JP7344655B2 - processing equipment - Google Patents

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Description

本発明は、ガイドレールを備える処理装置に関する。 The present invention relates to a processing device including a guide rail.

被加工物を環状フレームに固定して搬送する各種処理装置、例えば切削装置やレーザー加工装置では、フレームユニットを複数種用するカセットを装置にセットし、フレームユニットをガイドレールに引き出して、処理部(例えば、チャックテーブルや洗浄部等)に搬送する(例えば、特許文献1参照)。こうした各種処理装置では、フレームユニットが今どこにあるかを常に認識している。例えば、カセットからガイドレールに引き出されたフレームユニットは、ガイドレールの支持面に設置された反射型光電センサによって、ガイドレール上にあることが検出される。 In various processing equipment, such as cutting equipment and laser processing equipment, in which the workpiece is fixed to an annular frame and transported, a cassette for multiple types of frame units is set in the equipment, and the frame units are pulled out onto the guide rails and transferred to the processing section. (for example, a chuck table, a cleaning section, etc.) (for example, see Patent Document 1). These various processing devices always recognize where the frame unit is currently located. For example, a frame unit pulled out from a cassette onto a guide rail is detected as being on the guide rail by a reflective photoelectric sensor installed on the support surface of the guide rail.

特開平11-204461号公報Japanese Patent Application Publication No. 11-204461

しかしながら、従来の処理装置は、支持面に設置された反射型光電センサが支持面を摺動するフレームユニットによって汚されたり、フレームユニットの移動領域が長いと反射型光電センサを複数設置しなければならないという課題があった。 However, with conventional processing equipment, if the reflective photoelectric sensor installed on the support surface is contaminated by the frame unit sliding on the support surface, or if the frame unit has a long moving area, multiple reflective photoelectric sensors must be installed. There was an issue of not being able to do so.

本発明は、かかる問題点に鑑みてなされたものであり、その目的は、フレームユニットを検出するセンサが汚されることを抑制できるとともに、設置されるセンサを抑制することができる処理装置を提供することである。 The present invention has been made in view of such problems, and an object of the present invention is to provide a processing device that can prevent a sensor that detects a frame unit from being contaminated, and can also suppress the number of installed sensors. That's true.

上述した課題を解決し、目的を達成するために、本発明の処理装置は、環状フレームの開口に粘着テープで被加工物が固定されたフレームユニットを複数収容するカセットが載置されるカセット載置部と、該カセット載置部に載置されたカセットから搬出または搬入される該フレームユニットを仮置きするガイドレールと、該フレームユニットを該ガイドレールに沿って移動させる移動ユニットと、該フレームユニットを処理する処理部と、該ガイドレールと該処理部との間で該フレームユニットを搬送する搬送ユニットと、該フレームユニットの位置を検出する位置検出部と、を備える処理装置であって、該ガイドレールは、平行に延在し該フレームユニットを下方から支持する一対の支持面を有し、該位置検出部は、発光部又は受光部を有し、一対のガイドレールの外側にそれぞれ配置される透過型光電センサを備え、該透過型光電センサが、該支持面の一対のガイドレール同士が離れた側の端から立設した位置決め壁を貫通した貫通孔に設けられ、かつ、光を透過する材料で構成されているとともに、該支持面を摺動する該フレームユニット側に対向するセンサカバーを備えて、該支持面に支持された該フレームユニットで該発光部からの光が遮られると、該ガイドレールに該フレームユニットが位置付けられていると検出することを特徴とする。 In order to solve the above-mentioned problems and achieve the objects, the processing apparatus of the present invention includes a cassette mounter in which a cassette accommodating a plurality of frame units each having a workpiece fixed to it with an adhesive tape is placed in an opening of an annular frame. a placing section; a guide rail for temporarily placing the frame unit to be carried out or carried in from the cassette placed on the cassette placing section; a moving unit for moving the frame unit along the guide rail; and the frame. A processing device comprising a processing section that processes a unit, a transport unit that transports the frame unit between the guide rail and the processing section, and a position detection section that detects the position of the frame unit, The guide rail has a pair of support surfaces that extend in parallel and support the frame unit from below, and the position detection section has a light emitting section or a light receiving section and is disposed on the outside of the pair of guide rails. The transmission type photoelectric sensor is provided in a through hole that penetrates a positioning wall that is erected from an end on a side where the pair of guide rails are separated from each other on the support surface, and that transmits light. The sensor cover is made of a transparent material and faces the frame unit that slides on the support surface, so that the frame unit supported on the support surface blocks light from the light emitting section. The present invention is characterized in that it is detected that the frame unit is positioned on the guide rail.

前記処理装置において、該ガイドレールに支持される該フレームユニットが所定の範囲内に位置付けられていることを該位置検出部で検知し、該所定の範囲の一端に位置付けられた該フレームユニット、及び所定の範囲の他端に位置付けられた該フレームユニットに該光が遮られる位置に該透過型光電センサが配置されても良い。 In the processing device, the position detection section detects that the frame unit supported by the guide rail is positioned within a predetermined range, and the frame unit is positioned at one end of the predetermined range; The transmission type photoelectric sensor may be arranged at a position where the light is blocked by the frame unit located at the other end of the predetermined range.

本発明は、フレームユニットを検出するセンサが汚されることを抑制できるとともに、設置されるセンサを抑制することができるという効果を奏する。 Advantageous Effects of Invention The present invention has the advantage that it is possible to prevent a sensor that detects a frame unit from being contaminated, and it is also possible to suppress the number of sensors that are installed.

図1は、実施形態1に係る処理装置の構成例を示す斜視図である。FIG. 1 is a perspective view showing a configuration example of a processing device according to a first embodiment. 図2は、図1中のII-IIに沿う処理装置のガイドレールの断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view of the guide rail of the processing apparatus along line II-II in FIG. 図3は、図1に示された処理装置のガイドレールにフレームユニットが仮置きされた状態を示す斜視図である。FIG. 3 is a perspective view showing a frame unit temporarily placed on the guide rail of the processing apparatus shown in FIG. 図4は、図3中のIV-IV線に沿う断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view taken along line IV-IV in FIG.

本発明を実施するための形態(実施形態)につき、図面を参照しつつ詳細に説明する。以下の実施形態に記載した内容により本発明が限定されるものではない。また、以下に記載した構成要素には、当業者が容易に想定できるもの、実質的に同一のものが含まれる。さらに、以下に記載した構成は適宜組み合わせることが可能である。また、本発明の要旨を逸脱しない範囲で構成の種々の省略、置換又は変更を行うことができる。 DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Modes (embodiments) for carrying out the present invention will be described in detail with reference to the drawings. The present invention is not limited to the contents described in the following embodiments. Further, the constituent elements described below include those that can be easily assumed by those skilled in the art and those that are substantially the same. Furthermore, the configurations described below can be combined as appropriate. Further, various omissions, substitutions, or changes in the configuration can be made without departing from the gist of the present invention.

〔実施形態1〕
本発明の実施形態1に係る処理装置を図面に基いて説明する。図1は、実施形態1に係る処理装置の構成例を示す斜視図である。図2は、図1中のII-IIに沿う処理装置のガイドレールの断面図である。図3は、図1に示された処理装置のガイドレールにフレームユニットが仮置きされた状態を示す斜視図である。図4は、図3中のIV-IV線に沿う断面図である。
[Embodiment 1]
A processing device according to Embodiment 1 of the present invention will be explained based on the drawings. FIG. 1 is a perspective view showing a configuration example of a processing device according to a first embodiment. FIG. 2 is a cross-sectional view of the guide rail of the processing apparatus along line II-II in FIG. FIG. 3 is a perspective view showing a frame unit temporarily placed on the guide rail of the processing apparatus shown in FIG. FIG. 4 is a cross-sectional view taken along line IV-IV in FIG.

実施形態1に係る図1に示す処理装置1は、フレームユニット200の被加工物201を切削(加工に相当する)する切削装置である。実施形態1では、被加工物201は、シリコン、サファイア、ガリウムなどを母材とする円板状の半導体ウェーハや光デバイスウェーハ等のウェーハである。被加工物201は、表面202に格子状に形成された複数の分割予定ライン203によって格子状に区画された領域にデバイス204が形成されている。 The processing apparatus 1 shown in FIG. 1 according to the first embodiment is a cutting apparatus that cuts (corresponds to machining) a workpiece 201 of a frame unit 200. In the first embodiment, the workpiece 201 is a wafer such as a disk-shaped semiconductor wafer or an optical device wafer that uses silicon, sapphire, gallium, or the like as a base material. Devices 204 are formed on the workpiece 201 in areas partitioned in a grid pattern by a plurality of dividing lines 203 formed in a grid pattern on the surface 202 .

また、本発明の被加工物201は、中央部が薄化され、外周部に厚肉部が形成された所謂TAIKO(登録商標)ウェーハでもよく、ウェーハの他に、樹脂により封止されたデバイスを複数有した矩形状のパッケージ基板、セラミックス基板、フェライト基板、又はニッケル及び鉄の少なくとも一方を含む基板等でも良い。実施形態1において、フレームユニット200は、被加工物201の表面202の裏側の裏面205が外周縁に環状フレーム206が装着された粘着テープ207に貼着されて、環状フレーム206の開口208に粘着テープ207で被加工物201が固定されたものである。 Further, the workpiece 201 of the present invention may be a so-called TAIKO (registered trademark) wafer having a thinner central portion and a thicker portion formed on the outer periphery. A rectangular package substrate having a plurality of nickel, a ceramic substrate, a ferrite substrate, a substrate containing at least one of nickel and iron, or the like may be used. In the first embodiment, the frame unit 200 has a back surface 205 on the back side of the front surface 202 of the workpiece 201 attached to an adhesive tape 207 having an annular frame 206 attached to the outer periphery, so that the frame unit 200 is adhered to the opening 208 of the annular frame 206. A workpiece 201 is fixed with tape 207.

図1に示された処理装置1は、フレームユニット200の被加工物201をチャックテーブル40で保持し分割予定ライン203に沿って切削ブレード51で切削する装置である。処理装置1は、図1に示すように、カセット11が載置されるカセット載置部であるカセットエレベータ10と、ガイドレール20と、移動ユニット30と、チャックテーブル40と、切削ユニット50と、撮像ユニット60と、洗浄ユニット70と、搬送ユニット80と、制御ユニット100とを備える。 The processing apparatus 1 shown in FIG. 1 is an apparatus that holds a workpiece 201 of a frame unit 200 on a chuck table 40 and cuts it along a planned dividing line 203 with a cutting blade 51. As shown in FIG. 1, the processing apparatus 1 includes a cassette elevator 10, which is a cassette mounting section on which a cassette 11 is placed, a guide rail 20, a movement unit 30, a chuck table 40, a cutting unit 50, It includes an imaging unit 60, a cleaning unit 70, a transport unit 80, and a control unit 100.

また、処理装置1は、図1に示すように、チャックテーブル40と切削ユニット50とをチャックテーブル40の保持面41と平行なX軸方向へ相対的に移動させる加工送りユニットであるX軸移動ユニットと、チャックテーブル40と切削ユニット50とを保持面41と平行でX軸方向と直交するY軸方向へ相対的に移動させる割り出し送りユニットであるY軸移動ユニットと、チャックテーブル40と切削ユニット50とを保持面41と直交し鉛直方向と平行なZ軸方向へ相対的に移動させる切り込み送りユニットであるZ軸移動ユニット110とを備える。処理装置1は、図1に示すように、切削ユニット50を2つ備えた、即ち、2スピンドルのダイサ、いわゆるフェイシングデュアルタイプの切削装置である。 In addition, as shown in FIG. 1, the processing apparatus 1 also includes an unit, a Y-axis moving unit that is an indexing feed unit that relatively moves the chuck table 40 and the cutting unit 50 in the Y-axis direction parallel to the holding surface 41 and perpendicular to the X-axis direction, and the chuck table 40 and the cutting unit. 50 in a Z-axis direction perpendicular to the holding surface 41 and parallel to the vertical direction. As shown in FIG. 1, the processing device 1 is a so-called facing dual type cutting device that includes two cutting units 50, that is, a two-spindle dicer.

カセット11は、箱状に形成され、複数のフレームユニット200をZ軸方向に間隔をあけて複数収容する収容容器である。カセット11は、フレームユニット200を出し入れする開口11-1を備えている。開口11-1は、ガイドレール20に対向している。カセットエレベータ10は、実施形態1では、上面にカセット11が載置され、図示しないモータによりカセット11をZ軸方向に昇降させる。 The cassette 11 is a container that is formed into a box shape and accommodates a plurality of frame units 200 at intervals in the Z-axis direction. The cassette 11 includes an opening 11-1 through which the frame unit 200 is inserted and removed. The opening 11-1 faces the guide rail 20. In the first embodiment, the cassette elevator 10 has a cassette 11 placed on its upper surface, and a motor (not shown) moves the cassette 11 up and down in the Z-axis direction.

ガイドレール20は、カセットエレベータ10に載置されたカセット11から搬出されたフレームユニット200またはカセット11に搬入されるフレームユニット200を仮置きするものである。ガイドレール20は、X軸方向に間隔をあけて一対設けられ、それぞれがY軸方向と平行な直線状に延在して、互いに平行に配置されている。一対のガイドレール20は、カセット11の開口11-1のX軸方向の両端とY軸方向に対向する位置に配置されている。 The guide rail 20 temporarily stores the frame unit 200 carried out from the cassette 11 placed on the cassette elevator 10 or the frame unit 200 carried into the cassette 11. A pair of guide rails 20 are provided at intervals in the X-axis direction, each extending in a straight line parallel to the Y-axis direction, and arranged in parallel to each other. The pair of guide rails 20 are arranged at positions facing both ends of the opening 11-1 of the cassette 11 in the X-axis direction and in the Y-axis direction.

一対のガイドレール20は、図示しない移動機構によりX軸方向に互いに近づいたり互いに離れる方向に移動自在に設けられている。一対のガイドレール20は、それぞれ、図2に示すように、Y軸方向に互いに平行して延在した支持面21と、支持面21の一対のガイドレール20同士が離れた側の端から立設した位置決め壁22とを有する。ガイドレール20それぞれが支持面21を備えるので、処理装置1は、一対の支持面21を有する。 The pair of guide rails 20 are provided so as to be movable toward and away from each other in the X-axis direction by a moving mechanism (not shown). As shown in FIG. 2, each of the pair of guide rails 20 has a support surface 21 extending parallel to each other in the Y-axis direction, and a support surface 21 that stands up from the end of the support surface 21 on the side where the pair of guide rails 20 are separated from each other. It has a positioning wall 22 provided therein. Since each guide rail 20 includes a support surface 21, the processing apparatus 1 has a pair of support surfaces 21.

支持面21は、仮置きされたフレームユニット200の環状フレーム206が載置されて、フレームユニット200の環状フレーム206を下方から支持するものである。位置決め壁22は、Y軸方向と平行に直線状に延びている。位置決め壁22は、支持面21が下方からフレームユニット200を支持した一対のガイドレール20同士が近付けられると、環状フレーム206の外縁に接触して、環状フレーム206をX軸方向に位置決めする。 The annular frame 206 of the frame unit 200 that has been temporarily placed is placed on the support surface 21 and supports the annular frame 206 of the frame unit 200 from below. The positioning wall 22 extends linearly parallel to the Y-axis direction. When the pair of guide rails 20 supporting the frame unit 200 from below are brought close to each other, the positioning wall 22 contacts the outer edge of the annular frame 206 and positions the annular frame 206 in the X-axis direction.

移動ユニット30は、カセットエレベータ10に載置されたカセット11からフレームユニット200を搬出してガイドレール20に載置するとともに、ガイドレール20に載置されたフレームユニット200をカセット11に搬入するものである。また、移動ユニット30は、カセット11から搬出する際及びカセット11に搬入する際に、フレームユニット200をガイドレール20に沿って移動させる。移動ユニット30は、カセット11に収容されたフレームユニット200の環状フレーム206を把持する把持部31を備える。 The moving unit 30 carries out the frame unit 200 from the cassette 11 placed on the cassette elevator 10 and places it on the guide rail 20, and also carries the frame unit 200 placed on the guide rail 20 into the cassette 11. It is. Moreover, the moving unit 30 moves the frame unit 200 along the guide rail 20 when carrying it out from the cassette 11 and when carrying it into the cassette 11. The moving unit 30 includes a grip part 31 that grips the annular frame 206 of the frame unit 200 housed in the cassette 11.

チャックテーブル40は、ガイドレール20から搬送されたフレームユニット200の被加工物201を保持面41で吸引保持(処理に相当)する処理部である。チャックテーブル40は、円盤形状であり、被加工物201を保持する保持面41がポーラスセラミック等から形成されている。チャックテーブル40は、X軸移動ユニットにより切削ユニット50の下方の加工領域と、切削ユニット50の下方から離間してフレームユニット200がカセット11に搬入出される搬入出領域とに亘ってX軸方向に移動自在に設けられ、かつ回転駆動源によりZ軸方向と平行な軸心回りに回転自在に設けられている。 The chuck table 40 is a processing section that suctions and holds (corresponds to processing) the workpiece 201 of the frame unit 200 transported from the guide rail 20 with a holding surface 41 . The chuck table 40 has a disk shape, and a holding surface 41 that holds the workpiece 201 is made of porous ceramic or the like. The chuck table 40 is moved in the X-axis direction by an X-axis moving unit across a processing area below the cutting unit 50 and a carry-in/out area where the frame unit 200 is carried in and out of the cassette 11 at a distance from below the cutting unit 50. It is provided movably and rotatably about an axis parallel to the Z-axis direction by a rotational drive source.

チャックテーブル40は、図示しない真空吸引源と接続され、真空吸引源により吸引されることで、保持面41に載置された被加工物201を吸引保持して、フレームユニット200を固定する。実施形態1では、チャックテーブル40は、粘着テープ207を介して被加工物201の裏面205側を吸引保持する。また、チャックテーブル40の周囲には、図1に示すように、環状フレーム206をクランプするクランプ部42が複数設けられている。 The chuck table 40 is connected to a vacuum suction source (not shown), and is suctioned by the vacuum suction source to suction and hold the workpiece 201 placed on the holding surface 41, thereby fixing the frame unit 200. In the first embodiment, the chuck table 40 suction-holds the back surface 205 side of the workpiece 201 via the adhesive tape 207 . Further, around the chuck table 40, as shown in FIG. 1, a plurality of clamp parts 42 for clamping the annular frame 206 are provided.

切削ユニット50は、チャックテーブル40に保持された被加工物201を切削(加工に相当する)するものである。切削ユニット50は、それぞれ、チャックテーブル40に保持された被加工物201に対して、Y軸移動ユニットによりY軸方向に移動自在に設けられ、かつ、Z軸移動ユニット110によりZ軸方向に移動自在に設けられている。 The cutting unit 50 cuts (corresponds to machining) the workpiece 201 held on the chuck table 40. The cutting units 50 are each provided to be movable in the Y-axis direction by a Y-axis movement unit with respect to the workpiece 201 held on the chuck table 40, and are movable in the Z-axis direction by a Z-axis movement unit 110. It is set freely.

一方の切削ユニット50は、図1に示すように、Y軸移動ユニット、Z軸移動ユニット110などを介して、装置本体2から立設した門型の支持フレーム3の一方の柱部4に設けられている。他方の切削ユニット50は、図1に示すように、Y軸移動ユニット、Z軸移動ユニット110などを介して、支持フレーム3の他方の柱部4に設けられている。なお、支持フレーム3は、柱部4,4の上端同士を水平梁5により連結している。 As shown in FIG. 1, one cutting unit 50 is installed on one column 4 of a gate-shaped support frame 3 erected from the apparatus main body 2 via a Y-axis moving unit, a Z-axis moving unit 110, etc. It is being As shown in FIG. 1, the other cutting unit 50 is provided on the other column 4 of the support frame 3 via a Y-axis moving unit, a Z-axis moving unit 110, and the like. Note that, in the support frame 3, the upper ends of the column parts 4, 4 are connected to each other by a horizontal beam 5.

切削ユニット50は、Y軸移動ユニット及びZ軸移動ユニット110により、チャックテーブル40の保持面41の任意の位置に切削ブレード51を位置付け可能となっている。切削ユニット50は、Y軸移動ユニット及びZ軸移動ユニット110によりY軸方向及びZ軸方向に移動自在に設けられたスピンドルハウジング53と、スピンドルハウジング53に軸心回りに回転自在に設けられかつモータにより回転されるとともに先端に切削ブレード51が装着される図示しないスピンドルとを備える。切削ブレード51は、略リング形状を有する極薄の切削砥石である。 The cutting unit 50 can position the cutting blade 51 at any position on the holding surface 41 of the chuck table 40 by the Y-axis moving unit and the Z-axis moving unit 110. The cutting unit 50 includes a spindle housing 53 that is movably provided in the Y-axis direction and the Z-axis direction by a Y-axis movement unit and a Z-axis movement unit 110, and a motor that is provided in the spindle housing 53 so as to be rotatable around its axis. The cutting blade 51 is rotated by a spindle (not shown) and has a cutting blade 51 attached to its tip. The cutting blade 51 is an extremely thin cutting whetstone having a substantially ring shape.

撮像ユニット60は、チャックテーブル40の保持面41で保持された被加工物201を撮像するものである。実施形態1では、撮像ユニット60は、切削ユニット50と一体的に移動するように、切削ユニット50に固定されている。撮像ユニット60は、チャックテーブル40に保持された切削前の被加工物201の分割すべき領域を撮像する撮像素子を備えている。撮像素子は、例えば、CCD(Charge-Coupled Device)撮像素子又はCMOS(Complementary MOS)撮像素子である。撮像ユニット60は、チャックテーブル40に保持された被加工物201を撮像して、被加工物201と切削ブレード51との位置合わせを行なうアライメントを遂行するため等の画像を得、得た画像を制御ユニット100に出力する。 The imaging unit 60 takes an image of the workpiece 201 held by the holding surface 41 of the chuck table 40. In the first embodiment, the imaging unit 60 is fixed to the cutting unit 50 so as to move integrally with the cutting unit 50. The imaging unit 60 includes an imaging element that images the region to be divided of the workpiece 201 held by the chuck table 40 before cutting. The image sensor is, for example, a CCD (Charge-Coupled Device) image sensor or a CMOS (Complementary MOS) image sensor. The imaging unit 60 images the workpiece 201 held on the chuck table 40 to obtain an image for performing alignment for aligning the workpiece 201 and the cutting blade 51. Output to control unit 100.

X軸移動ユニットは、チャックテーブル40を加工送り方向であるX軸方向に加工送りするものである。Y軸移動ユニットは、切削ユニット50を割り出し送り方向であるY軸方向に割り出し送りするものである。Z軸移動ユニット110は、切削ユニット50を切り込み送り方向であるZ軸方向に切り込み送りするものである。 The X-axis moving unit is for processing and feeding the chuck table 40 in the X-axis direction, which is the processing and feeding direction. The Y-axis moving unit indexes and feeds the cutting unit 50 in the Y-axis direction, which is the indexing and feeding direction. The Z-axis moving unit 110 feeds the cutting unit 50 in the Z-axis direction, which is the cutting feed direction.

X軸移動ユニット、Y軸移動ユニット及びZ軸移動ユニット110は、軸心回りに回転自在に設けられた周知のボールねじ、ボールねじを軸心回りに回転させる周知のパルスモータ及びチャックテーブル40又は切削ユニット50をX軸方向、Y軸方向又はZ軸方向に移動自在に支持する周知のガイドレールを備える。 The X-axis moving unit, the Y-axis moving unit, and the Z-axis moving unit 110 include a known ball screw rotatably provided around the axis, a known pulse motor that rotates the ball screw around the axis, and a chuck table 40. A well-known guide rail is provided that supports the cutting unit 50 so as to be movable in the X-axis direction, Y-axis direction, or Z-axis direction.

また、処理装置1は、チャックテーブル40のX軸方向の位置を検出するため図示しないX軸方向位置検出ユニットと、切削ユニット50のY軸方向の位置を検出するための図示しないY軸方向位置検出ユニットと、切削ユニット50のZ軸方向の位置を検出するための図示しないZ軸方向位置検出ユニットとを備える。X軸方向位置検出ユニット及びY軸方向位置検出ユニットは、X軸方向、又はY軸方向と平行なリニアスケールと、X軸移動ユニット又はY軸移動ユニットによりX軸方向又はY軸方向に移動自在に設けられリニアスケールの目盛を読み取る読み取りヘッドとにより構成することができる。X軸方向位置検出ユニット、及びY軸方向位置検出ユニットは、読み取りヘッドが読み取ったリニアスケールの目盛を示す情報をチャックテーブル40のX軸方向の位置、又は切削ユニット50のY軸方向の位置を示す情報として制御ユニット100に出力する。Z軸方向位置検出ユニットは、ボールねじを軸心回りに回転させるパルスモータのパルス数で切削ユニット50のZ軸方向の位置を検出して、検出した切削ユニット50のZ軸方向の位置を示す情報を制御ユニット100に出力する。 The processing apparatus 1 also includes an X-axis position detection unit (not shown) for detecting the position of the chuck table 40 in the X-axis direction, and a Y-axis position detection unit (not shown) for detecting the position of the cutting unit 50 in the Y-axis direction. It includes a detection unit and a Z-axis direction position detection unit (not shown) for detecting the position of the cutting unit 50 in the Z-axis direction. The X-axis position detection unit and the Y-axis position detection unit are movable in the X-axis or Y-axis direction using a linear scale parallel to the X-axis or Y-axis direction, and an X-axis movement unit or a Y-axis movement unit. A reading head is provided on the linear scale and reads the scale of the linear scale. The X-axis direction position detection unit and the Y-axis direction position detection unit detect the position of the chuck table 40 in the X-axis direction or the position of the cutting unit 50 in the Y-axis direction from information indicating the scale of the linear scale read by the reading head. The information is output to the control unit 100 as information indicating. The Z-axis position detection unit detects the position of the cutting unit 50 in the Z-axis direction using the number of pulses of a pulse motor that rotates the ball screw around its axis, and indicates the detected position of the cutting unit 50 in the Z-axis direction. The information is output to the control unit 100.

洗浄ユニット70は、被加工物201が切削されたフレームユニット200を洗浄するものである。洗浄ユニット70は、フレームユニット200の被加工物201を保持面72に吸引保持(処理に相当)するとともにZ軸方向と平行な軸心回りに回転する処理部であるチャックテーブル71と、チャックテーブル71に吸引保持した被加工物201に洗浄水を供給する洗浄水ノズル73とを備える。また、実施形態1において、洗浄ユニット70のチャックテーブル71は、図示エアシリンダなどによりZ軸方向に昇降自在に設けられている。 The cleaning unit 70 cleans the frame unit 200 from which the workpiece 201 has been cut. The cleaning unit 70 includes a chuck table 71, which is a processing section that sucks and holds (corresponds to processing) the workpiece 201 of the frame unit 200 on a holding surface 72 and rotates around an axis parallel to the Z-axis direction, and a chuck table 71. A cleaning water nozzle 73 is provided for supplying cleaning water to the workpiece 201 sucked and held by the cleaning water nozzle 71 . Further, in the first embodiment, the chuck table 71 of the cleaning unit 70 is provided so as to be movable up and down in the Z-axis direction using an air cylinder as shown.

洗浄ユニット70は、チャックテーブル71の保持面72に載置された被加工物201を粘着テープ207を介して吸引保持して、フレームユニット200を固定し、チャックテーブル71を軸心回りに回転しながら洗浄水ノズル73から洗浄水を被加工物201に供給して、被加工物201を洗浄する。 The cleaning unit 70 suction-holds the workpiece 201 placed on the holding surface 72 of the chuck table 71 via the adhesive tape 207, fixes the frame unit 200, and rotates the chuck table 71 around its axis. At the same time, cleaning water is supplied from the cleaning water nozzle 73 to the workpiece 201 to clean the workpiece 201.

搬送ユニット80は、ガイドレール20とチャックテーブル40,71との間でフレームユニット200を搬送するものである。実施形態1において、搬送ユニット80は、チャックテーブル40,71にフレームユニット200を搬入又は搬出する。実施形態1において、搬送ユニット80は、フレームユニット200をガイドレール20からチャックテーブル40に搬送する第1の搬送ユニット81と、フレームユニット200をチャックテーブル40から洗浄ユニット70のチャックテーブル71に搬送する第2の搬送ユニット82とを備える。また、第1の搬送ユニット81は、洗浄ユニット70のチャックテーブル71からガイドレール20にフレームユニット200を搬送する。 The transport unit 80 transports the frame unit 200 between the guide rail 20 and the chuck tables 40 and 71. In the first embodiment, the transport unit 80 carries the frame unit 200 into or out of the chuck tables 40 and 71. In the first embodiment, the transport unit 80 includes a first transport unit 81 that transports the frame unit 200 from the guide rail 20 to the chuck table 40, and a first transport unit 81 that transports the frame unit 200 from the chuck table 40 to the chuck table 71 of the cleaning unit 70. and a second transport unit 82. Further, the first transport unit 81 transports the frame unit 200 from the chuck table 71 of the cleaning unit 70 to the guide rail 20.

搬送ユニット81,82は、図1及び図2に示すように、フレームユニット200の環状フレーム206を保持する保持ユニット83と、保持ユニット83を移動させる移動ユニット84とを備える。移動ユニット84は、先端に保持ユニット83を設けたユニット支持アーム85をY軸方向に移動させるY軸移動機構86と、ユニット支持アーム85の先端に設けられかつ保持ユニット83をZ軸方向に移動させる昇降機構87とを備える。Y軸移動機構86は、装置本体2から立設しかつ支持フレーム3よりも搬入出領域寄りに設けられた門型の第2支持フレーム6の一対の柱部7,7同士を連結する水平梁8に設けられる。Y軸移動機構86は、軸心回りに回転自在に設けられた周知のボールねじ、ボールねじを軸心回りに回転させる周知のパルスモータ及びユニット支持アーム85をY軸方向に移動自在に支持する周知のガイドレールにより構成される。昇降機構87は、周知のエアシリンダにより構成される。 As shown in FIGS. 1 and 2, the transport units 81 and 82 include a holding unit 83 that holds the annular frame 206 of the frame unit 200, and a moving unit 84 that moves the holding unit 83. The moving unit 84 includes a Y-axis moving mechanism 86 that moves a unit support arm 85, which is provided with a holding unit 83 at the tip, in the Y-axis direction, and a Y-axis moving mechanism 86, which is provided at the tip of the unit support arm 85 and moves the holding unit 83 in the Z-axis direction. It is provided with an elevating mechanism 87 for raising and lowering. The Y-axis moving mechanism 86 is a horizontal beam that connects a pair of pillars 7, 7 of a gate-shaped second support frame 6 that stands upright from the device main body 2 and is closer to the loading/unloading area than the support frame 3. 8. The Y-axis moving mechanism 86 supports a well-known ball screw rotatably provided around the axis, a well-known pulse motor that rotates the ball screw around the axis, and a unit support arm 85 so as to be movable in the Y-axis direction. It is composed of well-known guide rails. The elevating mechanism 87 is constituted by a well-known air cylinder.

また、第1の搬送ユニット81は、保持ユニット83に移動ユニット30の把持部31を取り付けている。このために、移動ユニット30の把持部31は、第1の搬送ユニット81のY軸移動機構86によりY軸方向に移動自在となっている。移動ユニット30は、フレームユニット200の環状フレーム206を把持した把持部31が第1の搬送ユニット81のY軸移動機構86によりY軸方向に移動されることで、フレームユニット200をガイドレール20に沿って移動させる。 Furthermore, in the first transport unit 81, the grip portion 31 of the moving unit 30 is attached to the holding unit 83. For this reason, the grip portion 31 of the moving unit 30 is movable in the Y-axis direction by the Y-axis moving mechanism 86 of the first transport unit 81. The moving unit 30 moves the frame unit 200 onto the guide rail 20 by moving the gripping part 31 that grips the annular frame 206 of the frame unit 200 in the Y-axis direction by the Y-axis moving mechanism 86 of the first transport unit 81. move along.

制御ユニット100は、処理装置1の上述した各ユニットをそれぞれ制御して、フレームユニット200の被加工物201に対する加工動作を処理装置1に実施させるものである。具体的には、制御ユニット100は、一対のガイドレール20同士を離した状態で、移動ユニット30の把持部31で切削加工前のフレームユニット200の環状フレーム206を把持させて、第1の搬送ユニット81のY軸移動機構86で移動ユニット30の把持部31をカセット11から離れる方向にY軸方向に沿ってガイドレール20の支持面21上を移動させて、フレームユニット200を搬入出領域のチャックテーブル40の直上の図3に実線で示す位置と二点鎖線で示す位置との間に位置付ける。なお、図3は、フレームユニット200の環状フレーム206のみを示し、他を省略している。 The control unit 100 controls each of the above-mentioned units of the processing apparatus 1 and causes the processing apparatus 1 to perform a processing operation on the workpiece 201 of the frame unit 200. Specifically, the control unit 100 causes the gripping portion 31 of the moving unit 30 to grip the annular frame 206 of the frame unit 200 before cutting, with the pair of guide rails 20 separated from each other, and performs the first conveyance. The Y-axis moving mechanism 86 of the unit 81 moves the gripping part 31 of the moving unit 30 away from the cassette 11 on the support surface 21 of the guide rail 20 along the Y-axis direction, and moves the frame unit 200 to the loading/unloading area. It is positioned directly above the chuck table 40 between the position shown by the solid line in FIG. 3 and the position shown by the two-dot chain line. Note that FIG. 3 shows only the annular frame 206 of the frame unit 200 and omits the others.

制御ユニット100は、一対のガイドレール20同士を近づけてフレームユニット200をX軸方向に位置決めした後、第1の搬送ユニット81の保持ユニット83で位置決めされたフレームユニット200の環状フレーム206を保持する。制御ユニット100は、一対のガイドレール20同士を離れる方向に移動させてフレームユニット200がガイドレール20同士の間を通過できる距離に離間させ、第1の搬送ユニット81で保持ユニット83に保持したフレームユニット200の被加工物201を粘着テープ207を介してチャックテーブル40の保持面41に載置させる。制御ユニット100は、チャックテーブル40に被加工物201を吸引保持し、クランプ部42で環状フレーム206をクランプした後、X軸移動ユニットにチャックテーブル40を移動させて、撮像ユニット60にチャックテーブル40上の被加工物201を撮像させる。制御ユニット100は、被加工物201と切削ブレード51との位置合わせを行うアライメントを遂行し、チャックテーブル40と切削ユニット50の切削ブレード51とを分割予定ライン203に沿って相対的に移動させながら分割予定ライン203に切削ブレード51を切り込ませる。 After positioning the frame unit 200 in the X-axis direction by bringing the pair of guide rails 20 close to each other, the control unit 100 holds the annular frame 206 of the positioned frame unit 200 with the holding unit 83 of the first transport unit 81. . The control unit 100 moves the pair of guide rails 20 away from each other to a distance that allows the frame unit 200 to pass between the guide rails 20, and moves the frame held by the holding unit 83 using the first transport unit 81. The workpiece 201 of the unit 200 is placed on the holding surface 41 of the chuck table 40 via the adhesive tape 207. The control unit 100 suction-holds the workpiece 201 on the chuck table 40 , clamps the annular frame 206 with the clamp section 42 , moves the chuck table 40 to the X-axis moving unit, and moves the chuck table 40 to the imaging unit 60 . The upper workpiece 201 is imaged. The control unit 100 performs alignment to align the workpiece 201 and the cutting blade 51, and relatively moves the chuck table 40 and the cutting blade 51 of the cutting unit 50 along the dividing line 203. The cutting blade 51 is made to cut into the planned dividing line 203.

制御ユニット100は、切削ブレード51を全ての分割予定ライン203に切り込ませた後、チャックテーブル40を搬入出領域まで移動させた後、チャックテーブル40の吸引保持及びクランプ部42のクランプを解除し、第2の搬送ユニット82の保持ユニット83でチャックテーブル40上のフレームユニット200の環状フレーム206を保持し、第2の搬送ユニット82で保持ユニット83に保持したフレームユニット200の被加工物201を粘着テープ207を介して洗浄ユニット70のチャックテーブル71の保持面72に載置させる。 The control unit 100 cuts the cutting blade 51 into all the planned division lines 203, moves the chuck table 40 to the loading/unloading area, and then releases the suction holding of the chuck table 40 and the clamping of the clamp part 42. , the holding unit 83 of the second transport unit 82 holds the annular frame 206 of the frame unit 200 on the chuck table 40, and the second transport unit 82 holds the workpiece 201 of the frame unit 200 held on the holding unit 83. It is placed on the holding surface 72 of the chuck table 71 of the cleaning unit 70 via the adhesive tape 207.

制御ユニット100は、洗浄ユニット70にフレームユニット200を洗浄させ、第1の搬送ユニット81の保持ユニット83で洗浄ユニット70のチャックテーブル71上のフレームユニット200の環状フレーム206を保持する。制御ユニット100は、第1の搬送ユニット81でフレームユニット200を一対のガイドレール20の支持面21上に載置し、図3に実線で示す位置と二点鎖線で示す位置との間に位置付ける。なお、実施形態1では、図3に実線で示す位置と、図3に二点鎖線で示す位置とでは、環状フレーム206の一部分が重複する。 The control unit 100 causes the cleaning unit 70 to clean the frame unit 200, and the holding unit 83 of the first transport unit 81 holds the annular frame 206 of the frame unit 200 on the chuck table 71 of the cleaning unit 70. The control unit 100 uses the first transport unit 81 to place the frame unit 200 on the support surfaces 21 of the pair of guide rails 20, and positions it between the position shown by the solid line and the position shown by the two-dot chain line in FIG. . In the first embodiment, a portion of the annular frame 206 overlaps in the position shown by the solid line in FIG. 3 and the position shown by the two-dot chain line in FIG.

制御ユニット100は、一対のガイドレール20同士を近づけてフレームユニット200をX軸方向に位置決めした後、移動ユニット30の把持部31で切削加工後でかつガイドレール20上のフレームユニット200の環状フレーム206を把持させる。制御ユニット100は、第1の搬送ユニット81のY軸移動機構86で移動ユニット30の把持部31をカセット11に近づく方向にY軸方向に沿ってガイドレール20の支持面21上を移動させて、フレームユニット200をカセット11内に搬入させる。 After the control unit 100 positions the frame unit 200 in the X-axis direction by bringing the pair of guide rails 20 close to each other, the control unit 100 moves the annular frame of the frame unit 200 on the guide rail 20 after cutting with the grip part 31 of the moving unit 30. 206 is held. The control unit 100 moves the gripping part 31 of the moving unit 30 on the support surface 21 of the guide rail 20 along the Y-axis direction in a direction toward the cassette 11 using the Y-axis moving mechanism 86 of the first transport unit 81. , the frame unit 200 is carried into the cassette 11.

制御ユニット100は、CPU(central processing unit)のようなマイクロプロセッサを有する演算処理装置と、ROM(read only memory)又はRAM(random access memory)のようなメモリを有する記憶装置と、入出力インターフェース装置とを有するコンピュータである。制御ユニット100の演算処理装置は、記憶装置に記憶されているコンピュータプログラムに従って演算処理を実施して、処理装置1を制御するための制御信号を、入出力インターフェース装置を介して処理装置1の上述した各ユニットに出力する。 The control unit 100 includes an arithmetic processing device having a microprocessor such as a CPU (central processing unit), a storage device having a memory such as a ROM (read only memory) or a RAM (random access memory), and an input/output interface device. It is a computer having the following. The arithmetic processing device of the control unit 100 performs arithmetic processing according to a computer program stored in a storage device, and sends a control signal for controlling the processing device 1 to the above-mentioned processing device 1 via an input/output interface device. output to each unit.

また、制御ユニット100は、加工動作の状態や撮像ユニット60が撮像した画像などを表示する図示しない表示ユニットと、オペレータが加工内容情報などを登録する際に用いる入力ユニットとが接続されている。表示ユニットは、液晶表示装置などにより構成される。入力ユニットは、表示ユニットの表示画面に設けられたタッチパネル又はキーボード等の外部入力装置等により構成される。 Further, the control unit 100 is connected to a display unit (not shown) that displays the state of the machining operation, images captured by the imaging unit 60, and the like, and an input unit used by the operator to register machining content information and the like. The display unit is composed of a liquid crystal display device or the like. The input unit includes an external input device such as a touch panel or a keyboard provided on the display screen of the display unit.

また、処理装置1は、図1、図2、図3及び図4に示すように、フレームユニット200の位置を検出する位置検出部90を備える。実施形態1において、位置検出部90は、ガイドレール20上にフレームユニット200が仮置きされているか否かを検出する。位置検出部90は、一対のガイドレール20それぞれの位置決め壁22に取り付けられた一対の透過型光電センサ91,92を備える。一対の透過型光電センサ91,92は、位置決め壁22を貫通した貫通孔23に設けられ、かつ互いにX軸方向に対向したセンサカバー93を備える。センサカバー93は、光を透過可能な材料で構成され、実施形態1では、位置決め壁22と面一に形成されている。 Furthermore, the processing device 1 includes a position detection section 90 that detects the position of the frame unit 200, as shown in FIGS. 1, 2, 3, and 4. In the first embodiment, the position detection unit 90 detects whether the frame unit 200 is temporarily placed on the guide rail 20 or not. The position detection unit 90 includes a pair of transmission type photoelectric sensors 91 and 92 attached to the positioning walls 22 of the pair of guide rails 20, respectively. The pair of transmission type photoelectric sensors 91 and 92 include sensor covers 93 that are provided in the through hole 23 that penetrates the positioning wall 22 and that face each other in the X-axis direction. The sensor cover 93 is made of a material that can transmit light, and in the first embodiment is formed flush with the positioning wall 22 .

一方の透過型光電センサ91は、他方の透過型光電センサ92のセンサカバー93に向かって光94を出射する発光部95を有し、他方の透過型光電センサ92は、一方の透過型光電センサ91の発光部95が出射した光を受光する受光部96を有している。他方の透過型光電センサ92は、受光部96の一方の透過型光電センサ91の発光部95が出射した光94の受光結果を示す検出結果を制御ユニット100に出力する。一対の透過型光電センサ91,92は、図3及び図4に示すように、ガイドレール20の支持面21に支持されたフレームユニット200の環状フレーム206により一方の透過型光電センサ91が出射した光94が遮蔽されると、他方の透過型光電センサ92が光94を受光しないことを示すこと即ちガイドレール20にフレームユニット200が位置付けられていることを検出し、検出結果を制御ユニット100に出力する。 One transmission type photoelectric sensor 91 has a light emitting part 95 that emits light 94 toward the sensor cover 93 of the other transmission type photoelectric sensor 92, and the other transmission type photoelectric sensor 92 has a light emitting part 95 that emits light 94 toward the sensor cover 93 of the other transmission type photoelectric sensor It has a light receiving section 96 that receives the light emitted from the light emitting section 95 of 91 . The other transmission type photoelectric sensor 92 outputs to the control unit 100 a detection result indicating the result of receiving the light 94 emitted by the light emitting unit 95 of the one transmission type photoelectric sensor 91 of the light receiving unit 96 . As shown in FIGS. 3 and 4, the pair of transmission-type photoelectric sensors 91 and 92 have one transmission-type photoelectric sensor 91 emitted by an annular frame 206 of a frame unit 200 supported by the support surface 21 of the guide rail 20. When the light 94 is blocked, the other transmission type photoelectric sensor 92 detects that it does not receive the light 94, that is, the frame unit 200 is positioned on the guide rail 20, and sends the detection result to the control unit 100. Output.

また、一対の透過型光電センサ91,92は、ガイドレール20の図3に実線で示すカセット11寄りの位置のフレームユニット200の環状フレーム206と、図3に二点鎖線で示すカセット11から離れた位置のフレームユニット200の環状フレーム206とが重複する位置とX軸方向に対向する位置に配置されている。このために、処理装置1は、ガイドレール20に支持されるフレームユニット200が所定の範囲内である図3に実線で示す位置と二点鎖線で示す位置の間に位置付けられているフレームユニット200を一組の透過型光電センサ91,92により構成された位置検出部90で検知することができる。また、処理装置1は、所定の範囲の一端である図3に実線で示す位置に位置付けられたフレームユニット200、及び所定の範囲の他端である図3に二点鎖線で示す位置に位置付けられたフレームユニット200に光94が遮られる位置に透過型光電センサ91,92が配置されている。 Further, the pair of transmission type photoelectric sensors 91 and 92 are mounted on the annular frame 206 of the frame unit 200 at a position close to the cassette 11 shown by the solid line in FIG. The annular frame 206 of the frame unit 200 is placed at a position opposite to the position where the annular frame 206 of the frame unit 200 overlaps in the X-axis direction. For this purpose, the processing apparatus 1 is configured such that the frame unit 200 supported by the guide rail 20 is positioned between the position shown by the solid line in FIG. 3 and the position shown by the chain double-dashed line in FIG. can be detected by a position detecting section 90 composed of a pair of transmission type photoelectric sensors 91 and 92. Furthermore, the processing device 1 is located at a frame unit 200 located at one end of the predetermined range, indicated by a solid line in FIG. 3, and at a position indicated by a chain double-dashed line in FIG. Transmissive photoelectric sensors 91 and 92 are arranged in the frame unit 200 at positions where the light 94 is blocked.

処理装置1の制御ユニット100は、移動ユニット30にカセット11内から切削加工前のフレームユニット200を搬出させた後、位置検出部90の他方の透過型光電センサ92の検出結果に基づいて、ガイドレール20上にフレームユニット200が位置付けられたことを把握する。制御ユニット100は、ガイドレール20上にフレームユニット200が位置付けられたことを把握した後、一対のガイドレール20を近づけてフレームユニット200をX軸方向に位置決めする等の次の動作を実行する。 After the control unit 100 of the processing device 1 causes the movement unit 30 to carry out the frame unit 200 before cutting from the cassette 11, the control unit 100 controls the guide based on the detection result of the other transmissive photoelectric sensor 92 of the position detection unit 90. It is recognized that the frame unit 200 is positioned on the rail 20. After determining that the frame unit 200 has been positioned on the guide rails 20, the control unit 100 executes the next operation, such as moving the pair of guide rails 20 closer together to position the frame unit 200 in the X-axis direction.

また、処理装置1の制御ユニット100は、第1の搬送ユニット81に洗浄ユニット70のチャックテーブル71から切削加工後のフレームユニット200を搬出させた後、位置検出部90の他方の透過型光電センサ92の検出結果に基づいて、ガイドレール20上にフレームユニット200が位置付けられたことを把握する。制御ユニット100は、ガイドレール20上にフレームユニット200が位置付けられたことを把握した後、一対のガイドレール20を近づけてフレームユニット200をX軸方向に位置決めする等の次の動作を実行する。 Further, the control unit 100 of the processing apparatus 1 causes the first transport unit 81 to carry out the cut frame unit 200 from the chuck table 71 of the cleaning unit 70, and then transfers the frame unit 200 to the other transmissive photoelectric sensor of the position detection unit 90. Based on the detection result 92, it is determined that the frame unit 200 is positioned on the guide rail 20. After determining that the frame unit 200 has been positioned on the guide rails 20, the control unit 100 executes the next operation, such as moving the pair of guide rails 20 closer together to position the frame unit 200 in the X-axis direction.

前述した実施形態1に係る処理装置1は、一対のガイドレール20の位置決め壁22の外側に設けられた一対の透過型光電センサ91,92によってフレームユニット200を検出することで、これら一対の透過型光電センサ91,92が汚れてしまう恐れを回避した。 The processing apparatus 1 according to the first embodiment described above detects the frame unit 200 by a pair of transmission type photoelectric sensors 91 and 92 provided on the outside of the positioning wall 22 of the pair of guide rails 20, This avoids the possibility that the type photoelectric sensors 91 and 92 become dirty.

また、処理装置1は、環状の環状フレーム206を備える円形のフレームユニット200がガイドレール20の支持面21上を移動中、ガイドレール20の支持面21上に環状フレーム206が支持されない位置でも、一方の透過型光電センサ91の発光部95が出射した光94がフレームユニット200により遮蔽される。即ち、処理装置1は、支持面21に配置した光電センサが環状フレーム206に光94が遮蔽されて検出される場合では、Y軸方向の光電センサに環状フレーム206が遮蔽される位置の環状フレーム206のみを検出することができるが、一対のガイドレール20の位置決め壁22の外側に一対の透過型光電センサ91,92を設け、フレームユニット200に側方から光94を出射するので、環状フレーム206のY軸方向の全長に亘って、フレームユニット200を検出できる、その結果、処理装置1は、一対の透過型光電センサ91,92でフレームユニット200の検出可能な範囲を拡大できるので、透過型光電センサ91,92の数を抑制することができるという効果を奏する。 Furthermore, while the circular frame unit 200 including the annular annular frame 206 is moving on the support surface 21 of the guide rail 20, the processing apparatus 1 can also operate at a position where the annular frame 206 is not supported on the support surface 21 of the guide rail 20. Light 94 emitted from the light emitting section 95 of one transmission type photoelectric sensor 91 is blocked by the frame unit 200. That is, in the case where the photoelectric sensor disposed on the support surface 21 detects the light 94 being blocked by the annular frame 206, the processing device 1 detects the annular frame at a position where the annular frame 206 is blocked by the photoelectric sensor in the Y-axis direction. However, since a pair of transmission type photoelectric sensors 91 and 92 are provided on the outside of the positioning wall 22 of the pair of guide rails 20 and the light 94 is emitted from the side to the frame unit 200, the annular frame The processing device 1 can detect the frame unit 200 over the entire length of the frame unit 206 in the Y-axis direction. This has the effect that the number of type photoelectric sensors 91 and 92 can be suppressed.

よって、実施形態1に係る処理装置1は、フレームユニット200を検出する透過型光電センサ91,92が汚されることを抑制できるとともに、設置される透過型光電センサ91,92を抑制することができるという効果を奏する。 Therefore, the processing device 1 according to the first embodiment can prevent the transmission type photoelectric sensors 91 and 92 that detect the frame unit 200 from being contaminated, and can also suppress the installed transmission type photoelectric sensors 91 and 92. This effect is achieved.

また、処理装置1は、一対の透過型光電センサ91,92をガイドレール20の図3に実線で示すカセット11から搬出されてガイドレール20上で位置決めされたフレームユニット200の環状フレーム206と、図3に二点鎖線で示すカセット11に搬入される前にガイドレール20上に載置されたフレームユニット200の環状フレーム206とが重複する位置に配置している。その結果、処理装置1は、一対の透過型光電センサ91,92でガイドレール20に仮置きされたフレームユニット200を検出することができるという効果もある。 Further, the processing device 1 includes a ring frame 206 of the frame unit 200 in which a pair of transmission photoelectric sensors 91 and 92 are carried out from the cassette 11 shown by solid lines in FIG. 3 on the guide rail 20 and positioned on the guide rail 20; The annular frame 206 of the frame unit 200, which is placed on the guide rail 20 before being carried into the cassette 11 shown by the two-dot chain line in FIG. As a result, the processing device 1 has the advantage that the frame unit 200 temporarily placed on the guide rail 20 can be detected using the pair of transmission type photoelectric sensors 91 and 92.

なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。即ち、本発明の骨子を逸脱しない範囲で種々変形して実施することができる。前述した実施形態では、処理装置1として切削装置を示しているが、本発明では、処理装置1は、切削装置に限定されることなく、フレームユニット200の被加工物201をレーザー加工するレーザー加工装置等のフレームユニット200の被加工物201に種々の加工を施す種々の加工装置でも良い。 Note that the present invention is not limited to the above embodiments. That is, various modifications can be made without departing from the gist of the invention. In the embodiment described above, a cutting device is shown as the processing device 1, but in the present invention, the processing device 1 is not limited to a cutting device, but is capable of laser processing for laser processing the workpiece 201 of the frame unit 200. Various processing devices that perform various processing on the workpiece 201 of the frame unit 200 may be used.

また、前述した実施形態では、処理部としてチャックテーブル40,71を示し、処理として吸引保持を示しているが、本発明では、処理部は、チャックテーブル40,71に限定されないとともに、処理は、吸引保持に限定されない。 Further, in the embodiment described above, the chuck tables 40 and 71 are shown as the processing section, and suction and holding is shown as the processing, but in the present invention, the processing section is not limited to the chuck tables 40 and 71, and the processing is It is not limited to suction retention.

1 処理装置
10 カセットエレベータ(カセット載置部)
11 カセット
20 ガイドレール
21 支持面
30 移動ユニット
40 チャックテーブル(処理部)
71 チャックテーブル(処理部)
80 搬送ユニット
90 位置検出部
91,92 透過型光電センサ
94 光
95 発光部
96 受光部
200 フレームユニット
201 被加工物
206 環状フレーム
207 粘着テープ
208 開口
1 Processing device 10 Cassette elevator (cassette loading section)
11 Cassette 20 Guide rail 21 Support surface 30 Movement unit 40 Chuck table (processing section)
71 Chuck table (processing section)
80 Transport unit 90 Position detection section 91, 92 Transmission type photoelectric sensor 94 Light 95 Light emitting section 96 Light receiving section 200 Frame unit 201 Workpiece 206 Annular frame 207 Adhesive tape 208 Opening

Claims (2)

環状フレームの開口に粘着テープで被加工物が固定されたフレームユニットを複数収容するカセットが載置されるカセット載置部と、該カセット載置部に載置されたカセットから搬出または搬入される該フレームユニットを仮置きするガイドレールと、該フレームユニットを該ガイドレールに沿って移動させる移動ユニットと、該フレームユニットを処理する処理部と、該ガイドレールと該処理部との間で該フレームユニットを搬送する搬送ユニットと、該フレームユニットの位置を検出する位置検出部と、を備える処理装置であって、
該ガイドレールは、
平行に延在し該フレームユニットを下方から支持する一対の支持面を有し、
該位置検出部は、
発光部又は受光部を有し、一対のガイドレールの外側にそれぞれ配置される透過型光電センサを備え、該透過型光電センサが、該支持面の一対のガイドレール同士が離れた側の端から立設した位置決め壁を貫通した貫通孔に設けられ、かつ、光を透過する材料で構成されているとともに、該支持面を摺動する該フレームユニット側に対向するセンサカバーを備えて、該支持面に支持された該フレームユニットで該発光部からの光が遮られると、該ガイドレールに該フレームユニットが位置付けられていると検出する処理装置。
A cassette mounting section on which a cassette containing a plurality of frame units each having a workpiece fixed with an adhesive tape in an opening of an annular frame is placed, and a cassette placed on the cassette mounting section is carried out or carried in. a guide rail for temporarily placing the frame unit; a moving unit for moving the frame unit along the guide rail; a processing section for processing the frame unit; A processing device comprising a transport unit that transports a unit, and a position detection section that detects the position of the frame unit,
The guide rail is
having a pair of support surfaces extending in parallel and supporting the frame unit from below;
The position detection section is
A transmission type photoelectric sensor having a light emitting part or a light receiving part and disposed on the outside of the pair of guide rails, and the transmission type photoelectric sensor is arranged from the end of the side where the pair of guide rails are separated from each other on the support surface. The support is provided with a sensor cover provided in a through hole penetrating the erected positioning wall, made of a material that transmits light, and facing the frame unit that slides on the support surface. A processing device that detects that the frame unit is positioned on the guide rail when light from the light emitting section is blocked by the frame unit supported on the surface.
該ガイドレールに支持される該フレームユニットが所定の範囲内に位置付けられていることを該位置検出部で検知し、該所定の範囲の一端に位置付けられた該フレームユニット、及び所定の範囲の他端に位置付けられた該フレームユニットに該光が遮られる位置に該透過型光電センサが配置される請求項1に記載の処理装置。 The position detection section detects that the frame unit supported by the guide rail is positioned within a predetermined range, and the frame unit positioned at one end of the predetermined range and the other end of the predetermined range are detected. The processing device according to claim 1, wherein the transmission type photoelectric sensor is arranged at a position where the light is blocked by the frame unit located at an end.
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