JP7353046B2 - 加熱炉および当該加熱炉を用いるグラファイトの製造方法 - Google Patents
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本発明の一実施の形態における加熱炉は、グラファイトを製造する加熱炉であって、黒鉛製の給電部と、黒鉛製のヒータとを備え、上記給電部とヒータとが直結していると共に、直結部が露出していない構成である。上記加熱炉は、後述するグラファイトの製造方法において、炭化工程で作製された炭素質フィルムを2500℃以上の高温で焼成して、黒鉛化(グラファイト化)する黒鉛化工程で用いられる。
グラファイトは、優れた放熱特性を有していることから、コンピュータ等の各種電子機器または電気機器に搭載されている半導体素子、或いは、各種電子機器または電気機器が発する熱を放熱する放熱部品等として用いられる。本発明の一実施形態には、上記加熱炉を用いてグラファイト(グラファイトフィルム、グラファイトシート等)を製造する方法が含まれる。
グラファイトの製造に好適なフィルム状の高分子材料としては、例えば、ポリイミド、ポリアミド、ポリオキサジアゾール、ポリベンゾチアゾール、ポリベンゾビスチアゾール、ポリベンゾオキサゾール、ポリベンゾビスオキサゾール、ポリパラフェニレンビニレン、ポリベンゾイミダゾール、ポリベンゾビスイミダゾール、およびポリチアゾールが挙げられ、ポリイミドがより好ましい。特に、ポリイミドは、フィルムの炭化および黒鉛化が進行し易いため、フィルムの熱拡散率、熱伝導率、電気伝導度が低温で均一に高くなり易く、かつこれらの数値自体も高くなり易い。尚、高分子材料は、製造するグラファイトに求められる物性に応じて適宜選択すればよい。
炭化工程は、フィルム状の高分子材料(以下、「高分子材料フィルム」と記す)を1000℃程度で熱処理(予備加熱)し、炭素化して炭素質フィルムを得る工程である。熱処理時の最高温度は、例えば、700℃~1800℃であることが好ましく、800℃~1500℃であることがより好ましく、900℃~1200℃であることがさらに好ましく、1000℃であることが特に好ましい。
黒鉛化工程は、炭化工程で作製された炭素質フィルムを2500℃以上の高温で焼成して、黒鉛化(グラファイト化)する工程である。本発明においては、上述した加熱炉を用いて黒鉛化工程を行う。焼成時の最高温度は、好ましくは、2500℃以上、2600℃以上、2700℃以上、2800℃以上、2900℃以上、または3000℃以上である。黒鉛化工程は、窒素、ヘリウム、アルゴン等の不活性ガス雰囲気下、または減圧下で行われる。
必要に応じて行われる圧縮工程は、黒鉛化工程で作製されたグラファイトを圧縮する工程である。圧縮工程を行うことにより、得られるグラファイトに柔軟性を付与することができる。圧縮工程では、黒鉛化工程で作製されたグラファイトをプレス等によって面状に圧縮する方法、金属ローラ等を用いて圧延する方法等を行うことができる。圧縮工程における押圧力は特に限定されない。また、圧縮工程は室温で行われるものの、温度は特に限定されない。さらに、黒鉛化工程と一緒に圧縮工程を行うこともできる。
2 加熱炉本体
3 メインヒータ(ヒータ)
3a スリット
3b 直結凸部
3c 終端部
3d 周辺部分
3e 周辺部分
3f その他の部分
4 給電部
4a 給電棒
4b 直結凹部
10 炭素質フィルム
Claims (2)
- グラファイトを製造する加熱炉であって、
黒鉛製の給電部と、黒鉛製のヒータとを備え、
上記給電部とヒータとが、他の部材を介さず、直接結合しており、他の部材を介して結合している箇所はなく、さらに、直結部が露出しておらず、上記ヒータは、一組の互いに対向する辺に交互にスリットが設けられて形成された板状のスリットヒータであり、
各スリットには、スリットの幅の1/2よりも大きい隅R加工がなされた終端部が形成されており、
上記板状のスリットヒータは、直結部を取り囲む周辺部分、並びに、スリットの終端部を取り囲む周辺部分が、その他の部分よりも厚く形成されており、
上記給電部とヒータとが嵌合または螺合している加熱炉であって、
上記給電部は、上記ヒータと直結するための黒鉛製の給電棒を備えており、
上記ヒータは、その両端部に、給電部の給電棒と直結するための直結凸部を備えており、上記給電部の給電棒は、上記直結凸部と直結するための直結凹部を備えており、上記ヒータの直結凸部および上記給電棒の直結凹部が、嵌合または螺合しているか、又は、
上記ヒータは、その両端部に、給電部の給電棒と直結するための直結凹部を備えており、上記給電部の給電棒は、上記直結凹部と直結するための直結凸部を備えており、上記ヒータの直結凹部および上記給電棒の直結凸部が、嵌合または螺合している、加熱炉。 - 請求項1に記載の加熱炉を用いるグラファイトの製造方法。
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JP2019045064A JP7353046B2 (ja) | 2019-03-12 | 2019-03-12 | 加熱炉および当該加熱炉を用いるグラファイトの製造方法 |
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