JP7353054B2 - 載置台の製造方法および載置台 - Google Patents
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Description
図1は、一実施形態に係るプラズマ処理装置10の概略構成図である。プラズマ処理装置10は、気密に構成され、電気的に接地電位とされた処理容器30を有している。この処理容器30は、円筒状とされ、例えば表面に陽極酸化被膜が形成されたアルミニウム等から構成されている。処理容器30は、プラズマが生成される処理空間を画成する。処理容器30内には、ウエハWを水平に支持する載置台31が収容されている。
図2は、一実施形態に係るプラズマ処理装置が備える載置台31の一部の構成例を示す概略断面図である。図2においては、図1の載置台31中、基台33、接着層38、静電チャック36を、ガス供給穴60および貫通穴70が貫通している部分を拡大して示している。また、図2は、リフタピン71によりウエハWが持ち上げられた状態を示している。
図3は、一実施形態に係るコーティング方法に用いるコーティング装置1の一例の概略図である。コーティング装置1は、チューブ2と、バルーン3と、ガイド4と、ガス供給部5と、を備える。
図4は、一実施形態に係るコーティング方法の流れの一例を示すフローチャートである。以下、ガス供給穴60および貫通穴70をまとめて、貫通穴60,70と呼ぶ。また、ガス供給穴60および貫通穴70に対して適用するコーティング方法は概ね共通であるため、図4~6、図8には代表として貫通穴70の形状を示す。
上記のように、実施形態における載置台のコーティング方法は、挿入工程と、膨張工程と、塗布工程と、を含む。挿入工程において、第1端にバルーンが取り付けられたチューブを、載置台の載置面で開口し載置台を貫通する貫通穴に挿入する。そして、膨張工程において、チューブの第1端が所定位置に到達した時、チューブの第2端から当該チューブ内に気体を供給することでバルーンを膨張させる。塗布工程において、膨張させたバルーンの表面を貫通穴の内周面に押し付けて、貫通穴の内周面にコーティング剤を塗布する。このため、予め構造物を載置台内に配置する必要なく、載置台の任意の位置にコーティングを施すことができる。また、バルーンを用いることで、細径の貫通穴や、多様な内周面形状の貫通穴内にコーティングを施すことができる。また、上記コーティング方法によれば、載置台内部の静電チャックと基台との間で露出する接着層の断面をコーティングできる。このため、実施形態のコーティング方法によれば、載置台の接着部分の消耗を抑制できる。
2 チューブ
3 バルーン
4 ガイド
5 ガス供給部
10 プラズマ処理装置
30 処理容器
30a 接地導体
31 載置台
33 基台
33b 冷媒入口配管
33c 冷媒出口配管
33d 冷媒流路
34 支持台
35 フォーカスリング
36 静電チャック
36a 電極
36b 絶縁体
36c ヒータ
36d 載置面
37 内壁部材
38 接着層
38a,38b 断面
40a 第1のRF電源
40b 第2のRF電源
41a 第1の整合器
42 直流電源
45a ガス供給配管
45b マスフローコントローラ(MFC)
46 シャワーヘッド
46a 本体部
46b 上部天板
46c ガス拡散室
46d ガス通流孔
46e ガス導入孔
46g ガス導入口
47 絶縁性部材
48a ローパスフィルタ(LPF)
48b 可変直流電源
48c オン・オフスイッチ
50 給電棒
60 ガス供給穴
60a 第1貫通穴
60b 第2貫通穴
60c 第3貫通穴
70 貫通穴
70a 第1貫通穴
70b 第2貫通穴
70c 第3貫通穴
71 リフタピン
72 駆動機構
81 排気口
82 排気管
83 排気装置
84 第1ゲート
86 デポシールド
90 制御部
GV ゲートバルブ
W ウエハ
Claims (8)
- 第1端に、表面にコーティング剤が配置されたバルーンが取り付けられたチューブを、基板を載置する載置面を有する静電チャックと、前記静電チャックを支持する基台と、前記静電チャックと前記基台とを接着する接着層とを備える載置台において、前記静電チャック、前記接着層および前記基台を貫通し、前記静電チャックの載置面で開口する貫通穴に挿入する挿入工程と、
前記チューブの第1端が所定位置に到達した時、前記チューブの第2端から当該チューブ内に気体を供給することで前記バルーンを膨張させる膨張工程と、
膨張させた前記バルーンの表面を前記貫通穴の内周面に押し付けて、前記貫通穴の内周面にコーティング剤を塗布する塗布工程と、
を含み、
前記チューブの第1端が、前記貫通穴内の前記接着層の露出断面に到達したときに前記チューブの第1端が所定位置に到達したと判定する、載置台の製造方法。 - 前記膨張工程において、前記チューブ内に温調ガスを供給する、請求項1に記載の載置台の製造方法。
- 前記チューブの第1端が所定位置に到達したか否かを、前記チューブの挿入長さに応じて判定する判定工程をさらに含む、請求項1または2に記載の載置台の製造方法。
- 前記塗布工程において、前記バルーンの表面を前記貫通穴の内周面中、前記接着層の露出断面に押し付けて、前記コーティング剤を塗布する、請求項1から3のいずれか1項に記載の載置台の製造方法。
- 前記塗布工程において、所定時間、前記バルーンの表面を前記貫通穴の内周面に押し付けた状態で維持する、請求項1から4のいずれか1項に記載の載置台の製造方法。
- 前記コーティング剤は、熱可塑性または熱硬化性の材料である、請求項1から5のいずれか1項に記載の載置台の製造方法。
- 基板を載置する載置面を有する静電チャックと、
前記静電チャックを支持する基台と、
前記静電チャックと前記基台とを接着する接着層と、
前記静電チャック、前記接着層および前記基台を貫通する貫通穴を画成する内周壁と、
前記内周壁の表面に露出している前記接着層と前記静電チャックの一部と前記基台の一部とを一体に覆う被覆部と、
を備え、
前記貫通穴内において、前記接着層の断面は前記静電チャックおよび前記基台の少なくとも一方の断面より凹んだ凹部を形成し、
前記被覆部は、前記接着層の凹部を埋め込んで形成される、載置台。 - 前記被覆部は、コーティング剤である、請求項7に記載の載置台。
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