記基板上に形成された抵抗体層と、
前記抵抗体層に通電するための電極層と、
を含んでおり、
前記電極層は、複数の第1部、複数の第2部、および、複数のボンディング部を含み、
前記複数の第1部は、各々が副走査方向に延びる帯状であり、かつ、第1ピッチ幅で主走査方向に配列されており、
前記複数の第2部は、各々が副走査方向に延びる帯状であり、かつ、前記第1ピッチ幅よりも小さい第2ピッチ幅で主走査方向に配列されており、
前記複数のボンディング部は、各々がワイヤを介して駆動ICに接続され、かつ、各々が前記複数の第2部の各々に繋がり、
前記複数の第1部は、スクリーン印刷によってパターニングされており、
前記複数の第2部は、前記スクリーン印刷よりも高い精細度でパターニングが可能な手法によって、パターニングされており、
前記複数の第1部の各々は、前記複数の第2部の各々に繋がっており、
前記複数の第2部の各々の線幅は、前記複数の第1部の各々の線幅よりも小さい、
ことを特徴とするサーマルプリントヘッド。 A substrate and
a resistor layer formed on the substrate and including a plurality of heat generating parts arranged in the main scanning direction;
an electrode layer for energizing the resistor layer;
It contains
The electrode layer includes a plurality of first parts, a plurality of second parts, and a plurality of bonding parts,
The plurality of first parts each have a band shape extending in the sub-scanning direction, and are arranged in the main-scanning direction with a first pitch width,
The plurality of second parts each have a band shape extending in the sub-scanning direction, and are arranged in the main-scanning direction with a second pitch width smaller than the first pitch width,
Each of the plurality of bonding parts is connected to a drive IC via a wire, and each of the plurality of bonding parts is connected to each of the plurality of second parts,
The plurality of first parts are patterned by screen printing,
The plurality of second parts are patterned by a method that allows patterning with higher definition than the screen printing,
Each of the plurality of first parts is connected to each of the plurality of second parts,
The line width of each of the plurality of second parts is smaller than the line width of each of the plurality of first parts.
A thermal print head characterized by:
前記中間部は、前記第1端縁部および前記第2端縁部を繋ぎ、
前記第1端縁部は、前記基板の厚さ方向に見て前記複数のボンディング部の各々に重なり、
前記第2端縁部は、前記厚さ方向に見て前記複数の第1部に重なる、
請求項15に記載のサーマルプリントヘッド。 Each of the plurality of second parts includes a first edge part, a second edge part, and an intermediate part,
The intermediate portion connects the first edge portion and the second edge portion,
The first edge portion overlaps each of the plurality of bonding portions when viewed in the thickness direction of the substrate,
The second edge portion overlaps the plurality of first portions when viewed in the thickness direction,
The thermal print head according to claim 15 .
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