JP7357940B2 - Active energy ray curable composition and method for producing cold stamped products - Google Patents

Active energy ray curable composition and method for producing cold stamped products Download PDF

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Description

本発明は、活性エネルギー線硬化型組成物及びコールドスタンピング加工品の製造方法に関する。 The present invention relates to an active energy ray-curable composition and a method for producing a cold stamped product.

現在、文字等が記録された記録物の意匠及び訴求性を向上させるために、記録物の表面に金属箔やホログラム等の特殊な光学特性を有する層が設けられる場合がある。このような特殊な光学特性を有する層を設ける方法としては、特殊な光学特性を有する層を記録物の表面に転写させるコールドスタンピング加工が知られている。コールドスタンピング加工では、記録物の表面に接着層を配置し、さらに接着層上に転写用基材を配置する。転写用基材は、基材シートと基材シート上に積層された転写層とを有している。この転写層を接着層に転写させることにより、転写層を有する記録物を得ることができる。このようなスタンピング加工の接着層を得る組成物としては、特許文献1,2に開示されるように、活性エネルギー線硬化型組成物が知られている。 Currently, in order to improve the design and appeal of recorded objects on which characters and the like are recorded, a layer having special optical properties such as a metal foil or a hologram is sometimes provided on the surface of the recorded object. As a method for providing a layer having such special optical properties, a cold stamping process is known in which a layer having special optical properties is transferred onto the surface of a recorded material. In the cold stamping process, an adhesive layer is placed on the surface of the recorded material, and a transfer base material is further placed on the adhesive layer. The transfer base material has a base sheet and a transfer layer laminated on the base sheet. By transferring this transfer layer to the adhesive layer, a recorded matter having the transfer layer can be obtained. Active energy ray-curable compositions are known as compositions for obtaining such stamped adhesive layers, as disclosed in Patent Documents 1 and 2.

特表2020-525620号公報Special Publication No. 2020-525620 特開2009-226880号公報JP2009-226880A

上記のようなコールドスタンピング加工において、活性エネルギー線硬化型組成物から得られる硬化膜には、転写用基材の転写層がより高精度で転写されることが求められている。 In the cold stamping process as described above, it is required that the transfer layer of the transfer base material be transferred with higher precision to the cured film obtained from the active energy ray-curable composition.

上記課題を解決するために、本発明の一態様では、コールドスタンピング加工の用途に用いられ、活性エネルギー線の照射により硬化する活性エネルギー線硬化型組成物であって、(A)ラジカル重合性化合物、及び(B)光重合開始剤を含有し、前記(B)光重合開始剤は、(B1)アシルホスフィンオキシド系化合物を含み、前記活性エネルギー線硬化型組成物中における(B1)アシルホスフィンオキシド系化合物の含有量は、2.0質量%以上、11.0質量%以下の範囲内である。 In order to solve the above problems, one aspect of the present invention provides an active energy ray-curable composition that is used for cold stamping processing and is cured by irradiation with active energy rays, the composition comprising (A) a radically polymerizable compound. , and (B) a photopolymerization initiator, the photopolymerization initiator (B) containing (B1) an acylphosphine oxide compound, and (B1) the acylphosphine oxide in the active energy ray-curable composition. The content of the system compound is within the range of 2.0% by mass or more and 11.0% by mass or less.

本発明によれば、コールドスタンピング加工における転写精度を高めることが可能となる。 According to the present invention, it is possible to improve the transfer accuracy in cold stamping processing.

コールドスタンピング加工における転写性の評価方法を説明する図であり、(a)は、塗布層付き基材を示す平面図であり、(b)は、低流動性膜付き基材を示す平面図である。FIG. 3 is a diagram illustrating a method for evaluating transferability in cold stamping processing, in which (a) is a plan view showing a base material with a coating layer, and (b) is a plan view showing a base material with a low fluidity film. be. (a)は、第1積層体を示す平面図であり、(b)は、第2積層体を示す平面図である。(a) is a plan view showing the first laminate, and (b) is a plan view showing the second laminate. (a)は、評価用試料を示す平面図であり、(b)は、評価用試料を拡大した画像を示す模式平面図である。(a) is a plan view showing an evaluation sample, and (b) is a schematic plan view showing an enlarged image of the evaluation sample.

以下、活性エネルギー線硬化型組成物及びコールドスタンピング加工品の製造方法の一実施形態について説明する。
本実施形態の活性エネルギー線硬化型組成物は、コールドスタンピング加工の用途に用いられる。活性エネルギー線硬化型組成物は、活性エネルギー線の照射により硬化する。活性エネルギー線硬化型組成物は、(A)ラジカル重合性化合物、及び(B)光重合開始剤を含有する。
An embodiment of an active energy ray-curable composition and a method for producing a cold stamped product will be described below.
The active energy ray-curable composition of this embodiment is used for cold stamping. The active energy ray-curable composition is cured by irradiation with active energy rays. The active energy ray-curable composition contains (A) a radically polymerizable compound and (B) a photopolymerization initiator.

<(A)ラジカル重合性化合物>
ラジカル重合性化合物は、活性エネルギー線が照射されると重合反応により硬化する化合物である。活性エネルギー線としては、例えば、紫外線(UV)、及び電子線(EB)が挙げられる。
<(A) Radical polymerizable compound>
A radically polymerizable compound is a compound that hardens through a polymerization reaction when irradiated with active energy rays. Examples of active energy rays include ultraviolet rays (UV) and electron beams (EB).

ラジカル重合性化合物は、単官能基又は多官能基を有するラジカル重合性化合物であり、モノマーであってもよいし、オリゴマーであってもよい。
単官能基を有するラジカル重合性化合物としては、例えば、(メタ)アクリレートが挙げられる。単官能(メタ)アクリレートとしては、例えば、ブチルシクロヘキサノールアクリレート、イソボルニルアクリレート、2-メチル-2-エチル-1,3-ジオキソラン-4-イルメチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、4-t-ブチルシクロヘキシルアクリレート、カプロラクトン変性テトラヒドロフルフリルアクリレート、アクリロイルモルホリン、1,4-シクロヘキサンジメタノールモノアクリレート、2-ヒドロキシエチルアクリレート、2-ヒドロキシプロピルアクリレート、4-ヒドロキシブチルアクリレート、イソブチルアクリレート、t-ブチルアクリレート、イソオクチルアクリレート、イソデシルアクリレート、トリデシルアクリレート、2-メトキシエチルアクリレート、メトキシトリエチレングリコールアクリレート、2-エトキシエチルアクリレート、3-メトキシブチルアクリレート、エトキシエトキシエチルアクリレート、ブトキシエチルアクリレート、エトキシジエチレングリコールアクリレート、メトキシジプロピレングリコールアクリレート、ジプロピレングリコールアクリレート、β-カルボキシルエチルアクリレート、エチルジグリコールアクリレート、トリメチロールプロパンフォルマルモノアクリレート、イミドアクリレート、イソアミルアクリレート、エトキシ化コハク酸アクリレート、トリフルオロエチルアクリレート、及びω-カルボキシポリカプロラクトンモノアクリレートが挙げられる。
The radically polymerizable compound is a radically polymerizable compound having a monofunctional group or a polyfunctional group, and may be a monomer or an oligomer.
Examples of the radically polymerizable compound having a monofunctional group include (meth)acrylate. Examples of monofunctional (meth)acrylates include butylcyclohexanol acrylate, isobornyl acrylate, 2-methyl-2-ethyl-1,3-dioxolan-4-ylmethyl acrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate, cyclohexyl acrylate, -t-Butylcyclohexyl acrylate, caprolactone-modified tetrahydrofurfuryl acrylate, acryloylmorpholine, 1,4-cyclohexanedimethanol monoacrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 4-hydroxybutyl acrylate, isobutyl acrylate, t- Butyl acrylate, isooctyl acrylate, isodecyl acrylate, tridecyl acrylate, 2-methoxyethyl acrylate, methoxytriethylene glycol acrylate, 2-ethoxyethyl acrylate, 3-methoxybutyl acrylate, ethoxyethoxyethyl acrylate, butoxyethyl acrylate, ethoxydiethylene glycol Acrylate, methoxydipropylene glycol acrylate, dipropylene glycol acrylate, β-carboxylethyl acrylate, ethyl diglycol acrylate, trimethylolpropane formal monoacrylate, imide acrylate, isoamyl acrylate, ethoxylated succinic acrylate, trifluoroethyl acrylate, and ω - Carboxypolycaprolactone monoacrylate.

多官能基を有するラジカル重合性化合物としては、例えば、ジ(メタ)アクリレートが挙げられる。ジ(メタ)アクリレートとしては、例えば、ジプロピレングリコールジアクリレート、トリジプロピレングリコールジアクリレート、ブタンジオールジアクリレート、ジメチロール-トリシクロデカンジアクリレート、プロポキシ化ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート、エトキシ化ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート、シクロヘキサンジメタノールジ(メタ)アクリレート、ジメチロールジシクロペンタンジアクリレート、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,6-ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、エトキシ化1,6-ヘキサンジオールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレート、1,4-ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,9-ノナンジオールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、2-n-ブチル-2-エチル-1,3-プロパンジオールジアクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジアクリレート、1,3-ブチレングリコールジ(メタ)アクリレート、エトキシ化トリプロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコール変性トリメチロールプロパンジアクリレート、ステアリン酸変性ペンタエリスリトールジアクリレート、エトキシ化ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、プロポキシ化ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、及びトリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレートが挙げられる。 Examples of the radically polymerizable compound having a polyfunctional group include di(meth)acrylate. Examples of the di(meth)acrylate include dipropylene glycol diacrylate, tridipropylene glycol diacrylate, butanediol diacrylate, dimethylol-tricyclodecane diacrylate, propoxylated bisphenol A di(meth)acrylate, and ethoxylated bisphenol A diacrylate. (meth)acrylate, cyclohexanedimethanol di(meth)acrylate, dimethyloldicyclopentane diacrylate, ethylene glycol di(meth)acrylate, diethylene glycol di(meth)acrylate, polyethylene glycol di(meth)acrylate, 1,6-hexane Diol di(meth)acrylate, ethoxylated 1,6-hexanediol diacrylate, neopentyl glycol di(meth)acrylate, polypropylene glycol diacrylate, 1,4-butanediol di(meth)acrylate, 1,9-nonanediol Diacrylate, tetraethylene glycol diacrylate, 2-n-butyl-2-ethyl-1,3-propanediol diacrylate, hydroxypivalic acid neopentyl glycol diacrylate, 1,3-butylene glycol di(meth)acrylate, ethoxy ethoxylated tripropylene glycol diacrylate, neopentyl glycol modified trimethylolpropane diacrylate, stearic acid modified pentaerythritol diacrylate, ethoxylated neopentyl glycol di(meth)acrylate, propoxylated neopentyl glycol di(meth)acrylate, and tripropylene Examples include glycol di(meth)acrylate.

多官能基を有するラジカル重合性化合物としては、さらに、例えば、トリアクリレート、テトラアクリレート、ヘキサアクリレート、及びオリゴアクリレートが挙げられる。トリアクリレートとしては、例えば、トリメチロールプロパントリアクリレート、ヒドロキシピバリン酸トリメチロールプロパントリアクリレート、エトキシ化リン酸トリアクリレート、エトキシ化イソシアヌール酸トリアクリレート、トリ(2-ヒドロキシエチルイソシアヌレート)トリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、テトラメチロールプロパントリアクリレート、テトラメチロールメタントリアクリレート、カプロラクトン変性トリメチロールプロパントリアクリレート、プロポキシレートグリセリルトリアクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート、及びプロポキシ化トリメチロールプロパントリアクリレートが挙げられる。テトラアクリレートとしては、例えば、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、テトラメチロールメタンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、及びエトキシ化ペンタエリスリトールテトラアクリレートが挙げられる。ペンタアクリレートとしては、例えば、ジペンタエリスリトールヒドロキシペンタアクリレートが挙げられる。ヘキサアクリレートとしては、例えば、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、及びカプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートが挙げられる。オリゴアクリレートとしては、例えば、ネオペンチルグリコールオリゴアクリレート、1,4-ブタンジオールオリゴアクリレート、1,6-ヘキサンジオールオリゴアクリレート、トリメチロールプロパンオリゴアクリレート、及びペンタエリスリトールオリゴアクリレートが挙げられる。 Further examples of the radically polymerizable compound having a polyfunctional group include triacrylate, tetraacrylate, hexaacrylate, and oligoacrylate. Examples of the triacrylate include trimethylolpropane triacrylate, hydroxypivalic acid trimethylolpropane triacrylate, ethoxylated phosphoric acid triacrylate, ethoxylated isocyanuric acid triacrylate, tri(2-hydroxyethyl isocyanurate) triacrylate, penta Examples include erythritol triacrylate, tetramethylolpropane triacrylate, tetramethylolmethane triacrylate, caprolactone-modified trimethylolpropane triacrylate, propoxylate glyceryl triacrylate, ethoxylated trimethylolpropane triacrylate, and propoxylated trimethylolpropane triacrylate. Examples of the tetraacrylate include pentaerythritol tetraacrylate, tetramethylolmethane tetraacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, ditrimethylolpropane tetraacrylate, and ethoxylated pentaerythritol tetraacrylate. Examples of pentaacrylate include dipentaerythritol hydroxypentaacrylate. Examples of the hexaacrylate include dipentaerythritol hexaacrylate and caprolactone-modified dipentaerythritol hexaacrylate. Examples of oligoacrylates include neopentyl glycol oligoacrylate, 1,4-butanediol oligoacrylate, 1,6-hexanediol oligoacrylate, trimethylolpropane oligoacrylate, and pentaerythritol oligoacrylate.

さらに、ラジカル重合性化合物としては、例えば、上記のモノマーから形成されるオリゴマー、エポキシ(メタ)アクリレート、オキセタン(メタ)アクリレート、環状又は直鎖状の脂肪族ウレタン(メタ)アクリレート、芳香族ウレタン(メタ)アクリレート、ポリエーテル(メタ)アクリレート、及びポリエステル(メタ)アクリレートが挙げられる。 Furthermore, examples of radically polymerizable compounds include oligomers formed from the above-mentioned monomers, epoxy (meth)acrylates, oxetane (meth)acrylates, cyclic or linear aliphatic urethane (meth)acrylates, aromatic urethanes ( Examples include meth)acrylate, polyether (meth)acrylate, and polyester (meth)acrylate.

ラジカル重合性化合物は、一種類又は二種類以上を使用することができる。なお、(メタ)アクリレートは、メタクリレート又はアクリレートを示す。
ラジカル重合性化合物の官能基数は、活性エネルギー線硬化型組成物を低粘度化するという観点から、1~3であることが好ましい。
One type or two or more types of radically polymerizable compounds can be used. Note that (meth)acrylate refers to methacrylate or acrylate.
The number of functional groups in the radically polymerizable compound is preferably 1 to 3 from the viewpoint of lowering the viscosity of the active energy ray-curable composition.

ラジカル重合性化合物は、下記(A1)第1重合性化合物、(A2)第2重合性化合物、及び(A3)第3重合性化合物から選ばれる少なくとも一種の重合性化合物を含むことが好ましい。この場合、活性エネルギー線の照射による反応性に優れるとともに、スタンピング加工の際に適度な柔軟性を有する硬化膜が得られ易くなる。 The radically polymerizable compound preferably contains at least one polymerizable compound selected from the following (A1) first polymerizable compound, (A2) second polymerizable compound, and (A3) third polymerizable compound. In this case, it becomes easy to obtain a cured film that exhibits excellent reactivity upon irradiation with active energy rays and has appropriate flexibility during stamping.

(A1)第1重合性化合物は、ビニルエーテル基及びアリルエーテル基の少なくとも一方のエーテル基と、(メタ)アクリロイル基とを有する化合物である。(A2)第2重合性化合物は、芳香族骨格を有する(メタ)アクリレート化合物である。(A3)第3重合性化合物は、アルカンジオール(メタ)アクリレート化合物、アルキレングリコールジ(メタ)アクリレート化合物、及びアルコキシ化アルカンジオール(メタ)アクリレート化合物から選ばれる少なくとも一種の化合物である。 (A1) The first polymerizable compound is a compound having an ether group, which is at least one of a vinyl ether group and an allyl ether group, and a (meth)acryloyl group. (A2) The second polymerizable compound is a (meth)acrylate compound having an aromatic skeleton. (A3) The third polymerizable compound is at least one compound selected from alkanediol (meth)acrylate compounds, alkylene glycol di(meth)acrylate compounds, and alkoxylated alkanediol (meth)acrylate compounds.

(A1)第1重合性化合物としては、例えば、アクリル酸2-(2-ビニロキシエトキシ)エチル(日本触媒社製、商品名:VEEA)、メタクリル酸2-(2-ビニロキシエトキシ)エチル(日本触媒社製、商品名:VEEM)、及び2-(アリルオキシメチル)アクリル酸メチル(日本触媒社製、商品名:AOMA(FX-AO-MA))が挙げられる。 (A1) As the first polymerizable compound, for example, 2-(2-vinyloxyethoxy)ethyl acrylate (manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd., trade name: VEEA), 2-(2-vinyloxyethoxy)ethyl methacrylate ( Examples include Nippon Shokubai Co., Ltd., trade name: VEEM), and methyl 2-(allyloxymethyl)acrylate (Nippon Shokubai Co., Ltd., trade name: AOMA (FX-AO-MA)).

(A2)第2重合性化合物としては、例えば、ベンジル(メタ)アクリレート、メチルフェノキシエチル(メタ)アクリレート、2-フェノキシエチル(メタ)アクリレート、フェノキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、フェノキシポリプロピレングリコール(メタ)アクリレート、フェノキシポリエチレンポリプロピレングリコール(メタ)アクリレート、フェノキシジエチレングリコール(メタ)アクリレート、及び2-ヒドロキシ-3-フェノキシプロピル(メタ)アクリレートが挙げられる。 (A2) Examples of the second polymerizable compound include benzyl (meth)acrylate, methylphenoxyethyl (meth)acrylate, 2-phenoxyethyl (meth)acrylate, phenoxypolyethylene glycol (meth)acrylate, and phenoxypolypropylene glycol (meth)acrylate. acrylate, phenoxypolyethylene polypropylene glycol (meth)acrylate, phenoxydiethylene glycol (meth)acrylate, and 2-hydroxy-3-phenoxypropyl (meth)acrylate.

(A3)第3重合性化合物としては、例えば、1,3-ブチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,4-ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、1,6-ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、1,9-ノナンジオールジ(メタ)アクリレート、ドデカンジ(メタ)アクリレート、ジプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、及びアルコキシ化ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレートが挙げられる。 (A3) Examples of the third polymerizable compound include 1,3-butylene glycol di(meth)acrylate, diethylene glycol di(meth)acrylate, triethylene glycol di(meth)acrylate, tetraethylene glycol di(meth)acrylate, 1,4-butanediol di(meth)acrylate, neopentyl glycol di(meth)acrylate, 1,6-hexanediol di(meth)acrylate, 1,9-nonanediol di(meth)acrylate, dodecane di(meth)acrylate , dipropylene glycol di(meth)acrylate, tripropylene glycol di(meth)acrylate, and alkoxylated hexanediol di(meth)acrylate.

活性エネルギー線硬化型組成物中におけるラジカル重合性化合物の含有量は、60質量%以上であることが好ましく、より好ましくは70質量%以上であり、さらに好ましくは75質量%以上である。活性エネルギー線硬化型組成物中における重合性化合物の含有量は、98質量%以下であることが好ましく、より好ましくは95質量%以下であり、さらに好ましくは89質量%以下である。 The content of the radically polymerizable compound in the active energy ray-curable composition is preferably 60% by mass or more, more preferably 70% by mass or more, and still more preferably 75% by mass or more. The content of the polymerizable compound in the active energy ray-curable composition is preferably 98% by mass or less, more preferably 95% by mass or less, and still more preferably 89% by mass or less.

<(B)光重合開始剤>
光重合開始剤は、活性エネルギー線の照射によりラジカル重合性化合物の重合反応を開始させる。光重合開始剤としては、光ラジカル重合型の光重合開始剤を用いることができる。光ラジカル重合型の光重合開始剤としては、例えば、分子内開裂型の光重合開始剤、及び水素引き抜き型の光重合開始剤が挙げられる。光重合開始剤は、一種類又は二種類以上を使用することができる。
<(B) Photopolymerization initiator>
A photopolymerization initiator initiates a polymerization reaction of a radically polymerizable compound by irradiation with active energy rays. As the photopolymerization initiator, a photoradical polymerization type photopolymerization initiator can be used. Examples of photo-radical polymerization type photopolymerization initiators include intramolecular cleavage type photopolymerization initiators and hydrogen abstraction type photopolymerization initiators. One type or two or more types of photopolymerization initiators can be used.

(B)光重合開始剤は、(B1)アシルホスフィンオキシド系化合物を含む。(B1)アシルホスフィンオキシド系化合物としては、例えば、2,4,6-トリメチルベンゾイル-ジフェニル-ホスフィンオキシド、ビス(2,4,6-トリメチルベンゾイル)-フェニルホスフィンオキシド、及びフェニル(2,4,6-トリメチルベンゾイル)ホスフィン酸エチル、エチル(3-ベンゾイル-2,4,6-トリメチルベンゾイル)(フェニル)ホスフィンオキシドが挙げられる。(B1)アシルホスフィンオキシド系化合物は、一種類又は二種類以上を使用することができる。 (B) The photopolymerization initiator includes (B1) an acylphosphine oxide compound. (B1) Examples of the acylphosphine oxide compounds include 2,4,6-trimethylbenzoyl-diphenyl-phosphine oxide, bis(2,4,6-trimethylbenzoyl)-phenylphosphine oxide, and phenyl(2,4, Examples include ethyl 6-trimethylbenzoyl)phosphinate and ethyl (3-benzoyl-2,4,6-trimethylbenzoyl)(phenyl)phosphine oxide. (B1) One type or two or more types of acylphosphine oxide compounds can be used.

活性エネルギー線硬化型組成物中における(B1)アシルホスフィンオキシド系化合物の含有量は、2.0質量%以上、11.0質量%以下の範囲内であり、好ましくは2.3質量%以上、8.5質量%以下の範囲内であり、さらに好ましくは2.6質量%以上、7.0質量%以下の範囲内である。活性エネルギー線硬化型組成物中における(B1)アシルホスフィンオキシド系化合物の含有量が2.0質量%以上の場合、塗布層に活性エネルギー線を照射することにより塗布層の流動性を低下させ易くなる。このように塗布層の流動性を低下させることで得られる低流動性膜は、転写用基材を塗布層上に配置したとき、形状が保持され易い。一方、活性エネルギー線硬化型組成物中における(B1)アシルホスフィンオキシド系化合物の含有量が11.0質量%以下の場合、塗布層に活性エネルギー線を照射したとき、塗布層の硬化が急激に進行することを抑えることができる。これにより、低流動性膜の柔軟性や粘着性が維持され易くなるため、転写性を向上させることができる。 The content of the acylphosphine oxide compound (B1) in the active energy ray-curable composition is in the range of 2.0% by mass or more and 11.0% by mass or less, preferably 2.3% by mass or more, It is within the range of 8.5% by mass or less, and more preferably within the range of 2.6% by mass or more and 7.0% by mass or less. When the content of the acylphosphine oxide compound (B1) in the active energy ray-curable composition is 2.0% by mass or more, the fluidity of the coated layer is likely to be reduced by irradiating the coated layer with active energy rays. Become. A low-fluidity film obtained by reducing the fluidity of the coating layer in this manner tends to maintain its shape when a transfer base material is placed on the coating layer. On the other hand, when the content of the acylphosphine oxide compound (B1) in the active energy ray-curable composition is 11.0% by mass or less, when the coating layer is irradiated with active energy rays, the coating layer is rapidly cured. Progress can be prevented. This makes it easier to maintain the flexibility and adhesiveness of the low-fluidity film, thereby improving transferability.

(B)光重合開始剤は、(B2)硫黄系化合物をさらに含むことが好ましい。(B2)硫黄系化合物は、スルホン系化合物及びチオベンゾイル系化合物の少なくとも一方である。スルホン系化合物としては、例えば、1-[4-(4-ベンゾイルフェニルスルファニル)フェニル]-2-メチル-2-(4-メチルフェニルスルホニル)プロパン-1-オン、及びトリブロモメチルフェニルスルホンが挙げられる。チオベンゾイル系化合物としては、例えば、2-メチル-1-[4-(メチルチオ)フェニル]-2-モルフォリノプロパン-1-オン、4-ベンゾイル4´-メチルジフェニルスルフィド、及び1-〔4-(フェニルチオ)フェニル〕-オクタン-1,2-ジオン-2-(O-ベンゾイルオキシム)が挙げられる。 (B) The photopolymerization initiator preferably further contains (B2) a sulfur-based compound. (B2) The sulfur-based compound is at least one of a sulfone-based compound and a thiobenzoyl-based compound. Examples of sulfone compounds include 1-[4-(4-benzoylphenylsulfanyl)phenyl]-2-methyl-2-(4-methylphenylsulfonyl)propan-1-one and tribromomethylphenylsulfone. It will be done. Examples of thiobenzoyl compounds include 2-methyl-1-[4-(methylthio)phenyl]-2-morpholinopropan-1-one, 4-benzoyl 4'-methyldiphenyl sulfide, and 1-[4- (Phenylthio)phenyl]-octane-1,2-dione-2-(O-benzoyloxime) is mentioned.

活性エネルギー線硬化型組成物中における(B2)硫黄系化合物の含有量は、0.4質量%以上であることが好ましい。この場合、塗布層に活性エネルギー線を照射することにより塗布層の流動性を低下させ易くなる。 The content of the sulfur-based compound (B2) in the active energy ray-curable composition is preferably 0.4% by mass or more. In this case, the fluidity of the coating layer can be easily reduced by irradiating the coating layer with active energy rays.

(B)光重合開始剤は、(B3)チオキサントン系化合物をさらに含むことが好ましい。(B3)チオキサントン系化合物としては、例えば、チオキサントン、2-クロロチオキサントン、2,4-ジクロロチオキサントン、2-メチルチオキサントン、2,4-ジメチルチオキサントン、2,4-ジエチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、及び2-イソプロピルチオキサントンが挙げられる。活性エネルギー線硬化型組成物中における(B3)チオキサントン系化合物の含有量は、0.8質量%以下であることが好ましく、より好ましくは0.5質量%以下であり、さらに好ましくは0.3質量%以下である。 (B) The photopolymerization initiator preferably further includes (B3) a thioxanthone compound. (B3) Thioxanthone compounds include, for example, thioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2,4-dichlorothioxanthone, 2-methylthioxanthone, 2,4-dimethylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, isopropylthioxanthone, and 2- Isopropylthioxanthone is mentioned. The content of the thioxanthone compound (B3) in the active energy ray-curable composition is preferably 0.8% by mass or less, more preferably 0.5% by mass or less, and even more preferably 0.3% by mass. % by mass or less.

光重合開始剤は、必要に応じて、上記以外の化合物を含んでいてもよい。光重合開始剤における上記以外の化合物としては、アルキルフェノン系化合物、イミダゾール系化合物、及びトリアジン系化合物が挙げられる。但し、光重合開始剤としては、活性エネルギー線硬化型組成物を硬化した硬化膜の色調に影響を与え難いものを選択して用いることが好ましい。特に、着色剤を含まない透明な硬化膜を形成する活性エネルギー線硬化型組成物の場合、硬化膜の黄変等の着色の要因とならない光重合開始剤を選択して用いることが好ましい。 The photopolymerization initiator may contain compounds other than those listed above, if necessary. Examples of compounds other than those mentioned above in the photopolymerization initiator include alkylphenone compounds, imidazole compounds, and triazine compounds. However, as the photopolymerization initiator, it is preferable to select and use one that does not easily affect the color tone of the cured film obtained by curing the active energy ray-curable composition. In particular, in the case of an active energy ray-curable composition that forms a transparent cured film that does not contain a colorant, it is preferable to select and use a photopolymerization initiator that does not cause coloration such as yellowing of the cured film.

アルキルフェノン系化合物としては、例えば、2,2-ジメトキシ-1,2-ジフェニルエタン-1-オン、1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニルプロパン-1-オン、1-[4-(2-ヒドロキシエトキシ)-フェニル]-2-ヒドロキシ-2-メチル-1-プロパン-1-オン、2-ヒドロキシ-1-{4-[4-{2-ヒドロキシ-2-メチルプロピオニル}-ベンジル]-フェニル}-2-メチルプロパン-1-オン、2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-(4-モルホリノフェニル)-ブタン-1-オン、及び2-ジメチルアミノ-2-(4-メチルベンジル)-1-(4-モリフォリン-4-イル-フェニル)-ブタン-1-オンが挙げられる。 Examples of alkylphenone compounds include 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethan-1-one, 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 1-[4-(2-hydroxyethoxy)-phenyl]-2-hydroxy-2-methyl-1-propan-1-one, 2-hydroxy-1-{4-[4-{2-hydroxy-2- Methylpropionyl}-benzyl]-phenyl}-2-methylpropan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1-(4-morpholinophenyl)-butan-1-one, and 2-dimethylamino-2 -(4-methylbenzyl)-1-(4-morpholin-4-yl-phenyl)-butan-1-one.

イミダゾール系化合物としては、例えば、2´-ビス(2-クロロフェニル)-4,4´,5,5´-テトラフェニル-1,2´-ビイミダゾール、2,2´-ビス(2-クロロフェニル)-4,4´,5,5´-テトラフェニル-1,2´-ビイミダゾール、及び2,2´,4-トリス(2-クロロフェニル)-5-(3,4-ジメトキシフェニル)-4´,5´-ジフェニル-1,1´-ビイミダゾールが挙げられる。 Examples of imidazole compounds include 2'-bis(2-chlorophenyl)-4,4',5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole, 2,2'-bis(2-chlorophenyl) -4,4',5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole, and 2,2',4-tris(2-chlorophenyl)-5-(3,4-dimethoxyphenyl)-4' , 5'-diphenyl-1,1'-biimidazole.

トリアジン系化合物としては、例えば、2-[2-(4-メトキシフェニル)エテニル]-4,6-ビス(トリクロロメチル)-1,3,5-トリアジン、及び2-[4´-エチル(1,1´-ビフェニル)-4-イル]-4,6-ビス(トリクロロメチル)-1,3,5-トリアジンが挙げられる。 Examples of triazine compounds include 2-[2-(4-methoxyphenyl)ethenyl]-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine and 2-[4'-ethyl(1 , 1'-biphenyl)-4-yl]-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine.

活性エネルギー線硬化型組成物中における光重合開始剤の含有量は、2.0質量%以上であることが好ましく、より好ましくは2.3質量%以上であり、さらに好ましくは2.6質量%以上である。活性エネルギー線硬化型組成物中における光重合開始剤の含有量は、20質量%以下であることが好ましく、より好ましくは18質量%以下であり、さらに好ましくは15質量%以下である。 The content of the photopolymerization initiator in the active energy ray-curable composition is preferably 2.0% by mass or more, more preferably 2.3% by mass or more, and even more preferably 2.6% by mass. That's all. The content of the photopolymerization initiator in the active energy ray-curable composition is preferably 20% by mass or less, more preferably 18% by mass or less, and still more preferably 15% by mass or less.

<上記以外の成分>
活性エネルギー線硬化型組成物は、(C)アミン系化合物を含有することが好ましい。
(C)アミン系化合物としては、例えば、(C1)アミノ変性化合物、(C2)芳香族アミン系化合物、及び(C3)脂肪族アミン系化合物が挙げられる。
<Ingredients other than the above>
The active energy ray-curable composition preferably contains (C) an amine compound.
Examples of the (C) amine compound include (C1) an amino-modified compound, (C2) an aromatic amine compound, and (C3) an aliphatic amine compound.

(C1)アミノ変性化合物は、アミノ変性アクリレートオリゴマー及びアミノ変性アクリレートポリマーの少なくとも一方である。(C1)アミノ変性化合物としては、例えば、ダイセル・オルネクス社製の市販品(商品名:EBECRYL80、EBECRYL7100)、東亜合成社製の市販品(商品名:アロンDA)、KJケミカルズ社製の市販品(商品名:DMAPAA)、RAHN社製の市販品(商品名:GENOMER5142、GENOMER5161、GENOMER5271、GENOMER5275、GENOMER5695)、及びサートマー社製の市販品(商品名:CN383、CN371NS、CN386、CN549NS、CN550、CN551NS、CN373)が挙げられる。 (C1) The amino-modified compound is at least one of an amino-modified acrylate oligomer and an amino-modified acrylate polymer. (C1) Amino-modified compounds include, for example, commercial products manufactured by Daicel Allnex Corporation (product names: EBECRYL80, EBECRYL7100), commercial products manufactured by Toagosei Co., Ltd. (product name: Aron DA), and commercial products manufactured by KJ Chemicals. (Product name: DMAPAA), commercial products manufactured by RAHN (Product names: GENOMER5142, GENOMER5161, GENOMER5271, GENOMER5275, GENOMER5695), and commercial products manufactured by Sartomer (Product names: CN383, CN371NS, CN386, CN5) 49NS, CN550, CN551NS , CN373).

(C2)芳香族アミン系化合物としては、例えば、p-ジエチルアミノアセトフェノン、p-ジメチルアミノ安息香酸エチル、p-ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、{α-4-(ジメチルアミノ)ベンゾイルポリ(オキシエチレン)-ポリ〔オキシ(1-メチルエチレン)〕-ポリ(オキシエチレン)}4-(ジメチルアミノ)-ベンゾエート、ポリ(エチレングリコール)ビス(p-ジメチルアミノベンゾエート)、N,N-ジメチルベンジルアミン、(メチルアミノ)ジエタン-2,1-ジイルビス〔4-(ジメチルアミノ)-ベンゾエート〕、及び4,4´-ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノンが挙げられる。 (C2) Aromatic amine compounds include, for example, p-diethylaminoacetophenone, ethyl p-dimethylaminobenzoate, isoamyl p-dimethylaminobenzoate, {α-4-(dimethylamino)benzoylpoly(oxyethylene)- Poly[oxy(1-methylethylene)]-poly(oxyethylene)}4-(dimethylamino)-benzoate, poly(ethylene glycol) bis(p-dimethylaminobenzoate), N,N-dimethylbenzylamine, (methyl Examples include amino) diethane-2,1-diylbis[4-(dimethylamino)-benzoate] and 4,4'-bis(diethylamino)benzophenone.

(C3)脂肪族アミン系化合物としては、例えば、トリメチルアミン、メチルジメタノールアミン、トリエタノールアミン、N-メチルジエタノールアミンが挙げられる。
(C)アミン系化合物は、(C1)アミノ変性化合物及び(C2)芳香族アミン系化合物の少なくとも一方を含むことが好ましい。
(C3) Aliphatic amine compounds include, for example, trimethylamine, methyldimethanolamine, triethanolamine, and N-methyldiethanolamine.
(C) The amine compound preferably contains at least one of (C1) an amino-modified compound and (C2) an aromatic amine compound.

活性エネルギー線硬化型組成物中における(C)アミン系化合物の含有量は、0.1質量%以上であることが好ましい。活性エネルギー線硬化型組成物中における(C)アミン系化合物の含有量は、20質量%以下であることが好ましい。活性エネルギー線硬化型組成物中における(C)アミン系化合物の含有量は、0.5質量%以上、15質量%以下の範囲内であることがより好ましくは、さらに好ましくは1.0質量%以上、10質量%以下の範囲内である。 The content of the amine compound (C) in the active energy ray-curable composition is preferably 0.1% by mass or more. The content of the amine compound (C) in the active energy ray-curable composition is preferably 20% by mass or less. The content of the amine compound (C) in the active energy ray-curable composition is more preferably in the range of 0.5% by mass or more and 15% by mass or less, and even more preferably 1.0% by mass. The content is within the range of 10% by mass or less.

活性エネルギー線硬化型組成物には、ポリマーを含有させることもできる。ポリマーとしては、例えば、(メタ)アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ケトン樹脂、ジアリルフタレート樹脂、塩素化ポリオレフィン樹脂、塩化ビニル系樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、及びポリエステル樹脂が挙げられる。ポリマーは、一種類又は二種類以上を使用することができる。 The active energy ray-curable composition can also contain a polymer. Examples of the polymer include (meth)acrylic resin, epoxy resin, ketone resin, diallyl phthalate resin, chlorinated polyolefin resin, vinyl chloride resin, polyvinyl acetal resin, and polyester resin. One type or two or more types of polymers can be used.

(メタ)アクリル樹脂としては、例えば、メタクリル酸メチルとメタクリル酸n-ブチルとの共重合体、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、n-ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、t-ブチル(メタ)アクリレート、2-エチルヘキシル(メタ)アクリレート、及びシクロヘキシル(メタ)アクリレートが挙げられる。 Examples of (meth)acrylic resins include copolymers of methyl methacrylate and n-butyl methacrylate, methyl (meth)acrylate, ethyl (meth)acrylate, n-butyl (meth)acrylate, and isobutyl (meth)acrylate. , t-butyl (meth)acrylate, 2-ethylhexyl (meth)acrylate, and cyclohexyl (meth)acrylate.

(メタ)アクリル樹脂としては、例えば、三菱レイヨン社製の市販品(商品名:ダイヤナールBR、ダイヤナールHR、ダイヤナールHW、ダイヤナールLP、ダイヤナールLR、ダイヤナールLW、ダイヤナールLX、ダイヤナールSE)、日立化成工業社製の市販品(商品名:ヒタロイド7975、ヒタロイド7988、ヒタロイド7975D)、根上工業社製の市販品(商品名:ハイパールM-4006、ハイパールM-4501、ハイパールM-5000、ハイパールM-5001)、及び荒川化学社製の市販品(商品名:ビームセット243NS、ビームセット255、ビームセット261、ビームセット271)が挙げられる。 Examples of the (meth)acrylic resin include commercially available products manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd. (product names: Dianal BR, Dianal HR, Dianal HW, Dianal LP, Dianal LR, Dianal LW, Dianal LX, Diamond Naal SE), commercial products manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd. (product names: Hitaloid 7975, Hitaloid 7988, Hitaloid 7975D), commercial products manufactured by Negami Kogyo Co., Ltd. (product names: Hypal M-4006, Hyperal M-4501, Hyperal M-) 5000, Hyperal M-5001), and commercial products manufactured by Arakawa Chemical Co., Ltd. (product names: Beam Set 243NS, Beam Set 255, Beam Set 261, Beam Set 271).

エポキシ樹脂としては、例えば、ビスフェノールA型、ビスフェノールF型等が挙げられる。
ケトン樹脂としては、例えば、ケトン・アルデヒド縮合樹脂、ホルムアルデヒド等のアルデヒド化合物を反応させて得られたケトン樹脂、及びウレタン変性ケトン樹脂が挙げられる。ケトン樹脂としては、例えば、荒川化学工業社製の市販品(商品名:K-90)、EVONIK Industries AG社製の市販品(商品名:VariPlus AP、VariPlus SK、VariPlus 1201TF、VariPlus CA)が挙げられる。
Examples of the epoxy resin include bisphenol A type and bisphenol F type.
Examples of the ketone resin include a ketone/aldehyde condensation resin, a ketone resin obtained by reacting an aldehyde compound such as formaldehyde, and a urethane-modified ketone resin. Examples of the ketone resin include commercial products manufactured by Arakawa Chemical Co., Ltd. (trade name: K-90) and commercial products manufactured by EVONIK Industries AG (trade names: VariPlus AP, VariPlus SK, VariPlus 1201TF, VariPlus CA). It will be done.

ジアリルフタレート樹脂としては、例えば、大阪ソーダ社製の市販品(商品名:ダイソーダップ、ダイソーイソダップ、ダイソーダップモノマー、ダイソーダップ100モノマー)が挙げられる。 Examples of the diallyl phthalate resin include commercial products manufactured by Osaka Soda Co., Ltd. (trade names: Daiso Dapp, Daiso Isodap, Daiso Dapp Monomer, Daiso Dapp 100 Monomer).

塩素化ポリオレフィン樹脂としては、例えば、日本製紙社製の市販品(スーパークロン814HS、スーパークロン390S)、及び東洋紡社製の市販品(商品名:ハードレン13-LLP、ハードレン15-LLP)が挙げられる。塩化ビニル系樹脂としては、例えば、日信化学工業社製の市販品(商品名:ソルバインCL、ソルバインCNL、ソルバインC5R、ソルバインTA5R)、及びカネカ社製の市販品(商品名:カネビニールMシリーズ、カネビニールHMシリーズ、カネビニールT5シリーズ)が挙げられる。 Examples of the chlorinated polyolefin resin include commercial products manufactured by Nippon Paper Industries (Superchron 814HS, Superchron 390S), and commercial products manufactured by Toyobo (trade names: Hardren 13-LLP, Hardren 15-LLP). . Examples of vinyl chloride resins include commercial products manufactured by Nissin Chemical Industries, Ltd. (product names: Solvine CL, Solvine CNL, Solvine C5R, Solvine TA5R), and commercial products manufactured by Kaneka Corporation (product name: Kanevinyl M series). , Kanevinyl HM series, Kanevinyl T5 series).

ポリビニルアセタール樹脂としては、例えば、積水化学工業社製の市販品(商品名:エスレックB、エスレックKX、エスレックKW)が挙げられる。ポリエステル樹脂としては、例えば、高松油脂社製の市販品(商品名:ペスレジンAシリーズ、ペスレジンSシリーズ)、及び東洋紡社製の市販品(商品名:バイロン103、バイロン200、バイロン220)が挙げられる。 Examples of the polyvinyl acetal resin include commercial products manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd. (trade names: S-LEC B, S-LEC KX, S-LEC KW). Examples of polyester resins include commercial products manufactured by Takamatsu Yushi Co., Ltd. (product names: Pesresin A series, Pesresin S series) and commercial products manufactured by Toyobo Co., Ltd. (product names: Byron 103, Byron 200, Byron 220). .

活性エネルギー線硬化型組成物中におけるポリマーの含有量は、ラジカル重合性化合物100質量部に対して、0.1質量部以上であることが好ましく、より好ましくは1質量部以上であり、さらに好ましくは3質量部以上である。活性エネルギー線硬化型組成物中におけるポリマーの含有量は、ラジカル重合性化合物100質量部に対して、20質量部以下であることが好ましく、より好ましくは15質量部以下であり、さらに好ましくは10質量部以下である。 The content of the polymer in the active energy ray-curable composition is preferably 0.1 parts by mass or more, more preferably 1 part by mass or more, and even more preferably is 3 parts by mass or more. The content of the polymer in the active energy ray-curable composition is preferably 20 parts by mass or less, more preferably 15 parts by mass or less, and even more preferably 10 parts by mass, based on 100 parts by mass of the radically polymerizable compound. Parts by mass or less.

活性エネルギー線硬化型組成物には、表面張力調整剤を含有させることもできる。表面張力調整剤は、活性エネルギー線硬化型組成物の表面張力を所定の範囲に調整可能な化合物である。表面張力調整剤としては、例えば、イオン性界面活性剤、非イオン性界面活性剤、変性シリコーンオイル、及び有機溶剤が挙げられる。 The active energy ray-curable composition can also contain a surface tension regulator. The surface tension adjuster is a compound that can adjust the surface tension of the active energy ray-curable composition to a predetermined range. Examples of surface tension modifiers include ionic surfactants, nonionic surfactants, modified silicone oils, and organic solvents.

イオン性界面活性剤のアニオン性界面活性剤としては、例えば、脂肪酸塩類、アルキル硫酸エステル塩類、ベンゼンスルホン酸塩類、ナフタレンスルホン酸塩類、スルホコハク酸エステル塩類、ポリオキシエチレン硫酸エステル塩類、及びリン酸エステル塩類が挙げられる。 Examples of the anionic surfactant of the ionic surfactant include fatty acid salts, alkyl sulfate ester salts, benzene sulfonates, naphthalene sulfonates, sulfosuccinate ester salts, polyoxyethylene sulfate ester salts, and phosphate esters. Examples include salts.

脂肪酸塩類としては、例えば、ステアリン酸ナトリウム、オレイン酸カリウム、及び半硬化牛脂脂肪酸ナトリウムが挙げられる。
アルキル硫酸エステル塩類としては、例えば、ドデシル硫酸ナトリウム、ドデシル硫酸トリ(2-ヒドロキシエチル)アンモニウム、及びオクタデシル硫酸ナトリウムが挙げられる。
Examples of fatty acid salts include sodium stearate, potassium oleate, and sodium semi-hardened beef tallow fatty acid.
Examples of the alkyl sulfate ester salts include sodium dodecyl sulfate, tri(2-hydroxyethyl) ammonium dodecyl sulfate, and sodium octadecyl sulfate.

ベンゼンスルホン酸塩類としては、例えば、ノニルベンゼンスルホン酸ナトリウム、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム、オクタデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム、及びドデシルジフェニルエーテルジスルホン酸ナトリウムが挙げられる。 Examples of the benzenesulfonic acid salts include sodium nonylbenzenesulfonate, sodium dodecylbenzenesulfonate, sodium octadecylbenzenesulfonate, and sodium dodecyl diphenyl ether disulfonate.

ナフタレンスルホン酸塩類としては、例えば、ドデシルナフタレンスルホン酸ナトリウム、及びナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物が挙げられる。
スルホコハク酸エステル塩類としては、例えば、スルホコハク酸ジドデシルナトリウム、及びスルホコハク酸ジオクタデシルナトリウムが挙げられる。
Examples of naphthalene sulfonate salts include sodium dodecylnaphthalene sulfonate and naphthalene sulfonic acid formalin condensate.
Examples of the sulfosuccinic acid ester salts include didodecyl sodium sulfosuccinate and dioctadecyl sodium sulfosuccinate.

ポリオキシエチレン硫酸エステル塩類としては、例えば、ポリオキシエチレンドデシルエーテル硫酸ナトリウム、ポリオキシエチレンドデシルエーテル硫酸トリ(2-ヒドロキシエチル)アンモニウム、ポリオキシエチレンオクタデシルエーテル硫酸ナトリウム、及びポリオキシエチレンドデシルフェニルエーテル硫酸ナトリウムが挙げられる。 Examples of polyoxyethylene sulfate salts include sodium polyoxyethylene dodecyl ether sulfate, tri(2-hydroxyethyl) ammonium polyoxyethylene dodecyl ether sulfate, sodium polyoxyethylene octadecyl ether sulfate, and polyoxyethylene dodecyl ether sulfate. Examples include sodium.

リン酸エステル塩類としては、例えば、ドデシルリン酸カリウム、及びオクタデシルリン酸ナトリウムが挙げられる。
イオン性界面活性剤のカチオン性界面活性剤としては、例えば、第四級アンモニウム塩類が挙げられる。第四級アンモニウム塩類としては、例えば、酢酸オクタデシルアンモニウム、ヤシ油アミン酢酸塩等のアルキルアミン塩類、塩化ドデシルトリメチルアンモニウム、塩化オクタデシルトリメチルアンモニウム、塩化ジオクタデシルジメチルアンモニウム、及び塩化ドデシルベンジルジメチルアンモニウムが挙げられる。
Examples of phosphate ester salts include potassium dodecyl phosphate and sodium octadecyl phosphate.
Examples of the cationic surfactant of the ionic surfactant include quaternary ammonium salts. Examples of quaternary ammonium salts include octadecyl ammonium acetate, alkyl amine salts such as coconut oil amine acetate, dodecyltrimethylammonium chloride, octadecyltrimethylammonium chloride, diotadecyldimethylammonium chloride, and dodecylbenzyldimethylammonium chloride. .

イオン性界面活性剤の両性イオン性活性剤としては、例えば、アルキルベタイン類、及びアミンオキシド類が挙げられる。アルキルベタイン類としては、例えば、ドデシルベタイン、及びオクタデシルベタインが挙げられる。アミンオキシド類としては、例えば、ドデシルジメチルアミンオキシドが挙げられる。 Examples of the zwitterionic surfactant of the ionic surfactant include alkyl betaines and amine oxides. Examples of alkyl betaines include dodecyl betaine and octadecyl betaine. Examples of amine oxides include dodecyldimethylamine oxide.

非イオン性界面活性剤としては、例えば、ポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンフェニルエーテル類、オキシラン重合体類、ソルビタン脂肪酸エステル類、ソルビトール脂肪酸エステル類、及びグリセリン脂肪酸エステル類が挙げられる。 Examples of the nonionic surfactant include polyoxyethylene alkyl ethers, polyoxyethylene phenyl ethers, oxirane polymers, sorbitan fatty acid esters, sorbitol fatty acid esters, and glycerin fatty acid esters.

ポリオキシエチレンアルキルエーテル類としては、例えば、ポリオキシエチレンドデシルエーテル、ポリオキシエチレンヘキサデシルエーテル、ポリオキシエチレンオクタデシルエーテル、及びポリオキシエチレン(9-オクタデセニル)エーテルが挙げられる。 Examples of polyoxyethylene alkyl ethers include polyoxyethylene dodecyl ether, polyoxyethylene hexadecyl ether, polyoxyethylene octadecyl ether, and polyoxyethylene (9-octadecenyl) ether.

ポリオキシエチレンフェニルエーテル類としては、例えば、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、及びポリオキシエチレンノニルフェニルエーテルが挙げられる。
オキシラン重合体類としては、例えば、ポリ酸化エチレン、及びコ-ポリ酸化エチレン酸化プロピレンが挙げられる。
Examples of polyoxyethylene phenyl ethers include polyoxyethylene octylphenyl ether and polyoxyethylene nonylphenyl ether.
Oxirane polymers include, for example, polyethylene oxide and co-polyethylene oxide propylene oxide.

ソルビタン脂肪酸エステル類としては、例えば、ソルビタンドデカン酸エステル、ソルビタンヘキサデカン酸エステル、ソルビタンオクタデカン酸エステル、ソルビタン(9-オクタデセン酸)エステル、ソルビタン(9-オクタデセン酸)トリエステル、ポリオキシエチレンソルビタンドデカン酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタンヘキサデカン酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタンオクタデカン酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタンオクタデカン酸トリエステル、ポリオキシエチレンソルビタン(9-オクタデセン酸)エステル、及びポリオキシエチレンソルビタン(9-オクタデセン酸)トリエステルが挙げられる。 Examples of sorbitan fatty acid esters include sorbitan dodecanoate, sorbitan hexadecanoate, sorbitan octadecanoate, sorbitan (9-octadecenoate) ester, sorbitan (9-octadecenoate) triester, and polyoxyethylene sorbitan dodecanoate. , polyoxyethylene sorbitan hexadecanoate ester, polyoxyethylene sorbitan octadecanoate ester, polyoxyethylene sorbitan octadecanoate triester, polyoxyethylene sorbitan (9-octadecenoic acid) ester, and polyoxyethylene sorbitan (9-octadecenoic acid) triester Examples include esters.

ソルビトール脂肪酸エステル類としては、例えば、ポリオキシエチレンソルビトール(9-オクタデセン酸)テトラエステルが挙げられる。
グリセリン脂肪酸エステル類としては、例えば、グリセリンオクタデカン酸エステル、グリセリン(9-オクタデセン酸)エステルが挙げられる。
Examples of sorbitol fatty acid esters include polyoxyethylene sorbitol (9-octadecenoic acid) tetraester.
Examples of glycerin fatty acid esters include glycerin octadecanoic acid ester and glycerin (9-octadecenoic acid) ester.

変性シリコーンオイルとしては、例えば、ポリエーテル変性シリコーンオイル、メチルスチレン変性シリコーンオイル、オレフィン変性シリコーンオイル、アルコール変性シリコーンオイル、及びアルキル変性シリコーンオイルが挙げられる。変性シリコーンオイルの中でも、活性エネルギー線硬化型組成物に対して良好な溶解性を示すことから、各種有機基を導入した変性シリコーンオイルを使用することが好ましい。各種有機基を導入した変性シリコーンオイルとしては、例えば、末端(メタ)アクリル変性シリコーンオイル、末端エポキシ変性シリコーンオイルが挙げられる。 Examples of the modified silicone oil include polyether-modified silicone oil, methylstyrene-modified silicone oil, olefin-modified silicone oil, alcohol-modified silicone oil, and alkyl-modified silicone oil. Among the modified silicone oils, it is preferable to use modified silicone oils into which various organic groups have been introduced since they exhibit good solubility in active energy ray-curable compositions. Examples of the modified silicone oil into which various organic groups are introduced include terminal (meth)acrylic modified silicone oil and terminal epoxy modified silicone oil.

変性シリコーンオイルは、基材に形成した硬化膜の表面に過剰にブリードすることがない。このため、硬化膜の表面のべたつきや、硬化膜の表面を通してのオイルの移行を抑えることができる。変性シリコーンオイルの中でも、活性エネルギー線硬化性の照射により硬化する化合物が好ましく、例えば、シリコーンポリエーテルアクリレート、及びポリエーテル変性シロキサンコポリマー及びエポキシ変性シリコーンオイルが挙げられる。 The modified silicone oil does not excessively bleed onto the surface of the cured film formed on the base material. Therefore, stickiness on the surface of the cured film and migration of oil through the surface of the cured film can be suppressed. Among the modified silicone oils, compounds that are cured by active energy ray-curable irradiation are preferred, such as silicone polyether acrylate, polyether-modified siloxane copolymers, and epoxy-modified silicone oils.

有機溶剤としては、例えば、エステル類、ケトン類、環状エーテル類、アミド類、芳香族炭化水素類、グリコールエーテル類、ジエチレングリコールエステル類、脂肪族炭化水素類、及びアルコール類が挙げられる。 Examples of the organic solvent include esters, ketones, cyclic ethers, amides, aromatic hydrocarbons, glycol ethers, diethylene glycol esters, aliphatic hydrocarbons, and alcohols.

エステル類としては、例えば、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソプロピル、酢酸イソブチル、酢酸セロソルブ、及びプロピレングリコールメチルエーテルアセテートが挙げられる。 Examples of esters include ethyl acetate, butyl acetate, isopropyl acetate, isobutyl acetate, cellosolve acetate, and propylene glycol methyl ether acetate.

ケトン類としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、及びシクロヘキサノンが挙げられる。環状エーテル類としては、例えば、テトラヒドロフラン、及びジオキサンが挙げられる。アミド類としては、例えば、N,N-ジメチルホルムアミド、及びN,N-ジメチルアセトアミドが挙げられる。 Ketones include acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, and cyclohexanone. Examples of the cyclic ethers include tetrahydrofuran and dioxane. Examples of amides include N,N-dimethylformamide and N,N-dimethylacetamide.

芳香族炭化水素類としては、例えば、キシレン、トルエン、及びソルベントナフサが挙げられる。
グリコールエーテル類としては、例えば、プロピレングリコールメチルエーテル、及びエチルセロソルブが挙げられる。
Examples of aromatic hydrocarbons include xylene, toluene, and solvent naphtha.
Examples of glycol ethers include propylene glycol methyl ether and ethyl cellosolve.

ジエチレングリコールエステル類としては、例えば、カルビトールアセテートが挙げられる。
脂肪族炭化水素類としては、n-ペンタン、n-ヘキサン、n-ヘプタン、n-オクタン、n-ノナン、n-デカン、n-ウンデカン、n-ドデカン、及びミネラルスピリットが挙げられる。
Examples of diethylene glycol esters include carbitol acetate.
Aliphatic hydrocarbons include n-pentane, n-hexane, n-heptane, n-octane, n-nonane, n-decane, n-undecane, n-dodecane, and mineral spirits.

アルコール類としては、例えば、メチルアルコール、エチルアルコール、及びプロピルアルコールが挙げられる。
活性エネルギー線硬化型組成物中における表面張力調整剤の含有量は、0.001質量%以上であることが好ましく、より好ましくは0.01質量%以上である。活性エネルギー線硬化型組成物中における表面張力調整剤の含有量は、5質量%以下であることが好ましく、より好ましくは3質量%以下である。
Examples of alcohols include methyl alcohol, ethyl alcohol, and propyl alcohol.
The content of the surface tension modifier in the active energy ray-curable composition is preferably 0.001% by mass or more, more preferably 0.01% by mass or more. The content of the surface tension regulator in the active energy ray-curable composition is preferably 5% by mass or less, more preferably 3% by mass or less.

活性エネルギー線硬化型組成物には、重合禁止剤を含有させることもできる。重合禁止剤としては、例えば、ヒンダードフェノール系化合物、ヒンダードアミン系化合物、ニトロソアミン系化合物、ヒドロキノン系化合物、ベンゾキノン系化合物、リン系化合物、及び硫黄系化合物が挙げられる。 The active energy ray-curable composition can also contain a polymerization inhibitor. Examples of the polymerization inhibitor include hindered phenol compounds, hindered amine compounds, nitrosamine compounds, hydroquinone compounds, benzoquinone compounds, phosphorus compounds, and sulfur compounds.

活性エネルギー線硬化型組成物には、フィラーを含有させることもできる。フィラーを含有させることにより、硬化膜の表面の滑り性や耐擦過性を高めることができる。また、フィラーを含有させることにより、艶消しの硬化膜を得ることができる。フィラーとしては、例えば、体質顔料、及び樹脂ビーズが挙げられる。体質顔料としては、例えば、炭酸カルシウム、球状シリカ、及び中空シリカが挙げられる。 The active energy ray-curable composition can also contain a filler. By containing a filler, the surface slipperiness and abrasion resistance of the cured film can be improved. Moreover, by containing a filler, a matte cured film can be obtained. Examples of fillers include extender pigments and resin beads. Examples of extender pigments include calcium carbonate, spherical silica, and hollow silica.

活性エネルギー線硬化型組成物には、着色成分を含有させることもできる。着色成分としては、例えば、顔料及び染料が挙げられる。顔料は、有機顔料であってもよいし、無機顔料であってもよい。無機顔料としては、例えば、カーボンブラック、酸化鉄、酸化チタン、及び炭酸カルシウムが挙げられる。有機顔料としては、例えば、アゾ顔料、レーキ顔料、フタロシアニン顔料、キナクリドン顔料、ジオキサジン系顔料、ペリレン系赤色顔料、イソインドリノン系顔料、ピランスロン系顔料、チオインジゴ系顔料、ベンズイミダゾロン系顔料、キノフタロン系有機顔料、及びイソインドリン系顔料が挙げられる。染料としては、例えば、直接染料、反応染料、酸性染料、カチオン染料、ナフトール染料、及び分散染料が挙げられる。 The active energy ray-curable composition can also contain a coloring component. Examples of coloring components include pigments and dyes. The pigment may be an organic pigment or an inorganic pigment. Examples of inorganic pigments include carbon black, iron oxide, titanium oxide, and calcium carbonate. Examples of organic pigments include azo pigments, lake pigments, phthalocyanine pigments, quinacridone pigments, dioxazine pigments, perylene red pigments, isoindolinone pigments, pyranthrone pigments, thioindigo pigments, benzimidazolone pigments, and quinophthalone pigments. Examples include organic pigments and isoindoline pigments. Examples of dyes include direct dyes, reactive dyes, acid dyes, cationic dyes, naphthol dyes, and disperse dyes.

活性エネルギー線硬化型組成物にフィラーや着色成分を含有させる場合、必要に応じて分散剤を用いることができる。分散剤としては、例えば、高分子型分散剤、及び低分子型分散剤が挙げられる。 When the active energy ray-curable composition contains a filler or a coloring component, a dispersant can be used as necessary. Examples of the dispersant include a polymer type dispersant and a low molecular type dispersant.

活性エネルギー線硬化型組成物は、コールドスタンピング加工における転写精度をより高めるという観点から、顔料を含まないことが好ましい。
<活性エネルギー線硬化型組成物が適用される基材>
活性エネルギー線硬化型組成物が適用される基材は、特に限定されない。基材としては、例えば、紙基材、樹脂基材、金属基材、ガラス基材、ゴム基材、及びセラミックス基材が挙げられる。紙基材としては、例えば、コート紙、アート紙、微塗工紙、上質紙、及び合成紙が挙げられる。樹脂基材の樹脂としては、例えば、ポリエチレン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリプロピレン樹脂、アクリル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリスチレン樹脂、及び塩化ビニル樹脂が挙げられる。樹脂基材の形状としては、例えば、フィルム、シート、プレート、及びその他の成形物が挙げられる。金属基材の金属としては、例えば、ステンレス、アルミニウム、鉄、及び銅が挙げられる。金属基材の形状としては、例えば、プレート、及びその他の成形物が挙げられる。
It is preferable that the active energy ray-curable composition does not contain a pigment from the viewpoint of further improving transfer accuracy in cold stamping processing.
<Substrate to which active energy ray curable composition is applied>
The substrate to which the active energy ray-curable composition is applied is not particularly limited. Examples of the base material include a paper base material, a resin base material, a metal base material, a glass base material, a rubber base material, and a ceramic base material. Paper substrates include, for example, coated paper, art paper, lightly coated paper, high quality paper, and synthetic paper. Examples of the resin of the resin base material include polyethylene resin, polyester resin, polypropylene resin, acrylic resin, polyamide resin, polycarbonate resin, polystyrene resin, and vinyl chloride resin. Examples of the shape of the resin base material include films, sheets, plates, and other molded products. Examples of the metal of the metal base material include stainless steel, aluminum, iron, and copper. Examples of the shape of the metal base material include plates and other molded products.

活性エネルギー線硬化型組成物が適用される基材は、例えば文字、写真、イラスト、図、又は記号等の情報が記録された記録物であってもよい。情報の記録方法は、特に限定されない。情報の記録方法としては、例えば、インクジェット印刷、オフセット印刷、トナー印刷、フレキソ印刷、昇華印刷、グラビア印刷、シルクスクリーン印刷、パッド印刷、スプレー塗布、及び刷毛、筆塗布が挙げられる。 The substrate to which the active energy ray-curable composition is applied may be a recorded material on which information such as characters, photographs, illustrations, figures, or symbols is recorded. The method of recording information is not particularly limited. Examples of information recording methods include inkjet printing, offset printing, toner printing, flexographic printing, sublimation printing, gravure printing, silk screen printing, pad printing, spray coating, and brush and brush coating.

基材は、異種材料が複合された基材であってもよい。異種材料が複合された基材としては、例えば、金属やセラミックスを樹脂フィルムに蒸着した蒸着フィルムが挙げられる。
<コールドスタンピング加工品の製造方法>
次に、コールドスタンピング加工品の製造方法について説明する。コールドスタンピング加工品の製造方法では、上記活性エネルギー線硬化型組成物を用いる。コールドスタンピング加工品の製造方法は、塗布層形成工程と、第1照射工程と、積層体形成工程と、第2照射工程とを備えている。
The base material may be a base material made of a composite of different materials. An example of a base material made of a composite of different materials is a vapor-deposited film in which metals or ceramics are vapor-deposited on a resin film.
<Method for manufacturing cold stamped products>
Next, a method for manufacturing a cold stamped product will be explained. In the method for producing a cold stamped product, the active energy ray-curable composition described above is used. The method for manufacturing a cold stamped product includes a coating layer forming step, a first irradiation step, a laminate forming step, and a second irradiation step.

塗布層形成工程では、基材に活性エネルギー線硬化型組成物を塗布することで基材に塗布層を形成する。基材上に塗布層を形成する方法としては、例えば、インクジェット印刷、オフセット印刷、ロールコーター印刷、フレキソ印刷、グラビア印刷、シルクスクリーン印刷、パッド印刷、スプレー塗布、及び刷毛塗布が挙げられる。本実施形態の活性エネルギー線硬化型組成物は、インクジェット印刷用途に好適に用いることができる。 In the coating layer forming step, a coating layer is formed on the substrate by coating the active energy ray-curable composition on the substrate. Examples of methods for forming the coating layer on the substrate include inkjet printing, offset printing, roll coater printing, flexographic printing, gravure printing, silk screen printing, pad printing, spray coating, and brush coating. The active energy ray-curable composition of this embodiment can be suitably used for inkjet printing.

本実施形態の活性エネルギー線硬化型組成物を基材に塗布した塗布層は、描画する形状、用途等に応じて厚さを適宜選択でき、例えば、100μm以下であってもよく、85μm以下であってもよい。このような厚さの塗布層はインクジェット印刷によって基材に塗布することで容易に形成することができる。 The thickness of the coating layer obtained by applying the active energy ray-curable composition of the present embodiment to a base material can be appropriately selected depending on the shape to be drawn, the application, etc., and for example, the thickness may be 100 μm or less, or 85 μm or less. There may be. A coating layer having such a thickness can be easily formed by applying it to a base material by inkjet printing.

第1照射工程では、塗布層に活性エネルギー線を照射することで流動性を低下させた低流動性膜を得る。積層体形成工程では、転写用基材を低流動性膜に積層させることで、転写用基材の転写層と低流動性膜が接触した積層体を形成する。 In the first irradiation step, the coating layer is irradiated with active energy rays to obtain a low-fluidity film with reduced fluidity. In the laminate forming step, the transfer base material is laminated on the low fluidity film to form a laminate in which the transfer layer of the transfer base material and the low fluidity film are in contact with each other.

第2照射工程では、積層体の低流動性膜に活性エネルギー線を照射することで、低流動性膜を硬化させた硬化膜を形成する。活性エネルギー線は、転写用基材を透過させて低流動性膜に照射される。 In the second irradiation step, the low fluidity film of the laminate is irradiated with active energy rays to form a cured film in which the low fluidity film is cured. The active energy rays pass through the transfer base material and are irradiated onto the low fluidity membrane.

第1照射工程で用いる活性エネルギー線の波長と、第2照射工程で用いる活性エネルギー線の波長とは、互いに同じ波長であってもよいし、互いに異なる波長であってもよい。第1照射工程及び第2照射工程で用いる活性エネルギー線は、いずれも280nm以上、420nm以下の範囲内の波長を有することが好ましい。第1照射工程及び第2照射工程で用いる活性エネルギー線は、(B1)アシルホスフィンオキシド系化合物をより選択的に反応させることができるという観点から、350nm以上、420nm以下の範囲内であってもよい。 The wavelength of the active energy ray used in the first irradiation step and the wavelength of the active energy ray used in the second irradiation step may be the same wavelength or different wavelengths. It is preferable that the active energy rays used in the first irradiation step and the second irradiation step both have a wavelength within the range of 280 nm or more and 420 nm or less. The active energy ray used in the first irradiation step and the second irradiation step may be within the range of 350 nm or more and 420 nm or less, from the viewpoint of allowing the (B1) acylphosphine oxide compound to react more selectively. good.

コールドスタンピング加工品の製造方法では、転写用基材の転写層を積層体の硬化膜に接着してなるコールドステンピンク加工品を得ることができる。このコールドスタンピング加工品の製造方法では、基材シートと、基材シートから剥離可能な転写層とを有する転写用基材を用いる。転写用基材の転写層としては、例えば、金属蒸着層、及びホログラム層が挙げられる。転写用基材の材質及び形状は、特に限定されない。この転写用基材を用いるコールドスタンピング加工品の製造方法は、上記第2照射工程の後に、積層体から基材シートを剥離する工程を備える。これにより、基材と硬化膜と転写層とを有するコールドスタンピング加工品が得られる。また、コールドスタンピング加工品の製造方法では、転写用基材の転写層の表面形状を積層体の硬化膜に転写してなるコールドスタンピング加工品を得ることもできる。このコールドスタンピング加工品の製造方法では、基材シートと、硬化膜に凹凸形状を転写する鋳型となる転写層とを有する転写用基材を用いる。転写用基材の材質、全体形状、及び転写層の凹凸形状は、特に限定されない。この転写用基材を用いるコールドスタンピング加工品の製造方法は、上記第2照射工程の後に、積層体から転写用シートを剥離する工程を備える。これにより、基材と、表面に凹凸形状が転写された硬化膜とを有するコールドスタンピング加工品が得られる。 In the method for producing a cold stamped product, a cold stamped pink product can be obtained by adhering the transfer layer of the transfer base material to the cured film of the laminate. This method for producing a cold stamped product uses a transfer base material that includes a base sheet and a transfer layer that can be peeled off from the base sheet. Examples of the transfer layer of the transfer base material include a metal vapor deposition layer and a hologram layer. The material and shape of the transfer base material are not particularly limited. The method for producing a cold stamped product using this transfer base material includes a step of peeling the base sheet from the laminate after the second irradiation step. As a result, a cold stamped product having a base material, a cured film, and a transfer layer is obtained. Furthermore, in the method for producing a cold stamped product, a cold stamped product can also be obtained by transferring the surface shape of the transfer layer of the transfer base material to the cured film of the laminate. This method of manufacturing a cold stamped product uses a transfer base material that includes a base sheet and a transfer layer that serves as a mold for transferring the uneven shape to the cured film. The material of the transfer base material, the overall shape, and the uneven shape of the transfer layer are not particularly limited. The method for manufacturing a cold stamped product using this transfer base material includes a step of peeling the transfer sheet from the laminate after the second irradiation step. As a result, a cold stamped product having a base material and a cured film having an uneven shape transferred to its surface is obtained.

<本実施形態の作用及効果>
次に、本実施形態の作用及び効果について説明する。
(1)活性エネルギー線硬化型組成物は、コールドスタンピング加工の用途に用いられ、活性エネルギー線の照射により硬化する。活性エネルギー線硬化型組成物は、(A)ラジカル重合性化合物、及び(B)光重合開始剤を含有する。(B)光重合開始剤は、(B1)アシルホスフィンオキシド系化合物を含む。活性エネルギー線硬化型組成物中における(B1)アシルホスフィンオキシド系化合物の含有量は、2.0質量%以上、11.0質量%以下の範囲内である。
<Actions and effects of this embodiment>
Next, the functions and effects of this embodiment will be explained.
(1) The active energy ray curable composition is used for cold stamping processing, and is cured by irradiation with active energy rays. The active energy ray-curable composition contains (A) a radically polymerizable compound and (B) a photopolymerization initiator. (B) The photopolymerization initiator includes (B1) an acylphosphine oxide compound. The content of the acylphosphine oxide compound (B1) in the active energy ray-curable composition is within the range of 2.0% by mass or more and 11.0% by mass or less.

この構成によれば、コールドスタンピング加工における転写精度を高めることが可能となる。詳述すると、上記のように、(B1)アシルホスフィンオキシド系化合物の含有量が2.0質量%以上の場合、塗布層に活性エネルギー線を照射することにより塗布層の流動性を低下させ易くなる。このように塗布層の流動性を低下させることで得られる低流動性膜は、転写用基材を塗布層上に配置したとき、形状が保持され易い。一方、上記のように(B1)アシルホスフィンオキシド系化合物の含有量が11.0質量%以下の場合、塗布層に活性エネルギー線を照射したとき、塗布層の硬化が急激に進行することを抑えることができる。これにより、低流動性膜の柔軟性や粘着性が維持され易くなるため、転写性を向上させることができる。これにより、例えば、繊細な形状をコールドスタンピング加工する場合であっても、細部にわたって転写用基材と密着し、転写用基材の転写層の接着不良や転写層の凹凸形状の転写異常が発生し難くなる。すなわち、塗布層の外形に沿った高精度の転写を実現することが可能となる。 According to this configuration, it is possible to improve the transfer accuracy in cold stamping processing. Specifically, as described above, when the content of the acylphosphine oxide compound (B1) is 2.0% by mass or more, the fluidity of the coating layer is likely to be reduced by irradiating the coating layer with active energy rays. Become. A low-fluidity film obtained by reducing the fluidity of the coating layer in this manner tends to maintain its shape when a transfer base material is placed on the coating layer. On the other hand, as described above, when the content of the acylphosphine oxide compound (B1) is 11.0% by mass or less, when the coating layer is irradiated with active energy rays, the hardening of the coating layer is suppressed from progressing rapidly. be able to. This makes it easier to maintain the flexibility and adhesiveness of the low-fluidity film, thereby improving transferability. As a result, even when performing cold stamping on delicate shapes, even in the case of cold stamping, every detail will adhere to the transfer base material, resulting in poor adhesion of the transfer layer on the transfer base material and transfer abnormalities due to uneven shapes on the transfer layer. It becomes difficult to do. That is, it is possible to realize highly accurate transfer along the outer shape of the coating layer.

また、活性エネルギー線硬化型組成物に含有される(A)ラジカル重合性化合物は、カチオン重合性化合物よりも安価で汎用性が高い。このため、本実施形態の活性エネルギー線硬化型組成物では、比較的高価なカチオン重合性化合物やカチオン重合性化合物を重合させるための光酸発生剤の使用量を削減することが可能となる。これにより、コールドスタンピング加工品のコストを削減することが可能となる。 Moreover, the radically polymerizable compound (A) contained in the active energy ray-curable composition is cheaper and more versatile than the cationic polymerizable compound. Therefore, in the active energy ray-curable composition of the present embodiment, it is possible to reduce the amount of a relatively expensive cationically polymerizable compound or a photoacid generator used for polymerizing the cationically polymerizable compound. This makes it possible to reduce the cost of cold stamped products.

(2)(A)ラジカル重合性化合物は、上述した(A1)第1重合性化合物、(A2)第2重合性化合物、及び(A3)第3重合性化合物から選ばれる少なくとも一種の重合性化合物を含むことが好ましい。この場合、活性エネルギー線の照射による反応性に優れ、活性エネルギー線の照射により得られた低流動性膜の柔軟性を高めることが可能となる。従って、コールドスタンピング加工における転写精度をより高めることが可能となる。 (2) (A) The radical polymerizable compound is at least one polymerizable compound selected from the above-mentioned (A1) first polymerizable compound, (A2) second polymerizable compound, and (A3) third polymerizable compound. It is preferable to include. In this case, the reactivity upon irradiation with active energy rays is excellent, and the flexibility of the low-fluidity membrane obtained by irradiation with active energy rays can be increased. Therefore, it is possible to further improve the transfer accuracy in cold stamping processing.

(3)(B)光重合開始剤は、上述した(B2)硫黄系化合物をさらに含むことが好ましい。この場合、活性エネルギー線硬化型組成物の塗布層の厚さが比較的薄い場合であっても、良好な硬化性を得ることが可能となる。このため、例えば、インクジェット印刷により塗布層を形成するインクジェット印刷用途に好適に用いることができる。 (3) It is preferable that the photopolymerization initiator (B) further contains the above-mentioned (B2) sulfur-based compound. In this case, even if the thickness of the coating layer of the active energy ray-curable composition is relatively thin, it is possible to obtain good curability. Therefore, it can be suitably used, for example, in inkjet printing applications in which a coating layer is formed by inkjet printing.

(4)(B)光重合開始剤は、(B3)チオキサントン系化合物をさらに含むことが好ましい。この場合、例えば、塗布層に活性エネルギー線を照射して得られる低流動性膜と、転写用基材との密着性を高めることが可能となる。従って、コールドスタンピング加工における転写精度をより高めることが可能となる。ここで、活性エネルギー線硬化型組成物中における(B3)チオキサントン系化合物の含有量は、0.8質量%以下の場合、例えば、塗布層に活性エネルギー線を照射して得られる低流動性膜の柔軟性又は粘着性が低下することを抑えることができる。これにより、コールドスタンピング加工における転写精度をより高めることが可能となる。 (4) It is preferable that the photopolymerization initiator (B) further contains (B3) a thioxanthone compound. In this case, for example, it becomes possible to improve the adhesion between the low-fluidity film obtained by irradiating the coating layer with active energy rays and the transfer base material. Therefore, it is possible to further improve the transfer accuracy in cold stamping processing. Here, when the content of the (B3) thioxanthone compound in the active energy ray-curable composition is 0.8% by mass or less, for example, a low fluidity film obtained by irradiating the coating layer with active energy rays is used. It is possible to suppress a decrease in flexibility or adhesiveness of the material. This makes it possible to further improve the transfer accuracy in cold stamping.

(5)活性エネルギー線硬化型組成物は、(C)アミン系化合物をさらに含有することが好ましい。この場合、活性エネルギー線硬化型組成物の硬化性を向上させることが可能となる。詳述すると、(A)ラジカル重合性化合物のラジカル重合は、活性エネルギー線硬化型組成物中に溶存する酸素や雰囲気中の酸素を要因として阻害され易い。この点、(C)アミン系化合物は、ラジカル重合が酸素を要因として阻害されることを低減すると推測される。すなわち、(C)アミン系化合物は、(B)光重合開始剤による反応を促進することで、活性エネルギー線硬化型組成物の硬化性を向上させると推測される。 (5) The active energy ray-curable composition preferably further contains (C) an amine compound. In this case, it becomes possible to improve the curability of the active energy ray-curable composition. To explain in detail, the radical polymerization of the radically polymerizable compound (A) is likely to be inhibited by oxygen dissolved in the active energy ray-curable composition or oxygen in the atmosphere. In this respect, the amine compound (C) is presumed to reduce inhibition of radical polymerization due to oxygen. That is, the amine compound (C) is presumed to improve the curability of the active energy ray-curable composition by promoting the reaction by the photopolymerization initiator (B).

例えば、活性エネルギー線硬化型組成物が上述した(B2)硫黄系化合物を含有する場合、(B2)硫黄系化合物のスルホン系化合物は、ラジカル発生点となる硫黄原子を有することにより、反応性の高いスルホン酸ラジカルを生成すると推測される。(B2)硫黄系化合物のチオベンゾイル系化合物は、ラジカル発生点となるチオベンゾイル基のケトン基に連なる共役系に硫黄原子を有することにより、反応性の高いチオラジカルを生成すると推測される。また、例えば、活性エネルギー線硬化型組成物が(B3)チオキサントン系化合物を含有する場合、(B3)チオキサントン系化合物は、ラジカル発生点となるケトン基に連なる共役系に硫黄原子を有することにより、反応性の高いチオラジカルを生成すると推測される。 For example, when the active energy ray-curable composition contains the above-mentioned (B2) sulfur-based compound, the sulfone-based compound of the sulfur-based compound (B2) has a sulfur atom that serves as a radical generation point, and thus has a reactive property. It is assumed that a high amount of sulfonic acid radicals are generated. (B2) It is presumed that the sulfur-based compound thiobenzoyl-based compound generates highly reactive thio radicals by having a sulfur atom in the conjugated system connected to the ketone group of the thiobenzoyl group, which serves as a radical generation point. For example, when the active energy ray-curable composition contains (B3) a thioxanthone-based compound, the thioxanthone-based compound (B3) has a sulfur atom in a conjugated system connected to a ketone group that serves as a radical generation point. It is assumed that highly reactive thio radicals are generated.

(B2)硫黄系化合物及び(B3)チオキサントン系化合物の作用は、(C)アミン系化合物によって促進される。詳述すると、(C)アミン系化合物は、水素引き抜き型のラジカル生成反応を促進する。さらに、(C)アミン化合物の水素によってチオールやスルホン化物が生成され、これらチオールやスルホン化物が連鎖移動剤としてラジカル反応をさらに促進すると推定される。 The actions of (B2) the sulfur-based compound and (B3) the thioxanthone-based compound are promoted by the (C) amine-based compound. Specifically, the amine compound (C) promotes a hydrogen abstraction type radical generation reaction. Furthermore, it is presumed that thiols and sulfonated products are generated by the hydrogen of the amine compound (C), and these thiols and sulfonated products further promote radical reactions as chain transfer agents.

(6)(C)アミン系化合物は、上述した(C1)アミノ変性化合物及び(C2)芳香族アミン系化合物の少なくとも一方を含むことが好ましい。この場合、活性エネルギー線硬化型組成物の硬化性をより向上させることが可能となる。 (6) The amine compound (C) preferably contains at least one of the above-mentioned (C1) amino-modified compound and (C2) aromatic amine compound. In this case, it becomes possible to further improve the curability of the active energy ray-curable composition.

(7)(A)ラジカル重合性化合物の官能基数は、1~3であることが好ましい。この場合、活性エネルギー線硬化型組成物を低粘度化することが可能となる。従って、例えば、活性エネルギー線硬化型組成物をインクジェット印刷によって基材に適用する用途に用いた場合、インクジェットヘッドからの吐出性を向上させることができる。 (7) The number of functional groups in the radically polymerizable compound (A) is preferably 1 to 3. In this case, it becomes possible to reduce the viscosity of the active energy ray-curable composition. Therefore, for example, when the active energy ray-curable composition is used for application to a substrate by inkjet printing, the ejection properties from the inkjet head can be improved.

(8)活性エネルギー線硬化型組成物は、顔料を含まないことが好ましい。この場合、コールドスタンピング加工における転写精度をより高めることが可能となる。また、活性エネルギー線の照射による反応性を高めることができるため、エネルギー消費量を抑えることができる。 (8) The active energy ray-curable composition preferably does not contain a pigment. In this case, it becomes possible to further improve the transfer accuracy in the cold stamping process. Furthermore, since the reactivity due to irradiation with active energy rays can be increased, energy consumption can be suppressed.

(9)活性エネルギー線硬化型組成物は、インクジェット印刷用途に用いられることが好ましい。この場合、より薄膜化された硬化膜を効率的に得ることにより、コールドスタンピング加工を効率的に行うことができる。 (9) The active energy ray-curable composition is preferably used for inkjet printing. In this case, cold stamping can be efficiently performed by efficiently obtaining a thinner cured film.

(10)活性エネルギー線硬化型組成物にポリマーを含有させることにより、例えば、活性エネルギー線硬化型組成物の硬化性、硬化膜の光沢性、硬化膜の柔軟性、基材と硬化膜との密着性等の性能を高めることが可能となる。 (10) By incorporating a polymer into the active energy ray curable composition, for example, the curability of the active energy ray curable composition, the glossiness of the cured film, the flexibility of the cured film, and the relationship between the base material and the cured film can be improved. It becomes possible to improve performance such as adhesion.

(11)コールドスタンピング加工品の製造方法は、上記活性エネルギー線硬化型組成物を用いる。コールドスタンピング加工品の製造方法は、上述したように塗布層形成工程と、第1照射工程と、積層体形成工程と、第2照射工程とを備えている。この方法によれば、転写精度をより高めたコールドスタンピング加工品を得ることが可能となる。 (11) A method for producing a cold stamped product uses the active energy ray-curable composition described above. As described above, the method for manufacturing a cold stamped product includes a coating layer forming step, a first irradiation step, a laminate forming step, and a second irradiation step. According to this method, it is possible to obtain a cold stamped product with higher transfer accuracy.

(12)コールドスタンピング加工品の製造方法において、第1照射工程及び前記第2照射工程で用いる活性エネルギー線は、いずれも280nm以上、420nm以下の範囲内の波長を有することが好ましい。この場合、第1照射工程及び前記第2照射工程において、例えば、同一の光源を用いて活性エネルギー線の照射を行うことができる。このため、コールドスタンピング加工品の製造設備のコストを削減することが可能となる。 (12) In the method for manufacturing a cold stamped product, it is preferable that the active energy rays used in the first irradiation step and the second irradiation step both have a wavelength within a range of 280 nm or more and 420 nm or less. In this case, in the first irradiation step and the second irradiation step, the active energy rays can be irradiated using, for example, the same light source. Therefore, it is possible to reduce the cost of manufacturing equipment for cold stamped products.

次に、実施例及び比較例を説明する。
(実施例1~23)
実施例1~23では、表1~3に示す組成となるように各原料を容器に入れ、40~50℃の湯浴中で固形物がなくなるまで撹拌した後、ガラス繊維ろ紙(アドバンテック東洋社製、商品名:GS-25)を用いてろ過することにより活性エネルギー線硬化型組成物を調製した。
Next, examples and comparative examples will be described.
(Examples 1 to 23)
In Examples 1 to 23, each raw material was placed in a container so as to have the composition shown in Tables 1 to 3, and stirred in a water bath at 40 to 50°C until no solid matter was left. An active energy ray-curable composition was prepared by filtration using GS-25 (trade name: GS-25, manufactured by Co., Ltd.).

表1~3中、組成を示す数値の単位は、質量%である。また、表1~3中の略号は以下のとおりである。
“重合性化合物A1”は、(A1)第1重合性化合物であり、アクリル酸2-(2-ビニロキシエトキシ)エチル(日本触媒社製、商品名:VEEA)である。
In Tables 1 to 3, the unit of numerical values indicating the composition is mass %. Furthermore, the abbreviations in Tables 1 to 3 are as follows.
“Polymerizable compound A1” is the first polymerizable compound (A1), and is 2-(2-vinyloxyethoxy)ethyl acrylate (manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd., trade name: VEEA).

“重合性化合物A2”は、(A2)第2重合性化合物であり、フェノキシポリエチレングリコールアクリレート(サートマー社製、商品名:SR9087)である。
“重合性化合物A3”は、1,6-ヘキサンジオールジアクリレート(新中村化学工業社製、商品名:NKエステルA-HD-N)である。
"Polymerizable compound A2" is the second polymerizable compound (A2), and is phenoxypolyethylene glycol acrylate (manufactured by Sartomer, trade name: SR9087).
“Polymerizable compound A3” is 1,6-hexanediol diacrylate (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., trade name: NK Ester A-HD-N).

“重合性化合物A4”は、イソオクチルアクリレート(サートマー社製、商品名:SR440)である。
“光重合開始剤B11”は、(B1)アシルホスフィンオキシド系化合物であり、ビス(2,4,6-トリメチルベンゾイル)-フェニルフォスフィンオキサイド(IGM Resins社製、商品名:OMNIRAD 819)である。
"Polymerizable compound A4" is isooctyl acrylate (manufactured by Sartomer, trade name: SR440).
“Photopolymerization initiator B11” is (B1) an acylphosphine oxide compound, which is bis(2,4,6-trimethylbenzoyl)-phenylphosphine oxide (manufactured by IGM Resins, trade name: OMNIRAD 819). .

“光重合開始剤B12”は、(B1)アシルホスフィンオキシド系化合物であり、2,4,6-トリメチルベンゾイル-ジフェニル-フォスフィンオキサイド(IGM Resins社製、商品名:OMNIRAD TPO)である。 “Photopolymerization initiator B12” is (B1) an acylphosphine oxide compound, and is 2,4,6-trimethylbenzoyl-diphenyl-phosphine oxide (manufactured by IGM Resins, trade name: OMNIRAD TPO).

“光重合開始剤B13”は、(B1)アシルホスフィンオキシド系化合物であり、エチル(3-ベンゾイル-2,4,6-トリメチルベンゾイル)(フェニル)ホスフィンオキシド(ランブソン社製、商品名:Speedcure TPO-L)である。 “Photopolymerization initiator B13” is (B1) an acylphosphine oxide compound, and is ethyl (3-benzoyl-2,4,6-trimethylbenzoyl)(phenyl)phosphine oxide (manufactured by Lambson, trade name: Speedcure TPO) -L).

“光重合開始剤B21”は、(B2)硫黄系化合物のスルホン系化合物であり、1-[4-(4-ベンゾイルフェニルスルファニル)フェニル]-2-メチル-2-(4-メチルフェニルスルホニル)プロパン-1-オン(IGM Resins社製、商品名:ESACURE1001M)である。 “Photopolymerization initiator B21” is a sulfone-based compound of (B2) a sulfur-based compound, and is 1-[4-(4-benzoylphenylsulfanyl)phenyl]-2-methyl-2-(4-methylphenylsulfonyl). Propan-1-one (manufactured by IGM Resins, trade name: ESACURE1001M).

“光重合開始剤B22”は、(B2)硫黄系化合物のチオベンゾイル系化合物であり、4-ベンゾイル4´-メチルジフェニルスルフィド(IGM Resins社製、商品名:OMNIRAD BMS)である。 “Photopolymerization initiator B22” is (B2) a thiobenzoyl-based sulfur-based compound, and is 4-benzoyl 4′-methyldiphenyl sulfide (manufactured by IGM Resins, trade name: OMNIRAD BMS).

“光重合開始剤B23”は、(B2)硫黄系化合物のチオベンゾイル系化合物であり、2-メチル-1-[4-(メチルチオ)フェニル]-2-モルフォリノプロパン-1-オン(RAHN社製、商品名:GENOCURE PMP)である。 “Photopolymerization initiator B23” is (B2) a thiobenzoyl-based sulfur-based compound, and is 2-methyl-1-[4-(methylthio)phenyl]-2-morpholinopropan-1-one (RAHN Co., Ltd. (product name: GENOCURE PMP).

“光重合開始剤B3”は、(B3)チオキサントン系化合物であり、2-イソプロピルチオキサントン(DKSHジャパン社製、商品名:Lunacure 2-ITX)である。 “Photopolymerization initiator B3” is (B3) a thioxanthone-based compound, and is 2-isopropylthioxanthone (manufactured by DKSH Japan, trade name: Lunacure 2-ITX).

“光重合開始剤B4”は、1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(DKSHジャパン社製、商品名:Lunacure200)である。
“アミン系化合物C1”は、(C)アミン系化合物であり、アミノアクリレートオリゴマー(ダイセル・オルネクス社製、商品名:EBECRYL80)である。
“Photopolymerization initiator B4” is 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone (manufactured by DKSH Japan, trade name: Lunacure 200).
"Amine-based compound C1" is an amine-based compound (C), and is an aminoacrylate oligomer (manufactured by Daicel Allnex, trade name: EBECRYL80).

“アミン系化合物C2”は、(C)アミン系化合物であり、芳香族アミン系化合物(RAHN社製、商品名:GENOPOL AB-2)である。
“ポリマー”は、ケトン樹脂(EVONIK Industries AG社製、商品名:TEGO VARIPLUS SK)である。
“Amine compound C2” is an amine compound (C), and is an aromatic amine compound (manufactured by RAHN, trade name: GENOPOL AB-2).
The "polymer" is a ketone resin (manufactured by EVONIK Industries AG, trade name: TEGO VARIPLUS SK).

“表面張力調整剤”は、ポリエーテル変性シロキサンコポリマー(EVONIK Industries AG社製、商品名:TEGO GLIDE 440)である。
“重合禁止剤”は、ペンタエリスリトールテトラキス(3-(3,5-ジ-tert-ブチル-4-ヒドロキシフェニル)プロピオネート)(BASF社製、商品名:Irganox 1010)である。
The "surface tension modifier" is a polyether-modified siloxane copolymer (manufactured by EVONIK Industries AG, trade name: TEGO GLIDE 440).
The “polymerization inhibitor” is pentaerythritol tetrakis (3-(3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl)propionate) (manufactured by BASF, trade name: Irganox 1010).

(比較例1,2)
比較例1,2では、表3に示すように組成を変更した以外は、実施例1~23と同様にして活性エネルギー線硬化型組成物を調製した。表3中、組成を示す数値の単位は、質量%である。
(Comparative Examples 1 and 2)
In Comparative Examples 1 and 2, active energy ray-curable compositions were prepared in the same manner as in Examples 1 to 23, except that the composition was changed as shown in Table 3. In Table 3, the unit of numerical values indicating the composition is mass %.

(転写性の評価)
バーコーターを用いて、実施例1の活性エネルギー線硬化型組成物を基材上の一部に塗布した。これにより、図1(a)に示すように、基材11の一部に塗布層21が積層されてなる塗布層付き基材31を得た。塗布層21と、基材11が露出した露出部11aとの境界は直線状である。基材11としては、コート紙(王子マテリア社製、商品名:OKスーパーポスト)を用いた。
(Evaluation of transferability)
Using a bar coater, the active energy ray-curable composition of Example 1 was applied to a portion of the substrate. Thereby, as shown in FIG. 1(a), a base material 31 with a coating layer formed by laminating the coating layer 21 on a part of the base material 11 was obtained. The boundary between the coating layer 21 and the exposed portion 11a where the base material 11 is exposed is linear. As the base material 11, coated paper (manufactured by Oji Materia Co., Ltd., trade name: OK Super Post) was used.

次に、塗布層付き基材31の塗布層21に385nmの波長のLEDランプを用いての紫外線を照射した。これにより、図1(b)に示すように、基材11に低流動性膜22が積層されてなる低流動性膜付き基材32を得た。低流動性膜22の平均厚さは、15μmであった。 Next, the coating layer 21 of the coating layer-coated base material 31 was irradiated with ultraviolet rays using an LED lamp having a wavelength of 385 nm. As a result, as shown in FIG. 1(b), a base material 32 with a low-fluidity membrane, in which the low-fluidity membrane 22 was laminated on the base material 11, was obtained. The average thickness of the low fluidity membrane 22 was 15 μm.

続いて、図2(a)に示すように、コールドスタンピング加工用の転写用基材41を低流動性膜付き基材32上に配置することにより、第1積層体33を得た。転写用基材41は、基材シート41aと、基材シート41aに積層された転写層41bを有している。転写用基材41としては、転写層41bとして金属蒸着層を有する金属蒸着フィルム(村田金箔社製、商品名:GNC-F、3号金)を用いた。転写用基材41は、低流動性膜22と露出部11aとの境界を跨ぐように配置される。 Subsequently, as shown in FIG. 2(a), a transfer base material 41 for cold stamping was placed on the low-fluidity film-attached base material 32 to obtain a first laminate 33. The transfer base material 41 has a base sheet 41a and a transfer layer 41b laminated on the base sheet 41a. As the transfer base material 41, a metal vapor deposited film (manufactured by Murata Kinpaku Co., Ltd., trade name: GNC-F, No. 3 gold) having a metal vapor deposited layer as the transfer layer 41b was used. The transfer base material 41 is arranged so as to straddle the boundary between the low-fluidity film 22 and the exposed portion 11a.

次に、385nmの波長のLEDランプを用いて紫外線を第1積層体33の転写用基材41に向けて照射した。これにより、低流動性膜22には、転写用基材41を透過した紫外線が照射される。低流動性膜22が紫外線の照射により硬化されることにより、図2(b)に示すように、硬化膜23を有する第2積層体34を得た。 Next, the transfer base material 41 of the first laminate 33 was irradiated with ultraviolet light using an LED lamp with a wavelength of 385 nm. As a result, the low-fluidity film 22 is irradiated with ultraviolet light that has passed through the transfer base material 41 . The low fluidity film 22 was cured by irradiation with ultraviolet rays, thereby obtaining a second laminate 34 having a cured film 23, as shown in FIG. 2(b).

続いて、第2積層体34から基材シート41aを剥がすことにより、図3(a)に示すように、転写層41bが硬化膜23上に転写された評価用試料35を得た。
上記の評価用試料35において、転写層41bと露出部11aとの境界部分をマイクロスコープ(佐藤商事社製、商品名:Dino-Lite Pro)を用いて60倍の拡大倍率で撮像することで、図3(b)に示すように評価用の画像36を得た。この画像について、画像解析ソフトで解析し、硬化膜23と基材11の露出部11aとの境界となる基準線BLを決定した。
Subsequently, the base sheet 41a was peeled off from the second laminate 34 to obtain an evaluation sample 35 in which the transfer layer 41b was transferred onto the cured film 23, as shown in FIG. 3(a).
In the evaluation sample 35, the boundary between the transfer layer 41b and the exposed portion 11a was imaged using a microscope (manufactured by Sato Shoji Co., Ltd., trade name: Dino-Lite Pro) at a magnification of 60 times. An image 36 for evaluation was obtained as shown in FIG. 3(b). This image was analyzed using image analysis software, and a reference line BL serving as a boundary between the cured film 23 and the exposed portion 11a of the base material 11 was determined.

次に、画像解析ソフトを用いて、基準線の長さL1[mm]と、基準線よりも露出部側において金属蒸着層がはみ出して転写された過剰転写部36aの面積A1[mm]とを算出した。また、画像解析ソフトを用いて、基準線よりも第2硬化膜側において金属蒸着層が転写されていない欠損部36bの面積A2[mm]を算出した。続いて、下記式に従って転写精度[mm]を算出した。 Next, using image analysis software, calculate the length L1 [mm] of the reference line and the area A1 [mm 2 ] of the excessively transferred portion 36a where the metal vapor deposition layer protrudes and is transferred on the exposed portion side of the reference line. was calculated. Furthermore, using image analysis software, the area A2 [mm 2 ] of the defective portion 36b to which the metal vapor deposition layer was not transferred was calculated on the second cured film side with respect to the reference line. Subsequently, the transfer accuracy [mm] was calculated according to the following formula.

転写精度[mm]=(A1-A2)/L1
上記転写精度に基づいて、以下の評価基準で転写性を評価した。
転写精度が±0.050mmの範囲内の場合:転写性が非常に優れる(◎)。
Transfer accuracy [mm] = (A1-A2)/L1
Based on the above transfer accuracy, transferability was evaluated using the following evaluation criteria.
When the transfer accuracy is within the range of ±0.050 mm: Very good transferability (◎).

転写精度が+0.051mm以上、+0.100mm以下の範囲内、又は-0.100mm以上、-0.051mm以下の範囲内の場合:転写性が優れる(〇)。
転写精度が+0.101mm以上、又は-0.101mm以下の範囲内の場合:転写性に劣る(×)。
When the transfer accuracy is within the range of +0.051 mm or more and +0.100 mm or less, or within the range of -0.100 mm or more and -0.051 mm or less: Excellent transferability (○).
When the transfer accuracy is within the range of +0.101 mm or more or -0.101 mm or less: poor transferability (×).

実施例2~23及び比較例1,2の活性エネルギー線硬化型組成物についても、実施例1の活性エネルギー線硬化型組成物と同様に、転写性の評価を行った。転写性の評価結果を表1~表3に示す。 The active energy ray curable compositions of Examples 2 to 23 and Comparative Examples 1 and 2 were also evaluated for transferability in the same manner as the active energy ray curable composition of Example 1. The evaluation results of transferability are shown in Tables 1 to 3.

実施例1~23の活性エネルギー線硬化型組成物は、比較例1,2の活性エネルギー線硬化型組成物よりも、転写性に優れることが分かる。 It can be seen that the active energy ray curable compositions of Examples 1 to 23 have better transferability than the active energy ray curable compositions of Comparative Examples 1 and 2.

11…基材
21…塗布層
22…低流動性膜
23…硬化膜
41…転写用基材
41b…転写層
11... Base material 21... Coating layer 22... Low fluidity film 23... Cured film 41... Transfer base material 41b... Transfer layer

Claims (11)

コールドスタンピング加工の用途に用いられ、活性エネルギー線の照射により硬化する活性エネルギー線硬化型組成物であって、
前記コールドスタンピング加工は、基材に前記活性エネルギー線硬化型組成物を塗布することで前記基材に塗布層を形成する塗布層形成工程と、
前記塗布層に活性エネルギー線を照射することで流動性を低下させた低流動性膜を得る第1照射工程と、
転写用基材を前記低流動性膜に積層させることで、前記転写用基材の転写層と前記低流動性膜が接触した積層体を形成する積層体形成工程と、
前記積層体の前記低流動性膜に活性エネルギー線を照射することで、前記低流動性膜を硬化させた硬化膜を形成する第2照射工程と、を備え、
前記活性エネルギー線硬化型組成物は、
(A)ラジカル重合性化合物、及び(B)光重合開始剤を含有し、
前記(A)ラジカル重合性化合物は、(A1)第1重合性化合物、及び(A2)第2重合性化合物の少なくとも一方の重合性化合物を含み、
前記(A1)第1重合性化合物は、ビニルエーテル基及びアリルエーテル基の少なくとも一方のエーテル基と、(メタ)アクリロイル基とを有する化合物であり、
前記(A2)第2重合性化合物は、芳香族骨格を有する(メタ)アクリレート化合物であり、
前記(B)光重合開始剤は、(B1)アシルホスフィンオキシド系化合物を含み、
前記活性エネルギー線硬化型組成物中における(B1)アシルホスフィンオキシド系化合物の含有量は、2.0質量%以上、11.0質量%以下の範囲内である、活性エネルギー線硬化型組成物。
An active energy ray-curable composition that is used for cold stamping processing and is cured by irradiation with active energy rays,
The cold stamping process includes a coating layer forming step of forming a coating layer on the substrate by coating the active energy ray-curable composition on the substrate;
A first irradiation step of obtaining a low fluidity film with reduced fluidity by irradiating the coating layer with active energy rays;
a laminate forming step of laminating a transfer base material on the low fluidity film to form a laminate in which the transfer layer of the transfer base material and the low fluidity film are in contact;
a second irradiation step of forming a cured film in which the low fluidity film is cured by irradiating the low fluidity film of the laminate with active energy rays;
The active energy ray-curable composition includes:
(A) a radically polymerizable compound, and (B) a photopolymerization initiator;
The radically polymerizable compound (A) includes at least one of (A1) a first polymerizable compound and (A2) a second polymerizable compound,
The first polymerizable compound (A1) is a compound having at least one ether group of a vinyl ether group and an allyl ether group and a (meth)acryloyl group,
The second polymerizable compound (A2) is a (meth)acrylate compound having an aromatic skeleton,
The photopolymerization initiator (B) includes (B1) an acylphosphine oxide compound,
The active energy ray curable composition wherein the content of the acylphosphine oxide compound (B1) in the active energy ray curable composition is in the range of 2.0% by mass or more and 11.0% by mass or less.
前記(A)ラジカル重合性化合物は、(A3)第3重合性化合物を含み
記(A3)第3重合性化合物は、アルカンジオール(メタ)アクリレート化合物、アルキレングリコールジ(メタ)アクリレート化合物、及びアルコキシ化アルカンジオール(メタ)アクリレート化合物から選ばれる少なくとも一種の化合物である、請求項1に記載の活性エネルギー線硬化型組成物。
The radically polymerizable compound (A) includes ( A3) a third polymerizable compound ,
The third polymerizable compound (A3) is at least one compound selected from an alkanediol (meth)acrylate compound, an alkylene glycol di(meth)acrylate compound, and an alkoxylated alkanediol (meth)acrylate compound. Item 1. The active energy ray-curable composition according to item 1.
前記(B)光重合開始剤は、(B2)硫黄系化合物をさらに含み、
前記(B2)硫黄系化合物は、スルホン系化合物及びチオベンゾイル系化合物の少なくとも一方である、請求項1又は請求項2に記載の活性エネルギー線硬化型組成物。
The photopolymerization initiator (B) further includes (B2) a sulfur-based compound,
The active energy ray-curable composition according to claim 1 or 2, wherein the sulfur-based compound (B2) is at least one of a sulfone-based compound and a thiobenzoyl-based compound.
前記(B)光重合開始剤は、(B3)チオキサントン系化合物をさらに含み、
前記活性エネルギー線硬化型組成物中における(B3)チオキサントン系化合物の含有量は、0.8質量%以下である、請求項1から請求項3のいずれか一項に記載の活性エネルギー線硬化型組成物。
The photopolymerization initiator (B) further includes (B3) a thioxanthone compound,
The active energy ray curable composition according to any one of claims 1 to 3, wherein the content of the thioxanthone compound (B3) in the active energy ray curable composition is 0.8% by mass or less. Composition.
(C)アミン系化合物をさらに含有する、請求項1から請求項4のいずれか一項に記載の活性エネルギー線硬化型組成物。 (C) The active energy ray-curable composition according to any one of claims 1 to 4, further comprising an amine compound. 前記(C)アミン系化合物は、(C1)アミノ変性化合物及び(C2)芳香族アミン系化合物の少なくとも一方を含み、前記(C1)アミノ変性化合物は、アミノ変性アクリレートオリゴマー及びアミノ変性アクリレートポリマーの少なくとも一方である、請求項5に記載の活性エネルギー線硬化型組成物。 The (C) amine compound includes at least one of (C1) an amino-modified compound and (C2) an aromatic amine compound, and the (C1) amino-modified compound includes at least one of an amino-modified acrylate oligomer and an amino-modified acrylate polymer. The active energy ray-curable composition according to claim 5, which is one of the above. 前記(A)ラジカル重合性化合物の官能基数は、1~3である、請求項1から請求項6のいずれか一項に記載の活性エネルギー線硬化型組成物。 The active energy ray-curable composition according to any one of claims 1 to 6, wherein the radically polymerizable compound (A) has 1 to 3 functional groups. 前記活性エネルギー線硬化型組成物は、顔料を含まない、請求項1から請求項7のいずれか一項に記載の活性エネルギー線硬化型組成物。 The active energy ray curable composition according to any one of claims 1 to 7, wherein the active energy ray curable composition does not contain a pigment. 前記活性エネルギー線硬化型組成物は、インクジェット印刷用途に用いられる、請求項1から請求項8のいずれか一項に記載の活性エネルギー線硬化型組成物。 The active energy ray curable composition according to any one of claims 1 to 8, wherein the active energy ray curable composition is used for inkjet printing. 性エネルギー線硬化型組成物を用いてコールドスタンピング加工品を製造するコールドスタンピング加工品の製造方法であって、
基材に前記活性エネルギー線硬化型組成物を塗布することで前記基材に塗布層を形成する塗布層形成工程と、
前記塗布層に活性エネルギー線を照射することで流動性を低下させた低流動性膜を得る第1照射工程と、
転写用基材を前記低流動性膜に積層させることで、前記転写用基材の転写層と前記低流動性膜が接触した積層体を形成する積層体形成工程と、
前記積層体の前記低流動性膜に活性エネルギー線を照射することで、前記低流動性膜を硬化させた硬化膜を形成する第2照射工程と、を備え
前記活性エネルギー線硬化型組成物は、
(A)ラジカル重合性化合物、及び(B)光重合開始剤を含有し、
前記(A)ラジカル重合性化合物は、(A1)第1重合性化合物、及び(A2)第2重合性化合物の少なくとも一方の重合性化合物を含み、
前記(A1)第1重合性化合物は、ビニルエーテル基及びアリルエーテル基の少なくとも一方のエーテル基と、(メタ)アクリロイル基とを有する化合物であり、
前記(A2)第2重合性化合物は、芳香族骨格を有する(メタ)アクリレート化合物であり、
前記(B)光重合開始剤は、(B1)アシルホスフィンオキシド系化合物を含み、
前記活性エネルギー線硬化型組成物中における(B1)アシルホスフィンオキシド系化合物の含有量は、2.0質量%以上、11.0質量%以下の範囲内である、コールドスタンピング加工品の製造方法。
A method for producing a cold stamped product using an active energy ray-curable composition, the method comprising:
a coating layer forming step of forming a coating layer on the substrate by applying the active energy ray-curable composition to the substrate;
A first irradiation step of obtaining a low fluidity film with reduced fluidity by irradiating the coating layer with active energy rays;
a laminate forming step of laminating a transfer base material on the low fluidity film to form a laminate in which the transfer layer of the transfer base material and the low fluidity film are in contact;
a second irradiation step of forming a cured film in which the low fluidity film is cured by irradiating the low fluidity film of the laminate with active energy rays ;
The active energy ray-curable composition includes:
(A) a radically polymerizable compound, and (B) a photopolymerization initiator;
The radically polymerizable compound (A) includes at least one of (A1) a first polymerizable compound and (A2) a second polymerizable compound,
The first polymerizable compound (A1) is a compound having at least one ether group of a vinyl ether group and an allyl ether group and a (meth)acryloyl group,
The second polymerizable compound (A2) is a (meth)acrylate compound having an aromatic skeleton,
The photopolymerization initiator (B) includes (B1) an acylphosphine oxide compound,
A method for producing a cold stamped product, wherein the content of the acylphosphine oxide compound (B1) in the active energy ray-curable composition is within a range of 2.0% by mass or more and 11.0% by mass or less.
前記第1照射工程及び前記第2照射工程で用いる活性エネルギー線は、いずれも280nm以上、420nm以下の範囲内の波長を有する、請求項10に記載のコールドスタンピング加工品の製造方法。 The method for manufacturing a cold stamped product according to claim 10, wherein the active energy rays used in the first irradiation step and the second irradiation step each have a wavelength within a range of 280 nm or more and 420 nm or less.
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Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008201917A (en) 2007-02-21 2008-09-04 Fujifilm Corp Hydraulic pressure transfer film, method for producing hydraulic pressure transfer film, hydraulic pressure transfer member and method for producing hydraulic pressure transfer member
JP2014177023A (en) 2013-03-14 2014-09-25 Hitachi Maxell Ltd Method for manufacturing metal foil-transferred object
JP2017177353A (en) 2016-03-28 2017-10-05 東洋インキScホールディングス株式会社 Method for manufacturing printed matter
JP2018044163A (en) 2010-11-24 2018-03-22 セイコーエプソン株式会社 Recording method and recording device
JP2020055987A (en) 2018-09-26 2020-04-09 シーレックス株式会社 Photocurable adhesive for cold foil transfer
JP2020525620A (en) 2017-06-27 2020-08-27 アイエヌエックス インターナショナル インク カンパニーInx International Ink Co. Energy-curing heat-activated inkjet adhesive for foil stamping

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008201917A (en) 2007-02-21 2008-09-04 Fujifilm Corp Hydraulic pressure transfer film, method for producing hydraulic pressure transfer film, hydraulic pressure transfer member and method for producing hydraulic pressure transfer member
JP2018044163A (en) 2010-11-24 2018-03-22 セイコーエプソン株式会社 Recording method and recording device
JP2014177023A (en) 2013-03-14 2014-09-25 Hitachi Maxell Ltd Method for manufacturing metal foil-transferred object
JP2017177353A (en) 2016-03-28 2017-10-05 東洋インキScホールディングス株式会社 Method for manufacturing printed matter
JP2020525620A (en) 2017-06-27 2020-08-27 アイエヌエックス インターナショナル インク カンパニーInx International Ink Co. Energy-curing heat-activated inkjet adhesive for foil stamping
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